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TWI477396B - 反射片用白色積層聚酯膜 - Google Patents

反射片用白色積層聚酯膜 Download PDF

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TWI477396B
TWI477396B TW097100270A TW97100270A TWI477396B TW I477396 B TWI477396 B TW I477396B TW 097100270 A TW097100270 A TW 097100270A TW 97100270 A TW97100270 A TW 97100270A TW I477396 B TWI477396 B TW I477396B
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Taiwan
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polyester
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polyester layer
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resin
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TW097100270A
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TW200930571A (en
Inventor
Tatsuo Yoshida
Akikazu Kikuchi
Terufumi Takayama
Atsushi Matsunaga
Original Assignee
Toray Industries
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Description

反射片用白色積層聚酯膜
本發明係關於一種反射片用白色積層聚酯膜。更詳言之，本發明係關於一種具有積層構造，具優越之反射特性、隱蔽性，並且生產性良好的聚酯膜，有關一種能夠適用於影像顯示用之背光裝置及燈反射鏡之反射片、照明用器具之反射片、照明招牌用反射片、太陽電池用背面反射片等之白色積層聚酯膜。
由於白色聚酯膜具有均勻且高的反射率、尺寸安定性、廉價等特性，已泛用於液晶顯示器等所用之平面型影像顯示方式的面光源裝置之反射板及反射片、照明招牌用反射片、太陽電池用背面反射片等之用途。表現高反射性能的方法係廣泛採用下列方法：於聚酯膜中，例如含有許多硫酸鋇等之無機粒子，利用於聚酯樹脂與粒子之界面，及以粒子為核而生成的微細空洞界面之光反射的方法(參照專利文獻1)；藉由混合與聚酯不相溶之樹脂，利用以不相溶樹脂為核而生成的微細空洞之空洞界面之光反射的方法(參照專利文獻2)；藉由使壓力容器中之不活性氣體滲入聚酯膜內，利用於內部生成的空洞界面之光反射的方法(參照專利文獻3)等；於聚酯膜中所含之無機粒子與聚酯樹脂之折射率差及微細空洞與聚酯樹脂之折射率差的方法。
近年來，尤其利用液晶顯示器之用途擴大備受矚目，除 了習知之筆記型電腦、監視器、攜帶式終端以外，液晶電視用等也被廣泛採用，因應於此，追求畫面之高亮度化、高精細化。因應於畫面之高亮度化，對反射片進一步要求高反射率、高隱蔽性。因應於此，增量聚酯膜中之無機粒子、使與聚酯不相溶之樹脂的量予以增量等，增加聚酯膜中之反射界面數逐漸變得重要，藉由使無機粒子或聚酯中之不相溶樹脂予以增量，於進行雙軸拉伸時，薄膜破裂常發生，將有生產性變差的問題，使高反射率、高隱蔽性與薄膜之生產性得以兼具為困難的。
因此，藉由含有與薄膜基本構造的聚酯樹脂之折射率差為大的二氧化鈦粒子，進行利用少的添加量以得到高反射率、高隱蔽性之嚐試(參照專利文獻4、5、6)。然而，藉由含有由強散射性之二氧化鈦粒子，被散射之一部分光將有因損耗而失去之傾向，較大量添加之情形，雖然表現發射反射片之隱蔽性，但因光之損耗而導致反射率降低，相反的，少量添加之情形，有反射片之反射率或隱蔽性不足的問題，兼具為困難的。使反射率與隱蔽性得以兼具，並且朝向難以破裂、生產性佳的聚酯膜之要求逐漸提高。
專利文獻1：日本專利特開2004-330727號公報 專利文獻2：日本專利特開平04-239540號公報 專利文獻3：國際專利公開第97/01117號手冊 專利文獻4：日本專利特開2001-225433號公報 專利文獻5：日本專利特開2002-138150號公報 專利文獻6：日本專利特開2004-294611號公報
本發明係有鑑於如此習用技術之問題點，其目的在於提供一種反射片用白色積層聚酯膜，其兼具高的反射率與高的隱蔽性，並且薄膜破裂難以發生、生產性為高的。
本發明係為了解決如此之課題，使用如下之技術手段。亦即，本發明之反射片用白色積層聚酯膜，其係於內部含有空洞之聚酯層(B)的至少單面側，已積層聚酯層(A)之積層聚酯膜，該積層聚酯膜係符合下列所有之(1)~(5): (1)至少單面側之聚酯層(A)的厚度為5~15μm。
(2)於聚酯層(A)中，相對於聚酯層(A)，含有3~15重量%之折射率為2.0以上的粒子。
(3)聚酯層(B)之厚度為150μm以上。
(4)相對於聚酯層(B)，於聚酯層(B)中所含之折射率2.0以上之粒子量為2重量%以下。
(5)相對於聚酯層(B)，於聚酯層(B)中，含有12~25重量%之與聚酯樹脂不相溶的樹脂、及/或30~50重量%之折射率低於2.0的無機粒子。
另外，本發明之含有空洞的積層白色聚酯膜係具有以下之(a)~(j)的較佳形態：(a)於聚酯層(A)中所含之折射率2.0以上的粒子為二 氧化鈦粒子。
(b)聚酯層(A)之厚度為5~10μm，並且聚酯層(B)之厚度為200~400μm。
(c)於聚酯層(A)中所含之二氧化鈦粒子係以金紅石(rutile)型為主體。
(d)於聚酯層(A)中所含之二氧化鈦粒子係以利用氯化法所製造之金紅石型為主體。
(e)構成聚酯層(A)與聚酯層(B)之樹脂係以聚對苯二甲酸乙二酯作為基本構造。
(f)於該聚酯層(B)中所含之與聚酯樹脂不相溶的樹脂為聚甲基戊烯。
(g)於聚酯層(B)中之聚甲基戊烯的平均粒子大小為寬度方向3μm以下且厚度方向2μm以下。
(h)於該聚酯層(B)中所含之折射率低於2.0之無機粒子為硫酸鋇。
(i)至少於單側表面設置具有紫外線吸收能之塗布層。
(j)相對於聚酯層(A)，於聚酯層(A)中含有0.05~10重量%之耐光劑。
(k)將聚酯層(A)側作為光反射面使用。
(l)將聚酯層(A)側作為光反射面之液晶顯示器用背光的背面反射片。
若根據本發明，能夠得到一種反射片用白色積層聚酯 膜，其兼具高的反射率與高的隱蔽性，並且於製造中薄膜破裂將難以發生、生產性為高的。
 實施發明之最佳形態
本發明人等係針對該課題之解決，亦即兼具高的反射率與高的隱蔽性，並且於製造中薄膜破裂將難以發生、生產性為高的反射片用白色積層聚酯膜，鑽研探討之結果，發現查明具有特定構造之聚酯膜能夠一舉解決如此之課題。
本發明之反射片用白色積層聚酯膜係於內部含有空洞之聚酯層(B)的至少單面側，已積層含有二氧化鈦粒子之聚酯層(A)的聚酯膜。藉由分成含有許多來自於無機粒子及/或與聚酯不相溶樹脂的微細空洞，除表現光反射機能外又表現緩衝性或柔軟性機能的聚酯層(B)；與具有表面上之光擴散反射機能，並且保持薄膜之剛性而表現製膜性或薄膜強度的聚酯層(A)，單層構造之情形則不可能達成，作成兼具高反射率與生產性之薄膜將成為可能。另外，聚酯層(A)與聚酯層(B)較宜利用共擠出法，一舉於製膜生產線中予以積層後，再予以雙軸方向拉伸。利用塗布法以設置聚酯層(A)的方法之情形，安定地賦與為了表現足夠剛性所必要之膜厚為困難的。
