TW202436107A - 塗佈構件及使用其之調理機器或調理器具 - Google Patents

Abstract

一種塗佈構件，係由基材與塗佈層構成，前述塗佈層覆蓋前述基材之表面的全部或一部分；且，前述基材中所含之金屬離子移動至前述塗佈層。藉由基材中所含之金屬離子移動至塗佈層，對附著於塗佈層表面之物質(污垢等)進行作用而成為容易去除之表面狀態或物質，尤其在高溫下容易去除附著於表面之物質。

Description

塗佈構件及使用其之調理機器或調理器具

本揭示涉及經塗佈之構件及使用其之微波爐等的調理機器或調理器具。

以往，提出了對調理器具施加氟樹脂等之塗層來提高防污性或非黏著性(參照專利文獻1)。

又，提出了一種加熱調理器，其為了提高耐熱性而於表面形成細微凹凸面來設置陶瓷塗佈皮膜(參照專利文獻2)。

另一方面，已知有一種為了提高防污性而在玻璃上塗佈光觸媒的手法。例如，已知有一種玻璃，其係使玻璃中之B2O3量增大而使耐刮性、耐裂性提升，同時降低玻璃中之鹼金屬氧化物量，而在使表面載持有氧化鈦光觸媒時維持光觸媒活性(參照專利文獻3)。 先前技術文獻

專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2004-278905號公報 專利文獻2：日本專利特開2015-127632號公報 專利文獻3：日本專利特開2019-112303號公報

發明欲解決之課題 以往之氟塗層在耐熱性或耐磨耗性上有限制，有時會因溫度影響而無法使用。

又，陶瓷塗層有非黏著性較弱之情形，而有時容易殘留污垢。

又，關於氧化鈦光觸媒塗層，作為基材之玻璃中之Na等鹼金屬會成為阻礙物質。基材中鹼金屬或鹼金屬氧化物之含量若多，便無法發揮氧化鈦光觸媒塗層之效果。為了獲得氧化鈦光觸媒塗層之效果，必須在基材與氧化鈦光觸媒塗層之間追加SiO2膜等針對鹼金屬之障壁膜。

本發明係用以解決上述以往課題者，目的在於提供一種容易去除附著於表面之物質的塗佈構件。

用以解決課題之手段 本發明一態樣之塗佈構件係由基材與塗佈層構成，前述塗佈層覆蓋基材之表面的全部或一部分；且，基材中所含之金屬離子、金屬中之至少任一者移動至塗佈層。

或者，本發明另一態樣之塗佈構件係由基材與2層以上塗佈層構成，前述2層以上塗佈層覆蓋基材之表面的全部或一部分；且，金屬離子、金屬中之至少任一者從下層之塗佈層移動至上層之塗佈層。

發明效果 本發明一態樣之塗佈構件，基材或塗佈層中所含之金屬離子對附著於塗佈構件之物質(污垢等)進行作用，從而變得容易從塗佈構件之表面去除已附著之物質。

(成為本揭示之基礎的知識見解) 在本案發明人等思及本揭示之當時，微波爐或IH(感應加熱)烹調加熱器等會達高溫之調理機器有油或調味料、食品等之污垢一旦燒焦附著便難以清掃的問題。例如，周知具有防污性之氟樹脂其具有低表面自由能，而有撥水或撥油的性質。然而，在高溫下，氟樹脂內之有機物的鍵結會斷裂而喪失該性質，因此必須賦予在其他原理上之防污性。

本案發明人等對即使在高溫下仍可使用之材料進行各種研討，發現在某材料構成上污垢變得容易脫落，遂而達至構成本揭示之態樣。

具體而言，係藉由油等污垢成分與金屬成分進行反應，而污垢變成更容易剝離之狀態或成分來提升清掃性。該金屬成分係從基材或基底層移動至表塗層、且通過表塗層中而達至表面附近的金屬成分。

以下，一邊參照圖式一邊詳細說明實施形態。惟，有時會省略超出必要之詳細說明。例如，有時會省略既已周知之事項的詳細說明，或省略對實質上相同構成之重複說明。

此外，附加圖式及以下說明係為了使本發明所屬技術領域中具有通常知識者充分理解本揭示而提供，非意圖藉由該等來限定申請專利範圍中記載之主題。

且，亦可自由組合本實施形態中所揭示之內容彼此來構成。 (實施形態1)

