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TWI518156B - 抗反射及抗炫塗佈組成物、抗反射及抗炫薄膜以及其製備方法 - Google Patents

抗反射及抗炫塗佈組成物、抗反射及抗炫薄膜以及其製備方法 Download PDF

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TWI518156B
TWI518156B TW100124954A TW100124954A TWI518156B TW I518156 B TWI518156 B TW I518156B TW 100124954 A TW100124954 A TW 100124954A TW 100124954 A TW100124954 A TW 100124954A TW I518156 B TWI518156 B TW I518156B
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金芙敬
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Description

抗反射及抗炫塗佈組成物、抗反射及抗炫薄膜以及其製備方法
本發明係關於一種抗反射及抗炫塗佈組成物，一種由其製備之抗反射及抗炫薄膜以及其製備方法。本案主張2010年7月14日與2011年7月14日分別向韓國智慧財產局申請之韓國專利申請案號10-2010-0068042與10-2011-0069791之優先權，並且其內容完全併入本發明中，以供參酌。
一顯示器表面進行表面處理，藉由減少外部光線之反射，以提高顯示器之耐磨性和提高影像對比。減少外部光線之反射量，可藉由主要兩種方法達成，首先，透過表面不均勻形式引起漫反射(diffused reflection)，其次，藉由多層塗佈設計引起消滅干擾之方法。
在相關技藝中，利用表面不均勻形式之抗炫塗佈為其主要應用。然而，在高解析度顯示器中，使用表面不均勻形式之情況下，由於在其表面之漫反射，而有解析度減少和影像清晰度減少之問題。為了解決這些問題，日本未審查之專利申請公開號H11(1999)-138712，一種光擴散膜之光線在薄膜內擴散，該薄膜藉由利用具有折射率差異之有機微粒作為結合劑而製成。然而，仍有亮度和對比減少之問題需要改善。
日本未審查之專利申請公開號H02(1990)-234101和日本未審查之專利申請公開號H06(1994)-18704係揭露一種透過多層塗佈設計以進行消滅反射光線干擾之方法。此方法在沒有影像失真下具有抗反射功能。在此情況下，為了進行消滅反射光線之干擾，一相位差應存在於每一層之光線反應之間，且在反射光線間之波形振幅應該是相互相同，使反射率在消滅干擾下最小化。例如，關於提供單一抗反射和抗炫塗佈層於基板上，可使用下列公式，其中入射角為0°。
[公式1]
nons=n1 2
2n1d1=(m+1/2)λ(m=0,1,2,3,...)
(no：空氣之折射率，ns：基板之折射率，n1：薄膜之折射率，d1：薄膜厚度，及λ：入射光之波長)
一般而言，當抗反射塗佈層之折射率低於基板之折射率時，其抗反射效果較大，但考慮到塗佈層之耐磨性，則抗反射塗佈層之折射率可以為基板折射率之1.3至1.5倍，且在此情況下反射率小於3%。然而，在該抗反射塗料層係形成於塑膠薄膜上情況下，由於顯示器之耐磨性不足，在抗反射塗佈層下方需要一數微米之硬塗佈層。也就是說，在利用消滅干擾之抗反射塗佈層之情況中，用於增加耐磨性之硬塗佈層和一個或多個抗反射塗佈層形成於其上方。因此，多層塗層方法具有抗反射功能，且不會影像失真，但有一個問題，就是因為多層塗佈使成本製造之增加。
最近，一種透過單層塗佈設計以進行消滅反射光線干擾之方法已被提出。例如，日本未審查之專利申請公開號H07(1995)-168006揭露一種藉由塗佈微細微粒之分散溶液於基板上，以提供一抗反射效果之方法，係露出球形微粒之表面，使在空氣和引發干擾之粒子間之折射率為梯度差異。但是，透過一般塗佈方式是難進行的，因為微細微粒之形狀和尺寸應該是固定的，且微粒在基板表面上應該是均勻地分怖。此外，由於在結合劑為含有一預定量或更少時，在表面可以得到球形，使其在耐磨性方面具有非常顯著的缺點，而由於塗佈層厚度還比微粒直徑更薄，使其難以作為耐磨性之方式。
此外，日本未審查之專利申請公開號1995-325203揭露一種方法係透過漫反射用以散射外部光線，並透過消滅干擾以減少外部光線之反射量，其係同時提供抗炫功能和抗反射功能，藉由薄片壓合低折射層於含有微粒之抗炫層上。在此仍有缺點，藉由抗炫層和抗反射之塗佈多層，使原料和加工成本增加，且由於具有數百奈米或更少之厚度之薄低折射層係沿著藉由微粒形成之不平坦表面，難以均勻塗佈，而增加缺陷比例。
因此，對於提供抗反射性質於顯示器表面之技術有強烈地需求，且在顯示器製備過程中提高耐磨性和耐候性並不複雜。
本發明係致力創作以提供一抗反射和抗炫塗佈組成物，其同時實現抗反射功能和抗炫功能，甚至是由單一塗佈方式形成之塗佈層，其可得到有效減少製備成本。且有一種藉由利用其製備之抗反射及抗炫薄膜，以及其製備方法。
本發明之具體實施例係提供一抗反射和抗炫塗佈組成物，包括：一具有折射率為1.2至1.45之低折射物質，一具有折射率為1.46至2之高折射物質，一氟基化合物和一具有平均粒徑為1至10微米之微粒，其中在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5 mN/m或以上。
本發明之另一具體實施例係提供一製備抗反射和抗炫薄膜之方法，包括以下步驟：(a)提供抗反射和抗炫塗佈組成物；(b)藉由塗佈該塗佈組成物於基板上以形成一塗佈層；(c)藉由乾燥該塗佈層，以相分離低折射率物質和高折射率物質；及(d)固化乾燥後之塗佈層。
