SE520727C2 - Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar - Google Patents
Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningarInfo
- Publication number
- SE520727C2 SE520727C2 SE9700616A SE9700616A SE520727C2 SE 520727 C2 SE520727 C2 SE 520727C2 SE 9700616 A SE9700616 A SE 9700616A SE 9700616 A SE9700616 A SE 9700616A SE 520727 C2 SE520727 C2 SE 520727C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- alkyl
- phenyl
- formula
- hydrogen
- compounds
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 129
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 103
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 47
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims abstract description 32
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 32
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 22
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims abstract description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims abstract description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 3
- -1 methoxy, methylthio, morpholino Chemical group 0.000 claims description 89
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- MTVHMOTUJAWONX-UHFFFAOYSA-N [(2,5-dimethylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC=C(C)C(P(=O)(C(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)C(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)=C1 MTVHMOTUJAWONX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 11
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- MQJSKQRXVYFMSQ-UHFFFAOYSA-N [[2,5-di(propan-2-yl)phenyl]-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(C)C)C(P(=O)(C(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)C(=O)C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)=C1 MQJSKQRXVYFMSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical class OC1=NC=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- KNVGEVSDKAHVAH-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-1-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-morpholin-4-ylbutan-1-one Chemical compound C1COCCN1C(C(=O)C=1C=C(OC)C(OC)=CC=1)(CC)CC1=CC=CC=C1 KNVGEVSDKAHVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropane-1-thione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C(C)(C)N1CCOCC1 JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LJAGLTAHKHCSBP-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=CC(=C1)C)C)C1=C(C=CC=C1)C(=O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C Chemical compound CC1=C(C(=CC(=C1)C)C)C1=C(C=CC=C1)C(=O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=C(C=C1C)C)C LJAGLTAHKHCSBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ILPDGPRRWKVEPG-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethylbenzoyl)-phenylphosphoryl]-(2,6-dimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=CC=C1C ILPDGPRRWKVEPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 210000003074 dental pulp Anatomy 0.000 claims 2
- IPOKLFYTTOXXMG-UHFFFAOYSA-N C(=O)(O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C(=O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C(=O)O Chemical compound C(=O)(O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C(=O)C1=C(C=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C(=O)O IPOKLFYTTOXXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 101100010166 Mus musculus Dok3 gene Proteins 0.000 claims 1
- BZODUMLNVVCIGC-UHFFFAOYSA-N OCCOC1=CC=CC(C(C2=C(C3=CC=CC=C3)C(OCCO)=CC=C2)=O)=C1C1=CC=CC=C1 Chemical compound OCCOC1=CC=CC(C(C2=C(C3=CC=CC=C3)C(OCCO)=CC=C2)=O)=C1C1=CC=CC=C1 BZODUMLNVVCIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IZQPOHAUAILGKE-UHFFFAOYSA-N [2-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IZQPOHAUAILGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000006710 (C2-C12) alkenyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 22
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 16
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 16
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 5
- SWRNIYAQKATHDJ-UHFFFAOYSA-N dichloro(dichlorophosphanyl)phosphane Chemical compound ClP(Cl)P(Cl)Cl SWRNIYAQKATHDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 150000003008 phosphonic acid esters Chemical class 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 4
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FQLCSMYAZKECPZ-UHFFFAOYSA-N [(4-methylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C FQLCSMYAZKECPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 3,2,3-tetramine Chemical compound NCCCNCCNCCCN RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HOXCOSORKWZXBI-UHFFFAOYSA-N CC(CCC(C)(C)C)[PH2]=O Chemical compound CC(CCC(C)(C)C)[PH2]=O HOXCOSORKWZXBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000001177 diphosphate Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002924 oxiranes Chemical group 0.000 description 2
- 239000011101 paper laminate Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- BJGZXKKYBXZLAM-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1OC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BJGZXKKYBXZLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N (2-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUCQPHINKBNKRU-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=C(P)C=C1 HUCQPHINKBNKRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YEYVEBGTPCPGFS-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1N1C(=O)CCC1=O YEYVEBGTPCPGFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPEHJDAVJYOMFP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,6-ditert-butyl-4-methylphenyl)-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol phosphono dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OP(=O)(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C)C(C)(C)C)C(O)C(CO)(CO)CO HPEHJDAVJYOMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(2-aminopropoxy)ethoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COC(C)OCC(C)N QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBTMRBYMKUEVEU-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(Br)C=C1 ZBTMRBYMKUEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical group CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]thioxanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4SC3=CC=C21 YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]xanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4OC3=CC=C21 VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(Cl)=O)C(C)=C1 UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEMYLNXNAJPGY-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-diphenylpropoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCOCC(C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 OXEMYLNXNAJPGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJJLBQYSVLDVRU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=NC=NC=N1 FJJLBQYSVLDVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONDALFICRVVSFR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC1=CC=CC=C1C(O)=O ONDALFICRVVSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHPPDQUVECZQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDBQRXOWKPLOHH-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-ditert-butyl-2-hydroxyphenyl)methyl]propanedioic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC(C(O)=O)C(O)=O)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 UDBQRXOWKPLOHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxy-3-octoxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-dodecoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCQXXVFFJHBYME-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCCCC1=CC(O)=CC=C1C(O)=O LCQXXVFFJHBYME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLQYBGASAMIPJJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[2-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1OCCO NLQYBGASAMIPJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJARFYRANUVAFH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(2-hydroxyethoxy)-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound OCCOCC(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 KJARFYRANUVAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKWAYONMUGAHAB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl 2-phenylbenzoate Chemical compound OCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 MKWAYONMUGAHAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HPSGLFKWHYAKSF-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 HPSGLFKWHYAKSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 4-(4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-yl)morpholine Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(N2CCOCC2)=N1 UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=C1NN=N2 BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000726103 Atta Species 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OHHIVLJVBNCSHV-MDZDMXLPSA-N Butyl cinnamate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 OHHIVLJVBNCSHV-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RACFHUJFWGTTOS-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=O)P(C2=C(C=CC=C2)C)=O)C(=CC(=C1)C)C Chemical compound CC1=C(C(=O)P(C2=C(C=CC=C2)C)=O)C(=CC(=C1)C)C RACFHUJFWGTTOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MHJNMPJJFZJXQF-UHFFFAOYSA-N Cc1cccc(C)c1C(=O)P(=O)c1ccccc1 Chemical compound Cc1cccc(C)c1C(=O)P(=O)c1ccccc1 MHJNMPJJFZJXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical class NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXVXAOOZLSKBFT-UHFFFAOYSA-N P(=O)(O)(O)OP(=O)(O)O.C(CCCCCCC(C)C)OC(O)(C(CO)(CO)CO)OCCCCCCCC(C)C Chemical compound P(=O)(O)(O)OP(=O)(O)O.C(CCCCCCC(C)C)OC(O)(C(CO)(CO)CO)OCCCCCCCC(C)C DXVXAOOZLSKBFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034962 Photopsia Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001122767 Theaceae Species 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N [(2,4-dipentoxyphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CCCCCOC1=CC(OCCCCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCZHOCOIYBJFO-UHFFFAOYSA-N [(2-methylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C(=CC=CC=1)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C KLCZHOCOIYBJFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDSRTQXJZWRHLR-UHFFFAOYSA-N [(4-methylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphanyl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1P(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GDSRTQXJZWRHLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZBALVNWIMUAMP-UHFFFAOYSA-N [[2,6-dimethyl-4-(2-methylpropyl)benzoyl]-phenylphosphoryl]-[2,6-dimethyl-4-(2-methylpropyl)phenyl]methanone Chemical compound CC1=CC(CC(C)C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(CC(C)C)C=C1C NZBALVNWIMUAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- SHGAZHPCJJPHSC-YCNIQYBTSA-N all-trans-retinoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(/C)\C=C\C=C(/C)\C=C\C1=C(C)CCCC1(C)C SHGAZHPCJJPHSC-YCNIQYBTSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJMDMGXKEGBVKR-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1OC(=O)C(C(=O)OC1C(N(C)C(C)(C)CC1)(C)C)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 MJMDMGXKEGBVKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- PNDKCRDVVKJPKG-WHERJAGFSA-N cenicriviroc Chemical compound C1=CC(OCCOCCCC)=CC=C1C1=CC=C(N(CC(C)C)CCC\C(=C/2)C(=O)NC=3C=CC(=CC=3)[S@@](=O)CC=3N(C=NC=3)CCC)C\2=C1 PNDKCRDVVKJPKG-WHERJAGFSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VNZQQAVATKSIBR-UHFFFAOYSA-L copper;octanoate Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O VNZQQAVATKSIBR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- OEBRKCOSUFCWJD-UHFFFAOYSA-N dichlorvos Chemical class COP(=O)(OC)OC=C(Cl)Cl OEBRKCOSUFCWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- LQNSRAKQMULUJI-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-[methoxy(phenyl)methylidene]propanedioate Chemical compound COC(=O)C(C(=O)OC)=C(OC)C1=CC=CC=C1 LQNSRAKQMULUJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPLVTKYRGZZXJF-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-benzylidenepropanedioate Chemical compound COC(=O)C(C(=O)OC)=CC1=CC=CC=C1 HPLVTKYRGZZXJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- WJQUTHBBZNRIGS-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3-(4-methoxyphenyl)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C#N)=C(C)C1=CC=C(OC)C=C1 WJQUTHBBZNRIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- OVEHNNQXLPJPPL-UHFFFAOYSA-N lithium;n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound [Li].CC(C)NC(C)C OVEHNNQXLPJPPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- JMSTYCQEPRPFBF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxy-2-(prop-2-enoylamino)acetate Chemical compound COC(=O)C(OC)NC(=O)C=C JMSTYCQEPRPFBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N n'-(2-ethoxyphenyl)-n-(2-ethylphenyl)oxamide Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1CC YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVYHWOZEQUFKOB-UHFFFAOYSA-N n'-[3-(dimethylamino)propyl]oxamide Chemical compound CN(C)CCCNC(=O)C(N)=O YVYHWOZEQUFKOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N n-butyl-1-[4-[4-(butylamino)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]-6-chloro-1,3,5-triazin-2-yl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CC1(C)CC(NCCCC)CC(C)(C)N1C1=NC(Cl)=NC(N2C(CC(CC2(C)C)NCCCC)(C)C)=N1 DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNVAPPWJCZTWQL-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 RNVAPPWJCZTWQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- SOWBFZRMHSNYGE-UHFFFAOYSA-N oxamic acid Chemical compound NC(=O)C(O)=O SOWBFZRMHSNYGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L oxido carbonate Chemical compound [O-]OC([O-])=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000065 phosphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 239000011092 plastic-coated paper Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229940068886 polyethylene glycol 300 Drugs 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M pyronin Y Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2OC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000010003 thermal finishing Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N triazene Chemical compound NN=N AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N trimethyl acrylic acid Chemical compound CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDGZUBKNYGBWHI-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(=O)(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC FDGZUBKNYGBWHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940048102 triphosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5337—Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
520727 2 Föremål för föreliggande uppfinning är därför en fotoinitiatorblandning som innehåller åtminstone en förening med formeln (Ia): vari R, betecknar Q-Cr-alkyl, R, är väte, C,-C,-alkyl eller C,-C,,-alkoxi och R,, R4, Rs, Rs och R, oberoende av varandra utgör väte, halogen, Q-Cw-alkyl, cyklopentyl, cyklohexyl, CZ-Cn-alkenyl, med fenyl substituerad C,-C,,-alkyl osubstituerad eller med en eller tvâ Cl-Cfalkyl eller/och C,-C4-alkoxi substituerad fenyl CfQ-alkoxi suostituerad fenyl och åtminstone en förening med formeln (II) *Q vari CH | J R, utgör väte, Cl-Cm-alkyl, C,-C,,-alkoxi, -OCHZCHZ-ORU, en grupp CH,=C- O=O 'lf - I -nw (n) RH cH eller en grupp CHI-åçlï» , varvid l betecknar ett tal från 2 till 10 Å | i? i» och A är en rest C-C-Rm | RH R., och Ru, oberoende av varandra betecknar väte, Q-Có-alkyl, fenyl, Q-Cm-alkoxi, OSiRuRuRu, eller -O(CHzCH2O)q-C,-Cm-alkyl, varvid q står för ett tal från 1 till 20, eller \\SPB\VOL3\uSers\FM\DOK\word-d0k\P333 IÖ-RdOCSEOO/Nll/CG 20 25 30 520727 3 R., och RH, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring; R,, utgör hydroxi, Q-Cw-alkoxi eller -O(CH,CH2O)q-C,-Cm-alkyl, varvid RQ, Rw och RH icke alla samtidigt står för Q-Cw-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C,-C,6-alky1, i? i? Ru betecknar väte, CVCS-alkyl -C-CH=CH2, -C-Cl-Ca-alkyl eller fm - i -c~c=cH, och RU, RM, och RM oberoende av varandra är C,-C,-alkyl eller fenyl, eller/och åtminstone en förening med formeln (III): H15 9 B15; n” c om RW I vari Rls, Rm, RK, oqh R” oberoende av varandra betecknar väte, metyl, fenyl, metoxi, -COOH, osubstituerad eller med Cl-Cfalkyl substituerad fenyl eller en grupp -OCH,CH20R,2 eller -SCHzCHzORw vari Ru är definierad såsom i formeln (II), eller/och åtminstone en förening med formeln (IV): Or» R» ë-çfltafä. av) N / \ “ß Ra Ra vari Rm står för väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi, C,-C4-alkyltio, halogen eller en grupp N(R22)23 Rw har en av de för Ru, angivna betydelserna eller utgör en grupp: \\SPB\VOLS\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 20 25 520727 4 t» s? T” -N c-clz-cnznz, (tva) N Ru / \ Ra Ra varvid i detta fall gruppen Rw från formeln (IV) och gruppen RW i denna formel (IVa) tillsammans står för en direkt bindning och de andra grupperna är definierade enligt följande: b Ru, betecknar Cl-Cg-alkyl, Rz, är väte, -CH=CHR24, osubstituerad eller en till tre gånger med Cl-Cn-alkyl, C,-C,,- alkoxi eller halogen substituerad fenyl, eller Ru, och Rz, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, Ru och Ru oberoende av varandra betecknar C,-C,,-alkyl eller Ru och RB tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad eller omåttad ring, som kan vara avbruten av -O-, -NH- eller -N(CH3)-, Ru betecknar våte eller Cvj-Cfalkyl, och Rzs är väte ellerbl-Clz-alkyl.
Q-Cw-alkyl kan vara rak eller grenad och betecknar exempelvis metyl, etyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, hexyl, heptyl, nonyl, decyl, dodecyl, oktadecyl eller ikosyl. Lämpliga är CFCIB-alkyl, t.ex. CVCIZ- eller Cl-Cs- alkyl, speciellt C,-C4-alkyl.
Q-Cw-alkyl, CVCÖ-alkyl, C,-C,,-alkyl kan ha samma betydelse som angivits, till och med motsvarande antal C-atomer.
Med en eller flera O-atomer avbruten Cz-Cw-alkyl är exempelvis avbruten 1-5, t.ex. 1-3 eller l eller 2 gånger med -O-. Det ger exempelvis strukturenheter, såsom -O(CH2)2OH, -O(CH2)2OCH3, -O(CH2CH2O)2CH2CH,, -CHfO-CH, -CH2CH2-O-CH2CH3, -[CH2CH2O],-CH,, med y = 1-5, -(CH2CH2O)5CH2CH3, -CHZ-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH, eller -CH,-CH(CH3)-O-CH2CH3.
Gruppen -O(CHzCH2O)q-C,-Cw-alkyl står för 1-20 på varandra följande etylenoxidenheter, vilkas kedja avslutas med en Cl-Cm-alkylgrupp. Lämpligen är q 1-10, t.ex. 1-8, speciellt l-6. Kedjan med etylenoxidenheter avslutas med en Q-Ca-alkylgrupp.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333l6-B.d0cSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 5 t.ex. CFCS-alkyl, speciellt med en Cl-Cfalkyl. C,-C,6-alkyl kan därvid ha angivna betydelser, till och med motsvarande antal C-atomer.
Cz-Cu-alkenyl kan vara rak eller grenad och det kan finnas mer än en omättad bindning i molekylen. Exempel är vinyl, allyl, metylvinyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, oktenyl, nonenyl, decenyl, dodecenyl.
C,-C,,,-alkoxi kan vara rak eller grenad och betecknar exempelvis metoxi, etoxi, propoxi, isopropoxi, butoxi, s-butoxi, t-butoxi, pentoxi, isopentoxi, hexyloxi, heptyloxi, oktyloxi, nonyloxi, deeyloxi, dodecyloxi eller oktadecyloxi. Lämpliga är exempelvis C,-C12- eller Q-Cg-alkoxi, speciellt Cl-Cfalkoxi. Q-Có-alkoxi och C,-C4-alkoxi kan ha samma betydelse som angivits, till och med motsvarande antal C-atomer.
C,-C,,-_z:lky_ltiow kan vara rak eller grenad och är exempelvis metyltio, etyltio, propyltio, isopropyltio, butyltio eller t-butyltio, speciellt metyltio.
Med fenyl substituerad Cl-Cfalkyl betecknar exempelvis bensyl, 2-fenyletyl, 3-fenylpropyl, ot-metylbensyl eller ogot-dimetylbensyl, speciellt bensyl.
Substituerad fenyl är en till fem gånger substituerad vid fenylringen, t.ex. en, tvâ eller tre gånger: speciellt zçn eller två gånger. Substitutionen sker exempelvis i 2-, 3-, 4-, 5-, 2,4-, 2,5-, 2,6-f__ 3,4-, 3,5-, 2,4,6- eller 3,4,5-ställning av fenylringen. C,-C4-alkyl- och CVC, alkoxisubstituenter kan ha angivna betydelser. Exempel på substituerad fenyl är tolyl, xylyl, 4-metoxifenyl, 2,4-, 2,5-dimetoxifenyl, etylfenyl, 4-alkoxi-2-metylfenyl.
Halogen står exempelvis för klor, brom och jod, speciellt för klor. v2- 9 T” När RW utgör gruppen (IVa) -N C'C|3"CH2R2, N Ru / \ H22 Ra varvid gruppen RH, från formeln (IV) och gruppen RH, från gruppen (IVa) tillsammans står för en direkt bindning erhålles därigenom strukturen för formeln (IVb): i” N Rmoo T» nflnzc-cfiæ-ë ë-(lï-CH nu (WD) nu Ra Ra F” \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P 333 I 6-B .docSEO0/ N h/CG 10 15 20 25 30 520727 6 När Rz, och Ru tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en ring, som dessutom kan vara avbruten med -O-, -NH- eller -N(CH,)-, rör det sig vid den bildade ringen exempelvis om en morfolino-, piperidino- eller metylpiperidinoring.
Föreliggande föreningar med formeln I (och Ia) kan exempelvis framställas genom dubbel acylering av en primär fosfin (V) med åtminstone två ekvivalenter av en syraklorid (VI) i närvaro av åtminstone två ekvivalenter av en bas och därpå följande oxidation av erhållen diacylfosfin (VII) enligt scheinat: ' 9 F, H. B _ ll 2 H, c-ci + Hy n, _as_> H, c P n, H. R, R. n, 2 n, n, (VI) GV) (Vu) H' RQ H4 Oxidation 9 i? m? C P Rs :I R' 2 R., R' ) ' u) RI, RZ, Rg, R4, Rs, Rfi och R, har de i patentkravet 8 angivna betydelserna.
Såsom baser lämpar sig exempelvis tertiära aminer, pyridin, alkalimetaller, litiumdiisopropylamin, butyllitium, jordalkalimetallkarbonat, alkalialkoholat eller alkalihydrider. Det första reaktionssteget sker företrädesvis i lösning. Såsom lösningsmedel är framförallt kolväten lämpliga, såsom exempelvis alkaner och alkanblandningar, cyklohexan, bensen, toluen eller xylen. Reaktionen genomföres vid olika temperaturer alltefter lösningsmedel och använda edukter. Vid användningen av baser, såsom litiumdiisopropylamid eller butyllitium, är det exempelvis lämpligt att arbeta vid -40 till 0°C. Reaktionerna med t-aminer, alkalimetaller eller alkalihydrider såsom baser utföres exempelvis lämpligen vid 10 - l20°C, företrädesvis 20 - 80°C. Efter avskiljning av den bildade baskloriden kan fosñnet Den råa (VII) isoleras genom indunstning. reaktionsprodukten kan vidare behandlas utan rening eller exempelvis renas genom kristallisation. Det andra reaktionssteget kan dock genomföras med lösningen av \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BÄOCSEOO/Nh/CG 20 25 520727 ràprodukten dock utan isolering av (VII). Såsom oxidationsmedel i det andra steget för framställning av oxiderna lämpar sig framförallt väteperoxid och organiska peroxiföreningar, exempelvis perättiksyra, luft eller rent syre.
Reaktionsprodukterna kan renas enligt allmänt vanliga metoder, såsom exempelvis genom kristallisation eller kromatografi.
Fosfinerna med formeln (V) framställes exempelvis genom reduktion av motsvarande diklorider (VIII), fosfonsyraestrar (IX) eller fosfonsyrlighetsestrar (X): R' är exempelvis metyl eller etyl.
Vanligen genomföres reduktionerna med LiAlH4, SiHCl3: PhzSiHz, a) LiH b) H20; a) Li/tetrahydrofuran b) H20 eller a) Na/toluen b) H20.
Hydreringen med LiA1H4 framgår exempelvis även genom Helv. Chim. Acta 1966, nr. 96, sid. 842.
Diklorfosfinföreningarna med formeln (VIII) kan exempelvis erhållas genom omsättning av motsvarande aromat med fosfortriklorid och aluminiumklorid: Ra R: n* n* RQ + Pcia + A|c|,, ~+ erg-PCI, n, n, R, R, (VIII) \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l 6-B.docSE00/Nh/CG 20 25 520727 Dikloriderna (VIII) kan exempelvis även erhållas genom Grignard-reaktion av motsvarande bromerade aromater (XI) med PCI, (jfr exempelvis Helv. Chim. Acta 1952, nr. 35, sid. 1412): R,, Rz, Rs, R4, RS, Ró och R, är definierade såsom i patentkravet 8.
Diestrårnat. med formeln (IX) kan exempelvis framställas genom omsättning av bromerade aromater (XI) med en trifosforsyrlighetsester (XII). Sådana reaktioner är exempelvis beskrivna i DE-C-1810431. '_ R, R¿ n; Ro arga, + Fnom, --> nfšš-Pøtm i _ R, R. n, > n, , (X3 (xn) Fosfonsyrlighetsestrar (X) kan exempelvis erhållas genom omsättning av en fosfordiklorid (VIII) med en alkohol: R. Fl, n: RA m/QPCI, + FroH --> erg-WW» n, n, Rv Fä (vm) 00 Bromerade aromater (XI) erhålles genom bromeringsreaktioner, som är kända enligt teknikens ståndpunkt, såsom exempelvis genom omsättning av alkoxylerade aromater med N-bromsuccinimid eller brom/ättiksyra., Framställningen av syrakloriderna med formeln (VI) sker enligt allmänt kända metoder enligt teknikens ståndpunkt.
\\SPB\VOI.3\users\FM\DOK\word-d0k\P333 1 Ö-BdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 '520727 9 Framställningen av föreningarna med formlerna (II) och (III) är allmänt kända och en del av föreningarna är erhâllbara i handeln. Framställningen av oligomera föreningar med formeln (II) är exempelvis beskriven i EP-A-161 463. En beskrivning av framställningen av föreningar med formeln (III) framgår exempelvis av EP-A-209 831.
Framställningen av föreningar med formeln (IV) framgår exempelvis av EP-A- 3002 eller EP-A-284 561. Några föreningar med formeln (IV) är dessutom erhâllbara i handeln.
Föreningarnatenligt uppfinningen är exempelvis: Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2-metylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,ó-trimefyllšensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2j-dietylfenylfosñnoxid, Bis(2 ,4 , 6-trimetylbensoyl)-2 , 3 ,5 ,6-tetrametylfenylfosfinoxid, Framställningen av föreliggande fotoinitiatorblandningar sker exempelvis genom blandning, malning, pàsmältning eller lösning av de enskilda komponenterna, varvid exempelvis flyiltande komponenter kan tjäna såsom lösningsmedel för förhandenvarande kombinationspartner. Det är likväl även möjligt att sammanföra komponenterna i ett inert lösningsmedel.
Fotoinitiatorblandningarna innehåller exempelvis 2-90%, t.ex. 5-50%, 5-40%, speciellt 5-25% föreningar med formeln Ia och 98~50%, t.ex. 95-60%, speciellt 95-75%, föreningar med formeln (II), (III) eller/och (IV). Andra intressanta blandningar är sådana, vari andelen föreningar med formeln Ia i blandning med föreningar med formeln (II) eller/och (III) eller/och (IV) uppgår till 30-70%.
Lämpliga exempel på föreningar med formlerna (II) och (III) är l-bensoyl- cyklohexanol, 2,2-dimetoxi-1,2-difenyletan-1-on och 1-bensoyl-1-hydroxi-l-metyletan.
Exempel på föreliggande fotoinitiatorblandníngar (blends) är 5% bis-(2,4,6-trimetylbensoyD-fenyl-fosflnoxid och 95% 1-bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan; 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyb-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklohexanol; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosñnoxid och 75% l-bensoylcyklohexanol; 25% bis(2,4,ó-trimetylbensoyb-fenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyfl-l-hyfdroxi-l-metyletan; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl~fosfinoxid och 75% 2,2-dimetoxi-l,2-difenyletan-1- OII; \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word~dok\P333 l6-B.docSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 5211727 10 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyD-fenyl-fosñnoxid och 95% 2,2-dimetoxi-1J-difenyletan-l-on; 25 % hydroxi-l-metyletan; bis(2,4,ó-trimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75% 4(2-hydroxietoxDbcnsoyl-1- 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-fenyl-fosfinoxid och 95% 4(2-hydroxietoxi)benxoyl-1- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,4,6-trimetylbensoy1)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklo- hexanol; T 5% bis(2,4,ó-trimetçlbensoyb-Z,5-diisopropylfcnyl-fosñnoxid och 95% l-bensoyl-l- hydroxi-l-metyletan; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoy1)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklo- hexanol; _ _ _ 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)- 2,5-diisopropylfenyl-fosñnoxid och 75% 1-bensoy1-1- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-4-t-butyl-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl- cyklohexanol; 5% bis(2,4,6-ti:irnety1ben§oyl)-4-t-buty1-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% 1-bensoyl-1- hydroxi-l-metyletan; ~ 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyD-4-t-butyl-Zß-dimetylfcnyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl- cyklohexanol; 25% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-4-t-butyl-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl-l- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,6-dimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl-l-hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,ó-dimctylbcnsoyl)-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bcnsoylcyklohcxanol; 25% bis(2,ó-dimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyletan; 25% bis(2,ó-dimetylbcnsoyl)-fenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklohexanol; 5% bis(2,4,6-trimety1bensoy1)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklohexanol; 5% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl-l-hydroxi-l- metyletan; 25% hexanol; bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklo- 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl-l-hydroxi- l-metyletan; \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word-dok\P333 I 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 ll 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% 2,2-dimetoxi-1,2- difenyletan-1-on; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-dimetylfenyl-fosñnoxid och 75% 4(2-hydroxietoxi)- bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan.
Speciellt intressanta är fotoinitiatorblandningar, som erhålles genom upplösning av bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosñnoxid i en flytande hydroxiketonförening. Lämpligen användes mer än två, speciellt tre; komponenter i blandningen. Lämpligen framställes blandningen av tre komponenter genom blandning av de förhandenvarande beståndsdelarna och lätt uppvärmning, t.ex. till 50-60°C.
Förem_ål _för' uppfinningen är även fotoinitiatorblandningar som innehåller åtminstone en förening med formeln (Ia) och tvà föreningar med formeln (II).
Lämpliga är exempelvis trekomponentblandningar av 25 % bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid, 70% l-bensoylcyklohexanol och 5% 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyletan, eller 25 % bis(2,4,6-frimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid, 60% l-bensoylcyklohexanol och 15% l-bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan, eller 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-dimetylfenyl-fosñnoxid, 50% 1-bensoylcyklohexanol och 25% 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyletan.
Lämpliga är föreningar med formeln (I), vari RB, R4, Rs, Rñ och R, betecknar väte, Cl-Cs-alkyl, fenyl, allyl, bensyl, cyklohexyl eller klor.
Andra intressanta föreningar med formeln (1) och (Ia) är sådana, vari R3, R, och RS betecknar väte, C,-C,,-alkyl, speciellt metyl, eller fenyl.
Framhâllas må föreningar med formeln (I) och (Ia), vari RÖ och R7 betecknar väte eller Cl-Cfalkyl, speciellt metyl.
Speciellt är sådana föreningar med formeln (I) och (Ia) lämpliga, vari Rz betecknar väte eller Cl-Cfalkyl.
Lämpliga är dessutom föreningarna med formeln (I) och (Ia), vari R, betecknar metyl.
Likaledes lämpliga är föreningar med formeln (I) och (Ia), vari R, och Rz är lika.
\\SPB\VOL3\use rs\Fl\«l\DOK\word~dok\P333 l6-B.docSEO0/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 12 Intressanta är även föreningar med formeln (I) och (Ia), vari R, och R, betecknar C,-C,-alkyl, speciellt metyl.
Lämpligen användes föreningar med formeln (Ia) i föreliggande fotoinitiator- blandningar, vari R,, R4, Rf, och R, är väte.
Andra lämpligen använda föreningar med formeln (Ia) är sådana, vari R, och R, betecknar metyl.
Intressanta fotoinitiatorblandningar är även sådana, vari i föreningarna med formeln (Ia) 11,, 11,, R, och R, år väte.
Andra lämpliga fotoinitiatorblandningar är de som innehåller föreningar med formeln (Ia) och föreningar med formeln (II), vari RQ betecknar väte, C,-C_,-alkyl, CVC,- en, H3 alkoxi, -OCHZCHZORm en grupp cH,=c|:- eller en grupp 9 cry-o , Å | R, och Rw oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Cyalkyl, fenyl, CI-Cn-alkoxi eller -O(CH1CH2O)q-CVCS-alkyl, vari q står för ett tal från 1 till 10, eller R., och RK, tillsammans med kolatomen: vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH utgör hydroxi, C,-C,,-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C,-C8-alkyl, eller (och föreningar med formeln (III) eller/och föreningar med formeln (IV), vari RH, är väte eller metoxi, Ru, utgör metoxi, metyltio, morfolino eller en grupp med formeln (Iva), Rzo betecknar metyl eller etyl, Ru och RB är lika och är metyl eller bildar tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, en fem- eller sexledad, mättad ring, som kan vara avbruten av -O-, och RB utgör väte, Q-Cs-alkyl.
Likaledes intressant är en fotoinitiatorblandning, som innehåller föreningar med formeln (II), vari Rs betecknar väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi eller -OCHzCHzORm R., och Rm oberoende av varandra är väte, fenyl, metyl, metoxi eller R., och Ru, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, och RH står för hydroxi eller metoxi.
Andra lämpliga fotoinitiatorblandningar är sådana, vari föreningen med formeln (III) är bensofenon, 2,4,6-trimetylfenyl-fenyl-keton, 4-metylfenyl-fenyl-keton, (3-metyl-4- metoxi-fenyl)-(3-rnetylfemfD-keton, 4[(4-rnetylfcnyltioyfeny'l]-fenyl-keton, Z-karboxifenyl- fenyl-keton eller 4(2-hydroxietoxi)fenyl-fenyl-keton. Lämpliga är även fotoinitiatorbland- ningar, i vilka föreningar med formeln (II) är 1-bensoyl-hydroxi-l-metyletan, 1-bensoyl- \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word~dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 13 cyklohexanol, 4[(hydroxietoxi)-bensoyl]-1-hydroxi-1-metyletan, l(4-isopropylbensoyl)-l- hydroxi-1-metyletan eller 2,2-dimetoxi-1,2-difenyletan-1-on.
Lämpliga är vidare fotoinitiatorblandningar, i vilka föreningen med formeln (IV) är 1-(3,4-dimetoxibensoyl)-1-bensyl-1-morfolino-propan, l-(4-metyltiobensoyl)-1-metyl-1- morfolino-etan, 1-(4-morfolinobensoyl)-1-bensyl-1-dimetylamino-propan eller 3,6-bis(2- metyl-2-morfolino-propan-1-on)-9-oktyl-karbazol.
Intressanta är dessutom fotolnitiatorblandningar i vilka föreningen med formeln (Ia) är bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-diisopropylfenyl-fosfinoxid, bis[2,6-dimetyl-4(2-metylpro- pyl)bensoyl]-fenyl-fosfinoxid, bis(2,6-dimetylbensoyl)-fenyl-fosfinoxid, bis(2,4,6-trimetyl~ bensyD-fenyl-fosñnoxid eller bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfmoxid.
Föreliggande fotoinitiatorblandningar innehåller såsom förening med formeln (Ia) företrädesvis bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosfmoxid.
Lämpliga är blandningar utan bensofenon.
Lämpliga är blandningar innehållande föreningar med formeln (II).
Intressanta är även fotoinitiatorblandningar innehållande såsom förening med formeln (Ia) bis(2¿_4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenylfosfinoxid; bis(2,4,6- trimetylbensoylp-2-metylfenylfosñnoxid; bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid; bis(2,4,6-trimetvlbensoyl)-2ß-dietylfenylfosfinoxid eller/och bis(2,4,6-trirnetylbensoyl)- 2,3,5,ó-tetrametylfenylfosfinoxid.
Speciellt lämplig år en fotoinitiatorblandning som innehåller 25% bis(2,4,6- trimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75 % l-bensoylcyklohexanol.
Likaledes lämplig är en fotoinitiatorblandning som innehåller 25% bis(2,4,6- trimetylbensoyD-fenyl-fosñnoxid och 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyl-etan.
Intressanta är även fotoinitiatorblandningar som innehåller flera föreningar med formeln (Ia) eller blandningar av föreningar med formeln (Ia) med andra bisacylfosfinoxider eller/och monacylfosfmoxider och föreningar med formeln (II) eller/och (III), såsom exempelvis en kombination av bis(2,4,6-trimetylbensoyD-fenylfosfinoxid, bis(2,6- dimetoxibensoyD-(l,4,4,-trimetylpentyDfosfinoxid, l-bensoyl-cyklohexanol eller exempelvis av bis(2,4,6-trimetylbensoyD-fenylfosñnoxid, bis(2,6-dimetoxibensoyl)-(1,4,4-trimetyl- pentybfosflnoxid och l-bensoyi-l-hydroxi-l-metyl-etan eller exempelvis av bis(2,4,6- trimetylbenosyl)-fenylfosñnoxid, bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenylfosñnoxid, \\SPB\VOL3\uSers\FM\D0l(\word-dok\P333 ló-BAIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 14 1-bensoyl-1-hydroxi-l-metyl-etan och/eller 1-bensoyl-cyklohexanol, av bis(2,4,6- trimetylbensoyl)-fenylfosfinoxid, 2,4,6-trimetylbensoyl-difenylfosfinoxid, l-bensoyl-1- hydroxi-l-metyl-etan och/eller 1-bensoyl-cyklohexanol eller av bis(2,4,6-trirnetylbensoyl)- 2,4-dipentoxifenylfosñnoxid, 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyl-etan och/eller l-bensoyl-cyklo- hexanol.
Enligt uppfinningen kan föreningarna med formeln (I) och blandningarna (Blends) av föreningar med formeln (Ia) med föreningar med formeln (II) eller/och (III) eller/och (IV) såsom fotoinitiatorer användas för fotopolymerisation av eteniskt omättade föreningar respektive blandningar, som innehåller sådana föreningar. Denna användning kan även ske i kombination med andra tillsatsmedel.
Uppfirfnin-gen avser därför även fotopolymeriserbara kompositioner, som innehåller (a) åtminstone en eteniskt omättad, fotopolymeriserbar förening och (b) såsom fotoinitiator åtminstone en förening med formeln (I) eller en fotoinitiator- blandning, såsom den här beskrivits, varvid kompositionen jämte komponenten (b) dessutom kan innehålla ytterligare tillsatsmedel. I t De omgättade föreningarna kan innehålla en eller flera olefiniska dubbelbindningar.
De kan vara lågmolekylära (monomer) eller högmolekylära (oligomer). Exempel på monomerer med en dubbelbindning är alkyl- eller hydroxialkylakrylat eller -metakrylat, såsom metyl-, etyl-, butyl-, 2-etylhexyl- eller 2-hydroxietylakrylat, isobornylakrylat, metyl- eller etylmetakrylat. Intressanta är även kiselakrylat. Andra exempel är akrylnitril, akrylamid, metakrylamid, N-substituerade (met)akrylamider, vinylestrar, såsom vinylacetat, vinyletrar, såsom isobutylvinyleter, styren, alkyl- och halogenstyrener, N-vinylpyrrolidon, vinylklorid eller vinylidenklorid.
Exempel på monomerer med flera dubbelbindningar är etylenglykol-, propylenglykol-, neopentylglykol-, hexametylenglykol- eller bisfenol-A-diakrylat, pentaeryttritoltri- 4,4'-bis(2-akryloyloxietoxi)-difenylpropan, trimetylolpropan-triakrylat, akrylat eller -tetraakrylat, vinylakrylat, divinylbensen, divinylsuccinat, diallylftalat, triallylfosfat, triallylisocyanurat eller tris-(2-akryloyletyl)isocyanurat.
Exempel på högmolekylära (oligomera), flerfaldigt omättade föreningar är akrylerade epoxidhartser, akrylerade eller vinyleter- eller epoxigrupper innehållande polyestrar, polyuretaner och polyetrar. Andra exempel på omättade oligomerer är omättade \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 15 polyesterhartser, som mestadels framställes av maleinsyra, ftalsyra och en eller flera dioler och har molekylvikter från cirka 500 till 3000. Därjämte kan även vinyletermonomerer och -oligomerer samt maleatterminerade oligomerer med polyester-, polyuretan-, polyeter-, polyvinyleter- och epoxidhuvudkedjor användas. Speciellt är kombinationer av vinyletergrupper uppbärande oligomerer och polymerer. såsom de är beskrivna i WO 90/01512, väl lämpade. Även sampolymerer av monomerer med funktionaliserade vinyleter och maleinsyra kommer emellertid i fråga. Sådana omättade oligomerer kan även betecknas såsom förpolymerer. .
Speciellt lämpliga är exempelvis estrar av eteniskt omättade karboxylsyror och polyoler eller polyepoxider samt polymerer med eteniskt omättade grupper i kedjan eller i sidogruppernaïsásom- exempelvis omättade polyestrar, polyamider och polyuretaner samt sampolymerer därav, polybutadiener och butadien-sampolymerer, polyisopren och isopren- sampolymerer, polymerer och sampolymerer med (met)akrylgrupper i sidokedjoma samt blandningar av en eller flera sådana polymerer.
Exempel pà omättade karboxylsyror är akrylsyra, metakrylsyra, krotonsyra, itakonsyra, karifelsyra, omättade fettsyror, såsom linolensyra eller oljesyra. Lämpliga är akryl- och metakrylsyra.
Såsom polyoler är aromatiska och speciellt alifatiska och cykloalifatiska polyoler lämpliga. Exempel på aromatiska polyoler är hydrokinon, 4,4'-dihydroxidifenyl, 2,2-di(4- hydroxifenyl)-propan, samt novolacker och resoler. Exempel på polyepoxider är sådana på basis av angivna polyoler, speciellt aromatiska polyoler och epiklorhydrin. Vidare är även polymerer och sampolymerer, som innehåller hydroxylgrupper i polymerkedjan eller i sidogrupperna, såsom exempelvis polyvinylalkohol och sampolymerer därav eller polymetakrylsyrahydroxialkylestrar eller sampolymerer därav, lämpliga såsom polyoler.
Andra lämpliga polyoler är oligoestrar med hydroxyländgrupper.
Exempel på alifatiska och cykloalifatiska polyoler är alkylendioler med lämpligen 2-12 C-atomer, såsom metylenglykol, 1,2- eller 1,3-propandiol, 1,2- , 1,3- eller 1 ,4-butandiol, dodekandiol, trietylenglykol, polyetylenglykoler med molekylvikter från lämpligen 200 till 1500, pentandiol, hexandiol, oktandiol, dietylenglykol, 1,3-cyklopentandiol, 1.2-, 1,3- eller IA-cyklohexandiol, 1,4-dihydroximetylcyklohexan, glycerol, tri-(ß-hydroxietybamin, trimetyloletan, trimetylolpropan, pentaerytritol, dipentaerytritol och sorbitol.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l6-B .dOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 16 Polyolerna kan vara delvis eller fullständigt förestrade med en eller flera omättade karboxylsyror, varvid i delestrarna de fria hydroxylgrupperna kan vara modifierade, t.ex. företrade eller förestrade med andra karboxylsyror.
Exempel på estrar är: trimetylolpropanakrylat, trimetyloletantriakrylat, trimetylolpropantrimetakrylat, trimetyl- oletantrimetalaylat, tetrametylenglykoldirnetakrylat, trietylenglykoldimetakrylat, tetraetylen- glykoldiakrylat, pentaerytritoldiakrylat, pentaerytritoltriakrylat, pentaerytritoltetraakrylat, dipentaerytritoldiakrylat, dipentaerytritoltriakrylat, dipentaerytritoltetrakrylat, dipentaery- tritolpentaakrylat, dipentaerytritolhexaakrylat, tripentaerytritoloktaakrylat, pentaery- tritoldimetakrylat, pentaerytritoltrimetakrylat, dipentaerytritoldimetakrylat, dipenta- erytritoltetrametakrylat, tripentaerytritoloktametakrylat, pentaerytritoldiitakonat, dipenta- dipentaerytritolhexaitakonat, erytritoltrisitakonat, etylen- glykoldiakrylat, lß-butandioldiakrylat, 1ß-butandioldiametakrylat, lA-butandiol-itakonat, dipentaerytritolpentaitakonat, sorbitoltriakrylat, sorbitoltetra- sorbitoltetraakrylat, pentaerytritol-modifierat-triakrylat, metakrylat, sorbitolpentaakrylat, sorbitolhexaakrylat, oligoesterakrylater och -metakrylat, glyceroldi- och triaktylat, IA-cyklohexandiakrylat, bisakrylat och bismetakrylat av polyetylenglykol med en molekylvikt från 200 till 1500 eller blandningar därav.
Såsom komponent (a) är även amiderna av lika eller olika, omättade karboxylsyror av aromatiska, cykloalifatiska och alifatiska polyaminer med lämpligen 2-6, speciellt 2-4 aminogrupper, lämpliga. Exempel på sådana polyaminer är etylendiarnin, 1,2- eller 1,3-propylendiamin, 1,2-, 1,3- eller IA-butylendiamin, 1,5-pentylendiamin, dodecylendiamin, 1 ,4-diaminocyklohexan, 1 fi-hexylendiamin, oktylendiamin, isoforondiamin, fenylendiamin, bisfenylendiamin, di-ß-aminoetyleter, dietylentriamin, trietylentetramin, di(ß-aminoetoxi)- eller di(ß-aminopropoxi)etan. Andra lämpliga polyaminer är polymerer och sampolymerer med eventuellt ytterligare aminogrupper i sidokedjorna och oligoamider med aminoändgrupper. Exempel på sådana omättade amider är: metylen-bis-akrylamid, 1 ,6-hexametylen-bis-akrylamid, dietylentriamin-tris- metakrylamid, bis(metakrylamidopropoxi)-etan, ß-metakrylamidoetylmetakrylat, N[(ß-hydroxietoxi)etyl]-akrylamid.
Lämpliga omättade polyestrar och polyamider härrör exempelvis från maleinsyra och dioler eller diaminer. Maleinsyra kan delvis vara ersatt av andra dikarboxylsyror. De kan användas tillsammans med eteniskt omättade sammonomerer, t.ex. styren. Polyestrar \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-d0k\P333 1 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 ~ 520727 17 och polyamider kan även härröra från dikarboxylsyror och eteniskt omättade dioler eller diaminer, speciellt från sådana med längre kedja exempelvis med 6-20 C-atomer. Exempel på polyuretaner är sådana, som är uppbyggda av mättade eller omättade diisocyanat och omättade respektive mättade dioler.
Polybutadien och polyisopren och sampolymerer därav är kända. Lämpliga sammonomerer är exempelvis olefmer, såsom eten, propen, buten, hexen, (meO-akrylat, akrylnitril, styren eller vinylklorid. Polymerer med (meD-akrylatgrupper i sidokedjorna är ävenledes kända. Det kan exempelvis röra sig om omsättningsprodukter av epoxidhartser på novolackbasis med (met)akrylsyra, om homo- eller sampolymerer av vinylalkohol eller dess hydroxialkylderivat, som är förestrade med (met)akrylsyra, eller om homo- och sampolymerer av (fnetäakrylat, som är förestrade med hydroxialkyl(met)akrylat.
De fotopolymeriserbara föreningarna kan användas ensamma eller i godtyckliga blandningar. Lämpligen användes blandningar av polyol(met)akrylat.
Föreliggande kompositioner kan även tillsättas bindemedel, vilket är speciellt lämpligt, när det vid de fotopolymeriserbara föreningarna rör sig om flytande eller viskösa substanser. Mähgden bindemedel kan exempelvis uppgå till 5-95, företrädesvis 10-90 och speciellt 40-90 äviktprocent, räknat på totalmängden fast kropp. Valet av bindemedel sker alltefter användningsområde och härav fordrade egenskaper, såsom framkallbarhet i vidhäftning på substrat och lösningsmedelssystem, vattenhaltiga och organiska syrekänslighet.
Lämpliga bindemedel är exempelvis polymerer med en molekylvikt av cirka 5000- 2.000.000, lämpligen 10.000-1.000.000. Exempel är: homo- och sampolymerer av akrylat och metakrylat, t.ex. sampolymerer av metylmetakrylat/etylakrylat/metakrylsyra, poly(metakrylsyraestrar), poly(akrylsyraalkylestrar); cellulosaestrar- och etrar, såsom cellulosaacetat, cellulosaacetatbutyrat, metylcellulosa, etylcellulosa; polyvinylbutyral, polyvinylformial, cykloserad kautschuk, polyetrar, såsom polyetylenoxid, polypropylenoxid, polytetrahydrofuran; polystyren, polykarbonat, polyuretan, klorerade polyolefiner, polyvinylklorid, sampolymerer av vinylklorid/vinylidenklorid, sampolymerer av vinylidenklorid med akrylnitril, metylmetakrylat och vinylacetat, polyvinylacetat, sampoly(eten/vinylacetat), polymerer, såsom polykaprolaktam och poly(hexametylen- säsom poly(etylenglykoltereftalat) och poly(hexametylen- adipamid), polyestrar, glykolsuccinat).
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P33316-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 18 De omättade föreningarna kan även användas i blandning med icke- fotopolymeriserbara, filmbildande komponenter. Dessa kan exempelvis vara fysikaliskt torkande polymerer respektive deras lösningar i organiska lösningsmedel, såsom exempelvis nitrocellulosa eller cellulosaacetobutyrat. De kan emellertid även vara kemiskt respektive termiskt härdbara hartser, såsom exempelvis polyisocyanat, polyepoxider eller melaminhartser. Den samtidiga användningen av termiskt härdbara hartser är av betydelse för användningen i s.k. hybridsysterrf, som fotopolymeriseras i ett första steg och tvärbindes i ett andra steg genomtterrnisk efterbehandling.
De fotopolymeriserbara blandningarna kan förutom fotoinitiatorn innehålla olika tillsatsmedel. Exempel härpå är termiska inhibitorer, som skall förhindra en för tidig polymerisationïsåsomiexempelvis hydrokinon, hydrokinonderivat, p-metoxifenol, ß-naftol eller steriskt hindrade fenoler, såsom exempelvis 2,6-di(t-butyl)-p-kresol. För att öka lagringsstabiliteten i mörker kan man exempelvis använda kopparföreningar, såsom kopparnaftenat, -stearat eller -oktoat, fosforföreningar, såsom exempelvis trifenylfosfin, tributylfosfin, trietylfosfit, trifenylfosfit eller tribensylfosfit, kvaternåra ammoniumförerliingar, såsom exempelvis tetrametylammoniumklorid eller trimetyl- bensylammoniurnklorid, eller hydroxylaminderivat, såsom exempelvis N -diety1- hydroxylamin. I syfte att utesluta luftsyre under polymerisationen kan man tillsätta paraffin eller liknande vaxartade substanser, som vid början av polymerisationen vandrar på ytan pá grund av bristande löslighet i polymeren och bildar ett transparent ytskikt, som förhindrar luft. Likaledes kan ett syreogenomsläppligt skikt Såsom tillträde av pâföras. ljusskyddsmedel kan UV-absorptionsmedel, såsom exempelvis sådana av hydroxifenylbenstriazol-, hydroxifenylbensofenom, oxalsyraamid- eller hydroxifenyl-s- triazintyp, tillsättas. En enstaka förening eller blandningar av dessa föreningar med eller utan användning av steriskt hindrande aminer (HALS) kan användas.
Exempel på sådana UV-absorptionsmedel och ljusskyddsmedel är: 1. 2-(2'-hydroxifenyl)-bensotriazoler, såsom exempelvis 2-(2'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)-bensotriazol, 2-(3,5'-di-t-butyl-2'-hydroxifenyl)-bensotriazol, 2-(5'-t-butyl-2'-hydroxi- fenyD-bensotriazol, 2-(2'-hydroxi-5'-(l , l ,3 ,3-tetrametylbutyl)feny1)-bensotriazol, 2-(3 ,5ïdi-t-butyl-Z'-hydroxifenyD-S-klor-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-Z'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)-5-klor-bensotriazol, 2-(3'-s-butyl-5'-t-butyl-Z'-hydroxifenyl)-bensotriazol, 2-(2'-hydroxi-4'-oktoxifenyl)-bensotriazol, 2-(3',5'-di-t-amyl-Z'-hydroxifenyD-bensotriazol, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-d0k\P333 1 ó-BAJOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 i 520727 19 2-(3',5'-bis(a,a-dimetylbensyl)-2'-hydroxifenyl)-bensotriazol, blandning av 2-(3'-t-butyl-2'- 2-(3'-t-butyl-5'-[2-(2-etyl- 2-(3'-t-butyl-T-hydroxi-S'-(2- hydroxi-S'-(2-oktyloxikarbonyletyl)fenyl)-5-klor-bensotriazol, hexyloxi)-karbonyletyl]~2'-hydroxifenyl)-5-klor-bensotriazol, metoxikarbonyletyl)fenyl)5-klor-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-2'-hydroxi~5'-(2-metoxikarbonyl- etyDfenyD-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-2'-hydroxi-5'-(2-oktyloxikarbonyletyDfenyl)-bensotria- 2-(3'- dodecyl-Z'-hydroxi-5'-metylfenyD-bensotriazol och 2-(3ït-butyl-Zflhydroxi-S'-(2-isookty1- zol, 2-(3'-t-butyl-5'-[2-(2-etylhexy1oxi)karbonyletyl]-2'-hydroxifenyD-bensotriazol, oxikarbonyletyl)fenyl-bensotriazol, 2 ,2'-metylen-bis[4-(1 , 1,3,3-tetrametylbutyD-ó-bensotria- zol-2-yl-fenol]; omförestringsprodukt av 2-[3'-t-butyl-5'-(2-metoxikarbonyletyl)-2'-hydroxi- fenyU-bensotriazol med polyetylenglykol 300; [R-CH2CH,-COO(CH2),]2 med R = 3'-t-buty1-4'-hydroxi-5'-2H-bensotriazol-2-yl-fenyl. 2. Z-hydroxibensofenoner, såsom exempelvis 4-hydroxi-, 4-metoxi-, 4-oktoxi-, 4- decyloxi-, 4-dodecyloxi-, 4-bensyloxi~, 4l,2',4'-trihydroxi-, 2'-hydroxi-4,4'-dimetoxi-derivat. 3. Estrar av eventuellt substituerade bensoesyror, såsom exempelvis 4-t-butyl- dibensoylresorcinol, bis-(4-t-butyl- fenylsalicylat, lfenylsalicylat, oktylfenyl-salicylat, bensoyl)-resorcinol, bensoylresorcinol, 3,5-di-t-buty1-4-hydroxibensoesyra-2A-di-t-butyl- fenylester, 3,5-dfi-t-buty1-4-hydroxibensoesyrahexadecylester, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxi- bensoesyra-oktadecylester, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxibensoesyra-2-metyl-4,6-di-t-buty1- fenylester. 4. Akrylat, såsom exempelvis ot-cyan-ß,ß-difenylakrylsyraetylester respektive -isooktylesten oc-karbometoxi-kanelsyrametylester, oc-cyan-ß-metyl-p-metoxi-kanelsyram- etylester respektive -buty1ester, ot-karbometoxi-p-metoxi-kanelsyra-metylester, N-(ß-karbometoxi-ß-cyanvinyl)-2-metyl-indolin. 5. Steriskt hindrade aminer, såsom exempelvis bis-(2,2,6,ó-tetrametyl-piperidyb- bis-(1 ,2 , 2 ,6 ,6-pentamety1piperidyl)- sebakat, bis-(2 ,2 ,6,ó-tetrametyl-piperidyD-succinat, sebakat, n-butyl~3 ,5 -di-t-buty1-4-hydroxibensyl-malonsyra-bis(1 ,2 ,2 ,6 ,6-pentametylpiperi- dyl)ester, kondensationsprodukt av 1-hydroxietyl-2,2,6,ó-tetrametyl-4-hydroxipiperidin och bärnstenssyra, kondensationsprodukt av N,N'-bis-(2,2,6,ó-tetrametyl-4-piperidy1)-hexa- metylendiamin och 4-t-oktylamino-2,6-diklor-1,3,5-s-triazin, tris-(2,2,6,6-tetrametyl-4- piperidyD-nitrilotriacetat, tetrakis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidy1)-1 ,2,3 A-butantetraoat, 1,1'-(1,2-etandiyl)-bis-(3,3,5,S-tetrametyl-piperazinon), 4-bensoyl-2,2,6,6-tetrametylpiperi- din, 4-stearyloxi-2,2,6,6-tetrametylpipidin, bis-(1,2,2,6,6-pentametylpiperidyD-Z-n-butyl-Z- \\SPB\VOL3\userS\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 20 (2-hydroxi-3,5-di-t-butylbensy1)-malonat, 3-n-oktyl-7,7,9,9-tetrametyl-1 ,3 ,8-triazaspiro- [4,5]dekan-2,4-dion, bis-(1-oktyloxi-2,2,6,ó-tetrametylpiperidyD-sebakat, bis-(l-oktyloxi- 2,2,6,6-tetrametylpiperidyD-succinat, kondensationsprodukt av N ,N'-bis-(2,2,6,6-tetra- metyl-4-piperidyD-hexarnetylendiamin och 4-morfolino-2,6-diklor-1,3,5-triazin, kondensa- tionsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)-1,3,5-triazin och 1,2-bis-(3-aminopropylamino)-etan, kondensationsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino- 1 ,2,2 ,6,6-pentametylpiperidyl)-1 ,3 ,5',-triazin och 1,2-bis-(3 -aminopropylamino)-etan, i 3-dodecyl-1- 3-dodecyl-1-(l ,2,2,6,6-pentametyl-4- 8-acetyl-3-dodecyl-7 . 7 ,9 , Q-tetrametyl-l ,3 ,8-triazaspiro[4,5]dekan,2,4-dion, (2,2,6,6-tetramety1-4-piperidyD-pyrrolidin-2,5-dion, piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion. 6. Oxalsyçadiamider, såsom exempelvis 4,4'-di-oktyloxi-oxanilid, 2,2'-dietoxi-oxa- nilid, 2,2'-di-oktyloxi-5ßïdi-t-butyl-oxanilid, 2,2'-di-dodecyloxi-5,5'-di-t-butyl-oxanilid, 2- etoxi-2'-etyl-oxanilid, N,N'-bis-(3-dirnetylaminopropyD-oxalamid, 2-etoxi-5-t-butyl-2'- etyloxanilid och dess blandning med Z-etoxi-Zïetyl-S,4'-di-t-butyl-oxanilid, blandning av o- och p-metoxi- samt av o- och p-etoxi-di-substituerade oxanilider. 7. 2-(,2-hydroxifenyl)-1,3,5-triaziner, såsom exempelvis 2,4,6-tris(2-hydroxi-4- oktyloxifenyl)-l',3 ,5-tr'iazin, 2-(2-hydroxi-4-oktyloxifeny1)-4,6-bis-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5- triazin, 2-(2,4-dihydroxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-bis(2-hydroxi-4- propyloxi-fenyD-ó-(Z,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-oktyloxifenyl)-4,6-bis(4- metylfenyD-l ,3 ,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-dodecyloxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5- triazin, 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-3-butyloxi-propyloxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)- 1 ,3 ,5-triazin, 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-3 -oktyloxi-propyloxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetyl- fenyl)-l ,3 ,5-triazin, 2-[4-dodecyl/tridecyl-oxi-(Z-hydroxipropyl)oxi-2-hydroxifenyl]-4,6-bis- (2 ,4-dimetylfenyl)-1 ,3 ,5-triazin. 8. Fosfit fenyldialkylfosñt, difenylalkylfosfit, trioktadecylfosfit, och fosfonit, såsom exempelvis trifenylfosfit, tris-(nonylfenyD-fosfit, trilaurylfosfit, distearyl- pentaerytitoldifosñt, tris-(2,4-di-t-butylfenyD-fosñt, diisodecylpentaerytritol-difosfit, bis- (2,4-di-t-butylfenyD-pentaerytritoldifosfit, bis-(2,6-di-t-butyl-4-rnetylfenyD-pentaerytritol- difosñt, erytritoldifosfit, bis-(Z,4,6-tri-t-butylfenyD-pentaerytritolfosñt, trisstearyl-sorbitol-trifosñt, bis-isodecyloxi-pentaerytritoldifosñt, bis-(2,4-di-t-butyl-ó-metylfenyb-penta- tetrakis-(2,4-di-t-butylfenyl)-4ß-bifenylen-difosfonit, 6-isooktyloxi-2,4,6,IO-tetra-t-butyl- l2H-dibens[d,g]-1,3,2-dioxafosfofin, 6~fluor-2,4,8, lO-tetra-t-butyl- l2-metyl-dibens[d,g]- \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word-d0k\P333 I6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 21 1,3,2-dioxafosfocin, bis-(2,4-di-t-butyl-6-metylfenyl)-metylfosfit, bis-(2,4-di-t-butyl-6- metylfenyD-etylfosfit.
Föremål för föreliggande uppfinning är därför även fotopolymeriserbara kompositioner, som såsom fotoinitiator innehåller åtminstone en förening med formeln (I) eller en fotoinitiatorblandning, såsom den beskrivits, samt ett UV-absorptionsmedel frán klassen av hydroxifenyl-s-triazin och/eller hydroxifenylbenstriazoler och/eller steriskt hindrande aminer på basis av 2,2,6,óltetrametyl-piperidiner.
Lämplig är en komposition, som innehåller en fotoinitiatorblandning av föreningar med formeln (Ia), speciellt bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenylfosfinoxid, och föreningar med formeln (II), speciellt l-bensoylcyklohexanol och 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyl-etan, samt en blandning av 85%: 4,6-di(2,4-dimetylfenyl)-2-[2-hydroxi4-(blandning av dodecyloxi och tridecyloxi)(2-hydroxi)propyl-3-oxifenyl]-1,3,5-triazin och 15% 1-metoxi-2-propanol såsom UV-absorptionsmedel.
För att accelerera fotopolymerisationen kan man tillsätta aminer, såsom exempelvis trietanolamin, N-metyl-dietanolamin, p-dirnetylaminobensoesyra-etylester eller Michlers ketoni Aminernas verkan kan förstärkas genom tillsats av aromatiska ketoner av typ bensofenonf När föreliggande blandningar, som innehåller föreningar med formeln (III) användes, uppnås genom tillsatsen av aminer en förbättring i reaktivitet. Såsom syrefángare användbara aminer, märkes exempelvis substituerade N,N-dialkylaniliner, såsom de är beskrivna i EP-A- 339 841. Andra acceleratorer, saminitiatorer och autooxidationsmedel är tioler, tioetrar, disulñder och fosfiner, såsom beskrives i EP-A-438 123 och GB-A-2 180 358.
En acceleration av fotopolymerisationen kan vidare ske genom tillsats av fotosensibilisatorer, som förskjuter respektive breddar den spektrala känsligheten. Dessa är speciellt aromatiska karbonylföreningar, såsom exempelvis bensofenon-, tioxanton-, antrakinon- och 3-acylkumarinderivat, samt 3-(aroylmetylen)-tiazoliner, men även eosin-, rodamin- och erytrosinfårgämnen.
Härdningsförloppet kan understödjas speciellt av (t.ex. med titandioxid) pigmenterade kompositioner, även genom tillsats av en under termiska betingelser radikalbildande komponent, såsom exempelvis en azoförening, såsom 2,2'-azobis(4-metoxi- 2,4-dimetylvaleronitril), en triazen, diazosulfid, pentazadien eller en peroxidförening, \\SPB\VOL3\uSers\FM\DOK\word-dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 22 såsom exempelvis hydroxiperoxid eller peroxikarbonat, t.ex. t-butylhydroperoxid, såsom exempelvis beskrives i EP-A-245 639.
Föreliggande kompositioner kan även innehålla ett fotoreducerbart fárgämne, såsom exempelvis xanten-, bensoxanten-, bensotioxanten-, tiazin-, pyronin-, porfyrin- eller akridinfárgämne, och/eller en genom strålning spjälkbar trihalogenmetyl-förening. Liknande kompositioner är exempelvis beskrivna i EP-A-445 624.
Andra vanliga tillsatser ärt - alltefter användningsändamål - optiska vitmedel, fyllmedel, pigment, färgämnen, vätmedel eller utflytningsmedel. För härdning av tjockare och pigmenterade beläggningar är tillsats av mikroglaskulor eller pulveriserade glasñbrer lämplig, såsom exempelvis beskrivits i US-A-5 013 768.
Föremål för- uppfinningen är även kompositioner som såsom komponent (a) innehåller minst en i vatten löst eller emulgerad, eteniskt omättad, fotopolymeriserbar förening.
Sådana strålningshärdbara, vattenhaltiga förpolymerdispersioner är handeln erhållbara i många variationer. Man förstår därmed en dispersion av vatten och minst en däri dispergerad förpolyrner. Koncentrationen av vattnet i detta system ligger exempelvis vid 5-80, speciellt 30-60 viktprocent. Den strålningshärdbara förpolymeren respektive förpolymerblandningen föreñnnes exempelvis i koncentrationen från 95-20, speciellt 70-40 viktprocent. I dessa kompositioner är summan av de för vatten och förpolymer angivna procenttalen alltid 100, hjälpmedel och tillsatsmedel tillkommer i olika mängder, alltefter användningsändamålet.
Vid de strålningshårdbara, i vatten dispergerade, ofta även lösta, ñlmbildande förpolymererna rör det sig om vattenhaltiga förpolymerdispersioner av i och för sig kända, av fria radikaler initierbara mono- eller polyfunktionella eteniskt omättade förpolymerer, som exempelvis uppvisar en halt av 0,01-1,0 mol per 100 g förpolymer av polymeriserbara dubbelbindningar och en medelmolekylvikt av exempelvis åtminstone 400, speciellt från 500 till 10.000. Alltefter användningsändamålet ifrågakommer dock även förpolymerer med högre molekylvikter.
Exempelvis användes polymeriserbara, C-C-dubbelbindningar innehållande polyestrar med ett syratal av högst 10, polymeriserbara C-C-dubbelbindningar innehållande polyetrar, hydroxylgrupphaltiga omsättningsprodukter av en åtminstone två epoxidgrupper per molekyl innehållande polyepoxid med åtminstone en odß-eteniskt omättad karboxylsyra, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-dok\P333 l 6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 23 polyuretan(met)akrylat samt ogß-eteniskt omättade akrylrester innehållande akrylsampolymerer, såsom de är beskrivna i EP-A-12 339. Blandningar av dessa förpolymerer kan ävenledes användas. Dessutom ifrågakommer de i EP-A-33 896 beskrivna, polymeriserbara förpolymerer, vid vilka det rör sig om tioeteraddukter av polymeriserbara förpolymerer med en medelmolekylvikt av minst 600, en karboxylgrupphalt av 0,2-15% och en halt av 0,01-0,8 mol polymeriserbara C-C- dubbelbindningar per 100 g förpolynier. Andra lämpliga, vattenhaltiga dispersioner på basis av speciellt (meøakrylsyraalkylester-polymerisat är beskrivna i EP-A-41 125, lämpliga i vatten dispergerbara, strâlningshärdbara förpolymerer av uretanakrylat framgår av DE-A- 29 36 039.
Såsom ytterligare tillsatser kan dessa strålningshärdbara, vattenhaltiga förpolymerdispersioner innehålla dispergeringshjälpmedel, emulgatorer, antioxidanter, ljusstabiliseringsmedel, färgämnen, pigment, fyllmedel, t.ex. talk, gips, kiselsyra, rutil, sot, zinkoxid, förtjockningsmedel, matteringsmedel, skumdämpande medel och andra inom lackteknologin järnoxider, reaktionsacceleratorer, utflytningsmedel, glidmedel, vätmedel, vanliga hjälpmedel. Såsom dispergeringsmedel ifrågakommer vattenlösliga, högmolekylära organiska förehingar med polära grupper, såsom exempelvis polyvinylalkoholer, polyvinylpyrrolidon eller cellulosaetrar. Såsom emulgatorer kan icke-joniska, eventuellt även joniska emulgatorer användas.
De fotopolymeriserbara kompositionerna innehåller fotoinitiatorn eller fotoinitiatorblandningen (b) lämpligen i en mängd av 0,05-15 viktprocent, företrädesvis 0,1- 5 viktprocent, räknat på kompositionen.
Vid användningen av föreliggande fotoinitiatorer i hybridsystem användes förutom radikalbildande bensoylperoxid, aromatiska sulfonium- eller jodoniumsalter eller cyklopentadienylaren- föreliggande härdare katjoniska fotoinitiatorer, såsom exempelvis järnGD-komplexsalter.
I bestämda fall kan det vara en fördel att jämte föreliggande föreningar eller fotoinitiatorblandningar använda ytterligare initiatorer. Till exempel kan fosfiner eller fosfoniumsalter eller exempelvis föreningar med följande formel: _p-1'1=D ¿U-'0=O \\SPB\VOL3\userS\FM\DOK\word-dok\P333 l 6-B .dOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 24 (beskriven i US-A-5-436 280 eller JP-A-Hei 6 263809), vari Q står för S eller O och R,', R,', R,' och R4' exempelvis betecknar alkyl, alkenyl eller aryl, och fosfiter användas såsom tillsatser.
De fotopolymeriserbara kompositionerna kan användas för olika ändamål, exempelvis såsom tryckfårg, såsom klarlack, såsom vitlack, t.ex. för trä eller metall, såsom bestrykningsmedel, bl.a. för papper, trä, metall eller plast, såsom i dagsljus härdbar bestrykning för byggnads- och gatifmarkering, för fotografiska reproduktionsförfaranden, för holografiska uppteckningsmaterial, för bilduppteckningsförfaranden eller för framställning av tryckplattor, som är framkallningsbara med organiska lösningsmedel eller vattenhaltigt-alkaliskt, för framställning av masker för siltryck, såsom tandfyllningsmassor, såsom klibbämïien., såsom kontakthäftande klibbämnen, såsom lamineringshartser, såsom ets- eller permanentresist och såsom lödstoppmasker för elektroniska kopplingar, för framställning av tredimensionella föremål genom masshärdning (UV-härdning i transparenta former) eller enligt stereolitografiförfarandet, såsom det exempelvis är beskrivet i US-A-4 575 330, för framställning av lamellmaterial (t.ex. styreniska polyestrar, som eventuellt kan finnehålla glasfibrer och andra hjälpmedel) och för andra massor i tjocka skikt, för beläggning eller försegling av elektroniska delar eller såsom överdrag för optiska fibrer.
Föreliggande föreningar och fotoinitiatorblandningar kan vidare användas för emulsionspolymerisation, såsom initiatorer av en polymerisation för fixering av ordningstillståndet i vätskekristallina mono- och oligomerer, såsom initiatorer för fixering av färgämnen på organiska material.
I lacker användes ofta blandningar av en förpolymer med flerfaldigt omättade monomerer, som dessutom innehåller ännu en enkelt omättad monomer. Förpolymeren är härvid i första hand avgörande för lackfilmens egenskaper, och genom dess variation kan fackmannen påverka den härdade filmens egenskaper. Den flerfaldigt omättade monomeren fungerar såsom tvärbindande medel, som gör lackfilmen olöslig. Den enkelt omättade monomeren fungerar såsom reaktivt utspädningsmedel, med vars hjälp viskositeten minskas, utan att ett lösningsmedel måste användas.
Omättade polyesterhartser användes mestadels i tvåkomponentsystem tillsammans med en enkelt omättad monomer, företrädesvis med styren. För fotoresist användes oftast \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 25 specifika enkomponentsystem, såsom exempelvis polymaleinimider, polychalkoner eller polyidimer, såsom de är beskrivna i DE-A-23 08 830.
Föreliggande föreningar och blandningar kan även användas exempelvis i lacker, som föreligger i organiska lösningsmedel och/eller vatten eller lösningsmedelsfria.
Föreliggande föreningar och blandningar därav kan vidare användas såsom radikalbildande fotoinitiatorer eller fotoinitierade system för strålningshärdbara pulverlacker. Pulverlackerna kan grundas på fasta hartser och monomerer innehållande reaktiva dubbelbindningar, såsom exempelvis maleat, vinyletrar, akrylat, akrylarnider och blandningar därav. En radikalbildande, UV-härdbar pulverlack kan beredas genom blandning av omättade polyesterhartser med fasta akrylamider (t.ex. metylakrylamido- glykolatmetylesterí och en radikalbildande fotoinitiator enligt uppfinningen, såsom exempelvis beskrives i föredraget ”Radiation Curing of Powder Coating”, Conference Proceedings, RadTech Europé 1993 av M. Wittig och Th. Gohmann. Likaså kan radikalbildande, UV-härdbara pulverlacker beredas genom blandning av omättade polyesterhanser med fasta akrylat, metakrylat eller vinyletrar och en fotoinitiator (respektive fotoinitiatorblandning) enligt uppfnmingen. Pulverlacker kan även innehålla bindemedel, såsom de exempelvis är beskrivna i DE-A-42 28 514 och EP-A- 636 669. De UV-härdbara pulverlackerna kan även innehålla vita eller färgade pigment. Sålunda kan exempelvis företrädesvis rutil-titandioxid användas upp till koncentrationer av 50 viktprocent, för att en härdad pulverlack med god täckförmåga skall erhållas. Förfarandet omfattar normalt elektrostatisk eller tribostatisk sprutning av pulver på substrat, såsom exempelvis metall eller trä, smältning av pulvret genom uppvärmning och, sedan en slät film bildats, strålningshärdning av överdraget med ultraviolett och/eller synligt ljus, t.ex. med kvicksilvermedeltryckslampor, metallhalogenidlampor eller xenonlampor. En speciell fördel med strålningshärdbara pulverlacker i jämförelse med termiskt härdbara ligger i att flyttiden efter pulverpartiklarnas påsmältning valfritt kan fördröjas för säkerställande av bildningen av ett slätt, högglänsande överdrag. I motsats till termiskt härdbara system kan strålningshärdbara pulverlacker beredas så att de smälter vid lägre temperaturer utan den icke-önskvärda verkan av brukstidsförkortning. Av detta skäl är de även lämpliga såsom överdrag för 'värmekänsliga substrat, såsom exempelvis trä eller plast.
Pulverlackberedningarna kan jämte föreliggande fotoinitiatorer även innehålla UV- absorptionsmedel. Lämpliga exempel har här förut angivits under punkterna 1. - 8.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-duk\P333 l ó-BLIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 26 exempelvis såsom Föreliggande, fotohärdbara kompositioner är lämpliga beläggningsmedel på substrat av alla slag, t.ex. trä, textilier, papper, keramik, glas, plast, såsom polyester, polyetylentereftalat, polyolefiner eller cellulosaacetat, speciellt i form av filmer, samt metaller, såsom Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg eller Co, och GaAs, Si eller SiOz, på vilka ett skyddsskikt eller genom bildmässig belysning en avbildning skall anbringas.
Beläggningen av substraten kan ske därigenom, att en flytande komposition, en lösning eller suspension anbringas påsubstratet, valet av lösningsmedel och koncentrationen rättar sig huvudsakligen efter kompositionens slag och efter beläggningsförfarandet.
Lösningsmedlet bör vara inert, d.v.s. det bör icke ingå någon kemisk reaktion med komponenterna och det bör vid torkningen efter beläggningen åter kunna avlägsnas.
Lämpliga lösningsmedel är exempelvis ketoner, etrar och estrar, såsom metyletylketon, isobutylmetylketon, cyklopentanon, cyklohexanon, N-metylpyrrolidon, dioxan, tetrahydrofuran, 2-metoxietanol, 2-etoxietanol, 1-metoxi-2-propanol, 1,2-dimetoxietan, ättiksyraetylester, ättiksyra-n-butylester och 3-etoxi-propionsyraetylester.
Lösningen anbringas likforrnigt på ett substrat med hjälp av kända beläggningsförfåranden, t.ex. genom centrifugering, doppning, rakelbestrykning, ridågjutning, påpensling, sprutning, speciellt genom elektrostatisk sprutning och beläggning med omvänd vals. Det är även möjligt att bringa det ljuskänsliga skiktet på en temporär, flexibel bärare och därefter genom skiktöverföring genom laminering belägga det slutgiltiga substratet, t.ex. en kopparkascherad ledarplatta.
Påföringsmängden (skikttjockleken) och slaget av substrat (skiktbärare) är beroende av det önskade användningsområdet. Skikttjockleksområdet omfattar i allmänhet värden från cirka 0,1 um till mer än l0 pm.
Föreliggande strålningskänsliga kompositioner finner användning såsom negativa resister, som uppvisar mycket hög ljuskänslighet och kan framkallas svällningsfritt i lämpliga såsom fotoresister för elektronik vattenhaltigt-alkaliskt medium. De är (galvanoresist, etsresist, lödstoppsresist), framställningen av tryckplattor, såsom offsettryckplattor eller siltrycksformar, användning vid formdelsetsning eller användning såsom mikroresist vid framställningen av integrerade kopplingskretsar. I överensstämmelse härmed är de möjliga skiktbärarna och bearbetningsbetingelsema för de belagda substraten olika.
För fotografiska informationsuppteckningar tjänar exempelvis folier av polyester, cellulosaacetat eller med plast belagda papper; för offsettryckformar speciellt behandlat \\SPB\VO1.3\users\FM\DOl(\word-dok\P333l6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 27 aluminium, för framställning av tryckta kopplingar, kopparkascherade laminat och för framställning av integrerade kopplingskretsar kiselbrickor. Vikttjocklekarna för fotografiska material och offsettryckformar uppgår i regel till cirka 0,5 um - 10 um, för tryckta kopplingar till 0,4 um - cirka 2 um.
Efter beläggningen av substratet avlägsnas lösningsmedlet i regel genom torkning, och ett skikt av fotoresisten erhålles på bäraren.
Begreppet ”bildmässig” belysning omfattar såväl belysning genom en fotomask, som innehåller ett i förväg bestämt mönster, exempelvis ett diapositiv, belysning med en laserstråle, som exempelvis förflyttas datorstyrd över ytan av det belagda substratet och på detta sätt åstadkommer en bild samt bestrålning med datorstyrda elektronstrâlar.
Efter den 'bildmässiga beslysningen av materialet och före framkallningen kan det vara fördelaktigt att under kort tid genomföra en termisk behandling. Därvid härdas endast de belysta delarna terrniskt. De använda temperaturerna ligger i allmänhet vid 50-150°C, lärnpligen vid 80-l30°C; tiden för den terrniska behandlingen ligger i regel mellan 0,25 och 10 minuter.
Den fotohärdbara kompositionen kan vidare användas vid ett förfarande för framställning av tryckfórmar eller fotoresister, såsom exempelvis är beskrivet i DE-A-40 13 358 . belyses kompositionen utan mask under kort tid med synligt ljus med en våglängd av åtminstone 400 nm före, samtidigt med eller efter den bildmässiga bestrålningen.
Efter belysningen och eventuellt termisk behandling avlägsnas de obelysta ställena av fotolacken på i och för sig känt sätt med en framkallare.
Föreliggande kompositioner är, såsom redan angivits, vattenhaltigt-alkaliskt framkallningsbara. Lämpliga vattenhaltiga-alkaliska frarnkallningslösningar är speciellt vattenhaltiga lösningar av tetraalkylammoniumhydroxider eller av alkalimetallsilikat, -fosfat, -hydroxider och -karbonat. Dessa lösningar kan eventuellt dessutom vara tillsatta små mängder vätemedel och/eller organiska lösningsmedel. Typiska organiska lösningsmedel, som i små mängder kan tillsättas framkallningsvätskoma, är exempelvis cyklohexanon, 2-etoxietanol, toluen, aceton samt blandningar av sådana lösningsmedel.
Stor betydelse har fotohärdningen för tryckfårger, eftersom torkningstiden för bindemedlet är en avgörande faktor för produktionshastigheten för grafiska artiklar och bör ligga i storleksordningen bråkdelar av sekunder. Speciellt för siltryck är UV-härdbara färger av betydelse.
\\SPB\VOL3\users\FlNl\DOK\word-dok\l>333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 28 Väl lämpade är föreliggande blandningar - såsom redan angivits - även för framställning av tryckplattor. Härvid användes exempelvis blandningar av lösliga, linjära polyamider eller styren/butadien- respektive styren/isopren-kautschuk, polyakrylat eller polymetylmetakrylat med karboxylgrupper, polyvinylalkoholer eller uretanakrylat med fotopolymeriserbara monomerer, exempelvis akryl- respektive metakrylamider eller akryl- respektive metakrylestrar, och en fotoinitiator. Filmer och plattor ur dessa system (våta eller torra) belyses över tryckförlagans ngegativ (eller positiv) och de ohärdade delarna elueras därefter med ett lämpligt lösningsmedel.
Ett ytterligare användningsområde för fotohärdningen är metallbeläggning, exempelvis vid lackering av plåt och tuber, dosor eller flaskförslutningar, samt fotohärdning av plastbeläggningar, exempelvis av golv- eller väggbeläggningar på basis av PVC.
Exempel på fotohärdning av pappersbestrykningar är den färglösa lackeringen av etiketter, skivomslag och bokomslag. Ävenledes intressant är användningen av föreliggande föreningar för härdning av formdelar av laminatmassor. Laminatmassan består av ett självbärande grundmassamaterial, t.ex. en glasfibferväv, eller även exempelvis växtfibrer [jfr K.-P. Mieck, T. Reussmarm i Kunststoffe 85 (1995), 366-3 70], som genomdränkes med den ljushärdande beredningen. Med föreliggande föireningar framställda formdelar av laminatmassor uppnås en hög mekanisk stabilitet och rnotståndsförrnåga. Föreliggande föreningar är även användbara i förrn-, impregnerings- och överdragsmassor, såsom de exempelvis är beskrivna i EP-A-7086. Sådana massor är exempelvis finskiktshartser, på vilka höga fordringar ställes beträffande härdningsaktiviteten och gulfärgningsresistensen, fiberförstärkta formmaterial, såsom exempelvis plana, längd- eller tvärvågiga ljusplattor. Förfarande för framställning av sådana formmaterial, såsom exempelvis handpåläggningsförfaranden, fibersprutning-, centrifugering- eller limningsförfaranden, är exempelvis beskrivna av P. H. Selden i ”Glasfaserverstärkte Kunststoffe”, sid. 610, Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967. Bruksföremål, som exempelvis kan framställas enligt detta förfarande, är båtar, på båda sidor med glasflberförstärkt plast belagda spån- eller snickeriplattor, rör, behållare, o.s.v. Andra exempel på form-, impregnerings- och överdragsrnassor är UP-harts-finskikt för glasfiberhaltiga formmaterial (GFK), t.ex. vågplattor och papperslaminat. Papperslaminat kan vara grundade på karbamid- eller melaminhartser. Finskiktet bildas före laminatframställningen på en bärare, (t.ex. en folie). Föreliggande fotohärdbara kompositioner kan även användas för gjuthartser eller för inbäddníng av föremål, t.ex. av elektronikdelar, o.s.v. För härdning användes kvicksilverrnedeltryckslampor, såsom de är vanliga vid UV-härdning. Av speciellt intresse är \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333lÖ-BAIOcSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 29 emellertid mindre intensiva lampor, t.ex. av typ TL 4OW/03 eller TL 40W/05. intensiteten för dessa lampor motsvarar ungefär solljuset. Även direkt solljus kan användas för härdning. En ytterligare fördel är, att larninatmassan kan avlägsnas från ljuskällan i ett anhärdat, plastiskt tillstånd och omformas. Därefter sker den fullständiga härdningen.
Viktig är även användningen av fotohärdbara kompositioner för avbildnings- förfaranden och för optisk framställning av informationsbärare. Härvid bestrålas - såsom redan beskrivits - det på bäraren anbringade skiktet (vått eller torrt) genom en fotomask med UV-ljus eller synligt ljus och de obelysta ställena av skiktet avlägsnas genom behandling med ett lösningsmedel (= framkallare). Anbringandet av det fotohärdbara skiktet kan även ske genom elektroavskiljningstörfarandet på metall. De belysta ställena är tvärbunden polymer och därigenom-olösliga och kvarstannar på bäraren. Vid motsvarande anfärgning bildas synliga bilder. Om bäraren är ett metalliserat skikt, kan metallen efter belysningen och framkallningen bortetsas på de obelysta ställena eller förstärkas genom galvanisering. På detta sätt kan tryckta elektroniska kopplingar eller fotoresister framställas.
Ljuskänsligheten hos föreliggande kompositioner når i regel från UV-området (cirka 200 nm) till clirka 600 nm och omspänner ett mycket brett område. Lämplig strålning innehåller exempelvis solljus eller ljus från artificiella ljuskällor. Såsom ljuskällor kommer därför ett stort antal olika typer till användning. Såväl punktkällor som även ytformiga strålare Exempel är: kolljusbågslampor, xenon-ljusbågslampor, (lampmattor) är lämpliga. kvicksilvermedeltrycks-, -högtrycks- och -lågtrycksstrålare, eventuellt dopade med metallhalogenider (metall-halogenlampor), mikrovågsaktiverade metallånglainpor, excimer- lampor, superaktiniska lysrör, fluorescenslampor, argonglödlampor, elektronblixtlarnpor, fotografiska flodljuslarnpor, elektronstrålar och röntgenstrålar bildade med hjälp av synkrotroner eller laser-plasma. Avståndet mellan lampan och substratet, som skall belysas enligt uppfinningen, kan variera alltefter användningsändamål och larnptyp respektive- styrka, t.ex. mellan 2 cm och 150 cm. Speciellt lämpliga är laserljuskällor, t.ex. excimer-laser, såsom krypton-F-laser för belysning vid 248 nm. Även laser i det synliga området kan användas. Här är den höga känsligheten hos föreliggande material mycket fördelaktig. Enligt denna metod kan tryckta kopplingar framställas inom elektronikindustrin, litografiska offsettryckplattor eller relieftryckplattor samt fotografiska bilduppteckningsmaterial.
Uppñnningsföremålet är även användningen av den beskrivna kompositionen för framställning av lacker, tryckfärger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial samt såsom bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografiska uppteckningar.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\l>333 l 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 so Föremål för uppfinningen är ävenledes ett belagt substrat, som på åtminstone en yta är belagt med en komposition, såsom den beskrivits, samt ett forfarande for fotografisk framställning av reliefavbildningar, vid vilket ett belagt substrat belyses bildmässigt och de obelysta delarna därefter avlägsnas med ett lösningsmedel. Den bildmässiga belysningen kan därvid ske genom en mask, men även med hjälp av en styrd laser (utan mask).
Föremål för uppfinningen är därför även ett forfarande för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar, vilket kännetecknas därav att en komposition, såsom ddh beskrivits, bestrålas med ljus i området från 200 till 600 nm.
Föreningarna med formeln I och Ia är ljuskänsliga, i regel för gula fasta ämnen, som exempelvis är lösliga i estrar, aromater, alkoholer och klorkolväten.
Föreliggande-fotoinitiatorblandningar (blends) visar god löslighet i substratet, som skall härdas. Därvid är löslígheten av blandningama i substratet, som skall härdas, i regel bättre än löslígheten av de enskilda komponentema. I blandningen verkar en komponent såsom löslighetsförmedlare för de andra.
Vid härdningen med föreliggande blandningar skall ett optimalt förhållande eftersträvas mellan härdningen av substratets yta och dess genomhärdning.
Fotoinitiatorblandningarna är reaktiva och vid härdningen kan låga gulfargningsvärden uppnås. i Följande exempel åskådliggör uppfinningen ytterligare. Uppgifter i delar eller procent hänför sig, liksom i den övriga beskrivningen och i patentkraven, till vikten, såvida intet annat angivits.
Exempel 1: Frarnställning av bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenyl-fosfinoxid crg-Ö- af (lß n, 2 n, 2 (a) 4-metylfenyldietylfosfonat I en Hickmannapparat uppvärmes 51,3 g 4-bromtoluen med 3,9 g nickel-(II)-klorid till l60°C. Under 1 timme tillsättes droppvis 74,8 g trietylfosñt. Reaktionsblandningen \\SPB\VOL3\users\FIvl\DOK\word-dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG ci-g-Q-Porocgis), -íï cig-O-PH, -ÜL 10 15 20 25 30 520727 31 uppvärmes därefter under 2 timmar till 160°C. Därefter avdestilleras 22 g etylbromid. Efter destillationen vid 90°C/ 10* mbar erhålles 38,6 g 4-metylfenyldietylfosfonat. (b) 4-metylfenylfosfin 8,23 g litiumaluminiumhydrid införes i 180 ml torr dietyleter och försättes vid -10°C med 16,43 g 4-metylfenyldietylfosfonat. Suspensionen omröres i 18 timmar vid rumstemperatur, tvättas därefter noggrant med 8 ml vatten vid 0°C och 5°C och hydrolyseras med 8 g 15 %-ig NaClH-lösning och 24 ml vatten, varvid en voluminös, vit fállning bildas. Man avdestillerar under argon, tvättar med 50 ml eter och avdestillerar därefter lösningsmedlet under argon, 9,0 g 4-metylfenylfosñn erhålles, vilket utan ytterligare rening användes för framställningen i nästa steg. (c) Bis(2,4,6-tfiine-fylhensoyl)-4-metylfenylfosfin En lösning av 16,2 g diisopropylamin i 50 ml tetrahydrofuran (THF) kyles till -l0°C. 100 ml butyllitium i hexan (1,6 M) tillsättes droppvis. Därefter tillsättes vid -40°C först 9,0 g 4-metylfenylfosfin och därefter en lösning av 29,22 g 2,4,6-trimetylbensoylklorid i 150 rnl THF. Lösningen omröres i 1,5 timmar, och därefter avlägsnas lösningsmedlet under förrninskat tryck 28,0 g lbis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfin erhålles såsom gult pulver. f . ) (d) Bis(2,4,6-trirnety1bensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid 28,0 g bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfin löses i 100 ml toluen och uppvärmes till 50°C. 8,2 g 30%-ig väteperoxid tillsättes droppvis under 1 timme. Därefter får reaktionsblandningen svalna till rumstemperatur och de bildade faserna skiljes. Den organiska fasen tvättas med 30 ml vatten, 30 ml 10%-ig natriumbikarbonatlösning och vatten till neutralitet, torkas över magnesiumsulfat, filtreras och indunstas under vakuum. 24,5 g av en gul olja erhålles. Efter kolonnkromatografi och omkristallisation över petroleumeter erhålles 12,1 g av titelprodukten såsom gula kristaller med en smältpunkt av l51-152°C.
Elementaranalys: ber.: C: 74,98% funnet: C: 74,90% H: 6,76% H2 6,75% \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 1 6-B.d0cSEO0/Nh/CG 520727 Exempel 2-9: Föreningarna i Exemplen 2-9 erhålles analogt enligt den i exempel 1 beskrivna metoden under användning av motsvarande substituerade edukter. Föreningarna och deras fysikaliska data framgår av följande Tabell 1.
Tabelll F. Fk o R-QÉ 33" R' 2 R, Ro Exempel R, R, R, R, R, R, Smp Elementar- [°C] analys _' ø “i [%] beräknat [%] funnet C H 1 CH, CH, H 4 CH, H H 152 74,9 6,75 74,98 6,76 2 CH, CH, CH, H H H 132 74,816,80 74,98 6,76 3 CH, CH, CH, CH, H CH, 163 75,47 7,30 75,63 7,22 4 CH, »CH, _ CH(CH,), H CH(CH,), H 160 76,17 7,92 76,47 7,82 5 CH, CH, CH, C(CH,), H CH, 146 76,58 8,03 76,47 7,82 6 CH, CH,CH(CH,), H H H H Harts 76,22 8,02 76,47 7,82 7 CH, H H H H H 93 73,61 6,02 73,81 5,94 8 CH, CH, H H H H 132 74,63 6,50 74,67 6,52 * 9 CH, CH, CH, H CH, H 122 75,04 6,97 75,32 7,00 fllfl* * Förskjutningsvärdet ö i "P-NMR-spektrum uppgår till 7,50 ppm.
** Förskjutningsvärdet ö i ”P-NMR-spektrum uppgår till 14,95 ppm.
Exempel 10: Framställning och härdning av en klarlack En UV-härdbar klarlack framställes genom blandning av 99,5 delar ®Roskydal 502 (= 66% omättad polyesterharts och 34% styren; Fa. Bayer) 0,5 delar ®Byk 300 (= utflytningsmedel, Fa. Byk-Mallinckrodt).
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l ó-BAIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 33 I denna beredning inarbetas 2 delar av en blandning av 95 % l-bensoyl-l-hydroxi-l- metyletan och 5% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken påföres med en 200 um- spaltrakel på en spånplatta och härdas därefter. Härdningen sker genom att provet på ett transportband, som rör sig med en hastighet av 5 m/min, föres under två kvicksilvermedeltryckslampor av typ 120W/cm Fusion H (Fusion Systems, USA) och 8OW/cm Hanovia (Canrad/Hanovia, USA). Pendelhârdheten enligt König (DIN 53157) för den dammtorra beläggningen uppgáftill 52 sekunder.
Exempel 11:.Framställning och härdning av en vitlack En UV-härdbar vitlack framställes genom blandning av: 67,5 delar ®Ebecryl 830 (polyesterakrylat från Fa. UCB, Belgien) 5,0 delar -lïó-hexandioldiakrylat 2,5 delar trimetylolpropantriakrylat och 25,0 delar ®R-TC2 (rutiI-titandioxid, Fa. Tioxide).
I denna lackberedning inarbetas 3 delar av en fotoinitiatorblandning av 75 % 1-bensoy1-1-hydroxi-1-metyletan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken páföres med en 100 um spaltrakel på en rulle av belagd aluminiumplát och belyses på ett transportband rfied en '80 W/cm kvicksilvermedeltryckslampa (Canrad-Hanovia, USA). Den maximala bandhastigheten för att ett handfast och genomhärdat skikt skall erhållas, är ett mått på fotoinitiatorblandningens reaktivitet. Ett skikt, som hárdats vid en bandhastighet av 3 m/min, har en pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) av 159 sekunder.
Exempel 12: Framställning och härdning av en vitlack I den i exempel 11 beskrivna beredningen provades på analogt sätt varje gång 3 delar av en fotoinítiatorblandning av 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorerna från exemplen 2, 4 och 7. Motsvarande vitlacksskikt är även härdade vid en bandhastighet av 15 rn/min.
Exempel 13: Framställning och härdning av en högpigmenterad vitlack En UV-härdbar vitlack framställes genom blandning av: 45 delar °Ebecryl 830 3 delar 1,6-hexandioldiakrylat 2 delar trimetylolpropantriakrylat 50 delar 'R-Tcz (mal-titandioxid) I denna lackberedning inarbetas 4 delar av en fotoinítiatorblandning av 75% \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l Ö-BdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 34 l-bensoyl-l-hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken páföres med en 150 um spaltrakel på rullbelagd aluminiumplât och härdas pâ ett transportband under två 80W/cm kvicksilvermedeltryckslampor (Aetek, USA). Vid en bandhastighet av 10 m/min erhålles ett dammfast och genomhärdat skikt, vars pendelhárdhet enligt König (DIN 53157) uppgår till 85 sekunder. 4 delar av en fotoinitiatorblandning av 75% 1-bensoyl-1- hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 3 ger ävenledes en dammfast yta och ett genomhärdat skikt vid enïbandhastighet av 10 m/min och en pendelhårdhet av 79 sekunder. i Exempel 14: Härdning av en skiktformad laminatmassa En beredning beredes av: 99 delar 'š/estopal X7231 (omättad polyester frán ñrma Hüls, Tyskland) och 1 del av en fotoinitiatorblandning av 75% bensildimetylketal och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8.
Ett skikt om fyra lager av en glasfibermatta (material av huggen sträng) och angiven beredning täckes med en transparent Mylar-folie och pressas fast. Därefter bestrálas i 10 minuter under fem lampor av typ TL40W/03 (Philips) på ett avstånd av 15 cm. Ett stabilt laminatskikt erhålles, som uppvisar en shorehàrdhet D (enligt DIN 53505, bestämd med en hårdhetsprovare från Otto Wolpert Werke, Ludwigshafen, Tyskland) av 65.
Exempel 15: Framställning och härdning av en aminogrupphaltig klarlack 2 delar av en fotoinitiatorblandning av 45% bensofenon, 45% l-bensoyl-l- hydroxicyklohexan och 10% av fotoinitiatom från exempel 8 blandas med 98 delar av ett aminogrupphaltigt polyeterakrylat (°Laromer PO84 F, BASF). Lacken páföres pâ spánplattor med en 100 um spaltrakel och härdas vid en bandhastighet om 10 rr1/min med två 80 W/cm kvicksilvermedeltrycklampor (Aetek, USA). Det dammfasta skiktet har en pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) av 65 sekunder.
Exempel 16: Framställning och härdning av en pulverlack En UV-härdbar pulverlack framställes av: 56 delar 'ZA 3125 (DSM, Holland) ll delar 'ZA 3126 (DSM, Holland) 33 delar 'R-TCZ (rutil-titandioxid) 1 del 'Resiflow PV5 (E.H. Worlee, Tyskland) 0,5 delar 'Worlee Add 900 (E.H. Worlee, Tyskland) \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word~dok\P333 IO-BdQCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 35 3 delar av en fotoinitiatorblandning och 75% 4(2-hydroxietoxDbensoyl-1-hydroxi-1- metyletan och 25 % av fotoinitiatorn från exempel 8.
Alla komponenterna blandas vid 80°C i en sprutmaskin. En homogen vit färg erhålles. Efter avkylning males den fasta massan och siktas. Pulvret med en partikelstorlek av < 90 pm påföres på en aluminiumplåt i en skikttjocklek om 60-90 um med hjälp av en elektrostatisk sprutmetod. Den belagda plåten uppvärmes under 3 minuter i ugn vid 125°C.
Därvid smälter pulvret och en homogen film bildas. Den ännu varma filmen bestrålas vid en bandhastighet av 7,5 :ri/min under två 80 W/cm kvicksilverniedeltryckslampor. Efter 30 minuters bestrålning mätes en pendelhårdhet enligt König om 105 sekunder.
Exemgfl 1_7 En pastellfårg-ad lack framställes genom blandning av: 75,5 delar Ebecryl' 830 (polyesterakrylat-oligomer) 9,0 delar 1ß-hexandioldiakrylat(HDODA) 4,5 delar trimetylolpropantriakrylat (TMPTA) Därtill sättes 3% (3 delar) av en fotoinitiatorblandning av 75% bensildimetylketal och 25% av fotoinitiatorn från exempel 1. Ett lackskikt om 100 um anbringas på en träplatta och belyses vid en bandhastighet av 3 m/min under två 80 W/cm kvicksilverrnedel- tryckslampor (Aetek, USA). Ett dammfast och genomhärdat skikt, vars pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) uppgår till 115 sekunder, erhålles.
Exempel 18 En gul lack framställes av: 83,0 delar Ebecryl' 830 (polyesterakrylat-oligomer) 8,5 delar 1,6-hexandioldiakrylat (HDODA) 4,0 delar trimetylolpropantriakrylat (TMPTA) 3,0 delar Irgazin' Gelb GLTN Därtill sättes 3 delar av fotoinitiatorblandningen från exempel 17. Man påför, såsom beskrivits i exempel 17, och belyser vid en bandhastighet om 3 m/min med en 80 W/cm kvicksilvermedeltryckslampa (Canrad-Hanovia, USA). Pendelhårdheten hos det dammfasta och genomhärdade skiktet uppgår till 142 sekunder.
Exempel 19 UV-stabilisering av en klacklack En klarlack framställes genom blandning av: \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333l6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 36 99,5 delar Roskydal' 502 (=66% omättad polyester med 34% styren, BAYER) och 0,5 delar Byk' 300 (utflytningsmedel, firma Byk-Mallinckrodt) Genom uppvärmning av en fotoinitiatorblandning av 75% 1-bensoyl-1- hydroxicyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 1 till 50“C och tillsats av samma viktmängd av en blandning av 85% 4,6-di(2,4-dimetylfeny1)-2-[2-hydroxi-4-(blandning av dodecyloxi och tridecyloxi)(2-hydroxi)propyl-3-oxifenyl]-1,3,5-triazin och 15% l-metoxi-2- propanol framställes en flytande ttekomponentblandning. Av denna flytande blandning inarbetas 4 delar i klartlacken. Med en 150 um spaltrakel påföres skikt på trä (ljus bakgrund) och belyses med tvâ 80 W/cm kvicksilverrnedeltryckslampor vid bandhastigheten 3 m/min.
Pendelhárdheten (PH) och gulningsindex (Yl) (enligt ASTMD 1925) mätes direkt efter härdningen samt efter 4 timmars efterbelysning under TL 2OW/05 fluorescenslampor (Philips).
Provet med den flytande trekomponententblandningen kan härdas problemfritt och ger tillräcklig ljusskyddsverkan (UV-Stabilisering), såsom visas av värdet i tabell 2.
Tabell 2 Tinsars ' I, Efrer härdrrrrrg 4 rimmar TL zow/os f - PH YI PH YI 4 delar flytande 88 9,8 134 9,5 trekomponentblandning Exempel 20 Inarbetning av en flytande blandning i en vattenhaltig pigmenterad beredning.
En pigmenterad, vattenhaltig beredning framställes genom blandning av följande komponenter: 50 delar Reskyaal' 850 W (errrärraa polyester, BAYER) 50 delar Laromer' PE 55 W (emulsion av ett polyesterakrylat i vatten, BASF) 10 delar titandioxid R-TC2 (rutil-typ) 20 delar vatten Fotoinitiatorblandningen av 75% 1-bensoyl-1-hydroxicyklohexan och 25% av fotoinitiatorri från exempel l göres flytande vid 50°C och 3 delar därav inarbetas i angiven beredning under omröring vid rumstemperatur. 150 pm tjocka skikt anbringas på trä, torkas vid 80°C under 4 minuter och belyses därefter vid 3 m/min under två 8+ W/cm \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 1 Ö-HdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 37 kvicksilvermedeltryckslarnpor. Beläggningen med den flytande fotoinitiatorblandningen ger en pendelhárdhet av 50 sekunder, ett gulningsindex av 4,3 och glansvärden (vid mätvinkeln 20° och 60°) av 75/87.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-d0k\P333ló-BAOCSEOO/Nh/CG
Claims (18)
1. l. Föreningar med formeln R* Ra Ra O n || n, c P Ft, (l) R 2 Rv Re vari _” Rl betecknar C i-Ct-alkyl, R; är väte, C1-C4-alkyl eller Ct-Cr-alkoxi och Rg, R5, och Ry oberoende av varandra utgör väte, halogen, Cl-Cgo-alkyl, cyklopentyl, cyklohexyl, Cg-Clg- alkenyl, med en eller flera O-atomer avbruten Cg-Cig-alkyl, med fenyl substituerad Cl-Ct- alkyl, osubstituerad eller med en eller två Ci-Ca-alkyl eller/och C1-C4-alkoxi substituerad fenyl; Ra och RÖ oberoende av varandra utgör väte, halogen, cyklopentyl, cyklohexyl, Cg-Cn- alkenyl, med fenyl substituerad C i-Ct-alkyl, osubstituerad eller med en eller två Cl-Ct-alkyl eller/och Ci-Cfalkoxi substituerad fenyl; under den förutsättningen, att åtminstone en av gruppema R_~., Rt, R,-, RÖ och Ry är annat än väte, och under den förutsättningen, att när RI och R; betecknar metyl, eller R; är metyl och R; betecknar väte, åtminstone en av gruppema R3, Kr, Rj och RÖ icke är metyl.
2. Föreningar enligt patentkravet 1, vari R3, R4, RS, RÖ och Ry betecknar väte, Ci-Cg-alkyl, fenyl, allyl, bensyl, cyklohexyl eller klor.
3. Föreningar enligt patentkravet 1, vari R3, Ri, R5, Ró och Ry betecknar väte, C l-Ct-alkyl eller fenyl.
4. Föreningar enligt patentkravet l, vari R1 betecknar metyl.
5. Föreningar enligt patentkravet l, vari R1 och R; är lika.
6. Fotoinitiatorblandning innehållande åtminstone en förening med formeln (Ia): vari RI betecknar Ci-Ct-alkyl, Rg är väte, CpCr-alkyl eller C1-C4-alkoxi och 10 IQ Lin 30 520727 39 R;, Ra, Rj, Ró och Ry oberoende av varandra utgör väte, halogen, Cl-CZO-alkyl, ey- klopentyl, cyklohexyl, Cg-Clz-alkenyl, med fenyl substituerad Cr-Ci-alkyl, osubstituerad eller med en eller två CI-Cl-alkyl eller/och C l-Cralkoxi substituerad fenyl, och minst en förening med formeln (II): ° v» R -CII-'Flw (ll) RH vari - O.. Rs betecknar väte, Cl-Clg-allcyl, Cp-Cß-alkoxi, -OCHziCHz-ORIZ, en grupp: CH, çH: cHz=¿';_ eller en grupp <{Chl,-<|: , varvid l betecknar ett tal från Å l 2 till 10 och A är 9 ä* en grupp; Ûc-e-Rfl, RH Rg och Rm oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Có-alkyl, fenyl, Cr-Cm-alkoxi, OSiRURHRH, eller -O(CH2CH2O)q-Cl-Cró-alkyl, varvid q står for ett tal från l till 20, eller Rg och RW tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexyl- ring, RH utgör hydroxi, C r-C ió-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C1-Ció-alkyl, varvid Rg, Rio och RH alla icke samtidigt står för Cr-Ció-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-- Crcw-âlkyl, i? 'f o clu, Ru betecknar väte, cvcg-aikyi -c-cH=cH2, -c-ct-cg-aikyi enar __" _C=CH, f\ .n-...f un .. \.,l.1\1, lfiLa D trim.. \'. n ...tunn _.. ß IA- 20 25 30 520727 40 och RU, RM, och RM oberoende av varandra är C,-C4-alkyl eller fenyl, eller/och minst en förening med formeln (III); R15 O H15; n” c um RW vari RU, Rba, RH., och RW oberoende av varandra betecknar väte, metyl, fenyl, metoxi, -COOH, osubstituerad eller med Cl-Cd-alkyl substituerad fenyl eller en grupp -OCHZCHQORH eller -SCHZCI-LORQ, varvid Ru är definierad såsom i formeln (II), eller/och minst en förening med formeln (IV): H19 vari Rlg står för väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi, C,-C4-alkyltio, halogen eller en grupp N,, g RW har en för RH; angiven betydelse eller utgör gruppen: R» *iß i? | -N C-(IE-CHZQ, varvid i detta fall gruppen RH, från formel IV och N R / \ ia Ra R” gruppen RW i denna grupp (IVa) tillsammans står för en direkt bindning och de andra grupperna är definierade, såsom angives i det följande, RZO betecknar CVCS-alkyl, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\vvord-dtik\P333 l6-B.docSEOOf.\'li. CG 20 25 520727 41 Rz, är väte, -CH =CHR¿,, osubstituerad eller en till tre gånger med Q-Cn-alkyl, C,-C,,-alkoxi eller halogen substituerad fenyl, eller Rzo och RM tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH och RB oberoende av varandra betecknar Cl-CA-alkyl eller RR och RB tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad eller omättad ring, som kan vara avbruten av -O-, -NH- eller -N(CH1)-. RM betecknar väte eller C,-C4-alkyl och _ Rzs är väte eller Cl-Cu-alkvl.
7. Fotoinitiatorblandriing enligt patentkravet 6, innehållande föreningar med formeln (Ia) och föreningar med formel (II), vari çH: RB betecknar väte, Cl-Ci-alkyl, C,-C4-alkoxi, -OCHzCHzORm en grupp: CH,=C- ei CHfç Å | R, och RK, oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Cfalkyl, fenyl, Cl-Cu-alkoxi eller -0(CH¿CH2O2)q-C,-Cs-alkyl, varvid q står för ett tal från 1 till 10, eller Rr, och RH, eller en grupp: tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH utgör hydroxi, C,-C,,-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C1-CS-alkyl, eller/och föreningar med formeln (III) eller/och föreningar med formeln (IV), vari RH, är väte eller metoxi, RW utgör metoxi, metyltio, morfolino eller en grupp med formeln (Iva), Rzo betecknar metyl eller etyl, RH och RH är lika och är metyl eller tillsammans med kväveatomen, i vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad ring, som kan vara avbruten av -O-, och Rzs utgör väte, Cl-Cg-alkyl.
8. Fotoinitiatorblandning enligt patentkravet 6, vari föreningen med formel (III) är bensofenon, 2,4,6-trimetylfenyl-fenyl-keton, 4-metylfenyl-fenylketon, (3-metyl-4-metoxi- fenyl)-(3-metylfenyD-keton, 4[(4-metylfenyltio)-fenyl]-fenyl-keton, 2-karboxifenyl-fenyl~ keton eller 4(2-hydroxietoxüfenyl-fenyl-keton; '\\SPB".VOL3KusersflFNftDOKI word~di>k\P333 lb-lšklocSElXl/'Nli/CG 10 15 20 25 l 520727 42 föreningen med formel (II) är 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyl-etan, 1-bensoylcyklohexanol, 4[(2-hydroxietoxi)-bensoyl]-l-hydroxi-l-metyl-etan, 1(4-isopropylbensoyl)-1-hydroxi-1- metyl-etan eller 2,2-dimetoxi-1Q-difenyletan-l-on; föreningen med formel (IV) är 1(3,4-dimetoxibensoyl)-l-bensyl-1-morfolino-propan, 1(4- metyltiobensoyD-l-metyl-1-morfolino-etan, 1(4-morfolinobensoyl)-l-bensyl-Ldimetyl- amino-propan eller 3,6-bis(2-metyl-2-morfolino-propan-1-on)-9-oktyl-karbazol och föreningen med formeln (Ia) är bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid, bis[2,6-dimetyl-4(2-metylpropybbensoyll-fenyl-fosfinoxid, bis(2,6-dimetylbensoyl)-fenyl- fosfinoxid, bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-fenyl-fosflnoxid eller- bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5- dimetylfenyl-fosñnoxid. _ f'
9. Fotoinitiatorblandtting enligt patentkravet 6, innehållande minst en förening med formel la och tvà föreningar med formel (Il).
10. Fotoinitiatorblandning innehållande 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)- fenylfosfinoxid och 75 % l-bensoylcyklohexanol.
11. Fotopolyfmeriserbara kompositioner, innehållande (a) minst en etenisk omättad, fotopolymeriserbar förening och (b) såsom fotoinitiator minst en förening med formel (I) enligt patentkravet 1 eller en fotoinitiatorblandning enligt patentkravet 6.
12. Fotopolymeriserabara kompositioner enligt patentkravet 11, innehållande såsom fotoinitiator minst en förening med formeln (I) enligt patentkravet 1 eller en fotoinitiatorblandning enligt något av patentkraven 6-10 samt ett UV-absorptionsmedel från klassen hydroxifenyl-s-triaziner och/eller hydroxifenylbenstriazoler och/eller steriskt hindrade aminer på basis av 2,2,6,ó-tetrametyl-piperidiner.
13. Förfarande _ för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar, k ä n n e t e c k n a t därav, att en komposition enligt patentkravet ll bestrålas med ljus området från 200 till 600 nrn.
14. Användning av föreningar med formel (I) eller fotoinitiatorblandningar enligt patentkravet 6 för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar.
15. Användning av kompositionen enligt patentkravet 11 för framställning av lacker, tryckfarger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial samt såsom bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografiska uppteckningar. \\SPB\\'OL3\uscrsl FM\DOKl.wurd-dokllP333 ló-BAIOCSEOO/Nli/CG 10 15 20 25 30 520727 43
16. Förfarande enligt patentkravet 13 för framställning av lacker, tryckfärger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial eller bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografisk uppteckningar.
17. Belagt substrat, som på åtminstone en yta är belagt med en komposition enligt patentkravet 11.
18. Förfarande för fotografisk framställning av reliefavbildningar, vid vilket ett belagt substrat enligt patentkravet 17 bildmässigt belyses och de obelysta andelarna därefter avlägsnas med ett lösningsmedel. \“.SPB\VOL3\usc rsltFM\DOK\\\'ord-dok\P333 l6~B.docSEOO/Nh/CG
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH55896 | 1996-03-04 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE9700616D0 SE9700616D0 (sv) | 1997-02-21 |
SE9700616L SE9700616L (sv) | 1997-11-04 |
SE520727C2 true SE520727C2 (sv) | 2003-08-19 |
Family
ID=4189800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE9700616A SE520727C2 (sv) | 1996-03-04 | 1997-02-21 | Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6020528A (sv) |
JP (1) | JP4168352B2 (sv) |
KR (1) | KR100474236B1 (sv) |
CN (1) | CN1092201C (sv) |
AT (1) | AT404729B (sv) |
BE (1) | BE1011437A5 (sv) |
BR (1) | BR9701154A (sv) |
CA (1) | CA2198803C (sv) |
CH (1) | CH691970A5 (sv) |
DE (2) | DE19708294B4 (sv) |
DK (1) | DK176096B1 (sv) |
ES (1) | ES2132018B1 (sv) |
FR (1) | FR2745575B1 (sv) |
GB (1) | GB2310855B (sv) |
IT (1) | IT1290006B1 (sv) |
NL (1) | NL1005424C2 (sv) |
NO (1) | NO309571B1 (sv) |
RU (1) | RU2180667C2 (sv) |
SE (1) | SE520727C2 (sv) |
SG (1) | SG55281A1 (sv) |
TW (1) | TW408136B (sv) |
ZA (1) | ZA971810B (sv) |
Families Citing this family (160)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
EP0975693B2 (en) * | 1997-04-22 | 2006-01-18 | Koninklijke DSM N.V. | Liquid curable resin composition |
US6359025B1 (en) | 1997-05-16 | 2002-03-19 | Dsm N.V. | Radiation-curable liquid resin composition for coating optical fibers |
DE19812859A1 (de) * | 1998-03-24 | 1999-09-30 | Basf Ag | Photoinitiatorgemische |
SE9904080D0 (sv) * | 1998-12-03 | 1999-11-11 | Ciba Sc Holding Ag | Fotoinitiatorberedning |
DE19945279C1 (de) | 1999-09-22 | 2001-04-05 | Kronospan Tech Co Ltd | Vorrichtung sowie Verfahren zur Herstellung von Fußbodenpaneelen und verfahrensgemäß hergestellte Paneele |
WO2001021365A1 (de) * | 1999-09-22 | 2001-03-29 | Kronospan Technical Company Ltd. | Vorrichtung sowie verfahren zur herstellung von fussbodenpaneelen |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
US6500877B1 (en) | 1999-11-05 | 2002-12-31 | Krohn Industries, Inc. | UV curable paint compositions and method of making and applying same |
EP1106627B1 (en) | 1999-12-08 | 2003-10-29 | Ciba SC Holding AG | Novel phosphine oxide photoinitiator systems and curable compositions with low color |
DE19961347A1 (de) | 1999-12-17 | 2001-06-21 | S & C Polymer Silicon & Compos | Photoinitiatorsystem mit Acylphosphinoxid-Initiatoren |
US6444725B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-09-03 | 3M Innovative Properties Company | Color-changing dental compositions |
GB2360283B (en) | 2000-02-08 | 2002-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides |
DE10022352A1 (de) * | 2000-05-08 | 2001-11-22 | Georg Gros | Verfahren zur Beschichtung von elektrolytisch- oder feuerverzinkten Blechen |
GB2365430B (en) * | 2000-06-08 | 2002-08-28 | Ciba Sc Holding Ag | Acylphosphine photoinitiators and intermediates |
EP1326901B1 (en) * | 2000-09-14 | 2005-06-08 | Ciba SC Holding AG | Acylphosphine oxide photoinitiators in methacrylate casting resins |
WO2002024344A2 (de) * | 2000-09-25 | 2002-03-28 | Chemetall Gmbh | Verfahren zur vorbehandlung und beschichtung von metallischen oberflächen vor der umformung mit einem lackähnlichen überzug und verwendung der derart beschichteten substrate |
US6528555B1 (en) | 2000-10-12 | 2003-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities |
US6737216B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-05-18 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element |
US6613812B2 (en) | 2001-01-03 | 2003-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof |
TW583299B (en) | 2001-04-13 | 2004-04-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid crystal composition, color filter and liquid crystal display device |
MXPA04001483A (es) | 2001-08-21 | 2004-07-30 | Ciba Sc Holding Ag | Mono y bis-acilfosfina oxidos y sulfuro batrocromicos y su uso como fotoiniciadores. |
US6780546B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-08-24 | Inphase Technologies, Inc. | Blue-sensitized holographic media |
DE60202991T2 (de) | 2001-12-26 | 2006-02-09 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Harzzusammensetzung zur Beschichtung von optischem Glasfaser, beschichtete optische Faser, und dieses verwendende faseroptische Kabel |
EP1471875A1 (en) * | 2002-01-31 | 2004-11-03 | 3M Innovative Properties Company | DENTAL PASTES, DENTAL ARTICLES, AND METHODS |
ZA200301683B (en) * | 2002-03-04 | 2004-09-06 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins. |
WO2003082929A1 (en) * | 2002-04-03 | 2003-10-09 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Photoinitiator, novel compound, and photocurable composition |
RU2346016C2 (ru) * | 2002-04-19 | 2009-02-10 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. | Отверждение покрытий, индуцированное плазмой |
US20030221769A1 (en) * | 2002-05-23 | 2003-12-04 | Kutsch Wilhelm P. | Transfer casting of holographic images |
US7091259B2 (en) * | 2002-07-03 | 2006-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom |
US20050288387A1 (en) * | 2002-08-21 | 2005-12-29 | Li Feng | Acrylate dental compositions with improved viscosity and storage odor |
US7025791B2 (en) * | 2002-12-02 | 2006-04-11 | Gi Dynamics, Inc. | Bariatric sleeve |
US6984261B2 (en) | 2003-02-05 | 2006-01-10 | 3M Innovative Properties Company | Use of ceramics in dental and orthodontic applications |
CA2523569A1 (en) | 2003-05-06 | 2004-11-18 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Photo-cured and stabilized coatings |
EP1658245B1 (en) * | 2003-08-29 | 2017-11-29 | IGM Malta Limited | Optical fiber coatings |
US7032492B2 (en) * | 2003-09-11 | 2006-04-25 | Milton S. Meshirer | Ammunition articles comprising light-curable moisture-preventative sealant and method of manufacturing same |
KR101164256B1 (ko) * | 2003-09-15 | 2012-07-10 | 프로티바 바이오쎄라퓨틱스, 인코포레이티드 | 폴리에틸렌글리콜 개질된 지질 화합물 및 그의 용도 |
US20050096427A1 (en) * | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Basf Ag, | Ultraviolet radiation curable clearcoat composition with low color and good durability |
WO2005100408A1 (en) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for photocuring with light emitting diodes |
US7553670B2 (en) | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
US8071260B1 (en) * | 2004-06-15 | 2011-12-06 | Inphase Technologies, Inc. | Thermoplastic holographic media |
US8217095B2 (en) * | 2004-10-29 | 2012-07-10 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Active energy ray-curable ink-jet printing ink |
EP1838721B1 (en) * | 2005-01-17 | 2011-12-21 | Basf Se | Process for preparing acylphosphanes and their oxides and sulphides |
DE102005010327A1 (de) * | 2005-03-03 | 2006-09-07 | Basf Ag | Ratikalisch härtbare Beschichtungsmassen |
EP1749513B1 (de) | 2005-08-01 | 2009-03-04 | Ivoclar Vivadent AG | Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator |
DE102006016642A1 (de) * | 2006-04-08 | 2007-10-18 | Bayer Materialscience Ag | UV-härtende Schutzschicht für thermoplastische Substrate |
JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
WO2008083275A2 (en) | 2006-12-28 | 2008-07-10 | 3M Innovative Properties Company | Dental filler and methods |
US7985785B2 (en) | 2007-01-15 | 2011-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
JP5255369B2 (ja) | 2007-09-25 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法 |
US8076393B2 (en) | 2007-09-26 | 2011-12-13 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
JP5148235B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物 |
JP5236238B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用ホワイトインク組成物 |
EP2053095B2 (en) | 2007-09-28 | 2017-02-22 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
US8697194B2 (en) * | 2008-04-10 | 2014-04-15 | Xerox Corporation | Curable overcoat compositions |
JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
US8378002B2 (en) | 2008-07-16 | 2013-02-19 | Fujifilm Corporation | Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method |
EP2342237B1 (en) | 2008-11-03 | 2014-04-23 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
JP5297163B2 (ja) * | 2008-11-25 | 2013-09-25 | パナソニック株式会社 | Uv硬化性樹脂組成物およびこれを用いた接着方法 |
JP5344892B2 (ja) | 2008-11-27 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法 |
AR072151A1 (es) * | 2008-12-18 | 2010-08-11 | Novartis Ag | Metodo para producir lentes de contacto de hidrogel de silicona |
SG172394A1 (en) * | 2008-12-30 | 2011-08-29 | Novartis Ag | Tri-functional uv-absorbing compounds and use thereof |
JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP2010229284A (ja) | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujifilm Corp | 光硬化性組成物 |
JP5405174B2 (ja) | 2009-03-30 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物 |
DE102009016025B4 (de) | 2009-04-02 | 2014-12-11 | Voco Gmbh | Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
WO2010121387A1 (en) * | 2009-04-20 | 2010-10-28 | ETH Zürich | Polymer nanoparticles |
JP5424764B2 (ja) | 2009-07-28 | 2014-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
CA2771138C (en) | 2009-09-15 | 2016-01-19 | Novartis Ag | Prepolymers suitable for making ultra-violet absorbing contact lenses |
US8573390B2 (en) * | 2010-03-09 | 2013-11-05 | Xerox Corporation | Material transport systems including a transport belt having resistance to laser radiation damage and methods of cutting substrates in material transport systems with laser radiation |
DE102010003884A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung |
DE102010003881A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dentale Abdeckmasse |
DE102010003883A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Lichthärtbares Kompositmaterial |
EP2588549B1 (en) * | 2010-06-30 | 2014-12-10 | DSM IP Assets B.V. | D1479 stable liquid bap photoinitiator and its use in radiation curable compositions |
BR112013002154A2 (pt) | 2010-07-30 | 2016-05-31 | Novartis Ag | pré-polímeros anfifílicos de polissiloxano e seus usos |
JP5688939B2 (ja) * | 2010-09-16 | 2015-03-25 | クラレノリタケデンタル株式会社 | ビスアシルホスフィンオキサイド化合物及びそれを含む重合性組成物 |
US8697769B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-04-15 | Voco Gmbh | Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element |
US8669302B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-03-11 | Voco Gmbh | Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material |
US8915736B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-12-23 | Voco Gmbh | Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal |
US9079828B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-07-14 | Voco Gmbh | Polymerizable compounds comprising a polyalicylic structure element |
EP2436365B1 (de) | 2010-09-30 | 2017-03-08 | VOCO GmbH | Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement |
US8993651B2 (en) | 2010-10-06 | 2015-03-31 | Novartis Ag | Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups |
EP2625217B1 (en) | 2010-10-06 | 2018-07-04 | Novartis AG | Chain-extended polysiloxane crosslinkers with dangling hydrophilic polymer chains |
CN103168067B (zh) | 2010-10-06 | 2015-08-05 | 诺华股份有限公司 | 可水处理的含硅氧烷预聚物及其用途 |
EP2450025B1 (de) | 2010-11-08 | 2012-11-28 | VOCO GmbH | Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement |
JP2012113228A (ja) | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法 |
US8899745B2 (en) | 2010-12-13 | 2014-12-02 | Novartis Ag | Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof |
CN102079707B (zh) * | 2011-01-25 | 2013-10-30 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 均三甲苯基芳香酮化合物、其制备方法以及光引发剂 |
DE102011003289A1 (de) | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Voco Gmbh | Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren |
US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
JP5750069B2 (ja) | 2011-03-24 | 2015-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム |
JP5774518B2 (ja) | 2011-07-27 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム |
IN2014DN00942A (sv) * | 2011-09-08 | 2015-05-15 | Ivoclar Vivadent Ag | |
DE102012001979A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe |
DE102012001978A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher |
JP5827161B2 (ja) | 2012-03-28 | 2015-12-02 | 富士フイルム株式会社 | コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス |
BR112014030148B1 (pt) | 2012-06-04 | 2018-04-17 | L'oreal | Composição cosmética, método de tratar, pintar e/ou intensificar a aparência de um substrato queratinoso |
DE102012212429A1 (de) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Voco Gmbh | Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials |
DE102012214540A1 (de) | 2012-08-15 | 2014-02-20 | Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH | Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung |
CN104662107B (zh) * | 2012-09-27 | 2017-05-03 | 富士胶片株式会社 | 油墨组合物、喷墨记录方法、印刷物、双酰基氧化膦化合物以及单酰基氧化膦化合物 |
DE102013008176A1 (de) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Voco Gmbh | Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays |
CN103333202B (zh) * | 2013-06-08 | 2016-09-07 | 广东博兴新材料科技有限公司 | 一种基于环氧化合物的含磷酸酯基的长波吸收光引发剂及其制备方法 |
CN111116777A (zh) * | 2013-07-08 | 2020-05-08 | Igm集团公司 | 液态双酰基氧化膦光引发剂 |
JP6169545B2 (ja) | 2014-09-09 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物 |
JP6169548B2 (ja) | 2014-09-26 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物 |
JP6086888B2 (ja) | 2014-09-26 | 2017-03-01 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物 |
US9649272B2 (en) | 2014-10-13 | 2017-05-16 | L'oréal | Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator |
US9820931B2 (en) | 2014-10-13 | 2017-11-21 | L'oreal | Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator |
US9636293B2 (en) | 2014-10-13 | 2017-05-02 | L'oréal | Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator |
DE102014116389A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen |
DE102014116402A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren |
CN104558031B (zh) * | 2014-12-09 | 2016-08-03 | 天津久联科技有限公司 | 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法 |
CN104592298B (zh) * | 2014-12-31 | 2016-07-06 | 湖北固润科技股份有限公司 | 一种酰基膦高效光引发剂及其制备方法 |
KR102698770B1 (ko) | 2015-06-08 | 2024-08-23 | 스트래터시스,인코포레이티드 | 부가적 제조용 액체 하이브리드 자외선/가시광선 복사선-경화성 수지 조성물 |
WO2017059222A1 (en) | 2015-10-01 | 2017-04-06 | Dsm Ip Assets B.V. | Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication |
WO2018075457A1 (en) | 2016-10-17 | 2018-04-26 | Orthobond Corporation | Surfaces with oligomeric or polymeric antimicrobials |
WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
EP3581975B1 (en) | 2017-02-09 | 2024-04-03 | FUJIFILM Corporation | Half mirror, method for producing half mirror, and mirror provided with image display function |
DE102017103084A1 (de) | 2017-02-15 | 2018-08-16 | Voco Gmbh | Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren |
DE102017105841A1 (de) | 2017-03-17 | 2018-09-20 | Voco Gmbh | Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren |
CN110944957B (zh) | 2017-06-02 | 2022-07-08 | 科思创(荷兰)有限公司 | 光纤用耐热性可辐射固化涂料 |
CN111051961B (zh) | 2017-09-07 | 2021-12-24 | 富士胶片株式会社 | 投影图像显示用半反射镜膜、投影图像显示用夹层玻璃及图像显示系统 |
CN111315701B (zh) | 2017-11-03 | 2022-10-14 | 科思创(荷兰)有限公司 | 包含用液体可辐射固化超吸收性聚合物组合物涂布的纤维的阻水体系 |
DE102018103415A1 (de) | 2018-02-15 | 2019-08-22 | Voco Gmbh | Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf |
EP3757082B1 (en) | 2018-02-23 | 2024-05-01 | FUJIFILM Corporation | Method for manufacturing laminated glass for displaying image, laminated glass for displaying image, and image display system |
CN112203995B (zh) | 2018-06-01 | 2023-02-21 | 科思创(荷兰)有限公司 | 用于经由交替低聚物涂覆光纤的辐射可固化组合物及由其生产的涂层 |
DE102018114690A1 (de) | 2018-06-19 | 2019-12-19 | Voco Gmbh | Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung |
US11964906B2 (en) | 2018-08-30 | 2024-04-23 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber |
CN112840244B (zh) | 2018-10-17 | 2023-02-28 | 富士胶片株式会社 | 投影像显示用部件、挡风玻璃及平视显示系统 |
WO2020114902A1 (en) | 2018-12-03 | 2020-06-11 | Dsm Ip Assets B.V. | Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom |
EP3895927A4 (en) | 2018-12-10 | 2022-02-23 | FUJIFILM Corporation | PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM |
CN113498487B (zh) | 2019-03-06 | 2023-07-04 | 富士胶片株式会社 | 投影图像显示用层叠膜、投影图像显示用的夹层玻璃及图像显示系统 |
US20230220239A1 (en) | 2019-03-18 | 2023-07-13 | Basf Se | Uv curable compositions for dirt pick-up resistance |
US11932571B2 (en) | 2019-05-24 | 2024-03-19 | Covestro (Netherland) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
JP2022533793A (ja) | 2019-05-24 | 2022-07-25 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物 |
EP4003927A1 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-01 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions with multi-functional long-armed oligomers for coating optical fibers |
DE102019122174A1 (de) | 2019-08-19 | 2021-02-25 | Voco Gmbh | Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane |
JP2022546933A (ja) | 2019-08-30 | 2022-11-10 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. | 付加造形のための液状ハイブリッドuv/vis放射線硬化性樹脂組成物 |
CN114467048B (zh) | 2019-09-27 | 2024-08-27 | 富士胶片株式会社 | 平视显示器用投影仪 |
CN114930206A (zh) | 2019-12-26 | 2022-08-19 | 富士胶片株式会社 | 光吸收各向异性层、层叠体、光学膜、图像显示装置、背光模组 |
CN115315646A (zh) | 2020-03-30 | 2022-11-08 | 富士胶片株式会社 | 反射膜、挡风玻璃及平视显示器系统 |
JP2023520782A (ja) | 2020-04-03 | 2023-05-19 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 自己修復型光ファイバとその製造に使用される組成物 |
US20230117457A1 (en) | 2020-04-03 | 2023-04-20 | Covestro (Netherlands) B.V. | Methods of synthesizing multi-hydrogen bonding oligomers |
CN115515784A (zh) | 2020-04-03 | 2022-12-23 | 科思创(荷兰)有限公司 | 多层光学器件 |
CN115698783A (zh) | 2020-06-03 | 2023-02-03 | 富士胶片株式会社 | 反射膜、夹层玻璃的制造方法及夹层玻璃 |
WO2022123946A1 (ja) | 2020-12-09 | 2022-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
EP4294879A1 (en) | 2021-02-22 | 2023-12-27 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
JPWO2023054324A1 (sv) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ||
CN118176225A (zh) | 2021-10-29 | 2024-06-11 | 科思创(荷兰)有限公司 | 可自由基固化的组合物 |
WO2023080115A1 (ja) | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
CN113929795B (zh) * | 2021-11-16 | 2023-03-28 | 上海墨之炫科技有限公司 | 一种酰基氧化膦类光引发剂 |
WO2023200018A1 (ja) | 2022-04-15 | 2023-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム |
WO2023205223A1 (en) | 2022-04-21 | 2023-10-26 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fibers |
WO2023227683A1 (en) | 2022-05-25 | 2023-11-30 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
WO2024042073A1 (en) | 2022-08-24 | 2024-02-29 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0046175A1 (en) * | 1980-08-19 | 1982-02-24 | Ames Rubber Corporation | Elastomeric-coated roll and method and apparatus for making the same |
DE3443221A1 (de) * | 1984-11-27 | 1986-06-05 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung |
DE3501657A1 (de) * | 1985-01-19 | 1986-07-24 | Reich Spezialmaschinen GmbH, 7440 Nürtingen | Vorrichtung zum vorritzen von werkstuecken |
DE3633436A1 (de) * | 1986-10-01 | 1988-04-14 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
GB8715435D0 (en) * | 1987-07-01 | 1987-08-05 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
DE3801511C2 (de) * | 1988-01-20 | 1996-11-14 | Espe Stiftung | Verwendung von Photoinitiatoren zur Herstellung von in zwei Schritten härtbaren Dentalmassen |
DE3837569A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Espe Stiftung | Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen |
US4962144B1 (en) * | 1988-12-30 | 1998-03-24 | Gen Electric | Composition |
US5218009A (en) * | 1989-08-04 | 1993-06-08 | Ciba-Geigy Corporation | Mono- and di-acylphosphine oxides |
EP0446175A3 (en) * | 1990-03-09 | 1991-11-21 | Ciba-Geigy Ag | Mixture of photoinitiators |
RU2091385C1 (ru) * | 1991-09-23 | 1997-09-27 | Циба-Гейги АГ | Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий |
NL9200052A (nl) * | 1992-01-14 | 1993-08-02 | Gen Electric | Polymeermengsels en daaruit gevormde plaatvormige of filmvormige produkten. |
ZA941879B (en) * | 1993-03-18 | 1994-09-19 | Ciba Geigy | Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators |
JP3452145B2 (ja) * | 1993-08-23 | 2003-09-29 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 粘弾性製品用光重合性組成物及び該組成物を用いた粘弾性製品の製造方法 |
TW381106B (en) * | 1994-09-02 | 2000-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides |
JP3785687B2 (ja) * | 1995-10-05 | 2006-06-14 | 昭和電工株式会社 | 光硬化性組成物及びその硬化方法 |
DE69710657T3 (de) * | 1996-08-23 | 2007-07-05 | Showa Denko K.K. | Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren |
-
1997
- 1997-02-21 SE SE9700616A patent/SE520727C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1997-02-21 CH CH00408/97A patent/CH691970A5/de not_active IP Right Cessation
- 1997-02-25 GB GB9703896A patent/GB2310855B/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-26 KR KR1019970006936A patent/KR100474236B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-02-26 US US08/806,498 patent/US6020528A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-27 DK DK199700217A patent/DK176096B1/da not_active IP Right Cessation
- 1997-02-28 BE BE9700178A patent/BE1011437A5/fr active
- 1997-02-28 SG SG1997000624A patent/SG55281A1/en unknown
- 1997-02-28 DE DE19708294A patent/DE19708294B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-28 CA CA002198803A patent/CA2198803C/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-28 DE DE19758946A patent/DE19758946B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-03 BR BR9701154A patent/BR9701154A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-03-03 NO NO970962A patent/NO309571B1/no not_active IP Right Cessation
- 1997-03-03 NL NL1005424A patent/NL1005424C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1997-03-03 ES ES009700453A patent/ES2132018B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-03 AT AT0036297A patent/AT404729B/de not_active IP Right Cessation
- 1997-03-03 CN CN97102866A patent/CN1092201C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-03 ZA ZA9701810A patent/ZA971810B/xx unknown
- 1997-03-03 IT IT97MI000460A patent/IT1290006B1/it active IP Right Grant
- 1997-03-03 TW TW086102489A patent/TW408136B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-03-03 FR FR9702478A patent/FR2745575B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-04 JP JP06531797A patent/JP4168352B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-04 RU RU97103536/04A patent/RU2180667C2/ru active
-
1998
- 1998-01-20 US US09/009,827 patent/US6284813B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE520727C2 (sv) | Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar | |
JP4200392B2 (ja) | 光開始剤としての分子錯化合物 | |
US6486228B2 (en) | Mono-and Bis-acylphosphine oxide photoinitiator combinations | |
US6057380A (en) | Photogeneration of amines from α-aminoacetophenones | |
AU700479B2 (en) | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides | |
AU717137B2 (en) | Borate coinitiators for photopolymerization | |
US6361925B1 (en) | Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides | |
US5723512A (en) | Dimeric bisacylphosphines, oxides and sulfides | |
EP0898202B1 (en) | Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones | |
US5721292A (en) | Acylphosphine oxides | |
MXPA97006542A (en) | Compounds of molecular complex as photoinicided | |
MXPA97001638A (en) | Oxides of alkylphenilbisacilphosphine and mixtures defotoinicia |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |