TW201241582A - Exposure device using micro lens array - Google Patents

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201241582 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 【0001】 鏡陣列之曝光裝置，特別是關於 晶顯示面板之曝光的使用微透鏡 本發明係關於一種使用微透 一種’適用於攜帶型機器用其液 陣列之曝光裝置。 【先前技術】 【0002】 搭載於攜帶電話及攜帶型資訊端末等之機器的液晶顯示裝 置丄與電視等之大型液晶顯示裝置不同，其面板為小型面板，且 要求面板更為高度精密。 【0003】 、製造，等播帶型機韻液晶顯*面板時所使用之曝光裝置， 過去為了高度精密的曝光’使用用於半導體裝置之曝光的步 【0004】 過去，藉步進器將攜帶型機器用的小型液晶顯示面板曝光 時’使透射過遮罩圖案的光線’透射縮小光學系統後，照射基板。 此時’曝光對象之基板，為例如1. 5m見方之大型基板，曝光時， 於1 乍為1或複數片的個別基板之各個區域進行複數次曝光。之後， 將藉由複數次曝光而使作為個別基板之區域其整體曝光的基板加 以分割，製造複數片玻璃基板。 【0005】 然則，此一步進器中，由於係以丨個接物透鏡決定曝光區域 之大小，故在1片玻璃基板上製作複數片面板時，產生此一接物 透鏡之曝光區域的邊界’位於面板内部之位置的情形。如此一來， ，此一面板中，包夹曝光區域的邊界之兩側區域由不同光束曝 光’邊界中’產生配線等之位置偏移等問題。因此，於此一邊界 中，，須施行使配線圖案變粗、傾斜而形成邊緣部以於該傾斜部 重合4之所謂「接補」的處理。此外，即便施行此一「接補」的 201241582 J理’仍有施加此一「接補」的部分於直線上相連，產生條紋等 =形，如此一來，則產生此等條紋的面板，無法成為製品，而不 :不將其廢棄H，於曝光醜為難以進行此一「接補」的 地理之困難圖案的情況’對於曝光區域邊界之面板，無法作 品而必須將其廢棄。 、 【0006】 而前人亦提出使用微透鏡陣列之曝光裝置（專利文獻1及 2，）。然則，習知之使用微透鏡陣列之曝光裝置，係將電視等之大 型液，顯示裝置用的面板曝紅曝光裝置，將其直接應用於攜帶 ，機器用的液晶顯錢置，則在攜帶型機||用的液晶顯示面板之 情況，因面板小、且有各種大小，故有製造效率不佳等問題。 [習知技術文獻] [專利文獻] 【0007】 專利文獻1日本特開2010 —102149號公報 專利文獻2日本特開2008—197226號公報 【發明内容】 [本發明所欲解決的問題] 【0008】 如同上述，如攜帶型機器用的液晶顯示面板，要求高度精密， 且為小型面板的情況’若使用習知之步進器，則曝光圖案的’「接 補」變得必要，若使用微透鏡陣列，則有製造效率不佳等門 [0009] 此外’使用微透鏡陣列之曝光裝置中，於遮罩形成有配人 面板之大小的圖案，微透鏡陣列，亦將配合面板之大小的$ 晶片固定於架座而使用。因此，將大小相異的面板進行時， 必須同時置換遮罩與微透鏡晶片，具有製造效率更為降低等門題 進一步，將複數個面板同時進行曝光時，作為遮罩，使用形 201241582 成為複數個圖案區域隔著適當長度距離的遮罩，將對應於各圖案 區域之大小的微透鏡晶片固定於架座而使用。