TW201624080A - 光學薄膜及顯示器裝置 - Google Patents
光學薄膜及顯示器裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201624080A TW201624080A TW104108794A TW104108794A TW201624080A TW 201624080 A TW201624080 A TW 201624080A TW 104108794 A TW104108794 A TW 104108794A TW 104108794 A TW104108794 A TW 104108794A TW 201624080 A TW201624080 A TW 201624080A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- material layer
- trapezoidal
- optical film
- display device
- Prior art date
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 162
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/003—Light absorbing elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/856—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
- H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/878—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
- H10K59/8792—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. black layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
一種光學薄膜及顯示器裝置。光學薄膜包括多個梯形單元嵌入於一材料層用以傳輸顯示單元發出的光線，光線藉由梯形單元以及材料層之間的一反射面反射。光線由每一個梯形單元的一第一端面出射且由梯形單元的一第二端面入射，其中第一端面的面積與第二端面的面積之一面積比介於0.2至0.6。此外，光吸收層可以形成於光學薄膜的光輸出端以吸收環境光。
Description
本揭露是有關於一種光學薄膜及顯示器裝置，且特別是有關於一種應用此光學薄膜之顯示器裝置。
現今的時代為3C時代：也就是計算機、通訊裝置以及消費電子產品時代。在日常生活中，存在許多種類的信息產品，如行動電話(mobile phones)、個人數字助理(personal digital assistants,PDAs)、全球定位衛星(global positioning satellite)系統以及數位相機等。許多的信息產品使用平面顯示器做為主要通訊媒介，例如：液晶顯示器(liquid crystal displays)、電漿顯示器(plasma displays)以及有機發光二極體(organic light emitting diode,OLED)面板。有機發光二極體面板不僅具有較高的亮度、較低的功率消耗、較高的對比度、快速響應以及較低的驅動電壓，還可適應於現今通訊設備微型化的趨勢。因此，大量的有機發光二極體面板產品近年來持續發展中。
針對OLED面板，通常採用金屬電極來提升光萃取效率。然而，在高環境光亮度的環境中，環境光可能會進入OLED面板，並且被具有高反射率的金屬電極反射，從而降低顯示器面板的視覺對比度和影像品質。
根據本揭露的一實施例，光學薄膜包括透明基板，材料層，多個梯形單元以及光吸收層。透明基板具有承載表面，材料層置於透明基板的承載表面上。多個梯形單元設置於材料層內並且每一個梯形單元有靠近承載表面的第一端面以及遠離承載表面的第二端面，其中第一端面的面積與第二端面的面積的比例大於或等於0.2，且小於或等於0.6。反射面形成於每一個梯形單元以及材料層之間，用以反射由梯形單元的第二端面進入的光線，光線被反射面反射並由梯形單元的第一端面射出。此外，光吸收層設置於承載表面上以及位於透明基板和材料層之間，其中光吸收層具有多個開口，且所述多個開口在承載表面上的垂直投影交疊於所述多個梯形單元的第一端面在承載表面上的垂直投影。
根據本揭露的另一實施例，顯示器裝置包括具有顯示側的顯示單元以及設置於顯示單元的顯示側上的光學薄膜。光學薄膜包含透明基板、材料層、多個梯形單元以及光吸收層。透明基板具有面對顯示單元的承載表面，材料層設置於透明基板的承載表面上。多個梯形單元置於材料層中，且每一個梯形單元具有靠
近承載表面的第一端面以及遠離承載表面的第二端面。第一端面的面積與第二端面的面積的比例大於或等於0.2，且小於或等於0.6。反射面形成於每一個梯形單元以及材料層之間，以反射由顯示單元發射的光線。光線由第二端面進入梯形單元，被反射面反射後，經由梯形單元的第一端面射出。光吸收層設置於承載表面上，且位於透明基板以及材料層之間。光吸收層具有多個開口，且所述多個開口在承載表面上的垂直投影交疊於所述多個梯形單元的第一端面在承載表面上的垂直投影。
為讓本揭露能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
10、800‧‧‧顯示器裝置
100‧‧‧顯示單元
101‧‧‧顯示側
102‧‧‧第一電極
