[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

TW202041607A - 著色組成物、及著色阻劑組成物 - Google Patents

著色組成物、及著色阻劑組成物 Download PDF

Info

Publication number
TW202041607A
TW202041607A TW109103548A TW109103548A TW202041607A TW 202041607 A TW202041607 A TW 202041607A TW 109103548 A TW109103548 A TW 109103548A TW 109103548 A TW109103548 A TW 109103548A TW 202041607 A TW202041607 A TW 202041607A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
pigment
coloring
composition
present
group
Prior art date
Application number
TW109103548A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI841676B (zh
Inventor
辻康人
米田善紀
中川朋樹
Original Assignee
日商阪田油墨股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商阪田油墨股份有限公司 filed Critical 日商阪田油墨股份有限公司
Publication of TW202041607A publication Critical patent/TW202041607A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI841676B publication Critical patent/TWI841676B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/22—Compounds containing nitrogen bound to another nitrogen atom
    • C08K5/23—Azo-compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432—Six-membered rings
    • C08K5/3437—Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3462—Six-membered rings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本發明提供一種能夠獲得遮光性優異且耐溶劑性亦優異之黑色阻劑圖案之著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物。 本發明之著色組成物之特徵在於：含有顏料及黏合劑樹脂，且上述顏料包含選自由C.I.顏料橙16及C.I.顏料黃139所組成之群中之1種以上、以及C.I.顏料藍60。

Description

著色組成物、及著色阻劑組成物
本發明係關於一種著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物。
近年來，黑矩陣用著色組成物之用途涉及多個方面，例如，被用以於液晶或電漿等之平板顯示器中，於畫面之顯示區域內之著色圖案之間隙或顯示區域周邊部分之緣，又，於使用TFT之液晶顯示器中，於TFT之外光側等設置遮光膜（黑矩陣）。而且，發揮如下作用：於液晶顯示器中主要防止來自背光之漏光映現於畫面中，又，於電漿顯示器中主要防止因各色光之渾濁所引起之滲色映現於畫面中，而提高顯示特性（對比度及色純度）。
例如，於用以將液晶顯示器之背光之白色光轉換為著色光之濾色器中，通常藉由在形成有黑矩陣之玻璃或塑膠片等透明基板表面依序以條紋狀或馬賽克狀等之圖案形成紅、綠、藍之不同色相之像素的方法來製造。
又，於組合影像顯示裝置及位置輸入裝置而成之觸控面板中，亦同樣地利用形成有黑矩陣之濾色器作為遮光膜，迄今為止，一般隔著蓋玻璃形成於與感測器基板相反之側。但是，隨著對觸控面板之輕量化之要求提高，為了謀求更輕量化，正在開發一種於蓋玻璃之同一側同時形成遮光膜及觸控感測器之技術。
例如，於專利文獻1中，揭示有一種技術，其係藉由在色間隔物形成用感光性著色組成物中，組合使用特定之顏料及碳黑作為著色劑，並且使碳黑之含有比率為特定範圍，而賦予遮蔽性等。
又，例如，於專利文獻2中，揭示有一種技術，其係藉由適當地組合光吸收特性不同之顏料種類，以確保紫外線區域與可見光區域之光吸收之平衡，而維持遮光性及液晶之電壓保持率。
然而，於構成影像顯示裝置之液晶層之黑矩陣等之著色組成物之耐溶劑性較低之情形時，會產生於像素圖案產生龜裂或缺損、或者著色成分自像素圖案溶出之問題。 於上述技術中，未針對耐溶劑性進行研究，期望開發出一種能夠獲得耐溶劑性優異之黑色阻劑圖案之黑矩陣用著色組成物。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2016-177190號公報 [專利文獻2]國際公開第2013/115268號說明書
[發明所欲解決之課題]
因此，本發明之課題之目的在於提供一種能夠獲得遮光性優異且耐溶劑性亦優異之黑色阻劑圖案之著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物。 [解決課題之技術手段]
本發明人等發現藉由於含有顏料及黏合劑樹脂之著色組成物中組合使用特定之顏料，可獲得「能夠製作具有優異之遮蔽性並且耐溶劑性亦優異之黑色阻劑圖案」之著色組成物，從而完成了本發明。
即，本發明係關於一種黑矩陣用著色組成物，其特徵在於：含有顏料及黏合劑樹脂，且上述顏料包含選自由C.I.顏料橙16及C.I.顏料黃139所組成之群中之1種以上、以及C.I.顏料藍60。
又，上述顏料較佳為進而包含選自由C.I.顏料紫23及C.I.顏料紫29所組成之群中之1種以上。 又，本發明亦係一種著色阻劑組成物，其係使用本發明之著色組成物而製造。 又，亦係一種被用作黑矩陣、黑色柱間隔物（black column spacer）或黑色間隔壁材料之本發明之著色組成物、或本發明之著色阻劑組成物。 以下，對本發明之著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物詳細地進行說明。