使用此等構成之曝 光裝置進行曝光，則曝光光線不照射各圖案區域間。因此，此— 區域未被曝光，具有浪費基板材料之廣大面積等問題。 【0011】 鑑於此一問題，本發明之目的在於提供一種，可配合攜帶型 機器用的液晶顯示面板之大小有效率地使用微透鏡陣列，並減少 基板材料的浪費之使用微透鏡陣列之曝光裝置。 [解決問題之技術手段] 【0012】 本發明的使用微透鏡陣列之曝光裝置，具備：光源，發出曝 光光線；遮罩’具有複數個圖案區域，該複數個圖案區域係為， 來自此一光源之曝光光線所入射並應進行曝光之圖案與複數個面 板對應而分別形成；微透鏡陣列，由複數個微透鏡陣列晶片組成， 該複數個微透鏡陣列晶片使透射過遮罩之曝光光線入射並使該遮 罩之圖案的正立等倍像成像於基板上；架座，支持此一微透鏡陣 列；驅動裝置，在該光源與該微透鏡陣列之位置關係固定的狀態 下，使該遮罩與該基板對於該光滬與該微透鏡陣列相對地移動， 以將該曝光光線在該基板上於第1方向掃目苗；以及控制裝置，控 制該驅動裝置與該光源。此一使用微透鏡陣列之曝光裝置的特徵 為：該遮罩，在垂直於該第1方向的第2方向，配列複數個該圖 案區域，鄰接之圖案區域，彼此以欲製造之面板其該第2方向的 配列間距P之整數n (ng2)倍的間距np配置；該微透鏡陣列， 於該第2方向配列該微透鏡陣列晶片，各微透鏡陣列晶片，其該 第2方向的長度較該圖案區域之該第2方向的長度更長，且設置 為與該圖案區域之數目相同，各圖龍域之透射光線藉由各自對 ，之微透鏡陣列晶片照射於基板。作為曝光光線，使用水銀燈光 等:另，、本發明之面板，係指液晶顯示面板之顯示畫面及其周邊 部，形成之曝光圖案，包含顯示晝面之圖案及盆周邊圖案。 【0013】 ' ^ 6 201241582 ㈣使用微透鏡陣列之曝光裝置中，例如於該驅動裝置 產生轉光光線之掃峨，使該基板移鱗面板其該第2 二罢間距p之距離’之後’該控職置，再度施行該驅 動裝置及該光源產生的曝光光線之掃瞄。 【0014】 ，發明的其他使用微透鏡陣列之曝光裝置，具備：光源，發 ”線；遮罩，具有複數個圖案區域，該複數個圖案區域係 自此—光源之曝光光線所人射並應進行曝光之_與複數 反對應而分別形成；微透鏡陣列，由複數個微透鏡陣列晶片 、、且、該複數個微透鏡陣列晶片使透射過遮罩之曝光光線入射並 使該遮罩之_的正立等倍像成像於基板上；架座，練此一微 透鏡，列，驅綠置’在該細、無微補^，狀位置關係固定 的狀態下’使該遮罩與該基板對於該光源與該微透鏡陣列相對地 移動，以將該曝光光線在該基板上於第1方向掃瞒；以及控制裝 置，控制該驅動裝置與該光源。此一使用微透鏡陣列之曝光裝置 的特徵為.該遮罩’在垂直於該第1方向的第2方向，配列複數 個該圖案區域，由以欲製造之面板其該第2方向的配列間距p配 列之2個以上的整數m個圖案區域所組成之圖案區域群，係以此 圖案區域數m與該配列間距p的積mp之整數n (ng2)倍的間 距mnP配置；該微透鏡陣列，於該第2方向配列該微透鏡陣列晶 片，各微透鏡陣列晶片，其該第2方向的長度較該圖案區域群之 圖案區域數m與該配列間距p的積mp更長，且設置為與該圖案區 域群之數目相同，各圖案區域ι群之透射光線藉由各自對應之微透 鏡陣列晶片照射於基板。 