再者，本發明之另一具體實施例係提供一包括一單一塗佈層之抗反射和抗炫薄膜，其包括：一具有折射率為1.2至1.45之低折射物質，一具有折射率為1.46至2之高折射物質，一氟基化合物和一具有平均粒徑為1至10微米之微粒，其中在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5 mN/m或更高，且低折射物質和高折射物質在厚度方向具有一濃度梯度。
本發明之另一具體實施例還提供一偏光片(polarizing plate)，其包括：(a)一偏光膜，(b)一根據本發明之具體實施例之抗反射和抗炫薄膜，提供於偏光膜之至少一側。
本發明之再另一具體實施例還提供一個顯示裝置，其包括抗反射和抗炫薄膜或偏光板。
根據本發明之具體實施例，可提供一具有抗反射和抗炫層之抗反射和抗炫薄膜，其藉由利用製備抗反射和抗炫塗佈組成物和抗反射和抗炫薄膜之方法以形成單一塗佈層。根據本發明之具體實施例之抗反射和抗炫薄膜，其具有具有優異之耐磨性，且低反射和抗炫功能，並可藉由單一塗佈方式製備，因而降低製造成本。
在下文中，本發明將詳細描述。
本發明關於一種抗反射和抗炫塗佈組成物，一種藉由利用其製備之抗反射及抗炫薄膜，以及其製備方法。更特別的是，本發明關於一種抗反射和抗炫塗佈組成物，其可藉由透過單一塗佈方法而塗佈之單一塗佈層之微粒以實現抗炫功能，且可藉由促進內部組成份間之相分離以實現抗反射功能，並具有優異之耐磨性和耐候性。且有一種由其製備之抗反射及抗炫薄膜，以及其製備方法。
根據本發明之具體實施例之抗反射和抗炫塗佈組成物，其包括：一具有折射率為1.2至1.45之低折射物質，一具有折射率為1.46至2之高折射物質，一氟基化合物和一具有平均粒徑為1至10微米之微粒，其中在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5 mN/m或以上。
在本發明之具體實施例中，表面能量係指當對應的物質固化時，其固化物質產生之表面能量。
低折射物質，藉由與高折射物質在塗佈後之表面能量之差異，而緩慢地移動至塗佈層之上方部分。為了最大限度地使用相分離，並定位在乾燥和紫外線照射步驟之位置，該低折射物質可在常溫下具有流動性，並可為藉由溫度固化之加熱固化型和藉由紫外線固化之紫外線固化型兩者而實現。此外，在低折射物質中，表面能量為25 mN/m或更少，更佳為5至25 mN/m。
低折射熱固化樹脂之物質為一具有折射率為1.2至1.45之熱固化樹脂(heat-curable resin)，例如，有一烷氧矽烷反應物，一胺基甲酸酯反應基團化合物，一尿素反應基團化合物，和一可溶膠-凝膠反應之酯化反應物。
烷氧矽烷反應物係指一反應性寡聚物，其藉由進行烷氧矽烷、氟基烷氧矽烷、矽烷基有機取代物之水解和縮合反應，並在水和催化劑條件下，藉由溶膠-凝膠反應而製成。在此情況下，以苯乙烯作為GPC測定之標準物質時，反應性寡聚物之平均分子量為1,000至200,000。烷氧矽烷反應物如上所述而製成，於塗佈後，在常溫或以上之溫度條件下進行縮合反應，因而形成具有交聯結構的網。
烷氧矽烷可提供最外層之塗佈層一預定強度之程度。其詳細如，烷氧矽烷組成份，四烷氧矽烷或三烷氧矽烷可被使用，和選自由四甲氧矽烷，四乙氧矽烷，四異丙氧基矽烷，甲基三甲氧矽烷，甲基三乙氧矽烷，縮水甘油氧丙基三甲氧矽烷和縮水甘油氧丙基三乙氧矽烷所組成群組之一種或多種物質可被使用，但該組成份不僅限於此。
烷氧矽烷之含量係為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，在烷氧矽烷反應物內之單體為5至50重量份。在含量為少於5重量份情況下，其耐磨性並不夠優異，而在含量為多於50重量份情況下，其難以實現烷氧矽烷反應物之低折射性和對於高折射物質之相分離。
氟基烷氧矽烷會減少塗佈薄膜之折射率和表面張力，因而對於高折射物質容易實現相分離。關於氟基烷氧矽烷，可利用一具有低折射率為1.3至1.4和10至15 mN/m之低表面張力之低折射物質。關於氟基烷氧矽烷，其選自由十三氟辛基三乙氧矽烷，十七氟癸基三甲氧矽烷和十七氟癸基三異丙氧基矽烷所組成群組之一種或多種物質可被使用，但該氟基烷氧矽烷不僅限於此。
烷氧矽烷反應物具有在1.2至1.45範圍內之折射率，且為了對高折射物質容易引起相分離，該氟基烷氧矽烷之含量係指基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有10至70重量份。在含量為少於10重量份情況下，其難以實現低折射和對於高折射紫外線固化樹脂之相分離，而在含量為多於70重量份情況下，其難以確保液體之穩定性和耐刮性。
矽烷基有機取代物可以化學鍵結至烷氧矽烷，並與高折射物質反應形成雙鍵，使低折射物質和高折射物質間之相容性增加，並在相分離之後，提高烷氧矽烷和高折射物質間界面之附著。因此，若化合物用於如上所述，該化合物並沒有使用上之限制。關於矽烷基有機取代物，其選自由乙烯基三甲氧矽烷，乙烯基三(貝他-甲氧乙氧)矽烷(vinyl tri(beta-methoxyethoxy)silane)，乙烯基三乙氧矽烷，乙烯基三-正-丙氧矽烷(vinyltri-n-propoxy silane)，乙烯基三-正-戊氧矽烷，乙烯基甲基二甲氧矽烷，二苯基乙氧乙烯基矽烷，乙烯基三異丙氧基矽烷，二乙烯基二(貝他-甲氧乙氧)矽烷，二乙烯基二甲氧矽烷，二乙烯基二乙氧矽烷，二乙烯基二-正-丙氧矽烷，二乙氧基二(異丙氧基)矽烷，二乙烯基二-正-戊氧矽烷，3-丙烯醯基氧丙基三甲氧矽烷(3-acryloxypropyl trimethoxy silane)，3-甲基丙烯醯基氧丙基三甲氧矽烷，加瑪-甲基丙烯醯基氧丙基甲基二乙氧矽烷(gamma-methacryloxypropyl methyl diethoxy silane)，和加瑪-甲基丙烯醯基氧丙基甲基二乙氧矽烷所組成群組之一種或多種取代物可被使用，但該取代物不僅限於此。
為了維持相容性和穩定性，烷氧矽烷反應物為塗佈溶液之狀態，矽烷基有機取代物之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有0至50重量份。在含量為高於50重量份下，其難以實現低折射和對於高折射物質之相分離。此外，在未加入矽烷基有機取代物之情況下，低折射物質對高折射物質之相容性差，因此塗佈溶液無法均勻混合。