本發明之反射板用白色積層聚酯膜之積層構造，較佳例可列舉：將聚酯層(A)與聚酯層(B)作成例如A/B 2層或A/B/A 3層的構造，例如，可以作成積層聚酯層(A)或 聚酯層(B)以外之聚酯層(C)的A/B/C之3層構造，或更多的積層構造。具有表面光擴散反射機能之聚酯層(A)較宜配置於利用共擠出法所積層的積層構造之單側最外層。另外，於本發明中，藉由具有積層構造而能夠提高生產性，含有許多微細空洞之聚酯層(B)，其係由於含有許多為了表現空洞之無機粒子或不相溶樹脂等之成核劑，其脫落將成為問題，由於長時間製膜之期間，有可能污染與製膜裝置接觸的部分(轉筒、滾筒及塗布機等)而損害生產性，較宜配置於利用共擠出法所積層之積層構造的內層。
構成於本發明所用之聚酯樹脂的成分，可列舉以下之成分。二羧酸成分，例如，芳香族二羧酸可列舉：對苯二甲酸、間苯二甲酸、間苯二甲酸5-磺酸鈉、鄰苯二甲酸、聯苯酸及其酯衍生物；另外，脂肪族二羧酸可列舉：己二酸、癸二酸、十二烷二酸、二十烷二酸、二聚物酸及其酯衍生物；脂環族二羧酸可列舉：1,4-環己烷二羧酸及其酯衍生物；另外，多官能酸可列舉：偏苯三酸、均苯四甲酸及其酯衍生物為代表例。另外，二醇成分，例如，可列舉“乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、癸烷二醇、環己烷二甲醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、1,4-丁二醇，或如聚乙二醇及聚-1,4-丁二醇之聚醚等為代表例。若增加所製造之聚酯膜的機械強度、耐熱性、製造成本等的話，本發明之聚酯層(A)及聚酯層(B)較宜將聚對苯二甲酸乙二酯作為基本構造。所謂此情形之 基本構造，其係意指相對於所含之聚酯樹脂，50重量%以上為聚對苯二甲酸乙二酯。
另外，於本發明中，也可以對於聚對苯二甲酸乙二酯基本構造導入共聚合成分。導入共聚合成分的方法，可以於原料之聚酯丸粒的聚合時，添加共聚合成分以預先作為聚合共聚物成分之丸粒使用，另外，例如也可以利用將如聚對苯二甲酸丁二酯所單獨聚合之丸粒與聚對苯二甲酸乙二酯之混合物供應至擠出機，於熔融時，藉由酯交換反應而予以共聚合化的方法。從各特性面，相對於各個成分，此等共聚合成分之量並未予以特別限定，適宜為1~50莫耳%，更佳為1~20莫耳%。
另外，基於聚酯層(A)與聚酯層(B)間之抗裂開性或製膜安定性、製造成本之觀點，較宜將間苯二甲酸作為共聚合成分使用。另外，藉由於聚酯層(A)與聚酯層(B)中均含有共同之共聚合成分，由於聚酯層(A)與聚酯層(B)間的抗裂開性將進一步提高而較佳。
於該聚酯樹脂之聚縮合反應所使用之觸媒，例如，較宜可列舉：銻化合物、鈦化合物、鍺化合物及錳化合物等。此等觸媒可以單獨使用，或是也可以組合後而使用。基於難以生成金屬觸媒凝聚物之觀點，此等觸媒之中，適宜為鈦化合物或鍺化合物；基於成本之觀點，適宜為鈦化合物。具體而言，鈦化合物能夠使用四丁氧化鈦或四異丙氧化鈦等之烷氧化鈦、二氧化鈦-二氧化矽複合氧化物等主要之金 屬元素為由鈦與矽所構成的複合氧化物或鈦錯鹽等。另外，也能夠使用Acordis公司製之鈦-矽複合氧化物(商品名：C-94)等之超微粒氧化鈦。
於本發明中，於聚酯層(A)中，相對於聚酯層(A)，含有3~15重量%之折射率為2.0以上的粒子適宜為5~10重量%。折射率為2.0以上的粒子量具有低於3重量%之情形，成為反射率、隱蔽性變差之薄膜；超過15重量%之情形，由於因散射所造成之光損失將增加，反射率將變差。
另外，於本發明中，相對於聚酯層(B)，聚酯層(B)中所含之折射率為2.0以上的粒子量為2重量%以下，適宜為1重量%以下。聚酯層(B)中所含之折射率為2.0以上的粒子量超過2重量%之情形，積層薄膜之主要構造成分之聚酯層(B)中的光散射損失將增加，成為反射率變差之薄膜。
於本發明中，藉由使用高的折射率之粒子，與構成薄膜之聚酯樹脂的折射率差將變大，並藉由粒子與樹脂之界面上的光擴散反射性變強，可以得到高的反射率與隱蔽性。折射率為2.0以上的粒子，例如，可列舉：二氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、硫化鋅、鹼性碳酸鉛(鉛白)等，基於反射特性或隱蔽性、光安定性、製造成本等之觀點，適宜為二氧化鈦粒子。使用折射率低於2.0的粒子之情形，由於與構成薄膜之聚酯樹脂的折射率差變小，反射特性或隱蔽性將變差。
於本發明中，使用二氧化鈦作為折射率2.0以上之粒子使用之情形，二氧化鈦適宜為具有銳鈦礦型及金紅石型結晶構造之二氧化鈦。相較於銳鈦礦型，由於金紅石型之結晶構造為密的、折射率為高的，因此，與聚酯樹脂的折射率差變大，因而能夠得到於界面上之高的反射作用，較宜使用金紅石型二氧化鈦。
二氧化鈦例子之製法，主要可列舉：硫酸法與氯化法。於硫酸法製程中，將鈦鐵礦溶解於濃硫酸中，將鐵份作成硫酸鐵而予以分離之後，藉由水解此溶液，將鈦作成氫氧化物而加以沈澱分離。接著，藉由利用高溫之旋轉窰爐等以燃燒此氫氧化物，能夠得到二氧化鈦。另一方面，於氯化法製程中，藉由以金紅石型礦作為原料，於約1000℃之高溫中，使氯氣和碳予以反應，於生成四氯化鈦之後，分離四氯化鈦而高速噴射的同時，進行氧化而能夠得到二氧化鈦。相較於硫酸法製程，由於利用氯化法製程所生成的二氧化鈦係僅利用氣體參與的氣相反應所合成，能夠得到所謂釩、鐵、錳之不純物為少之高純度二氧化鈦，由於因不純物所造成之光的吸收損失將被減低而特別理想。
本發明所使用之二氧化鈦，為了抑制二氧化鈦之光觸媒活性，或是為了使聚酯樹脂中之分散性得以提高，較宜進行表面處理。為了抑制光觸媒活性，例如，可列舉：利用二氧化矽、氧化鋁等之無機氧化物以被覆處理表面的方法。另外，由於分散性提高之故，例如，可列舉“利用矽 氧烷化合物或多醇等進行表面處理的方法。
於本發明中之二氧化鈦的平均粒徑適宜為0.1μm~0.5μm。二氧化鈦的光反射能力所能最大發揮之波長係約為2倍二氧化鈦平均粒徑之波長，因此，二氧化鈦的平均粒徑尤以0.2μm~0.4μm特別理想。若二氧化鈦的平均粒徑成為低於0.1μm的話，二氧化鈦粒子將有容易凝聚、分散困難的傾向，另外，若超過0.5μm的話，將有可見光線區域之反射效率下降的傾向。
還有，於此所謂的二氧化鈦之平均粒徑，係指於進行積層薄膜的灰化處理後，利用掃描型電子顯微鏡(SEM)而以20000倍之倍率進行觀察，針對所觀察到的50個粒子而求出數目平均粒徑之值。
於本發明中，聚酯層(B)係於內部含有空洞。藉由於內部含有許多空洞，利用聚酯樹脂與空洞間之折射率差，控制散射損失的同時，能夠提高反射率。使聚酯層(B)中含有微細之空洞，表現高的反射率與隱蔽性的方法，可列舉：(1)使聚酯中含有發泡劑，藉由擠出或製膜時之加熱而予以發泡，或是藉由化學分解而予以發泡，而形成空洞的方法；(2)於聚酯之擠出時，添加氣體或可氣化物質的方法；(3)藉由將與該聚酯不相溶之熱可塑性樹脂(不相溶樹脂)添加於聚酯中，進行其單軸或雙軸拉伸而使微細之空洞發生的方法等；(4)大量添加氣泡形成性之無機系微粒以取代該不相溶樹脂的方法等。於本發明中，基於製 膜性、內部所含之空洞量的調整容易性、更微細且均勻大小之空洞形成容易性、甚至輕量性等之綜合性觀點，必須使用該(3)之不相溶樹脂的使用及(4)之無機系微粒的方法。於本方法中，由於聚酯中不相溶樹脂及/或無機粒子之含量越多，或是於雙軸拉伸之步驟中，拉伸倍率越高，而於聚酯內部生成將光反射的界面，故表現高的反射率與隱蔽性為可能的。
