TWI221314B - Method and device for laser annealing - Google Patents

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1221314 A7 B7 五、發明説明（1 ) 【技術領域】 本發明係關於雷射退火方法及其裝置。 【技術背景】 現今，激元雷射器或Y A G雷射器等大功率之雷射器 ，不僅硏究用途亦廣泛普及於產業用途。其利用領域亦不 僅一般性材料加工，尙被廣泛利用於醫療領域或半導體領 域。 使用激元雷射等光束進行材料加工時，乃藉光學系統 予以變形爲線狀剖面形狀沿其較短方法（寬幅方向）進行 掃描。 在此，欲使雷射束變形爲線狀剖面形狀時，爲在射束 圖形之較長方向及較短方向獲得較高均勻性，卻以圓柱透 鏡將光束剖面之較長方向及較短方向分別加以分割爲多數 〇 圖了爲適用習知雷射退火方法之裝置槪念圖（參照特 開平8—195357號公報）。 同圖所示裝置1，係將自未圖示YAG雷射器之光束 2由四個圓柱透鏡3 a〜3 b所成之透鏡群3沿垂直方向 予以四分割，並由七個圓柱透鏡4a〜4g所成之透鏡群 4沿水平方向予以七分割後，使用將母線呈直交予以配置 之一對圓柱透鏡7 a , 7 b所成透鏡偶7加以混合，促使 射束圖形之較長方向及較短方向之光強度呈均勻（以透鏡 群3, 7構成均化器）。光強度被均勻化之光束8乃由反 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐) ——-—m-裝— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慈財產局員工消资合作社印製 —4 ** 1221314 A7 B7 五、發明説明（2 ) 射鏡9向試件1 0側予以折彎，復以圓柱透鏡1 1加以聚 焦對移動於箭頭1 2方向之移動台1 3上裝載之試件1 0 照射線狀光束1 4。 在此，使用YAG雷射器時，由於會發生撗向成長， 故較短方向之形狀以高斯光束即可。 圖8A爲作爲雷射光源之脈衝YAG雷射器（以下稱 爲「YAG雷射器」）之方塊圖，圖8B爲圖8A所示 Y A G雷射器之輸出側雷射放大器之箭頭A方向側視圖。 圖9A爲YAG雷射器之射束圖形顯示圖，圖9B爲圖 9 A所示射束圖形之9 B - 9 B線上之強度分佈圖，圖 9 C爲圖9 A所示射束圖形之9 C — 9 C線上之強度分佈 圖。在圖9B，圖9C,橫軸表示距離，縱軸表示光強度 〇 由圖9 B可知YAG雷射器之光束2 4具有高斯分佈 2 4 a,由圖9 C可知顯示兩端（在圖9A爲上下端）具 有較大頂峰3 6 , 3 7之強度分佈。

這是，激勵用閃光燈32， 35被配置於NdYAG 棒3 1，3 4兩側所致。 在此就圖8 A，圖8 B所示Y A G雷射器加以說明。 YAG雷射器2 0係由發出脈衝狀YAG雷射之輸出 雷射振盪器21,與一對雷射放大器22， 23,以及將 輸出雷射振盪器2 1之光束2 4之光程折彎予以輸入於前 段雷射放大器2 2之反射鏡2 5，2 6所構成。 輸出雷射振盪器2 1乃由全反射鏡2 7及半透明（輸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 丨丨丨丨«- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·

、1T 經濟部智惡財產局員工消f合作钍印製 -5- 1221314 A7 ___B7 五、發明説明（3 ) 出）鏡2 8所成之諧振器，與配置於諧振器間之中心軸上 之NdYAG棒29,以及平行與NdYAG棒29且被 配置於（y軸上之）下側而可發出作爲激射光之脈衝狀閃 光之閃光燈3 0予以構成。 前段雷射放大器2 2則由配置於反射鏡2 6之光束 2 4光軸上之NdYAG棒3 1，與平行與NdYAG棒 3 1且被配置於（y軸上之）下側之閃光燈3 2所構成。 後段雷射放大器2 3卻由配置於前段雷射放大器2 2 之光束3 3光軸上之NdYAG棒3 4,與平行與 N d Y A G棒3 4且被配置於（y軸上之）下側之閃光燈 3 5所構成。 