以下，使用圖1A及圖1B來說明實施形態1。圖1A係本實施形態1之塗佈構件的剖面示意圖。圖1B係顯示本實施形態1之塗佈構件之狀態變化的剖面示意圖。 [1-1.構成]

圖1A中，塗佈構件100係由基材110與塗佈層120構成。

基材110包含可在基材中移動的金屬離子130(金屬離子亦可為金屬或金屬氧化物)。基材110包含例如含鈉離子之鈉玻璃等。此外，基材110亦可為包含鋼材與配置於鋼材上之含金屬離子之玻璃層的琺瑯。

又，塗佈層120包含例如二氧化矽、氧化鈦、氧化鎂、氧化鋯、氧化鎢等金屬氧化物、或其等之複合物。又，塗佈層120亦可更包含含金屬或金屬氧化物或者其等之複合物的添加物。其等金屬例如為Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Al、Ga、In等中之1種或複數種。塗佈層120亦可更包含含非金屬元素的添加物。塗佈層120係覆蓋基材110之表面的全部或一部分。又，該等金屬中，鹼金屬為Li、Na、K。此外，基材110亦可包含Li。此時，基材110若含有1mol%以上之Li便能發揮效果，若為10mol%以上則更佳。

塗佈層120之具體形成方法(塗裝方法)無特別限定，可使用公知之各種方法。代表性之形成方法可舉調製含金屬或金屬氧化物之塗佈劑並塗敷其之公知之塗敷方法，可列舉例如噴塗、旋塗、浸塗、輥塗、棒塗、凹版塗佈、網版印刷、刷塗、刷毛塗佈、刮塗、海綿塗佈等、或是CVD(Chemical Vapor Deposition；化學氣相沉積)、PVD(Physical Vapor Deposition；物理氣相沉積)等之蒸鍍、濺鍍、鍍敷等，但無特別指定。

於基材110塗佈塗佈層120時，亦可進行用以使密著性提升之公知之前處理，例如底漆塗佈、親水化處理、電暈處理、脫脂等。

又，亦可在塗裝塗佈層120後設置乾燥或燒成步驟。 [1-2.動作]

針對如以上方式構成之塗佈構件100說明其動作。

如圖1B所示，附著物140例如油、調味液、食品等係附著於塗佈層120之表面，被加熱而燒焦附著。或者，附著物140係處於非刻意燒焦附著於塗佈構件100之狀態。

基材110包含金屬離子130。該金屬離子130從基材110往塗佈層120移動，且在塗佈層120中移動並到達塗佈層120之表面附近。吾等認為移動機制可能是晶界擴散或非晶層之移動，但不特定於此。

移動至塗佈層120之表面附近的金屬離子130會與附著物140結合、或附著於附著物140。藉此，附著物140成為容易從塗佈構件100剝離之狀態。

藉由將帶有燒焦附著之附著物140的塗佈構件100浸漬於水中、或用水擦拭、或噴吹蒸汽，而變得容易去除附著物140。其視為金屬離子130與附著物140結合或附著之物質變成溶於水的物質，但不特定於此。

此時，亦可使用於例如：微波爐、烘烤微波爐、烤箱等之室內壁面；瓦斯爐或IH烹調加熱器等之頂板或烤架室內；加熱板之加熱表面等之調理機器；煎鍋或鍋具等之調理器具；或者，會達高溫之工業用爐；汽車或機車、航空機等之高溫部等在高溫環境下使用的製品、部位。

塗佈層120之表面若被加熱，吾等認為鹼金屬量在油分之油分與塗佈層120之界面側會增大、且使水分中介而可提升油分之去除性。

以溫度會上升之製品、部位來說，塗佈構件中之金屬離子的移動會更加速、且在塗佈層上與附著物進行反應時反應會更加速等，故期望加熱至高溫，宜加熱至200℃以上，更宜加熱至250℃以上，且更宜加熱至300℃以上。

又，若為即使不加熱而在一般溫度之使用下仍可藉由金屬離子等移動來發揮效果者，則不特別指定使用溫度區域。 [1-3.效果等]

如以上所述，本發明塗佈構件及調理機器、調理器具之污垢剝離性優異、尤其燒焦污垢等在高溫下之剝離性優異。 (實施例1)