於此所謂的不相溶樹脂係指聚酯以外的熱可塑性樹脂，並且對聚酯顯示不相溶性之熱可塑性樹脂，較宜於聚酯中分散成粒子狀，藉由拉伸而使薄膜中形成空洞之效果為大的樹脂。更具體而言的話，所謂的不相溶樹脂，其係利用習知方法，較宜利用掃描型微分熱量計(DSC)、動態黏彈性測定等以測定將聚酯與上述不相溶樹脂予以熔融後的系統之情形下，樹脂除了觀察到相當於聚酯之玻璃轉移溫度(以後，簡稱為Tg)以外，也觀察到相當於該不相溶樹脂之Tg。
於該不相溶樹脂之中，較宜使用如聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚甲基戊烯等之結晶性聚烯烴樹脂；雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、6-甲基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、5,6-二甲基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、1-甲基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、6-乙基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、6-正丁基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、6-異丁基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、7-甲基雙環[2, 2, 1]庚-2-烯、三環[4, 3, 0, 12.5 ]-3-癸烯、2-甲基三環[4, 3, 0, 12.5 ]-3-癸烯、5-甲基三環[4, 3, 0, 12.5 ]-3-癸烯、三環[4, 4, 0, 12.5 ]-3-癸烯、10-甲基三環[4, 4, 0, 12.5 ]-3-癸烯等之非晶質環狀烯烴樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯腈樹脂、聚苯硫醚樹脂及氟系樹脂等。此等不相溶樹脂可以為均聚物，也可以為共聚物，甚至也可以併用二種以上之不相溶樹脂。此等樹脂之中，適宜為如表面張力小的聚丙烯或聚甲基戊烯等之聚烯烴樹脂，再者，最好為聚甲基戊烯。聚甲基戊烯具有下列之特徵：由於聚甲基戊烯係與相對的聚酯之表面張力差為大的，並且熔點為高的，平均添加量之空洞形成效果為大，作為不相溶樹脂特別理想。
相對於整個聚酯層(B)，本發明之聚酯層(B)中的不相溶樹脂之含量為12~25重量%，適宜為15~20重量%之範圍。含量較該範圍為少的情形下，成為反射率或隱蔽性變差的薄膜，相反的，含量較上述範圍為多的情形下，由於整個薄膜之表觀密度將過度降低，拉伸時，薄膜破裂等容易發生，生產性將降低，或所製造之聚酯膜的剛性度為低的，成為難以處理之薄膜。
於本發明中，以上述不相溶樹脂為核而形成微細之空洞。本發明之微細空洞能夠藉由聚酯層(B)之剖面(厚度方向)的掃描型電子顯微鏡(SEM)或穿透型電子顯微鏡(TEM)等以進行觀察。
於本發明中，於聚酯層(B)中含有不相溶樹脂之情形， 以該不相溶樹脂為核所生成的空洞較宜相互獨立，針對空洞之大小，沿著薄膜之長邊方向及寬度方向所切開的剖面上所觀察到的空洞寬度之平均大小適宜為3~25μm，更佳為5~20μm，另外，空洞厚度之平均大小期望適宜為0.3~10μm，更佳為0.5~5μm。若空洞寬度之平均大小較25μm為大、且空洞厚度之平均大小較10μm為大時，由於積層薄膜表面緩衝性之差將部分變大，反射率變得不均，或於薄膜製膜時，破裂變得容易發生。另外，若空洞寬度之平均大小低於3μm、空洞厚度之平均大小低於0.3μm時，無法得到充分之反射率。還有，此等所謂的長邊方向係指於薄膜製造時之步驟中，薄膜傳送的方向，且將相對於長邊方向成垂直之方向設為寬度方向。另外，此處揭示之空洞厚度、寬度的平均大小係於凍結處理薄膜之後，沿著長邊方向及寬度方向而切開剖面，使用掃描型電子顯微鏡(例如，(SEM)S-2100A型(日本日立製造所(股)製))，從放大4000倍觀察所拍攝的剖面照片，探討有無含有微細之空洞，從照片觀察空洞大小與不相溶樹脂之大小，量測此等寬度方向及厚度方向之長度，從放大倍率倒過來算而求出各空洞及各不相溶樹脂之大小。空洞大小、不相溶樹脂大小的平均值係針對從長邊方向切開之剖面圖的剖面照片50處，沿著寬度方向切開之剖面圖的剖面照片50處，合計100處之空洞及不相溶樹脂，求出寬度方向及厚度方向之大小，設為其平均值。還有，長邊方向、 寬度方向不明確之情形，利用試料任意成垂直之二個平面切開剖面後而進行測定。
針對空洞大小與不相溶樹脂之大小，測定第1圖所示之大小。還有，針對如第2圖之空洞中未觀察到不相溶樹脂則除外。
本發明所用之聚酯層(B)中之不相溶樹脂寬度方向的平均大小適宜為7μm以下，更佳為3μm以下。另外，平均厚度為3μm以下，更佳為2μm以下。若不相溶樹脂寬度方向之平均大小超過7μm，或厚度方向之平均大小超過3μm時，反射率將降低，或是於製膜時薄膜變得容易斷裂。雖然不相溶樹脂較宜微分散於聚酯樹脂中，但是於寬度方向與厚度方向，平均大小均成為低於0.5μm時，根據拉伸步驟所生成的空洞，將有於其後之熱處理步驟受阻塞、成為無法維持之傾向而不佳。還有，針對不相溶樹脂寬度方向之平均大小、平均厚度也使用上述的方法。
將不相溶樹脂之平均分散徑控制於上述較佳之範圍內的方法，並未予以特別限定，例如，與上述聚酯不相溶之樹脂以外，可列舉添加分散劑之適宜方法。藉由添加分散劑，由於不相溶樹脂之分散徑變小，根據拉伸而能夠更微細化所發生之空洞，其結果，能夠使薄膜之反射率或全部光線透過率、製膜安定性予以提高。顯示上述效果之分散劑，能夠使用具有與羧基或環氧基等極性基或聚酯具反應性官能基的烯烴系之聚合物或共聚物、二乙二醇、聚烷二 醇、界面活性劑及熱黏著性樹脂等。當然，此等分散劑可以單獨使用或併用二種以上。其中，基於與聚酯層(B)之主要構造單位的聚酯樹脂之相溶性與系統樹脂的分散性改善之觀點，由聚烷二醇、碳數2~6之脂肪族二醇成分與對苯二甲酸所構成的聚酯樹脂之共聚合樹脂較佳，尤其，聚乙二醇與聚對苯二甲酸丁二酯之塊狀共聚物特別理想。如此之分散劑係預先於聚合反應中，可以將分散劑作為共聚合化之聚酯使用，也可以直接使用。
相對於已含有分散劑之整個聚酯層(B)，本發明所用之分散劑的添加量適宜為0.05~10重量%，更佳為0.1~7重量%，最好為0.2~5重量%。添加量較0.05重量%為少之情形，將有使氣泡予以微細化之效果將變小。另外，添加量較10重量%為多之情形下，相反的，添加不相溶樹脂之效果將變小，生產安定性降低或成本上升等問題將容易發生。
於本發明中，於聚酯層(B)中含有折射率低於2.0的無機粒子之情形，以無機粒子為核所生成之空洞較宜相互獨立，針對空洞之大小，沿著薄膜之長邊方向與寬度方向所切開的剖面所觀察到的空洞寬度之平均大小適宜為1~25μm，更佳為2~20μm，另外，期望空洞厚度之平均大小適宜為0.1~10μn，更佳為0.3~5μm。使用無機粒子之情形，相較於不相溶樹脂，於擠出後難以再凝聚，或由於製膜步驟之熱處理時，不會發生核熱變形、空洞率降低， 基於能夠含有許多平均大小為小的空洞之觀點為適宜的，相反的使用無機粒子之情形，由於聚酯樹脂間難以形成空洞，為了達成高反射與高隱蔽，必須含有大量之無機粒子。若空洞寬度之平均大小較25μm為大、或空洞厚度之平均大小較10μm為大時，由於積層薄膜表面緩衝性之差會部分變大，外觀上產生不均，或於薄膜製膜時，破裂變得容易發生。另外，若空洞寬度之平均大小低於1μm、或空洞厚度之平均大小低於0.3μm時，無法得到充分之反射率。還有，此處所謂的長邊方向，其係於薄膜製造時之步驟中薄膜傳送之方向，將對長邊方向成垂直之方向設為寬度方向。利用相同於上述之空洞大小、不相溶樹脂大小的方法測出之值。