因此，自YAG雷射器2 0射出之具高斯分佈2 4 a 之光束（以點線表示）2 4兩端被重疊閃光燈3 2 , 3 5 之激射光所致光強度較強部分，而在射束圖形3 8之上下 端（y軸上）發生如圖9 A所示較大頂峰3 6，3 7。 將具如此較大頂峰3 6 , 3 7之光束2 4原樣利用如 圖7所示圓柱透鏡群3〜6或透鏡偶7予以變形爲線形剖 面形狀時，如圖1 0所示線形光束之較短方向（箭頭1 2 方向）兩端具有頂峰之光束即照射於試件1 0。其結 果，就有試件1 0發生擦傷（試件1 0被光束1 4照射部 分中之被條狀頂峰照射部分，即，較長方向端部飛散掉以 致表面粗糙之現象）之問題。又，圖10爲自圖7所示雷 射退火裝置向試件1 0照射之線形剖面形狀光束之在1 〇 - 1 0線上光強度示意圖，橫軸爲顯示距離，縱軸爲顯示 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） --1*--、------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印災 -6 - 1221314 A7 B7 五、發明説明（4) 光強度。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【發明之開示】 爲解決上述課題，本發明之目的係在提供一種能進行 均勻的光束照射之雷射退火方法及其裝置。 本發明之雷射退火方法，乃是在將雷射光源之光束剖 面形狀由光學系統變形爲線形剖面形狀，且將所獲線形剖 面形狀光束照射於試件以進行退火之雷射退火方法，將雷 射光源之光束藉轉動元件僅旋轉所定角度後，再由光學系 統加以變形爲線形剖面形狀。 本發明之雷射退火裝置，則是在具有雷射光源，與將 雷射光源之光束剖面形狀變形爲線形剖面形狀，且將所獲 線形光束照射於試件之光學系統之雷射退火裝置，將促使 雷射光源之光束沿光束中心軸周圍僅旋轉所定角度之轉動 元件予以裝設於雷射光源與光學系統之間。 經濟部智慈財產局員工消费合作社印災 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之光學系統，亦 可由與光束光軸呈直交被並聯配置且將光束沿配置方向予 以分割之多數圓柱透鏡群，以及被配置於圓柱透鏡群之透 過側以混合經分割之光束之透鏡加以構成。 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之轉動元件，亦 可由將雷射光源之光束針對光束光軸予以直角折彎之第一 反射鏡，與將第一反射鏡之反射光束針對包括有雷射光源 之光束光軸及第一反射鏡之反射光束光軸之第一平面予以 直角折彎之第二反射鏡，與將第二反射鏡之反射光束針對 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 1221314 A7 _ ·_B7 __ 五、發明説明（5 ) 包括有第一反射鏡之光束光軸及第二反射鏡之反射光束光 軸之第二平面予以在同一平面內直角折彎之第三反射鏡， 以及將第三反射鏡之反射光束在第二平面內予以直角折彎 之第四反射鏡所構成。 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之第四反射鏡， 亦可予以設置於沿第三反射鏡之反射光束光軸方向移動之 移動元件。 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之轉動元件，亦 可由將雷射光源之光束針對光束光軸予以直角折彎之第一 反射鏡，與將第一反射鏡之反射光束針對包括有雷射光源 之光束光軸及第一反射鏡之反射光束光軸之第一平面予以 直角折彎之第二反射鏡所構成。 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之第二反·射鏡， 亦可予以設置於沿第一反射鏡之反射光束光軸方向移動之 移動元件。 加上上述構成，本發明雷射退火裝置之雷射光源，以 Y A Z雷射光源，N d玻璃雷射或Q開關固体雷射爲宜。 