烷氧矽烷反應物可透過溶膠-凝膠反應而製備。溶膠-凝膠反應所用方法為適合本發明具體實施例之通常使用技藝。溶膠-凝膠反應可藉由組成物反應而進行，其包括有烷氧矽烷、氟基烷氧矽烷、矽烷基有機取代物、催化劑、水和有機溶劑，在反應溫度為0至150℃下加熱1至70小時。
催化劑為用於溶膠-凝膠反應之一必要成份，以控制溶膠-凝膠反應時間。關於該催化劑，酸類，較佳為使用硝酸，鹽酸和醋酸，更佳為使用鹽酸，硝酸，硫酸，和醋酸結合鋯和銦之鹽類之形式。在此情況下，催化劑之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有0.1至10重量份。
對於溶膠-凝膠反應，水為用於水解及縮合反應之一必要成份。水含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有5至50重量份。
有機溶劑為用於溶膠-凝膠反應之一成份，以適當地控制水解和縮合物質之分子量。該有機溶劑可以為醇，賽珞蘇(cellosolbes)，酮，或選定二種或以上之混合溶劑。在此情況下，有機溶劑之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有0.1至50重量份。
其間，該胺基甲酸酯反應基團化合物，可藉由醇和異氰酸酯化合物在金屬催化劑下反應而製成。該具有胺基甲酸酯反應基團之網狀結構可藉由殘留組成物而形成，其係具有二個或以上官能基團之多官能基醇和多官能基異氰酸酯與金屬催化劑在常溫或以上之溫度相互混合。在此情況下，一氟基團可以導入醇和異氰酸酯，以導入低折射特性之實現和對高折射物質相分離。
關於包含氟之多官能基醇之例子，如，1H,1H,4H,4H-全氟-1,4-丁二醇，1H,1H,5H,5H-全氟-1,5-戊二醇，1H,1H,6H,6H-全氟-1,6-己二醇，1H,1H,8H,8H-全氟-1,8-辛二醇，1H,1H,9H,9H-全氟-1,9-壬二醇，1H,1H,10H,10H-全氟-1,10-癸二醇，1H,1H,12H,12H-全氟-1,12-十二烷二醇(dodecanediol)，氟化三乙二醇，和氟化四乙二醇。
關於異氰酸酯組成物，係用於胺基甲酸酯反應基團化合物之製備，其脂肪族異氰酸酯，脂環族異氰酸酯，芳香族異氰酸酯，雜環異氰酸酯可被使用。其詳細如，二異氰酸酯，如，六亞甲基二異氰酸酯，1,3,3-三甲基六亞甲基二異氰酸酯，異佛酮二異氰酸酯，甲苯-2,6-二異氰酸酯，和4,4'-二環己烷二異氰酸酯，或三官能基或以上之異氰酸酯，例如，由DIC公司製備之商標DN950和DN980可被使用。
在本發明之具體實施例中，該催化劑可用於胺基甲酸酯反應基團化合物之製備，且可利用路易斯酸或路易斯鹼作為催化劑。關於催化劑之詳細例子，如，辛酸亞錫，二丁錫二醋酸鹽，二丁錫二月桂酸酯(dibutyltin dilaulate)，二丁錫硫醇鹽，二丁錫二馬來酸酯(dibutyltin dimaleate)，二甲基錫氫氧化物，和三乙胺，但實施例不僅限於此。
用於胺基甲酸酯反應基團化合物製備之異氰酸酯和多官能基醇之含量係被確定，使多官能基團之NCO基團和OH基團之莫耳比例(NCO/OH)較佳為0.5至2，且更佳為0.75至1.1。若官能基團之莫耳比例少於0.5或多於2時，因為未反應官能基團增加，而可能會有薄膜強度減少之問題。
尿素反應基團化合物係藉由胺和異氰酸酯之反應而製成。關於異氰酸酯，可使用同一成份，用於製造胺基甲酸酯反應物，和使用如胺，二個或以上全氟之胺。
在本發明之具體實施例中，催化劑可用於尿素反應基團化合物之製備，若有必要，可使用路易斯酸或路易斯鹼作為催化劑。關於催化劑之詳細例子，如，辛酸亞錫(tin octylate)，二丁錫二醋酸鹽，二丁錫二月桂酸酯，二丁錫硫醇鹽，二丁錫二馬來酸酯，二甲基錫氫氧化物，和三乙胺，但實施例不僅限於此。
酯化反應物可透過酸和醇之脫水和縮合反應而製備。具有交聯結構之薄膜可藉由混合酯化反應物與塗佈溶液而形成。關於酸，可使用二官能基或以上之含氟酸，如其例子，如，全氟丁二酸(perfluorosuccinic acid)，全氟戊二酸(perfluoroglutaric acid)，全氟己二酸(perfluoroadipic acid)，全氟辛二酸(perfluorosuberic acid)，全氟壬二酸(perfluoroazelaic acid)，全氟癸二酸(perfluorosebacic acid)，和全氟月桂酸(perfluorolauric acid)。關於醇類，可使用多官能基醇，而多官能基醇之例子，如，1,4-丁二醇，1,2-丁二醇，1,5-戊二醇，2,4-戊二醇，1,4-環己二醇，1,6-己二醇，2,5-己二醇，2,4-庚二醇，季戊四醇，和三羥甲丙烷(trimethyrolpropane)。酸催化劑，例如，硫酸或烷氧基泰坦(alkoxy titan)(如，四丁氧基泰坦)可用於酯化反應。但是，其不僅限於此。
在本發明之具體實施例中，低折射紫外線固化樹脂並沒有特別限制，而丙烯醯基樹脂可被使用，較佳為一光起始劑和溶劑與樹脂一起使用。
丙烯酸酯基之含量為基於丙烯酸酯基樹脂、光起始劑和溶劑之全部含量為100重量份下，其含有10至80重量份。在含量為少於10重量份情況下，塗佈薄膜之耐刮性和耐磨性減少，而在含量為多於80重量份情況下，由於塗佈組成物之黏度增加，而會有塗佈薄膜之平坦度和塗佈性質變差之問題。
關於丙烯酸酯基樹脂，如，丙烯酸酯單體，胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚合物，環氧丙烯酸酯寡聚合物，和酯化丙烯酸酯寡聚合物。其詳細實施例如，二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)，季戊四醇三/四丙烯酸酯，三亞甲基丙烷三丙烯酸酯，和乙二醇二丙烯酸酯，其可單獨使用，或結合二種或以上使用。
為了減少紫外線固化樹脂之折射率，可使用一氟基丙烯酸酯。關於氟基丙烯酸酯，可使用一種或以上選自由化學式1至5之化合物所組成群組之化合物，且這些化合物可進一步具有一C1-C6直鏈或支鏈之烴基團作為取代基。