104‧‧‧光調變層
106‧‧‧第二電極
110‧‧‧基板
200、700、702、704、900、1000、1100‧‧‧光學薄膜
210、1110、1210、1310、1610‧‧‧透明基板
212、1212、1312、1612‧‧‧承載表面
220、720、820、920、1020、1120、1420、1520、1620‧‧‧材
料層
230、730、830、930、1030、1130、1430、1530、1630‧‧‧梯形單元
232、832、1632‧‧‧第一端面
234、824、1434、1534‧‧‧第二端面
240、1040、1140、1240、1340、1640‧‧‧光吸收層
242‧‧‧開口
750、752、754、850‧‧‧襯層
922‧‧‧主體部分
924‧‧‧空隙
1050‧‧‧反射層
1150‧‧‧載板
1160‧‧‧離型層
1250、1350、1850‧‧‧阻氣層
1424、1524‧‧‧第二表面
1550、1650‧‧‧平坦層
1622‧‧‧第一表面
1750‧‧‧黏著層
S‧‧‧全反射面
S’‧‧‧反射面
L‧‧‧光線
V1‧‧‧部分的環境光
V2‧‧‧其他部分的環境光
H‧‧‧梯形單元高度
R1‧‧‧第一端面的直徑
R2‧‧‧第二端面的直徑
r‧‧‧第一端面與第二端面的面積比
D‧‧‧光學薄膜與顯示單元的距離
P‧‧‧像素
圖1是依照本揭露的一實施例所繪示的應用光學薄膜的顯示器裝置。
圖2為圖1的顯示器裝置的部份放大圖。
圖3為光穿透率與梯形單元幾何關係的圖表。
圖4為光反射率與梯形單元幾何關係的圖表。
圖5為光萃取效率與距離的關係圖表。
圖6為總體反射與有效反射與距離的關係圖表。
圖7A為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖7B為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖7C為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖8為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖9為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖10為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖11為依照本揭露的另一實施例中所繪示的光學薄膜。
圖12以及圖13為依照本揭露的另一實施例中所繪示的不同光學薄膜。
圖14為依照本揭露的另一實施例中所繪示的光學薄膜。
圖15為依照本揭露的另一實施例中所繪示的光學薄膜。
圖16為依照本揭露的另一實施例中所繪示的光學薄膜。
圖17為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
圖18為依照本揭露的另一實施例中所繪示的顯示器裝置。
以下伴隨圖式來詳細說明本揭露的實施例，在可能的情況下，相同的元件符號在圖式與說明中被用來指代相同或相似的部份。
圖1為根據本揭露之一實施例之光學薄膜應用於顯示器裝置的示意圖。本實施例之顯示器裝置10包括一顯示單元100具有一顯示側101以及一光學薄膜200置於顯示單元100的顯示側101上。於此，顯示單元100可為液晶顯示器(liquid crystal display,LCD)、電漿顯示器(plasma display)、有機發光二極體顯示器(OLED
display)、電潤濕顯示器(electrowetting display,EWD)、電泳顯示器(electro-phoretic,EPD)、電致變色顯示器(electrochromic display,ECD)或是其他可應用的顯示器裝置，並從顯示側101顯示影像或者其他的視覺資訊。
光學薄膜200包括一透明基板210，其具有面對顯示單元100的一承載表面212。透明基板210的材料至少為聚酰亞胺(polyimide,PI)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚醚碸(polyethersulfone,PES)、聚丙烯酸酯(polyacrylate,PA)、聚降冰片烯(polynorbornene,PNB)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚醚醚酮(polyetheretherketone,PEEK)、聚間苯二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate,PEN)、聚醚酰亞胺(polyetherimide,PEI)和玻璃等至少其中之一。
一材料層220置於透明基板210的承載表面212上。材料層220可以由聚合物、樹脂、光感應樹脂，正光阻或負光阻等製成。此外，多個梯形單元230置於材料層220之間，每一個梯形單元230具有靠近於承載表面212的一第一端面232以及遠離承載表面212的一第二端面234。一全反射面S形成於每一個梯形單元230以及材料層220之間，並用以反射從顯示單元100發出以及經由第二端面234進入梯形單元230的一光線L。被全反射面S反射的光線L經由梯形單元230的第一端面232射出。在本實施例中，每一個梯形單元的形狀可以是橢圓柱體、正方型柱體、矩形柱體、菱形柱體或不規則柱體。