於本發明之聚酯層(B)中，所適用之折射率低於2.0的無機粒子，例如，能夠使用濕式及乾式的二氧化矽、膠體的二氧化矽、碳酸鈣、矽酸鋁、磷酸鈣、氧化鋁、碳酸鎂、氧化鋅(鋅白)、氧化鎂、碳酸鋇、碳酸鋅、硫酸鋇、硫酸鈣、雲母、滑石、黏土、高嶺土等，尤以硫酸鋇特別理想。
如此折射率低於2.0的無機粒子，其係於聚酯中之平均粒徑適宜為0.05~10μm，更佳為0.1~3μm。平均粒徑超過10μm之情形，由於拉伸時之薄膜破裂將發生，或薄膜阻塞將發生等之生產性降低而不佳。另外，平均粒徑為0.05μm以下之情形，尤其由於長波長側之反射率降低而 不佳。於此，平均粒徑係數目平均粒徑。相對於聚酯層(B)，本發明之折射率低於2.0之無機粒子的含量適宜為30~50重量%，更佳為35~45重量%。含量較上述範圍為少的情形下，成為反射率或全部光線透過率變差的薄膜；相反的，含量較上述範圍為多的情形下，於拉伸時，薄膜破裂等變得容易發生，將有生產性降低之情形。另外，折射率低於2.0的無機粒子也能夠於聚酯層(A)中含有。
於本發明之聚酯層(B)中，也可以含有上述之折射率低於2.0之無機粒子及與聚酯不相溶之樹脂二者。將不相溶樹脂作為成核劑之情形，容易生成扁平且大的空洞，將遍及廣範圍波長之光反射為可能的，由於空洞之尺寸本身為大的，將有空洞數變少的傾向，另外一旦增加聚酯中不相溶樹脂之含量時，由於不相溶樹脂分散尺寸將變大，產生製程中之破裂將發生等問題，尋求更進一步的高反射率之情形，將有難以提高反射率的問題。另外使用硫酸鋇等之折射率低於2.0的無機粒子之情形，相較於不相溶樹脂，由於能夠增多於聚酯膜中之含率，能夠形成許多尺寸為小的空洞，雖然具優越之低波長側的反射率為高的觀點，但是由於難以形成大尺寸的空洞，長波長側的反射率變差。因此，藉由組合因聚酯中之不相溶樹脂所造成大的空洞，與因折射率低於2.0之無機粒子所造成小的空洞，補償相互之缺點將成為可能。
於本發明中，至少單面側之聚酯層(A)的厚度為5~ 15μm，適宜為5~10μm。聚酯層(A)的厚度低於5μm之情形，藉由因聚酯層(A)中的折射率為2.0以上之粒子所造成之表面部分的擴散反射貢獻將變少之故，反射率變差，或是剛性度高的聚酯層(A)E厚度變薄，產生聚酯膜之剛性度將降低，而於製造時常發生破裂等之問題。聚酯層(A)之厚度超過15μm之情形，其係藉由因聚酯層(A)內的光擴散所造成之損失將增加，反射率將降低。
於本發明中，聚酯層(B)之厚度為150μm以上，適宜為200~400μm。於本發明中，主要藉由聚酯層(B)中之空洞而表現光反射性能，此聚酯層(B)之厚度低於150μm之情形，反射率或隱蔽性成為變差的薄膜。雖然聚酯層(B)之厚度的上限並未予以特別限定，但是基於聚酯膜的生產性或成本之觀點，厚度適宜為500μm以下。
如此方式，藉由光擴散損失為少的聚酯層(B)之厚層，而表現基本之光反射性能的同時，並且藉由在表面側積層具有效率高的反射能力之薄的聚酯層(A)，提高接近於光所射入側之薄膜表面的部分上之反射效率，壓低光擴散損失的同時，無關於較低的二氧化鈦含量，能夠得到高的反射率增加效果。藉此，基於反射率之觀點，較宜將本發明之白色積層聚酯膜的聚酯層(A)層側用於光反射面。
還有，各聚酯層之厚度係根據因上述剖面之掃描型顯微鏡所得的觀察照片，而量測各聚酯層厚度方向之長度，從放大倍率倒過來算而求出各層之厚度。適合求出各聚酯層 之厚度，沿著寬度方向所切開之橫剖面上，使用從相互不同的測定視野所任意選出的合計5處之剖面照片，作為其平均值而算出。長邊方向、寬度方向為不明確之情形，也可以測定任意方向之剖面。
於本發明中，整個薄膜之表觀密度適宜為0.5~1.3g/cm3 ，更佳為0.6~1.3g/cm3 ，尤以0.7~1.3g/cm3 特別理想。含有空洞之積層白色聚酯膜的表觀密度係根據聚酯層(B)中所含之微細空洞而被減低，調整至適宜之範圍。若表觀密度低於0.5的話，由於發生如下之問題而不佳：薄膜之強度變差而發生斷裂，或是於立體加工時產生皺摺，或是，於薄膜製程中，斷裂常發生，生產性變差等。另外，若表觀密度超過1.3g/cm3 時，由於存在於聚酯膜中之空洞量不足，反射率將變差。還有，本發明中之表觀密度係將薄膜切割成100mm×100mm之大小，將直徑10mm之測定子裝設於度盤規中，測定10點之厚度，計算厚度的平均值d(μm)之後，利用直讀天平以稱取薄膜，直到10-4 g之單位以讀取、算出重量w(g)之值。
另外，於本發明中，相對於聚酯層(B)，適宜於聚酯層(B)中含有0.05~1.0重量%之抗氧化劑，更佳為0.1~0.5重量%，進行更加安定之聚合物擠出與製膜成為可能。基於分散性之觀點，尤以抗氧化劑受阻酚系或受阻胺系之抗氧化劑特別理想。
另外，於本發明中，也能夠將所使用之粒子作為有機粒 子使用。有機粒子可列舉：交聯高分子粒子、草酸鈣、丙烯酸粒子及醯亞胺粒子等。
另外，也可以於本發明之反射板用白色積層聚酯膜之至少任一種聚酯層中含有耐光劑，於聚酯層(A)中含有係適宜的形態。藉由含有耐光劑，因紫外線所造成之薄膜色調變化將被防止。於本發明中，較宜所使用之耐光劑，只要為其他特性不受損之範圍的話，並未予以特別限定，期望選擇具優越之耐熱性，與聚酯樹脂之相溶性良好、能夠均勻分散性的同時，著色為少的樹脂、不會對樹脂及薄膜之反射特性造成不良影響的耐光劑。如此之耐光劑，例如，可列舉：水楊酸系、二苯甲酮系、苯并二唑系、氰基丙烯酸酯系、三系等之紫外線吸收劑及受阻胺系等之紫外線吸收劑等。具體而言，例如，水楊酸系之對第三丁基苯基水楊酸酯、對辛基苯基水楊酸酯；二苯甲酮系之2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、雙(2-甲氧基-4-羥基-5-苯醯苯基)甲烷；苯并三唑系之2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2,2'-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚]；氰基丙烯酸酯系之乙基-2-氰基-3,3'-二苯基丙烯酸酯；三系之2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧]酚等。
另外，紫外線安定劑，例如，可列舉：受阻胺系之雙 (2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、琥珀酸二甲基1-(2-羥乙基)-4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶聚縮合物，其他例子尚可列舉：雙(辛基苯基)硫化鎳及2,4-二第三丁基苯基-3',5'-二第本丁基-4'-羥基苯甲酸酯等。於此等耐光劑之中，較宜採用與聚酯具優越相溶性之2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、雙(2-甲氧基-4-羥基-5-苯醯苯基)甲烷、2,3'-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚]及2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧]酚。該耐光劑可以單獨使用、也可以併用二種以上。