[化學式1]
其中，R1是各為-H或一C1-C6直鏈或支鏈烴基團，a是0至4之整數，b是1至3之整數。該C1-C6烴基團可以是一甲基基團(-CH3)。
[化學式2]
其中，c是1至10之整數。
[化學式3]
其中，d是1至9之整數。
[化學式4]
其中，e是1至5之整數。
[化學式5]
其中，f是4至10之整數。
氟基丙烯酸酯之含量為基於丙烯酸酯基樹脂、光起始劑和溶劑之全部含量為100重量份下，其含有10至80重量份。在含量為少於10重量份情況下，其難以得到1.2至1.45之低折射指數，而在含量為多於80重量份情況下，會有塗佈薄膜之平坦度和塗佈性質變差之問題。
關於光起始劑，可使用一藉由紫外線分解之化合物。其實施例如，1-羥基環己基苯基酮，苯甲基二甲基縮酮(benzyl dimethyl ketal)，羥基二甲基苯乙酮，安息香，安息香甲醚，安息香乙醚，安息香異丙醚和安息香丁醚，但實施例不僅限於此。
光起始劑之含量為基於丙烯酸酯基樹脂、光起始劑和溶劑之全部含量為100重量份下，其包括有1至20重量份。在含量為少於1重量份情況下，會有未固化發生之問題，而在含量為多於20重量份情況下，會有塗佈薄膜之耐刮性和耐磨性變差之問題。
關於溶劑，可使用醇類，乙酸酯類，酮類，賽珞蘇類，亞醯胺類或芳香族溶劑。其詳細如，甲醇，乙醇，異丙醇，丁醇，2-甲氧基乙醇，2-乙氧基乙醇，2-丁氧基乙醇，2-異丙氧基乙醇，醋酸甲酯，醋酸乙酯，醋酸丁酯，甲基乙基酮，甲基異丁基酮，環己烷，環己酮，甲苯，二甲苯或苯可被使用，但溶劑不僅限於此。
溶劑之含量為基於丙烯酸酯基樹脂、光起始劑和溶劑之全部含量為100重量份下，其包括有10至90重量份。在含量為少於10重量份情況下，由於塗佈組成物之黏度增加，其與高折射物質之相容性減少，使塗佈薄膜之平坦度變差，而在含量為多於90重量份情況下，會有塗佈薄膜之耐刮性和耐磨性變差之問題。
高折射物質為一具有折射率為1.45至2之樹脂，且可以為熱固化樹脂和紫外線固化樹脂二種，在固化期間，固化後的物質之表面能量與固化中的低折射物質之表面能量的差值為5 mN/m或以上，且可大於固化中的低折射物質之表面能量5 mN/m或以上。
高折射物質和低折射物質可以相同之固化方式結合，即高折射熱固化樹脂和低折射熱固化樹脂可一起使用，而高折射紫外線固化性樹脂和低折射紫外線固化性樹脂可一起使用。低折射熱固化樹脂和高折射熱固化樹脂可一起使用。
關於高折射熱固化樹脂，如烷氧矽烷反應物，胺基甲酸酯反應基團化合物，尿素反應基團化合物，和可進行溶膠-凝膠反應之酯化反應物。
烷氧矽烷反應物之定義和種類和上述低折射熱固化樹脂相同。
同時，在高折射熱固化樹脂中，烷氧矽烷之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其烷氧矽烷反應物之單體含有20至90重量份。在含量為少於20重量份情況下，其耐磨性變差，而在含量為多於90重量份情況下，將難以實現烷氧矽烷反應物之高折射性。
為了得到烷氧矽烷反應物之折射率，如，烷氧矽烷，其選自由包含硫，氯和金屬取代基團組成群組之一種或多種高折射烷氧矽烷；或芳香基團，如，苯基三甲氧矽烷，苯基三乙氧矽烷，二苯基二乙氧矽烷，二苯基二甲氧矽烷可被使用。
高折射烷氧矽烷之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有10至80重量份。在含量為少於10重量份情況下，其難以實現高折射率，而在含量為多於80重量份情況下，將難以確保其耐磨性。
矽烷基有機取代物之定義和種類和上述低折射熱固化樹脂相同。
在烷氧矽烷反應物為塗佈溶液時，為了維持其相容性和穩定性，矽烷基有機取代物之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有10至80重量份。在含量為少於10重量份情況下，其難以對低折射紫外線固化樹脂提供充分地相容性，而在含量為多於80重量份情況下，將難以實現薄膜強度和耐刮性。
烷氧矽烷反應物可透過溶膠-凝膠反應而製備，該溶膠-凝膠反應可利用本發明具體實施例所屬技藝之一般方法。溶膠-凝膠反應可藉此進行，例如，包括烷氧矽烷，矽烷基有機取代物，催化劑，水，和有機溶劑之反應組成物，在0至150℃之反應溫度下持續1至100小時。
同時，定義該用於溶膠-凝膠反應之催化劑和水之種類和含量係如上述低折射熱固化樹脂相同。
用於溶膠-凝膠反應之有機溶劑為一成份，以適當地控制水解和縮合物質之分子量。有機溶劑可以為醇，賽珞蘇(cellosolbes)，酮，或選定二種或以上之混合溶劑。在此情況下，有機溶劑之含量為基於烷氧矽烷反應物為100重量份下，其含有0.1至80重量份。
其間，該胺基甲酸酯反應基團化合物，可藉由醇和異氰酸酯化合物在金屬催化劑下反應而製成，像是在低折射熱固化樹脂。該具有胺基甲酸酯反應基團之網狀結構可藉由殘留組成物而形成，其係具有二個或以上官能基團之多官能基醇和多官能基異氰酸酯與金屬催化劑在常溫或以上之溫度組成。
關於用於製備胺基甲酸酯反應基團化合物之醇類成份，為低分子量多元醇(例如，具有重量平均分子量為400之多元醇，其詳細如，脂肪族二醇之C2-C10脂肪族二醇，三醇和多價醇)，聚酯多元醇，聚醚多元醇，含有醯胺之多元醇，聚丙烯醯基多元醇，環氧多元醇，多價聚乙烯醇，胺基甲酸酯多元醇，和這些多元醇之混合物組成。
用於製備胺基甲酸酯反應基團化合物之異氰酸酯化合物和低折射熱固化樹脂相同。
用於製備胺基甲酸酯反應基團化合物之催化劑種類和低折射熱固化樹脂相同。
用於製備胺基甲酸酯反應基團化合物之異氰酸酯化合物和多官能基醇之含量係相同於低折射熱固化樹脂。
尿素反應基團化合物之製備方法和組成物質，和催化劑係相同於上述低折射熱固化樹脂。
酯化反應物可透過酸和醇之脫水和縮合反應而製備。具有交聯結構之薄膜可藉由混合酯化反應物與塗佈溶液而形成。關於酸，可使用二官能基或以上之酸，而二官能基或以上之酸之例子，如琥珀酸，戊二酸，己二酸，辛二酸，壬二酸，癸二酸，和月桂酸。關於醇類，可使用多官能基醇，其詳細如，1,4-丁二醇，1,2-丁二醇，1,5-戊二醇，2,4-戊二醇，1,4-環己二醇，1,6-己二醇，2,5-己二醇，2,4-庚二醇，季戊四醇，和三羥甲丙烷。酸催化劑，例如，硫酸或烷氧基泰坦(如，四丁氧基泰坦)可用於酯化反應。但是，其不僅限於此。