使用鈉玻璃作為基材110，且使用主成分為氧化鈦之溶液作為塗佈層120之材料。

以噴塗之方式將氧化鈦塗佈溶液塗佈於鈉玻璃後，在300℃下燒成2小時或在600℃下燒成30分鐘。鈉玻璃中之Na(鈉)以Na ₂O(氧化鈉)換算計包含有約14%。

於依上述方式製出之塗佈構件100上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件100，將塗佈構件100浸漬於水中或以沾濕之布巾擦拭後，確認了容易去除沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物。

又，使沙拉油燒焦附著後，以TOF-SIMS(飛行時間型二次離子質譜分析法；Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)一邊進行濺鍍，一邊確認沙拉油之燒焦物(附著部140)、塗佈層120、鈉玻璃(基材110)各自之深度方向上Na的分布。結果，確認了鈉玻璃中之Na有移動至塗佈層120，並有進一步移動至沙拉油。 (實施形態2)

以下，使用圖2A及圖2B、圖3A及圖3B來說明實施形態2。 [2-1.構成]

圖2A中，塗佈構件200係由基材210與塗佈層240構成。塗佈層240係以作為下層之塗佈層的基底層220及作為上層之塗佈層的表塗層230構成。

基底層220係覆蓋基材210之全部或一部分。又，表塗層230係覆蓋基底層220之全部或一部分。基底層220包含可在基底層220中移動的金屬離子250(金屬離子亦可為金屬或金屬氧化物)。

基材210無特別指定，為SUS(不鏽鋼)、鋁、鈦、銅、鐵、鋼、鍍鋅鋼板、鍍鋁鋼板、鍍鋁鋅(Galvalume)鋼板(註冊商標)等金屬；或鈉玻璃、結晶化玻璃、硼矽酸鹽玻璃、強化玻璃、石英玻璃等玻璃；或陶瓷等；或於其等上設置有耐熱、耐蝕、耐磨耗、用以提升設計性之塗層或表面加工、塗膜等，無特別指定。或依使用溫度帶而亦可為樹脂。又，如圖3A及圖3B所示，基材210亦可為包含鋼材210a與經被膜於鋼材210a上之玻璃層210b的琺瑯。

基底層220係至少可對表塗層230供給金屬離子等之層，舉一例來說例如係以玻璃塗層構成。又，基底層220可為以玻璃糊料、陶瓷塗料、琺瑯等進行塗膜化而成者，亦可為以矽酸鈉・矽酸鋰・矽酸鉀等進行塗膜化而成者。或者，基底層220亦可為使其等中含有金屬・金屬氧化物・金屬離子中之至少任一者之層。或者，基底層220亦可以包含金屬・金屬氧化物・金屬離子中之至少任一者的無機塗佈膜構成。或者，基底層220亦可以有機塗佈膜構成，該有機塗佈膜係將包含金屬・金屬氧化物・金屬離子中之至少任一者的聚矽氧塗料、氟塗料、丙烯酸塗料、胺甲酸酯塗料等進行塗膜化而成者。或者，基底層220亦可以有機・無機混合膜等中添加有金屬或金屬離子者構成。此外，基材210中亦可與基底層220同樣地包含有金屬・金屬氧化物・金屬離子中之至少任一者。

於基材210塗佈基底層220時，亦可進行用以使密著性提升之公知之前處理，例如底漆塗佈、親水化處理、電暈處理、電漿處理、脫脂等。

又，表塗層230包含例如二氧化矽、氧化鈦、氧化鎂、氧化鋯、氧化鎢等中之至少任一金屬氧化物。並且，亦可包含含金屬、金屬離子或金屬氧化物、或者其等之複合物的添加物。所述金屬亦可包含例如Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Ba、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Al、Ga、In等中之1種或複數種金屬、金屬離子或者金屬氧化物。亦可更包含含非金屬元素的添加物。此外，基底層220亦可包含Li。此時，基底層220若含有1mol%以上之Li便能發揮效果，若為10mol%以上則更佳。

又，基底層220或表塗層230可各1層，亦可為2層以上之複數層。又，為複數層時，若可發揮基底層220之效果，則基底層220各層可為相同材質，亦可為不同材質。又，若可發揮表塗層230之效果，則表塗層230各層可為相同材質，亦可為不同材質。