一光吸收層240置於承載表面212上並位於透明基板210以及材料層220之間。於此，光吸收層240可為黑矩陣(black matrix,BM)，具有多個開口242，其中多個開口242在承載表面212上的一垂直投影交疊於多個梯形單元230在承載表面212上的第一端面232的一垂直投影。換句話說，光吸收層240曝露出梯形單元230的第一端面232，並用以使光線L從梯形單元230經由第一端面232射出。
雖然圖1中的光吸收層240的開口242面積等於梯形單元230的第一端面232的面積，但本揭露並不侷限於此。在其他實施例中，光吸收層240的開口242面積可以大於或小於梯形單元230的第一端面232的面積。
圖2更繪示了圖1中顯示器裝置10的部份放大圖。請參照圖1以及圖2，從顯示單元100發出的光線L可以經由光學薄膜200中的梯形單元230傳送以維持顯示單元100的高光萃取效率。此外，一部份照射至光學薄膜200的部分的環境光V1被光吸收層240所吸收，而其他部份的環境光V2經由第一端面232入射於梯形單元230，並可由虛線所示的路徑返回。因此，在本揭露的其中一實施例中，只有少部分照射至光學薄膜200的環境光會被傳送至使用者的眼睛。即使顯示器裝置10置於高環境光亮度的環境下，依然可以得到高視覺對比度。
本實施例可進一步定義梯形單元230的幾何圖案，以達到較好的光萃取效率。以圓柱形梯形單元230為例，第一端面232
以及第二端面234為圓形，並且分別具有第一端面的直徑R1以及第二端面的直徑R2，如圖2所示。每一個梯形單元230的高度為H。圖3繪示光穿透率與梯形單元230幾何關係的圖表。圖4繪示光反射率與梯形單元230幾何關係的圖表。在圖3以及圖4的模擬圖中，梯形單元230的高度H大約為20μm，X軸為第二端面的直徑R2，Y軸為數值r，r定義為第一端面232面積以及第二端面234的面積比。在一般狀況下，高光穿透率適用於提升光萃取效率而低反射率有助於減低環境光的反射。根據圖3以及圖4，當r大於0.2時，光穿透率可高於40%；而當r小於0.6時，光反射率低於18%。因此r可以在範圍0.2至0.6，以及可被進一步限定在0.25至0.5或者0.35至0.45以符合不同實際上的需求。
光學薄膜200與顯示單元100的距離為D。圖5繪示了光萃取效率與距離D的關係圖表。圖6繪示了總體反射以及有效反射對距離D的關係圖表。於此，「總體反射」代表的是不同角度的反射光總和，以及「有效反射」代表的是進入使用者眼睛的反射光。如圖5以及圖6所示，當D大於250μm時，光萃取效率降低，而總體反射以及有效反射則幾乎維持不變。因此，距離D可以被考慮在小於或等於250μm的範圍內，舉例而言，距離D可以為小於或等於100μm或者小於或等於50μm。
請再參照圖1，於此實施例中，梯形單元230可以由光阻材料製成，如聚合物、樹脂、光感應樹脂、正光阻、負光阻等，其折射率範圍從1.3至1.9。而上述的材料層220具有折射率範圍
從1.0至1.8。每一個梯形單元230的折射率高於材料層220的折射率，從而在每一個梯形單元230以及材料層220之間的交界形成全反射面S。
此外，在本揭露的一實施例中，顯示單元100包括多個像素P，每一個像素P的面積大於每一個梯形單元230的第二端面234的面積，這樣在組裝顯示單元100以及光學薄膜200時可省略精確對準的過程。然而，在本揭露的其他實施例中，第二端面234的面積更可以等於每一個像素P的面積，以達到更高的光利用效率。
光學薄膜的結構或者具有全反射面S的顯示器裝置並不限於上述所提到的實施例。其它實施例的顯示器裝置或者光學薄膜描述於下列的圖7A至圖18。在下列的敘述中，主要描述各個實施例的不同之處，相同的技術內容則不再贅述。
圖7A為根據本揭露的另一實施例繪示的顯示器裝置。在本實施例中，光學薄膜700更包括了一襯層750，介於每一個梯形單元730以及材料層720之間。襯層750可以由單層或者多層無機材料製成，包括如：矽氧化物(silicon oxide,SiOx)、氮化矽(silicon nitride,SiNx)、銦錫氧化物(indium tin oxide,ITO)、氧化鋅(zinc oxide,ZnO)等，其折射率範圍由1.7至2.5。材料層720可以由光阻所製成，其中光阻折射率範圍由1.3至1.7。襯層750的折射率高於材料層720的折射率。因此，可在襯層750以及材料層720之間的交界形成全反射面S。由於此襯層750的存在，梯形單元
730的材料選擇更具彈性，並且材料可具有更高的、更低的或者甚至是等於材料層720的折射率。
圖7B為根據本揭露的一實施例之顯示器裝置。在此實施例中，光學薄膜702相似於圖7A的光學薄膜700，除了介於每一個梯形單元730及材料層720間的襯層752的材料可以為金屬，例如鋁、鉻、鉬、銀、釹或者是上述金屬之合金。襯層752可以反射光線，在襯層752以及梯形單元730之間的交界形成反射面S’。
在前述的實施例中，襯層752位於每一個梯形單元730的側壁。然而在其他實施例中，襯層752的位置可以依照實際需求而改變。圖7C為根據本揭露另一實施例所繪示的顯示器裝置。在此實施例中，光學薄膜704相似於圖7B的光學薄膜702，除了襯層754不僅介於每一個梯形單元730以及材料層720之間，也覆蓋了材料層720的底部表面。從而，部份由顯示單元100發出朝向材料層720的光線可以藉由在材料層720上的底部表面的襯層754反射，使更多的光線可以進入梯形單元730，以增進光萃取效率。
圖8為根據本揭露另一實施例中之顯示器裝置800。在此實施例中，襯層850不僅介於每一個梯形單元830以及材料層820之間，也覆蓋了每一個梯形單元830的第一端面832以及材料層820的第二端面824。襯層850可以由單層或者多層無機材料層製成，包括如：矽氧化物(silicon oxide,SiOx)、氮化矽(silicon nitride,