（顏料） 本發明之著色組成物之顏料包含選自由C.I.顏料橙16及C.I.顏料黃139所組成之群中之1種以上、以及C.I.顏料藍60。 藉由使用上述顏料，可設為能夠獲得遮光性優異且耐溶劑性亦優異之黑色阻劑圖案之黑矩陣用著色組成物。就賦予耐溶劑性之觀點而言，上述顏料較佳為包含C.I.顏料黃139及C.I.顏料藍60。
關於選自由C.I.顏料橙16及C.I.顏料黃139所組成之群中之1種以上之顏料之含量，就遮光性之觀點而言，相對於顏料之總量，較佳為5～60質量%，更佳為8～50質量%，進而較佳為10～45質量%，尤佳為10～40質量%。 關於C.I.顏料藍60之含量，就遮光性之觀點而言，相對於顏料之總質量，較佳為5～70質量%，更佳為10～60質量%，進而較佳為15～55質量%，尤佳為20～50質量%。
上述顏料較佳為進而包含選自由C.I.顏料紫23及C.I.顏料紫29所組成之群中之1種以上。 藉由使上述顏料進而包含選自由C.I.顏料紫23及C.I.顏料紫29所組成之群中之1種以上，能夠對藉由著色組成物所獲得之黑色阻劑圖案賦予優異之遮蔽性。 就賦予耐溶劑性之觀點而言，上述顏料更佳為包含C.I.顏料紫29。
關於選自由C.I.顏料紫23及C.I.顏料紫29所組成之群中之1種以上之顏料之含量，就遮光性之觀點而言，相對於顏料之總量，較佳為1～70質量%，更佳為10～60質量%。
於本發明之著色組成物中，相對於總固體成分，上述顏料以質量分率計較佳為20～90質量%，更佳為30～80質量%。
於本發明之著色組成物中，上述顏料亦可於不損害本發明之效果之範圍內，包含碳黑、紅色顏料、橙色顏料、藍色顏料、綠色顏料等其他顏料。
（黏合劑樹脂） 本發明之著色組成物含有黏合劑樹脂。 作為上述黏合劑樹脂，只要為能夠用於濾色器之構件之樹脂，則可無特別限制地使用，可列舉：鹼可溶性樹脂、熱硬化性樹脂、熱塑性樹脂、光聚合性化合物（光聚合性樹脂、分子內具有1個以上之光聚合性不飽和鍵之單體、寡聚物等）等。其等可單獨或混合2種以上而使用。 於本發明之著色組成物中，相對於總固體成分，上述黏合劑樹脂以質量分率計較佳為1～40質量%，更佳為3～25質量%。
作為上述鹼可溶性樹脂，可例示鹼可溶性共聚物、鹼可溶性卡多樹脂（Cardo resin）等。 作為鹼可溶性共聚物，例如為使丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸單烷基酯、檸康酸、檸康酸酐、檸康酸單烷基酯等含羧基之不飽和單體，與選自由苯乙烯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、單丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、具有二環戊二烯骨架之單(甲基)丙烯酸酯、N-苯基順丁烯二醯亞胺、聚苯乙烯巨單體及聚甲基丙烯酸甲酯巨單體所組成之群中之至少1種進行反應所獲得之共聚物、及環氧丙烯酸酯樹脂。
作為上述鹼可溶性卡多樹脂，可列舉作為茀環氧(甲基)丙烯酸衍生物與二羧酸酐及/或四羧酸二酐之加成產物之具有茀骨架之環氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物等。 上述鹼可溶性樹脂可單獨或併用2種以上而使用。關於鹼可溶性樹脂，就塗膜形成性、鹼性顯影性之方面而言，較佳為酸值為40～200 mgKOH/g，重量平均分子量為1000～5萬。 上述鹼可溶性樹脂可根據所要求之性能，而適當使用1種或組合使用2種以上。
作為上述熱硬化性樹脂或熱塑性樹脂，例如可列舉：丁醛樹脂、苯乙烯-順丁稀二酸共聚物、氯化聚乙烯、氯化聚丙烯、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚胺酯（polyurethane）系樹脂、酚樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂、醇酸樹脂、苯乙烯樹脂、聚醯胺樹脂、橡膠系樹脂、環化橡膠、環氧樹脂、纖維素類、聚丁二烯、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、苯胍
Figure 109103548-A0304-12-0000-4
樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂等。
作為上述光聚合性樹脂，可使用對具有羥基、羧基、胺基等反應性取代基之線性高分子經由異氰酸基、醛基、環氧基等，導入(甲基)丙烯酸化合物、桂皮酸等之光交聯性基而成之樹脂。亦使用將含有苯乙烯-順丁稀二酸酐共聚物或α-烯烴-順丁稀二酸酐共聚物等酸酐之線性高分子藉由(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等具有羥基之(甲基)丙烯酸化合物半酯化而成之聚合物。
於上述光聚合性化合物中，作為分子內具有1個上述光聚合性不飽和鍵之單體，例如可列舉：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等甲基丙烯酸烷基酯或丙烯酸烷基酯；甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸芳烷基酯或丙烯酸芳烷基酯；甲基丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯等甲基丙烯酸烷氧基烷基酯或丙烯酸烷氧基烷基酯；甲基丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯、丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯等甲基丙烯酸胺基烷基酯或丙烯酸胺基烷基酯；二乙二醇乙醚、三乙二醇丁醚、二丙二醇甲醚等聚伸烷基二醇烷基醚之甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯；六乙二醇苯醚等聚伸烷基二醇芳基醚之甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯；甲基丙烯酸異莰酯或丙烯酸異莰酯；甲基丙烯酸甘油酯或丙烯酸甘油酯；甲基丙烯酸2-羥基乙酯或丙烯酸2-羥基乙酯等。
於上述光聚合性化合物中，作為分子內具有2個以上之上述光聚合性不飽和鍵之單體，例如可列舉：雙酚A二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸甘油酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、新戊四醇三甲基丙烯酸酯、新戊四醇四甲基丙烯酸酯、二新戊四醇四甲基丙烯酸酯、二新戊四醇六甲基丙烯酸酯、二新戊四醇五甲基丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸甘油酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、二新戊四醇五丙烯酸酯等。