高折射紫外線固化樹脂之物質可包括一丙烯酸酯基樹脂，和光起始劑和溶劑。
丙烯酸酯基樹脂，如丙烯酸酯單體，胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物，環氧丙烯酸酯寡聚物，和酯丙烯酸酯寡聚物，以獲得高折射率，其可包括如硫，氯，和金屬或芳香族取代基團。其例子如，二季戊四醇六丙烯酸酯，季戊四醇三/四丙烯酸酯，三亞甲基丙烷三丙烯酸酯，乙二醇二丙烯酸酯，9,9-二(4-(2-丙烯醯基乙氧苯基)氟(折射率1.62)，二(4-甲基丙烯醯基苯硫基)硫化物(折射率1.689)，和二(4-乙烯基苯硫基)硫化物(折射率1.695)，其可單獨使用，或結合二種或以上使用。
丙烯酸酯基樹脂之含量和上述低折射熱固化樹脂相同。
光起始劑之定義、種類和含量係和上述低折射熱固化樹脂相同。
溶劑之種類和上述低折射熱固化樹脂相同。
溶劑之含量為基於高折射物質為100重量份下，其含有10至90重量份。在含量為少於10重量份情況下，由於塗佈溶液之黏度增加，使其難以實現與低折射物質相分離，且有塗佈薄膜之平坦度變差之問題，而在含量為多於90重量份情況下，將會有塗佈薄膜之耐刮性和耐磨性變差之問題，且塗佈溶液之黏度變得過低，因而使溶液無法轉換至塗佈裝置和基板。
高折射物質可包括一表面活性劑。關於表面活性劑，可使用一流平劑或潤濕劑，尤其是，可使用氟基或聚矽氧烷基化合物。
表面活性劑之含量為基於高折射物質為100重量份下，其最多為含有5重量份。在含量為多於5重量份情況下，會有低折射物質之相分離效果下降之問題，且對基材之附著性，塗佈薄膜之耐刮性和耐磨性會變差。
在上述低折射物質和高折射率物質間之折射率差異，在乾燥和固化後可以是0.01或以上，在此情況下，藉由兩層或以上之單一塗佈層形成功能性GRIN(梯度折射率)表面，獲得抗反射效果，在此情況下，在低折射率物質固化時，其表面能量為25 mN/m或以下，且在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5 mN/m或以上，使相分離可有效地完成。
根據本發明具體實施例之氟基化合物，其促進在高折射物質和低折射物質間之相分離。氟基化合物之折射率為1.5或更低，其分子量比低折射物質之分子量更小，且表面能為在高折射物質和低折射物質之表面能量之間。
關於氟基化合物，其選自由所有氟基化合物所組成群組之一種或以上物質，其使用低折射熱固化樹脂物質，如，氟基烷氧矽烷，氟基醇，氟基異氰酸酯，氟基胺，和二官能基或以上之含氟酸，一種或以上由化學式1至5表示之氟基丙烯酸酯，並可進一步具有一C1-C6直鏈或支鏈之烴基團，一包含氟成份之流平劑，各種氟基添加劑，如，一分散劑，一表面改良劑，一潤濕劑，一消泡劑，和一相容劑，和一氟基溶劑可被使用。
微粒具有1至10微米之平均粒徑，在抗反射和抗炫塗佈薄膜之表面形成不平坦，從而導致漫反射，因此提供抗炫功能。關於具有1至10微米平均粒徑之微粒，可使用固定型式或非結晶之有機，無機，或有機和無機複合物之微粒。
在微粒之平均粒徑小於1微米之情況下，由於在其表面未形成不平坦，這可能會導致外部光線之漫反射，而在粒徑大於10微米之情況下，由於不平坦變大，而使影像清晰度下降。更佳為微粒之平均粒徑為1.5至5微米。
已知的抗反射薄膜可含有奈米顆粒，但奈米顆粒之平均粒徑為10至100奈米，使薄膜之低折射改善。然而，本發明之具體實施例係用於提升薄膜之抗反射和抗炫特性，且該特性係由具有1至10微米平均粒徑之微粒所組成。藉由包括具有1至10微米平均粒徑之微粒，根據本發明具體之具體實施例，可由微粒在抗反射和抗炫塗佈薄膜之表面形成不平坦，使薄膜之抗炫特性可大幅提升。
有機微粒可使用選自由聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸，聚丙烯酸酯，聚丙烯酸酯-共-苯乙烯，聚甲基丙烯酸-共-苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯-共-苯乙烯，聚碳酸酯，聚氯乙烯，聚丁烯對苯二甲酸酯，聚乙烯對苯二甲酸酯，聚醯胺，聚醯亞胺，聚碸，聚苯醚，聚縮醛(polyacetal)，環氧樹脂，酚醛樹脂(phenol resin)，矽基樹脂(silicon resin)，三聚氰胺樹脂，苯基呱胺甲醛(benzoquamine)，聚二乙烯基苯，聚二乙烯基苯-共-苯乙烯，聚二乙烯基苯-共-丙烯酸酯，聚鄰苯二甲酸二烯丙酯(polydiallylphthalate)和三聚異氰尿酸三烯丙酯(triallylisocyanurate)聚合物之單一物質，或其二種或以上之共聚物。
無機微粒可使用選自由二氧化矽，二氧化鈦，氧化鋯，氧化銦，三氧化二鋁，氧化鋅，氧化鈰，氧化鋇，碳酸鈣，鈦酸鋇，硫酸鋇之單一物質，或其二種或以上之複合物。
有機和無機複合物，係選自由一種或以上之複合物，聚矽氧烷，其係由脂肪族或芳香族所組成；一化合物，其係藉由共聚合一種或以上之丙烯醯基不飽和化合物和聚矽氧烷而獲得；和一矽基化合物，其具有一環氧基團或乙烯不飽和鍵。
塗佈組成物中之每個樹脂之含量，較佳為基於全部塗佈組成物為100重量份下，其含有1至70重量份之低折射物質，20至95重量份之高折射物質，0.1至50重量份之氟基化合物，0.01至70重量份之微粒。此外，較佳為基於全部塗佈組成物為100重量份下，其含有5至30重量份之低折射物質，60至90重量份之高折射物質，0.1至20重量份之氟基化合物，0.01至20重量份之微粒。
在低折射物質少於1重量份或多於70重量份之情況下，低折射層之厚度為太厚或太薄，而導致干擾消滅。在高折射物質少於20重量份之情況下，將難以形成低折射層，在高折射物質多於95重量份之情況下，耐磨性將會下降。
在氟基化合物多於50重量份之情況下，其耐磨性將會變差。