相對於含有耐光劑之層，本發明之反射板用白色積層聚酯膜中之耐光劑的含量適宜為0.05~10重量%，更佳為0.1~5重量%，最好為0.15~3重量%。耐光劑之含量低於0.05重量%之情形下，耐光性不足，長期保管時之色調變化將變大；另外，耐光劑之含量超過10重量%之情形下，藉由根據因耐光劑所造成之著色，並藉由薄膜之色調改變的同時，具有根據耐光劑本身吸收光，反射率將降低之情形。
於本發明之反射板用白色積層聚酯膜中，藉由併用耐光劑與氧化鈦，能夠兼具優越之耐光性與光反射性。
於本發明中，至少於單面側設置具有紫外線吸收能的塗布層，因為能夠防止長期使用時之薄膜黃變而較佳。該紫外線吸收層可以為單層，也可以為複數層，於複數層之情 形下，其任一層為含有紫外線吸收劑之層，基於保持耐候性之觀點，期望含有紫外線吸收劑之層較宜為2層以上。該紫外線吸收層能夠藉由積層於樹脂中含有熱可塑性、熱硬化性、活性硬化型樹脂等之樹脂成分中含有例如二苯甲酮系、苯并三唑系、三唑系、氰基丙酸酯系、水楊酸酯系、苯甲酸酯系或無機系紫外線遮蔽劑等或是共聚合之物而能夠得到。其中，更佳為苯并三唑系之紫外線吸收劑。
苯并三唑系紫外線吸收單體，其基本骨幹中最好具有苯并三唑，並且為具有不飽和雙鍵之單體，雖然並未予以特別限定，適宜之單體適宜為2-(2'-羥基-5'-丙烯醯氧乙基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-甲基丙烯醯氧乙基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-丙烯醯氧乙基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑。與此等之單體所共聚合之丙烯酸單體及/或寡聚物，可列舉：丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸烷酯、及具有交聯性官能基之單體，例如具有羧基、羥甲基、酸酐基、磺酸基、醯胺基、胺基、羥基、環氧基等之單體。
於本發明中，於具有較宜所用之紫外線吸收能的塗布層中，能夠以任意之比例而使上述丙烯酸系單體及/或寡聚物之一種或二種以上而予以共聚合，基於積層膜硬度之觀點，相對於丙烯酸單體，甲基丙烯酸甲酯或苯乙烯適合於20重量%以上，更佳為30重量%以上予以共聚合。苯并三唑系單體與丙烯酸系單體之共聚合比，基於耐久性或與 基材薄膜緊貼性之觀點，相對於二者之合計，苯并三唑系單體之比例為10重量%以上、70重量%以下，適宜為20重量%以上、65重量%以下，更佳為25重量%以上、60重量%以下。對於該共聚合聚合物之分子量並未予以特別限定，基於塗布層耐久性之觀點，分子量適合為5000以上，更佳為10000以上。該共聚物之作成，例如能夠利用自由基聚合等方法而得到，並未予以特別限定。上述共聚物係作成有機溶劑或水分散物而於基材薄膜上予以積層，基於耐光性之觀點，其厚度通常為0.5~15μm，適宜為1~10μm，更佳為1~5μm之範圍內。
具有於本發明中之紫外線吸收能的塗布層中，以調整表面光澤度等之目的下，也可以於塗布層中添加有機及/或無機粒子。無機粒子能夠使用二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋅、硫酸鋇、碳酸鈣、沸石、高嶺土、滑石等，有機粒子能夠使用矽酮系化合物、交聯苯乙烯、交聯丙烯酸、交聯三聚氰胺等。有機及/或無機粒子之粒徑適宜為0.05~15μm，更佳為0.1~10μm。另外，相對於具有紫外線吸收能之塗布層的乾燥重量，含量適宜為5~50重量%，更佳為6~30重量%，最好為7~20重量%。藉由使所含之粒子的粒徑設為上述之範圍，由於防止粒子之脫落，並且能夠調整表面之光澤度而較佳。
於具有本發明之紫外線吸收能之塗布層中，能夠於不阻礙本發明效果之範圍內添加各種添加劑。添加劑能夠使用 例如螢光增白劑、交聯劑、耐熱安定劑、抗靜電劑、耦合劑等。
另外，具有紫外線吸收能之塗布層能夠利用任意的方法進行塗布。例如，照相凹版塗布、輥塗布、旋轉塗布、逆輥塗布、桿塗布、網板塗布、刮刀塗布、氣刀塗布、浸漬擠出積層等方法，尤其使用微型照相凹版輥之接觸(kiss)塗布以進行塗布的方法，具優越之塗布外觀或光澤度之均勻性而較佳。另外，於塗布後硬化塗布層之情形，其硬化方法能夠使用習知方法。例如，使用熱硬化、或紫外線、電子線、放射線等活性線之方法，進一步能夠採用根據此等之組合所進行的方法。於本發明中，較宜為利用熱風烘箱所進行的熱硬化方法或利用紫外線照射所進行的紫外線硬化法。另外，設置塗布層的方法，可以於基材薄膜之製造時，同時進行塗布的方法(進線塗布)，也可以於結晶配向結束後之基材薄膜上進行塗布(離線塗布)。
於本發明之反射片用白色積層聚酯膜中，於其80℃、30分鐘之加熱收縮率，長邊方向、寬度方向均適宜為0.5%以下，更佳為0.0~0.3%，最好為0.0~0.1%以下。加熱收縮率超過0.5%之情形，由於反射用薄膜之尺寸變化將變大、薄膜之平面性將變差，亮度不均將發生而不佳。另外，加熱收縮率適宜較0%為大。低於0.0%之情形，亦即於加熱時薄膜為拉伸方向之情形，因為組裝於背光單元內之後，因冷陰極管之熱等，薄膜將拉伸，彎曲或波狀起伏變得容 易發生。雖然使加熱收縮率低於0.5%的方法並未予以特別限定，通常可列舉：於降低製造雙軸拉伸薄膜時之拉伸倍率、提高熱處理溫度、與熱處理同時實施寬度方向及/或長邊方向之緩和處理等手法。長邊方向、寬度方向均是為了得到既定之加熱收縮率，較宜也於長邊方向進行緩和處理。針對此緩和處理，基於製造成本之觀點，較宜為於雙軸拉伸聚酯膜之製造中進行的方法(進線處理)，也可以將一次製膜後之薄膜，再次通過烘箱中，進行緩和處理的方法(離線處理)。
接著，針對本發明之反射片用白色積層聚酯膜之製法，說明其一例，本發明並不僅受如此之例子所限定。
於具有擠出機(A)與擠出機(B)之複合製膜裝置中，首先，為了形成聚酯層(A)，使二氧化鈦粒子成為3~15重量%之方式來混合熔點230~280℃之聚酯丸粒及二氧化鈦粒子之母料丸粒，充分進行真空乾燥。於此乾燥原料中，必要時，也可以添加其他之無機粒子或紫外線吸收劑。接著，將此乾燥原料供應至已加熱至240~300℃溫度之擠出機(A)，熔融擠出後，利用10~50μm的濾除濾膜過濾之後，導入T模頭複合噴嘴內。另一方面，為了形成聚酯層(B)，相對於聚酯層(B)，使不相溶樹脂成為12~30重量%及/或使無機粒子成為30~50重量%之方式，來混合真空乾燥後之聚酯丸粒，必要時於真空乾燥後之聚酯中混入不相溶樹脂丸粒，將其供應至已加熱至260~300℃溫 度之擠出機(B)中，相同於聚酯層(A)之情形，進行熔融、過濾後而導入T模頭複合噴嘴內。還有，必要時也可以於此原料中，添加0.05~10重量%之分散劑。另外，不相溶樹脂之添加係將預先作成母料屑片之物予以真空乾燥後而使用。於T模頭複合噴嘴內，使擠出機(B)之聚合物在中央部分、擠出機(A)之聚合物在兩表面側成為A/B/A之方式來積層，共擠出成形為片狀後而得到熔融積層片。
於表面溫度冷卻至10~60℃之轉筒上，藉由靜電以使此熔融積層片予以緊貼、冷卻固化，製作未拉伸積層薄膜。將該未拉伸積層薄膜導入已加熱至70~120℃溫度之輥群中，沿著長邊方向(縱向，亦即薄膜之行進方向)拉伸3~4倍，利用20~50℃溫度之輥群進行冷卻。
接著，利用夾子把持薄膜兩端的同時，導入拉幅器，於加熱至90~150℃溫度之氣體環境中，與長邊方向成直角之方向(寬度方向)拉伸3~4倍。
長邊方向與寬度方向之拉伸倍率係分別設為3~5倍，其面積倍率(縱拉伸倍率×橫拉伸倍率)較宜為9~15倍。若面積倍率低於9倍的話，所得的雙軸拉伸積層薄膜之反射率或隱蔽性、薄膜強度將變得不足，相反的，若面積倍率超過15倍的話，拉伸時將有變為容易發生破裂之傾向。