基底層220或表塗層230之具體形成方法(塗裝方法)無特別限定，可使用公知之各種方法。代表性之形成方法可舉調製含金屬或金屬氧化物之塗佈劑並塗敷其之公知之塗敷方法，可列舉例如噴塗、旋塗、浸塗、輥塗、棒塗、凹版塗佈、網版印刷、刷塗、刷毛塗佈、刮塗、海綿塗佈等、或是CVD、PVD等之蒸鍍、濺鍍、鍍敷等，但無特別指定。

於基底層220塗佈表塗層230時，亦可進行用以使密著性提升之公知之前處理，例如底漆塗佈、親水化處理、電暈處理、電漿處理、脫脂等。

又，亦可在塗裝基底層220及表塗層230中之至少一者後設置乾燥或燒成步驟。 [2-2.動作]

針對如以上方式構成之塗佈構件200，說明其狀態及其變化與動作。

如圖2B所示，塗佈構件200包含形成於其表面的表塗層230。附著物260例如油、調味液、食品等係在附著於表塗層230之狀態下被加熱而燒焦附著。或者，附著物260係處於非刻意燒焦附著於塗佈構件200的狀態。

金屬離子250係包含於基底層220中。該金屬離子250從基底層220往表塗層230移動，且在表塗層230中移動並到達表塗層230之表面附近。移動機制尚不明確，吾等認為可能是晶界擴散或非晶層之移動，但不特定於此。此外，在基材210中與基底層220同樣地亦包含有金屬・金屬氧化物・金屬離子中之至少任一者時，基材210中所含之金屬離子會從基材210往基底層220移動，而基底層220中所含之金屬離子250會從基底層220往表塗層230移動，且在表塗層230中移動並到達表塗層230之表面附近。

移動至表塗層230之表面附近的金屬離子250會與附著物260結合、或附著於附著物260。藉此，附著物260成為容易從塗佈構件200剝離之狀態。

藉由將帶有燒焦附著之附著物260的塗佈構件200浸漬於水中、或用水擦拭、或噴吹蒸汽，而變得容易去除附著物260。這可能是金屬離子250與附著物260結合或附著之物質變成溶於水的物質，但不特定於此。

此時，可使用於例如屬於調理機器之微波爐、烘烤微波爐、烤箱等之室內壁面；瓦斯爐或IH烹調加熱器等之頂板或烤架室內；加熱板之加熱表面。又，亦可使用於煎鍋或鍋具等之調理器具。或者，亦可使用於會達高溫之工業用爐；汽車或機車、航空機等之高溫部等在高溫環境下使用的製品、部位。

附著有油分之表塗層230之表面若被加熱，吾等認為鹼金屬量在油分之油分與前述塗佈層之界面側會增大、且使水分中介而可提升油分之去除性。

以溫度會上升之製品、部位來說，因塗佈膜中之金屬離子的移動會更加速、且在塗佈膜上與附著物進行反應時反應會更加速等，故期望加熱至高溫，宜加熱至200℃以上，更宜加熱至250℃以上，且更宜加熱至300℃以上。

期望金屬離子250為容易因熱而擴散者。例如，離子半徑小於同族之Na或K的Li較離子半徑大於Li之同族之Na或K更容易在塗佈構件200中擴散，故更多離子會移動至表塗層230上。因此，將Li用於金屬離子時，防污效果會較使用其他離子之情況變得更高。

又，金屬離子250係與附著物260結合來展現防污效果，因此每當附著物附著並被去除時，對防污效果有助益之金屬離子便會減少。若反覆進行附著與去除，該減少便會使防污效果慢慢降低。但將Li用於金屬離子250時，因Li容易擴散，故即便附著物260對塗佈構件200之附著與去除造成金屬離子250減少，仍容易從基底層220供給金屬離子250。因此，將Li用於金屬離子250時，可延長防污效果或其效果壽命。

期望基底層220之材料為平滑且金屬離子250容易移動的材料。例如，玻璃具有以下特徵：不僅可在進行糊料化並塗佈後藉由燒成而形成平滑的基底層，還因各構成元素之結合不完全而金屬離子容易移動。因此，藉由將所期望之金屬離子之原料用於玻璃材料，可形成包含有金屬離子250且平滑的基底層220。