在微粒少於0.01重量份之情況下，由於微粒埋藏於高折射物質內，使其抗炫效果低，而在微粒多於70重量份之情況下，顯示器之光學特性大幅變差。
根據本發明具體實施例之抗反射和抗炫塗佈組成物，可進一步包括具有平均粒徑少於1,000奈米之奈米微粒，較佳為10至100奈米，更佳為30至50奈米。奈米微粒可作為抗反射低折射奈米微粒，以提升抗反射特性。關於奈米微粒，如金屬氟化物，有機和無機之空心或多孔微粒。其詳細如，金屬氟化物，可使用選自由NaF，LiF，AlF3，Na5Al3F14，Na3AlF6，MgF2，NaMgF3，和YF3所組成群組之一種或以上物質。奈米微粒可在範圍內使用，以維持塗佈薄膜之低折射特性，塗佈薄膜之強度和對顯示器基材之附著性。奈米微粒之含量基於抗反射和抗炫塗佈組成物為100重量份下，其含有5至20重量份。
根據本發明之具體實施例係提供一種利用抗反射和抗炫塗佈組成物製備抗反射和抗炫薄膜之方法，和利用其方法製備之抗反射和抗炫薄膜。
根據本發明具體實施例之製備抗反射和抗炫薄膜之方法，包括以下步驟：(a)提供抗反射和抗炫塗佈組成物；(b)藉由塗佈該塗佈組成物於基板上以形成一塗佈層；(c)藉由乾燥該塗佈層，以相分離低折射率物質和高折射率物質；及(d)固化乾燥後之塗佈層。
在步驟(b)之基材，可使用，玻璃，塑膠薄片和薄膜，且其厚度並沒有限制。關於塑膠薄膜之種類，如，三醋酸酯纖維素(triacetate cellulose)薄膜，原冰片烯(norbornene)基環烯烴聚合物，聚酯薄膜，聚丙烯酸甲酯薄膜，和聚碳酸酯薄膜，但其種類不限於此。
在步驟(b)塗佈組成物之塗佈，可根據基材之種類和塗佈溶液之流體物理性質而自由地選擇，如，棒塗佈，2或3滾動逆轉塗佈，凹印塗佈，模具塗層，微凹印塗佈和刮刀式塗佈。
塗層厚度可以為1至30微米，且進行一乾燥程序，以乾燥塗佈後之溶劑。在塗佈物質之乾燥厚度少於1微米之情況下，耐磨性是不足夠的，而在乾燥厚度多於30微米之情況下，由於在低折射物質和高折射物質間之相分離並不平穩，將不可能會得到預期的反射結果。
在步驟(c)之乾燥，可在40至150℃之溫度下進行0..1至30分鐘，使在塗佈組成物之有機溶劑揮發，且低折射物質沉積於塗佈上層部分，然後緩慢地固化。在乾燥溫度低於40℃之情況下，由於有機溶劑之揮發並不充分，使其在紫外線固化時之固化程度下降，而在乾燥溫度高於150℃之情況下，在低折射物質未沉積於塗佈層之上層部分之前就會進行固化。
在步驟(d)之固化，可根據使用樹脂之種類以藉由紫外線或加熱進行。在熱固化樹脂和紫外線固化樹脂兩者都使用之情況下，在進行紫外線固化之後，可進行加熱固化。
紫外線固化可藉由紫外線照射進行，其紫外線照射量為0.01至2 J/cm2進行1至600秒。因此，塗佈層具有足夠之耐磨性。在紫外線照射量未達到上述範圍之情況下，由於未固化樹脂殘留於塗佈層上，使其表面黏滯，耐磨性不佳，而在紫外線照射量超過上述範圍之情況下，由於紫外線固化樹脂之固化程度變得過高，熱固化樹脂之固化可能阻礙隨後進行之加熱固化步驟。
加熱固化可在20至200℃之溫度下進行1至240小時。在固化溫度低於20℃之情況下，由於加熱固化之速度微不足道，使其熱固化時間變得過長，而在溫度高於200℃之情況下，會有塗佈基材之穩定性危險之問題。固化時間係根據溫度為1至240小時，且加熱固化樹脂之固化可充分地實施，以最大限度地增加塗佈層之耐刮性。
根據本發明具體實施例之抗反射和抗炫薄膜，其藉由利用製備抗反射和抗炫塗佈組成物之方法，以製成抗反射和抗炫薄膜，包括一基材和沉積於基材上之單一塗佈層，且包括一具有折射率為1.2至1.45之低折射物質，一具有折射率為1.46至2之高折射物質，一氟基化合物，和一具有平均粒徑為1至10微米之微粒，其中在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5 mN/m或更高，且低折射物質和高折射物質在厚度方向具有一濃度梯度。根據本發明具體實施例之薄膜之單一塗佈層藉由微粒而具有表面不平坦。因此，抗炫特性將被改善。
在抗反射和抗炫薄膜中，由相對應50%之範圍內組成之低折射物質在厚度方向由抗反射和抗炫層之表面與空氣接觸，較佳為70%或以上，更佳為85%或以上，最佳95%或以上，基於低折射物質之全部重量下。根據本發明具體實施例之抗反射和抗炫薄膜，具有一小於3%之反射率，和優異的抗反射和抗炫效果。
根據本發明之具體實施例，一硬塗佈層可根據薄膜使用之目的而進一步組成在抗反射和抗炫薄膜上。
本發明之具體實施例提供一偏光片，其包括根據上述本發明具體實施例之抗反射和抗炫薄膜。其詳細如，本發明之具體實施例提供一偏光片，其包括：(a)一偏光膜，及(b)根據本發明之具體實施例之抗反射和抗炫薄膜，提供於偏光膜之至少一側。一保護薄膜，可提供於在偏光膜與抗反射和抗炫薄膜之間。此外，關於保護薄膜，可使用一基材在製備抗反射和抗炫薄膜時形成單一塗佈層。偏光膜與抗反射和抗炫薄膜可藉由附著劑而層壓。關於偏光膜，已知技藝之物質可被使用。
本發明之具體實施例提供一顯示器，包括抗反射和抗炫薄膜或偏光片。該顯示裝置可以為液晶顯示裝置或電漿顯示裝置。除了根據本發明具體實施例提供之抗反射和抗炫薄膜之外，根據本發明具體實施例之顯示裝置可以為一已知技藝之結構。例如，根據本發明具體實施例之顯示裝置，抗反射和抗炫薄膜可提供於觀看者或顯示面板背光側之最外層表面。此外，根據本發明具體實施例之顯示裝置，可包括一顯示面板，一偏光膜提供於面板之至少一側，及一抗反射和抗炫薄膜提供於一表面，其相對於與偏光膜之面板接觸表面。
本發明更好的瞭解可按照以下較佳實施例之陳述說明而得到，但並非解釋為本發明限制。
[實施例] [實施例1] A.　含有烷氧矽烷反應物之低折射熱固化物質之製備
低折射熱固化物質之溶液係藉由溶膠-凝膠而製備，其係由25重量份之氟烷基甲氧矽烷，20重量份之四乙氧矽烷，7重量份之3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧矽烷，7.5重量份之水，0.5重量份之硝酸，20重量份之甲醇和20重量份之2-丁基醇之混合物反應，並於常溫下反應24小時。
B.　高折射紫外線固化物質之製備