依據本發明，自雷射光源之光束之射束圖形如有不均 勻之強度分佈，亦可藉轉動元件將雷射光源之光束予以僅 旋轉所定角度，利用具高斯分佈之光束以光學系統形成爲 線形剖面形狀，故能進行均勻的光束照射。 【圖示之簡單說明】 圖1爲適用本發明雷射退火方法之雷射退火裝置一實 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐) "" -8- IT。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印災 1221314 A7 _______B7_ _ 五、發明説明（6 ) 施形態槪念顯示圖。 圖2 A爲圖1所示雷射退火裝置所用轉動元件之側面 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖。 圖2B爲圖2A之平面圖。 圖3 A爲射入於圖2 A所示轉動元件之光束剖面圖。 圖3 B爲自圖2 A所示轉動元件射出之光束剖面圖。 圖4 A爲入射光之強度分佈顯示圖。 圖4 B爲通過均化器之光束光程顯示圖。 圖4 C爲通過均化器後之4 C 一 4 C線上光束強度分 佈顯示圖。 圖5爲自圖1所示雷射退火裝置向試件照射之線形剖 面形狀光束在5 - 5線上之光強度顯示圖。 圖6 A爲圖2 A，圖2 B所示轉動元件其他寳施形態 槪念顯示圖。 圖6B爲圖6A之平面圖。 圖7爲適用習知雷射退火方法之裝置槪念圖。 圖8 A爲作爲雷射光源之脈衝Y A G雷射器之方塊圖 〇 經濟部智慧財產局a(工消費合作：Ji印災 圖8 B爲圖8A所示YAG雷射器輸出側之雷射放大 器沿箭頭A方向之側視圖。 圖9 A爲YAG雷射器之射束圖形顯示圖。 圖9 B爲圖9 A所示射束圖形在9 B - 9 B線上之強 度分佈圖。 圖9 C爲圖9 A所示射束圖形在9 C — 9 C線上之強 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS )八4規格（2丨0X 297公釐） -9 - 1221314 經濟部智惡財產局肖工消費合作社印災 A7 B7五、發明説明（7 ) 度分佈圖。 圖1 0爲自圖7所示雷射退火裝置向試件照射之線形 剖面形狀光束在1 0 - 1 0線上之光強度顯示圖。 主要元件對照表 1 雷射退火裝置 2 YAG雷射器之光束 3〜6 透鏡群 3a〜3d 圓柱透鏡 4a〜4g 圓柱透鏡 7 透鏡偶 8，1 4，2 4，3 3 光束 9，2 5，2 6 反射鏡 1〇 試件 11 圓柱透鏡 12 箭頭 13 移動台 15 均化器 20 YAG雷射器 2 1 振盪器 22，23 雷射放大器 24a 高斯分佈 2 7 全反射鏡 28 半透明反射鏡 J— I ΙΊ · (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝—

，1T 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210Χ 297公釐） -10- 1221314 A7 B7 五、發明説明（8 ) 29，31，34 NdYAG 棒 11- —11 · 3 〇 ，3 2 3 5 閃光 燈 3 6 ，3 7 頂峰 3 8 射束 圓 形 4 1 ，4 3 y 4 9 光束 4 2 轉 動 元 件 4 4 透 鏡 群 4 4 ί a〜 4 4 d 圓柱透 鏡 4 6 圓 柱 透 鏡 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 5 0 試件 5 1 全反射鏡 5 2，5 4 光束 5 3 圓柱透鏡 5 5 箭頭 5 6 移動台 5 7 均化器 6 0 第一反射鏡 6 1，6 3，6 5 光束 6 2 第二反射鏡 6 4 第三反射鏡 6 6 第四反射鏡 67 移動元件 6 8 控制台 6 9 軌道 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 訂 經濟部智慈財產局員工消費合作社印^ -11- 1221314 A7 B7 五、發明説明（9 ) 7 0 支持件 7 1 蓋體 8 0 透鏡群 8 1 透鏡