使所得的雙軸拉伸積層薄膜之結晶配向予以結束後，為了賦與平面性與尺寸安定性，接著於拉幅器內，於150~240℃之溫度，進行1~30秒鐘之熱處理，均勻退火後，冷 卻至室溫，其後必要時，為了進一步提高與其他基材之緊貼性而進行電暈放電處理等，藉由捲取而能夠得到本發明之含有空洞的白色積層聚酯膜。於上述熱處理步驟中，必要時，也可以於寬度方向或長邊方向實施3~12%之鬆弛處理。
另外，雙軸拉伸可以為逐次拉伸或同時雙軸拉伸之任一種，利用同時雙軸拉伸法之情形，能夠防止製程之薄膜破裂，難以發生因聚酯層(A)黏著於加熱輥所發生的轉印缺點。另外，於雙軸拉伸後，也可以於長邊方向、寬度方向之任一方向進行再拉伸。
進行如此方式所得的白色積層雙軸拉伸薄膜，利用微型照相凹版、接觸塗布而設置具有紫外線吸收能的塗布層，於80~140℃乾燥後，進行紫外線照射而硬化塗布層。於塗布具有紫外線吸收能薄層之前，也可以實施設置易黏著層等之前處理。
[特性之測定方法及評估方法] 本發明之特性值係根據下列之評估方法與評估基準所求出的：(1)薄膜內部之微細空洞尺寸、不相溶樹脂之尺寸及聚酯層之厚度 凍結處理薄膜之後，沿著長邊方向及寬度方向而切開剖面，使用掃描型電子顯微鏡(SEM)S-2100A型(日本日立製作所(股)製)，根據放大4000倍觀察所拍攝的剖面 照片，探討有無含有微細之空洞。
針對空洞大小與不相溶樹脂之大小，藉由根據上述剖面之掃描型顯微鏡所得的觀察照片，量測此等寬度方向及厚度方向之長度，由放大倍率倒過來算而求出各空洞及各不相溶樹脂之大小。空洞大小、不相溶樹脂之大小的平均值係針對從長邊方向切開之剖面圖的剖面照片50處，沿著寬度方向切開之剖面圖的剖面照片50處，合計100處之空洞及不相溶樹脂，求出寬度方向及厚度方向之大小，設為其平均值。還有，長邊方向、寬度方向不明確之情形，也可以利用使試料任意成垂直之二個平面切開剖面後而進行測定。
針對空洞大小、不相溶樹脂之大小，測定第1圖所示之大小。還有，如第2圖所示，針對空洞中末觀察到不相溶樹脂之物則除外。
各聚酯層之厚度係根據因上述剖面之掃描型顯微鏡所得的觀察照片，量測各聚酯層厚度方向之長度，由放大倍率倒過來算而求出各層之厚度。還有，適合於求出各酯層之厚度，沿著寬度方向所切開之剖面，使用由相互不同的測定視野所任意選出的5處之剖面照片，作為其平均值而算出。還有，長邊方向、寬度方向為不明確之情形，也可以測定任意方向之剖面。
(2)表觀密度 將薄膜切割成100mm×100mm之大小，將直徑10mm之 測定子(No.7002)裝設於度盤規(日本三豐製作所)製之No. 2109-10中，測定10點之厚度，計算厚度之平均值d(μm)。另外，利用直讀天平以稱取此薄膜，直到10-4 g之單位以讀取重量w(g)。利用下式，將所計算之值設為表觀密度：(表觀密度)=w/d×100 (g/cm3 )。
(3)平均反射率 將積分球附屬裝置(日本島津製造所(股)製之ISR2200)裝設於分光光度計(日本島津製造所(股)製之UV2450)中，利用下列條件，以硫酸鋇作為標準板，測定將標準板設為100%之相對反射率。於420~670nm之波長範圍內，將波長每10nm之相對反射率的平均值設為平均反射率，利用以下之基準而進行判定。還有，◎、○、△為合格的。
◎：極為良好(102%以上)、○：良好(101%以上、低於102%)、△：稍微變差(100%以上、低於101%)、╳：變差(低於100%)。
＜測定條件＞ 掃描速度：中速、 狹縫：5.0nm、 反射角度：8∘。
＜標準板作成方法＞ 將34g之硫酸鋇白色標準試藥(EASTMAN White Reflectance Standard Cat No.6091)裝入直徑50.8mm、深度9.5mm之圓柱形凹處，使用玻璃板予以壓縮，製作壓縮密度約2g/cm3 之硫酸鋇白色標準板。
還有，紫外線吸收能力之評估指標，與上述同樣的，測定320nm~360nm之平均反射率。若低於10%的話，則為良好。
(4)隱蔽性 使用霧度計(Suga試驗器(股)公司製之HZ-2)、依照JIS-K7105(1981年)以測定聚酯膜之全部光線透過率，利用以下之基準以進行隱蔽性之判定。還有，◎、○、△為合格的。
◎：極為良好(全部光線透過率低於2%)、○：良好(全部光線透過率為2.0%以上、低於2.5%)、△：稍微變差(全部光線透過率為2-5%以上、低於3.0%)、╳：變差(全部光線透過率為3.0%以上)。
(5)製膜安定性 利用薄膜破裂之發生次數以進行評估。評估係以每日之破裂次數進行，利用以下之基準以進行判定。還有，○、△為合格的。
○：良好(破裂幾乎不發生(低於1次/日))、△：稍微變差(破裂偶而發生(1~2次/日))、 ╳：變差(破裂常發生(2次/日以上))。
實施例
使用以下之實施例以說明本發明，但是本發明並不受此等實施例所限定。
＜實施例1＞
(聚對苯二甲酸乙二酯丸粒(PET)之製造) 使用對苯二甲酸作為酸成分、乙二醇作為二醇成分，相對於所得的聚酯丸粒，利用銻原子換算成為300ppm之方式來添加三氧化銻(聚合觸媒)，進行聚縮合反應，得到極限黏度0.63dl/g、羧基末端基量40當量/噸之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。
(間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯丸粒(PET/I12 )之製造) 使用對苯二甲酸88莫耳%、間苯二甲酸12莫耳%之混合物作為酸成分、乙二醇作為二醇成分，相對於所得的聚酯丸粒，聚合觸媒係利用銻原子換算成為300ppm之方式來添加三氧化銻，進行聚縮合反應，得到極限黏度0.68dl/g、羧基末端基量40當量/噸之間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(PET/I12 )。
於具有擠出機(a)與擠出機(b)之複合製膜裝置中，為了形成聚酯層(A)，於160℃之溫度，進行顯示於表1之原料混合物的5小時真空乾燥之後，供應至擠出機(a)側，於280℃之溫度熔融擠出後，藉由30μm的濾除濾膜 以進行異物過濾之後，導入T模頭複合噴嘴。
還有，表1中之簡稱係以下之意義：●TiO2 -A (50)：含有50重量%之平均粒徑0.25μm、折射率2.5之利用硫酸法步驟所製造之銳鈦礦型鈦粒子的二氧化鈦母料PET丸粒。
●TiO2 -R1 (50)：含有50重量%之平均粒徑0.25μm、折射率2.7之利用硫酸法步驟所製造之金紅石型鈦粒子的二氧化鈦母料PET丸粒。
●TiO2 -R2 (50)：含有50重量%之平均粒徑0.22μm、折射率2.7之利用氯化法步驟所製造之金紅石型二氧化鈦粒子的二氧化鈦母料PET丸粒。
●BaSO4 (60)一PET/I12 ：含有60重量%之平均粒徑1μm、折射率1.6之硫酸鋇粒子的硫酸鋇母料間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(PET/I12 )丸粒
●PMP：聚甲基戊烯(日本三井化學(股)製之TPX DX820)
●PBT/PAG：聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)與聚烷二醇(PAG)之嵌段共聚物的"Hytrel (R)"(註冊商標)7277 (Toray Dupont股份有限公司製)
●PEG (6):共聚合6重量%之分子量4000的聚乙二醇的PET丸粒
●耐光劑(10)：含有10重量%之三系紫外線吸收劑(Ciba Special Chemicals(股)製之CGX UVA006)耐光 劑母料PET丸粒
另一方面，為了形成聚酯層(B)，於160℃之溫度，進行顯示於表1之原料混合物的5小時真空乾燥之後，供應至擠出機(b)側，於280℃之溫度熔融擠出後，藉由30μm的濾除濾膜以進行異物過濾之後，導入T模頭複合噴嘴。