SiNx)、銦錫氧化物(indium tin oxide,ITO)、氧化鋅(zinc oxide,ZnO)等，其折射率範圍介於1.7至2.5。梯形單元830可以由具有折射率低於1.7(例如1.3~1.7)的樹脂材料製成。襯層850可以在形成梯形單元830之後被形成。全反射面S可以形成於襯層850以及材料層820的交界。
圖9為根據本揭露另一實施例中之顯示器裝置。在此實施例中，當製作光學薄膜900時，形成材料層920的材料並不會填滿梯形單元930之間的空隙。即，材料層920包括一主體部份922與介於梯形單元930之間的一空隙924。一般而言，空氣的折射率為1，梯形單元930的材料(如光阻)一般有較高的折射率，因此可以在梯形單元930以及空隙924的交界形成全反射面S。
圖10為根據本揭露另一實施例中之顯示器裝置。在此實施例中，一反射層1050形成於光吸收層1040以及材料層1020之間。在製造光學薄膜1000的過程中，反射層1050以及光吸收層1040可以藉由相同的光罩進行圖案化，對於反射層1050以及光吸收層1040只需進行一次曝光製程。另外，反射層1050以及光吸收層1040也可以藉由相同的光罩分別對反射層1050以及光吸收層1040分別進行不同的曝光製程。因此，反射層1050以及光吸收層1040圖案為實質上相同。反射層1050的材料包括鋁、鉻、鉬、銀、釹或其他上述金屬的合金。部份的光線L可被反射層1050反射以及經由梯形單元1030射出，如虛線所示。
圖11為根據本揭露另一實施例中之光學薄膜。在此實施
例中，光學薄膜1100可以在一載板1150上製造，其中透明基板1110經由一離型層1160設置於載板1150上，光吸收層1140、材料層1120以及梯形單元1130形成於透明基板1110上。載板1150可以是玻璃基板或者是矽晶圓。載板1150以及離型層1160在光學薄膜1100與顯示單元100接合後可以被移除(如圖1所示)。
在其他實施例中，光學薄膜可以提供阻氣層以避免氣體或溼氣進入光學薄膜或者顯示器裝置。圖12以及圖13為根據本揭露另一實施例中之不同的光學薄膜。如圖12所示，一阻氣層1250形成於透明基板1210的承載表面1212上，光吸收層1240置於阻氣層1250上。如圖13所示，阻氣層1350形成於透明基板1310的承載表面1312以及光吸收層1340上。阻氣層1250或1350可包括一有機層、一無機層或者至少兩層交疊的有機層以及無機層堆疊結構。
如上述的實施方式，每一個梯形單元的第二端面以及材料層的第二平面可以為共平面。或者，在其他實施例中，每一個梯形單元的第二端面以及材料層的第二平面也可為非共平面。圖14為根據本揭露另一實施例中之光學薄膜，根據圖14，每一個梯形單元1430的第二端面1434被材料層1420所覆蓋。由此，材料層1420的一第二表面1424可以提供一個平坦的平面用於接續的接合製程。
請參考圖15，圖15為根據本揭露另一實施例中之光學薄膜，在梯形單元1530的製造過程後，梯形單元1530有可能會從
材料層1520突出。根據圖15，一平坦層1550被形成以覆蓋於每一個梯形單元1530的第二端面1534以及材料層1520的一第二表面1524以提供一個平坦的平面用於後續的接合製程。
圖16為根據本揭露另一實施例中之光學薄膜。在此實施例中，在形成材料層1620以及梯形單元1630之前，平坦層1650被形成以覆蓋透明基板1610的承載表面1612以及光吸收層1640。藉由形成平坦層1650，以提供平坦表面於後續的材料層1620以及梯形單元1630的製程，而所形成的每一個梯形單元1630的第一端面1632與材料層1620的一第一表面1622為共平面。
圖17為根據本揭露另一實施例中之顯示器裝置。如圖17，光學薄膜200經由一黏著層1750黏結顯示單元100，本實施例的顯示單元100舉例可為一OLED顯示器，包括一基板110、一第一電極102、相對於一第一電極102的一第二電極106、一光調變層104介於第一電極102以及第二電極106之間，並用以發射一光線L(如圖1所示)。第一電極102置於靠近材料層220之一端，第二電極106則置於遠離材料層220之一端。光調變層104可以為OLED的堆疊結構，包括一電子注入層，一電子傳輸層、一發光層、一電洞傳輸層以及一電洞注入層。黏著層1750的材料例如為丙烯酸樹脂(壓克力樹脂)或環氧樹脂，而黏著層1750的形態例如為一感壓式膠材或一填充式膠材。黏著層1750的厚度可以小於或等於250μm，黏著層1750的厚度例如可以小於或等於100μm或小於等於50μm。
圖18為根據本揭露另一實施例中之顯示器裝置。圖18的顯示器裝置10相似於圖17的顯示器裝置，除了一阻氣層1850形成於顯示單元100以及光學薄膜200之間，以避免氣體或濕氣進入顯示單元100或光學薄膜200。
雖然本揭露已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本揭露的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧顯示器裝置
100‧‧‧顯示單元
101‧‧‧顯示側
200‧‧‧光學薄膜
210‧‧‧透明基板
212‧‧‧承載表面
232‧‧‧第一端面
234‧‧‧第二端面
242‧‧‧開口
220‧‧‧材料層
230‧‧‧梯形單元
240‧‧‧光吸收層
S‧‧‧全反射面
L‧‧‧光線
Claims (20)