【0015】 _ 此一使用微透鏡陣列之曝光裝置中，例如，於該驅動裝置及 該光源產生的曝光光線之掃瞄後，使該基板移動該圖案區域群其 該第2方向的該長度mp之距離，之後，該控制裝置，再度施行該 驅動裝置及該光源產生的曝光光線之掃瞄。 [本發明之效果] 【0016】 【0016】201241582 本發明之曝光裝置中，於遮罩的第2方向配列複數個之複數 個圖案區域，鄰接之圖案區域，彼此以欲製造之面板其第2方向 的配列間距P之紐η (似）倍的_£np配置，構成微透鏡陣 列之複數個微透鏡陣列晶片，其第2方向的長度較圖案區域之第2 方向的長度更長，且設置為與圖案區域之數目相同，各圖案區域 之透射光線藉由各自對應之微透鏡陣列晶片照射於基板。因此， 若=曝光光線之掃瞄後，使基板以面板其第2方向的配列間距p 為單位地移動，並依序施行驅動裝置及光源產生的曝光光線之掃 瞄，則與形成之曝光圖案鄰接的未曝光處依序被無縫隙地曝光， 可有效率地使用微透鏡陣列，將較遮罩更為小尺寸之面板基板， 高效率地曝光，亦可減少基板材料的浪費。 【0017】 ' 此外，於遮罩的第2方向配列複數個之複數個圖案區域，構 成由以欲製造之面板其第2方向的配列間距p配列之2個以上的 整數m個圖案區域所組成之圖案區域群，以此一圖案區域群之圖 案區域數m與配列間距P的積mp之整數η (n^2)倍的間距mnp 配置的情況中，構成微透鏡陣列之複數個微透鏡陣列晶片，其第2 方向的長度較圖案區域群之圖案區域數m與配列間距p的積更 長，且设置為與圖案區域群數目相同，各圖案區域群之透射光線 藉由各自對應之微透鏡陣列晶片照射於基板。因此，若於曝光光 線之掃描後’使基板移動圖案區域群之圖案區域數m與配列間距P 的積mP之距離，並依序施行驅動裝置及光源產生的曝光光線之掃 瞄，則與形成之曝光圖案鄰接的未曝光處依序被無縫隙地曝光， 可有效率地使用微透鏡陣列，將較遮罩更為小尺寸之面板基板， 高效率地曝光，亦可減少基板材料的浪費。 【實施方式】 [實施本發明之最佳形態] 【0019】 S ⑧ 201241582 μ以本巧之實郷態，參考_频地购。圖1⑷ 為顯不本發明之貫施形態的使用微透鏡陣 ； ®1 (b) =的圖丄圖2為顯示圖1之次序的曝光步驟之圖。圖 j明ίΪΪί態的使用微透鏡陣列之曝光裝置其立體圖^圖4 為,4不遮罩平口與微透鏡陣列之立體圖，圖5為 方向u 1方向）1及與此—_方向1呈直角之 方向（第2方向）2移動的χ—γ平台u之 U ° Χ'Υ ^ ^ 之上方，又置木台13，並於此一架台13上， 一 個光=。此等光源14，例如為高壓水銀燈光源，將波 ίί ίϊ的曝光光線15，往下方照射。此-曝光光i 15之，黑射區域，如圖5所示為矩形。 【0020】 罢工ΓίΓΐ光光線15其光源14之下方，如圖4所示，配置遮 ί 2第架往第2方向2延伸之第1導引構件16， 於此弟1導引構件16，懸架往第i方向】延伸之第2 。ί 1導引構件16被固^於架台13上，第2導引構件17則以 方t延伸之第1導引構件16上可往第2方向2移二 個遮罩平台18係以維持相互地保持其位置 關係並在在苐1方向i延伸之弟2導引構件17上可往 式= 加以支持。此—遮罩平台18，形成有矩形的開二 丨Ϊ°因此，遮罩2G，藉由第1導引構件16 V引構件17，對於第1方向丨，可進行掃猫 向2,可於此一方向移位。 仰耽弟2方 [0021] 於此一遮罩20之下方，設置微透鏡陣列架座21，於此一 I1 =開口部内’支持複數個晶片狀的微透鏡陣列晶片22a，才毒成 稷數個微透鏡陣列晶片22a組成之微透鏡陣列22。