（碳黑） 關於本發明之著色組成物，就調整色調之觀點而言，可含有碳黑。 作為上述碳黑，可列舉：乙炔黑、槽黑、爐黑、及科琴黑（Ketjen black）等。 作為上述碳黑之具體例，可列舉：三菱化學公司製造之MA7、MA8、MA11、MA14、＃1000、＃2350等；Orion Engineered Carbons公司製造之SpecialBlack350、SpecialBlack250、SpecialBlack550、NEROX2500、NEROX3500、NEROX305等；Cabot公司製造之MOGUL L、REGAL400R、TPK1101R、TPK1104R、TPK1227R等；Columbian Carbon公司製造之RAVEN1200、RAVEN1250、RAVEN1255、RAVEN1190U、RAVEN1170、RAVEN1035、RAVEN1080U、RAVEN1060U、RAVEN1100U等。 其中，較佳為pH為5以下且具有羧基等酸性基之酸性碳黑。又，較佳為粒徑為20～60 nm者。 作為滿足上述內容之酸性碳黑，可列舉：NEROX2500、NEROX3500、TPK1101R、TPK1104R、TPK1227R等。 再者，上述粒徑意指藉由顯微鏡觀察所測得或算出之平均一次粒徑。
上述酸性碳黑之含量並無特別限定，但例如，相對於本發明之著色組成物之全部顏料之質量，較佳為含有70質量%以下。若上述酸性碳黑之含量超過70質量%，則存在引起電壓保持率下降、或曝光感光度下降之情況。 相對於本發明之著色組成物之全部顏料之質量，上述酸性碳黑之含量之更佳上限為50質量%。 再者，本發明之著色組成物亦可不含有上述酸性碳黑。
本發明之著色組成物較佳為進而含有顏料分散劑、下述之通式（1）及/或（2）所表示之顏料分散助劑、及/或作為銅酞青之磺化物（亦可被中和）之顏料分散助劑、及/或作為C.I.顏料黃138之磺化物（亦可被中和）之顏料分散助劑、黏合劑樹脂、以及有機溶劑。
（顏料分散劑） 本發明之著色組成物較佳為含有顏料分散劑。 作為上述顏料分散劑，為含鹼性基之顏料分散劑，可使用：陰離子性界面活性劑、含鹼性基之聚酯系顏料分散劑、含鹼性基之丙烯酸系顏料分散劑、含鹼性基之胺酯（urethane）系顏料分散劑、含鹼性基之碳二醯亞胺系顏料分散劑、含酸性基之高分子顏料分散劑等。 該等含鹼性基之顏料分散劑可單獨使用，又，亦可使用2種以上之組合。其中，就可獲得良好之顏料分散性之方面而言，較佳為含鹼性基之高分子顏料分散劑。
作為含鹼性基之高分子顏料分散劑之具體例，可列舉： （1）聚胺化合物（例如，聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯聚亞胺等聚（低級伸烷基胺）等）之胺基及/或亞胺基、與選自由具有游離之羧基之聚酯、聚醯胺及聚酯醯胺所組成之群中之至少1種之反應產物（日本特開2001-59906號公報）、 （2）聚（低級）伸烷基亞胺、甲基亞胺基雙丙基胺等低分子胺基化合物、與具有游離之羧基之聚酯之反應產物（日本特開昭54-37082號公報、日本特開平01-311177號公報）、 （3）使聚異氰酸酯化合物之異氰酸基依序與甲氧基聚乙二醇等醇類或己內酯聚酯等具有1個羥基之聚酯類、具有2～3個異氰酸基反應性官能基之化合物、具有異氰酸基反應性官能基及三級胺基之脂肪族或雜環式烴化合物進行反應而成之反應產物（日本特開平02-612號公報）、 （4）使具有醇性羥基之丙烯酸酯之聚合物與聚異氰酸酯化合物及具有胺基之烴化合物進行反應而成之化合物、 （5）使低分子胺基化合物與聚醚鏈加成而成之反應產物、 （6）使具有異氰酸基之化合物與具有胺基之化合物進行反應而成之反應產物（日本特開平04-210220號公報）、 （7）使聚環氧化合物與具有游離之羧基之線性聚合物及具有1個二級胺基之有機胺化合物進行反應而成之反應產物（日本特開平09-87537號公報）、 （8）於單末端具有可與胺基反應之官能基之聚碳酸酯化合物與聚胺化合物之反應產物（日本特開平09-194585號公報）、 （9）選自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯中之至少1種，與丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-羥甲基醯胺、乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、具有胺基及聚己內酯骨架之單體等含鹼性基之聚合單體中之至少1種，與苯乙烯、苯乙烯衍生物、其他聚合性單體中之至少1種的共聚物（日本特開平01-164429號公報）、 （10）含鹼性基之碳二醯亞胺系顏料分散劑（國際公開WO04/000950號公報）、 （11）由具有三級胺基、四級銨鹽基等鹼性基之嵌段及不具有官能基之嵌段所構成之嵌段共聚物（參照日本特開2005-55814號之記載）、 （12）使聚烯丙胺與聚碳酸酯化合物進行麥可加成（Michael addition）反應而獲得之顏料分散劑（日本特開平09-194585號公報）、 （13）分別具有至少1個聚丁二烯鏈及含鹼性氮之基之碳二醯亞胺系化合物（日本特開2006-257243號公報）、 （14）分別具有至少1個於分子內具有醯胺基之側鏈、及含鹼性氮之基之碳二醯亞胺系化合物（日本特開2006-176657號公報）、 （15）具有含有鏈及環氧丙烷鏈之結構單元，且具有藉由四級化劑而四級化之胺基之聚胺酯系化合物（日本特開2009-175613號公報）、 （16）使分子內具有異氰脲酸酯環之異氰酸酯化合物之異氰酸基、與分子內具有活性氫基且具有咔唑環及/或偶氮苯骨架之化合物之活性氫基進行反應而獲得之化合物，且為該化合物之分子內之咔唑環及偶氮苯骨架之數量相對於源自具有異氰脲酸酯環之異氰酸酯化合物之異氰酸基及藉由異氰酸基與活性氫基之反應所產生之胺酯鍵及脲鍵之合計為15～85%之化合物（日本特願2009-220836）、 （17）對具有胺基之丙烯酸酯聚合物導入聚醚或聚酯側鏈而成之接枝共聚物等。
上述含鹼性基之高分子顏料分散劑之中，更佳為：含鹼性基之胺酯系高分子顏料分散劑、含鹼性基之聚酯系高分子顏料分散劑、含鹼性基之丙烯酸系高分子顏料分散劑，進而較佳為：含胺基之胺酯系高分子顏料分散劑、含胺基之聚酯系高分子顏料分散劑、含胺基之丙烯酸系高分子顏料分散劑。上述含鹼性基之高分子顏料分散劑之中，尤佳為具有選自由聚酯鏈、聚醚鏈、及聚碳酸酯鏈所組成之群中之至少1種之含鹼性基（胺基）之高分子顏料分散劑。
於本發明之著色組成物中，相對於上述顏料100質量份，上述顏料分散劑較佳為1～200質量份，更佳為5～100質量份。
（顏料分散助劑） 本發明之著色組成物較佳為含有下述通式（1）及/或（2）所表示之顏料分散助劑、及/或作為銅酞青之磺化物（亦可被中和）之顏料分散助劑、及/或作為C.I.顏料黃138之磺化物（亦可被中和）之顏料分散助劑。