- 一種光學薄膜，包括：一透明基板，具有一承載表面；一材料層，設置於該透明基板的該承載表面上；多個梯形單元，設置於該材料層中，各該梯形單元具有靠近於該承載表面的一第一端面以及遠離該承載表面的一第二端面，其中該第一端面的面積與該第二端面的面積的一比例大於或等於0.2，且小於或等於0.6，以及一反射面形成於各該梯形單元以及該材料層之間，以反射由該第二端面進入該梯形單元的一光線，該光線被該反射面反射並經由該梯形單元的該第一端面射出；以及一光吸收層，設置於該承載表面上，且位於該透明基板以及該材料層之間，其中該光吸收層具有多個開口，且該些開口在該承載表面上的一垂直投影交疊於該些梯形單元的該些第一端面在該承載表面上的一垂直投影。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，更包括：一襯層，介於各該梯形單元以及該材料層之間，其中該襯層的折射率高於該材料層的折射率，且一全反射面位於該襯層與該材料層的一界面上。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，更包括：一襯層，介於各該梯形單元以及該材料層之間，其中該襯層由金屬或金屬合金製成，且該反射面位於該襯層與各該梯形單元的一界面上。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，更包括：一反射層，位於該光吸收層以及該材料層之間，其中該反射層以及該光吸收層的圖案為實質上相同。
- 一顯示器裝置，包括：一顯示單元，具有一顯示側；一光學薄膜，設置於該顯示單元的該顯示側上，該光學薄膜包括：一透明基板，具有面對該顯示單元的一承載表面；一材料層，設置於該透明基板的該承載表面上；多個梯形單元，設置於該材料層中，以及各該梯形單元具有靠近該承載表面的一第一端面以及遠離該承載表面的一第二端面，其中該第一端面的面積與該第二端面的面積的一比例大於或等於0.2，且小於或等於0.6，以及一反射面形成於各該梯形單元以及該材料層之間，以反射由該顯示單元發射的一光線，該光線由該第二端面進入該梯形單元，且該光線被該反射面反射，並經由該梯形單元的第一端面射出；以及一光吸收層，設置於該承載表面上，且位於該透明基板以及該材料層之間，其中該光吸收層具有多個開口，且該些開口在該承載表面上的一垂直投影交疊於該些梯形單元的該些第一端面在該承載表面上的一垂直投影。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中各該梯形 單元的折射率高於該材料層的折射率，以及該反射面為一全反射面，位於該梯形單元以及該材料層之一界面上。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一襯層，介於各該梯形單元以及該材料層，該襯層的折射率高於該材料層的折射率，以及一全反射面，位於該襯層與該材料層的一界面上。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一襯層，介於各該梯形單元以及該材料層，其中該襯層由金屬或金屬合金製成，該反射面位於該襯層以及該梯形單元的一界面上。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一反射層，位於該光吸收層以及該材料層之間，該反射層的圖案以及該光吸收層的圖案實質上相同。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一阻氣層，覆蓋該承載表面，並且設置於該透明基板以及該光吸收層之間。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括： 一阻氣層，覆蓋該承載表面以及該光吸收層。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，更包括：一黏著層，設置於該顯示單元以及該光學薄膜之間。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，更包括：一阻氣層，設置於該顯示單元以及該光學薄膜之間。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中各該梯形單元的該第二端面被該材料層覆蓋。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一平坦層，覆蓋該承載表面以及該光吸收層，並提供一個平坦表面以形成該材料層以及該些梯形單元，其中各該梯形單元的該第一端面與該材料層的一第一表面為共平面。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該光學薄膜更包括：一平坦層，覆蓋各該梯形單元的該第二端面以及該材料層的一第二表面。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該顯示單元包括多個像素，且各該像素的面積大於各該梯形單元的該第二端面的面積。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該顯示單元包括：一第一電極，靠近於該材料層； 一第二電極，遠離於該材料層；以及一光調變層，介於該第一電極與該第二電極之間以發射光線。
- 如申請專利範圍第18項所述的顯示器裝置，其中該顯示單元與該光學薄膜之間有一距離小於或等於250μm。