高折射紫外線固化物質之溶液係藉由30重量份之二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)作為多官能基丙烯酸酯，以提供塗佈薄膜之薄膜強度，1重量份之Darocur 1173作為紫外線起始劑，20重量份之乙醇作為溶劑，29重量份之正丁醇，和20重量份之乙醯丙酮(ACAC)，將其均勻地混合而製成。
C.　氟基化合物之製備
關於氟基化合物，可使用丙烯酸三氟乙酯。
(塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由20重量份之低折射熱固化溶液，75重量份之高折射紫外線固化溶液，4重量份之丙烯酸三氟乙酯，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)作為微粒，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
將已製備之塗佈溶液藉由線棒(No.5)塗佈於厚度80微米之三乙酸酯纖維素。在120℃烤箱內乾燥2分鐘，藉由紫外線能量為200 mJ/cm2之紫外線以固化，並在120℃之烤箱內過夜，因而實現最終之熱固化。該塗佈薄膜之厚度約為1微米。
[實施例2] D.　低折射紫外線固化物質之製備
低折射紫外線固化樹脂之溶液係藉由8重量份之二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)作為多官能基丙烯酸酯，以提供塗佈薄膜之薄膜強度，30重量份之1H,1H,6H,6H-全氟-1,6-己基丙烯酸酯作為氟基丙烯酸酯，以提供低折射率，2重量份之Darocur 1173作為光起始劑，20重量份之二丙酮醇(DAA)和40重量份之甲基乙基酮(MEK)作為溶劑，將其均勻地混合而製成。
(塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由24重量份之低折射紫外線固化溶液，70重量份之實施例1製備之高折射紫外線固化溶液(B)，5重量份之丙烯酸三氟乙酯作為氟基化合物，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)作為微粒，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[實施例3] E.　用以製備胺基甲酸酯化合物之高折射熱固化物質之製備
高折射物質之溶液係藉由12重量份之異氰酸酯Vestanat 1358(Degussa公司)，19.5重量份之二官能基醇Terahtane 650(Aldrich公司)，0.5重量份之二丁錫二月桂酸酯作為金屬催化劑，28重量份之二丙酮醇(DAA)和40重量份之甲醇(MeOH)作為溶劑，將其均勻地混合而製成。
(塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由24重量份之實施例1製備之低折射熱固化溶液(A)，70重量份之高折射熱固化溶液B，5重量份之丙烯酸三氟乙酯作為氟基化合物，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)作為微粒，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[實施例4] (塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由21重量份之實施例2製備之低折射紫外線固化溶液(B)【應為溶液D】，70重量份之實施例1製備之高折射紫外線固化溶液(D)，8重量份之十三氟辛基三乙氧矽烷作為氟基化合物，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[實施例5] (塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由20重量份之低折射紫外線固化溶液(B)，其加入5重量份之具有平均粒徑為30微米之中空二氧化矽，71重量份之實施例1製備之高折射紫外線固化溶液(D)，8重量份之十三氟辛基三乙氧矽烷作為氟基化合物，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[實施例6] (塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由20重量份之實施例2製備之低折射紫外線固化溶液(B)，69重量份之實施例1製備之高折射紫外線固化溶液(D)，8重量份之十三氟辛基三乙氧矽烷作為氟基化合物，和3重量份之具有平均粒徑為3微米之聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)球形微粒，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[比較例1]
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成，除了低折射熱固化溶液(A)並未使用實施例1所用之塗佈溶液。
[比較例2]
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成，除了個別氟基化合物(C)並未使用實施例1所用之塗佈溶液。
[比較例3]
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成，除了個別微粒並未使用實施例1所用之塗佈溶液。
[比較例4] F.　含有烷氧矽烷反應物之低折射熱固化物質之製備
低折射熱固化物質之溶液係藉由溶膠-凝膠而製備，其係由5重量份之氟烷基乙氧矽烷，37重量份之四甲氧矽烷，10重量份之乙烯基三甲氧矽烷，7.5重量份之水，0.5重量份之硝酸，和40重量份之甲醇之混合物反應，並於常溫下反應24小時。
G.　高折射紫外線固化物質之製備