Figure 02_image001
〔式中，X及Y相同或者不同，表示可被F、Cl、Br、NO2 、CH3 或OCH3 取代之苯基；M表示H、Na、K、NH4 或NR1 R2 R3 R4 （R1 、R2 、R3 及R4 相同或者不同，表示可被其他取代基取代之碳數1～10之飽和或不飽和之脂肪族烴基、或可被其他取代基取代之碳數6～10之芳香族烴基）；m表示1以上之整數〕
上述顏料分散助劑用以使上述顏料分散。 於使上述顏料分散時，藉由併用上述顏料分散助劑及上述顏料分散劑，能獲得優異之流動性、經時穩定性。又，於將上述著色組成物用作著色阻劑組成物之情形時，能獲得較高之光學密度。
上述通式（1）、（2）中，X及Y相同或者不同，表示可被F、Cl、Br、NO2 、CH3 或OCH3 取代之苯基。M表示H、Na、K、NH4 或NR1 R2 R3 R4 。 關於上述通式（1）、（2）之「NR1 R2 R3 R4 」（M），R1 、R2 、R3 及R4 相同或者不同，表示可被其他取代基取代之碳數1～10之飽和或不飽和之脂肪族烴基、或可被其他取代基取代之碳數6～10之芳香族烴基。此處，作為上述飽和或不飽和之脂肪族烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、癸基等烷基；乙烯基、烯丙基、1-丁烯基等烯基；乙炔基、丙炔基等炔基等。作為上述芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基等。又，作為上述其他取代基，可列舉：羥基、鹵素、羧基、胺基、低級烷基（碳數1～5）等。 再者，上述R1 、R2 、R3 及R4 既可1個被其他取代基取代，亦可2個以上被其他取代基取代。 進而，上述通式（1）、（2）之「m」為1以上之整數。
於上述化合物（顏料分散助劑）中，上述通式（1）所表示之化合物為烯醇型之互變異構物，上述通式（2）所表示之化合物為酮型之互變異構物，上述顏料分散助劑包含此兩種化合物。即，上述顏料分散助劑亦包含如下兩種情形：上述通式（1）或（2）所表示之化合物之情形、及由上述通式（1）及（2）所表示之化合物之兩者構成之情形。
此種顏料分散助劑為新穎之化合物，例如，可將下述式（3）～（30）之單偶氮化合物溶解於濃硫酸、發煙硫酸、氯磺酸或其等之混合液中，加熱至室溫或80～90℃，繼而以大量之水進行稀釋而獲得懸濁液，將該懸濁液過濾後，進行水洗，對所獲得之濾餅進行乾燥、粉碎而製造，不存在市售品。
Figure 02_image003
Figure 02_image005
Figure 02_image007
Figure 02_image009
該等顏料分散助劑之中，就能夠獲得具有良好之流動性及經時穩定性，並且光學密度處於更高等級之著色阻劑組成物之方面而言，較佳為上述通式（1）及/或（2）之X為2,5-二氯苯基且Y為苯基之下述通式（31）所表示之化合物（使用上述式（3）之單偶氮化合物，藉由上述製法等所獲得之化合物：烯醇型）及/或下述通式（32）所表示之化合物（使用上述式（4）之單偶氮化合物，藉由上述製法等所獲得之化合物：酮型）。
Figure 02_image011
於本發明之著色組成物中，相對於上述顏料100質量份，上述顏料分散助劑較佳為30質量份以下，更佳為0.1～20質量份。 存在相對於上述顏料100質量份，即便上述顏料分散助劑超過30質量份，亦無法提高顏料分散效果之情況。
（有機溶劑） 本發明之著色組成物較佳為含有有機溶劑。 作為上述有機溶劑，較佳為常壓（1.013×102 kPa）之沸點為70～300℃之酯系有機溶劑、醚系有機溶劑、醚酯系有機溶劑、酮系有機溶劑、芳香族烴系有機溶劑、含氮系有機溶劑等。
作為此種溶劑，具體而言，可例示：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丁醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚等醚系有機溶劑類、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等醚酯系有機溶劑類、甲基異丁基酮、環己酮、2-庚酮、δ-丁內酯等酮系有機溶劑類、2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥基乙酸酯、甲酸正戊酯等酯系有機溶劑類、N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等含氮系有機溶劑類等，該等有機溶劑可單獨或混合2種以上而使用。
該等有機溶劑之中，就沸點、溶解性、分散性、塗佈性等方面而言，較佳為：二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、環己酮、2-庚酮、2-羥基丙酸乙酯、3-甲基-3-甲氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、甲酸正戊酯等，更佳為丙二醇單甲醚乙酸酯。
（其他添加劑） 根據本發明之著色組成物之製造方法，可適當使用光聚合起始劑、熱聚合抑制劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑等各種添加劑。 作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，例如可使用：二苯甲酮、N,N'-四乙基-4,4'-二胺基二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲胺基二苯甲酮、二苯乙二酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、安息香、安息香甲醚、安息香異丁醚、苄基二甲基縮酮、α-羥基異丁基苯酮、9-氧硫𠮿
Figure 109103548-0000-3
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 109103548-0000-3
、1-羥基環己基苯基酮、第三丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2,3-二氯蒽醌、3-氯-2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、1,4-萘醌、1,2-苯并蒽醌、1,4-二甲基蒽醌、2-苯基蒽醌、三
Figure 109103548-A0304-12-0000-4
系光聚合起始劑、肟酯系光聚合起始劑等。該等光聚合起始劑可單獨或併用2種以上而使用。 於本發明之著色組成物中，相對於總固體成分，上述光聚合起始劑以質量分率計較佳為0.1～10質量%，更佳為0.5～4質量%。
