SU154952A1 - - Google Patents
Info
- Publication number
- SU154952A1 SU154952A1 SU644074A SU644074A SU154952A1 SU 154952 A1 SU154952 A1 SU 154952A1 SU 644074 A SU644074 A SU 644074A SU 644074 A SU644074 A SU 644074A SU 154952 A1 SU154952 A1 SU 154952A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- light
- chamber
- radiation
- electrodes
- discharge
- Prior art date
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 235000010599 Verbascum thapsus Nutrition 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical Effects 0.000 description 2
- 210000000188 Diaphragm Anatomy 0.000 description 1
- 206010043431 Thinking abnormal Diseases 0.000 description 1
- -1 argon-tungsten Chemical compound 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 description 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Description
Дл фотохимических процессов к некоторых оптических устройств часто требуютс точечные источники света, обладающие высокой стабильностью положени , размеров и формы резко очерченного свет пл,егос п тна и равномерным распределе)1ием энергетической ркости в широком телесном угле при большом выходе наиболее актиничного ультрафиолетового излучени . Такие источники требуютс , например при закреплении люминофора на экране в производстве цветных электроииолучевых трубок, дл светового дублени фоточувствительного лака, наносимого на поверхность металлов, обрабатываемых потом в незадубленных (незасвеченных) местах методом химического травлени и т. д.For photochemical processes, some optical devices often require point sources of light, which have a high stability of position, size and shape of sharply contoured light, uniform spot and uniform distribution of energy intensity in a wide solid angle with a large output of the most actinic ultraviolet radiation. Such sources are required, for example, when fixing the phosphor on the screen in the production of colored electro-radiation tubes, for the tanning of photosensitive varnish applied to the surface of metals, then treated in undescended (non-illuminated) places by chemical etching, etc.
Основным недостатком примен емых источников света (ламп накаливани , дуговых ламп с циркониевым катодом, дзговых аргоно-вольфрамовых ламп с кал ш,имс вольфрамовым катодом, представл ющих собой твердые температурные излучатели), вл етс низка ркость и весьма малый выход ультрафиолетового излучени . Использование дл этих целей наиболее рких известных посто нных источников света- ламп сверхвысокого давлени с нерезко очерченным каналом иоиизованной плазмы - нерационально из-за необходимости применени в этом случае оптических систем, состо щих из диафрагм и проектирующего объектива (чрезвычайно дорогосто щей широкоугольной кварцевой оптики) с низким использованием излучени .The main disadvantage of the applied light sources (incandescent lamps, arc lamps with a zirconium cathode, dzgovy argon-tungsten lamps with a ball, a tungsten cathode, which are solid temperature emitters), is low brightness and very low output of ultraviolet radiation. Using for this purpose the brightest known constant sources of light — ultrahigh pressure lamps with an unsharply circumscribed channel of ionized plasma — is irrational because of the need in this case of using optical systems consisting of diaphragms and a projection lens (extremely expensive wide-angle quartz optics) low utilization of radiation.
С целью получени резко очерченного светового д тна предлагаетс , в соответствии с изобретением, выполнить газоразр дный источник света в виде плазмотрона, работающего в режиме импульсного разр да, сосредоточиваемого целиком в полости камеры.In order to obtain a sharply defined light beam, it is proposed, in accordance with the invention, to perform a gas-discharge light source in the form of a plasma torch operating in a pulse discharge mode concentrated entirely in the cavity of the chamber.
№ 154952No. 154952
В конструктивном отношении предлагаемый газоразр дный прибор принципиально не отличаетс от упом нутого выше плазмотрона, представл юшего собой газоразр дную камеру с отверсти ми в электродах, одно из которых служит дл непрерывной подачи в камеру инертного газа, а другое - дл выхода газа и излучепи .In constructive terms, the proposed gas-discharge device is not fundamentally different from the above-mentioned plasma torch, which is a gas-discharge chamber with openings in the electrodes, one of which serves for the continuous supply of inert gas to the chamber, and the other for the exit of gas and radiation.
Повышенна ркость источника света, вьщолненного на основе такого плазмотрона, стабильность размеров и положени создаваемого нм свет шегос п тна и больший срок службы такого источника, обеспечивают значительные эксплуатационные преимущества его по сравнению с известными источниками света. Так, в частности, при использовании его дл светового дублени экранов цветных электроннолучевых трубок значительно сокраш,аетс и удешевл етс технологический процесс дзблени и з чучшаетс качество экранов.The increased brightness of the light source made on the basis of such a plasmatron, the dimensional stability and the position of the created nm light of the spot and the longer service life of such a source provide significant operational advantages compared to the known light sources. So, in particular, when using it for light tanning, the screens of colored cathode-ray tubes considerably shorten the process of chipping and reduce the quality of the screens.
На фиг. 1 схематически изображена конструкци предлагаемого источника света в разрезе; на фиг. 2 - один из возможных вариантов схемы его включени .FIG. 1 shows schematically the construction of the proposed light source in section; in fig. 2 is one of the possible variants of its switching scheme.
На фиг. 1 прин ты следующие обозначени : / и 2 - электроды, 3 - цилиндрический термостойкий изол тор, 4 - отверстие дл выхода излучени , 5 - отверстие дл продувани инертного газа через камеру 6, образованную электродами / и 2 и изол тором 3. Инертный газ, подаваемый в камеру 6, заполн ет объем, ограниченный электродами / и 2 и изол тором 5 и выходит в отверстие 4 в электроде 2. Между электродами 7 и 2 в камере 6 зажигаетс «дежурна дуга, питаема выпр мителем 7 (фиг. 2). Мощный имп)льсный разр д осуществл етс путем подключени на врем импульса аккумул торной батареи 8 коммутирующим зстройством 9 к электродам источника света. В момент прохождени тока через источник света, разр дна плазма заиолн ет внутренний объем источника. При больших импульсах тока температура плазмы достигает значительпых величин и дает интенсивное ультрафиолетовое излучение, выход щее через отверстие в электроде 2. В предлагаемом источнике между каналом разр да и объектом освещени отсутствует стекл нный баллон, задерживающий значительную часть ультрафиолетового излучени , нарущающий срок службы источника в св зи с потерей прозрачности в процессе работы. Преимуществом иредлагаемого источника вл етс также полна устойчивость свет шегос н тна (излучение выходит из строго очерченного контура отверсти в электроде 2, заполн телесный угол ш). Так как интенсивность излучени , выход щего в данном направлении, зависит от глубины сло плазмы в том же направлении, то от конфигурации внутреннего объема камеры 6 и электродов / и 2 зависит характер углового распределени излучени .FIG. 1 the following designations are accepted: / and 2 — electrodes, 3 — cylindrical heat-resistant insulator, 4 — opening for exit of radiation, 5 — opening for blowing inert gas through chamber 6 formed by electrodes / and 2 and insulator 3. Inert gas, supplied to chamber 6, fills the volume bounded by electrodes / and 2 and insulator 5 and goes to hole 4 in electrode 2. Between electrodes 7 and 2 in chamber 6, a back arc fed by a rectifier 7 is ignited (Fig. 2). The high-power impulse discharge is accomplished by connecting the battery 8 for the duration of the pulse to the switching device 9 to the electrodes of the light source. At the moment the current passes through the light source, the plasma discharge fills the internal volume of the source. At high current pulses, the plasma temperature reaches significant values and produces intense ultraviolet radiation emitted through an opening in electrode 2. In the proposed source, there is no glass bottle between the discharge channel and the object of illumination that delays a significant part of the ultraviolet radiation that affects the life of the source zi with loss of transparency in the process. The advantage of the proposed source is also full stability of the light of the shell (the radiation leaves the strictly delineated contour of the hole in the electrode 2, filling the solid angle w). Since the intensity of the radiation emitted in this direction depends on the depth of the plasma layer in the same direction, the nature of the angular distribution of the radiation depends on the configuration of the internal volume of the chamber 6 and the electrodes / and 2.
Предмет изобретени Subject invention
Газоразр дный источиик света с резко очерченным свет щимс п тном, отличающийс тем, что он выполнен в виде, плазмотрона (газоразр дной камеры с отверсти ми в электродах, одно из которых служит дл непрерывной подачи в камеру инертного газа, а другое - дл выхода газа и излучени ), работающего в режиме имиульсиого ра- р да , сосредоточиваемого целиком в полости камеры.A gas discharge light source with a sharply outlined light spot, characterized in that it is made in the form of a plasma torch (a discharge chamber with holes in the electrodes, one of which serves to continuously supply an inert gas to the chamber and radiation), operating in the mode of the imical series, concentrated entirely in the cavity of the chamber.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU154952A1 true SU154952A1 (en) |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7435982B2 (en) | Laser-driven light source | |
US9576785B2 (en) | Electrodeless single CW laser driven xenon lamp | |
JP5322217B2 (en) | Light source device | |
JPS61193358A (en) | Light source | |
US10057973B2 (en) | Electrodeless single low power CW laser driven plasma lamp | |
JPH0896767A (en) | Dielectric barrier discharge lamp device | |
KR100528232B1 (en) | Short Arc Electric Discharge Lamp | |
JP2022189855A (en) | Electrodeless single low-power cw laser driven plasma lamp | |
GB2315591A (en) | Discharge lamp | |
US20190021158A1 (en) | Laser-driven light source device | |
SU154952A1 (en) | ||
JP4215107B2 (en) | Light source device, projector | |
EP0751548B1 (en) | Mercury lamp of the short arc type and process of operation thereof | |
JP6885636B1 (en) | Laser-excited plasma light source and plasma ignition method | |
SU1140189A2 (en) | Gaseous-discharge spectroscopic lamp | |
US4704346A (en) | Process for the exposure of semiconductor wafer | |
JP3178144B2 (en) | Ashing device using dielectric barrier discharge lamp | |
TW201347614A (en) | A method for stabilizing a plasma and an improved ionization chamber | |
CN113690126A (en) | Laser-sustained plasma broadband light source and application | |
WO2019111769A1 (en) | Lamp lighting method | |
RU2092289C1 (en) | Device for light-beam brazing and welding | |
JP2001185076A (en) | Light source device | |
US4524306A (en) | Extra-high pressure mercury discharge lamp | |
SU892526A1 (en) | Spectral gas-discharge source of ultraviolet radiation | |
JPH01186750A (en) | Plasma light source |