接著，於該T模頭複合噴嘴內，使聚酯層(A)積層於聚酯層(B)之兩表層予以(A/B/A)的方式來匯流後，共擠出成片狀後而作成熔融積層片，於表面溫度保持180℃之轉筒上，利用靜電荷法以使該熔融積層片予以緊貼、冷卻固化後而得到未拉伸積層薄膜。接著，依照習知方法，利用已加熱至85℃溫度的輥群而預熱該未拉伸積層薄膜之後，使用90℃溫度的加熱輥，於長邊方向(縱向)進行3.3倍拉伸，利用25℃溫度的輥群，冷卻後而得到單軸拉伸薄膜。
利用夾子把持所得的單軸拉伸薄膜之兩端的同時，導入拉幅器內之90℃溫度的預熱區，接著連續於100℃溫度的加熱區，與長邊方向成垂直之方向(寬度方向)拉伸3.2倍。進一步，接著於拉幅器內的熱處理區，於200℃之溫度實施10秒鐘的熱處理，進一步於180℃之溫度，於寬度方向進行4%之鬆弛處理後，進一步於140℃之溫度，於寬度方向進行1%之鬆弛處理。接著，均勻退火後而予以捲取，得到聚酯層(A)與內部具有空洞的聚酯層(B)之厚度作成5/240/5(μm)之A/B/A 3層複合構造的厚度250μm 之白色積層聚酯膜。此白色積層聚酯膜係於聚酯層(B)中含有許多微細之空洞，其空洞之寬度方向的平均大小為11.0μm，厚度方向的平均大小為1.3μm。
此所得的薄膜之單面上，使用微型照相凹版輥之接觸塗布以使塗布下列配方之(C)層後的厚度成為2μm之方式來塗布，於120℃乾燥1分鐘。進一步於此(C)層上，使用微型照相凹版輥之接觸塗布以使硬化下列配方之表面硬化層(D)層後的厚度成為4μm之方式來塗布，利用80℃之熱風乾燥機以乾燥溶劑之後，利用傳送帶式金屬鹵化物燈(EYE GRAPHIC公司製)，照射紫外線光量300mJ/cm2 而予以硬化，得到單面具有耐光性硬化層之白色積層聚酯膜。
(C)層之塗劑構造 2-(2'-羥基-5'-甲基丙烯氧乙基苯基)-2H-苯并三唑(30wt%)共聚合甲基丙烯酸甲酯：95重量份 改性飽和聚酯樹脂"NIKKA COAT"(註冊商標)FS-12(日本化工塗料(股)製)：4重量份 甲基化三聚氰胺"CYMEL"(註冊商標)370(日本三井CYTEC(股)製)：1重量份 甲苯/甲基乙基酮=1/1:400重量份
(D)層之塗劑構造 2-(2'-羥基-5'-甲基丙烯氧乙基苯基)-2H-苯并三唑：20重量份 二季戊四醇六丙烯酸酯：68重量份 丙烯酸寡聚物"ARONIX"(註冊商標)M-7100(日本共榮社化學(股)公司製)：8重量份 丙烯酸酯-2-羥丙酯：4重量份 "IRGACURE"(註冊商標)183(Ciba Geigy公司製)：4重量份 甲苯/甲基乙基酮=1/1:312重量份
具有如此所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，具有高的反射率與隱蔽性，也具優越之製膜安定性。
＜實施例2＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/200/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度230μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率與隱蔽性為稍微變差之物的合格範圍內。
＜實施例3＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A的3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜。還有，於本實施例 中，未設置耐光性硬化層。
所得的白色積層之特性係如表3所示，具有高的反射率與隱蔽性，也具優越之製膜安定性。還有，由於未設置耐光性硬化層，紫外線吸收能力則稍微變差。
＜實施例4＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，雖然觀察到製膜安定性稍微變差之傾向，但是具有特別高的反射率。
＜實施例5＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/170/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度200μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，隱蔽性為稍微變差之物的合格範圍內。
＜實施例6＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施 例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率為稍微變差之物的合格範圍內。
<實施例7>
除了使用表1所示之原料與條件、熱處理溫度變更為185℃以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/160/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度190μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率與隱蔽性為稍微變差之物的合格範圍內。又，此實施例7為參考例。
<實施例8>
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/284/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度300μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率與隱蔽性均特別高，具有優越之特性。
＜實施例9＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/384/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度400μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率與隱蔽性均特別高，具有優越之特性。
＜實施例10＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成5/240/5(μm)之A/B/A的3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜。但是，耐光性硬化層並未設置。所得的白色積層聚酯膜的特性係如表3所示，反射率與隱蔽性均特別高，具有優越之特性。
＜實施例11＞
除了使用表1所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/150/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度180μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表3所示。
＜比較例1＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成20/210/20(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率變差。
＜比較例2＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成3/244/3(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，雖然反射率與隱蔽性係合格的，但是製膜安定性變差。
＜比較例3＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例2之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/220/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率 變差。
＜比較例4＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，為反射率與隱蔽性變差之物。
＜比較例5＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率變差。
＜比較例6＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，嚐試聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A的3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜之製造，破裂常發生，不可能製膜。
＜比較例7＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率與隱蔽性變差。
＜比較例8＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成8/234/8(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度250μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率與隱蔽性變差。
＜比較例9＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/130/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度160μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，隱蔽性 變差。
＜比較例10＞
除了使用表2所示之原料與條件、熱處理溫度變更為185℃以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/150/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度180μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率與隱蔽性變差。
＜比較例11＞
除了使用表2所示之原料與條件、熱處理溫度變更為185℃以外，進行相同於實施例1之方式，嚐試聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/150/15(μm)之A/B/A的3層複合構造之厚度180μm的白色積層聚酯膜之製造，破裂常發生，不可能製膜。
＜比較例12＞
除了使用表2所示之原料與條件以外，進行相同於實施例1之方式，可以得到聚酯層(A)與內部具有空洞之聚酯層(B)的厚度作成15/158/15(μm)之A/B/A 3層複合構造之厚度188μm的白色積層聚酯膜，進行相同於實施例1之方式，於其單面側設置耐光性硬化層。具有所得的耐光性硬化層之白色積層聚酯膜的特性係如表4所示，反射率大幅變差。
產業上利用之可能性
本發明係關於一種反射片用白色積層聚酯膜。更詳言之，本發明係關於一種具有積層構造、具優越之反射特性、隱蔽性，並且生產性良好的聚酯膜，有關一種能夠適用於影像顯示用的背光裝置及燈反射鏡之反射片、照明用器具之反射片、照明招牌用反射片、太陽電池用背面反射片等之白色積層聚酯膜。
1‧‧‧與聚酯樹脂不相溶的樹脂
2‧‧‧空洞
3‧‧‧空洞之寬度
4‧‧‧空洞之厚度
5‧‧‧不相溶樹脂之寬度
6‧‧‧不相溶樹脂之厚度
第1圖係於不相溶樹脂周圍發生的空洞之剖面圖。
第2圖係於未觀察到不相溶樹脂的空洞之剖面圖。

Claims (13)

  1. 一種反射片用白色積層聚酯膜，其係於內部含有空洞之聚酯層(B)的至少單面側，已積層聚酯層(A)之積層聚酯膜，該積層聚酯膜係符合下列所有之(1)~(8)：(1)至少單面側之聚酯層(A)的厚度為5~15μm；(2)於聚酯層(A)中，相對於聚酯層(A)，含有3~15重量%之折射率為2.0以上的粒子；(3)聚酯層(B)之厚度為150μm以上；(4)相對於聚酯層(B)，於聚酯層(B)中所含之折射率2.0以上之粒子量為2重量%以下；(5)相對於聚酯層(B)，於聚酯層(B)中，含有12~25重量%之與聚酯樹脂不相溶的樹脂、和/或30~50重量%之折射率低於2.0的無機粒子；(6)於該聚酯層(B)中所含之與聚酯樹脂不相溶的樹脂為聚甲基戊烯；(7)於聚酯層(B)中之該聚甲基戊烯的平均粒子大小為寬度方向3μm以下且厚度方向2μm以下；及(8)聚酯層(B)係含有由聚烷二醇、碳數2~6之脂肪族二醇成分與對苯二甲酸所構成的聚酯樹脂之共聚合樹脂，且相對於整個聚酯層(B)，該共聚合樹脂之含量為0.05~10重量%。
  2. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中於聚酯層(A)中所含之折射率2.0以上的粒子為二氧化鈦粒子。
  3. 如申請專利範圍第2項之反射片用白色積層聚酯膜，其 中相對於整個聚酯層(A)，聚酯層(A)中之二氧化鈦粒子之含量為3~7重量%。
  4. 如申請專利範圍第3項之反射片用白色積層聚酯膜，其中聚酯層(A)之厚度為5~10μm，並且聚酯層(B)之厚度為200~400μm。
  5. 如申請專利範圍第4項之反射片用白色積層聚酯膜，其中於聚酯層(A)中所含之二氧化鈦粒子係以金紅石型為主體。
  6. 如申請專利範圍第5項之反射片用白色積層聚酯膜，其中於聚酯層(A)中所含之二氧化鈦粒子係以利用氯化法所製造之金紅石型為主體。
  7. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中構成聚酯層(A)與聚酯層(B)之樹脂係以聚對苯二甲酸乙二酯作為基本構造。
  8. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中該由聚烷二醇、碳數2~6之脂肪族二醇成分與對苯二甲酸所構成的聚酯樹脂之共聚合樹脂為聚烷二醇與聚對苯二甲酸丁二酯之塊狀共聚物。
  9. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中於該聚酯層(B)中所含之折射率低於2.0之無機粒子為硫酸鋇。
  10. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中至少於單側表面設置具有紫外線吸收能之塗布層。
  11. 如申請專利範圍第1項之反射片用白色積層聚酯膜，其中相對於聚酯層(A)，於聚酯層(A)中含有0.05~10 重量%之耐光劑。
  12. 如申請專利範圍第1至11項中任一項之反射片用白色積層聚酯膜，其中將聚酯層(A)側作為光反射面使用。
  13. 如申請專利範圍第12項之反射片用白色積層聚酯膜，其係將聚酯層(A)側作為光反射面之液晶顯示器用背光之背面反射片。
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