Lla〜L3b 光程 9 0 轉動元件 9 1 第一反射鏡 9 2 光束 9 3 第二反射鏡 9 4 移動元件 9 5 控制台 9 6 軌道 9 7 支持件 9 8 蓋體 [實施發明之最佳形態】 以下，就本發明實施形態根據所添附圖示加以詳述。 圖1爲適用本發明雷射退火方法之雷射退火裝置一實 施形態槪念顯示圖。本實施形態就以雷射光源使用Near Field脈衝Y A G雷射器之情形說明之。 问圖所不雷射退火裝置4 0，係由未圖不之被丨乍胃胃 射光源使用之Near Field脈衝Y A G雷射器（以下目「 YAG雷射器」）20，與將YAG雷射器 4 1僅予以旋轉所定角度之轉動元件4 2，與將自__元 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） ---------"裝--r · (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 經濟部智慈財產局8工消費合作社印製 -12- 1221314 A7 B7____ 五、發明説明（10) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 件4 2之光束4 3以水平方向予以四分割（分割數不限定 )之圓柱透鏡4 4 a〜4 4 d所成透鏡群4 4，與母線被 配置呈直交，藉混合自透鏡群4 4之光束予以變形爲線形 剖面形狀之圓柱透鏡4 6，與將自圓柱透鏡4 6之光束 4 9向試件5 0側予以折彎之全反射鏡5 1，與將自全反 射鏡5 1之光束聚焦照射於試件5 0予以雷射退火之圓柱 透鏡5 3，以及使試件5 0移動於被聚焦之線形剖面形狀 光束5 4較短方向（箭頭5 5方向）之移動台5 6所構成 。且，由透鏡群44與圓柱透鏡46構成光學系統之均化 器5 7。 圖2 A爲圖1所示雷射退火裝置所使用轉動元件之側 面圖，圖2B爲圖2A之平面圖。圖3A爲射入於圖2A 所示轉動元件之光束剖面圖，圖3 B爲自圖2 A所示轉動 元件射出之光束剖面圖。 經濟部智慧財產局肖工消f合作社印%1 轉動元件4 2乃由例如將自Y A G雷射器之光束4 1 針對光束4 1光軸予以直角向上折彎之第一反射鏡6 0， 與將第一反射鏡6 0之反射光束6 1針對包括有光束4 1 光軸及第一反射鏡6 0之反射光束6 1光軸之第一平面予 以直角折彎之第二反射鏡6 2，與將第二反射鏡6 2之反 射光束6 3針對包括有第一反射鏡6 0反射之光束6 1光 軸及第二反射鏡6 2反射之光束6 3光軸之第二平面予以 在同一平面內直角向下折彎之第三反射鏡6 4 ,與將第三 反射鏡6 4之反射光束6 5在第二平面內予以直角折彎之 第四反射鏡6 6 ,以及使第四反射鏡6 6沿第三反射鏡 1紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐) ' -13 - 1221314 A7 B7 五、發明説明（11) 6 4之反射光束6 5光軸方向予以上下移動之移動元件 6 7所構成。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 移動元件6 7卻由沿轉動元件4 2之控制台6 8所裝 設軌道6 9 ,與可支承第四反射鏡6 6並滑動自如被設置 於軌道6 9之支持件7 0所構成，被用於調整光束4 3之 高度。又，點線所示7 1爲蓋体。 當圖1所示雷射退火裝置40作動時，自YAG雷射 器（參照圖8 ) 2 0之光束（參照圖3 A ) 4 1即射入於 轉動元件4 2之第一反射鏡6 0並被垂直向上反射射入於 第二反射鏡6 2。射入於第二反射鏡6 2之光束6 1則沿 控制台6 8被水平反射而旋轉9 0度（參照圖3 B )。經 旋轉之光束即射入於第三反射鏡6 4。射入於第三反射鏡 6 4之光束6 3復被垂直向下反射射入於第四反射鏡6 6 。射入於第四反射鏡6 6之光束6 5又沿控制台6 8被水 平反射，以光束4 3射入於透鏡群4 4。 經濟部智慧財產局員工消骨合作社印^ 射入透鏡群4 4之光束4 3被分割爲四份後，射入於 圓柱透鏡4 6。射入於圓柱透鏡4 6之光束乃呈其射束圖 形沿較長方向光強度均勻之線狀（參照圖5 )。 在此，就均化器5 7之原理進行說明。 圖4A，圖4B,圖4C爲均化器之原理說明用圖。 在此係假想具有高斯狀強度分佈之光束射入之情形。圖 4A爲入射光之強度分佈顯示圖，圖4B爲通過均化器之 光束光程顯示圖，圖4C爲通過均化器後之光束在4C-4 C線上之強度分佈顯示圖。在圖4 A，圖4 C橫軸爲顯 本紙張尺度適用中國國家標準（ CNS )八4規格（210X 297公釐) -14 - 1221314 A7 B7_ 五、發明説明（彳2) 示光強度，縱軸爲顯示距離。 具有圖4A所示高斯分佈之光束在通過圖4 B所示由 三個圓柱透鏡8 0 a〜8 0 c所成透鏡群8 0及透鏡8 1 時，則經由光程L 1 a，L 1 b，L 2 a，L 2 b， L3a，L3b而聚焦於4C 一 4C線上。在4C — 4C 線上，經由L 1 a , L 1 b之光束B 1 ,與經由L 2 a， L2b之光束B2,以及經由L3a, L3b之光束B3 即重疊爲具略平坦光強度之光束B 4。 如是，均化器乃藉由圓柱透鏡群80分割光束，復再 予以組合而能形成具有不同強度分佈之光束。又，藉調整 分割後之光程可自由自在調整4 C - 4 C線上之光束強度 分佈。 圖7之均化器15即將光束之X軸方向，y軸方向分 別加以分割，以獲得略平坦之特性光束。 在此，考量使用如圖1僅分割X軸方向之均化器5 7 的情形。當向該均化器射入如圖3 A所示射束圖形3 8上 下兩端具有光強度大之頂峰36， 37之光束時，由於y 軸方向未加以分割，致如上述能獲得較短方向兩側具強勢 光強度之線形剖面形狀光束。惟，如對均化器射入如圖 3B所示90度旋轉之光束時，由於y軸方向之光強度成 爲高斯分佈，故能獲得較短方向原樣之具高斯分佈光強度 之特性光束。又，X軸方向兩端雖呈具有光強度大之頂峰 ，但會被均化器予以分割，因此最終能獲得圖5所示略平 坦之特性光束。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210Χ 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 訂 經濟部智慈財1局員工消費合作社印¾ -15- 1221314 A7 B7 五、發明説明（13) 自圖1所示透鏡群4 4及圓柱透鏡4 6 ,之光:束4 9谷P 被反射鏡5 1予以向試件5 0側（圖示爲下側）反射，並 在圓柱透鏡5 3聚焦後照射於試件5 0。試件5 Ο ώ於受 光強度均勻之線形剖面形狀光束所照射，致不致發生擦傷 。且，比起圖7所示習知雷射退火裝置較少透鏡數即可， 故能相對程度地加以小型化。 圖6 Α爲圖2 A，圖2 Β所示轉動元件之其他實施形 態槪念圖。圖6 B爲圖6 A之平面圖。 與圖2 A，圖2 B所示轉動元件不同點，即在僅由兩 個反射鏡所構成。 經濟部智慈財l^7a(工消費合作社印災 亦即，本轉動元件9 0係由自雷射光源之光束4 1針 對光束41光軸予以直角折彎之第一反射鏡91，與將第 一反射鏡9 1之反射光束9 2針對包括有自雷射光源之光 束4 1光軸及第一反射鏡9 1之反射光束9 2光軸之第一 平面予以直角折彎之第二反射鏡9 3所構成。第二反射鏡 9 3卻被裝設於沿第一反射鏡9 1之反射光束9 2光軸方 向移動自如之移動元件9 4。移動元件9 4乃與圖2 A, 圖2 B所示轉動元件相同由沿轉動元件9 0之控制台9 5 所裝設軌道9 6 ,與可支承第二反射鏡9 3並滑動自如被 設置於軌道9 6之支持件9 7所構成，被使用於調整光束 4 3之高度。又，點線所示9 8爲蓋体。 使用如此轉動元件9 0不僅能獲得與圖2 A ,圖2 B 所示轉動元件4 2相同之效果，更由於反射鏡數僅兩個即 夠用，致能相對所減少反射鏡數份予以小型化。 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -1R - 1221314 A7 B7 經濟部智慈財/t局g(工消費合作社印奴 五、發明説明（14) 依據如上本發明， (1 )能改善Y A G雷射器之射束圖形所常見，兩端 之強度較強領域所引起線狀光束之不均勻分佈狀態。 (2 )由於能旋轉射束圖形之強度分佈方向，故能將 元來光束所具高斯分佈方向不需分割，加工以原樣加以利 用。 又，本實施形態雖說明旋轉角度爲9 0度時之情形， 惟本發明並非限定於此，只要是能獲得可補正光束強度分 佈之偏移之轉動角度即可。又，本實施形態雖以雷射光源 使用Near Field脈衝Y A G雷射器之情形加以說明，但本發 明並非限定於此，將如N d玻璃雷射器或Q開關固体雷射 器等予以適用於射束圖形具有不均勻強度分佈之雷射光源 亦可 本案係以特願2001 - 5579號（2001年1 月1 2日申請）爲主張優先權之基礎，且將上述日本申請 案之內容予以記載於本案說明書。 【產業上之可利用性】 本發明可適用於雷射退火方法及裝置。 JH - - —if · (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -17-

Claims (1)

1221314 ;92J.〇·27 — i - ^ C8 __ D8 六、申請專利範圍1 第9 1 1 003 1 2號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國92年10月27日修正 1 . 一種雷射退火方法，係將雷射光源之光束剖面形 狀藉光學系統予以變形爲線形剖面形狀，且將所獲線形剖 面形狀之光束照射於試件以進行退火的雷射退火方法，其 特徵爲： 將雷射光源之光束藉轉動元件予以僅旋轉所定角度後 ，再由光學系統加以變形成線形剖面形狀。 2 · —種雷射退火裝置，係具有雷射光源，與將雷射 光源之光束剖面形狀變形爲線形剖面形狀，且將所獲線形 光束照射於試件之光學系統的雷射退火裝置，其特徵爲： 將來自上述雷射光源之光束僅旋轉所定角度之轉動元 , 件予以裝設於上述雷射光源與上述光學系統之間；上述光 學系統係由與光束光軸呈直交被並聯配置且將上述光束沿 配置方向予以分割之多數圓柱透鏡群，以及被配置於該圓 柱透鏡群之透過側以混合被分割之光束之透鏡所構成；上 -- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 .1· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 予針光二第直第 軸束射第及內在 光光反將軸面束 束射之與光平光 光反鏡，束一射 該之射鏡光同反 對鏡反射之在之 針射一反鏡以.鏡 束反第二射予射 光一及第反面反 之第軸之一平三 源將光彎第二第 光與束折有第將 射，光角括的及 雷鏡之直包軸以 述射源以對光 ， 上反光予針束鏡 將一射面束光射 由第雷平光射反 係之述一射反三 件彎上第反之第 元折有的之鏡之 動角括軸鏡射彎 轉直包光射反折 述以對束反二角 本紙張尺度適用中國國家襟準（CNS ) A4規格（2】0父29*7公釐） 1221314 v r.+1¾•一*'，. 92.10.27

々、申請專利範圍2 二平面內予以直角折彎之第四反射鏡所構成。 3 .如申請專利範圍第2項之雷射退火裝置，其中上 述第四反射鏡係被設置於沿第三反射鏡之反射光束光軸方 向移動之移動元件。 4 .如申請專利範圍第1項之雷射退火裝置，其中上 述轉動元件係由將上述雷射光源之光束針對該光束光軸予 以直角折彎之第一反射鏡，以及將第一反射鏡之反射光束 針對包括有上述雷射光源之光束光軸與第一反射鏡之反射 光束光軸的第一平面予以直角折彎之第二反射鏡所構成。 5 .如申請專利範圍第2項之雷射退火裝置，其中上 述第二反射鏡係被設置於沿上述第一反射鏡之反射光束光 軸方向移動自如之移動元件。 6 ·如申請專利範圍第2項之雷射退火裝置，其中上 述第四反射鏡係被設置於沿第三反射鏡之反射光束光軸方 向移動之移動元件。 7 .如申請專利範圍第2至6項之任一項雷射退火裝 置，其中上述雷射光源係爲Y A Z雷射光源，N d玻璃雷 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 射 雷 体 固 開 Q 或 射 準 標 家 國 國 |中 一用 適