- 如申請專利範圍第5項所述的顯示器裝置，其中該第一端面的該面積與該第二端面的該面積的該比例大於或等於0.25，並且小於或等於0.5。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510298596.2A CN106199771A (zh) | 2014-12-19 | 2015-06-03 | 光学薄膜及显示器装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14/576,221 US20160178812A1 (en) | 2014-12-19 | 2014-12-19 | Optical film and display assembly applying the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201624080A true TW201624080A (zh) | 2016-07-01 |
| TWI561900B TWI561900B (en) | 2016-12-11 |
Family
ID=56129169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW104108794A TWI561900B (en) | 2014-12-19 | 2015-03-19 | Optical film and display assembly applying the same |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20160178812A1 (zh) |
| CN (1) | CN106199771A (zh) |
| TW (1) | TWI561900B (zh) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107579166B (zh) * | 2017-08-31 | 2024-04-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、显示装置及显示面板制作方法 |
| WO2019062187A1 (zh) * | 2017-09-30 | 2019-04-04 | 云谷（固安）科技有限公司 | 显示屏以及电子设备 |
| TWI671546B (zh) * | 2018-01-08 | 2019-09-11 | 友達光電股份有限公司 | 光學膜片及顯示模組 |
| US10473851B2 (en) * | 2018-01-08 | 2019-11-12 | Au Optronics Corporation | Optical film and display module |
| KR20200063591A (ko) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 디스플레이장치 |
| KR20200085968A (ko) * | 2019-01-07 | 2020-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
| TWI696306B (zh) * | 2019-01-25 | 2020-06-11 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板 |
| KR20200111859A (ko) * | 2019-03-19 | 2020-10-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 전자 장치 |
| EP4095914A4 (en) | 2020-01-23 | 2023-01-25 | BOE Technology Group Co., Ltd. | DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, AND DISPLAY DEVICE |
| CN112731576B (zh) * | 2020-12-29 | 2023-01-31 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 反射膜及其制备方法和应用 |
| CN113764494B (zh) * | 2021-09-08 | 2024-04-09 | 成都京东方光电科技有限公司 | 一种彩膜结构及其制备方法、显示装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3748406B2 (ja) * | 2001-12-18 | 2006-02-22 | 株式会社日立製作所 | 表示装置 |
| JP3719436B2 (ja) * | 2002-03-06 | 2005-11-24 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、および電子機器 |
| KR100658077B1 (ko) * | 2003-03-27 | 2006-12-15 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시장치 |
| JP4552447B2 (ja) * | 2004-02-09 | 2010-09-29 | 株式会社日立製作所 | 前面板およびそれを用いた表示装置 |
| JP2008501128A (ja) * | 2004-05-31 | 2008-01-17 | セコニックス カンパニー リミテッド | テーパ付導波管を有するディスプレイ用光学装置及びその製造方法 |
| FR2893719A1 (fr) * | 2005-11-24 | 2007-05-25 | Thomson Licensing Sas | Panneau a plasma dote d'un reseau de concentrateurs |