高折射紫外線固化樹脂之溶液係藉由20重量份之季戊四醇三/四丙烯酸酯作為多官能基丙烯酸酯，以提供塗佈薄膜之薄膜強度，10重量份之三亞甲基丙烷三丙烯酸酯，1重量份之Darocur 1173作為紫外線起始劑，5重量份之BYK 333和4重量份之BYK 371作為表面活性劑，20重量份之乙醇，20重量份之正丁醇，和40重量份之甲基乙基酮(MEK)作為溶劑，將其均勻地混合而製成。
(塗佈溶液之製備)
相容混合溶液係藉由24重量份之低折射熱固化溶液，70重量份之高折射紫外線固化溶液，5重量份之丙烯酸三氟乙酯作為氟基化合物，和1重量份之具有平均粒徑為2微米之二氧化矽(OK607，Degussa公司製造)，將其均勻地混合而製成。
(塗佈薄膜之製備)
塗佈薄膜由實施例1之相同方法製成。
[試驗實施例]
藉由利用由實施例1，2，和3和比較例4製備之低折射物質和高折射物質A，B，C，D，E，F和G，而測定固化物質之折射率和表面能量，其詳述如表1。
每個固化物質之製備方法係與下列方法相同。該熱固化物質A，E，和F藉由線棒(No.5)塗佈於厚度80微米之三乙酸酯纖維素，且留置於120℃烤箱內一天，並將紫外線固化物質B，D，和G藉由相同方法塗佈以作為熱固化物質，且藉由紫外線能量為200 mJ/cm2之紫外線以固化，並在60℃烤箱內乾燥2分鐘。
折射率係利用由Sairon科技有限公司製造之稜鏡耦合而測定，而表面能量可利用KRUSS公司製造滴形分析法之DSA100，並以水和二碘甲烷(CH2I2)為基礎而測定。
塗佈薄膜之厚度可藉由上述實施例和比較例之方法測定為1微米。
藉由上述方法製備抗反射薄膜之光學特性可藉由下列方法而評估。
(1)　折射率之評估
低反射特性係藉由黑色處理塗佈薄膜背面之最小反射比例而評估，且藉由Shimadzu公司製造之Solid Spec. 3700光譜儀而測定。
(2)　滲透性和薄霧之評估
滲透性和薄霧係藉由Nippon Murakami公司製造之HR-100而評估。
(3)　光澤評估
塗佈薄膜之光澤係藉由Nippon BYK公司製造之Micro-TRI-gloss光澤計而評估。
折射率、滲透性、薄霧和光澤之評估結果係如下列表2所述。
如表2所示，相較於藉由比較例之抗反射和抗炫塗佈組成物製備之薄膜，根據本發明之具體實施例，其藉由使用實施例之抗反射和抗炫塗佈組成物製備之薄膜，其具有較低反射率和較高滲透性，而不會改變薄霧和光澤，因而確定優異之抗反射和抗炫效果可被實現。
由上述可知，本發明無論就目的、手段及功效，均顯示其迥異於習知技術之特徵，極具實用價值。惟應注意的是，上述諸多實施例僅係為了便於說明而舉例而已，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。

Claims (15)

  1. 一種抗反射和抗炫塗佈組成物，包括：一具有折射率為1.2至1.45之低折射物質；一具有折射率為1.46至2之高折射物質；一氟基化合物；以及一具有平均粒徑為1.5至5微米之微粒，其中在低折射物質和高折射物質間之表面能量差異為5mN/m或以上；以及其中，該微粒係無機微粒。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成物，其中低折射物質之表面能量為25mN/m或更少。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成物，其中低折射物質和高折射物質各自獨立含有熱固化樹脂和紫外線固化樹脂。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成物，其中在100重量份之全部塗佈組成物中，高折射物質之含量為20至95重量份，而低折射物質之含量為1至70重量份。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成 物，其中在100重量份之全部塗佈組成物中，氟基化合物之含量為0.1至50重量份，及微粒之含量為0.01至70重量份。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成物，其中在高折射物質和低折射物質間之固化後的折射率差異為0.01或以上。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射和抗炫塗佈組成物，其進一步包括具有平均粒徑少於1,000奈米之奈米微粒。
  8. 一種製備抗反射和抗炫塗佈薄膜之方法，其包括以下步驟：(a)提供如申請專利範圍第1至7項之任一項之抗反射和抗炫塗佈組成物；(b)藉由塗佈該塗佈組成物於基板上以形成一塗佈層；(c)藉由乾燥該塗佈層，以相分離低折射率物質和高折射率物質；以及(d)固化乾燥後之塗佈層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之製備抗反射和抗炫塗佈薄膜之方法，其中步驟(b)之塗佈厚度基於乾燥塗佈層為1至30微米。
  10. 一種抗反射和抗炫薄膜，其藉由如申請專利範圍第1至7項之任一項之抗反射和抗炫塗佈組成物所形成，包括一單一塗佈層，其中低折射物質和高折射物質在厚度方向具有一濃度梯度。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之抗反射和抗炫薄膜，其藉由微粒在該抗反射和抗炫薄膜之表面形成不平坦。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之抗反射和抗炫薄膜，其中包括在厚度方向由單一塗佈層與空氣接觸表面相對應50%之範圍內之該低折射物質係為70%或以上，基於該低折射物質之全部重量。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之抗反射和抗炫薄膜，其反射率小於3%。
  14. 一種偏光片，包括：(a)一偏光膜；以及(b)如申請專利範圍第10項之抗反射和抗炫薄膜。
  15. 一種顯示裝置，包括：如申請專利範圍第10項之抗反射和抗炫薄膜。
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