微透鏡陣列 201241582 =22a ’各自形成多數微透鏡，藉由 =正立等倍像，成像於配置在微透鏡的 中的微透鏡之_域，與來自 線15的矩形照射區域一致，曝光光線15 之-，分的區域後，藉由微透鏡陣列22， 遮罩2〇 [0022] 本^施形態中，於曝光裝置設有驅動裝置 =U㈣。此外，基板平台12上之基板4G，以下列 ^ ίΞΪίί平台12往第2方向2移動，可對於絲14、遮罩如 陣列22，於第2方向2移位。另，基板平台12之往罩第2 =’可由手動進行’亦可為設置供基板移位用之^動 ΐί ” 驅動裝置進行。本實施_中，複數個微透鏡陣列 第^向2並以架座21支持，架座21被固定於 保持以微透鏡陣列22將來自光源14之曝 if光於基板40上的狀態，並將遮罩20與基板40往第1 光線15掃喊板4G ’形成在遮罩圖.案區域 20a的圖案破曝光而轉印於基板4〇上。 【0023】 第1驅動裝置產生的光源及微透鏡陣列22對於遮罩2〇及 ίΪ,相對地於第1方向1的掃猫，係以未圖示之控制裝置進 2二而ί光裝置，藉由控制裝置控制驅動裝置及光源而將曝 田後，使基板40於第2方向2移位，並再度重複藉控制 裝置匕制驅動裝置及光源而將曝光光線掃_ =于往第1扣丨_絲狀掃雜第2 的= 之移位’基板的圖案形成用區域被依序曝光。亦即，於驅動裝 4 源產生的曝光光線之掃目苗後，例如以手動使基板40移動面 ^ ，2的配列間距P之距離’則控制裝置，再度控制驅 ，裝=光源而施行曝絲線之掃猫。藉此，將與形成有曝光圖 案之區域於第2方向鄰接之區域依序曝光。 ⑧ 10 201241582 【0024】 遮罩平台18所固持之遮罩2〇的大小，例如，第2方向2的 寬度為4GGmm。❿料20，設冑麟权目親應練數個面板 所形成的圖案區域20a。本實施形態中，圖案區域2〇a，於第2方 向2配列複數個，鄰接之圖案區域施，彼此以欲製造之面板其第 1方向2的配列間距p之整數n (η^2)倍的間距沾配置，各圖 案區域20a與排列於第1方向1之複數個面板對應。遮罩2〇，形 成有圖案區域20a之區域以外的部分成為遮光區域。因此，自光 源14射出之曝光光線，僅透射圖案區域施，入射至微透鏡陣列 22。另一T面’照射至圖案區域施以外之部分的曝光光線以， ^圖1所*，不透射遮罩2〇。本實施形態中，如圖1所示，於遮 罩20形成3個圖案區域2〇a，圖案區域2〇a其第2方向2的寬度 Wp ’與欲製造之面板的寬度相等，鄰接之圖案區域2加，彼此^ 面板其配列間距Ρ之2倍的間距2Ρ配置。 【0025】 本發明中’微透鏡陣列晶片22a其第2方向岐度術 圖案區域20a其第2方向2的寬度Wp更長，於第2方向2盈配 列各圖案區域20a數目相同之3片微透鏡陣列晶片22&，自^源 14射出並透射過遮罩2〇的圖案區域施之曝光光線15全部，分 巧入^至各自對應之微透鏡陣列晶片22a之具有光學作用 为。因此，於圖案區域2〇a其透射光線所入射 透鏡陣列晶片22a之端緣。如圖i所示，架座21 =持= 透鏡陣列晶片22a，例如，第2方向2的長度Wm相同。' 【0026】 其次，對使用如同上述構成的微透鏡陣列之曝光 Ϊ以，有光阻膜之玻璃基板4G，搬運至基板平台^ 上汉疋於與4個遮罩平台18所支持之遮罩2〇正 後，藉由導引構件16、17與基板平台12&χ—γ ^ 板4〇gf】2Q保持為—定的位置關係，以驅鱗置同時驅動广 11 201241582 本實施形態中，如圖5所示，4個遮罩平台ι8各自保 20，來自4個光源14之4束曝光光線15，入射至各遮罩2〇 f 光光線15的矩形照射區域，矣寬方向的長度，對應於遮罩^ 第2方向2 (與掃瞄方向垂直的方向）之全域的長度。此一曝光& 線15，如圖6所示’藉由將遮罩20及基板40，·同時—體地^ 方向1對於曝光光線15相對地移動，曝光光線15，將遮罩2〇於 以空心箭頭所示之掃瞄方向進行掃瞄。 、 【0028】 圖7為，顯示卸除遮罩20之狀態的立體圖。如此圖7所示， 透射過遮罩20之各圖案區域20a的曝光光線15，其矩形照射'區 域，位f微透鏡陣列架座21之開口部内所支持的微透鏡陣^晶^ 22a其微透鏡形成區域内。而此一曝光光線15與微透鏡陣列=， 其位置，係被©定，在鮮2。及基板4〇 _體地同時移動時，如 圖7所示’曝光光線15於以空心箭頭所示之掃瞄方向對於遮罩 及基板40相對地掃瞄，微透鏡陣列22，使透射過遮罩2〇之曝 光線15於基板40上成像（圖丨中的符號41a之區域）。藉此了如 圖1所示，於基板40上，遮罩20的圖案，轉印為正立^倍 於光阻上形成帶狀的曝光圖案41。 【0029】 本實施形態中，於遮罩2〇 ’形成3個圖案區域施，各 f欲製造之面板其第2方向的寬度轉，鄰接之圖案區 域20a，彼此以欲製造之面板其第2方向的配列間距 =配置。因此’曝光圖㈣亦同樣地，以與第2方向之= =施喊度Wp相等的寬度，各曝光_ 41彼此以2p的間 3條。微透鏡陣列22，例如，將以寬度15Gmm製造 杯ϋΐΐί鏡陣列，切斷成為較欲製造之複數種面板其任一面 )又更長的長度Wm’以作為微透鏡陣列晶片22a，使其於第 微1鏡_2構成為：與各硫的寬度對 ίίϊΐίίΓϊ透射光線，入射至各微透鏡陣列晶片瓜 -、子乍用的微透鏡部分。之後，藉由對於玻璃基板4〇上之 ⑧ 201241582 行1次掃_作，可將3片面板同時曝光，可將曝光動 陣二it此夕i’此時’關於各面板，因其内部不存在微透鏡 t 3 之接縫，故曝光_中，不必施行過去之所謂「接 不」、处理。因此，未於曝光圖案產生曝光不均的情 【0030】 安…依If 2G的圖案區域施之配置，藉1次掃_成的曝光圖 :之3 ’殘留有與面板其第2方向的配列間距p為相同寬 ^光區域。本實施職中’於〗次掃瞎結束後，先停止來自光 源14之曝光光線15的射出，將基板平台12上之基板4〇，對於 源14、遮罩20及微透鏡陣列22，移動欲製 巧，間距P之距離，其後，再開始進行曝光光線士的^向匕 二2方向2的移位，以手動進行’或在設置供基 板移位用之驅動裝置的情況，藉驅動裝置進行。之後，如圖 =以與第1方向1中的第〗次掃瞒方向相反之方向進行掃猫， 將未曝光(1麟光。藉此，未曝光區域被 =’祕之圖龍域20a，彼此以欲製造之面板其第2方向的配 I之間？>配置，故藉由形成2次掃瞄所產成的曝 Λ曝光圖案41間’殘留有寬度為面板的配列間距P 與面板免度WP之差（P—Wp)的未曝光區域。此一區域，在將工 片基板切割為複數片面板時，可作為切斷帶使用。由於在 掃瞄之前，使光源14、遮罩20及微透鏡陣列22全體 Γ ==第2方向移動’故以第2次掃猫形狀曝光圖^ 其内部亦不存在微透鏡陣列晶片22a之接縫， ϊίίϋΓ不必施行過去之所謂「接補」的處理，未於曝光 圖案產生曝光不均的情形。 【0031】 遮罩’通常寬度為40〇mm程度，但若欲製造此等長 的變ί :微透鏡陣列’通常雖為150醜罐度 (見度）的曰曰片狀’但母早位長之相對的製造成本低。因此，必 13 201241582 須進行將複數片之微透鏡陣列晶片接合，構成與遮罩寬度對應之 微透鏡陣列之作業，或進行於微透鏡陣列架座21設置例如長度為 150mm之微透鏡陣列晶片，於未存在此一微透鏡陣列晶片之區域 的遮罩部分，形成Cr膜，將曝光光線之透射遮斷等作業。後者的 情況中，、由於在玻璃基板40產生未使用之區域（未成為面板之區 域）’而造成浪費。因此，宜將複數片微透鏡陣列晶片於第2方向 配列’以各職遮罩寬度對應之複數片微透鏡_晶㈣成微透 鏡陣列。此時，如同本實施形態，將各微透鏡陣列晶片22a的長 度，切斷成為較欲製造之複ϋ面板其任一面板的寬度更長的長 度Wm ’使其於第2方向配列，構成為：與欲製造之面板的複數 種寬度對應之圖案區域2〇a的任-透射光線，亦入射至各微透鏡 陣列晶片22a之具有光學作用的微透鏡部分。因此，於面板之曝 光圖案41内不存在所謂「接補」，且能夠盡可能地將多數及其他 種類面板先行曝光處理，故效率佳。 【0032】 另’製造^2方向的寬度為較，更大之寬度％的面板(參 f圖8)時’若以如下方式構成：將鄰接之圖案區域施，彼此於 ^ 2方向以面板其配列間距p2之整數倍（圖8中為2倍）的間距 λ置’ f圖案之任一透射光線，皆入射至各微透鏡陣列晶片仏 作用的微透鏡部分，則可獲得上述"^發明之效果。此 L卜，1第2、方向的寬度為較卿更小之寬度Wp3的面板（參考 圖及圖10)時，若構成為：鄰接之圖案區域20a，彼此於第2 方向以面板其配列間距之整數倍（圖9 : 3倍，圖10 : 4倍） ，，距置’各圖案之任_透射光線，亦皆人射至各微透鏡陣列 曰曰片之具有光學作用的微透鏡部分，則亦可獲得本發明之效 果。 【0033】 s ΐ ^ ’對本發明之第2實施形態，參考圖11至圖14，加以說 2加、1〇所示之第1實施形態，雖為將4個遮罩20設置 ' 、罩平台18的情況，但本第2實施形態，係使用大型遮罩， 14 201241582 將玻璃基板上之光峨曝光。另，於遮科纟42之框架支持， 圖11至圖14中，為顯示微透鏡陣列22而未加圖示。如圖！ 不三於基板40上，配置丨個遮罩平台幻所支持之丨個遮罩 圖不），曝絲線15，介由遮罩人射至微透鏡陣列22，藉由微 鏡陣列22冑透射過遮罩之曝光光線集光，於基板4〇上收束 遮罩之_的正立等倍像’於基板4G上成像，形成曝光圖案41。 本實施形態中，藉由將照射發數因應基板之大小增加，使基 板40之全域曝光。首先，如圖n所示，將基板（遮罩）縱橫* 分割，分割為16個等面積區域’將來自各光源14之各曝光光線， 對此一分割區域之左上區域，施行與第i實施形態相同之2發（圖 9的情況為3發，圖1〇的情況為4發）的曝光。其次，如圖12 所示，曝光光線15，將其右鄰（第2方向之右側）之基板區域， 與第1實施形態同樣地掃瞄。其後，如圖13所示，將於第j方向 鄰接之基板區域與第1實施形態同樣地掃瞒。之後，如圖14所示， 將於第2方向鄰接之基板區域與第丨實施形態同樣地掃瞄。藉此， 使基板40之全區域曝光。 【0035】 如此地，在為大型基板的情況中’亦藉由使基板於第1及第2 方向依序移動，並增加照射發數而進行曝光，可獲得與第丨實施 形態同樣之效果。 【0036】 接著’對本發明之第3實施形態的使用微透鏡陣列之曝光裝 置進行說明。第1實施形態中，遮罩20的圖案區域20a雖為，鄰 接之圖案區域20a彼此隔著適當長度距離地配列，但本實施形態 中’以2個圖案區域2〇a構成1群圖案區域群。而此一圖案區域 群，係以面板其配列間距P3與圖案區域數2的積，亦即，以2P3 的間距配列。 【0037】 此外，微透鏡陣列晶片22a，其第2方向的長度Wm，較面板 15 201241582 其配列間距1>3與圖案區域數2的積2P更長，於第2方向2配列 與各圖案區域群數目相同之3片微透鏡陣列晶片22a。其他構成， 與第1貫施形態相同。 【0038】 圖10所示之第1實施形態的變形例中，鄰接之圖案區域20a， 彼此於第2方向以面板其配列間距&之4倍的間距設置。因此， 為了使基板40之前面曝光，驅動裝置及光源產生的掃瞄，必須使 基板40移位並實施4次。然而，如本實施形態，藉由構成為：將 2個圖案區域20a鄰接地配置，使此一透射光線之全部，透射1片 微透鏡陣列晶片22a之具有光學作用的部分，而以！次掃瞄形成 之曝光圖案的面積，為第1實施形態之2倍。本實施形態中，藉 由在1次曝光光線之掃瞄後’使基板4〇於第2方向移動面板其配 列間距P3與圖案區域數2的積2P3之距離，再度施行驅動裝置及 光源產生的掃瞄，能夠以2發的曝光，將基板4〇之全面曝光。 【0039】 本貫施形態中’鄰接之圖案區域2〇a的數目，可於微透鏡陣 ，列晶片22a其第2方向的長度之範圍内增加，藉此，可縮短曝光 周程時間。 【0040】 另，以複數個圖案區域20a構成圖案區域群的情況，上述實 施形態，作為其一例，使構成1個圖案區域群之圖案區域2〇a的 數目為m時，若將鄰接之圖案區域，彼此以該m與配列間距p的 積mP之整數η (n22)倍的間距mnp配置，則可獲得與本實施 形態同樣之效果。 [產業上利用性] 【0041】 本發明，於使用微透鏡陣列之曝光裝置中，由於可配合攜帶型機 器用其液晶顯示面板之大小有效率地使用微透鏡陣列，而可有效 地減少基板材料之浪費。 16 ⑧ 201241582 【圖式簡單說明】 【_】 ^圖1 (a)為顯示本發明之實施形態的使用微透鏡陣列之曝 $裝置中，遮罩與微透鏡陣列的相對位置關係之圖，（b)為顯示 藉此曝光之基板的圖。 圖2 (a)為顯示圖1之次序的曝光步驟之圖，（b)為顯示 曝光之基板的圖。 圖3顯示本發明之實施形態的使用微透鏡陣列之曝光裝置 其立體圖。 圖4顯示遮罩平台與微透鏡陣列之立體圖。 圖5顯示遮罩平台整體之立體圖。 圖6顯示掃瞎曝光步驟中的曝光光線與遮罩之關係的圖。 圖7顯示掃瞄曝光步驟中的曝光光線與微透鏡陣列之關係 的圖。 圖8 (a)為顯示製造相異大小面板之情況其遮罩與微透鏡 陣列的相對位叙圖’⑻為顯稍轉光之基板的圖。 圖9 (a)、（b)顯示製造相同之小尺寸面板之情況其遮罩盘 微透鏡陣列的相對位置關係及基板的圖。 圖10 (a)、（b)圖9的變形例。 圖11顯不本發明之第2實施形態的使用微透鏡陣列之曝光 裝置其曝光光線及微透鏡陣列之動作的圖。 圖12顯示接續圖11之動作的圖。 圖13顯示接續圖12之動作的圖。 圖14顯示接續圖13之動作的圖。 里本發明之第3實施形態的使用微透鏡陣列 之^光裝置巾，料與微透鏡相的相對位置_、之圖 顯示藉此曝光之基板的圖。 )两 【主要元件符號說明】 【0042] 17 201241582 1第1方向（掃瞄方向） 2第2方向（與掃瞄方向垂直的方向） 11 X—Y平台 12基板平台 13架台 14 光源 15、15a曝光光線 16第1導引構件 17第2導引構件 18、42遮罩平台 20遮罩 20a 圖案區域 21微透鏡陣列架座 22微透鏡陣列晶片陣列 22a微透鏡陣列晶片 40基板 41、41a曝光圖案 P、P2、P3 配列間距 Wp ' Wp2 ' Wp3 寬度 Wm長度 18

Claims (1)

1. 201241582 七、申請專利範圍： 1、一種使用微透鏡陣列之曝光裝置，具備： 光源’發出曝光光線； 遮罩，具有複數個圖案區域，來自該光源之曝光光線入射於 該遮罩’並以待進行曝光之圖案與複數個面板相對應方 形成該複數個圖案區域； 微透鏡陣列，由複數個微透鏡陣列晶片構成，透射過遮罩之 曝光光線入射於該複數個微透鏡陣列晶片，並使該遮罩之圖案的 正立專倍像成像於基板上； 八 架座，支持此一微透鏡陣列； 驅動裝置，在該光源與該微透鏡陣列之位置關係固定的狀態 下，使該遮罩與該基板對於該光源與該微透鏡陣列相對地移動， 以將該曝光光線沿第1方向掃瞄於該基板上；以及 控制裝置’控制該驅動裝置與該光源； 其特徵為： 於巧遮罩中，在垂直於該第1方向的第2方向配列複數個該 圖案區域，鄰接之圖案區域，彼此以欲製造之面板之該第2方向 的配列間距P之整數n (n^2)倍的間距np配置； 於該微透鏡陣列中，該微透鏡陣列晶片配列在該第2方向， 各微透鏡陣列晶片之該第2方向的長度較該圖案區域之該第2方 向的長度更長，且設置為與該圖案區域之數目相同，各圖案區域 之透射光線藉由各自對應之微透鏡陣列晶片照射於基板。 2、 如申請專利範圍第1項之使用微透鏡陣列之曝光裝置，豆 中， 在以該驅動裝置及該光源進行曝光光線之掃瞄後，使該基板 移動該面板之該第2方向的該配列間距p之距離，其後，該控制 裝置再度以該驅動裝置及該光源施行曝光光線之掃瞄。 3、 一種使用微透鏡陣列之曝光裝置，具備： 光源’發出曝光光線； 遮罩，具有複數個圖案區域，來自該光源之曝光光線入射於 19 201241582 複之_錢_面她方式，分別 曝光數個微透辦批㈣成，骑過遮罩之 正立等倍像絲於基板上； 1㈣鮮之圖案的 架座，支持此一微透鏡陣列； 下，與該微透鏡陣列之位置關係固定的狀態 以將該ϊ光光二if Ϊ於該光源與該微透鏡陣列相對地移動， 將该曝先先線第1方向掃猫於該基板上；以及 控制裝置，控制該驅動裝置與該光源； 其特徵為： 該圖罩I直於該第1方向的第2方向’配列複數個 5:二°° ° 1 ' t造之面板之該第2方向的配列間距P配列 以上的整數m個圖案區域所組成之圖案區域群，係以此一 圖案區域數m與該配列間距P的積地之整數 距mnP配置； 一 /於該微透鏡陣列中，該微透鏡陣列晶片配列在該第2方向， f透鏡陣列晶片之該第2方向的長度較該圖躯域群之圖案區 域與該配列間距p的積地更長，且設置為與該圖案區域群 之數目相㈤’各目魏域群之祕光線藉由各自職之微透鏡陣 列晶片照射於基板。 4、如申请專利範圍第3項之使用微透鏡陣列之曝光裝置，其 中， 在以該驅動裝置及該光源進行曝光光線之掃瞄後，使該基板 移動該圖案區域群之該圖案區域數m與該配列間距p的積^之 距離’其後，馳繼置再度⑽鷄裝置及該光絲行曝光光 線之掃瞄。 20