將玻璃材料用於基底層220時，如圖3A及圖3B所示，期望基材210為包含鋼材210a與被覆鋼材210a之玻璃層210b的琺瑯。當基底層220與基材210之熱膨脹係數大幅不同時，基底層220容易從基材210剝離或龜裂。但將琺瑯用於基材210時，因於琺瑯之玻璃層210b上形成包含有多量金屬離子250之玻璃材料的基底層220，而基材210與基底層220皆為玻璃材料從而熱膨脹係數相近，因此可形成密著性高且平滑的基底層220。

又，若為即使在加熱後不使附著物燒焦附著而在一般之使用下仍可藉由金屬離子移動來發揮效果者，則不特別指定使用溫度區域。 [2-3.效果等]

如以上所述，本發明塗佈構件及調理機器、調理器具之污垢剝離性優異、尤其燒焦污垢等在高溫下之剝離性優異。 (實施例2)

使用結晶化玻璃作為基材210之材料，且使用矽酸鈉溶液作為基底層220之材料，並使用主成分為氧化鈦之溶液作為表塗層230之材料。

以浸漬之方式使經以水稀釋矽酸鈉溶液約32%溶液後之塗液附著於結晶化玻璃，並使其常溫乾燥。之後，以噴塗之方式塗佈氧化鈦塗佈溶液約1%溶液後，進行常溫乾燥。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件200，以沾濕之布巾擦拭塗佈構件200後，確認了容易去除沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物。

又，同樣地，確認了即使使用矽酸鋰、矽酸鉀溶液作為基底層220之材料，仍同樣地變得容易去除污垢。 (實施例3)

使用鍍鋁鋼板作為基材210(亦可使用SUS430(包含16%以上之鉻的不鏽鋼)或施有聚矽氧樹脂塗裝之鍍鋁鋼板作為基材210)，且使用塗佈有作為基底層220之材料之矽酸鈉溶液的層，並使用主成分為氧化鈦之氧化鈦溶液作為表塗層230之材料。

以噴塗之方式使矽酸鈉32%溶液附著於鍍鋁鋼板，並使其常溫乾燥。之後，以噴塗之方式塗佈氧化鈦溶液後，在300℃下燒成1小時。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約250℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件200，以沾濕之布巾擦拭塗佈構件200後，確認了容易去除沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物。 (實施例4)

使用氧化鋁板作為基材210，且使用含Na2O之低熔點玻璃糊料作為基底層220之材料，並使用氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液作為表塗層230之材料。

以網版印刷之方式將玻璃糊料印刷於氧化鋁板，在600℃下燒成10分鐘。之後，以浸漬之方式塗佈氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液，在300℃下燒成1小時。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，將塗佈構件200浸漬於水中後，確認了容易去除油或調味液之燒焦物。又，同樣地確認了也容易去除蛋黃醬或咖哩醬等。 (實施例5)

使用氧化鋁板作為基材210，且作為基底層220之材料係使用於與實施例4中所使用之物相同的玻璃糊料中混合鈉玻璃粉末以在基底層220中以Na2O量計達約15%而成之物，並使用氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液作為表塗層230之材料。

以網版印刷之方式將加有鈉玻璃粉末之玻璃糊料印刷於氧化鋁板，在600℃下燒成10分鐘。之後，將於氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液進行噴塗，在300℃下燒成1小時。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件200，以沾濕之布巾擦拭塗佈構件200後，確認了較實施例4更容易去除沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物。

又，確認了即使取代鈉玻璃粉末而混合無水矽酸鈉粉末以在基底層220中以Na2O量計達25%之方式而成之物作為基底層220來使用，污垢仍同樣容易去除。 (實施例6)

使用鈉玻璃作為基材210，且作為基底層220之材料係使用將含有約10mol%之Li的玻璃粉末與萜品醇中混合有纖維素之媒液混合而製出的玻璃糊料，並且作為表塗層230之材料係使用氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液。基底層220係以網版印刷之方式印刷前述玻璃糊料，並在600℃下燒成10分鐘。之後，將氧化鈦溶液進行噴塗，在500℃下燒成1小時。此外，Li若含有1mol%以上便能發揮效果，若為10mol%以上則更佳。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件200，以沾濕之布巾擦拭塗佈構件200後，確認了較實施例5更容易去除沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物。又，反覆進行相同之使沙拉油燒焦附著並擦拭之實驗來確認效果壽命。此時，確認了效果壽命較實施例5更長。 (實施例7)

使用鋼材上形成有玻璃層之琺瑯作為基材210，並使用與實施例6相同之基底層220與表塗層230之材料而於該基材上形成基底層與表塗層。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下沙拉油、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，從爐中取出塗佈構件200，以沾濕之布巾擦拭塗佈構件200後，確認了與實施例6同等的沙拉油之燒焦物或調味液之燒焦物的易去除性。又，反覆進行相同之使沙拉油燒焦附著並擦拭之實驗來確認效果壽命。此時，確認了與實施例6相同之效果壽命。 (比較例1)

使用結晶化玻璃作為基材，且以噴塗之方式塗佈與實施例1或實施例2中所使用之氧化鈦塗佈溶液相同的溶液作為表塗層後，在300℃下燒成2小時。

於依上述方式製出之塗佈構件上滴下沙拉油，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後將其取出，雖欲浸漬於水中或以沾濕之布巾擦拭，但無法去除沙拉油之燒焦物。

又，使沙拉油燒焦附著後，以TOF-SIMS(飛行時間型二次離子質譜分析法)一邊進行濺鍍，一邊確認沙拉油之燒焦物、塗佈層、結晶化玻璃各自之深度方向上Na的分布。結果，在結晶化玻璃中確認到微量之Na，但在塗佈層、沙拉油中無法確認到Na。 (比較例2)

使用SUS430作為基材，且使用與實施例4相同之氧化鈦中添加有與氧化鈦不同之金屬元素(非鈦金屬元素)的溶液作為表塗層。

將氧化鈦中添加有其他金屬元素的溶液噴塗於SUS430上，在300℃下燒成1小時。SUS430中之Na量幾乎為零。

於依上述方式製出之塗佈構件200上滴下油酸、或作為調味液之醬油、味醂、砂糖之混合物，在約300℃之爐中使其燒焦附著30分鐘。之後，浸漬於水中，但無法去除油或調味液之燒焦物。 (實施形態3)

以下，說明實施形態3。 [3-1.構成]

於微波爐等加熱調理器之內側各面設置塗佈構件，該塗佈構件係如實施例1中記載已使沙拉油、調味液燒焦附著於實施例1至5中記載之任一塗佈構件100者。 [3-2.動作]

使微波爐所搭載之蒸汽功能作動，以蒸汽充滿微波爐室內，將該狀態持續約10分鐘。

之後，以布巾擦拭設置於微波爐內側之面的塗佈構件上的沙拉油、調味液後，確認了容易去除燒焦物。

此外，若為200℃以上之過熱水蒸氣，蒸汽功能便會發揮相當之效果。若為250℃以上之過熱水蒸氣則更佳。因塗佈構件之表面係形成於在200℃以上之下加熱之區域，故可發揮上述效果。 [3-3.效果等]

如以上所述，使用本發明塗佈構件之調理機器、調理器具之污垢剝離性優異、尤其燒焦污垢等在高溫下之剝離性優異。

如以上所述，第1發明之塗佈構件係由基材與塗佈層構成，前述塗佈層覆蓋前述基材之表面的全部或一部分；且，前述基材中所含之金屬離子、金屬中之至少任一者移動至前述塗佈層。

第2發明之塗佈構件係在第1發明中，藉由前述塗佈構件中所含之金屬離子、金屬中之至少任一者移動至附著於前述塗佈層表面之附著物，使附著物之去除性提升。

第3發明之塗佈構件係由基材與2層以上塗佈層構成，前述2層以上塗佈層覆蓋前述基材之表面的全部或一部分，且金屬離子、金屬中之至少任一者從下層之塗佈層移動至上層之塗佈層。

第4發明之塗佈構件係在第3發明中，前述2層以上塗佈層中，前述金屬離子、金屬中之至少任一者係從較靠近前述基材的基底層移動至前述塗佈構件之較靠近表面的表塗層，且前述金屬離子、金屬中之至少任一者進一步移動至附著於前述塗佈層表面之附著物，藉此使附著物之去除性提升。

第5發明之塗佈構件係在第1至第4之任一發明中，前述金屬離子、金屬中之至少任一者為鹼金屬。

第6發明之塗佈構件係在第3或第4發明中，前述2層以上塗佈層中，前述表塗層包含氧化鈦。

第7發明之塗佈構件係在第5發明中，若加熱附著有油分之前述塗佈層表面，前述鹼金屬量在前述油分之前述油分與前述塗佈層的界面側會增大、且使水分中介而可提升前述油分之去除性。

第8發明之塗佈構件係在第1至第7之任一發明中，基材含有Li離子。

第9發明之塗佈構件係在第1至第8之任一發明中，前述基材使用琺瑯。

第10發明之塗佈構件係在第1至第9之任一發明中，前述Li離子於前述基材中包含1mol%以上。

第11發明之塗佈構件係在第1至第10之任一發明中，前述塗佈層係形成於在200℃以上之下加熱之區域。

第12發明之塗佈構件係使用如第1至第11之任一發明中記載之塗佈構件的調理機器或調理器具。

產業上之可利用性 藉由提供一種容易去除附著於表面之物質的塗佈構件，而可有效用於：調理機器或調理器具、會達高溫之工業用爐、汽車或機車、航空機等之高溫部等在高溫環境下使用的製品、部位。

100,200:塗佈構件 110,210:基材 120,240:塗佈層 130,250:金屬離子 140,260:附著物 210a:鋼材 210b:玻璃層 220:基底層 230:表塗層

圖1A係本實施形態1之塗佈構件的剖面示意圖。 圖1B係顯示本實施形態1之塗佈構件之狀態變化的剖面示意圖。 圖2A係本實施形態2之塗佈構件的剖面示意圖。 圖2B係顯示本實施形態2之塗佈構件之狀態變化的剖面示意圖。 圖3A係本實施形態2之塗佈構件的其他剖面示意圖。 圖3B係顯示本實施形態2之塗佈構件之狀態變化的其他剖面示意圖。

100:塗佈構件

110:基材

120:塗佈層

130:金屬離子

Claims (16)

1. 一種塗佈構件，係由基材與塗佈層構成，前述塗佈層覆蓋前述基材之表面的全部或一部分；且，前述基材中所含之金屬離子、金屬中之至少任一者移動至前述塗佈層。
2. 如請求項1之塗佈構件，其中藉由前述塗佈構件中所含之金屬離子、金屬中之至少任一者移動至附著於前述塗佈層表面之附著物，使附著物之去除性提升。
3. 如請求項1或2之塗佈構件，其中前述基材含有Li離子。
4. 如請求項3之塗佈構件，其中前述基材使用琺瑯。
5. 如請求項3之塗佈構件，其中前述Li離子於前述基材中包含1mol%以上。
6. 如請求項1或2之塗佈構件，其中前述塗佈層形成於在200℃以上之下加熱之區域。
7. 一種塗佈構件，係由基材與塗佈層構成，前述塗佈層覆蓋前述基材之表面的全部或一部分；前述塗佈層包含表塗層、及前述表塗層與前述基材之間的基底層；且，金屬離子、金屬中之至少任一者從前述基底層移動至前述表塗層。
8. 如請求項7之塗佈構件，其中藉由前述金屬離子、金屬中之至少任一者進一步移動至附著於前述塗佈層表面之附著物，使附著物之去除性提升。
9. 如請求項1或7之塗佈構件，其中前述金屬離子、金屬中之至少任一者為鹼金屬。
10. 如請求項7或8之塗佈構件，其中前述表塗層包含氧化鈦。
11. 如請求項9之塗佈構件，其中若加熱附著有油分之前述塗佈層表面，前述鹼金屬量在前述油分之前述油分與前述塗佈層的界面側會增大、且使水分中介而可提升前述油分之去除性。
12. 如請求項7或8之塗佈構件，其中前述基底層含有Li離子。
13. 如請求項12之塗佈構件，其中前述基材使用琺瑯。
14. 如請求項12之塗佈構件，其中前述Li離子於前述基底層中包含1mol%以上。
15. 如請求項7或8之塗佈構件，其中前述塗佈層形成於在200℃以上之下加熱之區域。
16. 一種調理機器或調理器具，係使用如請求項1或7之塗佈構件。

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