＜著色組成物之製造方法＞ 對使用以上材料製造著色組成物之方法之一例進行說明。 對上述各色之顏料，視需要添加黏合劑樹脂、碳黑、顏料分散劑、顏料分散助劑、有機溶劑及其他添加劑並進行混合，而獲得混合物。 將所獲得之混合物使用輥磨機、捏合機、高速攪拌裝置、珠磨機、球磨機、砂磨機、超音波分散機、高壓分散機等各種分散機進行混練，並進行分散處理，而獲得各色之顏料分散組成物。 繼而，將所獲得之各色之顏料分散組成物以成為疑似黑色化之方式按既定之組合進行摻合，並視需要添加黏合劑樹脂、有機溶劑、及其他添加劑，使用高速攪拌機等攪拌裝置均勻地混合之後，利用過濾器進行過濾，而獲得本發明之著色組成物。於上述製造方法中，黏合劑樹脂可於製作顏料分散組成物時添加。又，亦可於製作顏料分散組成物之後，於製作著色組成物時添加。
（共分散） 獲得由將各顏料以成為疑似黑色化之方式進行摻合所得之混合顏料、顏料分散劑、顏料分散助劑、有機溶劑、視需要之黏合劑樹脂、進一步視需要之其他添加劑所構成之混合物。將所獲得之混合物使用輥磨機、捏合機、高速攪拌裝置、珠磨機、球磨機、砂磨機、超音波分散機、高壓分散機等各種分散機進行混練，並進行分散處理，而獲得顏料分散組成物。 繼而，於所獲得之顏料分散組成物中，視需要添加黏合劑樹脂、有機溶劑、及其他添加劑，使用高速攪拌機等攪拌裝置均勻地混合之後，利用過濾器進行過濾，而獲得本發明之著色組成物。於上述製造方法中，黏合劑樹脂可於製作顏料分散組成物時添加。 又，亦可於製作顏料分散組成物之後，於製作著色組成物時添加。
本發明之著色組成物較佳為於25℃測定出之黏度為2.0～20.0 mPa·s。 若上述黏度未達2.0 mPa·s、或超過20.0 mPa·s，則存在對塗佈性造成不良影響之情況。 再者，上述黏度係將本發明之著色組成物緊塞於玻璃瓶等中，保存1日之後使用E型黏度計（東機產業公司製造）所測定出之黏度。
本發明之著色組成物較佳為經時穩定性為0.8～1.1。 若上述經時穩定性未達0.8、或超過1.1，則存在對塗佈性、顯影性造成不良影響之情況。 再者，上述經時穩定性係使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定將本發明之著色組成物緊塞於玻璃瓶等中且於室溫（25℃）保存1日後之25℃之黏度、及將本發明之著色組成物緊塞於玻璃瓶等中且於40℃保存7日後之25℃之黏度，以（於40℃保存7日後之黏度）/（於室溫保存1日後之黏度）之形式求出者。
其次，對使用本發明之著色組成物作為著色阻劑組成物之例進行說明。 本發明之著色阻劑組成物含有本發明之著色組成物。 本發明之著色阻劑組成物較佳為除了本發明之著色組成物以外，亦含有鹼可溶性樹脂、光聚合性化合物、光聚合起始劑、有機溶劑，且視需要適當添加聚合抑制劑等各種添加劑而獲得者。
＜著色阻劑組成物之構成材料＞ （著色組成物） 本發明之著色阻劑組成物係使用本發明之著色組成物來製造。 相對於本發明之著色阻劑組成物之總固體成分，本發明之著色組成物之含量以質量分率計較佳為20～90質量%，更佳為30～80質量%。
（顏料分散劑） 作為顏料分散劑，可較佳地使用上述本發明之著色組成物中所記載者。 於本發明之著色阻劑組成物中，相對於所使用之全部顏料100質量份，顏料分散劑之含量較佳為0.1～50質量份，更佳為1～20質量份。
（黏合劑樹脂） 作為黏合劑樹脂，可較佳地使用本發明之著色組成物中所記載者。 於本發明之著色阻劑組成物中，黏合劑樹脂之含量較佳為於本發明之著色阻劑組成物之固體成分中為3～50質量%。
（光聚合起始劑） 作為光聚合起始劑，並無特別限定，例如可使用：二苯甲酮、N,N'-四乙基-4,4'-二胺基二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲胺基二苯甲酮、二苯乙二酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、安息香、安息香甲醚、安息香異丁醚、苄基二甲基縮酮、α-羥基異丁基苯酮、9-氧硫𠮿
Figure 109103548-0000-3
、2-氯9-氧硫𠮿
Figure 109103548-0000-3
、1-羥基環己基苯基酮、第三丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2,3-二氯蒽醌、3-氯-2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、1,4-萘醌、1,2-苯并蒽醌、1,4-二甲基蒽醌、2-苯基蒽醌、2-甲基-1[4-(甲硫基)苯基]-2-
Figure 109103548-A0304-12-0020-6
啉基丙烷-1-酮、三
Figure 109103548-A0304-12-0000-4
系光聚合起始劑、肟酯系光聚合起始劑（乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)等）等。該等光聚合起始劑可單獨或併用2種以上而使用。 於本發明之著色組成物中，相對於總固體成分，上述光聚合起始劑以質量分率計較佳為0.1～10質量%，更佳為0.5～6質量%。
（光聚合性單體） 作為光聚合性單體，可使用乙烯性不飽和化合物等。關於此處所使用之乙烯性不飽和化合物，就聚合性、交聯性等方面而言，較佳為於分子內具有2個以上之乙烯性不飽和鍵之化合物。該等光聚合性單體可單獨或併用2種以上而使用。
（有機溶劑） 作為有機溶劑，可較佳地使用本發明之著色組成物中所記載者。 於本發明之著色阻劑組成物中，關於有機溶劑之含量，就各材料之溶解性、顏料分散性、塗佈性等方面而言，相對於本發明之著色阻劑組成物之總量，較佳為5～90質量%。
（其他添加劑） 於本發明之著色阻劑組成物中，可視需要適當使用熱聚合抑制劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑等各種添加劑。
＜本發明之著色阻劑組成物之製造方法＞ 製造本發明之著色阻劑組成物之方法係本發明之較佳實施形態之一例，但本發明並非限定於此。 例如，可利用對本發明之著色組成物添加黏合劑樹脂、光聚合性化合物、光聚合起始劑、有機溶劑、及其他添加劑，並使用攪拌裝置等進行攪拌混合之方法。
本發明之著色阻劑組成物較佳為於25℃測定出之黏度為1.0～30.0 mPa·s。 若上述黏度未達1.0 mPa·s、或超過30.0 mPa·s，則存在對塗佈性造成不良影響之情況。 再者，上述黏度係將本發明之著色阻劑組成物緊塞於玻璃瓶等中，保存1日之後之使用E型黏度計（東機產業公司製造）所測定出之黏度。
本發明之著色阻劑組成物較佳為經時穩定性為0.8～1.2。 若上述經時穩定性未達0.8、或超過1.2，則存在對塗佈性、顯影性造成不良影響之情況。再者，上述經時穩定性係使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定將本發明之著色阻劑組成物緊塞於遮光玻璃瓶等且於低溫（5℃）保存1日後之25℃之黏度、及將本發明之著色組成物緊塞於遮光玻璃瓶等中且於低溫（5℃）保存7日後之25℃之黏度，以（於5℃保存7日後之黏度）/（於5℃保存1日後之黏度）之形式求出者。
本發明之著色阻劑組成物於形成厚度1 μm之阻劑圖案時之光學密度（OD值）較佳為1.00以上，更佳為1.20以上。 若上述光學密度（OD值）為1.25以上，則可認為遮蔽性充分。 再者，上述光學密度（OD值）係使用本發明之著色阻劑組成物形成1 μm之阻劑圖案，利用Macbeth濃度計（TD-931，商品名，Macbeth公司製造）所測定出之值。
本發明之著色阻劑組成物於形成厚度2 μm之硬化塗膜時之耐溶劑性較佳為0.6以下，更佳為0.5以下，進而較佳為0.4以下，尤佳為0.3以下，最佳為0.2以下。 再者，上述耐溶劑性係將厚度2 μm之硬化塗膜浸漬於被加熱至100℃之N-甲基吡咯啶酮中，並於100℃之烘箱內保溫10分鐘。其後，利用分光光度計（UV-2500PC）測定上述N-甲基吡咯啶酮之吸光度，將最大峰值之吸光度設為耐溶劑性之值。
本發明之著色組成物及著色阻劑組成物具有上述特性，故而可較佳地用作影像顯示裝置或觸控面板等之黑矩陣、黑色柱間隔物或黑色間隔壁材料。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種遮光性優異且耐溶劑性亦優異之著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物。
以下，使用實施例對本發明具體地進行說明，但本發明只要不脫離其主旨及應用範圍，則並非限定於該等。再者，只要未作特別說明，則於本實施例中，「份」及「%」分別表示「質量份」及「質量%」。
以下之實施例1～10、比較例1～3中所使用之著色組成物之材料係如下所述。 ＜顏料＞ P.V.23（C.I.顏料紫23） P.V.29（C.I.顏料紫29） P.V.32（C.I.顏料紫32） P.Y.139（C.I.顏料黃139） P.Y.185（C.I.顏料黃185） P.O.16（C.I.顏料橙16） P.O.64（C.I.顏料橙64） P.R.254（C.I.顏料紅254） P.B.60（C.I.顏料藍60） P.B.15：6（C.I.顏料藍15：6） ＜碳黑＞ TPK1104R（Cabot公司製造，吸油量：38 ml/100 g，pH：2.7） ＜黏合劑樹脂＞ BzMA/MAA（鹼可溶性樹脂，甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物，理論酸值：120 mgKOH/g，質量平均分子量：10000） ＜顏料分散劑＞ BYK-LPN-22102（BYK-Chemie公司製造，由具有顏料親和性基之片段與具有黏合劑相溶性基之片段所構成之丙烯酸系嵌段共聚物） ＜顏料分散助劑＞ 於100 ml三角燒瓶中加入30 ml濃硫酸，一面利用電磁攪拌器進行攪拌，一面投入10 g顏料紅2（上述式（3）及/或（4）所表示之化合物），於室溫攪拌30分鐘。於1 L燒杯中加入水50 g與冰50 g之混合物，將上述反應物注入至該冰水中，利用電磁攪拌器攪拌30分鐘。將其於減壓下進行過濾、水洗，並使所獲得之固體乾燥，而獲得顏料分散助劑1（上述通式（31）及/或（32）所表示之化合物：M＝H）12 g。 ＜有機溶劑＞ PGMEA（丙二醇單甲醚乙酸酯）
以下之實施例11～20、比較例4～6中所使用之著色阻劑組成物之材料係如下所述。 ＜黏合劑樹脂＞ SPC-3500（鹼可溶性樹脂，含有碳＝碳不飽和鍵，理論酸值：60 mgKOH/g，質量平均分子量：11000） ＜光聚合起始劑＞ Irgacure907（BASF公司製造，2-甲基-1[4-(甲硫基)苯基]-2-
Figure 109103548-A0304-12-0020-6
啉基丙烷-1-酮）與Irgacure OXE02（BASF公司製造，乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)）之1比1混合物 ＜光聚合性單體＞ DPEHA（光聚合性化合物，二新戊四醇六丙烯酸酯） ＜有機溶劑＞ PGMEA（丙二醇單甲醚乙酸酯）
＜實施例1～10、比較例1～3之著色組成物之製備＞ 以成為表1之組成（表1中之各材料之使用量為質量%）之方式將各種材料混合，利用珠磨機研磨一晝夜，而製備出實施例1～10、比較例1～3之著色組成物。
＜實施例11～20、比較例4～6之著色阻劑組成物之製備＞ 使用高速攪拌機，將實施例1～10、比較例1～3之各著色組成物與其他材料以成為表2之組成（表2中之各材料之使用量為質量%）之方式均勻地混合之後，利用孔徑3 μm之過濾器進行過濾，而獲得實施例11～20、比較例4～6之著色阻劑組成物。
（評價試驗） 針對實施例1～10、比較例1～3中所獲得之著色組成物、及實施例11～20、比較例4～6中所獲得之著色阻劑組成物，藉由下述之方法對流動性及經時穩定性進行評價，將其結果示於表1及2。 又，塗佈實施例11～20、比較例4～6中所獲得之著色阻劑組成物而形成阻劑圖案，對其光學密度及耐溶劑性進行評價，將其結果示於表2。
＜流動性＞ 針對實施例1～10、比較例1～3中所獲得之著色組成物，分別取至玻璃瓶中，塞緊，並於室溫（25℃）保存1日之後，使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定25℃之黏度[mPa·s]，而評價流動性。 針對實施例11～20、比較例4～6中所獲得之著色阻劑組成物，分別取至遮光玻璃瓶中，塞緊，並於低溫（5℃）保存1日之後，使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定25℃之黏度[mPa·s]，而評價流動性。
＜經時穩定性＞ 針對實施例1～10、比較例1～3中所獲得之著色組成物，分別取至玻璃瓶中，使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定將本發明之著色組成物緊塞於玻璃瓶等中且於室溫（25℃）保存1日後之25℃之黏度、及將本發明之著色組成物緊塞於玻璃瓶等中且於40℃保存7日後之25℃之黏度，以（於40℃保存7日後之黏度）/（於室溫保存1日後之黏度）之形式求出。 又，針對實施例11～20、比較例4～6中所獲得之著色阻劑組成物，使用E型黏度計（東機產業公司製造）測定緊塞於遮光玻璃瓶等中且於低溫（5℃）保存1日後之25℃之黏度、及將本發明之著色組成物緊塞於遮光玻璃瓶等中且於低溫（5℃）保存7日後之25℃之黏度，以（於5℃保存7日後之黏度）/（於5℃保存1日後之黏度）之形式求出。
＜光學密度（OD值）＞ 將實施例11～20、比較例4～6之著色阻劑組成物藉由旋轉塗佈機以成為膜厚1 μm之方式塗佈於玻璃基板上，以100℃預烤（prebake）3分鐘之後，利用高壓水銀燈進行曝光，進一步以230℃進行30分鐘後烘烤（post bake），而獲得僅於實體部形成之黑色阻劑圖案。利用Macbeth濃度計（TD-931，商品名，Macbeth公司製造）測定所獲得之各實體部之黑色阻劑圖案之光學密度（OD值）。
＜耐溶劑性＞ 將實施例11～20、比較例4～6之著色阻劑組成物藉由旋轉塗佈機以成為膜厚1 μm之方式塗佈於玻璃基板上，以100℃預烤3分鐘之後，利用高壓水銀燈進行曝光，進一步以230℃進行30分鐘後烘烤，而獲得僅於實體部形成之硬化塗膜。 將所獲得之各實體部之硬化塗膜浸漬於被加熱至100℃之N-甲基吡咯啶酮中，於100℃之烘箱內保溫10分鐘。其後，利用分光光度計（UV-2500PC）測定上述N-甲基吡咯啶酮之吸光度，將最大峰值之吸光度設為耐溶劑性之值。
[表1]
   實施例 比較例
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 1 2 3
   P.V.23 - - - 3.0 - - - 3.5 - - - - -
P.V.29 3.0 3.0 4.5 - 3.5 3.5 4.5 - - - 3.0 3.0 3.0
P.V.32 - - - - - - - - 3.0 - - - -
P.Y.139 - 4.0 2.5 - - 4.0 3.0 - - - - - -
P.Y.185 - - - - - - - - - - 4.0 - -
P.O.16 4.0 - - 4.0 4.0 - - 4.0 4.0 4.0 - - 4.0
P.O.64 - - - - - - - - - - - 4.0 -
P.R.254 - - - - - - - - - 3.0 - - -
P.B.60 4.0 4.0 4.0 4.0 4.5 4.5 4.5 4.5 4.0 4.0 4.0 4.0 -
P.B.15：6 - - - - - - - - - - - - 4.0
碳黑 1.0 1.0 1.0 1.0 - - - - 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
顏料分散助劑 顏料分散助劑1 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
顏料分散劑 LPN22102 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
樹脂 鹼可溶性樹脂 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
有機溶劑 PGMEA 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0 82.0
合計 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0
固體成分中之顏料% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7% 66.7%
評價 流動性[mPa·s] 5.0 4.0 4.5 5.5 5.5 4.5 5.0 6.0 5.5 5.0 4.5 4.0 5.5
經時穩定性 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00
[表2]
   實施例 比較例
11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 4 5 6
著色組成物 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 比較例1 比較例2 比較例3
70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00 70.00
鹼可溶性樹脂 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00 7.00
DPEHA 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00 2.00
光聚合起始劑 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00
PGMEA 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00 20.00
合計 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00 100.00
評價 流動性[mPa·s] 5.0 4.0 4.5 5.5 5.5 4.5 5.0 6.0 5.5 5.0 4.5 4.0 5.5
經時穩定性 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00 1.00
OD值（1 μm） 1.40 1.35 1.40 1.40 1.40 1.25 1.30 1.30 1.25 1.25 1.30 1.35 1.45
耐溶劑性 0.50 0.30 0.20 0.60 0.50 0.35 0.25 0.60 0.60 0.55 1.00 0.80 0.80
確認到實施例之著色組成物及著色阻劑組成物之流動性及經時穩定性優異。 又，確認到實施例之著色阻劑組成物之OD值為1.25以上，且耐溶劑性為0.60以下，遮光性及耐溶劑性優異。 實施例之著色組成物及著色阻劑組成物具有上述特性，故而可較佳地用作影像顯示裝置或觸控面板等之黑矩陣、黑色柱間隔物或黑色間隔壁材料。 另一方面，於比較例之著色組成物及著色阻劑組成物中，無遮光性優異且耐溶劑性亦優異者。 [產業上之可利用性]
根據本發明，可提供一種遮光性優異且耐溶劑性亦優異之著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物。
無
無

Claims (5)

  1. 一種著色組成物，其含有顏料及黏合劑樹脂，且 上述顏料包含選自由C.I.顏料橙16及C.I.顏料黃139所組成之群中之1種以上、以及 C.I.顏料藍60。
  2. 如請求項1之著色組成物，其中，上述顏料進而包含選自由C.I.顏料紫23及C.I.顏料紫29所組成之群中之1種以上。
  3. 如請求項1或2之著色組成物，其被用作黑矩陣、黑色柱間隔物（black column spacer）或黑色間隔壁材料。
  4. 一種著色阻劑組成物，其係使用請求項1或2之著色組成物而製造。
  5. 如請求項4之著色阻劑組成物，其被用作黑矩陣、黑色柱間隔物或黑色間隔壁材料。
TW109103548A 2019-02-21 2020-02-05 著色組成物、及著色阻劑組成物 TWI841676B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP2019-029452 2019-02-21
JP2019029452A JP7299036B2 (ja) 2019-02-21 2019-02-21 着色組成物、及び、着色レジスト組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202041607A true TW202041607A (zh) 2020-11-16
TWI841676B TWI841676B (zh) 2024-05-11

Family

ID=72188939

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109103548A TWI841676B (zh) 2019-02-21 2020-02-05 著色組成物、及著色阻劑組成物

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP7299036B2 (zh)
KR (1) KR20200102356A (zh)
TW (1) TWI841676B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022160165A (ja) * 2021-04-06 2022-10-19 北越コーポレーション株式会社 包装用紙

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004219809A (ja) 2003-01-16 2004-08-05 Fuji Photo Film Co Ltd 遮光性感光樹脂組成物、遮光性感光樹脂転写材料、遮光性画像の形成方法、及びカラーフィルター
JP2005189720A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、および、画像形成方法
JP5442960B2 (ja) 2008-05-21 2014-03-19 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用着色組成物
JP5739134B2 (ja) 2009-10-26 2015-06-24 サカタインクス株式会社 ブラックマトリックス用着色組成物
JP2013115268A (ja) 2011-11-29 2013-06-10 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
JP2016177190A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 三菱化学株式会社 着色スペーサー形成用感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
KR20230062678A (ko) * 2016-12-02 2023-05-09 미쯔비시 케미컬 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 안료 분산액, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 화상 표시 장치 및 조명
JP2019207306A (ja) 2018-05-29 2019-12-05 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 黒色感光性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TWI841676B (zh) 2024-05-11
JP2023118756A (ja) 2023-08-25
JP7299036B2 (ja) 2023-06-27
JP7564294B2 (ja) 2024-10-08
KR20200102356A (ko) 2020-08-31
JP2020132777A (ja) 2020-08-31
CN111596523A (zh) 2020-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5442960B2 (ja) ブラックマトリックス用着色組成物
TW202033673A (zh) 著色組成物、及含有其之著色阻劑組成物
TWI608057B (zh) 彩色濾光片用藍色顏料分散組合物及含有其之彩色濾光片用藍色顏料分散抗蝕劑組合物
JP6960304B2 (ja) ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物
TWI663221B (zh) 黑矩陣用顏料分散物及含有其之黑矩陣用顏料分散光阻組成物
TWI791651B (zh) 黑色顏料分散組成物及含有其的黑色顏料分散抗蝕劑組成物
JP6914807B2 (ja) 黒色着色組成物及びそれを含有する黒色着色レジスト組成物
JP6113466B2 (ja) ブラックマトリックス用顔料分散組成物及びそれを含有するブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物
JP7564294B2 (ja) 着色組成物、及び、着色レジスト組成物
CN111596523B (zh) 着色组合物以及着色抗蚀剂组合物
CN111596522B (zh) 着色组合物以及含有其的着色抗蚀剂组合物
JP7507006B2 (ja) ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
JP7495272B2 (ja) ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
JP7538014B2 (ja) ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス
TWI855157B (zh) 濾色器用紅色著色組成物、濾色器用紅色著色阻劑組成物、濾色器、及顯示裝置
TW202231797A (zh) 黑矩陣用顏料分散組成物、黑矩陣用光阻組成物、及黑矩陣
TWI812654B (zh) 顯示裝置的彩色濾光片用藍色顏料分散組成物及顯示裝置的彩色濾光片用藍色顏料分散抗蝕劑組成物
JP2021162850A (ja) カラーフィルター用赤色顔料分散組成物
TW202244201A (zh) 黑矩陣用顏料分散組成物、黑矩陣用光阻組成物、及黑矩陣
JP2023130910A (ja) ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス