TWI309999B - - Google Patents
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1309999 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係與鞋底之轉印有關,更詳而言之,尤指待轉 毋編4,且無論弧度面或是凹凸面均能轉印均勾 、不掉落印刷_的-種冷轉印之製造方法。 【先前技術】 , 按’先仃所知’轉印的方法有許多種,有熱轉印、水 • ^卩· ··料,其中熱轉印已大量廣泛地應用於各種物 。口之印刷’使產生產品之美顯獨特之標誌、顯現,是現代 產品暢銷的-項利器,主要是有一待轉印的物品,然後將 轉印膜以加壓、加熱方式印刷圖案於待轉印的物品上(譬 彡鞋底)’熱轉印在小面積或平面上可以加印穩定,但是 咖面或是弧度面加㈣’财H補之情形產生, 可能會不均勻,或有脫落情形產生; 再者’熱轉印中的轉印膜,如果達不到其預定溫度(熱 • 供),則轉印膜無法附著於待轉印的物品上,如果超過其預 定^度,則轉印膜加印於待轉印的物品上,其圖案會模糊 不^熱轉印的溫度控制系統與加壓控制系統,影響著熱 轉印品質與穩定; … 諸如上述種種因素,待轉印物品的凹凸面、弧度面與 溫度控制、加壓控制、轉印膜等,都是影響著熱轉印品質; 有鑑於此,本案發明人乃基於上述弊端,仍積極努力 開^、研究改良,並累積多年製造、生產經驗,而終於有 一足以解決上述弊端之發明產生。 1309999 【發明内容】 即,本發明一種冷轉印之製造方法,其主要目的係提 供毋需熱烘轉印膜’並且可以適用弧度面的轉印,能達到 均勻加印圖案,提高其品質者。 緣是,本發明一種冷轉印之製造方法,其係包含有一 轉印膜、-轉印物、一軟性下抵壓件、一硬性上抵壓件、 一壓力框及一模座,該模座供軟性下抵壓件定位,該軟性 • 下抵壓件與硬性上抵壓件之相對面為凸面及凹面,以符合 轉印物之形體,而該壓力框及硬性上抵壓件可作升降於模 座上’該模座設有數氣孔,下方具有吸氣管可作吸氣動作; 其製造方法為: (1) 將轉印物之上表面,以溶劑清潔,並塗上粘著劑, 等待轉印; (2) 具有印刷圖樣之轉印膜,裁切成預定面積,該印 刷圖樣為假性附著於轉印膜; • (3)將轉印膜放置於模座上,並覆蓋於該軟性下抵壓 件上’且將轉印膜周邊拉平; (4) 下降該壓力框,以將轉印膜定位於模座上; (5) 以氣孔作模座内吸氣,使轉印膜包覆軟性下抵壓 件; (6) 轉印物覆盍於轉印膜上,並轉印物與軟性下抵壓 件相對位; (7) 下降该硬性上抵壓件,使硬性上抵壓件加壓於轉 印物、轉印膜及軟性下抵壓件,作轉印動作; 1309999 (8) 上升該硬性上抵壓件與壓力框,取出轉印物(含 轉印臈); (9) 將轉印物上表面之轉印膜撕去,即留下印刷圖樣 於轉印物上表面,而完成轉印動作; 據此,以軟性下抵壓件供轉印膜受壓於轉印物及硬性 上抵壓件之加壓,而轉印膜完全貼合於轉印物,並且毋需 任何之熱烘,達到冷轉印,且印刷圖樣均句,提高品質者 〇 為使貴審查委員,對本發明之内容、特徵及目的, 有著更進-步之瞭解與認同,兹舉一較佳實施例,並配合 圖式、圖號說明於后: 【實施方式】 首先,本發明一種冷轉印之製造方法,如圖一 '二、 一所示,主要係將轉印膜1 〇之印刷圖樣加印於轉印物2 0 (鞋底)之上表面21,另外含有一軟性下抵壓件3丄 • (如圖四所示)'一硬性上抵壓件3 2 (如圖五、十所示 )、一模座3 0 (如圖六所示)及一壓力框3 3 (如圖八所 示)’該模座3 0内可以定位軟性下抵壓件3 i,且以氣壓 機構來升降壓力框3 3及硬性上抵壓件3 2,壓力框3 3 及硬性上抵壓件3 2於模座3 0上方,該模座3 〇有數氣 孔3 01,以吸氣管3 〇 2連通,作吸氣動作,該軟性下 抵壓件31上方為凸面,而硬性上抵壓件3 2下方為凹面 9 其轉印的流程及方法為: 7 1309999 (1) 將如圖二所示之轉印物2 0,上表面2 1 (朝下) 以溶劑清潔乾淨,再加以塗上粘著劑,等待轉印’該轉印 物2 0為透明之材質; (2) 轉印膜1 〇 (如圖一所示)裁切成單張,具有預 定大小之面積’轉印膜1〇上已有印刷之圖樣,圖樣屬於 假性附著,如離型紙方式,可撕開; (3) 如圖六、七所示,將轉印膜1 〇放置於模座3 〇 上方(印刷圖樣朝上)’並覆蓋著該軟性下抵壓件3 1,將 轉印臈10周邊拉平; (4) 如圖八所示,以氣壓機構作動該壓力框3 3下降 ,而壓住轉印膜1〇周邊,將轉印膜2 〇定位於模座3 〇 上; (5) 以氣孔3 01作吸氣於模座3 Q内,該轉印膜1 〇受到吸氣,而包覆於軟性下抵壓件3 上表面,幾乎 成真空狀態(如圖九所示); (6) 如圖十所示,再將轉印物2 〇朝下並覆蓋於轉印 膜10上,並轉印物2 〇與軟性下抵壓件3 1相對合; (7) 如圖十一所示,以氣壓機構下降該一硬性上抵壓 3 2使硬性上抵壓件3 2施加塵力於轉印物2 〇上, 由於軟性下抵壓件31為軟性材質,所以可將轉印膜丄〇 完全貼合於轉印物2 〇之上表面2 1,作轉印動作;、 (8) 上升該硬性上抵壓件3 2與壓力框3 3,而可以 取出轉印物20與轉印膜10 (如圖十二所示); ⑼將轉印物2〇之上表面21所枯貼的轉印膜1〇 1309999 撕去’即留下印刷圖樣於轉印物2 〇之上表面21,即完 成轉印(如圖十三所示);
該轉印物2 0屬於透明材質,一旦完成轉印動作,則 可由轉印物2 〇之下表面視出其印刷圖樣,本發明係採用 軟性下抵壓件31與硬性上抵壓件3 2作加壓於轉印膜工 0與轉印物2 〇上;因此,由於軟性下抵壓件3 ^為軟性 因素’可以受壓而變形,使轉印膜i 〇完全貼合於轉印物 20的上表面21’以達到均勻轉印圖樣於轉印物2〇上 且轉印物2 0周邊縱使為弧度面,亦可因軟性下抵壓件 31為軟性因素’而使轉印膜i 〇作完全貼合於轉印物2 度面(有凹凸面亦然),所以可以使圖樣均勾轉印 ,提咼品質,適用弧度面之應用; ㈣2發3妹制任何之触或加溫作®,毋需考慮 ::之:官丄只要一般常溫下即可運作,又因毋需加溫之 門二旦完成轉印過程,該印刷圖案不會因溫度過高而 :二=會因溫度不夠而轉印不均4除溫度之控管因 素’可以色彩圖樣真實、多樣地 別於習知熱轉印之方法; wp物π上乃 :上所迷’本發明—種冷轉印之製造方法,其新賴性 、貫用性乃毋庸置疑,為 努力創作彳声 心'祈貴審查委員,一秉國人 努域作初衷’賜准本案專利,财請人是幸丨 1309999 【圖式簡單說明】 【圖式】 第一圖係本發明之轉印膜立體示意圖。 第二圖係本發明之轉印物(透明鞋底)立體示意圖。 第三圖係圖二3 — 3剖面示意圖。 第四圖係本發明之軟性下抵壓件立體示意圖。 第五圖係本發明之硬性上抵壓件立體示意圖。 鲁 第六圖係本發明之模座與軟性下抵壓件剖面示意圖。 第七圖係本發明之放置轉印膜於模座上剖面示意圖。 第八圖係本發明之下降壓力框剖面示意圖。 第九圖係本發明之吸氣動作剖面示意圖。 第十圖係本發明之放置轉印物於轉印膜上方剖面示意圖。 第十一圖係本發明之下降硬性上抵壓件剖面示意圖。 第忙圖係本發明取出轉印物連同轉印膜之剖面示意圖。 第十三圖係本發明撕開轉印膜,留下印刷圖樣於轉㈣之 # 剖面示意圖。 【主要元件符號說明】 2 0轉印物 3 0模座 3 0 2吸氣管 3 2硬性上抵壓件 1 0轉印膜 2 1上表面 3 0 1氣孔 31軟性下抵壓件 3 3壓力框 10
Claims (1)
1309999 十、申請專利範圍: 1、-種冷轉印之製造方法,其係包含有—轉印膜、 一轉印物、一軟性下抵祕、一硬性上抵壓件、—壓力框 及-模座,該模座供軟性下抵虔件定位,該軟性下抵㈣ 與硬性上抵虔件之相對面為凸面及凹面,以符合轉印物之 形體,而該壓力框及硬性上抵壓件可作升降於模座上,該 模座设有數氣孔,下方具有吸氣管可作吸氣動作; 其製造方法為: (1)將轉印物之上表面,以溶劑清潔,並塗上 等待轉印,· d ⑵具有印刷圖樣之轉印膜’裁切成預定面積,該印 刷圖樣為假性附著於轉印膜; 、X ⑶將轉印膜放置於模座上,並覆蓋於該軟性下抵壓 牛上’且將轉印膜周邊拉平; ⑷下降該壓力框’以將轉印膜定位於模座上; 件;⑸以氣孔作模座内吸氣,使轉印膜包覆軟性下抵壓 件相= 立轉印物覆蓋於轉印膜上,並轉印物與軟性下滅 印物(U降該硬性上抵壓件,使硬性上抵壓件加壓於轉 P物、轉印膜及軟性下抵壓件作轉印動作; 上升該硬性上抵壓件與壓力框,取㈣印物(含 ⑼將轉印物上表面之轉印膜撕去,即留下印刷圖樣 *1309999 於轉印物上表面,而完成轉印動作; 據此’以軟性下抵屋件供轉印膜受塵於轉印物及硬性 上抵麼件之加壓,而轉印膜完全貼合於轉印物,並且毋需 任何之熱供,達到冷轉印,且印刷圖樣均勾,提高品質者 如申。月專利範圍第1項所述之冷轉印之製造方 其中該壓力框以氣壓機構作升降。 > *,I'如申請專利範圍第1項所述之冷轉印之製造方 '其中該硬性上抵壓件以氣壓機構作升降。 申明專利範圍第1項所述之冷轉印之製造方 法,其中該轉印物為一鞋底。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
TW094114372A TW200639072A (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Manufacturing method for cool transfer |
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Publications (2)
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TW200639072A TW200639072A (en) | 2006-11-16 |
TWI309999B true TWI309999B (zh) | 2009-05-21 |
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ID=45072151
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TW094114372A TW200639072A (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Manufacturing method for cool transfer |
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TW (1) | TW200639072A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104118232A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-10-29 | 太仓市虹鹰印花有限公司 | 一种冷转移印花用薄膜 |
CN109968852A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-07-05 | 浙江大学 | 一种通用的二维平面到三维复杂表面的直接转印方法 |
-
2005
- 2005-05-04 TW TW094114372A patent/TW200639072A/zh not_active IP Right Cessation
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