| US20070145892A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-06-28 | Kuang-Jung Chen | Electro-luminescent display panel and electronic device using the same |
| KR100740227B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2007-07-18 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이 패널 |
| CN201156136Y (zh) * | 2008-01-31 | 2008-11-26 | 甘国工 | 显示器对比度增强膜结构及用该膜结构的显示器或显示屏 |
| US20100079870A1 (en) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Glare reduction film for display screens |
| WO2011158752A1 (ja) * | 2010-06-15 | 2011-12-22 | シャープ株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
| KR20150019620A (ko) * | 2013-08-14 | 2015-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시 장치 |
-
2014
- 2014-12-19 US US14/576,221 patent/US20160178812A1/en not_active Abandoned
-
2015
- 2015-03-19 TW TW104108794A patent/TWI561900B/zh active
- 2015-06-03 CN CN201510298596.2A patent/CN106199771A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20160178812A1 (en) | 2016-06-23 |
| TWI561900B (en) | 2016-12-11 |
| CN106199771A (zh) | 2016-12-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201624080A (zh) | 光學薄膜及顯示器裝置 | |
| US9921414B2 (en) | Display device | |
| CN107579166B (zh) | 显示面板、显示装置及显示面板制作方法 | |
| KR20200118266A (ko) | 표시 장치 및 이의 제조 방법 | |
| CN111554727B (zh) | 显示面板和显示装置 | |
| US9337449B2 (en) | Organic light-emitting device and image display system employing the same | |
| WO2022111076A1 (zh) | 显示基板及其制造方法和显示装置 | |
| WO2016041275A1 (zh) | 有机电致发光器件及显示装置 | |
| US20220199959A1 (en) | Display panel and formation method thereof, and display apparatus | |
| KR20210012086A (ko) | 표시 장치 | |
| CN114242913A (zh) | 显示面板及电子装置 | |
| WO2019096097A1 (zh) | 显示面板及其驱动方法、显示装置 | |
| KR20210016233A (ko) | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 | |
| KR20200120787A (ko) | 표시 장치 | |
| US10770688B2 (en) | Display device | |
| KR20200078796A (ko) | 표시 장치 및 그 제조방법 | |
| WO2020024765A1 (zh) | 显示面板及其制造方法、显示装置 | |
| US11307458B2 (en) | Display device | |
| US20090267501A1 (en) | Active matrix display and image display system using same | |
| CN114695419A (zh) | 显示装置和拼接式显示装置 | |
| CN113725261A (zh) | 显示装置 | |
| US20230038990A1 (en) | Display device | |
| KR20200059551A (ko) | 유기발광 표시장치 및 이의 커버 윈도우 제조 방법 | |
| US20240155921A1 (en) | Display device and method for manufacturing the same | |
| KR20220131457A (ko) | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |