RU2822393C1 - Method of transferring embossed structure onto coating surface and composite material used as die for embossing - Google Patents
Method of transferring embossed structure onto coating surface and composite material used as die for embossing Download PDFInfo
- Publication number
- RU2822393C1 RU2822393C1 RU2022110762A RU2022110762A RU2822393C1 RU 2822393 C1 RU2822393 C1 RU 2822393C1 RU 2022110762 A RU2022110762 A RU 2022110762A RU 2022110762 A RU2022110762 A RU 2022110762A RU 2822393 C1 RU2822393 C1 RU 2822393C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- composite material
- weight
- coating
- coating composition
- embossing
- Prior art date
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 388
- 238000004049 embossing Methods 0.000 title claims abstract description 283
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 230
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 225
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 179
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 371
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 182
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 114
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 89
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 63
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 41
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 31
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 85
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 60
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 38
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 30
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 24
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 19
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical class CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims description 12
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 8
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N Ethyl (mesitylcarbonyl)phenylphosphinate Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(OCC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 42
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 73
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 58
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 38
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 33
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 24
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 21
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 21
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 15
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 14
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 14
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 14
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 12
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 9
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 9
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 8
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 8
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 8
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 8
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 7
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 7
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 7
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 6
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 6
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 5
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 5
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000122469 Hypericum hypericoides Species 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 3
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 3
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 3
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- VUIMBZIZZFSQEE-UHFFFAOYSA-N 1-(1h-indol-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=CNC2=C1 VUIMBZIZZFSQEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 2,2-Dimethyloxirane Chemical compound CC1(C)CO1 GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyacetophenone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical class OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- UYSQHMXRROFKRN-UHFFFAOYSA-N (2,4-dimethylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UYSQHMXRROFKRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCBMLGLQWBHGL-UHFFFAOYSA-N (2-cyclohexylsulfonylacetyl) 2-cyclohexylsulfonylethaneperoxoate Chemical compound C1CCCCC1S(=O)(=O)CC(=O)OOC(=O)CS(=O)(=O)C1CCCCC1 UXCBMLGLQWBHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CSUUDNFYSFENAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTDVNFPRWNZHMH-UHFFFAOYSA-N (4-butoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KTDVNFPRWNZHMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGCQHMFVCNWSOV-UHFFFAOYSA-N (4-morpholin-4-ylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 CGCQHMFVCNWSOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N (r)-(6-ethoxyquinolin-4-yl)-[(2s,4s,5r)-5-ethyl-1-azabicyclo[2.2.2]octan-2-yl]methanol;hydrochloride Chemical compound Cl.C([C@H]([C@H](C1)CC)C2)CN1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OCC)C=C21 QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N 0.000 description 1
- MFEWNFVBWPABCX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetraphenylethane-1,2-diol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(O)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(O)C1=CC=CC=C1 MFEWNFVBWPABCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethylbenzene Chemical compound COC(C)(OC)C1=CC=CC=C1 XKSUVRWJZCEYQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxybutane Chemical compound CCC1CO1 RBACIKXCRWGCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHKJKVIZTFFFSB-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylbutan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC)C(=O)C1=CC=CC=C1 UHKJKVIZTFFFSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWILMKDSVMROHT-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenanthrenyl)ethanone Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(=O)C)C=C3C=CC2=C1 CWILMKDSVMROHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHCIAVVQOMVUPC-UHFFFAOYSA-N 1-(3,4-diacetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)=O)C(C(C)=O)=C1 DHCIAVVQOMVUPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZRCTUCUGYQYOS-UHFFFAOYSA-N 1-(4-morpholin-4-ylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 YZRCTUCUGYQYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEFQETIGOMAQDT-UHFFFAOYSA-N 1-(4-morpholin-4-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CC)=CC=C1N1CCOCC1 ZEFQETIGOMAQDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQLIGMASAVJVON-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=CC=CC2=C1 QQLIGMASAVJVON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKVNPRNAHRHQDD-UHFFFAOYSA-N 1-phenanthren-3-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C(=O)C)=CC=C3C=CC2=C1 JKVNPRNAHRHQDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIFAWZBYTTXSOG-UHFFFAOYSA-N 1-phenanthren-9-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=CC3=CC=CC=C3C2=C1 UIFAWZBYTTXSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAHPVQDVMLWUAG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylhexan-1-one Chemical compound CCCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 MAHPVQDVMLWUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)(C)C BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 GIMQKKFOOYOQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQXKWPLDPFFDJP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyloxirane Chemical compound CC1OC1C PQXKWPLDPFFDJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSYPIGPPWAJCJG-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 FSYPIGPPWAJCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDDQXUDCEIMISH-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[1,2,2-tris[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1C(C=1C=CC(OCC2OC2)=CC=1)C(C=1C=CC(OCC2OC2)=CC=1)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 HDDQXUDCEIMISH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZPRASLJQIBVDP-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)cyclohexyl]propan-2-yl]cyclohexyl]oxymethyl]oxirane Chemical compound C1CC(OCC2OC2)CCC1C(C)(C)C(CC1)CCC1OCC1CO1 GZPRASLJQIBVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGZBSJAMZHNHKE-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[bis[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]methyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1C(C=1C=CC(OCC2OC2)=CC=1)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 IGZBSJAMZHNHKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 2-acetylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)C)=CC=C21 XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEERWUUHFUFJJT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1.CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZEERWUUHFUFJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical compound C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 101150081243 STA1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBDGSBYATHYFAB-UHFFFAOYSA-N [C].C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 Chemical class [C].C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 YBDGSBYATHYFAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000005262 alkoxyamine group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DRDRZHJTTDSOPK-UHFFFAOYSA-N bis(2-chlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1Cl DRDRZHJTTDSOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N dibutyl carbonate Chemical compound CCCCOC(=O)OCCCC QLVWOKQMDLQXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000007046 ethoxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000003976 glyceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C(O[H])([H])C(O[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- TWXDDNPPQUTEOV-FVGYRXGTSA-N methamphetamine hydrochloride Chemical compound Cl.CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 TWXDDNPPQUTEOV-FVGYRXGTSA-N 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKFPWZPBRHQASN-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-propan-2-ylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CKFPWZPBRHQASN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUCRPDCCPSDJHT-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-propoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HUCRPDCCPSDJHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYJCUYXTMQSJLM-UHFFFAOYSA-N phenylphosphanyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)PC1=CC=CC=C1 SYJCUYXTMQSJLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006069 physical mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000962 poly(amidoamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N propan-1-one Chemical compound CC[C]=O UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGBXDEHYFWDBKD-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxy carbonate Chemical compound CC(C)OOC(=O)OC(C)C RGBXDEHYFWDBKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000820 replica moulding Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000003655 tactile properties Effects 0.000 description 1
- XQTLDIFVVHJORV-UHFFFAOYSA-N tecnazene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl XQTLDIFVVHJORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(C)(C)C BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- YFHICDDUDORKJB-UHFFFAOYSA-N trimethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCCO1 YFHICDDUDORKJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N valerophenone Chemical compound CCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
Abstract
Description
Область техники изобретенияTechnical field of the invention
Настоящее изобретение относится к способу переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), содержащего подложку (S1) и по меньшей мере частично тисненное и по меньшей мере частично отвержденное покрытие (С1), после следующих стадий (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадии (4) и необязательно стадии (5-I) или (5-II), причем композиция (С1а) для нанесения покрытия представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия определенного состава, и композитный материал (S1C1) предпочтительно применяют в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения.The present invention relates to a method for transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1) comprising a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) , after the following stages (1), (2-I) and (3-I) or (2-II) and (3-II), as well as at least stage (4) and optionally stage (5-I) or (5-II), wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition of a specific composition, and the composite material (S1C1) is preferably used as an embossing die (e2) of the embossing device (E2).
Предшествующий уровень техникиPrior Art
В настоящее время, в ряде промышленных применений принято обеспечивать поверхности заготовок структурами, структурные характеристики которых находятся в микрометровом диапазоне или даже в нанометровом диапазоне. Такие структуры также называют микроструктурами (структуры с характеристиками в микрометровом диапазоне) или наноструктурами (структуры с характеристиками в нанометровом диапазоне). Такие структуры, например, применяются для воздействия на оптические, бионические и/или тактильные свойства поверхностей материалов. Структуры этого типа также называют тиснениями, тисненными структурами или структурированными поверхностями.Currently, in a number of industrial applications it is customary to provide the surfaces of workpieces with structures whose structural characteristics are in the micrometer range or even in the nanometer range. Such structures are also called microstructures (structures with characteristics in the micrometer range) or nanostructures (structures with characteristics in the nanometer range). Such structures are, for example, used to influence the optical, bionic and/or tactile properties of material surfaces. Structures of this type are also called embossed structures, embossed structures or structured surfaces.
Один из распространенных способов получения таких структурированных поверхностей состоит в переносе указанных структур на материал покрытия. Перенос структур на материал покрытия часто достигается с помощью операции тиснения, во время которой клише, содержащее микроструктуры и/или наноструктуры, которые будут применяться для формирования, в негативной форме, приводится в контакт с материалом покрытия и вдавливается в него.One common method for producing such structured surfaces is to transfer said structures onto a coating material. Transfer of structures to the coating material is often achieved through an embossing operation, during which a die containing the microstructures and/or nanostructures that will be used to form, in a negative form, is brought into contact with and pressed into the coating material.
Материал покрытия обычно отверждается in situ, в результате чего получают сформированные на постоянной основе структуры.The coating material is usually cured in situ, resulting in permanently formed structures.
WO 90/15673 А1 описывает способ, в котором отверждаемый под действием излучения материал покрытия наносят на пленку или на тисненное клише с негативной желаемой тисненной структурой, и затем приспособление для тиснения впечатывают на фольгу, на фольгу, обеспеченную материалом покрытия. В то время, как отверждаемый под действием излучения материал покрытия все еще располагается между фольгой и приспособлением для тиснения, проводится отверждение, и затем, после удаления приспособления, получают пленку, которая обеспечена отверждаемым под действием излучения материалом покрытия, который содержит желаемую структуру с позитивными элементами. Европейский патент ЕР 1 135 267 В1 также описывает способ такого рода, в котором отверждаемый материал покрытия наносят на поверхность подложки для декорирования, и соответствующее тисненное клише с негативным узором вдавливают в неотвержденный слой покрытия. После этого, слой покрытия отверждается, и клише для тиснения впоследствии удаляют.ЕР 3 178 653 А1 раскрывает изделие, содержащее гибкую ткань, которая имеет текстурированную поверхность для применения в репликативном формовании отверждаемых систем. Ткань может иметь полимерные слои, которые могут быть получены посредством применения моно- и полифункциональных акрилатов.WO 90/15673 A1 describes a method in which a radiation-curable coating material is applied to a film or embossed plate with a negative desired embossed structure, and then an embossing device is imprinted onto the foil, onto the foil provided with the coating material. While the radiation-curable coating material is still positioned between the foil and the embossing tool, curing is carried out and then, upon removal of the tool, a film is obtained which is provided with a radiation-curable coating material that contains the desired structure with positive elements . European patent EP 1 135 267 B1 also describes a method of this kind in which a curable coating material is applied to the surface of a decoration substrate and a corresponding embossed die with a negative pattern is pressed into the uncured coating layer. Thereafter, the coating layer is cured and the embossing die is subsequently removed. EP 3 178 653 A1 discloses an article comprising a flexible fabric that has a textured surface for use in replica molding of curable systems. The fabric may have polymer layers, which can be obtained through the use of mono- and polyfunctional acrylates.
Патент США №9 778 564 В2 раскрывает материал штампа, который включает в себя компонент, который обязательно содержит структурное звено (мет)акриламида, а также дополнительный компонент, имеющий 2-6 способных к полимеризации групп, указанный компонент также при этом имеет звенья алкиленоксида. После нанесения этого материала на подложку, полученная из него пленка может обеспечиваться узором в ходе ее отверждения с помощью УФ-излучение, применяя никелевое приспособление для тиснения.US Patent No. 9,778,564 B2 discloses a stamp material that includes a component that necessarily contains a (meth)acrylamide structural unit, as well as an additional component having 2-6 polymerizable groups, this component also having alkylene oxide units. Once this material is applied to a substrate, the resulting film can be patterned while it is cured using UV light using a nickel embosser.
US 2007/0204953 А1 раскрывает способ нанесения рисунка на клейкие смолы, который обеспечивает последовательное нанесения отверждаемого слоя клейкой смолы на подложку, нанесение структурированного узора на указанный слой, и, впоследствии, отверждение слоя, таким образом, чтобы получить подложку, обеспеченную отвержденной клейкой смолой, которая содержит желаемой рисунок.US 2007/0204953 A1 discloses a method for patterning adhesive resins that involves sequentially applying a curable layer of adhesive resin to a substrate, applying a structured pattern to said layer, and subsequently curing the layer so as to obtain a substrate provided with a cured adhesive resin, which contains the desired drawing.
WO 2015/154866 A1 относится к способу изготовления подложки со структурированной поверхностью. В данном случае, вначале, на подложку наносят первое отверждаемое с помощью УФ-излучения покрытие и оно отверждается. Затем, поверх этого отвержденного покрытия, в качестве лака для тиснения, наносят второе отверждаемое с помощью УФ-излучения покрытие, которое подвергается тиснению для создания микроструктуры и впоследствии отверждается.WO 2015/154866 A1 relates to a method for producing a substrate with a structured surface. Here, first, a first UV-curable coating is applied to the substrate and cured. A second UV-curable coating is then applied on top of this cured coating as an embossing varnish, which is embossed to create a microstructure and subsequently cured.
DE 10 2007 062 123 А1 описывает способ нанесения на пленку-носитель лака для тиснения, например, такого, как способный к сшиванию под действием УФ-излучения лак для тиснения, структурирование лака для тиснения в микрометровом диапазоне, и отверждение лака для тиснения, нанесенного на пленку, в результате чего получают тисненную пленку, чья микроструктура впоследствии моделируется посредством нанесения металла на тисненную поверхность, другими словами, посредством металлизации пленки. Однако, недостатком такого моделирования с помощью последующей металлизации, является полученное в результате нежелательное снижение качества моделирования.DE 10 2007 062 123 A1 describes a method for applying an embossing varnish, for example such as a UV-crosslinkable embossing varnish, to a carrier film, structuring the embossing varnish in the micrometer range, and curing the embossing varnish applied to film, resulting in an embossed film whose microstructure is subsequently modeled by applying metal to the embossed surface, in other words, by metallizing the film. However, the disadvantage of such modeling using subsequent metallization is the resulting undesirable reduction in the quality of the modeling.
ЕР 2 146 805 В1 описывает способ изготовления материала, имеющего текстурированную поверхность. Способ включает обеспечение подложки отверждаемым покрытием, приведение в контакт указанного покрытия с текстурирующей средой для тиснения, а затем отверждение тисненного таким образом покрытия, и его удаление из текстурирующей среды. Текстурирующая среда содержит поверхностный слой, который содержит 20% - 50% акрилового олигомера, 15% - 35% монофункционального мономера, и 20% - 50% полифункционального мономера. WO 2016/090395 А1 и ACS Nano Journal, 2016 г., 10, страницы 4926 - 4941 описывают подобные способы, с четким указанием в каждом случае, что для получения поверхностного слоя текстурирующей среды, должны применяться большие части трехкратно этоксилированного триметилолпропантриакрилата (ТМР(ЕО)3ТА), с тем, чтобы обеспечить создание сравнительно твердого клише текстурирующей среды. Более того, в соответствии с WO 2016/090395 А1, композиция для нанесения покрытия, которую применяют для получения поверхностного слоя, должна также обязательно включать в себя структурное звено, которое имеет по меньшей мере две тиоловые группы, например, такие как триметилолпропан трис(3-меркаптопропионат). Однако, применение таких тиолов в соответствующих композициях материала покрытия часто является невыгодным, поскольку такие композиции не всегда обладают достаточной стабильностью при хранении, и поскольку покрытия, полученные из них, не обладают достаточной устойчивостью к атмосферным воздействиям. Дополнительным фактором является неприятный запах, возникающий в результате применения тиолов, который, конечно, также является нежелательным.EP 2 146 805 B1 describes a method for producing a material having a textured surface. The method includes providing a substrate with a curable coating, contacting said coating with a texturing embossing medium, and then curing the thus embossed coating and removing it from the texturing medium. The texturizing medium contains a surface layer that contains 20% - 50% acrylic oligomer, 15% - 35% monofunctional monomer, and 20% - 50% polyfunctional monomer. WO 2016/090395 A1 and ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 - 4941 describe similar methods, clearly stating in each case that large portions of triply ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (TMP(EO)) must be used to obtain the surface layer of texturizing medium ) 3 TA), in order to ensure the creation of a relatively hard cliché texturing medium. Moreover, according to WO 2016/090395 A1, the coating composition that is used to obtain the surface layer must also necessarily include a structural unit that has at least two thiol groups, for example, such as trimethylolpropane tris(3 -mercaptopropionate). However, the use of such thiols in suitable coating material compositions is often disadvantageous because such compositions do not always have sufficient storage stability and because coatings prepared from them do not have sufficient weather resistance. An additional factor is the unpleasant odor resulting from the use of thiols, which is of course also undesirable.
KR 2009/0068490 А относится к способу переноса тисненной структуры из мелких узоров в десятки нанометров, посредством применения полимерного клише, причем полимерное клише состоит из I) акрилата, выбранного из силикон(мета)акрилата и фтор(мета)акрилата, II) определенного многофункционального уретан(мета)акрилата, III) отверждаемого с помощью УФ-излучения мономера, и (IV) фотоинициатора, а также к способу его изготовления, к улучшению отделения полимерного клише от подложки без его набухания под действием органического растворителя, при этом полимерное клише обладает превосходной гибкостью, механической прочностью и износостойкостью, по сравнению с клише, изготовленными из ПДМС (полидиметилсилоксана).KR 2009/0068490 A relates to a method for transferring an embossed structure from small patterns of tens of nanometers, through the use of a polymer cliche, wherein the polymer cliche consists of I) an acrylate selected from silicone (meta) acrylate and fluorine (meta) acrylate, II) a certain multifunctional urethane (meth)acrylate, III) a UV-curable monomer, and (IV) a photoinitiator, as well as a method for its manufacture, to improve the separation of the polymer cliche from the substrate without swelling under the influence of an organic solvent, while the polymer cliche has excellent flexibility, mechanical strength and wear resistance, compared to cliches made from PDMS (polydimethylsiloxane).
И наконец, заявки WO 2019185832 А1 и WO 2019185833 А1 описывают способ переноса тисненной структуры на поверхность композиции (В2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (F1B1), состоящего из подложки (S1) и тисненного и отвержденного покрытия (В1) в соответствии с определенными стадиями, причем композиция (В1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения (В1) композитного материала (F1B1), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия определенного состава, а также применение композитного материала (F1B1) в качестве штампа (р2) для тиснения приспособления (Р2) для тиснения для переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (В2а) для нанесения покрытия.Finally, WO 2019185832 A1 and WO 2019185833 A1 describe a method for transferring an embossed structure onto the surface of a coating composition (B2a) using a composite material (F1B1) consisting of a substrate (S1) and an embossed and cured coating (B1) in accordance with in certain steps, wherein the coating composition (B1a) which is used to obtain (B1) the composite material (F1B1) is a radiation-curable coating composition of a certain composition, and the use of the composite material (F1B1) as a stamp ( p2) for embossing, an embossing device (P2) for transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of the coating composition (B2a).
Однако, способы тиснения, известные из предшествующего уровня техники, в частности, такие как способы, описанные в ЕР 2 146 805 В1, WO 2016/090395 А1, и в ACS Nano Journal, 2016 г., 10, страницы 4926 - 4941, не всегда являются достаточно эффективными относительно переноса тиснения, в частности, микрометрового диапазона и/или нанометрового диапазона, то есть микроструктур и/или наноструктур, в частности, без снижения точности формования до неприемлемой степени в случае такого переноса. В то же время, тиснения не всегда удовлетворительно воспроизводятся или, как указано в заявках WO 2019185832 А1 и WO 2019185833 А1, высокая степень воспроизведения и отделение тисненного и отвержденного покрытия без разрушения может быть получено только тогда, когда композитный материал, применяемый в качестве клише для тиснения, выдерживают на протяжении определенного периода времени и незамедлительно разделяют клише для тиснения и тисненное и отвержденное покрытие после отверждения.However, embossing methods known from the prior art, in particular such as those described in EP 2 146 805 B1, WO 2016/090395 A1, and ACS Nano Journal, 2016, 10, pages 4926 - 4941, do not are always sufficiently effective regarding embossing transfer, in particular in the micrometer range and/or nanometer range, that is, microstructures and/or nanostructures, in particular, without reducing the molding accuracy to an unacceptable degree in the event of such transfer. At the same time, embossings are not always reproduced satisfactorily or, as stated in WO 2019185832 A1 and WO 2019185833 A1, a high degree of reproduction and separation of the embossed and cured coating without destruction can only be obtained when the composite material used as a cliche for embossing, stand for a certain period of time and immediately separate the embossing cliche and the embossed and cured coating after curing.
Следовательно, имеется потребность в способе тиснения, который не имеет указанных выше недостатков.Therefore, there is a need for an embossing method that does not have the above disadvantages.
ЗадачаTask
Следовательно, задача настоящего изобретения состоит в обеспечении способа переноса тисненных структур на композиции для нанесения покрытия, и на подложки, содержащие такие композиции для нанесения покрытия, и в частности, способа такого рода, который обеспечивает перенос соответствующих микроструктур и/или наноструктур, и который обеспечивает достаточную точность формования и высокую степень успешности воспроизведения при переносе тисненных структур, также и на более значительные площади подложки, таким образом, чтобы тиснение не сопровождалось потерей глубины модуляции, и который, в частности, позволяет создавать клише для тиснения очень в значительной степени многократно применяемого для переноса тисненной структуры, и/или который может осуществляться посредством применения клише для тиснения такого рода. В то же время, необходимо, чтобы структуры для тиснения, которые подлежат переносу, могли воспроизводиться в очень высокой степени, без каких-либо недостатков способа, обусловленных, в частности, нежелательными или неудовлетворительными характеристиками части покрытий и применяемых композиций для нанесения покрытия, такими как неудовлетворительная адгезия, в частности, неудовлетворительная адгезия с точки зрения способности композиции для нанесения покрытия, на которую наносится тиснение, к отделению от клише посредством обезвоживания композиции для нанесения покрытия, на которую наносится тиснение, вследствие несоответствия поверхностных энергий, что приводит в результате к уменьшению заполнения клише и потере модуляции, причем особенно хорошее разделение клише для тиснения и тисненного и отвержденного покрытия обеспечивается независимо от времени, прошедшего после изготовления клише для тиснения и приведения в контакт клише для тиснения и композиции для нанесения покрытия, на которую наносится тиснение. Более того, необходимо улучшить точность формования по всей ширине клише для тиснения. Техническое решениеIt is therefore an object of the present invention to provide a method for transferring embossed structures onto coating compositions, and onto substrates containing such coating compositions, and in particular, a method of the kind that allows for the transfer of corresponding microstructures and/or nanostructures, and which provides sufficient molding accuracy and a high degree of success in reproducing the transfer of embossed structures, also over larger areas of the substrate, in such a way that embossing is not accompanied by a loss of modulation depth, and which, in particular, allows the creation of stamping cliches that are very largely reusable for transfer of the embossed structure, and/or which can be carried out by using an embossing cliché of this kind. At the same time, it is necessary that the embossing structures to be transferred can be reproduced to a very high degree, without any disadvantages of the method due in particular to undesirable or unsatisfactory characteristics of some of the coatings and coating compositions used, such as poor adhesion, in particular poor adhesion in terms of the ability of the embossed coating composition to release from the cliché by dewatering the embossed coating composition due to a mismatch in surface energies, resulting in reduced fill cliché and loss of modulation, whereby particularly good separation of the embossing cliché and the embossed and cured coating is achieved regardless of the time elapsed after the embossing cliché has been manufactured and the embossing cliché has been brought into contact with the coating composition to be embossed. Moreover, it is necessary to improve the molding accuracy across the entire width of the embossing cliche. Technical solution
Эта задача решается с помощью предмета изобретения, заявленного в формуле изобретения, а также с помощью предпочтительных вариантов осуществления указанного предмета, как описано далее.This object is achieved by the subject matter claimed in the claims, as well as by preferred embodiments of said subject matter, as described below.
Следовательно, первый объект настоящего изобретения представляет собой способ переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ содержит по меньшей мере стадии (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-I) или (5-II), а именно:Therefore, the first object of the present invention is a method of transferring an embossed structure to at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2-I) and (3-I) or (2-II) and (3-II), as well as at least stage (4) and optionally stage (5-I) or (5-II), namely:
(1) обеспечение композитного материала (S1C1), состоящего из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1);(1) providing a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
иAnd
(2-I) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S2), с тем, чтобы получить композитный материал (S2C2a);(2-I) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) so as to obtain a composite material (S2C2a);
(3-I) нанесение композитного материала (S1C1) по меньшей мере на часть композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2aS2);(3-I) applying a composite material (S1C1) to at least a portion of the composite material coating composition (C2a) (S2C2a) so as to obtain a composite material (S1C1C2aS2);
илиor
(2-II) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненной и по меньшей мере частично отвержденной поверхности композитного материала (S1C1), и по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2a);(2-II) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite material (S1C1), and at least partially embossing the composition (C2a) for coating using a composite material (S1C1), so as to obtain a composite material (S1C1C2a);
(3-II) необязательно нанесение подложки (S2) по меньшей мере на часть поверхности, образованной композицией (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S1C1C2a), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2aS2); и(3-II) optionally applying a substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the composition (C2a) for coating a composite material (S1C1C2a), thereby obtaining a composite material (S1C1C2aS2); And
(4) по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно нанесенной на подложку (S2), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2) или (S1C1C2S2);(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to a substrate (S2), which is in contact with the composite material (S1C1) throughout at least partial curing, with in order to obtain a composite material (S1C1C2) or (S1C1C2S2);
иAnd
(5-I) необязательно удаление композитного материала (C2S2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2S2), с композитного материала (S1C1), для восстановления композитного материала (S1C1), обеспеченного на стадии (1);(5-I) optionally removing the composite material (C2S2) located in the composite material (S1C1C2S2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) provided in step (1);
илиor
(5-II) необязательно удаление покрытия (С2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2), с композитного материала (S1C1) для восстановления композитного материала (S1C1), обеспеченного на стадии (1);(5-II) optionally removing the coating (C2) located in the composite material (S1C1C2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) provided in step (1);
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) композитного материала (S1C1), который применяют на стадии (1), и восстановленного на стадии (5-I) или на стадии (5-II), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein a coating composition (C1a) that is used to obtain an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite material (S1C1) that is used in step (1) and recovered in step (5-I ) or in step (5-II), is a radiation-curable coating composition containing
(а) 1 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 1 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0-5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0-5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляет 100% по массе;wherein (i) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, is 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Неожиданно было обнаружено, что способ в соответствии с изобретением позволяет переносить тисненные микроструктуры и/или наноструктуры, в частности, в диапазоне ширины структуры от 10 нм до 1000 мкм и в диапазоне глубины структуры от 1 нм до 1000 мкм, на подлежащую тиснению композицию для нанесения покрытия, обеспечивая при этом очень высокую степень успешного воспроизведения независимо от времени, прошедшего после получения композитного материала (S1C1) и нанесения на него композиции (С2а) для нанесения покрытия, и времени, прошедшего между тиснением и отверждением композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной на такой композитный материал (S1C1), предпочтительно применяемый в качестве клише для тиснения, без потери высокого качества воспроизведения, которое страдает от меньшего заполнение клише, причем композитный материал (S1C1), предпочтительно применяемый в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, имеет улучшенную однородность толщины слоя по всей ширине клише для тиснения, обеспечивая более равномерное приложение давления к композитному материалу (S1C1), если оно применяется.Surprisingly, it has been found that the method according to the invention makes it possible to transfer embossed microstructures and/or nanostructures, in particular in the range of structure widths from 10 nm to 1000 μm and in the range of structure depths from 1 nm to 1000 μm, onto the composition to be embossed for application coating, while providing a very high degree of successful reproduction, regardless of the time elapsed after the composite material (S1C1) was prepared and applied to it with the coating composition (C2a), and the time elapsed between embossing and curing of the coating composition (C2a), applied to such a composite material (S1C1), preferably used as an embossing cliché, without losing the high quality of reproduction, which suffers from less filling of the cliché, with the composite material (S1C1), preferably used as a cliché (e2) for the embossing fixture (E2 ) for embossing, has improved layer thickness uniformity across the entire width of the embossing die, providing a more uniform application of pressure to the composite material (S1C1), if used.
В этом контексте, в частности, было неожиданно обнаружено, что способ в соответствии с изобретением позволяет переносить тисненные структуры с очень высокой точностью формования и высоким уровнем успешности воспроизведения по всей ширине клише, причем композитный материал (S1C1) может быть получен посредством нанесения покрытия из отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия на предпочтительно движущуюся подложку (S1), и который при этом предпочтительно применяют в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения.In this context, in particular, it has been unexpectedly discovered that the method according to the invention makes it possible to transfer embossed structures with very high molding accuracy and a high level of reproduction success over the entire width of the cliché, whereby the composite material (S1C1) can be obtained by coating with a curable under the influence of radiation of a composition (C1a) for coating a preferably moving substrate (S1), and which is then preferably used as a cliché (e2) for embossing the embossing device (E2).
Кроме того, неожиданно было обнаружено, что способ в соответствии с изобретением может применяться с таким преимуществом, потому что покрытие (С1) на подложке (S1) отличается очень хорошей адгезией и очень хорошим характеристиками отделения, независимо от времени хранения композитного материала (S1C1) и времени, прошедшего после тиснения и отверждения композиции (С2) для нанесения покрытия, и по этой причине соответствующий композитный материал (S1C1) также может очень эффективно применяться в качестве клише (е2) для тиснения.Moreover, it has surprisingly been found that the method according to the invention can be used with such advantage because the coating (C1) on the substrate (S1) has very good adhesion and very good release characteristics, regardless of the storage time of the composite material (S1C1) and time elapsed after embossing and curing of the coating composition (C2), and for this reason the corresponding composite material (S1C1) can also be very effectively used as an embossing block (e2).
Кроме того, было неожиданно обнаружено, что композитный материал (S1C1), применяемый в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения в способе в соответствии с изобретением, может применяться для переноса тисненных структур, таких как микроструктуры и/или наноструктуры, многоразово, в частности, в виде клише для непрерывного тиснения, указанное при этом является преимущественным по экономическим причинам. Более того, неожиданно указанный композитный материал (S1C1), который предпочтительно представлен в виде клише (е2) для непрерывного тиснения, не только может применяться многократно и, следовательно, является многоразовым, но также может изготавливаться недорого и быстро в больших промышленных масштабах.Moreover, it has been surprisingly discovered that the composite material (S1C1) used as the embossing die (e2) of the embossing device (E2) in the method according to the invention can be used to transfer embossed structures such as microstructures and/or nanostructures , reusable, in particular in the form of clichés for continuous embossing, which is advantageous for economic reasons. Moreover, surprisingly, said composite material (S1C1), which is preferably presented in the form of a continuous embossing block (e2), is not only reusable and therefore reusable, but can also be produced inexpensively and quickly on a large industrial scale.
Следовательно, дополнительным объектом настоящего изобретения является также композитный материал (S1C1), который состоит из подложки (S1) и по меньшей мере из частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), и которое можно получить посредством по меньшей мере частичного отверждения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1), и по меньшей мере частично тисненного, в результате отверждения излучением,Therefore, a further object of the present invention is also a composite material (S1C1), which consists of a substrate (S1) and at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), and which can be obtained by at least partially curing the composition (C1a) for applying a coating applied to at least a portion of the surface of the substrate (S1), and at least partially embossed as a result of radiation curing,
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition containing
(а) 1 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 1 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0 - 5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight of at least one silicone (meth)acrylate oligomer, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a).
Предпочтительно, указанный композитный материал (S1C1) можно получить посредством осуществления стадий способа (6) - (9), которые описаны более подробно ниже.Preferably, said composite material (S1C1) can be obtained by carrying out method steps (6) to (9), which are described in more detail below.
Неожиданно было обнаружено, что по меньшей мере частично тисненный композитный материал (S1C1) в соответствии с изобретением не только может применяться в качестве многоразового клише (е2) для тиснения, предпочтительно в виде многоразового клише (е2) для непрерывного тиснения, в способе тиснения, таком как способ в соответствии с изобретением, но также, что с помощью компонентов, присутствующих в отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения этого композитного материала (S1C1), возможно достичь очень эффективного разделения между композитным материалом (S1C1), который может применяться в качестве клише (е2) для тиснения в приспособлении (Е2) для тиснения, и тисненным покрытием (С2) и/или соответствующим композитным материалом, таким как композитный материал (S2C2), содержащий такое тисненное покрытие, такое как покрытие (С2), особенно при выполнении способа в соответствии с изобретением и на его необязательной стадии (5-I) или (5-II), с очень высоким качеством отделения, независимо от времени, прошедшего после получения композитного материала (S1C1), применяемого в качестве клише для тиснения, и после нанесения композиции (С2а) для нанесения покрытия, или независимо от времени, прошедшего после тиснения и отверждения этого полученного в результате покрытия (С2). Кроме того, в частности, было обнаружено, что в частности, при прохождении стадий (6) - (9) способа получения композитного материала (S1C1), тисненная структура покрытия (С1) может быть получена с высокой успешностью воспроизведения и качеством воспроизведения элементов клише для тиснения, вследствие полного заполнения клише по всей ширине клише в виде однородного по толщине слоя.Surprisingly, it has been found that the at least partially embossed composite material (S1C1) according to the invention can not only be used as a reusable embossing die (e2), preferably as a reusable die (e2) for continuous embossing, in an embossing process such as a method according to the invention, but also that with the help of the components present in the radiation-curable coating composition (C1a) which is used to obtain this composite material (S1C1), it is possible to achieve a very effective separation between the composite material (S1C1 ), which can be used as an embossing die (e2) in an embossing fixture (E2), and an embossed coating (C2) and/or a corresponding composite material, such as a composite material (S2C2), containing such an embossed coating, such as a coating (C2), especially when performing the process according to the invention and in its optional step (5-I) or (5-II), with a very high separation quality, regardless of the time elapsed after obtaining the composite material (S1C1) used in as an embossing cliché, and after application of the coating composition (C2a), or regardless of the time elapsed after embossing and curing of the resulting coating (C2). In addition, in particular, it was found that, in particular, when passing through stages (6) - (9) of the method for producing a composite material (S1C1), the embossed structure of the coating (C1) can be obtained with high reproduction success and quality of reproduction of cliche elements for embossing, due to the complete filling of the cliche along the entire width of the cliche in the form of a layer of uniform thickness.
Кроме того, дополнительным объектом настоящего изобретения является применение композитного материала (S1C1) в соответствии с изобретением в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения для переноса тисненной структуры, предпочтительно тисненной структуры, имеющей микроструктурированную и/или наноструктурированную поверхность, по меньшей мере на части поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно нанесенной на подложку (S2).Moreover, a further object of the present invention is the use of a composite material (S1C1) according to the invention as an embossing die (e2) of an embossing device (E2) for transferring an embossed structure, preferably an embossed structure having a microstructured and/or nanostructured surface, according to on at least a portion of the surface of the coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2).
Подробное описаниеDetailed description
Если в контексте настоящего изобретения ссылаются на официальный стандарт, то это означает версию стандарта, которая была действующей на дату подачи заявки, или, если действующей версии на эту дату не существовало, то это означает последнюю действующую версию.When, in the context of the present invention, a formal standard is referred to, it means the version of the standard that was in effect on the filing date of the application, or, if there was no current version on that date, then it means the latest version in force.
Термин "по меньшей мере" в контексте этого изобретения, например, в связи с композицией (С1а) для нанесения покрытия, содержащей по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер, необходимо понимать как такой, который включает в себя определенное количество (одно и более) составляющих, например, композиция (С1а) для нанесения покрытия состоит из одного, двух, трех, или четырех разных или одинаковых способных к сшиванию полимеров и/или олигомеров. Математический символ в отношении и интерпретации термина "по меньшей мере" подобен "≥". Подобное применяется и в отношении интерпретации термина "по меньшей мере" в сочетании с заданными числовыми диапазонами, например, такое выражение как "по меньшей мере 25% по массе", следует интерпретировать в контексте изобретения как обозначающее 25% по массе - 100% по массе. Термин "менее", например, такой как менее 75% по массе, понимается как такой, который не включает в себя упомянутое количество ("75"), и его следует интерпретировать как диапазон от 0% по массе до 75% по массе. Математический символ в отношении интерпретации термина "менее" подобен "<".The term “at least” in the context of this invention, for example in connection with a coating composition (C1a) containing at least one crosslinkable polymer and/or oligomer, is to be understood as one that includes a certain amount of ( one or more) components, for example, the coating composition (C1a) consists of one, two, three, or four different or identical crosslinkable polymers and/or oligomers. The mathematical symbol in relation and interpretation of the term "at least" is similar to "≥". The same applies to the interpretation of the term "at least" in combination with specified numerical ranges, for example, an expression such as "at least 25% by weight" should be interpreted in the context of the invention to mean 25% by weight - 100% by weight . The term “less,” for example, such as less than 75% by weight, is understood to mean that it does not include the amount referred to (“75”), and should be interpreted as ranging from 0% by weight to 75% by weight. The mathematical symbol with respect to the interpretation of the term "less" is similar to "<".
В этом описании изобретения, для удобства, термины "полимер" и "смола" применяют взаимозаменяемо, и включают в себя смолы, олигомеры, и полимеры.In this specification, for convenience, the terms “polymer” and “resin” are used interchangeably and include resins, oligomers, and polymers.
Термин "поли(мет)акрилат" обозначает как полиакрилаты, так и полиметакрилаты. Следовательно, поли(мет)акрилаты могут состоять из акрилатов и/или метакрилатов, и могут содержать дополнительные этиленненасыщенные мономеры, такие как, например, стирол или акриловая кислота. Термин "(мет)акрилоил" в смысле настоящего изобретения охватывает метакрилоиловые соединения, акрилоильные соединения и их смеси.The term "poly(meth)acrylate" refers to both polyacrylates and polymethacrylates. Therefore, poly(meth)acrylates may consist of acrylates and/or methacrylates, and may contain additional ethylenically unsaturated monomers such as, for example, styrene or acrylic acid. The term "(meth)acryloyl" as used herein includes methacryloyl compounds, acryloyl compounds and mixtures thereof.
В контексте этого изобретения, С1-С4-алкил обозначает метил, этил, изопропил, н-пропил, н-бутил, изобутил, втор-бутил и трет-бутил, предпочтительно метил, этил и н-бутил, более предпочтительно метил и этил и наиболее предпочтительно метил.In the context of this invention, C 1 -C 4 -alkyl means methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl, preferably methyl, ethyl and n-butyl, more preferably methyl and ethyl and most preferably methyl.
Термин "содержащий" в смысле настоящего изобретения, в связи с композициями для нанесения покрытия, применяемыми в соответствии с изобретением, например, такими как, композиция (С1а) для нанесения покрытия, и в связи со способом в соответствии с изобретением и его стадиями, предпочтительно имеет определение в значении "состоящий из". Более того, что касается, например, композиции (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют в соответствии с изобретением в дополнение к компонентам (а) и (б), а также (в) и необязательно (г) - возможно, когда один или несколько других компонентов, указанных ниже и необязательно присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, применяемой в соответствии с изобретением, подлежат включению в эту композицию. Каждый из компонентов может присутствовать в предпочтительных вариантах осуществления, указанных ниже. Что касается способа в соответствии с изобретением, то он, в дополнение к стадиям (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадии 4) и, необязательно, стадии (5-I) или (5-II), может включать дополнительные необязательные стадии способа, такие как, например, стадии (6) - (9).The term "comprising" in the sense of the present invention, in connection with the coating compositions used in accordance with the invention, for example, such as the coating composition (C1a), and in connection with the method according to the invention and its steps, is preferably has the definition meaning "consisting of". Moreover, with regard to, for example, the coating composition (C1a) which is used in accordance with the invention in addition to components (a) and (b), as well as (c) and optionally (d) - it is possible when one or Several other components listed below and optionally present in the coating composition (C1a) used in accordance with the invention are to be included in this composition. Each of the components may be present in the preferred embodiments set forth below. As regards the method according to the invention, it is, in addition to steps (1), (2-I) and (3-I) or (2-II) and (3-II), as well as at least step 4 ) and, optionally, steps (5-I) or (5-II), may include additional optional process steps, such as, for example, steps (6) - (9).
Способ переноса тисненной структуры в соответствии с изобретением, включающий по меньшей мере стадии (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-I) или (5-II)A method for transferring an embossed structure in accordance with the invention, comprising at least steps (1), (2-I) and (3-I) or (2-II) and (3-II), as well as at least step (4 ) and optionally stage (5-I) or (5-II)
Первый объект настоящего изобретения представляет собой способ в соответствии с изобретением переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ включает по меньшей мере стадии (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-I) или (5-II), как описано ниже.The first aspect of the present invention is a method according to the invention of transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2- I) and (3-I) or (2-II) and (3-II), as well as at least step (4) and optionally step (5-I) or (5-II), as described below.
Способ в соответствии с изобретением предпочтительно представляет собой непрерывный способ.The method according to the invention is preferably a continuous process.
Тисненную структуру переносят или поддерживают посредством по меньшей мере частичного тиснения в соответствии со стадиями (2-I) и (3-I) способа композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S2). Альтернативная возможность состоит в переносе посредством стадий (2-II) и (3-II) способа. Термин "тиснение" относится по меньшей мере к частичному обеспечению тисненной структурой композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно как части композитного материала (S2C2a), по меньшей мере на части его поверхности. В этом случае, по меньшей мере определенная площадь композиции (С2а) для нанесения покрытия обеспечивается тисненной структурой. Предпочтительно, вся поверхность композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно как часть композитного материала (S2C2a), обеспечивается тисненной структурой. Подобные комментарии применяются в связи с термином "тиснение" в отношении по меньшей мере частично тисненного композитного материала (S1C1), предпочтительно применяемого в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, и который при этом состоит из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), который может быть получен в соответствии со стадиями (6) - (9), которые описаны ниже.The embossed structure is transferred or maintained by at least partial embossing in accordance with process steps (2-I) and (3-I) of the coating composition (C2a) applied at least partially to the surface of the substrate (S2). An alternative possibility is transfer via process steps (2-II) and (3-II). The term "embossing" refers to at least partially providing an embossed structure to a coating composition (C2a), optionally as part of a composite material (S2C2a), on at least a portion of its surface. In this case, at least a certain area of the coating composition (C2a) is provided with an embossed structure. Preferably, the entire surface of the coating composition (C2a), optionally as part of a composite material (S2C2a), is provided with an embossed structure. Similar comments apply in connection with the term "embossing" in relation to at least partially embossed composite material (S1C1), preferably used as a die (e2) for embossing the embossing device (E2), and which consists of a substrate (S1) and at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), which can be obtained in accordance with steps (6) - (9), which are described below.
Стадия (1):Stage (1):
На стадии (1) способа в соответствии с изобретением, обеспечивается композитный материал (S1C1), состоящий из подложки (S1) и по меньшей мере частично отвержденного и по меньшей мере частично тисненного покрытия (С1).In step (1) of the method according to the invention, a composite material (S1C1) is provided, consisting of a substrate (S1) and an at least partially cured and at least partially embossed coating (C1).
Тисненные структуры композитного материала (S1C1), клише (e1) для тиснения, а также композитного материала (S2C2a) и композитного материала (S2C2), которые описаны на следующих стадиях, основаны, предпочтительно и в каждом случае независимо друг от друга, на повторяющемся и/или расположенном через одинаковые промежутки узоре, или же они имеют полностью произвольный характер. В каждом случае, структура может представлять собой непрерывную тисненную структуру, такую как непрерывная структура в виде рифлей или же ряд предпочтительно повторяющихся отдельных тисненных структур. В этом случае, соответствующие отдельные тисненные структуры, в свою очередь, могут быть предпочтительно основаны на структуре в виде рифлей, имеющей более или менее сильно выраженные гребни (выступающие части тиснения), которые определяют высоту тиснения тисненной структуры. Согласно соответствующей геометрии гребней предпочтительно повторяющейся отдельной тисненной структуры, вид сверху может показывать ряд предпочтительно повторяющихся отдельных тисненных структур, каждая из которых различна, например, предпочтительно волнообразной, пилообразной, шестиугольной, ромбической, ромбоидной формы, формы в виде параллелограмма, ячеистой, круглой, точечной формы, формы в виде звезды, формы в виде жгута, сетчатой, многоугольной, предпочтительно треугольной, четырехугольной, более предпочтительно прямоугольной и квадратной, пятиугольной, шестиугольной, семиугольной и восьмиугольной формы, проволокообразной формы, эллипсоидальной, овальной формы, а также узоры решетчатой формы, причем возможно наложение друг над другом по меньшей мере двух узоров. Выступающие части отдельных тисненных структур также могут иметь кривизну, то есть, иметь выпуклую и/или вогнутую структуру.The embossed structures of the composite material (S1C1), the embossing cliches (e1), as well as the composite material (S2C2a) and the composite material (S2C2), which are described in the following steps, are based, preferably and in each case independently of each other, on a repeating and /or a pattern located at regular intervals, or they are completely arbitrary. In each case, the structure may be a continuous embossed structure, such as a continuous ribbed structure, or a series of preferably repeating individual embossed structures. In this case, the respective individual embossed structures may in turn be advantageously based on a ribbed structure having more or less strongly defined ridges (embossing projections) which define the embossing height of the embossed structure. According to the corresponding geometry of the ridges of the preferably repeating individual embossed structure, the top view may show a number of preferably repeating individual embossed structures, each of which is different, for example, preferably wavy, sawtooth, hexagonal, rhombic, rhomboid, parallelogram, honeycomb, round, dotted shapes, star shapes, rope shapes, mesh shapes, polygonal shapes, preferably triangular shapes, quadrangular shapes, more preferably rectangular and square shapes, pentagonal shapes, hexagonal shapes, heptagonal shapes and octagonal shapes, wire shapes, ellipsoidal shapes, oval shapes, and lattice shapes, Moreover, at least two patterns can be superimposed on top of each other. The protruding parts of the individual embossed structures can also have a curvature, that is, have a convex and/or concave structure.
Предпочтительно, тисненное покрытие (С1) содержит по меньшей мере одну микроструктурированную и/или наноструктурированную поверхность, содержащую микроразмерные и/или наноразмерные элементы поверхности. Соответствующие тисненные микроразмерные и/или наноразмерные элементы поверхности могут быть описаны посредством их ширины, такой как ширина гребней, другими словами, посредством ширины структуры, а также посредством высоты тиснения, другими словами, посредством их высоты структуры (или глубины структуры). Ширина структуры, такая как ширина гребней, может иметь длину, составляющую до одного сантиметра, но предпочтительно находится в диапазоне от 10 нм до 1 мм. Высота структуры предпочтительно находится в диапазоне от 0,1 нм до 1 мм. Однако, предпочтительно, соответствующая тисненная структура представляет собой микроструктуру и/или наноструктуру.Preferably, the embossed coating (C1) contains at least one microstructured and/or nanostructured surface containing micro-sized and/or nano-sized surface elements. Corresponding embossed micro-scale and/or nano-scale surface features can be described by their width, such as the width of the ridges, in other words by the width of the structure, and also by the height of the embossing, in other words by their height of the structure (or depth of the structure). The width of the structure, such as the width of the ridges, can be up to one centimeter in length, but is preferably in the range of 10 nm to 1 mm. The height of the structure is preferably in the range from 0.1 nm to 1 mm. However, preferably the corresponding embossed structure is a microstructure and/or a nanostructure.
Соответственно, размер определенного микроразмерного или наноразмерного элемента поверхности определяется как его максимальная протяженность в каком-либо направлении, параллельном поверхности, то есть, например, в виде диаметра цилиндрического элемента поверхности или диагонали поверхности основы пирамидального элемента поверхности. В случае элементов поверхности, имеющих макроразмерную протяженность в одном или нескольких направлениях в пределах поверхности (или параллельно поверхности), и микроразмерную или наноразмерную протяженность в одном или нескольких других направлениях в пределах поверхности, термин размер элемента поверхности относится к микроразмерной и/или наноразмерной протяженности такого элементов поверхности. Соответственно, длина определенного микроразмерного или наноразмерного элемента поверхности определяется как его протяженность в направлении длины структурированной поверхности. Подобным образом, ширина конкретного микроразмерного или наноразмерного элемента поверхности, соответственно, определяется как его протяженность в направлении ширины структурированной поверхности.Accordingly, the size of a particular micro-sized or nano-sized surface feature is defined as its maximum extent in any direction parallel to the surface, that is, for example, as the diameter of a cylindrical surface feature or the diagonal of the surface of the base of a pyramidal surface feature. In the case of surface features having macro-scale extent in one or more directions within the surface (or parallel to the surface), and micro-scale or nano-scale extent in one or more other directions within the surface, the term surface feature size refers to the micro-scale and/or nano-scale extent of such surface elements. Accordingly, the length of a particular micro- or nano-sized surface element is defined as its extent in the direction of the length of the structured surface. Likewise, the width of a particular micro-sized or nano-sized surface feature, respectively, is defined as its extent in the direction of the width of the structured surface.
Высота выступающего (или возвышающегося) элемента поверхности определяется его соответствующей протяженностью, измеренной от прилегающей нижней поверхности, на которой расположен соответствующий выступающий элемент поверхности, в направлении, перпендикулярном такой нижней поверхности. Подобным образом, глубина элемента поверхности, простирающегося в направлении вниз от прилегающей верхней открытой поверхности, определяется посредством его соответствующей протяженности вниз, измеренной от прилегающей верхней поверхности, от которой простирается углубление, в направлении, перпендикулярном такой верхней поверхности.The height of a projecting (or rising) surface element is determined by its corresponding extent measured from the adjacent bottom surface on which the corresponding projecting surface element is located, in a direction perpendicular to such bottom surface. Likewise, the depth of a surface element extending in a downward direction from an adjacent upper open surface is determined by its corresponding downward extent measured from the adjacent upper surface from which the recess extends, in a direction perpendicular to such upper surface.
Расстояние между двумя прилегающими элементами поверхности определяется как расстояние между двумя максимальными значениями или двумя относительными максимальными значениями, соответственно, между такими элементами поверхности в направлении в пределах структурированной поверхности. Структурированные поверхности, имеющие повторяющуюся последовательность элементов поверхности в одном или нескольких заданных направлениях, параллельных поверхности, могут быть охарактеризованы одной или несколькими длинами между наивысшими точками в таких направлениях. В определенном направлении, параллельном поверхности, термин длина между наивысшими точками означает расстояние между соответствующими точками двух соседних, повторяющихся через одинаковые промежутки элементов поверхности. Это может быть проиллюстрировано в отношении структурированных поверхностей, содержащих чередующуюся последовательность элементов поверхности типа канавок и реек, причем оба элемента поверхности, в первом продольном направлении, в макроскопическом масштабе, простираются по сути параллельно друг другу, и причем каждый из них имеет микро- и, необязательно, наноразмерное поперечное сечение, расположенное перпендикулярно к указанному продольному направлению). Длина между наивысшими точками такой структурированной поверхности, расположенной перпендикулярно к продольному направлению, представляет собой сумму ширины элемента поверхности типа канавок и ширины элемента поверхности типа реек в таком перпендикулярном направлении.The distance between two adjacent surface elements is defined as the distance between two maximum values or two relative maximum values, respectively, between such surface elements in a direction within the structured surface. Structured surfaces having a repeating sequence of surface features in one or more specified directions parallel to the surface may be characterized by one or more lengths between the highest points in such directions. In a certain direction parallel to the surface, the term length between the highest points means the distance between the corresponding points of two adjacent, repeating surface elements at equal intervals. This can be illustrated in relation to structured surfaces containing an alternating sequence of surface elements such as grooves and slats, both surface elements, in a first longitudinal direction, on a macroscopic scale, extending substantially parallel to each other, and each of them having micro- and, optionally, a nano-sized cross-section located perpendicular to the specified longitudinal direction). The length between the highest points of such a structured surface perpendicular to the longitudinal direction is the sum of the width of the groove type surface element and the width of the slatted surface element in such perpendicular direction.
Предпочтительно, соответствующая микроструктурированная и/или наноструктурированная поверхность, подлежащая переносу посредством тиснения, содержит микроразмерные и/или наноразмерные элементы поверхности, причем ширина структуры предпочтительно находится в диапазоне от 10 нм до 1000 мкм, предпочтительно от 10 нм до 500 мкм, более предпочтительно в диапазоне от 25 нм до 400 мкм, очень предпочтительно в диапазоне от 50 нм до 250 мкм, в частности, в диапазоне от 100 нм до 100 мкм, и высота структуры предпочтительно находится в диапазоне от 10 нм до 1000 мкм, предпочтительно в диапазоне от 10 нм до 500 мкм, более предпочтительно в диапазоне от 25 нм до 400 мкм, очень предпочтительно в диапазоне от 50 нм до 300 мкм, в частности, в диапазоне от 100 нм до 200 мкм. Указанные размеры применяются для тисненных структур как композитного материала (S1C1), так и композитного материала (C2S2) и покрытия (С2), а также, следовательно, для клише (e1) для тиснения на необязательной стадии (7).Preferably, the corresponding microstructured and/or nanostructured surface to be transferred by embossing contains micro-sized and/or nano-sized surface features, the width of the structure preferably being in the range of 10 nm to 1000 µm, preferably from 10 nm to 500 µm, more preferably in the range from 25 nm to 400 µm, very preferably in the range from 50 nm to 250 µm, in particular in the range from 100 nm to 100 µm, and the height of the structure is preferably in the range from 10 nm to 1000 µm, preferably in the range from 10 nm to 500 µm, more preferably in the range from 25 nm to 400 µm, very preferably in the range from 50 nm to 300 µm, in particular in the range from 100 nm to 200 µm. The specified dimensions apply to the embossed structures of both the composite material (S1C1) and the composite material (C2S2) and the coating (C2), and therefore also to the cliches (e1) for embossing in the optional step (7).
Ширину структуры и высоту структуры соответствующей поверхности, содержащей микроструктурированные и/или наноструктурированные элементы поверхности, предпочтительно определяют посредством получения поперечного сечения поверхности и определения высоты структуры и ширины структуры указанного поперечного сечения с помощью оптической и/или растровой электронной микроскопии.The structure width and structure height of a corresponding surface containing microstructured and/or nanostructured surface elements are preferably determined by obtaining a cross-section of the surface and determining the structure height and structure width of said cross-section using optical and/or scanning electron microscopy.
Композитный материал (S1C1), обеспечиваемый на стадии (1) способа в соответствии с изобретением, может быть получен посредством различных способов, например, посредством литографических способов, таких как литография по методу наноимпритинга, лазерная литография и фотолитография.The composite material (S1C1) provided in step (1) of the method according to the invention can be produced by various methods, for example, by lithographic methods such as nanoimprinting lithography, laser lithography and photolithography.
Предпочтительным является получение композитного материала (S1C1) посредством стадий (6) - (9), как указано более подробно далее.It is preferable to obtain the composite material (S1C1) through steps (6) to (9), as specified in more detail below.
Композитный материал (S1C1), предпочтительно применяемый в качестве клише (е2) для тиснения на стадии (3-I) и стадии (2-II), и состоящий из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), также упоминается в этом изобретении как "шаблонная подложка" или "шаблонная пленка". Причем подложка (S1) представляет собой пленку, при этом соответствующая шаблонная пленка упоминается как "шаблонная фольга". Причем подложка (S1) представляет собой рулон фольги, при этом соответствующая шаблонная пленка упоминается как "рулон шаблонной фольги". Покрытие (С1) шаблонной пленки также упоминается далее как "по меньшей мере частично отвержденного шаблонного покрытия" или "пленка шаблонного покрытия", и при этом композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения отвержденного шаблонного покрытия упоминается как "шаблонное покрытие". Предпочтительно, между подложкой (S1) и покрытием (С1) в композитном материале (S1C1) нет дополнительного слоя (покрытия). Однако, возможно, чтобы в данном случае между подложкой S1) и покрытием (С1) композитного материала (S1C1) был расположен по меньшей мере один усиливающий адгезию слой, при этом в этом случае указанный слой предпочтительно является проницаемым для УФ-излучения.Composite material (S1C1), preferably used as a block (e2) for embossing in stage (3-I) and stage (2-II), and consisting of a substrate (S1) and at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) is also referred to in this invention as a “template substrate” or “template film”. Moreover, the substrate (S1) is a film, and the corresponding template film is referred to as a “template foil”. Moreover, the substrate (S1) is a foil roll, and the corresponding template film is referred to as a “template foil roll”. The master film coating (C1) is also referred to hereinafter as "at least partially cured master coating" or "template coating film", and the coating composition (C1a) which is used to obtain the cured master coating is referred to as "template coating" . Preferably, there is no additional layer (coating) between the substrate (S1) and the coating (C1) in the composite material (S1C1). However, it is possible in this case for at least one adhesion promoting layer to be provided between the substrate S1) and the coating (C1) of the composite material (S1C1), in which case said layer is preferably UV-permeable.
Стадия (2-I) и (3-I)Stage (2-I) and (3-I)
После стадии (1), в первом альтернативном варианте, композицию (С2а) для нанесения покрытия наносят, по меньшей мере частично, на подложку (S2) с тем, чтобы получить композитный материал (S2C2a), за чем следует по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a), посредством применения композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2S2). Этот первый альтернативный вариант способа в соответствии с изобретением описан в этой заявке с помощью стадий (2-I) и (3-I).After step (1), in a first alternative, the coating composition (C2a) is applied at least partially onto the substrate (S2) to form a composite material (S2C2a), followed by at least partial embossing of the composition (C2a) for coating the composite material (S2C2a), by using the composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2S2). This first alternative method according to the invention is described in this application using steps (2-I) and (3-I).
Стадия (2-I)Stage (2-I)
Стадия (2-I) способа в соответствии с изобретением обеспечивает нанесение отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S2) с тем, чтобы получить композитный материал (S2C2a).Step (2-I) of the method according to the invention provides for applying a radiation-curable coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) so as to obtain a composite material (S2C2a).
Подложка (S2) представляет собой материал-носитель для композиции (С2а) для нанесения покрытия или покрытия (С2), которые будут наноситься на нее. Подложка (S2) или, если применяют покрытую подложку, слой, расположенный на поверхности подложки (S2) и находящийся в контакте с композицией (С2а) для нанесения покрытия, предпочтительно состоит по меньшей мере из одного термопластичного полимера, выбранного, в частности, из группы, состоящей из полиметил(мет)акрилатов, полибутил(мет)акрилатов, полиэтилентерефталатов (PET), полибутилентерефталатов (РВТ), поливинилиденфторидов, поливинилхлоридов, сложных полиэфиров, включая поликарбонаты и поливинилацетат, предпочтительно сложных полиэфиров, таких как РВТ и PET, полиамидов, полиолефинов, таких как полиэтилен, полипропилен, полистирол, а также полибутадимена, полиакрилонитрила, полиацеталя, полиакрилонитрил-этилен-пропилен-диен-стироловых сополимеров (A-EPDM), полиимида (PI), полиэфиримидов (PEI), триацетата целлюлозы (ТАС), фенольных смол, мочевинных смол, меламиновых смол, алкидных смол, эпоксидных смол, полиуретанов, включая термопластичный полиуретан (TPU), полиэфиркетонов, полифениленсульфидов, простых полиэфиров, поливиниловых спиртов, и их смесей. Особенно предпочтительными подложками или слоями на их поверхности являются полиолефины, такие как, например, РР (полипропилен), которые, в качестве альтернативы, могут быть изотактическими, синдиотактическими или атактическими и, в качестве альтернативы, могут быть неориентированными или ориентированными вследствие одно- или двухосного вытягивания, SAN (сополимеры стирола и акрилонитрила), PC (поликарбонаты), РММА (полиметилметакрилаты), РВТ (поли(бутилентерефталат)ы), РА (полиамиды), ASA (сополимеры акрилонитрила, стирола и сложного акрилового эфира) и ABS (сополимеры акрилонитрила, бутадиена и стирола), а также их физические смеси (комбинации). Особенно предпочтительными являются РР, SAN, ABS, ASA, а также комбинации ABS или ASA с РА или РВТ или PC. Особенно предпочтительными являются PET, РВТ, РР, РЕ, и полиметилметакрилат (РММА) или ударопрочный РММА. Особенно предпочтительным для применения в качестве материала для подложки (S2) является сложный полиэфир, наиболее предпочтительно PET. В качестве альтернативы, подложка (S2) как таковая необязательно вне зависимости от слоя по меньшей мере одного из упомянутых выше полимеров, нанесенного на нее - может быть изготовлена из разного материала, такого как стекло, керамика, металл, бумага и/или ткань. В этом случае, подложка (S2) предпочтительно представляет собой пластину, и может применяться, например, в устройстве для тиснения с рулона на пластину (R2P).The substrate (S2) is a carrier material for the coating composition (C2a) or coating (C2) to be applied thereto. The substrate (S2) or, if a coated substrate is used, the layer located on the surface of the substrate (S2) and in contact with the coating composition (C2a) preferably consists of at least one thermoplastic polymer selected in particular from the group consisting of polymethyl(meth)acrylates, polybutyl(meth)acrylates, polyethylene terephthalates (PET), polybutylene terephthalates (PBT), polyvinylidene fluorides, polyvinyl chlorides, polyesters including polycarbonates and polyvinyl acetate, preferably polyesters such as PBT and PET, polyamides, polyolefins , such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, as well as polybutadiene, polyacrylonitrile, polyacetal, polyacrylonitrile-ethylene-propylene-diene-styrene copolymers (A-EPDM), polyimide (PI), polyetherimides (PEI), cellulose triacetate (TAC), phenolics resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, epoxy resins, polyurethanes, including thermoplastic polyurethane (TPU), polyether ketones, polyphenylene sulfides, polyethers, polyvinyl alcohols, and mixtures thereof. Particularly preferred substrates or layers on their surface are polyolefins, such as, for example, PP (polypropylene), which may alternatively be isotactic, syndiotactic or atactic and, alternatively, may be non-oriented or oriented due to uniaxial or biaxial stretching, SAN (styrene-acrylonitrile copolymers), PC (polycarbonates), PMMA (polymethyl methacrylates), PBT (poly(butylene terephthalate)s), PA (polyamides), ASA (acrylonitrile-styrene-acrylic ester copolymers) and ABS (acrylonitrile copolymers , butadiene and styrene), as well as their physical mixtures (combinations). Particularly preferred are PP, SAN, ABS, ASA, as well as combinations of ABS or ASA with PA or PBT or PC. Particularly preferred are PET, PBT, PP, PE, and polymethyl methacrylate (PMMA) or impact resistant PMMA. Particularly preferred for use as the support material (S2) is a polyester, most preferably PET. Alternatively, the substrate (S2) as such, optionally regardless of the layer of at least one of the above-mentioned polymers deposited thereon, can be made of various materials such as glass, ceramic, metal, paper and/or fabric. In this case, the substrate (S2) is preferably a plate, and can be used, for example, in a roll-to-plate (R2P) embossing apparatus.
Композиция (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно подвергается действию излучения сквозь подложку (S2) или композитный материал (S1C1), предпочтительно сквозь подложку (S2). Следовательно, проницаемость подложки (S2) для излучения предпочтительно соответствует максимуму поглощения, или по меньшей мере находится в диапазоне поглощения по меньшей мере одного фотоинициатора, который применяют в композиции (С2а) для нанесения покрытия. В композитном материале (S2C2a), между подложкой (S2) и композицией (С2а), могут присутствовать дополнительные слои, например, усиливающие адгезию слои, которые предпочтительно являются проницаемыми для УФ-излучения. Является предпочтительным, однако, если в композитном материале (S2C2a) между подложкой (S2) и композицией (С2а) нет дополнительного слоя. В качестве альтернативы, если излучение на композицию (С2а) для нанесения покрытия происходит сквозь композитный материал (S1C1), то подложка (S2) также может быть непроницаемой для применяемого излучения, такого как УФ-излучение. Кроме того, подложка (S2) также может быть выбрана из полимерных подложек, покрытых с одной стороны (I) односторонней или двусторонней клейкой лентой, необязательно, содержащей защитную пленку, или (II) самоклеящимся слоем, или же подложка может выбираться из самоклеящихся полимерных подложек.The coating composition (C2a) is preferably exposed to radiation through the substrate (S2) or composite material (S1C1), preferably through the substrate (S2). Therefore, the radiation permeability of the substrate (S2) preferably corresponds to the absorption maximum, or is at least in the absorption range of the at least one photoinitiator that is used in the coating composition (C2a). In the composite material (S2C2a), between the substrate (S2) and the composition (C2a), additional layers may be present, for example adhesion promoting layers, which are preferably UV-permeable. It is preferred, however, if the composite material (S2C2a) does not have an additional layer between the substrate (S2) and the composition (C2a). Alternatively, if radiation to the coating composition (C2a) occurs through the composite material (S1C1), then the substrate (S2) may also be impervious to the applied radiation, such as UV radiation. In addition, the substrate (S2) may also be selected from polymer substrates coated on one side with (I) single-sided or double-sided adhesive tape, optionally containing a protective film, or (II) a self-adhesive layer, or the substrate may be selected from self-adhesive polymer substrates .
Толщина подложки (S2) предпочтительно составляет 2 мкм - 5 мм. Особенно предпочтительной является толщина слоя, составляющая 25 - 1000 мкм, в частности, 50 - 300 мкм.The thickness of the substrate (S2) is preferably 2 μm - 5 mm. A particularly preferred layer thickness is 25 - 1000 µm, in particular 50 - 300 µm.
Подложка (S2) предпочтительно представляет собой пленку, более предпочтительно рулон пленки, очень предпочтительно непрерывный рулон пленки. В этом случае, подложка (S2) предпочтительно может применяться в устройстве для тиснения с рулона на рулон (R2R) или в устройстве для тиснения с пластины на рулон (P2R).The substrate (S2) is preferably a film, more preferably a film roll, very preferably a continuous film roll. In this case, the substrate (S2) can preferably be used in a roll-to-roll (R2R) embossing apparatus or a plate-to-roll (P2R) embossing apparatus.
В смысле настоящего изобретения, термин "непрерывная пленка" или "непрерывный рулон пленки" предпочтительно относится к пленке, имеющей длину, составляющую 100 м - 10 км.In the sense of the present invention, the term "continuous film" or "continuous film roll" preferably refers to a film having a length of 100 m - 10 km.
При осуществлении стадии (2-I) (и предпочтительно также при осуществлении стадий (3-I), (4) и (5-I) способа, а также при осуществлении стадий (2-II), (3-II), (4) и (5-I) или (5-II) способа в соответствии с изобретением), подложка (S2) предпочтительно перемещается и, следовательно, представляет собой движущуюся подложку. Во время осуществления стадии (2-I) и (3-II), подложка (S2) предпочтительно перемещается с помощью устройства для перемещения, такого как ленточный конвейер. Соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (2-I), а также стадии (3-II), следовательно, предпочтительно содержит такое устройство для перемещения. Соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (2-I), дополнительно содержит средство для нанесения, предпочтительно, для нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия, по меньшей мере на часть поверхности подложки (S2). Подобные комментарии применяются в отношении соответствующего устройства, которое применяют для осуществления стадии (3-II) и необязательных стадий (6) - (9).When carrying out stage (2-I) (and preferably also when carrying out stages (3-I), (4) and (5-I) of the method, as well as when carrying out stages (2-II), (3-II), ( 4) and (5-I) or (5-II) of the method according to the invention), the substrate (S2) is preferably moving and is therefore a moving substrate. During steps (2-I) and (3-II), the substrate (S2) is preferably moved by a moving device such as a conveyor belt. The corresponding device which is used to carry out step (2-I) as well as step (3-II) therefore preferably contains such a moving device. The corresponding device which is used to carry out step (2-I) further comprises means for applying, preferably, a radiation-curable coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2). Similar comments apply to the corresponding device that is used to carry out step (3-II) and optional steps (6) - (9).
Композиция (С2а) для нанесения покрытия, обеспеченная на стадии (2-I) и (2-II) способа в соответствии с изобретением, может быть любым типом композиции для нанесения покрытия, который описан далее ниже. Предпочтительно, композицию (С2а) для нанесения покрытия, которую наносят на стадиях (2-I) и (2-II), наносят с толщиной сухой пленки, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно по меньшей мере 1 мкм - 1 000 мкм, и более предпочтительно по меньшей мере 5 мкм - 1 000 мкм.The coating composition (C2a) provided in steps (2-I) and (2-II) of the method according to the invention may be any type of coating composition, which is described further below. Preferably, the coating composition (C2a) which is applied in steps (2-I) and (2-II) is applied with a dry film thickness of at least 0.5 µm, preferably at least 1 µm - 1,000 µm, and more preferably at least 5 µm to 1,000 µm.
Предпочтительно, композицию (С2а) для нанесения покрытия, которую наносят на стадиях (2-I) и (2-II), наносят с толщиной сухой пленки, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно 5 - 1 000 мкм, более предпочтительно 6 - 900 мкм, даже более предпочтительно от 7 до 700 мкм, в частности, от 8 до 500 мкм, особенно предпочтительно от 9 до 400 мкм, особенно предпочтительно от 10 до 300 мкм, как было определено в соответствии со стандартом DIN EN ISO 2808:2007-05, процедура 12А. Толщина сухой пленки в смысле настоящего изобретения предпочтительно означает толщину пленки сухой пленки выше выступающих частей тисненной структуры, предпочтительно, содержащей микроразмерные и/или наноразмерные элементы поверхности покрытия (С2) или, аналогично, покрытия (С1).Preferably, the coating composition (C2a) which is applied in steps (2-I) and (2-II) is applied with a dry film thickness of at least 0.5 µm, preferably 5 - 1000 µm, more preferably 6 to 900 µm, even more preferably 7 to 700 µm, in particular 8 to 500 µm, particularly preferably 9 to 400 µm, particularly preferably 10 to 300 µm, as determined in accordance with DIN EN ISO 2808 :2007-05, procedure 12A. Dry film thickness in the sense of the present invention preferably means the film thickness of the dry film above the protruding parts of the embossed structure, preferably containing micro-sized and/or nano-sized surface features of the coating (C2) or, similarly, the coating (C1).
Стадия (3-I)Stage (3-I)
Стадия (3-I) способа в соответствии с изобретением обеспечивает по меньшей мере частичное тиснение, с помощью композитного материала (S1C1), композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S2), причем композитный материал (S1C1) предпочтительно применяют в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, при этом композитный материал (S1C1) состоит из подложки (S1) и по меньшей мере из частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), обеспечивающий в качестве продукта, по меньшей мере частичного тиснения, композитный материал (S1C1C2aS2). Композитный материал (S1C1), предпочтительно применяемый в качестве клише (е2) для тиснения, может предварительно смачиваться композицией (С2а) для нанесения покрытия, перед тем, как композитный материал (S1C1) приводят в контакт с композицией (С2а) для нанесения покрытия, на которую наносится тиснение.Step (3-I) of the method according to the invention provides for at least partial embossing, by means of a composite material (S1C1), of a coating composition (C2a) applied at least partially onto the surface of the substrate (S2), the composite the material (S1C1) is preferably used as a cliché (e2) for embossing the embossing device (E2), wherein the composite material (S1C1) consists of a substrate (S1) and at least partially embossed and at least partially cured coating (C1 ), providing as a product, at least partially embossed, a composite material (S1C1C2aS2). The composite material (S1C1), preferably used as the embossing die (e2), may be pre-wetted with the coating composition (C2a) before the composite material (S1C1) is brought into contact with the coating composition (C2a), on which is embossed.
По меньшей мере частичное тиснение переносит тисненную структуру, по меньшей мере частично, на поверхность композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной на подложку (S2). Термин "тиснение" относится к процессу, в котором по меньшей мере часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия после стадии (3-I) и (4), как часть композитного материала (S2C2), демонстрирует тисненную структуру. В этом случае, по меньшей мере определенная площадь композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2) обеспечивается тисненной структурой. Предпочтительно, вся поверхность композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2) обеспечивается тисненной структурой. Подобные комментарии применяются в связи с термином "тиснение" в отношении стадий (2-II) и (4) способа в соответствии с изобретением и необязательных стадий (7) и (8) обеспечения композитного материала (S1C1). Элементы или структура, нанесенные тиснением на композицию (С2а) для нанесения покрытия (или, что касается обеспечения композитного материала (S1C1), на композицию (С1а) для нанесения покрытия, таким образом, являются зеркальным отображением структурированной поверхности клише для тиснения. В способе в соответствии с изобретением, тисненная структура композитного материала (S1C1) переносится на композицию (С2а) для нанесения покрытия или, после по меньшей мере частичного отверждения, на покрытие (С2), причем композитный материал (S1C1) предпочтительно применяют в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения. Следовательно, структура, нанесенная тиснением на композицию (С2а) для нанесения покрытия, является зеркальным отображением тисненной структуры по меньшей мере одной поверхности композитного материала (S1C1), содержащего подложку (S1) и по меньшей мере частично отвержденную и по меньшей мере частично тисненную композицию (С1) для нанесения покрытия. Следовательно, изображение тисненной поверхности по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия и по меньшей мере частично отвержденной и частично тисненной композиции (С2) для нанесения покрытия может соответствовать изображению клише (e1) для тиснения, причем клише (e1) для тиснения применяли для тиснения композиции (С1а) для нанесения покрытия композитного материала (S1C1), как описано далее ниже.The at least partial embossing transfers the embossed structure, at least partially, onto the surface of the coating composition (C2a) applied to the substrate (S2). The term "embossing" refers to a process in which at least a portion of the surface of the coating composition (C2a) after steps (3-I) and (4), as part of the composite material (S2C2), exhibits an embossed structure. In this case, at least a certain area of the composition (C2a) for coating the composite material (S2C2) is provided with an embossed structure. Preferably, the entire surface of the composite material coating composition (C2a) (S2C2) is provided with an embossed structure. Similar comments apply in connection with the term "embossing" in relation to steps (2-II) and (4) of the method according to the invention and the optional steps (7) and (8) of providing the composite material (S1C1). The elements or structure embossed onto the coating composition (C2a) (or, in the case of providing a composite material (S1C1), onto the coating composition (C1a) are thus a mirror image of the structured surface of the embossing block. In the method According to the invention, the embossed structure of the composite material (S1C1) is transferred to the coating composition (C2a) or, after at least partial curing, to the coating (C2), the composite material (S1C1) being preferably used as a cliche (e2) for embossing device (E2) for embossing.Therefore, the structure embossed on the composition (C2a) for coating is a mirror image of the embossed structure of at least one surface of the composite material (S1C1) containing the substrate (S1) and at least partially cured and an at least partially embossed coating composition (C1).Therefore, the image of the embossed surface of the at least partially embossed coating composition (C2a) and the at least partially cured and partially embossed coating composition (C2) may correspond to the image. an embossing die (e1), wherein the embossing die (e1) was used to emboss the composite material coating composition (S1C1) as described further below.
На стадии (3-I) микроструктуры и/или наноструктуры в виде тисненной структуры предпочтительно переносятся на композицию (С2а) для нанесения покрытия.In step (3-I), microstructures and/or nanostructures in the form of an embossed structure are preferably transferred to the coating composition (C2a).
Соответствующее устройство, которое предпочтительно применяется для осуществления стадии (3-I) (и аналогично для осуществления стадий (2-II) и (3-II) способа), содержит средство, предназначенное по меньшей мере для частичного тиснения композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S2), с помощью по меньшей мере одного приспособления (Е2) для тиснения, содержащего по меньшей мере одно клише (е2) для тиснения. Применяемое устройство предпочтительно дополнительно содержит средство для прижатия клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, то есть, композитного материала (S1C1), к подложке (S2), предпочтительно применяемой в виде непрерывного рулона пленки, после нанесение отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия на подложку (S2), при этом указанное средство предпочтительно располагается за средством для нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия, если смотреть в направлении перемещения подложки (S2).The corresponding device, which is preferably used for carrying out step (3-I) (and similarly for carrying out steps (2-II) and (3-II) of the method), contains means for at least partially embossing the composition (C2a) for application a coating applied at least partially to the surface of the substrate (S2) using at least one embossing device (E2) containing at least one embossing block (e2). The device used preferably further comprises means for pressing the die (e2) for embossing the embossing device (E2), that is, the composite material (S1C1), onto the substrate (S2), preferably used in the form of a continuous roll of film, after applying the radiation-curable film composition (C2a) for coating the substrate (S2), said means being preferably positioned behind the means for applying the radiation-curable coating composition (C2a) as viewed in the direction of movement of the substrate (S2).
При необходимости, стадия (3-I) может осуществляться при повышенных температурах, например, при температуре 30°С - 100°С или при температуре до 80°С. В этом случае, композитный материал (S2C2a) сначала проходит через нагревающий валковый механизм, за чем необязательно следует облучение инфракрасным излучением, перед фактической процедурой тиснения, то есть отверждение происходит при контакте с приспособлением (Е1) для тиснения. После тиснения и отверждения, тисненный композитный материал (S2C2) необязательно проходит через охлаждающий валковый механизм для охлаждения. В качестве альтернативы, отверждение также может происходить с охлаждением: в этом случае, композитный материал (S2C2a) для тиснения сначала проходит через охлаждающий валковый механизм, до того, как будет происходить фактическая процедура тиснения, описанная выше. Вместо применения отдельного нагревающего валкового механизма или валкового механизма, задействованного в отверждении, является также возможным нагревать или охлаждать приспособление (Е2) для тиснения.If necessary, stage (3-I) can be carried out at elevated temperatures, for example at a temperature of 30°C - 100°C or at a temperature up to 80°C. In this case, the composite material (S2C2a) is first passed through a heating roller mechanism, optionally followed by irradiation with infrared radiation, before the actual embossing procedure, that is, curing occurs upon contact with the embossing tool (E1). After embossing and curing, the embossed composite material (S2C2) optionally passes through a chill roller mechanism to cool. Alternatively, curing can also occur with cooling: in this case, the composite material (S2C2a) to be embossed is first passed through a cooling roller mechanism, before the actual embossing procedure described above takes place. Instead of using a separate heating roller mechanism or a roller mechanism involved in curing, it is also possible to heat or cool the embossing device (E2).
Таким образом, соответствующее устройство, предпочтительно применяемое для тиснения композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной на подложку (S2), предпочтительно содержит следующие средства:Thus, the corresponding device preferably used for embossing the coating composition (C2a) applied to the substrate (S2) preferably contains the following means:
(а) средство перемещения, предназначенное для перемещения подложки (S2), предпочтительно ленточный конвейер,(a) moving means for moving the substrate (S2), preferably a conveyor belt,
(б) средство для нанесения предпочтительно отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности движущейся подложки (S2),(b) means for applying a preferably radiation-curable composition (C2a) to coat at least a portion of the surface of the moving substrate (S2),
(в) приспособление (Е2) для тиснения, содержащее по меньшей мере одно клише (е2) для тиснения, предпочтительно расположенное за средством для нанесения отверждаемой под действием излучения композиции С2а) для нанесения покрытия, если смотреть в направлении перемещения подложки (S2), причем приспособление (Е2) для тиснения необязательно содержит средство для прижатия клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения к подложке (S2),(c) an embossing device (E2) comprising at least one embossing die (e2), preferably located behind the means for applying the radiation-curable coating composition C2a) as viewed in the direction of movement of the substrate (S2), wherein The embossing device (E2) optionally comprises means for pressing the embossing die (e2) of the embossing device (E2) onto the substrate (S2),
(г) необязательно средство для нагрева, предпочтительно нагревающий валковый механизм, необязательно в сочетании со средством ИК-излучения,(d) optionally heating means, preferably a heating roller mechanism, optionally in combination with infrared means,
(д) необязательно средство для охлаждения, предпочтительно охлаждающий валковый механизм, и(e) optionally means for cooling, preferably a cooling roller mechanism, and
(е) средство для излучения, предпочтительно УФ-излучения. Приспособление (Е2) для тиснения предпочтительно может представлять собой тиснильный каландр, который предпочтительно содержит сеточный механизм приложения силы, более предпочтительно сеточный механизм валков. Указанный каландр имеет вращающиеся в противоположных направлениях валки, предпочтительно расположенные друг над другом в направлении высоты, с определенным промежутком, и при этом композитный материал (S2C2a), который должен быть обеспечен тисненной структурой, подается на валки, и направляется через образованный зазор между валками, причем ширина зазора может регулироваться в зависимости от потребности. В данном случае, сеточный механизм валков предпочтительно содержит первый валок, такой как металлический валок, например, такой как стальной валок, стальной валок, покрытый слоем металла, таким как слой меди или никеля, необязательно содержащие небольшие количества фосфора, или валок, покрытый никелевым кожухом, который необязательно содержит небольшие количества фосфора, или же валок на основе кварца. Однако, в качестве альтернативы, также могут применяться мягкие материалы, такие как резина или полидиметилсилоксаны (ПДМС), например, в качестве первого валка, или же валки могут покрываться по меньшей мере одним мягким материалом, таким как резина или ПДМС.Более того, могут применяться валки, которые покрыты по меньшей мере одним пластическим материалом. Более того, сеточный механизм валков содержит второй валок, причем второй валок предпочтительно представляет собой прижимной валок, изготовленный из стали, или валок, покрытый по меньшей мере одним пластическим материалом или мягким материалом, таким как резина или ПДМС. Второй валок служит в качестве вдавливающего или прижимного валка. Композитный материал (S2C2a), на который наносится тиснение, например, в виде рулона пленки, покрытой, по меньшей мере частично, композицией (С2а) для нанесения покрытия, перемещается с помощью второго валка или прижимного валка, в направлении, противоположном первому валку. В месте зазора между валками, образованном вращающимися в противоположных направлениях валками, расположенными на определенном расстоянии друг от друга, происходит тиснение в соответствии со стадией (3-I). Первый валок, на котором расположен композитный материал (S1C1) в качестве клише (е2) для тиснения, служит в данном случае для тиснения композитного материала (S2C2a), который направляется посредством второго валка, противоположного этому валку для тиснения, при этом второй валок прижимает композитный материал (S2C2a), который должен быть обеспечен тисненной структурой, к первому валку для тиснения. В результате указанной стадии, зеркальное отображение тисненной структуры поверхности покрытия (С1) композитного материала (S1C1) переносится на поверхность композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a) на стадии (3-I) или (2-II) способа.(f) means for radiation, preferably UV radiation. The embossing device (E2) may preferably be an embossing calender, which preferably contains a force application mechanism, more preferably a roller mesh mechanism. Said calender has counter-rotating rollers, preferably arranged one above the other in the height direction, at a certain interval, and the composite material (S2C2a), which must be provided with an embossed structure, is fed to the rollers, and is guided through the formed gap between the rollers, Moreover, the width of the gap can be adjusted depending on the need. In this case, the roller mesh mechanism preferably comprises a first roller, such as a metal roller, such as a steel roller, a steel roller coated with a layer of metal, such as a layer of copper or nickel, optionally containing small amounts of phosphorus, or a roller coated with a nickel casing. , which optionally contains small amounts of phosphorus, or a quartz-based roll. However, as an alternative, soft materials such as rubber or polydimethylsiloxanes (PDMS) may also be used, for example as the first roll, or the rolls may be coated with at least one soft material such as rubber or PDMS. Moreover, they may use rolls that are coated with at least one plastic material. Moreover, the roller mesh mechanism comprises a second roller, the second roller preferably being a pressure roller made of steel or a roller coated with at least one plastic material or soft material such as rubber or PDMS. The second roll serves as a pressing or pressing roll. The composite material (S2C2a) to be embossed, for example in the form of a roll of film coated at least partially with the coating composition (C2a), is moved by a second roller or pinch roller in a direction opposite to the first roller. At the gap between the rollers, formed by counter-rotating rollers located at a certain distance from each other, embossing occurs in accordance with stage (3-I). The first roller, on which the composite material (S1C1) is located as an embossing cliche (e2), serves in this case to emboss the composite material (S2C2a), which is guided by a second roller opposite to this embossing roller, the second roller pressing the composite material (S2C2a), which is to be provided with an embossed structure, to the first embossing roll. As a result of this step, the mirror image of the embossed surface structure of the coating (C1) of the composite material (S1C1) is transferred to the surface of the coating composition (C2a) of the composite material (S2C2a) in step (3-I) or (2-II) of the method.
Во время осуществления стадии (3-I), приспособление (Е2) для тиснения, которое содержит клише (е2) для тиснения, предпочтительно прижимается, по меньшей мере частично, к нанесенной композиции (С2а) для нанесения покрытия.During step (3-I), the embossing tool (E2) which contains the embossing die (e2) is preferably pressed at least partially against the applied coating composition (C2a).
Композитный материал (S1C1) может применяться в качестве многоразового клише (е2) для непрерывного тиснения приспособления (Е2) для тиснения, и обеспечивает очень эффективное разделение между композитным материалом (S1C1) и по меньшей мере частично отвержденным и по меньшей мере частично тисненным покрытием (С2), необязательно нанесенным на подложку (S2), содержащим структурированную поверхность, предпочтительно в способе в соответствии с изобретением, когда последний обязательно включает стадию (5-I) или (5-II). Предпочтительно, на стадии (3-I) переносятся микроструктуры и/или наноструктуры, имеющие размеры, описанные ранее в связи с композитным материалом (S1C1), обеспеченным на стадии (1).The composite material (S1C1) can be used as a reusable die (e2) for continuous embossing of the embossing fixture (E2), and provides a very effective separation between the composite material (S1C1) and the at least partially cured and at least partially embossed coating (C2 ), optionally applied to a substrate (S2) containing a structured surface, preferably in the method according to the invention, the latter necessarily comprising step (5-I) or (5-II). Preferably, step (3-I) transfers microstructures and/or nanostructures having the dimensions previously described in connection with the composite material (S1C1) provided in step (1).
Клише (е2) для тиснения, другими словами, предпочтительно композитный материал (S1C1), предпочтительно содержит в качестве подложки (S1) рулон пленки, которая содержит по меньшей мере частично тисненное и по меньшей мере частично отвержденное покрытие (С1). Особенно предпочтительно, подложка (S1) представляет собой непрерывный рулон пленки, которая содержит по меньшей мере частично тисненное и по меньшей мере частично отвержденное покрытие (С1), таким образом обеспечивая композитный материал (S1C1), который применяют в качестве клише (е2) для тиснения для непрерывного тиснения, это особенно важно, когда подложка (S2) также представляет собой непрерывный рулон пленки.The embossing cliche (e2), in other words preferably a composite material (S1C1), preferably contains as a substrate (S1) a roll of film which contains an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1). Particularly preferably, the substrate (S1) is a continuous roll of film that contains an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), thereby providing a composite material (S1C1) that is used as an embossing die (e2) for continuous embossing, this is especially important when the substrate (S2) is also a continuous roll of film.
Стадии (2-II) и (3-II)Stages (2-II) and (3-II)
После стадии (1), и в качестве альтернативы стадиям (2-I) и (3-I), композиция (С2а) для нанесения покрытия также может сначала наноситься, по меньшей мере частично, на композитный материал (S1C1) и, по меньшей мере частично, подвергаться тиснению, то есть, перед тем, как необязательно подложку (S2), по меньшей мере частично, наносят на поверхность, образованную композицией (С2а) для нанесения покрытия. Указанный второй альтернативный вариант способа в соответствии с изобретением, по сравнению с первым альтернативным вариантом способа в соответствии с изобретением, который включает стадии (2-I) и (3-I), в данном случае описан с помощью стадий (2-II) и (3-II).After step (1), and as an alternative to steps (2-I) and (3-I), the coating composition (C2a) can also be first applied, at least partially, to the composite material (S1C1) and at least to be at least partially embossed, that is, before optionally the substrate (S2) is at least partially applied to the surface formed by the coating composition (C2a). Said second alternative method according to the invention, compared to the first alternative method according to the invention, which includes steps (2-I) and (3-I), is here described using steps (2-II) and (3-II).
Стадия (2-II)Stage (2-II)
Стадия (2-II) способа в соответствии с изобретением обеспечивает нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненной и по меньшей мере частично отвержденной поверхности композитного материала (S1C1), а также по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2a);Step (2-II) of the method according to the invention provides for the application of at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite material (S1C1), as well as at least partially embossing a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2a);
Композитный материал (S1C1), предпочтительно применяемый в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, может необязательно предварительно смачиваться перед нанесением композиции (С2а) для нанесения покрытия.The composite material (S1C1), preferably used as the die (e2) for embossing the embossing device (E2), may optionally be pre-wetted before applying the coating composition (C2a).
Композиция (С2а) для нанесения покрытия, обеспеченная на стадии (2-I) и (2-II) способа в соответствии с изобретением, может представлять собой любой тип композиции для нанесения покрытия, предпочтительно отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, как описано далее ниже. Предпочтительно, композицию (С2а) для нанесения покрытия, наносимую на стадиях (2-I) и (2-II), наносят с толщиной сухого слоя, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно, составляющую по меньшей мере 1 мкм, и более предпочтительно, составляющую по меньшей мере 5 мкм - 1 000 мкм.The coating composition (C2a) provided in step (2-I) and (2-II) of the method according to the invention may be any type of coating composition, preferably a radiation-curable coating composition as described further below. Preferably, the coating composition (C2a) applied in steps (2-I) and (2-II) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 μm, preferably of at least 1 μm, and more preferably, at least 5 µm to 1,000 µm.
В результате стадии (2-II), желаемой (зеркальное отображение) по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) на подложке (S1) композитного материала (S1C1) должно быть перенесено из композитного материала (S1C1) на композицию (С2а) для нанесения покрытия и, после осуществления стадии (4), на покрытие (С2), посредством нанесения предпочтительно отверждаемой под действием излучения композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненной поверхности композитного материала (S1C1). Следовательно, композитный материал (S1C1) функционирует не только как материал-носитель для (С2а) или (С2), но также, кроме того, как клише для тиснения, предпочтительно как клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения.As a result of step (2-II), the desired (mirror image) of the at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) on the substrate (S1) of the composite material (S1C1) must be transferred from the composite material (S1C1) to the composition (C2a) for coating and, after step (4), onto the coating (C2), by applying preferably a radiation-curable coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed surface of the composite material (S1C1 ). Therefore, the composite material (S1C1) functions not only as a carrier material for (C2a) or (C2), but also, in addition, as an embossing die, preferably as an embossing die (e2) of the embossing device (E2).
По меньшей мере частичное тиснение на стадии (2-II) предпочтительно происходит посредством прижатия нанесенной композиции С2а) для нанесения покрытия к композитному материалу (S1C1), предпочтительно применяемому в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения. Указанное приложение давления может, например, достигаться с помощью такого средства, как валок или сеточный механизм валков, содержащий по меньшей мере один валок после нанесения композиции (С2а) для нанесения покрытия. Величина обычно применяемого давления находится в диапазоне от 1 до 10 бар, предпочтительно 2-8 бар, более предпочтительно 3-7 бар. Сеточный механизм валков в данном случае предпочтительно содержит металлический валок, например, такой как стальной валок, стальной валок, покрытый слоем металла, таким как слой меди, слой никеля, необязательно содержащий небольшие количества фосфора, или валок, покрытый никелевым кожухом, который необязательно содержит небольшие количества фосфора, или же валок на основе кварца или валок, покрытый по меньшей мере одним пластическим материалом, резиной или силиконом, таким как ПДМС. Необязательно, нанесенная композиция (С2а) для нанесения покрытия может временно покрываться фольгой для защиты композиции (С2а) для нанесения покрытия, предпочтительно от воздействия кислорода и механических воздействий, по меньшей мере во время тиснения и отверждения на стадиях (2-II) - (4), а также во время стадии (5). После удаления временно нанесенной фольги, предпочтительно, имеющей толщину 5 мкм - 250 мкм, получают композитный материал (S1C1C2). Подходящие материалы для временно наносимой фольги выбирают из тех же материалов, которые также могут применяться для изготовления подложки (S2), как описано выше. При этом ссылаются непосредственно на соответствующие места в описании. В качестве альтернативы, указанная фольга может быть выбрана из материалов, обычно применяемых для защитных пленок или из триацетата целлюлозы (ТАС). Предпочтительно, временно нанесенная фольга состоит из PET или ТАС.At least partial embossing in step (2-II) preferably occurs by pressing the applied coating composition C2a) onto a composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2) of an embossing device (E2). Said application of pressure can, for example, be achieved by means such as a roller or a roller mesh mechanism comprising at least one roller after application of the coating composition (C2a). The pressure typically used is in the range of 1 to 10 bar, preferably 2 to 8 bar, more preferably 3 to 7 bar. The roll mesh mechanism in this case preferably comprises a metal roll such as, for example, a steel roll, a steel roll coated with a layer of metal such as a layer of copper, a layer of nickel optionally containing small amounts of phosphorus, or a roll coated with a nickel casing which optionally contains small amounts of phosphorus. amount of phosphorus, or a quartz-based roller or a roller coated with at least one plastic material, rubber or silicone, such as PDMS. Optionally, the applied coating composition (C2a) may be temporarily covered with foil to protect the coating composition (C2a), preferably from exposure to oxygen and mechanical stress, at least during embossing and curing steps (2-II) - (4 ), as well as during stage (5). After removing the temporarily applied foil, preferably having a thickness of 5 µm - 250 µm, a composite material (S1C1C2) is obtained. Suitable materials for the temporary applied foil are selected from the same materials that can also be used to make the substrate (S2) as described above. In this case, they refer directly to the corresponding places in the description. Alternatively, said foil may be selected from materials typically used for protective films or from cellulose triacetate (CAC). Preferably, the temporarily applied foil consists of PET or TAC.
Стадия (3-II)Stage (3-II)
Стадия (3-II) способа в соответствии с изобретением обеспечивает необязательное нанесение подложки (S2) по меньшей мере на часть поверхности, образованной композицией (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S1C1C2a), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2aS2).Step (3-II) of the method according to the invention optionally applies a substrate (S2) to at least part of the surface formed by the composition (C2a) for coating a composite material (S1C1C2a), resulting in a composite material (S1C1C2aS2).
Предпочтительно, композитный материал (S1C1) предпочтительно применяемый в качестве клише (е2) для тиснения на стадии (2-II), после нанесения композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть его по меньшей мере частично тисненной поверхности, в результате приводит к получению композитного материала (S1C1C2a), направляется, во время осуществления стадии (3-II), посредством первого валка как части приспособления (Е2) для тиснения, а подложка (S2), которую применяют на стадии (3-II), направляется посредством второго валка, который противоположен первому валку и вращается в противоположном направлении по отношению к нему или вращается в одном направлении с ним, предпочтительно вращается в противоположном направлении.Preferably, the composite material (S1C1) preferably used as the embossing block (e2) in step (2-II), after applying the coating composition (C2a) to at least a portion of its at least partially embossed surface, results in to obtain the composite material (S1C1C2a), is sent, during step (3-II), through the first roller as part of the embossing device (E2), and the substrate (S2), which is used in step (3-II), is sent through a second roll that is opposite and rotates in the opposite direction to the first roll or rotates in the same direction as the first roll, preferably rotates in the opposite direction.
По меньшей мере частичное тиснение в соответствии со стадией (3-II) предпочтительно происходит на уровне зазора между валками, который образован двумя взаимно противоположными валками, вращающимися в противоположном направлении или в одном направлении (в одном и том же направлении), с композицией (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S1C1C2a), обращенного к подложке (S2). По меньшей мере частичное тиснение в этом случае достигается предпочтительно посредством надавливания или прижатия подложки (S2) к композитному материалу (S1C1C2a), например, с помощью второго валка или прижимного валка.At least partial embossing according to step (3-II) preferably occurs at the level of the nip between the rollers, which is formed by two mutually opposite rollers rotating in the opposite direction or in the same direction (in the same direction), with the composition (C2a ) to coat the composite material (S1C1C2a) facing the substrate (S2). At least partial embossing is in this case preferably achieved by pressing or pressing the substrate (S2) onto the composite material (S1C1C2a), for example using a second roller or a pressure roller.
Соответствующее устройство, которое описана ранее, предпочтительно применяемое для осуществления стадий (2-I) и (3-I) способа, может применяться в равной степени, в основном аналогичным образом, для осуществления стадий (2-II) и (3-II) способа.The corresponding apparatus as described previously, preferably used for carrying out steps (2-I) and (3-I) of the method, can be used equally, in substantially the same way, for carrying out steps (2-II) and (3-II) way.
Стадия (4)Stage (4)
Следующая за стадиями (2-I) и (3-I) в первом альтернативном варианте способа в соответствии с изобретением, или следующая за стадиями (2-II) и (3-II) во втором альтернативном варианте способа в соответствии с изобретением, стадия (4) способа в соответствии с изобретением обеспечивает по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно нанесенной на подложку (S2), полученной после стадии (3-I) или (3-II), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1), предпочтительно применяемым в качестве клише (е2) для тиснения, в результате чего получают композитный материал (S1C1C2) или (S1C1C2S2).Following stages (2-I) and (3-I) in the first alternative embodiment of the method in accordance with the invention, or following stages (2-II) and (3-II) in the second alternative embodiment of the method in accordance with the invention, stage (4) the method according to the invention ensures at least partial curing of the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to the substrate (S2) obtained after step (3-I) or (3-II), which, throughout at least partial curing, is in contact with a composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2), resulting in a composite material (S1C1C2) or (S1C1C2S2).
На стадии (4), нанесенная композиция (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере частично отверждается, в результате чего получают по меньшей мере частично тисненный и частично отвержденный материал покрытия, необязательно содержащий подложку (S2). Термин "по меньшей мере частичное отверждение" по отношению к композиции (С2а) для нанесения покрытия следует понимать как обозначающее превращение указанной композиции (С2а) для нанесения покрытия в состояние, в котором по меньшей мере часть композиции для нанесения покрытия превращается в пленку, что позволяет осуществлять последующую обработку образованного покрытия (С2) или обращение с ним, например, такое как дополнительная стадия для повышения соотношения превращения двойных связей или удаление покрытия (С2) либо как части композитного материала (S2C2), либо как отдельной пленки (С2).In step (4), the applied coating composition (C2a) is at least partially cured, resulting in an at least partially embossed and partially cured coating material, optionally containing a substrate (S2). The term “at least partially cured” with respect to a coating composition (C2a) is to be understood as meaning the transformation of said coating composition (C2a) into a state in which at least a portion of the coating composition is converted into a film, allowing carry out subsequent processing or handling of the formed coating (C2), such as an additional step to increase the conversion ratio of double bonds or removal of the coating (C2) either as part of the composite material (S2C2) or as a separate film (C2).
Предпочтительно, на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения на стадии (4), средство, которое применяют на стадиях (2-I) и (3-I) или на стадиях (2-II) и (3-II) для приложения давления или прижатия нанесенной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере к одному композитному материалу (S1C1), предпочтительно применяемому в качестве клише (е2) для тиснения, находится в контакте с композицией (С2а) для нанесения покрытия и/или по меньшей мере с частично отвержденным покрытием (С2), образованным из нее.Preferably, throughout at least partial curing in step (4), the agent that is used in steps (2-I) and (3-I) or in steps (2-II) and (3-II) to apply pressing or pressing the applied coating composition (C2a) onto at least one composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2), is in contact with the coating composition (C2a) and/or at least with a partially cured coating (C2) formed therefrom.
Стадия (3-I) или стадия (2-II) и (3-II), а также стадия (4) предпочтительно осуществляются одновременно. В этом случае, по меньшей мере частичное отверждение в соответствии со стадией (4) предпочтительно происходит in situ во время осуществления стадии (3-I).Step (3-I) or step (2-II) and (3-II) as well as step (4) are preferably carried out simultaneously. In this case, at least partial curing according to step (4) preferably occurs in situ during step (3-I).
Следовательно, соответствующее устройство, предпочтительно применяемое при осуществлении стадии (4), предпочтительно содержит по меньшей мере один источник излучения для облучения композиции (С2а) для нанесения покрытия отверждающим излучением. Поскольку композиция (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно представляет собой УФ-отверждаемую композицию для нанесения покрытия, при этом применяемое отверждающее излучение предпочтительно представляет собой УФ-излучение. Если композиция (С2а) для нанесения покрытия не является композицией, отверждаемой под действием излучения, то предпочтительной является химически отверждаемая композиция. В этом случае отверждение на стадии (4) происходит термически, например, посредством применения подходящих источников теплового излучения. Конечно, также является возможным комбинированное отверждение, то есть, термическое отверждение и отверждение с помощью УФ-излучения.Therefore, the corresponding device preferably used in carrying out step (4) preferably contains at least one radiation source for irradiating the coating composition (C2a) with curing radiation. Since the coating composition (C2a) is preferably a UV-curable coating composition, the curing radiation used is preferably UV radiation. If the coating composition (C2a) is not a radiation-curable composition, a chemically curable composition is preferable. In this case, the curing in step (4) occurs thermally, for example through the use of suitable sources of thermal radiation. Of course, combined curing, that is, thermal curing and UV curing, is also possible.
Примеры подходящих источников излучения для отверждения с помощью излучения включают ртутные источники излучения низкого давления, среднего давление и высокого давления, а также флуоресцентные лампы, импульсные источники излучения, металлогалогенные источники излучения (галогенные лампы), лазеры, светодиоды и, кроме того, электронное импульсное оборудование, обеспечивающие отверждение с помощью излучения без фотоинициатора, или эксимерные источники излучения. Отверждение с помощью излучения происходит вследствие воздействия высокоэнергетического излучения, то есть, УФ-излучения или солнечного света, или вследствие бомбардировки высокоэнергетическими электронами. Доза излучения, обычно достаточная для сшивания в случае УФ-отверждения, находится в диапазоне от 80 до 3000 мДж/см2. Конечно, также можно применять два или большее количество источников излучения для отверждения например, от двух до четырех. Каждый из указанных источников также может излучать в разных диапазонах длин волн.Examples of suitable radiation sources for radiation curing include low-pressure, medium-pressure, and high-pressure mercury radiation sources, as well as fluorescent lamps, pulsed radiation sources, metal halide radiation sources (halogen lamps), lasers, LEDs, and in addition electronic pulsed equipment , providing curing using radiation without a photoinitiator, or excimer radiation sources. Radiation curing occurs due to exposure to high-energy radiation, that is, UV radiation or sunlight, or due to bombardment by high-energy electrons. The radiation dose typically sufficient for crosslinking in the case of UV curing is in the range of 80 to 3000 mJ/cm 2 . Of course, it is also possible to use two or more curing radiation sources, for example two to four. Each of these sources can also emit in different wavelength ranges.
По меньшей мере частичное отверждение на стадии (4) происходит сквозь подложку (S2) и/или композитный материал (S1C1), предпочтительно посредством облучения. Предпочтительно облучение осуществляется сквозь композитный материал (S1C1). Если на стадии (3-II) нет подложки, и композитный материал (S1C1) предпочтительно применяют в качестве по меньшей мере одного клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, то облучение предпочтительно осуществляется сквозь композитный материал (S1C1), применяемый в качестве подложки. В обоих случаях преимущественной является проницаемость подложки (S2), необязательно содержащей с одной стороны (I) одно- или двустороннюю клейкую ленту, необязательно содержащую защитную пленку, или (II) имеющей самоклеящийся слой или состоящей из самоклеящихся полимерных подложек, и/или имеющей дополнительные слои между подложкой (S2) и композицией (С2а) для нанесения покрытия, или проницаемость подложки (S1) в композитном материале (S1C1), которая должна соответствовать максимуму поглощения или по меньшей мере находиться в диапазоне поглощения по меньшей мере одного применяемого фотоинициатора, который предпочтительно присутствует в композиции (С2а) для нанесения покрытия. Так, например, материал PET в качестве подложки (S2), следовательно, РЕТ-пленка, например, является проницаемой для излучения, имеющего длину волны, составляющую ниже 400 нм. Фотоинициаторы, которые образуют радикалы в результате такого излучения, включают в себя, например, дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид, этил(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфинат и фенилбис(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид. Следовательно, в этом случае в композиции (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно должен присутствовать по меньшей мере один такой фотоинициатор.At least partial curing in step (4) occurs through the substrate (S2) and/or the composite material (S1C1), preferably by irradiation. Preferably, irradiation is carried out through the composite material (S1C1). If there is no substrate in step (3-II) and the composite material (S1C1) is preferably used as at least one die (e2) for embossing the embossing device (E2), then irradiation is preferably carried out through the composite material (S1C1) used as a substrate. In both cases, the permeability of the substrate (S2) is advantageous, optionally containing on one side (I) single- or double-sided adhesive tape, optionally containing a protective film, or (II) having a self-adhesive layer or consisting of self-adhesive polymer substrates, and/or having additional layers between the substrate (S2) and the coating composition (C2a), or the permeability of the substrate (S1) in the composite material (S1C1), which must correspond to the absorption maximum or at least be in the absorption range of at least one photoinitiator used, which is preferably present in the coating composition (C2a). Thus, for example, the PET material as the substrate (S2), therefore, the PET film, for example, is transparent to radiation having a wavelength below 400 nm. Photoinitiators that form radicals as a result of such radiation include, for example, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide Therefore, in this case, at least one such photoinitiator should preferably be present in the coating composition (C2a).
Необязательная стадия (5-I) или (5-II)Optional stage (5-I) or (5-II)
После стадии (4), осуществляется необязательная стадия (5-I) или (5-II), в зависимости от наличия подложки (S2). Так, в первом альтернативном варианте способа в соответствии с изобретением, определенном с помощью стадий (2-I) и (3-I), подложка (S2) обязательно присутствует.Следовательно, может осуществляться только необязательная стадия (5-I). Во втором альтернативном варианте способа в соответствии с изобретением, определенном с помощью стадий (2-II) и (3-II), необязательная стадия (5-I) может осуществляться тогда, когда необязательную подложку (S2) на стадии (3-II) наносили по меньшей мере на часть поверхности, образованной композицией (С2а) для нанесения покрытия, однако, если необязательную подложку (S2) на стадии (3-II) не применяли, то в данном случае может осуществляться только стадия (5-II).After step (4), an optional step (5-I) or (5-II) is carried out, depending on the presence of the substrate (S2). Thus, in the first alternative embodiment of the method according to the invention, defined by steps (2-I) and (3-I), the support (S2) is necessarily present. Therefore, only the optional step (5-I) can be carried out. In a second alternative embodiment of the method according to the invention, defined by steps (2-II) and (3-II), the optional step (5-I) can be carried out when the optional support (S2) in step (3-II) was applied to at least part of the surface formed by the coating composition (C2a), however, if the optional support (S2) was not used in step (3-II), then only step (5-II) can be carried out in this case.
Стадия (5-I) и (5-II) в способе в соответствии с изобретением обеспечивает необязательное удаление тисненного покрытия (С2), необязательно нанесенного на подложку (S2), с композитного материала (S1C1), предпочтительно применяемого в качестве клише (е2) для тиснения, обеспечение композитного материала (S2C2), состоящего из подложки (S2) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С2), или, в случае отсутствия необязательной подложки (S2), удаление отдельного покрытия (С2), с восстановлением композитного материала (S1C1), обеспеченного на стадии (1) способа. Предпочтительно, стадия (5-I) или (5-II) осуществляется.Step (5-I) and (5-II) in the method according to the invention ensures the optional removal of the embossed coating (C2), optionally applied to the substrate (S2), from the composite material (S1C1), preferably used as a cliché (e2) for embossing, providing a composite material (S2C2) consisting of a substrate (S2) and at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), or, in the absence of an optional substrate (S2), removing a separate coating (C2) , with the restoration of the composite material (S1C1) provided in step (1) of the method. Preferably, step (5-I) or (5-II) is carried out.
Указанное удаление с композитного материала (S1C1), предпочтительно применяемого в качестве клише (е2) для тиснения, может выполняться, например, посредством отслоения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С2), необязательно нанесенного на подложку (S2) от композитного материала (S1C1) или наоборот.Отслоение может либо выполняться вручную, либо посредством применения общеизвестного механического средства разделения.Said removal from the composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2), can be accomplished, for example, by peeling off the at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), optionally applied to the substrate (S2) from the composite material (S1C1) or vice versa. Peeling can either be done manually or by using a well-known mechanical separation means.
В качестве альтернативы, удаление с композитного материала (S1C1) может включать следующие стадии:Alternatively, removal from the composite material (S1C1) may include the following steps:
5-I-а) нанесение по меньшей мере одного клейкого слоя (AL) на поверхность подложки (S2), не находящейся в контакте по меньшей мере с частично тисненным покрытием (С2), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2S2AL);5-I-a) applying at least one adhesive layer (AL) to the surface of the substrate (S2) not in contact with at least partially the embossed coating (C2), resulting in a composite material (S1C1C2S2AL);
5-I-б) необязательно, по меньшей мере частичное прикрепление композитного материала (S1C1C2S2AL) к изделию (O1);5-I-b) optionally at least partially attaching the composite material (S1C1C2S2AL) to the product (O1);
5-I-в) удаление, предпочтительно отслоение, композитного материала (S1C1) от композитного материала (C2S2AL), необязательно по меньшей мере частично прикрепленного к изделию (O1), или наоборот;5-I-c) removing, preferably peeling, the composite material (S1C1) from the composite material (C2S2AL), optionally at least partially attached to the product (O1), or vice versa;
илиor
5-II-а) нанесение по меньшей мере одного клейкого слоя (AL) по меньшей мере на часть неструктурированной поверхности по меньшей мере частично тисненного покрытия (С2), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2AL);5-II-a) applying at least one adhesive layer (AL) to at least part of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2), resulting in a composite material (S1C1C2AL);
5-II-б) необязательно, по меньшей мере частичное прикрепление композитного материала (S1C1C2AL) к изделию (O1);5-II-b) optionally, at least partially attaching the composite material (S1C1C2AL) to the product (O1);
5-II-в) удаление, предпочтительно отслоение, композитного материала (S1C1) от композитного материала (C2S2AL), необязательно по меньшей мере частично прикрепленного к изделию (O1), или наоборот.5-II-c) removing, preferably peeling, the composite material (S1C1) from the composite material (C2S2AL), optionally at least partially attached to the product (O1), or vice versa.
Клейкий слой (AL), например, может быть клеящим веществом для слоистых материалов, таким как полиакрилат или клеящее вещество на основе полиакрилата. Однако, предпочтительно клейкий слой (AL) представляет собой самоклеящийся слой или многослойную конструкцию. Такой самоклеящийся слой может наноситься посредством общеизвестных способов, таких как прослаивание клеящим веществом или распыление клеящего вещества. Такие многослойные конструкции, например, содержат средний полимерный слой (PL), который также называют внутренним слоем, который покрыт клеящим веществом (АН) на обеих поверхностях. Каждое из указанных клеящих веществ (АН) может быть полиакрилатом или клеящим веществом на основе полиакрилата. В принципе, для получения среднего полимерного слоя (PL) может применяться любой тип полимера. Примерами таких полимеров являются полимеры, уже описанные в качестве подложки (S2). При этом ссылаются непосредственно на указанные параграфы. Предпочтительными средними полимерными слоями (PL) являются поли(мет)акрилаты, сложные полиэфиры, такие как PET и/или РВТ, поливинилиденфториды, поливинилхлориды, полиамиды и/или полиолефины. В частности, может применяться сложный полиэфир, такой как PET. Толщина слоя полимерного слоя (PL) может находиться в диапазоне от 5 до 55 мкм, предпочтительно от 6 до 50 мкм, более предпочтительно от 7 до 40 мкм, в частности, от 8 до 30 мкм. Каждый клеящее вещество (АН) может изначально быть покрыто защитной пленкой, такой как силиконовая бумага, для удобства обращения с ним. Однако, перед его применением в качестве клейкого слоя (AL) на стадии (5-I) или стадия (5-II) одну из двух защитных пленок удаляют.Другую защитную пленку предпочтительно удаляют на последующей стадии способа в соответствии с изобретением, более предпочтительно по меньшей мере перед частичным прикреплением композитного материала (S1C1C2) или (S1C1C2S2) по меньшей мере к одному изделию (O1). Следовательно, перед отделением композитный материал (S1C1) от покрытия (С2) или композитного материала (C2S2), содержащего клейкий слой (AL), указанные композитные материалы прикрепляют к изделию (O1), и только после этого композитный материал (S1C1) удаляют, предпочтительно посредством отслоения, от покрытия (С2) или композитного материала (C2S2), по меньшей мере частично прикрепленного посредством клейкого слоя (AL) к изделию (O1). Подходящие изделия (O1) могут быть изготовлены из различных материалов, включая металл, пластмассу, армированные материалы, стекло, резину, ткань, кожу, бумагу, дерево и их смеси. Предпочтительно, по меньшей мере одно изделие (O1) выбирают из группы, состоящей из поверхностей, находящихся в контакте с жидкостями и газами, таких как самолеты, корабли и автомобили, лопасти ротора, буровые платформы, трубопроводы, осветительные системы, устройства отображения, фотоэлектрические модули, конструктивные элементы и декоративные элементы.The adhesive layer (AL), for example, can be a laminate adhesive such as a polyacrylate or a polyacrylate-based adhesive. However, preferably the adhesive layer (AL) is a self-adhesive layer or a multi-layer structure. Such a self-adhesive layer can be applied by generally known methods such as lamination with an adhesive or spraying with an adhesive. Such multilayer structures, for example, contain a polymer middle layer (PL), also called an inner layer, which is coated with an adhesive (AN) on both surfaces. Each of these adhesives (AH) may be a polyacrylate or a polyacrylate-based adhesive. In principle, any type of polymer can be used to form the polymer middle layer (PL). Examples of such polymers are the polymers already described as support (S2). In this case, reference is made directly to these paragraphs. Preferred polymer core layers (PL) are poly(meth)acrylates, polyesters such as PET and/or PBT, polyvinylidene fluorides, polyvinyl chlorides, polyamides and/or polyolefins. In particular, a polyester such as PET can be used. The layer thickness of the polymer layer (PL) can be in the range from 5 to 55 μm, preferably from 6 to 50 μm, more preferably from 7 to 40 μm, in particular from 8 to 30 μm. Each adhesive may initially be coated with a protective film, such as silicone paper, for ease of handling. However, before it is used as an adhesive layer (AL) in step (5-I) or step (5-II), one of the two protective films is removed. The other protective film is preferably removed in a subsequent step of the method according to the invention, more preferably according to at least before partially attaching the composite material (S1C1C2) or (S1C1C2S2) to at least one product (O1). Therefore, before separating the composite material (S1C1) from the coating (C2) or the composite material (C2S2) containing the adhesive layer (AL), said composite materials are attached to the product (O1), and only then the composite material (S1C1) is preferably removed by peeling, from the coating (C2) or composite material (C2S2) at least partially attached by means of an adhesive layer (AL) to the product (O1). Suitable products (O1) can be made from a variety of materials, including metal, plastic, reinforced materials, glass, rubber, fabric, leather, paper, wood, and mixtures thereof. Preferably, at least one article (O1) is selected from the group consisting of surfaces in contact with liquids and gases, such as aircraft, ships and automobiles, rotor blades, drilling platforms, pipelines, lighting systems, display devices, photovoltaic modules , structural elements and decorative elements.
Стадии (5-I-а) и (5-I-б), или (5-II-а) и (5-II-б), могут либо выполняться вручную, либо посредством механизма, содержащего по меньшей мере одно средство для перемещения клейкого слоя (AL), по меньшей мере одно средство подачи давления для приложения давления для прикрепления клейкого слоя (AL) по меньшей мере к части неструктурированной поверхности по меньшей мере частично тисненного покрытия (С2) или к поверхности подложки (S2), не находящейся в контакте по меньшей мере с частично тисненным покрытием (С2), и по меньшей мере одно средство разделения для удаления, предпочтительно отслоения, покрытия (С2) или композитного материала (S2C2), соответственно, от композитного материала (S1C1), предпочтительно применяемого в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, или наоборот.Steps (5-I-a) and (5-I-b), or (5-II-a) and (5-II-b), can either be performed manually or by means of a mechanism containing at least one means for moving the adhesive layer (AL), at least one pressure supply means for applying pressure to attach the adhesive layer (AL) to at least a portion of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2) or to a surface of the substrate (S2) not located in contact with at least partially the embossed coating (C2), and at least one separation means for removing, preferably peeling, the coating (C2) or the composite material (S2C2), respectively, from the composite material (S1C1), preferably used as cliche (e2) for embossing device (E2) for embossing, or vice versa.
Удаление по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С2) или композитного материала (S2C2), соответственно, с композитного материала (S1C1), предпочтительно выполняется легко, без разрушения структурированной и тисненной поверхности и без оставления существенных остатков, предпочтительно без оставления каких-либо остатков, на поверхности покрытия (С1) композитного материала (S1C1).Removal of the at least partially embossed and at least partially cured coating (C2) or composite material (S2C2), respectively, from the composite material (S1C1) is preferably carried out easily, without destroying the structured and embossed surface and without leaving significant residues, preferably without leaving any residue on the surface of the coating (C1) of the composite material (S1C1).
Фиг. 1 схематически показывает вид сбоку устройства, которое может применяться для осуществления стадий (1), (2-1) и (3-1), а также стадии (4) и необязательно стадии (5-1) способа в соответствии с изобретением, и которое применяют для примерной иллюстрации способа в соответствии с изобретением. Указанное устройство в равной степени также может применяться, в основном аналогичным образом, для осуществления стадий (1), (2-II) и (3-II), а также стадии (4) и необязательно стадии (5-I) или (5-II) способа в соответствии с изобретением. С помощью этого устройство возможно переносить такие структуры, как микроструктуры и/или наноструктуры, предпочтительно с клише (S1C1, е2) для тиснения, присутствующего в виде шаблонной пленки, на подложку (S2), покрытую (С2а). Следовательно, указанное устройство также в основном упоминается как устройство для переноса, и имеет ссылочное обозначение (10) на Фиг. 1.Fig. 1 schematically shows a side view of a device that can be used to carry out steps (1), (2-1) and (3-1), as well as step (4) and optionally step (5-1) of the method according to the invention, and which is used to exemplarily illustrate the method in accordance with the invention. Said device can equally also be used, in substantially the same way, to carry out steps (1), (2-II) and (3-II), as well as step (4) and optionally step (5-I) or (5 -II) method in accordance with the invention. With this device, it is possible to transfer structures such as microstructures and/or nanostructures, preferably from an embossing die (S1C1, e2) present as a template film onto a substrate (S2) coated with (C2a). Therefore, this device is also generally referred to as a transfer device, and is referred to as (10) in FIG. 1.
Основной частью устройства (10) для переноса является участок (1) тиснения, на котором расположен печатный вал (2), имеющий кожух вала, изготовленный из кварцевого стекла. Печатный вал (2) приводится во вращение. Рядом с печатным валом (2) расположен источник излучения в виде осветительного блока (3), который генерирует УФ-излучение и может, в частности, представлять собой ряд УФ-светодиодов, расположенных в продольном направлении печатного вала (2). Как показано на Фиг. 1, осветительные блок (3) также может располагаться во внутреннем пространстве печатного вала (2). Прижимной валок (4) расположен на участке (1) тиснения таким образом, чтобы прижиматься к печатному валу (2). Внутри рамы (5) формования устройства (10) для переноса расположено два валка (6) и (7) рулонов пленки, которые могут приводиться во вращение с помощью мотора. Конечно, валки (6) и (7) рулонов пленки также могут быть установлены и расположены иначе, чем внутри рамы (5) формования, например, в корпусном элементе или же за пределами самого устройства (10) для переноса. На валки (6) и (7) рулонов пленки, которые в данном случае показаны как расположенные внутри рамы формования, наматывается рулон (8) шаблонной пленки, которая представляет собой клише для непрерывного тиснения. На поверхности переноса, рулон (8) шаблонной пленки обеспечен слоем шаблонного покрытия (С1), которое имеет негативные формы, в качестве поверхностного рельефа, микроструктур и/или наноструктур, которые подлежат переносу. Слой шаблонного покрытия (С1) отверждается, по меньшей мере частично, и таким образом рельефоподобные структуры в его пределах являются стабильными. Рулон (8) шаблонной пленки может быть получен посредством осуществления стадий (6) - (9) способа в соответствии с изобретением и, таким образом, представляет собой композитный материал (S1C1). Рулон (8) шаблонной пленки сходит с первого валка (6) рулона пленки, подается посредством различных систем изменяющих направление роликов на участок (1) тиснения, и проходит, как видно на Фиг. 1, перпендикулярно сверху в участок между печатным валом (2) и прижимным валком (4). В указанном участке он направляется в контакте в натянутом состоянии по части периметра печатного вала (2), и затем снова покидает печатный вал (2) и, снова посредством систем изменяющих направление роликов вместе с механизмами натяжения рулона, подается на второй валок (7) рулона пленки, на который он наматывается. Рулон (9) пленки, который образует подложку (S2), которая должна быть обеспечена такими структурами, как микроструктуры и/или наноструктуры, подается, начиная от валка (11) рулона пленки, в данном случае, снова посредством различных систем изменяющих направление роликов с натяжными устройствами рулона, на участок (1) тиснения, причем он проходит в натянутом состоянии по окружной части прижимного валка (4), откуда он поступает на участок контакта прижимного валка (4) с печатным валом (2) или на участок зазора между валками, который образован между указанными элементами. Рулон (9) пленки покидает указанный участок, на изображении на Фиг. 1, перпендикулярно вниз и направляется снова направляется посредством систем изменяющих направление роликов и натяжных устройств рулона на валок (12) рулона пленки, на который он наматывается в виде полностью обработанного продукта. На своем пути на участок (1) тиснения или в зазор между валками между печатным валом (2) и прижимным валком (4), рулон (9) пленки обеспечивается слоем покрытия на своей поверхности, обращенной к печатному валу (2) на участке (1) тиснения, с помощью блока (27) нанесения покрытия, который в этом случае расположен за пределами участка (1) тиснения. Блок (27) нанесения покрытия, следовательно, наносит композицию (С2а) для нанесения покрытия на рулон (9) пленки, которую применяют в качестве подложки (S2), в соответствии со стадией (2-I) способа в соответствии с изобретением. На участке (1) тиснения, рулон (9) пленки затем приводится в контакт, своей поверхностью, обеспеченной все еще неотвержденным слоем покрытия, с поверхностью, обеспеченной слоем шаблонного покрытия, рулона (8) шаблонной пленки, для осуществления стадии (3-I) способа в соответствии с изобретением. В этом случае, рулон (9) пленки проходит через прижимной валок (4), а рулон (8) шаблонной пленки проходит через печатный вал (2). Оба рулона, рулон (9) пленки и рулон (8) шаблонной пленки, обращены друг к другу своими поверхностями, обеспеченными соответствующим слоем покрытия (в случае рулона (8) шаблонной пленки, по меньшей мере частично отвержденным слоем шаблонного покрытия, соответствующего покрытию (С1); в случае рулона (9) пленки, неотвержденным слоем покрытия, соответствующем композиции (С2а) для нанесения покрытия). На участке, на котором прижимной валок (4) прижимается к печатному валу (2), негативное отображение подлежащих переносу структур, таких как микроструктуры и/или наноструктуры, которые сформованы в слое шаблонного покрытия (С1), вдавливается в неотвержденный слой покрытия, соответствующего композиции (С2а) для нанесения покрытия, и в результате структуры переносятся. В то же время, осветительный блок (2) осуществляет УФ-облучение и, следовательно, осуществляется по меньшей мере частичное отверждение неотвержденного слоя покрытия, соответствующего композиции (С2а) для нанесения покрытия слоя покрытия на рулоне (9) пленки, до тех пор, пока указанный слой покрытия все еще находится в контакте со слоем (8) шаблонного покрытия. Соответственно, непосредственно во время переноса структуры in situ, происходит по меньшей мере частичное отверждение слоя покрытия. Облучение рулона (9) пленки, или неотвержденного слоя покрытия, нанесенного на нее, в данном случае выполняется сквозь материал (9) пленки, в случае облучения печатного цилиндра (2) извне. В качестве альтернативы, облучение осуществляется сквозь материал кварцевого стекла внешней поверхности печатного цилиндра (2), а также сквозь материал рулона (8) шаблонной пленки и слоя шаблонного покрытия, нанесенного на нее. Соответственно, рулон (8) шаблонной пленки и слой шаблонного покрытия предусмотрены таким образом, чтобы быть проницаемыми для применяемого излучения в данном случае, УФ-излучения. Внешняя поверхность печатного вала (2) описана в данном случае как состоящая из кварцевого стекла. Однако, в данном случае, в принципе, также подходит любой другой материал, при условии, что он является проницаемым для отверждающего излучения (которое может быть другим, чем УФ-излучение), исходящего из внутреннего пространства печатного вала (2). В качестве альтернативы, вместо осветительного блока (3), обеспечивающего УФ-облучение, также возможно, например, применять источник теплового излучения, в случае, когда композиция (С2а) для нанесения покрытия не является отверждаемой под действием излучения композицией для нанесения покрытия. После по меньшей мере частичного отверждения посредством УФ-облучения, возможно дополнительное воздействие, например, с помощью ИК-излучение. В конце указанной отверждения в соответствии со необязательной стадией (5-I) способа в соответствии с изобретением, рулон (9) пленки и рулон (8) шаблонной пленки отделяются друг от друга, с разделением только что структурированного слоя композитного материала (S2C2) и шаблонной пленки (S1C1). Покрытый таким образом рулон (9) пленки, обеспеченный желаемым структурированием (то есть, композитный материал (S2C2)), подается в качестве готового продукт на валок (12) рулона пленки и наматывается на него. Если облучение осуществляется с помощью осветительного блока (3) на печатный вал (2) извне, то покрытый рулон (9) пленки, обеспеченный желаемой структурой (то есть, композитный материал (S2C2)) также может быть непроницаемым, если расположение выбирают таким образом, что рулон (8) шаблонной пленки (то есть, композитный материал (S1C1)) и рулон (9) пленки (то есть, композитный материал (S2C2)) меняются местами. Таким образом, нанесение покрытия посредством блока (27) нанесения покрытия в соответствии со стадией (2-I) способа в соответствии с изобретением может происходить без ограничения действий на рулоне (8) шаблонной пленки.The main part of the transfer device (10) is the embossing section (1), on which the printing roller (2) is located, having a roller casing made of quartz glass. The printing shaft (2) is rotated. Next to the printing roller (2) there is a radiation source in the form of a lighting unit (3), which generates UV radiation and can, in particular, be a series of UV LEDs located in the longitudinal direction of the printing roller (2). As shown in FIG. 1, the lighting unit (3) can also be located in the internal space of the printing roller (2). The pressure roller (4) is located on the embossing section (1) so as to be pressed against the printing roller (2). Inside the forming frame (5) of the transfer device (10) there are two rolls (6) and (7) of film rolls, which can be driven into rotation by a motor. Of course, the rollers (6) and (7) of the film rolls can also be installed and located other than inside the forming frame (5), for example, in the housing element or outside the transfer device (10) itself. On the rolls (6) and (7) of film rolls, which in this case are shown as located inside the forming frame, is wound a roll (8) of template film, which is a cliche for continuous embossing. On the transfer surface, the template film roll (8) is provided with a template coating layer (C1) that has negative shapes as surface relief, microstructures and/or nanostructures to be transferred. The template coating layer (C1) is at least partially cured and thus the relief-like structures within it are stable. The template film roll (8) can be obtained by performing steps (6) to (9) of the method according to the invention and is thus a composite material (S1C1). The template film roll (8) comes off the first film roll roll (6), is fed by means of various variable direction roller systems to the embossing section (1), and passes as seen in FIG. 1, perpendicular from above into the area between the printing roller (2) and the pressure roller (4). In this area it is directed in contact in a tensioned state along part of the perimeter of the printing roller (2), and then again leaves the printing roller (2) and, again through systems of changing the direction of the rollers together with roll tension mechanisms, is fed to the second roller roll (7) film on which it is wound. The film roll (9), which forms the substrate (S2), which must be provided with structures such as microstructures and/or nanostructures, is fed starting from the film roll roll (11), in this case again through various systems of direction-changing rollers with roll tension devices, to the embossing area (1), and it passes in a tense state along the circumferential part of the pressure roller (4), from where it enters the contact area of the pressure roller (4) with the printing roller (2) or to the gap area between the rollers, which is formed between the specified elements. The film roll (9) leaves the indicated area, as shown in FIG. 1, is perpendicular downwards and is guided again by means of systems of reversing rollers and roll tensioners onto a roller (12) of the film roll onto which it is wound as a fully processed product. On its way to the embossing area (1) or into the roll gap between the printing roller (2) and the pinch roller (4), the film roll (9) is provided with a layer of coating on its surface facing the printing roller (2) in the area (1 ) embossing, using a coating unit (27), which in this case is located outside the embossing area (1). The coating unit (27) therefore applies the coating composition (C2a) to the film roll (9) which is used as the substrate (S2), in accordance with step (2-I) of the method according to the invention. At the embossing section (1), the film roll (9) is then brought into contact, with its surface provided by the still uncured coating layer, with the surface provided by the template coating layer of the template film roll (8), to carry out step (3-I) method according to the invention. In this case, the film roll (9) passes through the pressure roller (4), and the template film roll (8) passes through the printing roller (2). Both rolls, the film roll (9) and the template film roll (8), face each other with their surfaces provided with a corresponding coating layer (in the case of the template film roll (8), an at least partially cured template coating layer corresponding to the coating (C1 ); in the case of a film roll (9), an uncured coating layer corresponding to the coating composition (C2a). In the portion where the pressure roller (4) is pressed against the printing roller (2), a negative image of the structures to be transferred, such as microstructures and/or nanostructures, which are formed in the template coating layer (C1), is pressed into the uncured coating layer corresponding to the composition (C2a) for coating, and as a result the structures are transferred. At the same time, the lighting unit (2) carries out UV irradiation and, therefore, at least partial curing of the uncured coating layer corresponding to the coating composition (C2a) of the coating layer on the film roll (9) is carried out until said coating layer is still in contact with the template coating layer (8). Accordingly, immediately during the transfer of the structure in situ, at least partial curing of the coating layer occurs. The irradiation of the film roll (9), or the uncured coating layer applied to it, in this case is carried out through the film material (9), in the case of irradiation of the printing cylinder (2) from the outside. Alternatively, irradiation is carried out through the quartz glass material of the outer surface of the printing cylinder (2), as well as through the material of the template film roll (8) and the template coating layer applied thereto. Accordingly, the template film roll (8) and the template coating layer are provided to be transparent to the applied radiation, in this case, UV radiation. The outer surface of the printing roller (2) is described in this case as consisting of quartz glass. However, in this case, in principle, any other material is also suitable, provided that it is permeable to the curing radiation (which may be other than UV radiation) emanating from the interior of the printing roller (2). Alternatively, instead of the lighting unit (3) providing UV irradiation, it is also possible, for example, to use a thermal radiation source in the case where the coating composition (C2a) is not a radiation-curable coating composition. After at least partial curing by UV irradiation, additional treatment is possible, for example by IR irradiation. At the end of said curing according to optional step (5-I) of the method according to the invention, the film roll (9) and the template film roll (8) are separated from each other, separating the newly structured composite material layer (S2C2) and the template films (S1C1). The thus coated film roll (9), provided with the desired structuring (ie composite material (S2C2)), is fed as a finished product onto the film roll roller (12) and is wound onto it. If irradiation is carried out by means of the illumination unit (3) onto the printing roller (2) from the outside, then the coated film roll (9) provided with the desired structure (i.e. composite material (S2C2)) can also be opaque if the arrangement is chosen in this way, that the template film roll (8) (ie, composite material (S1C1)) and the film roll (9) (ie, composite material (S2C2)) are swapped. Thus, coating by means of the coating unit (27) according to step (2-I) of the method according to the invention can take place without limiting the operation on the template film roll (8).
Получение композитного материала (S1C1):Preparation of composite material (S1C1):
Композитный материал (S1C1), обеспечиваемый на стадии (1) способа в соответствии с изобретением, может быть получен посредством различных способов, например литографических способов, таких как литография по методу наноимпритинга, лазерная литография и фотолитография. Предпочтительным является получение композитного материала (S1C1) с помощью стадий (6) - (9), как указано более подробно далее. Следовательно, для получения композитного материала (S1C1), который может применяться в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения, осуществляются стадии (6) - (9) способа в соответствии с изобретением. Фиг. 2 обеспечивает примерную иллюстрации стадий (6) - (9) способа в соответствии с изобретением, как также становится очевидным из описания этой фигуры ниже.The composite material (S1C1) provided in step (1) of the method according to the invention can be produced by various methods, for example lithographic methods such as nanoimprinting lithography, laser lithography and photolithography. It is preferable to obtain the composite material (S1C1) using steps (6) - (9), as specified in more detail below. Therefore, to obtain a composite material (S1C1) that can be used as a cliché (e2) for embossing the embossing device (E2), steps (6) to (9) of the method according to the invention are carried out. Fig. 2 provides an exemplary illustration of steps (6) to (9) of the method in accordance with the invention, as will also become apparent from the description of this figure below.
Необязательные стадии (6) - (9) способа в соответствии с изобретением для получения композитного материала (S1C1)Optional steps (6) - (9) of the method according to the invention for producing a composite material (S1C1)
В соответствии с предпочтительным вариантом осуществления настоящего изобретения, композитный материал (S1C1), обеспечиваемый на стадии (1) способа, состоящий из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), получают посредством переноса повторяющегося и/или расположенного через одинаковые промежутки узора клише (e1) для тиснения приспособления для тиснения (Е1) на композицию (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере частичного отверждения указанной композиции для нанесения покрытия, и удаления структурированной и по меньшей мере частично отвержденной композиции для нанесения покрытия (то есть композитного материала (S1C1)) из приспособления для тиснения. Таким образом, предпочтительный композитный материал (S1C1), обеспечиваемый на стадии (1), получают посредствомAccording to a preferred embodiment of the present invention, the composite material (S1C1) provided in method step (1), consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), is produced by repeating transfer and/or a regularly spaced pattern of a die (e1) for embossing an embossing device (E1) onto a composition (C1a) for coating, at least partially curing said coating composition, and removing the structured and at least partially cured composition to apply the coating (i.e., composite material (S1C1)) from the embossing tool. Thus, the preferred composite material (S1C1) provided in step (1) is obtained by
(6) нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1a);(6) applying a radiation-curable composition (C1a) to coat at least a portion of the surface of the substrate (S1) so as to obtain a composite material (S1C1a);
(7) по меньшей мере частичного тиснения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S1) с помощью по меньшей мере одного приспособления (Е1) для тиснения, содержащего по меньшей мере одно клише (e1) для тиснения;(7) at least partially embossing a coating composition (C1a) applied at least partially onto the surface of the substrate (S1) by at least one embossing tool (E1) comprising at least one cliche (e1 ) for embossing;
(8) по меньшей мере частичного отверждения по меньшей мере частично тисненной композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на подложку (S1), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте по меньшей мере с одним клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения;(8) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C1a) applied at least partially to the substrate (S1), which is in contact with at least with one cliche (e1) for embossing device (E1) for embossing;
(9) удаления композитного материала (S1C1) из клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения с тем, чтобы получить по меньшей мере частично тисненный и по меньшей мере частично отвержденный композитный материал (S1C1), или наоборот.(9) removing the composite material (S1C1) from the embossing die (e1) of the embossing fixture (E1) so as to obtain an at least partially embossed and at least partially cured composite material (S1C1), or vice versa.
Стадия (6)Stage (6)
Стадия (6) способа в соответствии с изобретением обеспечивает нанесение отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1). Подложка (S1) представляет собой материал-носитель для композиции (С1а) для нанесения покрытия или для покрытия (С1), соответственно. Подходящими материалами для подложки (S1) или для его поверхностного слоя являются те же материалы, которые также могут применяться для изготовления подложки (S2), как описано выше. При этом ссылаются непосредственно на соответствующие места в описании. В композитном материале (S1C1) между подложкой (S1) и слоем (С1) могут присутствовать дополнительные слои, например, усиливающие адгезию слои, которые предпочтительно являются проницаемыми для УФ-излучения. Однако, является предпочтительным, если в композитном материале (S1C1) между подложкой (S1) и слоем (С1) нет дополнительного слоя. Подложка (S1) предпочтительно представляет собой рулон пленки, предпочтительно движущийся рулон пленки или непрерывный рулон пленки, более предпочтительно непрерывно движущийся рулон пленки. В этом случае подложка (S1) предпочтительно может применяться в устройстве для тиснения с рулона на рулон (R2R). Предпочтительным материалом для подложки (S1) является сложный полиэфир, в частности, полиэтилентерефталат (PET). Толщина подложки (S1) предпочтительно составляет от 2 мкм до 5 мм. Особенно предпочтительной является толщина слоя, составляющая 25 - 1000 мкм, в частности, 50 - 300 мкм.Step (6) of the method according to the invention provides for the application of a radiation-curable coating composition (C1a) to at least a portion of the surface of the substrate (S1). The support (S1) is a carrier material for the coating composition (C1a) or for the coating (C1), respectively. Suitable materials for the substrate (S1) or for its surface layer are the same materials that can also be used for the manufacture of the substrate (S2) as described above. In this case, they refer directly to the corresponding places in the description. In the composite material (S1C1), additional layers may be present between the substrate (S1) and the layer (C1), for example adhesion promoting layers, which are preferably UV-permeable. However, it is preferable if the composite material (S1C1) does not have an additional layer between the substrate (S1) and the layer (C1). The substrate (S1) is preferably a film roll, preferably a moving film roll or a continuous film roll, more preferably a continuously moving film roll. In this case, the substrate (S1) can preferably be used in a roll-to-roll embossing apparatus (R2R). The preferred material for the support (S1) is a polyester, in particular polyethylene terephthalate (PET). The thickness of the substrate (S1) is preferably from 2 μm to 5 mm. A particularly preferred layer thickness is 25 - 1000 µm, in particular 50 - 300 µm.
Композиция (С1а) для нанесения покрытия, обеспечиваемого на необязательной стадии (6) способа в соответствии с изобретением, представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, как описано подробно ниже. Предпочтительно, композицию (СТа) для нанесения покрытия, наносимого на стадии (6), наносят с толщиной сухого слоя, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно по меньшей мере 1 мкм, и более предпочтительно по меньшей мере от 5 мкм до 1 000 мкм.The coating composition (C1a) provided in the optional step (6) of the method according to the invention is a radiation-curable coating composition, as described in detail below. Preferably, the coating composition (CTa) applied in step (6) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 µm, preferably at least 1 µm, and more preferably at least 5 µm to 1 000 microns.
Во время осуществления стадии (6) (и предпочтительно также во время осуществления стадий (7), (8) и (9) способа) подложка (S1) предпочтительно перемещается и, следовательно, представляет собой движущуюся подложку. Во время осуществления стадии (6), подложка (S1) предпочтительно перемещается с помощью средства перемещения, такого как ленточный конвейер. Соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (6), следовательно, предпочтительно содержит средство перемещения такого рода. Соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (6), дополнительно содержит средство для нанесения для нанесения предпочтительно отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1).During step (6) (and preferably also during method steps (7), (8) and (9) the substrate (S1) preferably moves and is therefore a moving substrate. During step (6), the substrate (S1) is preferably moved by a moving means such as a conveyor belt. The corresponding device which is used to carry out step (6) therefore preferably contains a moving means of this kind. The corresponding device which is used to carry out step (6) further comprises application means for applying a preferably radiation-curable coating composition (C1a) to at least a portion of the surface of the substrate (S1).
Стадия (7)Stage (7)
Стадия (7) способа в соответствии с изобретением обеспечивает по меньшей мере частичное тиснение композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S1), с помощью по меньшей мере одного приспособления (Е1) для тиснения, имеющего по меньшей мере одно клише (e1) для тиснения, необязательно предварительно смоченное композицией (С1а) для нанесения покрытия. Указанное клише (e1) для тиснения может представлять собой полимерное клише (e1) для тиснения или металлическое клише (e1) для тиснения, предпочтительно металлическое клише (e1) для тиснения. Необязательно, после того, как был получен первый композитный материал (S1C1), указанный первый или ранее полученный композитный материал (S1C1) может применяться в качестве клише (e1) для тиснения. По меньшей мере частичное тиснение переносит тисненную структуру, по меньшей мере частично, на поверхность композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной на подложку (S1). Термин "тиснение" был определен выше, при этом ссылаются непосредственно на соответствующие параграфы.Step (7) of the method according to the invention provides for at least partial embossing of a coating composition (C1a) applied at least partially onto the surface of the substrate (S1), using at least one embossing device (E1), having at least one stamping cliche (e1), optionally pre-moistened with the coating composition (C1a). Said embossing die (e1) may be a resin embossing die (e1) or a metal embossing die (e1), preferably a metal embossing die (e1). Optionally, after the first composite material (S1C1) has been produced, said first or previously produced composite material (S1C1) may be used as an embossing die (e1). The at least partial embossing transfers the embossed structure, at least partially, onto the surface of the coating composition (C1a) applied to the substrate (S1). The term "embossing" has been defined above and reference is made directly to the relevant paragraphs.
Стадия (7) предпочтительно переносит микроструктуры и/или наноструктуры в качестве тисненной структуры на композицию (С1а) для нанесения покрытия, которые при этом имеют такие размеры, как ширина структуры и высота структуры, как описано ранее. При этом ссылаются непосредственно указанные ранее описанные места в описании.Step (7) preferably transfers microstructures and/or nanostructures as an embossed structure onto the coating composition (C1a), which then have dimensions such as structure width and structure height as described previously. In this case, the previously described places in the description are directly referenced.
Соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (7), следовательно, содержит средство по меньшей мере для частичного тиснения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S1), с помощью по меньшей мере одного приспособления (Е1) для тиснения. Устройство, которое применяют предпочтительно, дополнительно содержит средство для прижатия клише (e1) для тиснения, как части приспособления (Е1) для тиснения, к подложке (S1), которую предпочтительно применяют в виде непрерывного рулона пленки, после нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия на подложку (S1), при этом указанное средство предпочтительно располагается за средством для нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия, если смотреть в направлении перемещения подложки (S1).The corresponding device which is used to carry out step (7) therefore comprises means for at least partially embossing a coating composition (C1a) applied at least partially onto the surface of the substrate (S1), by means of at least one devices (E1) for embossing. The device, which is preferably used, further comprises means for pressing the embossing die (e1), as part of the embossing device (E1), onto the substrate (S1), which is preferably used in the form of a continuous roll of film, after applying the radiation-curable composition ( C1a) for coating the substrate (S1), said means being preferably positioned behind the means for applying the radiation-curable coating composition (C1a) as viewed in the direction of movement of the substrate (S1).
По меньшей мере частичное тиснение в соответствии со стадией (7) способа в соответствии с изобретением проводится с помощью приспособления (Е1) для тиснения. Приспособление (Е1) для тиснения предпочтительно может представлять собой тиснильный каландр, который предпочтительно содержит сеточный механизм приложения силы, более предпочтительно сеточный механизм валков. Этот каландр имеет вращающиеся в противоположных направлениях валки, предпочтительно расположенные друг над другом в направлении высоты с определенным промежутком, и композитный материал (S1C1a), который должен быть обеспечен тисненной структурой, подается на валки и направляется через образованный зазор между валками, причем ширина зазора может регулироваться. Сеточный механизм валков в данном случае предпочтительно содержит первый валок, такой как металлический валок, например, такой как стальной валок, стальной валок, покрытый слоем металла, таким как слой меди или слой никеля, необязательно содержащие небольшие количества фосфора, или валок, покрытый никелевым кожухом, который необязательно содержит небольшие количества фосфора, а также второй валок. Первый валок (валок для тиснения), как часть приспособления (Е1) для тиснения, содержит несколько клише (e1) для тиснения, имеющие зеркальное отображение тисненной структуры, которая подлежит тиснению на поверхности композитного материала (S1C1a). Изображение структуры клише (e1) для тиснения, следовательно, соответствует изображению, полученному тиснением композитным материалом (S1C1), предпочтительно применяемым в качестве клише (е2) для тиснения, на композиции (С2а) для нанесения покрытия, на стадиях (3-I) или (2-II). Второй валок служит в качестве вдавливающего или прижимного валка. В месте зазора между валками, который образован вращающимися в противоположных направлениях валками, расположенными на определенном расстояние друг от друга, происходит тиснение. Применяемое приспособление (Е1) для тиснения также может представлять собой традиционным печатный цилиндр, предпочтительно, изготовленный из металла валок, например, такой как стальной валок, стальной валок, покрытый слоем металла, таким как слой меди или слой никеля, необязательно содержащие небольшие количества фосфора, на котором расположено зеркальное отображение тисненной структуры, которая подлежит тиснению на поверхность композитного материала (S1C1a), и может прижиматься к композитному материалу (S1C1a) по меньшей мере для частичного тиснения. Зеркальное отображение состоит из микроструктурированной и/или наноструктурированной поверхности, состоящей из микроразмерных и/или наноразмерных элементов поверхности, как описано выше на стадии (1). При этом ссылаются непосредственно на соответствующие места в описании. Зеркальное отображение структуры, подлежащей тиснению, получают на приспособлении (Е1) для тиснения в соответствии со способами, привычными и известными специалисту в данной области техники; в зависимости от структуры и материалов, определенные способы могут быть особенно преимущественными. Композитный материал (S1C1a), на которое наносится тиснение, например, в виде рулона пленки, покрытого, по меньшей мере частично, композицией (С1а) для нанесения покрытия, перемещается с помощью второго валка или прижимного валка, в направлении, противоположном первому валку. В месте зазора между валками, который образован вращающимися в противоположных направлениях валками, расположенными на определенном расстоянии друг от друга, происходит тиснение в соответствии со стадией (7). Первый валок, на котором расположено клише (e1) для тиснения, служит в данном случае для тиснения композитного материала (S1C1a), который направляется посредством второго валка, противоположного указанному валку для тиснения, при этом второй валок прижимает композитный материал (S1C1a), который должен быть обеспечен тисненной структурой, к первому валку для тиснения. Приспособление (Е1) для тиснения предпочтительно представляет собой металлическое приспособление для тиснения, более предпочтительно, изготовленное из стали, или стальной валок, покрытый слоем металла, таким как слой меди или слой никеля, необязательно содержащие небольшие количества фосфора, или валок, покрытый никелевым кожухом, который необязательно содержит небольшие количества фосфора. Соответственно, клише (e1) для тиснения предпочтительно является металлическим, более предпочтительно, изготовленным из стали, меди или никеля, в частности, изготовленным из никеля, который содержит небольшие количества фосфора. Однако, в качестве альтернативы, клише (e1) для тиснения может состоять из таких материалов, как силиконы (то есть полидиметилсилоксаны (ПДМС)) или, ранее изготовленный композитный материал (S1C1) может применяться в качестве клише (el) для тиснения для воспроизведения узора, изначально полученного при первом тиснении на первый композитный материал (S1C1). Кроме того, могут применяться валки, покрытые по меньшей мере одним пластическим материалом. Более того, приспособление (Е1) для тиснения может иметь в качестве клише (e1) для тиснения структурированное покрытие, такое как УФ-отверждаемое покрытие.At least partial embossing according to step (7) of the method according to the invention is carried out using an embossing device (E1). The embossing device (E1) may preferably be an embossing calender, which preferably contains a force-applying mesh mechanism, more preferably a roll mesh mechanism. This calender has counter-rotating rollers, preferably arranged one above the other in the height direction at a certain interval, and a composite material (S1C1a), which should be provided with an embossed structure, is fed onto the rollers and guided through the formed gap between the rollers, the width of the gap can be regulated. The roller mesh mechanism in this case preferably comprises a first roller, such as a metal roller, such as a steel roller, a steel roller coated with a layer of metal, such as a layer of copper or a layer of nickel, optionally containing small amounts of phosphorus, or a roller coated with a nickel casing , which optionally contains small amounts of phosphorus, as well as a second roll. The first roll (embossing roll), as part of the embossing fixture (E1), contains several embossing cliches (e1) having a mirror image of the embossed structure to be embossed on the surface of the composite material (S1C1a). The image of the structure of the embossing die (e1) therefore corresponds to the image obtained by embossing the composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2), on the coating composition (C2a), in steps (3-I) or (2-II). The second roll serves as a pressing or pressing roll. In the gap between the rollers, which is formed by rollers rotating in opposite directions, located at a certain distance from each other, embossing occurs. The embossing device (E1) used may also be a traditional printing cylinder, preferably made of a metal roll, for example a steel roll, a steel roll coated with a metal layer, such as a copper layer or a nickel layer, optionally containing small amounts of phosphorus, on which there is a mirror image of an embossed structure that is to be embossed onto the surface of the composite material (S1C1a), and can be pressed against the composite material (S1C1a) for at least partial embossing. The mirror image consists of a microstructured and/or nanostructured surface consisting of microscale and/or nanoscale surface features as described in step (1) above. In this case, they refer directly to the corresponding places in the description. A mirror image of the structure to be embossed is obtained on the embossing fixture (E1) in accordance with methods familiar and known to a person skilled in the art; Depending on the structure and materials, certain methods may be particularly advantageous. The composite material (S1C1a) to be embossed, for example in the form of a film roll coated at least partially with the coating composition (C1a), is moved by a second roller or pinch roller in a direction opposite to the first roller. At the gap between the rollers, which is formed by counter-rotating rollers located at a certain distance from each other, embossing occurs in accordance with stage (7). The first roller, on which the embossing cliche (e1) is located, serves in this case to emboss the composite material (S1C1a), which is guided by a second roller opposite to said embossing roller, wherein the second roller presses the composite material (S1C1a), which must be provided with an embossed structure, to the first embossing roll. The embossing tool (E1) is preferably a metal embossing tool, more preferably made of steel, or a steel roll coated with a metal layer, such as a copper layer or a nickel layer, optionally containing small amounts of phosphorus, or a roll covered with a nickel casing, which optionally contains small amounts of phosphorus. Accordingly, the embossing die (e1) is preferably metallic, more preferably made of steel, copper or nickel, in particular made of nickel, which contains small amounts of phosphorus. However, alternatively, the embossing die (e1) may be composed of materials such as silicones (i.e. polydimethylsiloxanes (PDMS)) or a previously manufactured composite material (S1C1) may be used as the embossing die (el) to reproduce the pattern , originally obtained by the first embossing on the first composite material (S1C1). In addition, rollers coated with at least one plastic material can be used. Moreover, the embossing tool (E1) may have a structured coating such as a UV-curable coating as the embossing die (e1).
При необходимости, стадия (7) может осуществляться при повышенных температурах, например, при температуре 30°С - 100°С или до 80°С. В этом случае, композитный материал (S1C1a) сначала проходит через нагревающий валковый механизм, за чем необязательно следует облучение инфракрасным излучением, до фактической процедуры тиснения, то есть отверждение происходит во время контакта с приспособлением (Е1) для тиснения. После тиснения и отверждения, тисненный композитный материал (S1C1) необязательно проходит через охлаждающий валковый механизм для охлаждения. В качестве альтернативы, отверждение также может происходить с охлаждением: в этом случае, композитный материал (S1C1a) для тиснения сначала проходит через охлаждающий валковый механизм, до того, как происходит фактическая процедура тиснения, которая описана ранее. Вместо применения отдельного нагревающего валкового механизма или валкового механизма, задействованного в отверждении, также возможно нагревать или охлаждать приспособление (Е1) для тиснения.If necessary, step (7) can be carried out at elevated temperatures, for example at a temperature of 30°C - 100°C or up to 80°C. In this case, the composite material (S1C1a) is first passed through a heating roller mechanism, optionally followed by irradiation with infrared radiation, before the actual embossing procedure, that is, curing occurs during contact with the embossing tool (E1). After embossing and curing, the embossed composite material (S1C1) optionally passes through a chill roller mechanism to cool. Alternatively, curing can also occur with cooling: in this case, the composite material (S1C1a) to be embossed is first passed through a cooling roller mechanism, before the actual embossing procedure, which is described previously, occurs. Instead of using a separate heating roller mechanism or a roller mechanism involved in curing, it is also possible to heat or cool the embossing tool (E1).
Стадия 8Stage 8
Стадия (8) способа в соответствии с изобретением обеспечивает по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на подложку (S1), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте по меньшей мере с одним клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения.Step (8) of the method according to the invention ensures at least partial curing of the at least partially embossed coating composition (C1a) applied at least partially to the substrate (S1), which is at least partially curing is in contact with at least one stamping cliche (e1) of the embossing device (E1).
Стадии (7) и (8) предпочтительно осуществляются одновременно. В этом случае, отверждение в соответствии со стадией (8) предпочтительно происходит in situ во время осуществления стадии (7).Steps (7) and (8) are preferably carried out simultaneously. In this case, the curing according to step (8) preferably occurs in situ during the implementation of step (7).
Следовательно, соответствующее устройство, которое применяют для осуществления стадии (8), предпочтительно содержит по меньшей мере один источник излучения для облучения отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия отверждающим излучением, предпочтительно УФ-излучением.Therefore, the corresponding device that is used to carry out step (8) preferably contains at least one radiation source for irradiating the radiation-curable coating composition (C1a) with curing radiation, preferably UV radiation.
Примеры подходящих источников излучения для отверждение посредством излучения были описаны ранее в отношении отверждения композиции (С2а) для нанесения покрытия. При этом ссылаются непосредственно на соответствующие места в описании.Examples of suitable radiation sources for radiation curing have been described previously with respect to curing the coating composition (C2a). In this case, they refer directly to the corresponding places in the description.
Отверждение на стадии (8) предпочтительно происходит посредством облучения сквозь подложку (S1). В этом случае является преимущественным, чтобы проницаемость подложки (S1) для применяемого излучения соответствовала проницаемости по меньшей мере одного фотоинициатора, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия. Таким образом, например, материал PET в качестве подложки (S1), следовательно, РЕТ-пленка, например, является проницаемой для излучения, имеющего длину волны, составляющую ниже 400 нм. Фотоинициаторы, которые образуют радикалы вследствие такого излучения, включают в себя, например, дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид, этил(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфинат и фенилбис(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид.Curing in step (8) preferably occurs by irradiation through the substrate (S1). In this case, it is advantageous that the permeability of the substrate (S1) to the applied radiation corresponds to the permeability of at least one photoinitiator contained in the coating composition (C1a). Thus, for example, the PET material as the substrate (S1), hence the PET film, for example, is transparent to radiation having a wavelength below 400 nm. Photoinitiators that form radicals due to such radiation include, for example, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphineoxide .
Стадия (9)Stage (9)
Стадия (9) способа в соответствии с изобретением обеспечивает удаление композитного материала (S1C1) из приспособления (Е1) для тиснения, в результате чего получают желаемой продукт, а именно, композитный материал (S1C1), который может применяться в качестве клише (е2) для тиснения, и состоит из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1).Step (9) of the method according to the invention removes the composite material (S1C1) from the embossing tool (E1), resulting in the desired product, namely the composite material (S1C1), which can be used as a cliché (e2) for embossing, and consists of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1).
Необязательно, композитные материалы (S1C1) или шаблонные пленки, после отделения из клише (e1) для тиснения, могут быть подвергнуты дополнительному воздействию подходящего источника излучения, такого как УФА-лампа, с тем, чтобы увеличить или максимизировать превращение двойных связей, в частности, на поверхности покрытия (С1) композитного материала (S1C1), для уменьшения или минимизации ковалентного сшивания с композицией (С2а) для нанесения покрытия. Любой из источников излучения, описанных ранее, является подходящим, при этом ссылаются непосредственно на указанные ранее параграфы.Optionally, the composite materials (S1C1) or template films, after being separated from the embossing die (e1), can be further exposed to a suitable radiation source, such as a UVA lamp, in order to increase or maximize the conversion of double bonds, in particular on the surface of the coating (C1) of the composite material (S1C1), to reduce or minimize covalent cross-linking with the coating composition (C2a). Any of the radiation sources previously described are suitable, with reference directly to the previous paragraphs.
Предпочтительно, поверхность по меньшей мере частично отвержденного и по меньшей мере частично тисненного покрытия (С1) композитного материала (S1C1) представляет собой микроструктурированную и/или наноструктурированную поверхность.Preferably, the surface of the at least partially cured and at least partially embossed coating (C1) of the composite material (S1C1) is a microstructured and/or nanostructured surface.
Фиг. 2 схематически показывает вид сбоку устройства, которое может применяться для осуществления стадий (6) - (9) способа в соответствии с изобретением, для получения композитного материала (S1C1), предпочтительно применяемого в качестве клише (е2) для тиснения, то есть, для получения шаблонной пленки, и который при этом применяют для примерной иллюстрации способа в соответствии с изобретением по отношению к стадиям (6) - (9). С помощью этого устройства можно переносить структуры, такие как микроструктуры и/или наноструктуры, на подложку (S1), покрытую (С1а), с помощью приспособления (Е1) для тиснения, и после по меньшей мере частичного отверждения, получать композитный материал (S1C1) упоминаемый как рулон (8) шаблонной пленки на Фиг. 2 который может применяться в качестве шаблонной пленки, при этом указанный композитный материал способен применяться в качестве клише (е2) для тиснения, как описано выше в способе, проиллюстрированном в связи с Фиг. 1.Fig. 2 shows a schematic side view of a device that can be used to carry out steps (6) to (9) of the method according to the invention to produce a composite material (S1C1), preferably used as an embossing die (e2), that is, to obtain template film, and which is used to roughly illustrate the method according to the invention with respect to steps (6) to (9). With this device, it is possible to transfer structures, such as microstructures and/or nanostructures, onto a substrate (S1) coated with (C1a) using an embossing tool (E1), and after at least partial curing, obtain a composite material (S1C1) referred to as the template film roll (8) in FIG. 2 which can be used as a template film, wherein said composite material is capable of being used as an embossing block (e2) as described above in the method illustrated in connection with FIG. 1.
Устройство (30) для переноса шаблона, показанное на Фиг. 2, работает в соответствии с принципом переноса, в соответствии с которым желаемой негативные структуры подвергают тиснению непосредственно, со структурированного печатного цилиндра или печатного вала, который в данном случае представляет собой печатный цилиндр (17) шаблона, на все еще неотвержденный слой покрытия, нанесенного на рулон (8b) шаблонной пленки, соответствующего композитному материалу (S1C1a), и затем указанный слой покрытия, по меньшей мере частично, отверждают, вместе со структурами, нанесенными на нее, причем отверждение происходит in situ с помощью осветительного блока (3), в результате чего получают рулон (8) шаблонной пленки - соответствующей композитному материалу (S1C1). В этом способе, рулон (8а) пленки, которую применяют в качестве подложки (S1), вытягивается с валка (18) рулона пленки, которая содержит только материал-носитель, другими словами, чистую пленку без нанесенного шаблонного покрытия (С1а), и направляется посредством различных систем изменяющих направление роликов и системы натяжения рулона, и подается на участок (1) тиснения устройства. В данном случае, рулон (8а) пленки проходит от средства (27) нанесения покрытия, где присутствует все еще неотвержденный слой шаблонного покрытия (соответствующего композиции (С1а) для нанесения покрытия), на участок тиснения между прижимным валком (4) и печатным цилиндром (17) шаблона. Указанное нанесение покрытия соответствует стадии (6) способа в соответствии с изобретением. На участке (1) тиснения, на котором рулон (8b) шаблонной пленки со все еще неотвержденным слоем шаблонного покрытия (С1а) проходит вдоль участка внешней поверхности печатного цилиндра (17) шаблона, микроразмерные и/или наноразмерные элементы поверхности микроструктурированной и/или наноструктурированной поверхности, нанесенные тиснением на внешнюю поверхность печатного цилиндра (17) шаблона, вводятся в качестве негативного изображения в слой шаблонного покрытия рулона (8b) шаблонной пленки и переносятся. Это соответствует стадии (7) способа в соответствии с изобретением. Затем, рулон (8b) шаблонной пленки, содержащий неотвержденную композицию (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере частично, отверждается, в соответствии со стадией (8) способа в соответствии с изобретением. Отверждение в данном случае происходит in situ посредством облучения УФ-излучения с использованием осветительного блока (3), например, блока, состоящего из УФ-светодиодов. Полученная шаблонная пленка (8), другими словами, композитный материал (S1C1), впоследствии снимается, в соответствии со стадией (9) способа в соответствии с изобретением, с внешней поверхности печатного цилиндра (17) шаблона, и готовый в результате рулон (8) шаблонной пленки наматывается на валок (19) рулона пленки. Таким образом, валок (19) рулона пленки содержит готовый рулон (8) шаблонной пленки со слоем шаблонного покрытия, нанесенного на нее, и с негативными изображениями микроструктур и/или наноструктур, тисненными на ней. Этот валок (19) рулона пленки может удаляться, и затем применяться в качестве первого валка (6) рулона пленки в устройстве (10) для переноса в соответствии с Фиг. 1 или в другом устройстве для переноса, работающем по тому же принципу.The template transfer device (30) shown in FIG. 2 operates according to the transfer principle, whereby the desired negative structures are embossed directly, from a structured impression cylinder or impression roller, which in this case is the template impression cylinder (17), onto the still uncured coating layer applied to a roll (8b) of a template film corresponding to the composite material (S1C1a), and then said coating layer is at least partially cured, together with the structures deposited thereon, the curing occurring in situ by means of a lighting unit (3), resulting in which results in a roll (8) of template film - corresponding to the composite material (S1C1). In this method, a roll (8a) of film, which is used as a substrate (S1), is pulled from a roll (18) of a film roll that contains only a carrier material, in other words, a blank film without an applied template coating (C1a), and is directed through various systems of direction-changing rollers and a roll tension system, and is fed to the embossing section (1) of the device. In this case, the film roll (8a) passes from the coating means (27), where there is a still uncured master coating layer (corresponding to the coating composition (C1a)), to the embossing area between the pressure roller (4) and the impression cylinder ( 17) template. Said coating corresponds to step (6) of the method according to the invention. In the embossing portion (1), in which the template film roll (8b) with the still uncured template coating layer (C1a) runs along the outer surface portion of the template impression cylinder (17), micro-sized and/or nano-sized surface features of the microstructured and/or nanostructured surface , embossed on the outer surface of the template printing cylinder (17), are introduced as a negative image into the template coating layer of the template film roll (8b) and transferred. This corresponds to step (7) of the method according to the invention. Next, the template film roll (8b) containing the uncured coating composition (C1a) is at least partially cured in accordance with step (8) of the method according to the invention. Curing here occurs in situ by irradiating UV light using a lighting unit (3), for example a unit consisting of UV LEDs. The resulting template film (8), in other words, the composite material (S1C1), is subsequently removed, in accordance with step (9) of the method according to the invention, from the outer surface of the impression cylinder (17) of the template, and the resulting roll (8) the template film is wound onto the roller (19) of the film roll. Thus, the film roll roll (19) contains a finished roll (8) of template film with a layer of template coating applied thereto and with negative images of microstructures and/or nanostructures embossed thereon. This film roll roll (19) can be removed and then used as the first film roll roll (6) in the transfer device (10) in accordance with FIG. 1 or in another transfer device operating on the same principle.
Применяемые в соответствии с изобретением композиции для нанесения покрытия (С1а) и (С2а)Coating compositions (C1a) and (C2a) used in accordance with the invention
Композиция (С1а) для нанесения покрытияComposition (C1a) for coating
Композиция (С1а) для нанесения покрытия представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия. В данном случае, термины "отверждаемая под действием излучения" и "отверждение излучением" являются взаимозаменяемыми. Термин "отверждение излучением" предпочтительно относится к радикальной полимеризации способных к полимеризации соединений под действием электромагнитного излучения и/или излучения частиц, примерами которых при этом являются излучение от видимого до (Б)ИК излучения в диапазоне длин волн, составляющих λ=400 - 1200 нм, предпочтительно 700 - 900 нм, и/или УФ-излучение в диапазоне длин волн, составляющих λ=100 - 400 нм, предпочтительно, составляющих λ=200 - 400 нм, и более предпочтительно λ=250 - 400 нм, и/или излучение электронов в диапазоне от 150 до 300 кэВ, и более предпочтительно с дозой излучения, составляющей по меньшей мере 80, предпочтительно 80 -3000 мДж/см2. Особенно предпочтительно, отверждение излучением проводят с помощью применения УФ-излучения. Композиция (С1а) для нанесения покрытия может отверждаться посредством использования подходящего источника излучения. Следовательно, (С1а) предпочтительно представляет собой отверждаемую под действием УФ-излучения композицию для нанесения покрытия.The coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition. In this case, the terms "radiation curable" and "radiation curing" are used interchangeably. The term "radiation curing" preferably refers to the radical polymerization of polymerizable compounds under the influence of electromagnetic radiation and/or particle radiation, examples of which are radiation from visible to (N)IR radiation in the wavelength range λ=400 - 1200 nm , preferably 700 - 900 nm, and/or UV radiation in the wavelength range λ=100 - 400 nm, preferably λ=200 - 400 nm, and more preferably λ=250 - 400 nm, and/or radiation electrons in the range from 150 to 300 keV, and more preferably with a radiation dose of at least 80, preferably 80 -3000 mJ/cm 2 . Particularly preferably, radiation curing is carried out using UV radiation. The coating composition (C1a) can be cured by using a suitable radiation source. Therefore, (C1a) is preferably a UV-curable coating composition.
Композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно содержит:The coating composition (C1a) preferably contains:
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0-5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0-5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанных общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе;wherein (i) the total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (ii) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Композиции для нанесения покрытия (С1а) содержит общее количество, составляющее 5 - 45% по массе, предпочтительно 8 - 40%по массе, более предпочтительно 9 - 35% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера, причем по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90%по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера, представляет собой по меньшей мере один силикон(мет)акрилатный олигомер.The coating composition (C1a) contains a total amount of 5 - 45% by weight, preferably 8 - 40% by weight, more preferably 9 - 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a) of at least at least one crosslinkable polymer and/or oligomer, at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on total weight of the total crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), at least one crosslinkable polymer and/or oligomer is at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Термин "олигомер" относится к соединениям с относительно низкой молекулярной массой, состоящим из нескольких, обычно от 2 до менее 10 мономерных звеньев. Мономерные звенья могут быть структурно одинаковыми или подобными, или же они могут отличаться друг от друга. Олигомерные соединения обычно являются жидкими при комнатной температуре, составляющей 23°С, и давлении окружающей среды, при условии, что динамическая вязкость предпочтительно составляет менее 500 Па*с, и более предпочтительно менее 200 Па*с при температуре 23°С, измеренной в соответствии со стандартом DIN EN ISO 2555 (метод Брукфильда). Термин "способный к сшиванию" относится к полимерам или олигомерам, которые имеют в среднем по меньшей мере одну, предпочтительно по меньшей мере две, незавершенные ненасыщенные группы, способные образовывать свободные радикалы для реакций сшивания. Способные к сшиванию олигомерные и/или полимерные соединения предпочтительно являются растворимыми в одном или нескольких реактивных разбавителей.The term "oligomer" refers to compounds of relatively low molecular weight, consisting of several, usually from 2 to less than 10 monomer units. The monomer units may be structurally the same or similar, or they may be different from each other. The oligomeric compounds are generally liquid at room temperature of 23°C and ambient pressure, provided that the dynamic viscosity is preferably less than 500 Pa*s, and more preferably less than 200 Pa*s at a temperature of 23°C, measured according to with DIN EN ISO 2555 standard (Brookfield method). The term "crosslinkable" refers to polymers or oligomers that have on average at least one, preferably at least two, unsaturated groups capable of generating free radicals for crosslinking reactions. The crosslinkable oligomeric and/or polymeric compounds are preferably soluble in one or more reactive diluents.
Силикон(мет)акрилатные олигомеры или полимеры, применяемые в настоящем изобретении, обычно могут быть получены посредством реакции конденсации между (мет)акриловой кислотой и силиконами с гидроксильными функциональными группами (например, α,ω-полидиметилсиликондиолы). Благодаря своей главной силиконовой цепи силиконакрилаты имеют тенденцию улучшать эластичность и растяжение структурированных поверхностей, но ухудшают их прочность на растяжение и устойчивость к возможным воздействиям. Силикон(мет)акрилаты с большим количеством функциональных групп часто применяют благодаря их свойствам низкой поверхностной энергии. Примеры применяемых силикон(мет)акрилатов включают в себя силикон(мет)акрилаты, доступные на рынке от компании Sartomer Со. под торговым наименованием SARTOMER (например, SARTOMER CN 9800), компании UCB Radcure Inc. под торговым наименованием EBECRYL (например, EBECRYL 350, EBECRYL 1360), а также метакрилаты от компании Shin-Etsu Silicones Europe B.V. под названием продукта Х-22 (например, Х-22-164, X-22-164А).Silicone (meth)acrylate oligomers or polymers used in the present invention can generally be prepared by a condensation reaction between (meth)acrylic acid and hydroxyl-functional silicones (eg, α,ω-polydimethylsilicondiols). Due to their silicone backbone, silicone acrylates tend to improve the elasticity and elongation of structured surfaces, but reduce their tensile strength and impact resistance. Highly functional silicone (meth)acrylates are often used due to their low surface energy properties. Examples of useful silicone(meth)acrylates include silicone(meth)acrylates available commercially from Sartomer Co. under the trade name SARTOMER (for example, SARTOMER CN 9800), UCB Radcure Inc. under the trade name EBECRYL (for example, EBECRYL 350, EBECRYL 1360), as well as methacrylates from Shin-Etsu Silicones Europe B.V. under the product name X-22 (for example, X-22-164, X-22-164A).
Особенно предпочтительно, композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, более предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2-3 ненасыщенные группы.Particularly preferably, the coating composition (C1a) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, of calculating the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a) of at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer, more preferably exactly one silicone ( meth)acrylate oligomer containing on average 2-3 unsaturated groups.
Другие способные к сшиванию полимеры и/или олигомеры, необязательно присутствующие в композиции (С1а) для нанесения покрытия наряду с силикон(мет)акрилатами, предпочтительно выбирают из (мет)акрилированных олигомерных или полимерных соединений, уретан(мет)акрилатов, винил(мет)акрилатов, эпокси(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, поли(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, олефин(мет)акрилатов, (мет)акрилированных масел, и их смесей, предпочтительно из уретан(мет)акрилатных олигомеров. Композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 0 - 75% по массе, предпочтительно 0-50%по массе, более предпочтительно 0 - 10% по массе, и очень предпочтительно 0% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, указанных других способных к сшиванию полимеров и/или олигомеров. Другими словами, композиция (С1а) для нанесения покрытия очень предпочтительно не содержит других способных к сшиванию полимеров и/или олигомеров, наряду по меньшей мере с одним силикон(мет)акрилатом.Other crosslinkable polymers and/or oligomers optionally present in the coating composition (C1a) along with the silicone(meth)acrylates are preferably selected from (meth)acrylated oligomeric or polymeric compounds, urethane(meth)acrylates, vinyl(meth)acrylates acrylates, epoxy(meth)acrylates, polyester(meth)acrylates, poly(meth)acrylates, polyether(meth)acrylates, olefin(meth)acrylates, (meth)acrylated oils, and mixtures thereof, preferably urethane(meth)acrylates acrylate oligomers. The coating composition (C1a) contains a total amount of 0-75% by weight, preferably 0-50% by weight, more preferably 0-10% by weight, and very preferably 0% by weight, based on the total weight of all capable to crosslinking the polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a) with said other crosslinkable polymers and/or oligomers. In other words, the coating composition (C1a) very preferably does not contain other crosslinkable polymers and/or oligomers, along with at least one silicone (meth)acrylate.
Уретан(мет)акрилаты можно получить, например, посредством реакции полиизоцианатов с гидроксиалкил(мет)акрилатами и необязательно удлинителями цепи, такими как диолы, полиолы, диамины, полиамины или дитиолы или политиолы. Уретан(мет)акрилаты, диспергируемые в воде без добавления эмульгирующих веществ, дополнительно содержат ионные и/или неионные гидрофильные группы, которые вводятся в уретан за счет компонентов синтеза, например, таких как гидроксикарбоновые кислоты. Такие уретан(мет)акрилаты содержат в основном следующие компоненты синтеза:Urethane (meth)acrylates can be prepared, for example, by reacting polyisocyanates with hydroxyalkyl (meth)acrylates and optionally chain extenders such as diols, polyols, diamines, polyamines or dithiols or polythiols. Urethane (meth)acrylates, dispersible in water without the addition of emulsifying agents, additionally contain ionic and/or nonionic hydrophilic groups, which are introduced into the urethane through synthesis components, for example, hydroxycarboxylic acids. Such urethane (meth)acrylates contain mainly the following synthesis components:
(а) по меньшей мере один органический алифатический, ароматический или циклоалифатический ди- или полиизоцианат,(a) at least one organic aliphatic, aromatic or cycloaliphatic di- or polyisocyanate,
(б) по меньшей мере одно соединение, имеющее по меньшей мере одну ракционноспособную по отношению к изоцианату группу, предпочтительно мономер, содержащий гидроксил, и по меньшей мере одну способную к радикальной полимеризации ненасыщенную группу, и(b) at least one compound having at least one isocyanate-reactive group, preferably a hydroxyl-containing monomer, and at least one radically polymerizable unsaturated group, and
(в) необязательно по меньшей мере одно соединение, имеющее по меньшей мере две ракционноспособные по отношению к изоцианату группы, например, такое как многоатомный спирт.(c) optionally at least one compound having at least two isocyanate-reactive groups, such as, for example, a polyhydric alcohol.
Уретан (мет)акрилаты предпочтительно имеют среднечисленную молярную массу Mn, составляющую 200 - 20 000, в частности, составляющую 500 - 10 000, очень предпочтительно 600 - 3000 г/моль (как было определено посредством гель-проникающей хроматографии с тетрагидрофураном в качестве элюента и полистиролом в качестве стандартного образца). Уретан(мет)акрилаты предпочтительно содержат от 1 до 5, более предпочтительно от 2 до 4 моля (мет)акриловых групп на 1000 г уретан(мет)акрилата.Urethane (meth)acrylates preferably have a number average molar mass M n of 200 - 20,000, in particular 500 - 10,000, very preferably 600 - 3000 g/mol (as determined by gel permeation chromatography with tetrahydrofuran as eluent and polystyrene as a reference standard). Urethane (meth)acrylates preferably contain from 1 to 5, more preferably from 2 to 4 moles of (meth)acrylic groups per 1000 g of urethane (meth)acrylate.
Эпоксид(мет)акрилаты можно получить посредством реакции эпоксидов с (мет)акриловой кислотой. Примеры рассматриваемых эпоксидов включают эпоксидированные олефины, ароматические глицидиловые эфиры или алифатические глицидиловые эфиры, предпочтительно ароматические или алифатические глицидиловые эфиры. Примеры возможных эпоксидированных олефинов включают этиленоксид, пропиленоксид, изобутиленоксид, 1-бутеноксид, 2-бутеноксид, винилоксиран, оксид стирола или эпихлоргидрин; при этом этиленоксид, пропиленоксид, изобутиленоксид, винилоксиран, оксид стирола или эпихлоргидрин являются предпочтительными, при этом этиленоксид, пропиленоксид или эпихлоргидрин являются особенно предпочтительными, и этиленоксид и эпихлоргидрин являются особенно предпочтительными. Ароматические глицидиловые эфиры, например, представляют собой диглицидиловый эфир бисфенола А, диглицидиловый эфир бисфенола F, диглицидиловый эфир бисфенола В, диглицидиловый эфир бисфенола S, диглицидиловый эфир гидрохинона, продукты алкилирования фенола/дициклопентадиена, например, изомеры 2,5-бис[(2,3-эпоксипропокси)фенил]октагидро-4,7-метан-5Н-инден, трис[4-(2,3-эпоксипропокси)фенил]метан, эпоксидные новолаки на основе фенола и эпоксидные новолаки на основе крезола. Алифатическими глицидиловыми эфирами, например, являются 1,4-бутандиолдиглицидиловый эфир, 1,6-гександиолдиглицидиловый эфир, триметилолпропантриглицидиловый эфир, пентаэритритолтетраглицидиловый эфир, 1,1,2,2-тетракис[4-(2,3-эпоксипропокси)фенил]этан, диглицидиловые эфиры полипропиленгликоля (α,ω-бис(2,3-эпоксипропокси)поли(оксипропилен) (и (2,2-бис[4-(2,3-эпоксипропокси)циклогексил]пропан) гидрированного бисфенола А). Эпоксид(мет)акрилаты предпочтительно имеют среднечисленную молярную массу Mn, составляющую 200 - 20 000, более предпочтительно 200 - 10 000 г/, и очень предпочтительно 250 - 3 000 г/моль; количество (мет)акриловых групп предпочтительно составляет 1-5, более предпочтительно 2 - 4, на 1000 г эпоксид(мет)акрилата (как было определено посредством гель-проникающей хроматографии с полистиролом в качестве стандартного образца и тетрагидрофураном в качестве элюента).Epoxide (meth)acrylates can be prepared by reacting epoxides with (meth)acrylic acid. Examples of contemplated epoxides include epoxidized olefins, aromatic glycidyl ethers or aliphatic glycidyl ethers, preferably aromatic or aliphatic glycidyl ethers. Examples of possible epoxidized olefins include ethylene oxide, propylene oxide, isobutylene oxide, 1-butene oxide, 2-butene oxide, vinyl oxirane, styrene oxide or epichlorohydrin; wherein ethylene oxide, propylene oxide, isobutylene oxide, vinyl oxirane, styrene oxide or epichlorohydrin are preferred, wherein ethylene oxide, propylene oxide or epichlorohydrin are particularly preferred, and ethylene oxide and epichlorohydrin are particularly preferred. Aromatic glycidyl ethers, for example, are bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol B diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, phenol/dicyclopentadiene alkylation products, for example, 2,5-bis[(2, 3-epoxypropoxy)phenyl]octahydro-4,7-methane-5H-indene, tris[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]methane, phenol-based epoxy novolacs and cresol-based epoxy novolacs. Aliphatic glycidyl ethers are, for example, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropanetriglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, 1,1,2,2-tetrakis[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethane, diglycidyl ethers of polypropylene glycol (α,ω-bis(2,3-epoxypropoxy)poly(oxypropylene) (and (2,2-bis[4-(2,3-epoxypropoxy)cyclohexyl]propane) hydrogenated bisphenol A). Epoxide (met )acrylates preferably have a number average molar mass M n of 200 - 20,000, more preferably 200 - 10,000 g/mol, and very preferably 250 - 3,000 g/mol; the number of (meth)acrylic groups is preferably 1-5, more preferably 2 - 4, per 1000 g epoxide (meth)acrylate (as determined by gel permeation chromatography with polystyrene as standard and tetrahydrofuran as eluent).
(Мет)акрилированные поли(мет)акрилаты представляют собой соответствующее сложные эфиры α,β-этиленненасыщенных карбоновых кислот, предпочтительно (мет)акриловой кислоты, более предпочтительно акриловой кислоты, с полиакрилатполиолами, которые можно получить посредством эстерификации поли(мет)акрилатполиолов (мет)акриловой кислотой(Meth)acrylated poly(meth)acrylates are corresponding esters of α,β-ethylenically unsaturated carboxylic acids, preferably (meth)acrylic acid, more preferably acrylic acid, with polyacrylate polyols, which can be obtained by esterification of poly(meth)acrylate polyols (meth) acrylic acid
Карбонат(мет)акрилаты доступны с различными количествами функциональных групп.Среднечисленная молекулярная масса Mn карбонат(мет)акрилатов предпочтительно составляет менее 3 000 г/моль, более предпочтительно менее 1 500 г/моль, очень предпочтительно менее 800 г/моль (как было определено посредством гель-проникающей хроматографии с полистиролом в качестве стандартного образца и тетрагидрофураном в качестве элюента). Карбонат(мет)акрилаты можно получить простым способом посредством трансэстерификации сложных эфиров угольных кислот с многоатомными, предпочтительно двухатомными, спиртами (диолами, например, гександиол), и последующей эстерификации свободных ОН-групп с (мет)акриловой кислотой, или же трансэстерификации с (мет)акриловыми сложными эфирами, например, как описано в ЕР 0 092 269 А1. Их также можно получить посредством реакции фосгена, производных мочевины с многоатомными спиртами, например, двухатомными спиртами. Также возможными являются мет(акрилаты) поликарбонат полиолов, такие как продукт реакции одного из указанных диолов или полиолов и сложного эфира угольной кислоты, а также содержащий гидроксил (мет)акрилат.Примерами подходящих сложных эфиров угольных кислот являются этилен, 1,2- или 1,3-пропиленкарбонат, диметил, диэтил или дибутилкарбонат.Примерами подходящих содержащих гидроксил (мет)акрилатов являются 2-гидроксиэтил(мет)акрилат, 2- или 3-гидроксипропил(мет)акрилат, 1,4-бутандиолмоно(мет)акрилат, неопентилгликольмоно(мет)акрилат, глицерилмоно-и ди(мет)акрилат, триметилолпропанмоно- и ди(мет)акрилат, а также пентаэритритолмоно-, ди- и три(мет)акрилат.Предпочтительно, карбонат(мет)акрилаты являются алифатическими карбонат(мет)акрплатами.Carbonate (meth)acrylates are available with varying amounts of functional groups. The number average molecular weight of M n carbonate (meth)acrylates is preferably less than 3,000 g/mol, more preferably less than 1,500 g/mol, very preferably less than 800 g/mol (as was determined by gel permeation chromatography with polystyrene as standard and tetrahydrofuran as eluent). Carbonate (meth)acrylates can be prepared in a simple manner by transesterification of carbonic acid esters with polyhydric, preferably dihydric, alcohols (diols, e.g. hexanediol), and subsequent esterification of free OH groups with (meth)acrylic acid, or transesterification with (meth)acrylic acid. )acrylic esters, for example as described in EP 0 092 269 A1. They can also be prepared by reacting phosgene, urea derivatives with polyhydric alcohols, e.g. dihydric alcohols. Also possible are meth(acrylates) polycarbonate polyols, such as the reaction product of one of these diols or polyols and a carbonic acid ester, as well as containing hydroxyl (meth)acrylate. Examples of suitable carbonic acid esters are ethylene, 1,2- or 1 ,3-propylene carbonate, dimethyl, diethyl or dibutyl carbonate. Examples of suitable hydroxyl (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2- or 3-hydroxypropyl(meth)acrylate, 1,4-butanediol mono(meth)acrylate, neopentyl glycol mono (meth)acrylate, glyceryl mono- and di(meth)acrylate, trimethylolpropane mono- and di(meth)acrylate, and pentaerythritol mono-, di- and tri(meth)acrylate. Preferably, the carbonate(meth)acrylates are aliphatic carbonate(meth)acrylates. acreage payments.
Особенно предпочтительно, композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 5 - 45% по массе, предпочтительно 8 - 40% по массе, более предпочтительно 9 - 35% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера, выбранного из группы, состоящей из I) по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, очень предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2-3 ненасыщенные группы, и II) другого способного к сшиванию полимера и/или олигомера, выбранного из (мет)акрилированных олигомерных или полимерных соединений, уретан(мет)акрилатов, винил(мет)акрилатов, эпокси(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, поли(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, олефин(мет)акрилатов, (мет)акрилированных масел, и их смесей, предпочтительно уретан(мет)акрилатных олигомеров.Particularly preferably, the coating composition (C1a) contains a total amount of 5 - 45% by weight, preferably 8 - 40% by weight, more preferably 9 - 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a) , at least one crosslinkable polymer and/or oligomer selected from the group consisting of I) at least one silicone(meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone(meth)acrylate oligomer, very preferably exactly one silicone(meth)acrylate ) an acrylate oligomer containing on average 2-3 unsaturated groups, and ii) another cross-linkable polymer and/or oligomer selected from (meth)acrylated oligomeric or polymeric compounds, urethane (meth)acrylates, vinyl (meth)acrylates, epoxy (meth)acrylates, polyester(meth)acrylates, poly(meth)acrylates, polyether(meth)acrylates, olefin(meth)acrylates, (meth)acrylate oils, and mixtures thereof, preferably urethane(meth)acrylate oligomers.
Следовательно, композиция (С1а) для нанесения покрытия особенно предпочтительно содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90%по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, в частности, ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2-3 ненасыщенные группы, и менее 75% по массе, предпочтительно менее 50% по массе, более предпочтительно менее 10% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, другого способного к сшиванию полимера и/или олигомера, выбранного из (мет)акрилированных олигомерных или полимерных соединений, уретан(мет)акрилатов, винил(мет)акрилатов, эпокси(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, поли(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, олефин(мет)акрилатов, (мет)акрилированных масел, и их смесей, предпочтительно уретан(мет)акрилатных олигомеров.Therefore, the coating composition (C1a) particularly preferably contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, based on the total weight of everything capable of crosslinking the polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a) with at least one silicone (meth)acrylate oligomer, in particular exactly one silicone (meth)acrylate oligomer containing on average 2-3 unsaturated groups, and less than 75% by weight, preferably less than 50% by weight, more preferably less than 10% by weight, based on the total weight of the total crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), another crosslinkable polymer and/or an oligomer selected from (meth)acrylated oligomeric or polymeric compounds, urethane(meth)acrylates, vinyl(meth)acrylates, epoxy(meth)acrylates, polyester(meth)acrylates, poly(meth)acrylates, polyether( meth)acrylates, olefin(meth)acrylates, (meth)acrylated oils, and mixtures thereof, preferably urethane(meth)acrylate oligomers.
Композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 40 - 85% по массе или 95% по массе, предпочтительно 50 - 95% по массе или 85% по массе, или 83% по массе, более предпочтительно 55 - 83% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного реактивного разбавителя. Подходящие реактивные разбавители способны к полимеризации с полимерными и/или олигомерными соединениями с образованием шаблонной подложки, содержащей сополимеризованную эластомерную сеть отвержденного шаблонного покрытия (С1). Термин "реактивный разбавитель" относится к мономерам с низкой молекулярной массой, которые способны участвовать в реакции полимеризации с образованием полимерного материал. Среднемассовая молекулярная масса Mw таких мономерных соединений предпочтительно составляет менее 1 000 г/моль, и более предпочтительно менее 750 г/моль, как было определено посредством ГПХ.The coating composition (C1a) contains a total amount of 40 - 85% by weight or 95% by weight, preferably 50 - 95% by weight or 85% by weight or 83% by weight, more preferably 55 - 83% by weight weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one reactive diluent. Suitable reactive diluents are capable of polymerizing with polymeric and/or oligomeric compounds to form a template substrate containing a copolymerized elastomeric network of the cured template coating (C1). The term "reactive diluent" refers to low molecular weight monomers that are capable of participating in a polymerization reaction to form a polymeric material. The weight average molecular weight M w of such monomer compounds is preferably less than 1000 g/mol, and more preferably less than 750 g/mol, as determined by GPC.
Предпочтительно, реактивные разбавители представляют собой способные к свободно-радикальной полимеризации мономеры, и включают в себя, например, этиленненасыщенные мономеры, такие как (мет)акрилаты, стирол, винилацетат и их смеси. Предпочтительные мономеры включают в себя мономеры с (мет)акрилоильной функциональной группой, например, такие как алкил(мет)акрилаты, арилоксиалкил(мет)акрилаты, гидроксиалкил(мет)акрилаты, N-винильные соединения и их комбинации. Подходящие мономеры известны специалисту в данной области техники и, например, перечислены в WO 2012/006207 А1.Preferably, the reactive diluents are free radical polymerizable monomers, and include, for example, ethylenically unsaturated monomers such as (meth)acrylates, styrene, vinyl acetate and mixtures thereof. Preferred monomers include (meth)acryloyl-functional monomers, such as alkyl(meth)acrylates, aryloxyalkyl(meth)acrylates, hydroxyalkyl(meth)acrylates, N-vinyl compounds, and combinations thereof. Suitable monomers are known to one skilled in the art and are, for example, listed in WO 2012/006207 A1.
Особенно предпочтительные композиции (С1а)для нанесения покрытия содержат в качестве реактивного разбавителя по меньшей мере один многофункциональный этиленненасыщенный мономер, то есть соединение, которое имеет по меньшей мере две способные к полимеризации двойные связи в одной молекуле, в качестве реактивного разбавителя для повышения плотности поперечных связей. Типичные примеры таких полифункциональных мономеров перечислены, например, в WO 2012/006207 А1. Особенно предпочтительные реактивные разбавители выбирают из гександиолдиакрилата и/или соединений, содержащих по меньшей мере два, предпочтительно по меньшей мере три, а именно ровно три, структурных звена, которая могут отличаться друг от друга или быть по меньшей мере частично одинаковыми, общей формулы (I)Particularly preferred coating compositions (C1a) contain as a reactive diluent at least one multifunctional ethylenically unsaturated monomer, that is, a compound that has at least two polymerizable double bonds in one molecule, as a reactive diluent to increase the cross-link density . Typical examples of such multifunctional monomers are listed, for example, in WO 2012/006207 A1. Particularly preferred reactive diluents are selected from hexanediol diacrylate and/or compounds containing at least two, preferably at least three, namely exactly three, structural units, which may differ from each other or be at least partially the same, of the general formula (I )
в которойwherein
радикалы R1, независимо друг от друга, представляют собой С2-С8 алкиленовые группы, очень предпочтительно С2 алкиленовые группы,radicals R 1 , independently of each other, represent C 2 -C 8 alkylene groups, very preferably C 2 alkylene groups,
радикалы R2, независимо друг от друга, представляют собой Н или метил, иthe R 2 radicals are independently H or methyl, and
переменные m, независимо друг от друга, представляют собой целое число в диапазоне от 1 до 15, очень предпочтительно от 1 до 4 или 2 - 4, но при условии, что по меньшей мере в одном из структурных звеньев формулы (I) переменная m составляет по меньшей мере 2, предпочтительно ровно 2. Особенно предпочтительно, указанное соединение содержит 3 одинаковых структурных звена общей формулы (I), причем переменная m составляет 2.the variables m are, independently of each other, an integer in the range from 1 to 15, very preferably from 1 to 4 or 2 to 4, provided that in at least one of the structural units of formula (I) the variable m is at least 2, preferably exactly 2. Particularly preferably, said compound contains 3 identical structural units of the general formula (I), the variable m being 2.
Все структурные звенья общей формулы (I) присоединены посредством символа к главной цепи указанного реактивного разбавителя. Указанное связывание предпочтительно происходит посредством установления связи атома кислорода радикала -[O-R1]m- с атомом углерода главной цепи компонента. Таким образом, по меньшей мере два структурных звена общей формулы (I) присутствуют в одном компоненте, а именно, в реактивном разбавителе б). Подходящие главные цепи, например, выбирают из неопентилгликоля, глицерола, триметилолпропана, триметилолэтана или пентаэритритола.All structural units of the general formula (I) are attached by means of the symbol to the main circuit of said reactive diluent. Said coupling preferably occurs through the establishment of a bond between the oxygen atom of the radical -[OR 1 ] m - and the carbon atom of the main chain of the component. Thus, at least two structural units of the general formula (I) are present in one component, namely, in the reactive diluent b). Suitable backbones are, for example, selected from neopentyl glycol, glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol.
Указанное соединение предпочтительно содержит общее количество групп простого эфира общей формулы "-O-R1-" в диапазоне от 4 до 18, более предпочтительно в диапазоне от 5 до 15, очень предпочтительно в диапазоне от 6 до 12. Указанное соединение предпочтительно имеет среднечисленную молекулярную массу (Mn) в диапазоне от 300 до 2 000 г/моль, более предпочтительно от 400 до 1 000 г/моль.Said compound preferably contains a total number of ether groups of the general formula "-OR 1 -" in the range of 4 to 18, more preferably in the range of 5 to 15, very preferably in the range of 6 to 12. Said compound preferably has a number average molecular weight ( M n ) in the range from 300 to 2000 g/mol, more preferably from 400 to 1000 g/mol.
Указанное соединение предпочтительно имеет ровно три структурных звена формулы (I). В этом случае, указанное соединение имеет ровно три функциональные (мет)акриловые группы. В качестве альтернативы, каждое из структурных звеньев формулы (I), как часть указанного соединения, также может присутствовать более трех раз. В этом случае, например, указанное соединение может иметь более трех функциональных (мет)акриловых групп, например, 4, 5 или 6 (мет)акриловые группы.Said compound preferably has exactly three structural units of formula (I). In this case, the specified compound has exactly three functional (meth)acrylic groups. Alternatively, each of the structural units of formula (I), as part of the specified compound, may also be present more than three times. In this case, for example, said compound may have more than three functional (meth)acrylic groups, for example 4, 5 or 6 (meth)acrylic groups.
Каждый из упомянутых выше радикалов R1, независимо друг от друга, представляет собой С2-С8 алкиленовую группу, предпочтительно С2-С6 алкиленовую группу, более предпочтительно С2-С4 алкиленовую группу, очень предпочтительно, каждый независимо друг от друга, этиленовую группу и/или пропиленовую группу, особенно предпочтительно этиленовую группу. В частности, все радикалы R1 представляют собой этиленовую группу.Each of the above R 1 radicals, independently of each other, represents a C 2 -C 8 alkylene group, preferably a C 2 -C 6 alkylene group, more preferably a C 2 -C 4 alkylene group, very preferably, each independently of each other , an ethylene group and/or a propylene group, especially preferably an ethylene group. In particular, all radicals R 1 represent an ethylene group.
Подходящими в качестве пропиленовых групп в каждом случае являются радикалы R1, которые имеют структуру -СН2-СН2-СН2- или структуру -СН(СН3)-СН2-, или структуру -СН2-CH(СН3)-. Однако, особенно предпочтительной в каждом случае является пропиленовая структура -СН2-СН2-СН2-.Suitable propylene groups in each case are radicals R 1 which have the structure -CH 2 -CH 2 -CH 2 - or the structure -CH(CH 3 )-CH 2 -, or the structure -CH 2 -CH(CH 3 ) -. However, the propylene structure -CH 2 -CH 2 -CH 2 - is particularly preferred in each case.
Переменные m, в каждом случае независимо друг от друга, представляют собой целое число в диапазоне от 1 до 15. Поскольку указанное соединение имеет по меньшей мере две, предпочтительно по меньшей мере три, структурных звена формулы (I), и поскольку переменная m составляет по меньшей мере 2 по меньшей мере в одном из структурных звеньев формулы (I), указанное соединение включает в себя в общем по меньшей мере три, предпочтительно по меньшей мере четыре, групп простого эфира общей формулы "-O-R1-".The variables m, in each case independently of each other, are an integer in the range from 1 to 15. Since said compound has at least two, preferably at least three, structural units of formula (I), and since the variable m is at least 2 in at least one of the structural units of formula (I), said compound includes in general at least three, preferably at least four, ether groups of the general formula "-OR 1 -".
Предпочтительно, указанное соединение в общем имеет по меньшей мере пять, более предпочтительно по меньшей мере шесть, групп простого эфира общей формулы "-O-R1-". Количество групп простого эфира общей формулы "-О-R1-" в указанном соединении предпочтительно находится в диапазоне от 4 до 18, более предпочтительно в диапазоне от 5 до 15, очень предпочтительно в диапазоне от 6 до 12.Preferably, said compound generally has at least five, more preferably at least six, ether groups of the general formula "-OR 1 -". The number of ether groups of the general formula "-O-R 1 -" in said compound is preferably in the range of 4 to 18, more preferably in the range of 5 to 15, very preferably in the range of 6 to 12.
Доля сегментов -[O-R1 простого эфира, присутствующих в структурных звеньях формулы (I) указанного соединения составляет в общем по меньшей мере 35% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 38% по массе, очень предпочтительно по меньшей мере 40% по массе, более предпочтительно даже по меньшей мере 42% по массе, в частности, по меньшей мере 45% по массе, в каждом случае из расчета общей массы указанного соединения.The proportion of -[OR 1 ether segments present in the structural units of formula (I) of said compound is in general at least 35% by weight, more preferably at least 38% by weight, very preferably at least 40% by weight, more preferably even at least 42% by weight, in particular at least 45% by weight, in each case based on the total weight of said compound.
Указанное соединение предпочтительно имеет среднечисленную молекулярную массу (Mn) в диапазоне от 300 до 2 000 г/моль, более предпочтительно от 350 до 500 г/моль, в частности, от 400 до 1 000 г/моль, как было определено посредством ГПХ.Said compound preferably has a number average molecular weight ( Mn ) in the range from 300 to 2000 g/mol, more preferably from 350 to 500 g/mol, in particular from 400 to 1000 g/mol, as determined by GPC.
Особенно предпочтительный многофункциональный этиленненасыщенный мономер представляет собой по меньшей мере одно соединение общей формулы (IIa) и/или (IIb),A particularly preferred multifunctional ethylenically unsaturated monomer is at least one compound of general formula (IIa) and/or (IIb),
в которой, в каждом случае независимо друг от друга,in which, in each case independently of each other,
R1 и R2 а также m имеют определения, приведенные выше в связи со структурными звеньями (I), включая предпочтительные варианты осуществления, указанные выше, иR 1 and R 2 as well as m have the definitions given above in connection with the structural units (I), including the preferred embodiments indicated above, and
R3 представляет собой Н, C1-C8 алкил, ОН или O-C1-8 алкил, более предпочтительно представляет собой С1-С4 алкил, ОН или О-С1-4 алкил, и очень предпочтительно представляет собой С1-С4 алкил или ОН, илиR 3 is H, C 1 -C 8 alkyl, OH or OC 1-8 alkyl, more preferably is C 1 -C 4 alkyl, OH or O-C 1-4 alkyl, and very preferably is C 1 - C 4 alkyl or OH, or
R3 представляет собой радикал -[O-R1]m-O-C(=O)-C(R2)=СН2, где R1, R2 и m имеют определения, указанные выше в связи со структурным звеном (I), включая их предпочтительные варианты осуществления, указанные выше.R 3 represents the radical -[OR 1 ] m -OC(=O)-C(R 2 )=CH 2 , where R 1 , R 2 and m have the definitions given above in connection with the structural unit (I), including their preferred embodiments listed above.
Особое предпочтение отдают применению в качестве реактивного разбавителя многофункционального этиленненасыщенного мономера по меньшей мере одного соединения общей формулы (IIa), в которойParticular preference is given to the use as a reactive diluent of a multifunctional ethylenically unsaturated monomer of at least one compound of general formula (IIa), in which
каждый из радикалов R1 независимо друг от друга представляет собой С2-С8 алкиленовую группу,each of the radicals R 1 independently of each other represents a C 2 -C 8 alkylene group,
каждый из радикалов R2 независимо друг от друга представляет собой Н или метил,each of the radicals R 2 independently of each other represents H or methyl,
переменные m, в каждом случае независимо друг от друга, представляют собой переменную в виде целого числа в диапазоне от 1 до 15, предпочтительно в диапазоне от 1 до 10, более предпочтительно в диапазоне от 1 до 8 или 2 - 8, очень предпочтительно в диапазоне от 1 до 6 или 2 - 6, в частности, в диапазоне от 1 до 4 или 2 - 4, но при условии, что по меньшей мере в одном, и предпочтительно во всех структурных звеньях формулы (I), переменная m составляет по меньшей мере 2.the variables m, in each case independently of each other, are an integer variable in the range from 1 to 15, preferably in the range from 1 to 10, more preferably in the range from 1 to 8 or 2 to 8, very preferably in the range from 1 to 6 or 2 to 6, in particular in the range from 1 to 4 or 2 to 4, but with the proviso that in at least one, and preferably in all structural units of formula (I), the variable m is at least at least 2.
R3 представляет собой C1-C8 алкил, ОН или O-C1-8 алкил, более предпочтительно С1-С4 алкил, ОН или О-С1-4 алкил, очень предпочтительно С1-С4 алкил или ОН.R 3 is C 1 -C 8 alkyl, OH or OC 1-8 alkyl, more preferably C 1 -C 4 alkyl, OH or O-C 1-4 alkyl, very preferably C 1 -C 4 alkyl or OH.
Особенно предпочтительные соединения, содержащие по меньшей мере два структурных звена общей формулы (I), представляют собой (мет)акрилаты неопентилгликоля, триметилолпропана, триметилолэтана или пентаэритритола, в общем, с 4-кратным - 20-кратным или 4-кратным - 12-кратным алкоксилированием, такие как этоксилированный, пропоксилированный или этоксилированный и пропоксилированный, и в частности, исключительно этоксилированный, неопентилгликоль, триметилолпропан, триметилолэтан или пентаэритритол. Наиболее предпочтительными являются соответствующие (мет)акрилаты, полученные из алкоксилированного триметилолпропан. Продукты указанных типов доступны на рынке и, например, продаются под названиями Sartomer® SR 499 и Sartomer® SR 502, а также Sartomer® SR 415 и Sartomer® SR 9035и Sartomer® SR 501.Particularly preferred compounds containing at least two structural units of general formula (I) are (meth)acrylates of neopentylglycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol, in general with a 4-fold - 20-fold or 4-fold - 12-fold alkoxylated, such as ethoxylated, propoxylated or ethoxylated and propoxylated, and in particular exclusively ethoxylated, neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol. Most preferred are the corresponding (meth)acrylates derived from alkoxylated trimethylolpropane. Products of these types are available on the market and are, for example, sold under the names Sartomer® SR 499 and Sartomer® SR 502, as well as Sartomer® SR 415 and Sartomer® SR 9035 and Sartomer® SR 501.
Композиция (C1a) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 40 - 95% по массе, предпочтительно 50 - 85% по массе, более предпочтительно 55 - 83% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного реактивного разбавителя, предпочтительно гександиолдиакрилата и/или (мет)акрилатов, полученных из 6-кратного этоксилированного триметилолпропана.The coating composition (C1a) contains a total amount of 40 - 95% by weight, preferably 50 - 85% by weight, more preferably 55 - 83% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a) of at least at least one reactive diluent, preferably hexanediol diacrylate and/or (meth)acrylates derived from 6-fold ethoxylated trimethylolpropane.
Композиция(С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 0,01 - 15% по массе, предпочтительно 0.5 - 10% по массе, более предпочтительно 1 - 8% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного фотоинициатора, предназначенного для отверждения с помощью от видимого до (Б)ИК- и/или УФ-излучения. Указанный фотоинициатор может быть расщеплен, посредством излучаемой длины волны, на радикалы, которые, в свою очередь, способны вызывать радикальную полимеризацию. И наоборот, в случае отверждения с помощью излучения электронов, нет необходимости в присутствии таких фотоинициаторов. Композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно включает в себя по меньшей мере один фотоинициатор, который может быть расщеплен, посредством излучаемой длины волны, на радикалы, которые, в свою очередь, способны вызывать радикальную полимеризацию.The coating composition (C1a) contains a total amount of 0.01 - 15% by weight, preferably 0.5 - 10% by weight, more preferably 1 - 8% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), at least one photoinitiator designed for curing using visible to (B)IR and/or UV radiation. Said photoinitiator can be cleaved, by means of the emitted wavelength, into radicals, which in turn are capable of causing radical polymerization. Conversely, in the case of curing using electron radiation, there is no need for the presence of such photoinitiators. The coating composition (C1a) preferably includes at least one photoinitiator, which can be cleaved, by means of the emitted wavelength, into radicals, which in turn are capable of causing radical polymerization.
Фотоинициаторы, такие как УФ-фотоинициаторы известны специалисту в данной области техники. Примеры таких фотоинициаторов включают фосфиноксиды, такие как (алкил)-бензоилфенилфосфиноксиды, бензофеноны, α-гидроксиалкиларилкетоны, тиоксантоны, антрахиноны, ацетофеноны, бензоины и простые эфиры бензоина, кетали, имидазолы или фенилглиоксиловые кислоты и их смеси.Photoinitiators such as UV photoinitiators are known to one skilled in the art. Examples of such photoinitiators include phosphine oxides such as (alkyl)-benzoylphenylphosphine oxides, benzophenones, α-hydroxyalkylaryl ketones, thioxanthones, anthraquinones, acetophenones, benzoin and benzoin ethers, ketals, imidazoles or phenylglyoxylic acids and mixtures thereof.
Фосфиноксиды, например, представляют собой моноацил- или бисацилфосфиноксиды, например, такие как дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид, этил(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфинат, фенил (2,4,6-триметилбензоил)фосфин или бис(2,6-диметоксибензоил)(2,4,4-триметилпентил)фосфиноксид. Бензофеноны, например, представляют собой бензофенон, 4-аминобензофенон, 4,4'-бис(диметиламино)бензофенон, 4-фенилбензофенон, 4-хлорбензофенон, кетоны Михлера, о-метоксибензофенон, 2,4,6-триметилбензофенон, 4-метилбензофенон, 2,4-диметилбензофенон, 4-изопропилбензофенон, 2-хлорбензофенон, 2,2'-дихлорбензофенон, 4-метоксибензофенон, 4-пропоксибензофенон или 4-бутоксибензофенон; α-гидроксиалкиларилкетоны, например, представляют собой 1-бензоилциклогексан-1-ол (1-гидроксициклогексилфенилкетон), 2-гидрокси-2,2-диметилацетофенон (2-гидрокси-2-метил-1-фенилпропан-1-он), 1-гидроксиацетофенон, 1-[4-(2-гидроксиэтокси)фенил]-2-гидрокси-2-метил-1-пропан- 1-он или полимер, содержащий в сополимеризованном виде 2-гидрокси-2-метил-1-(4-изопропен-2-илфенил)пропан-1-он. Ксантоны и тиоксантоны, например, представляют собой 10-тиоксантанон, тиоксантан-9-он, ксантан-9-он, 2,4-диметилтиоксантон, 2,4-диэтилтиоксантон, 2,4-диизопропилтиоксантон, 2,4-дихлортиоксантон или хлорксантанон; антрахиноны, например, представляют собой β-метилантрахинон, трет-бутилантрахинон, сложные антрахинонкарбоновые эфиры, бенз[де]антрацен-7-он, бенз[а]антрацен-7,12-дион, 2-метилантрахинон, 2-этилантрахинон, 2-трет-бутилантрахинон, 1-хлорантрахинон или 2-амил-антрахинон. Ацетофеноны, например, представляют собой ацетофенон, ацетонафтохинон, валерофенон, гексанофенон, α-фенилбутирофенон, n-морфолинопропиофенон, дибензосуберон, 4-морфолинобензофенон, n-диацетилбензол, 4'-метоксиацетофенон, α-тетралон, 9-ацетилфенантрен, 2-ацетилфенантрен, 3-ацетилфенантрен, 3-ацетилиндол, 9-флуоренон, 1-инданон, 1,3,4-триацетилбензол, 1-ацетонафтон, 2-ацетонафтон, 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон, 2,2-диэтокси-2-фенилацетофенон, 1,1-дихлорацетофенон, 1-гидроксиацетофенон, 2,2-диэтоксиацетофенон, 2-метил-1-[4-(метилтио)фенил]-2-морфолинопропан-1-он, 2,2-диметокси-1,2-дифенилэтан-2-он или 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)-бутан-1-он. Бензоины и простые эфиры бензоина, например, представляют собой 4-морфолинодеоксибензоин, бензоин, простой бензоинизобутиловый эфир, простой бензоинтетрагидропираниловый эфир, простой бензоинметиловый эфир, простой бензоинэтиловый эфир, простой бензоинбутиловый эфир, простой бензоинизопропиловый эфир или простой 7Н-бензоинметиловый эфир. Кетали, например, представляют собой ацетофенондиметилкеталь, 2,2-диэтоксиацетофенон, или бензилкетали, такие как бензилдиметилкеталь. Обычные смеси содержат, например, 2-гидрокси-2-метил-1-фенилпропан-2-он и 1-гидроксициклогексилфенилкетон, бис(2,6-диметоксибензоил)(2,4,4-триметилпентил)фосфиноксид и 2-гидрокси-2-метил-1-фенилпропан-1-он, бензофенон и 1-гидроксициклогексилфенилкетон, бис(2,6-диметоксибензоил)(2,4,4-триметилпентил)фосфиноксид и 1-гидроксициклогексил фенилкетон, дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид и 2-гидрокси-2-метил-1-фенилпропан-1-он, 2,4,6-триметилбензофенон и 4-метилбензофенон или 2,4,6-триметилбензофенон и 4-метилбензофенон и дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид.Phosphine oxides are, for example, monoacyl or bisacylphosphine oxides, such as diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, phenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine or bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide. Benzophenones, for example, are benzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4-chlorobenzophenone, Michler's ketones, o-methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2,4-dimethylbenzophenone, 4-isopropylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 2,2'-dichlorobenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 4-propoxybenzophenone or 4-butoxybenzophenone; α-hydroxyalkylaryl ketones, for example, are 1-benzoylcyclohexan-1-ol (1-hydroxycyclohexylphenylketone), 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one), 1- hydroxyacetophenone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one or a polymer containing copolymerized 2-hydroxy-2-methyl-1-(4- isopropen-2-ylphenyl)propan-1-one. Xanthones and thioxanthones are, for example, 10-thioxanthanone, thioxantan-9-one, xanthan-9-one, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone or chloroxanthanone; Anthraquinones, for example, are β-methylanthraquinone, tert-butylanthraquinone, anthraquinone carbon esters, benz[de]anthracen-7-one, benzo[a]anthracene-7,12-dione, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2- tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone or 2-amyl-anthraquinone. Acetophenones, for example, are acetophenone, acetonephthoquinone, valerophenone, hexanophenone, α-phenylbutyrophenone, p-morpholinopropiophenone, dibenzosuberone, 4-morpholinobenzophenone, p-diacetylbenzene, 4'-methoxyacetophenone, α-tetralone, 9-acetylphenanthrene, 2-acetylphenanthrene , 3 -acetylphenanthrene, 3-acetylindole, 9-fluorenone, 1-indanone, 1,3,4-triacetylbenzene, 1-acetonaphthone, 2-acetonaphthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone , 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2- diphenylethan-2-one or 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one. Benzoins and benzoin ethers, for example, are 4-morpholinodeoxybenzoin, benzoin, benzoinisobutyl ether, benzoinetetrahydropyranyl ether, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin butyl ether, benzoin isopropyl ether or 7H-benzoin methyl ether. Ketals, for example, are acetophenone dimethyl ketal, 2,2-diethoxyacetophenone, or benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal. Common mixtures contain, for example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-2-one and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide and 2-hydroxy-2 -methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone and 1-hydroxycyclohexylphenylketone, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)(2,4,4-trimethylpentyl)phosphineoxide and 1-hydroxycyclohexylphenylketone, diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl) )phosphine oxide and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzophenone and 4-methylbenzophenone or 2,4,6-trimethylbenzophenone and 4-methylbenzophenone and diphenyl(2,4,6 -trimethylbenzoyl)phosphine oxide.
Особенно предпочтительными фотоинициаторами являются дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид, этил (2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфинат, фенилбис(2,4,6-триметилбензоил)фосфин оксид, бис(2,6-диметоксибензоил)(2,4,4-триметилпентил)фосфиноксид, 1-гидроксициклогексил фенилкетон, бензофенон, 1-бензоилциклогексан-1-ол, 2-гидрокси-2,2-диметилацетофенон и 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон и их смеси. Доступными на рынке фотоинициаторами, например, являются продукты Irgacure® 184, Irgacure® 500, Irgacure® ТРО, Irgacure® TPO-L и Lucirin®, а также Darocure® 1173 от компании IGM Resins B.V..Particularly preferred photoinitiators are diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)( 2,4,4-trimethylpentyl)phosphine oxide, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, benzophenone, 1-benzoylcyclohexan-1-ol, 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and mixtures thereof. Commercially available photoinitiators include, for example, Irgacure® 184, Irgacure® 500, Irgacure® TPO, Irgacure® TPO-L and Lucirin®, as well as Darocure® 1173 from IGM Resins B.V.
Композиция (C1a) для нанесения покрытия может необязательно дополнительно содержать по меньшей мере одну добавку. Понятие добавки известно специалисту в данной области техники, например, из публикации Römpp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998 г., страница 13. Предпочтительная добавка, который применяют, представляет собой по меньшей мере одну реологическую добавку. Указанный термин также известен специалисту в данной области техники, например, из Römpp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998 г., страница 497. Термины "реологическая добавка", "добавка, улучшающая реологические свойства" и "вспомогательное вещество, улучшающее реологические свойства" являются в данном случае взаимозаменяемыми. Необязательную добавку предпочтительно выбирают из группы, состоящей из регулирующих расход добавок, поверхностно-активных веществ, такие как сурфактанты, смачивающих веществ и диспергирующих веществ, а также загустителей, тиксотропных веществ, пластифицирующих добавок, смазывающих и противодействующих слипанию добавок, и их смесей. Указанные термины также известны специалисту в данной области техники, например, из Römpp Lexikon, "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998 г.. Регулирующие расход добавки представляют собой компоненты, которые посредством снижения вязкости и/или поверхностного натяжения способствуют образованию пленки из материалов покрытия, которые равномерно растекаются. Смачивающие вещества и диспергирующие вещества представляют собой компоненты, которые уменьшают поверхностное натяжение или, как правило, межфазное натяжение. Смазывающие и противодействующие слипанию добавки представляют собой компоненты, которые уменьшают взаимное прилипание (слипание).The coating composition (C1a) may optionally further contain at least one additive. The concept of an additive is known to one skilled in the art, for example from the Römpp Lexikon publication "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 13. The preferred additive that is used is at least one rheological additive. This term is also known to the person skilled in the art, for example from Römpp Lexikon "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998, page 497. The terms "rheological additive", "rheological improver" and "additive improver". rheological properties" are interchangeable in this case. The optional additive is preferably selected from the group consisting of flow control additives, surfactants such as surfactants, wetting agents and dispersants, as well as thickeners, thixotropes, plasticizers, lubricants and anti-blocking agents, and mixtures thereof. These terms are also known to one skilled in the art, for example from Römpp Lexikon, "Lacke und Druckfarben", Thieme Verlag, 1998. Flow control additives are components that, by reducing viscosity and/or surface tension, promote the formation of a film of materials coatings that spread evenly. Wetting agents and dispersants are components that reduce surface tension, or generally interfacial tension. Lubricants and anti-block additives are components that reduce mutual adhesion (clumping).
Примеры доступных на рынке добавок представляют собой продукты Efka® SL 3259, Byk® 377, Tego® Rad 2500, Tego® Rad 2800, Byk® 394, Byk-SILCLEAN 3710, Silixan® A250, Novec FC 4430 и Novec FC 4432. Подходящие общие количества по меньшей мере одной добавки, например, составляют 0,01 -5% по массе, 0.2 или 0,5 - 3% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.Examples of additives available on the market are the products Efka® SL 3259, Byk® 377, Tego® Rad 2500, Tego® Rad 2800, Byk® 394, Byk-SILCLEAN 3710, Silixan® A250, Novec FC 4430 and Novec FC 4432. Suitable general the amounts of at least one additive are, for example, 0.01 - 5% by weight, 0.2 or 0.5 - 3% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a).
В контексте этого изобретения, добавка, такая как поверхностное вещество, может содержать силикон(мет)акрилаты. Такую добавку, содержащую силикон(мет)акрилаты, нельзя сравнивать со способными к сшиванию силикон(мет)акрилатными олигомерами, которые применяют в качестве способного к сшиванию полимера и/или олигомера, как минимум, вследствие небольшого общего количества добавки, содержащейся в композиции для нанесения покрытия, а также из-за разного количества химических функциональных групп или реакционной способности силикон(мет)акрилатной добавки, имеющей совершенно отличающийся технический эффект на композицию для нанесения покрытия. Например, добавка, содержащая силикон(мет)акрилат, воздействует только на поверхностную энергию композиции для нанесения покрытия, и только в незначительной степени воздействует на главную цепь (со-)полимеризованной сети, образованной способным к сшиванию полимером и/или олигомером или реактивным разбавителем. В отличие от добавки, содержащей силикон(мет)акрилат, силикон(мет)акрилатный олигомер, который применяли в качестве способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержит незавершенные ненасыщенные группы, способные образовывать свободные радикалы для реакций сшивания, и образует с реактивными разбавителями сополимеризованную эластомерную сеть отвержденного шаблонного покрытия (С1).In the context of this invention, the additive, such as a surfactant, may contain silicone (meth)acrylates. Such additive containing silicone (meth)acrylates cannot be compared with crosslinkable silicone (meth)acrylate oligomers, which are used as crosslinkable polymer and/or oligomer, at least due to the small total amount of additive contained in the application composition coating, as well as due to the different number of chemical functional groups or reactivity of the silicone (meth)acrylate additive, which has a completely different technical effect on the coating composition. For example, an additive containing silicone (meth)acrylate affects only the surface energy of the coating composition, and only to a minor extent affects the backbone of the (co-)polymerized network formed by the crosslinkable polymer and/or oligomer or reactive diluent. Unlike the silicone(meth)acrylate-containing additive, the silicone(meth)acrylate oligomer used as a crosslinkable polymer and/or oligomer contains unsaturated unsaturated groups capable of generating free radicals for crosslinking reactions and forms with reactive diluents copolymerized elastomeric network of the cured template coating (C1).
Особенно предпочтительно, каждый из компонентов (а), (б), (в), и (г), содержащихся в композиции (С1а) для нанесения покрытия, отличаются друг от друга и, следовательно, не являются одинаковыми.Particularly preferably, each of components (a), (b), (c), and (d) contained in the coating composition (C1a) is different from each other and therefore not the same.
Таким образом, особенно предпочтительные шаблонные покрытия (С1а) содержат из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия следующие компоненты:Thus, particularly preferred template coatings (C1a) contain, based on the total weight of the coating composition (C1a), the following components:
- 9 - 35% по массе ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2 ненасыщенные групп,- 9 - 35% by weight of exactly one silicone (meth)acrylate oligomer containing on average 2 unsaturated groups,
- 55 - 83% по массе гександиолдиакрилата и/или (мет)акрилатов, полученные из 6-кратного этоксилированного триметилолпропана (то есть соединения, содержащего три структурных звена общей формулы (I)),- 55 - 83% by weight hexanediol diacrylate and/or (meth)acrylates obtained from 6-fold ethoxylated trimethylolpropane (i.e. a compound containing three structural units of general formula (I)),
- 1 - 10% по массе этил(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфината и/или 1-бензоилциклогексан-1-ола и- 1 - 10% by weight ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate and/or 1-benzoylcyclohexan-1-ol and
- 0 или 0,5 - 3% по массе смазывающей и противодействующей слипанию добавки.- 0 or 0.5 - 3% by weight of lubricating and anti-caking additive.
Превращение двойных связей по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), полученного из (С1а), предпочтительно составляет по меньшей мере 70%, более предпочтительно по меньшей мере 75%, более предпочтительно даже по меньшей мере 80%, очень предпочтительно по меньшей мере 85%, в частности, по меньшей мере 90%.The double bond conversion of the at least partially cured coating (C1) derived from (C1a) is preferably at least 70%, more preferably at least 75%, more preferably even at least 80%, very preferably at least 85 %, in particular at least 90%.
Композиция (С1а) для нанесения покрытия может содержать по меньшей мере один дополнительный компонент (д), отличающийся от компонентов (а) - (г), например,такие как, наполнители, пигменты, термически активируемые инициаторы, например, такие как, пероксодисульфат калия, дибензоилпероксид, циклогексанонпероксид, ди-трет-бутилпероксид, азобисизобутиронитрил, циклогексилсульфонилацетилпероксид, диизопропилперкарбонат, трет-бутил пероктоат или бензопинакол, гидропероксид кумола, дикумилпероксид, трет-бутилпербензоат, силилированные пинаколы, алкоксиамины, а также органические растворители, а также стабилизаторы. Однако, предпочтительно, в композиции (С1а) для нанесения покрытия органические растворители не применяются. Композиция (С1а) для нанесения покрытия может содержать по меньшей мере один компонент (д) в общем количестве, составляющем 0 - 10% по массе, предпочтительно 0 - 5% по массе, более предпочтительно 0 - 1% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.The coating composition (C1a) may contain at least one additional component (e) different from components (a) - (d), for example, such as fillers, pigments, thermally activated initiators, for example, such as potassium peroxodisulfate , dibenzoyl peroxide, cyclohexanone peroxide, di-tert-butyl peroxide, azobisisobutyronitrile, cyclohexylsulfonylacetyl peroxide, diisopropyl percarbonate, tert-butyl peroctoate or benzopinacol, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, tert-butyl perbenzoate, silylated pinacols, alkoxyamines, and organic solvents, as well as stabilizer s. However, preferably, organic solvents are not used in the coating composition (C1a). The coating composition (C1a) may contain at least one component (e) in a total amount of 0 - 10% by weight, preferably 0 - 5% by weight, more preferably 0 - 1% by weight, based on the total weight composition (C1a) for coating.
Композиция (С1а) для нанесения покрытия может быть на основе растворителя или она может быть твердой композицией для нанесения покрытия. Для того, чтобы облегчить быстрое отверждение и предотвратить образование большого количества испаряющихся растворителей при отверждении, композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно является твердой композицией для нанесения покрытия. Таким образом, композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно содержит общее количество, составляющее менее 10% по массе, предпочтительно менее 5% по массе, более предпочтительно менее 1% по массе, очень предпочтительно 0% по массе растворителей, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, или не содержит их. Таким образом, композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно имеет содержание твердых веществ, составляющее 75 - 100% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, как было определено в соответствии со стандартом DIN EN ISO 3251:2008-06 при температуре 125°С на протяжении 60 мин. Более того, она предпочтительно содержит общее количество соединений (а), (б), (в) и необязательно (г), составляющее 90 - 100% по массе, предпочтительно 95 - 100% по массе, более предпочтительно 99 - 100% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия. Наиболее предпочтительно, композиция (С1а) для нанесения покрытия состоит из соединений (а), (б), (в), и необязательной (г).The coating composition (C1a) may be solvent-based or it may be a solid coating composition. In order to facilitate rapid curing and prevent the generation of a large amount of evaporating solvents during curing, the coating composition (C1a) is preferably a solid coating composition. Thus, the coating composition (C1a) preferably contains a total amount of less than 10% by weight, preferably less than 5% by weight, more preferably less than 1% by weight, very preferably 0% by weight of solvents, based on the total weight of the composition (C1a) for coating, or does not contain them. Thus, the coating composition (C1a) preferably has a solids content of 75 to 100% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), as determined in accordance with DIN EN ISO 3251:2008- 06 at a temperature of 125°C for 60 minutes. Moreover, it preferably contains a total amount of compounds (a), (b), (c) and optionally (d) of 90 - 100% by weight, preferably 95 - 100% by weight, more preferably 99 - 100% by weight , based on the total mass of the composition (C1a) for coating. Most preferably, the coating composition (C1a) consists of compounds (a), (b), (c), and optionally (d).
Композиция (С1а) для нанесения покрытия предпочтительно не содержит тиолов, в частности, не содержит триметилолпропантрис(3-меркаптопропионата).The coating composition (C1a) preferably does not contain thiols, in particular does not contain trimethylolpropantris(3-mercaptopropionate).
Композиция (С2а) для нанесения покрытияComposition (C2a) for coating
В качестве композиции (С2а) для нанесения покрытия на стадии (2-I) или (2-II) способа в соответствии с изобретением может применяться любой тип композиции для нанесения покрытия. Композиция (С2а) для нанесения покрытия может представлять собой физически высыхающую, термически отверждаемую, химически отверждаемую и/или отверждаемую под действием излучения композицию (С2а) для нанесения покрытия. Предпочтительно, композиция (С2а) для нанесения покрытия представляет собой химически отверждаемую, термически отверждаемую и/или отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, более предпочтительно отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия. Соответственно, по меньшей мере частичное отверждение в соответствии со стадией (4) предпочтительно происходит с помощью отверждения в результате излучения. Композиция (С2а) для нанесения покрытия может быть идентичной композиции (С1а) для нанесения покрытия. Однако, предпочтительно, композиция (С2а) отличается от композиции (С1а). Композиция (С2а) предпочтительно состоит из подобных, но не одинаковых, компонентов (а) - (д), которые также применяют при получении композиции (С1а), хотя оговорки относительно количеств, относящихся к композиции (С1а), не должны применяться к композиции (С2а).Any type of coating composition can be used as the coating composition (C2a) in step (2-I) or (2-II) of the method according to the invention. The coating composition (C2a) may be a physically drying, thermally curable, chemically curable and/or radiation-curable coating composition (C2a). Preferably, the coating composition (C2a) is a chemically curable, thermally curable and/or radiation-curable coating composition, more preferably a radiation-curable coating composition. Accordingly, at least partial curing according to step (4) preferably occurs by radiation curing. The coating composition (C2a) may be identical to the coating composition (C1a). However, preferably, the composition (C2a) is different from the composition (C1a). Composition (C2a) preferably consists of similar, but not identical, components (a) to (e) which are also used in the preparation of composition (C1a), although the quantities specific to composition (C1a) should not apply to composition (C1a). C2a).
Физическое высыхание в данном случае предпочтительно относится к обычному испарению растворителя(-ей) с образованием покрытия (С2). Термическое отверждение в данном случае предпочтительно вызывает механизм отверждения, который связан с температурой, выше комнатной температуры (>23°С). Это может быть, например, образование радикалов или ионов, предпочтительно радикалов из инициатора, который разрушается при повышенных температурах и, таким образом, вызывает радикальную или ионную полимеризацию. Примерами таких термически активируемых инициаторов являются те инициаторы, которые имеют период полураспада при температуре 80°С, составляющий менее 100 часов. Химическое отверждение предпочтительно относится к реакции по меньшей мере двух разных и взаимодополняющих реакционноспособных функциональных групп, например, по типу поликонденсации, такой как реакция группы -ОН с группой СООН, или полиприсоединения (реакция группы NCO с группой ОН или аминогруппой).Physical drying in this case preferably refers to the normal evaporation of the solvent(s) to form a coating (C2). Thermal curing in this case preferably causes a curing mechanism that is associated with a temperature above room temperature (>23°C). This may be, for example, the formation of radicals or ions, preferably radicals from an initiator, which is destroyed at elevated temperatures and thus causes radical or ionic polymerization. Examples of such thermally activated initiators are those that have a half-life at 80° C. of less than 100 hours. Chemical curing preferably refers to the reaction of at least two different and complementary reactive functional groups, for example, by polycondensation, such as the reaction of an -OH group with a COOH group, or polyaddition (the reaction of an NCO group with an OH group or an amino group).
Если композиция (С2а) для нанесения покрытия является физически высыхающей, термически отверждаемой и/или химически отверждаемой композицией для нанесения покрытия, то ее получают, применяя в качестве связующего вещества по меньшей мере один обычный полимер, известный специалисту в данной области техники. В случае термически или химически отверждаемых композиций для нанесения покрытия, указанное связующее вещество предпочтительно имеет способные к сшиванию функциональные группы. В этом контексте, подходящей является любая обычная способная к сшиванию функциональная группа, известная специалисту в данной области техники. В частности, способные к сшиванию функциональные группы выбирают из группы, состоящей из гидроксильных групп, аминогрупп, групп карбоновых кислот, тиоловых групп, изоцианатов, полиизоцианатов и эпоксидов. Полимеры предпочтительно могут отверждаться или сшиваться экзотермически или эндотермически, предпочтительно в диапазоне температур от -20°С до 250°С, или от 18°С до 200°С. Особенно подходящим в качестве полимера является по меньшей мере один полимер, выбранный из группы, состоящей из полиуретанов, простых полиэфиров, сложных полиэфиров, полиамидов, полимочевин, поливинилхлоридов, полистиролов, поликарбонатов, поли(мет)акрилатов, эпоксидных смол, фенол-формальдегидных смол, меламин-формальдегидных смол. Указанные полимеры могут, в частности, иметь ОН-функциональную группу. В этом случае, они может быть объединены под общим термином "полиолы". Такие полиолы могут, например, быть поли(мет)акрилатными полиолами, сложными полиэфирными полиолами, простыми полиэфирными полиолами, полиуретановыми полиолами, полимочевинными полиолами, сложными полиэфирами полиакрилатных полиолов, сложными полиэфирами полиуретановых полиолов, полиуретано-полиакрилатными полиолами, модифицированными полиуретаном алкидными смолами, модифицированными жирной кислотой сложными полиэфирами полиуретановых полиолов, а также смесями указанных полиолов. Предпочтительными являются поли(мет)акрилатные полиолы, сложные полиэфирные полиолы и простые полиэфирные полиолы.If the coating composition (C2a) is a physically drying, thermally curing and/or chemically curing coating composition, it is prepared by using at least one conventional polymer known to the person skilled in the art as a binder. In the case of thermally or chemically curable coating compositions, said binder preferably has cross-linkable functional groups. In this context, any conventional cross-linkable functional group known to one skilled in the art is suitable. In particular, the cross-linkable functional groups are selected from the group consisting of hydroxyl groups, amino groups, carboxylic acid groups, thiol groups, isocyanates, polyisocyanates and epoxides. The polymers can preferably be cured or crosslinked exothermically or endothermically, preferably in the temperature range from -20°C to 250°C, or from 18°C to 200°C. Particularly suitable as a polymer is at least one polymer selected from the group consisting of polyurethanes, polyethers, polyesters, polyamides, polyureas, polyvinyl chlorides, polystyrenes, polycarbonates, poly(meth)acrylates, epoxy resins, phenol-formaldehyde resins, melamine-formaldehyde resins. Said polymers may in particular have an OH function. In this case, they may be grouped under the general term "polyols". Such polyols may, for example, be poly(meth)acrylate polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyurethane polyols, polyurea polyols, polyester polyacrylate polyols, polyester polyurethane polyols, polyurethane-polyacrylate polyols, polyurethane-modified alkyd resins, fatty acid-modified acid polyesters of polyurethane polyols, as well as mixtures of these polyols. Preferred are poly(meth)acrylate polyols, polyester polyols and polyether polyols.
В данном случае возможно применять по меньшей мере один полимер, который отверждается с участием изоцианатных и/или олигомеризованных изоцианатных групп, очень предпочтительно, по меньшей мере одного соответствующего полиуретана и/или по меньшей мере одной соответствующей полимочевины (например, так называемых "алифатических связующих веществ"). Алифатические связующие вещества представляют собой компоненты, которые получают в результате реакция соединений с функциональными аминогруппами, в частности, вторичных аминов, с изоцианатами. Если применяют по меньшей мере один полиуретан, то особенно подходящими являются смолы на основе полиуретана, которые можно получить посредством реакции полиприсоединения между компонентами, содержащими гидроксил, такими как полиолы, и по меньшей мере одним полиизоцианатом (ароматические и алифатические изоцианаты, ди-, три- и/или полиизоцианаты). Как правило, в данном случае требуется стехиометрическая реакция групп ОН в полиолах с группами NCO в полиизоцианатах. Однако, применяемое стехиометрическое соотношение также можно варьировать, так как полиизоцианат может добавляться к полиольному компоненту в таком количестве, что может иметь место "избыточное сшивание" или "недостаточное сшивание". Если применяются эпоксидные смолы, то есть смолы на основе эпоксидов, то подходящими предпочтительно являются смолы на основе эпоксидов, которые получают из простых глицидиловых эфиров, имеющих концевые эпоксидные группы и, внутри молекуле, гидроксильные группы в качестве функциональных групп.Это предпочтительно продукты реакции бисфенола А и эпихлоргидрина и/или бисфенола F с эпихлоргидрином, а также их смеси, которые также применяются в присутствии реактивных разбавителей. Отверждение или сшивание таких смол на основе эпоксидов, как правило, сопровождается полимеризацией эпоксидных групп эпоксидного кольца, посредством реакции полиприсоединения в виде реакции присоединения других реакционноспособных соединений, таких как отвердители, в стехиометрическом количестве, с эпоксидными группами, причем в указанном случае, соответственно, необходимо присутствие одного активного водородного эквивалента на эпоксидную группу (то есть, для отверждения необходим один Н-активный эквивалент на эпоксидный эквивалент), или поликонденсацией через посредство эпоксидных групп и гидроксильных групп. Примерами подходящих отвердителей являются полиамины, в частности, (гетеро)алифатические, (гетеро)ароматические и (гетеро)циклоалифатические полиамины, полиамидоамины, полиаминоамиды, а также многоосновные карбоновые кислоты и их ангидриды.In this case, it is possible to use at least one polymer which is cured with the participation of isocyanate and/or oligomerized isocyanate groups, very preferably at least one corresponding polyurethane and/or at least one corresponding polyurea (for example, so-called "aliphatic binders" "). Aliphatic binders are components that are obtained by reacting amine-functional compounds, particularly secondary amines, with isocyanates. If at least one polyurethane is used, then particularly suitable are polyurethane-based resins, which can be obtained through a polyaddition reaction between hydroxyl-containing components, such as polyols, and at least one polyisocyanate (aromatic and aliphatic isocyanates, di-, tri- and/or polyisocyanates). Typically, this requires a stoichiometric reaction of the OH groups in the polyols with the NCO groups in the polyisocyanates. However, the stoichiometric ratio used can also be varied, since the polyisocyanate can be added to the polyol component in such an amount that "over-cross-linking" or "under-cross-linking" may occur. If epoxy resins, that is, epoxide-based resins, are used, then preferably epoxy-based resins are suitable which are derived from glycidyl ethers having terminal epoxy groups and, internally, hydroxyl groups as functional groups. These are preferably the reaction products of bisphenol A and epichlorohydrin and/or bisphenol F with epichlorohydrin, as well as mixtures thereof, which are also used in the presence of reactive diluents. Curing or cross-linking of such epoxy resins is generally accompanied by polymerization of the epoxy groups of the epoxy ring, through a polyaddition reaction in the form of the addition of other reactive compounds, such as hardeners, in a stoichiometric amount, with the epoxy groups, in which case it is accordingly necessary the presence of one active hydrogen equivalent per epoxy group (that is, one active hydrogen equivalent per epoxy equivalent is required for curing), or by polycondensation through the mediation of epoxy groups and hydroxyl groups. Examples of suitable hardeners are polyamines, in particular (hetero)aliphatic, (hetero)aromatic and (hetero)cycloaliphatic polyamines, polyamidoamines, polyaminoamides, as well as polybasic carboxylic acids and their anhydrides.
Понятие "отверждение в результате излучения" уже было описано выше в связи с композицией (С1а) для нанесения покрытия, при этом ссылаются непосредственно на соответствующие места в описании.The concept of "radiation curing" has already been described above in connection with the coating composition (C1a), with reference directly to the corresponding places in the description.
Композиция (С2а) для нанесения покрытия может отверждаться посредством применения источника излучения, предпочтительно посредством применения УФ-излучения. Следовательно, предпочтительно, композиция (С2а) представляет собой отверждающуюся под действием УФ-излучения композицию для нанесения покрытия.The coating composition (C2a) can be cured by using a radiation source, preferably by using UV radiation. Therefore, preferably, the composition (C2a) is a UV-curable coating composition.
Таким образом, предпочтительный продукт композиции (С2а) для нанесения покрытия содержитThus, a preferred product of the coating composition (C2a) contains
а) по меньшей мере одно соединение, имеющее в среднем по меньшей мере две ненасыщенные группы,a) at least one compound having on average at least two unsaturated groups,
б) необязательно по меньшей мере один фотоинициатор иb) optionally at least one photoinitiator; and
в) необязательно по меньшей мере одну добавку. Композиция (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно имеет в среднем по меньшей мере две ненасыщенные углеродные двойные связи, более предпочтительно (мет)акриловые группы. С этой целью, композиция для нанесения покрытия (С2) может содержать любые способные к сшиванию полимеры и/или олигомеры или реактивные разбавители, указанные выше в связи с композицией (С1а), в частности, такие как сложных полиэфиры, простые полиэфиры, карбонаты, эпоксиды, поли(мет)акрилаты, уретан(мет)акрилаты, и/или силикон(мет)акрилатные олигомеры и/или по меньшей мере одну ненасыщенную сложнополиэфирную смолу и/или сложные (мет)акриловые эфиры с одной, двумя и/или тремя функциональными группами.c) optionally at least one additive. The coating composition (C2a) preferably has on average at least two unsaturated carbon double bonds, more preferably (meth)acrylic groups. To this end, the coating composition (C2) may contain any of the crosslinkable polymers and/or oligomers or reactive diluents mentioned above in connection with the composition (C1a), in particular such as polyesters, polyethers, carbonates, epoxides , poly(meth)acrylates, urethane(meth)acrylates, and/or silicone(meth)acrylate oligomers and/or at least one unsaturated polyester resin and/or one-, two-, and/or three-functional (meth)acrylic esters in groups.
При отверждении с помощью от видимого до (Б)ИК и/или УФ-излучения, композиция (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно содержит по меньшей мере один фотоинициатор, который способен расщепляться на радикалы посредством облучения излучаемой длины волны, при этом указанные радикалы способны вызывать радикальную полимеризацию. И наоборот, в случае отверждения с помощью излучения электронов, присутствие таких фотоинициаторов не является необходимым. В качестве фотоинициаторов возможно применять те же компоненты, в тех же количествах, как указано выше в связи с фотоинициаторами композиции (С1а) для нанесения покрытия.When cured by visible to (B)IR and/or UV radiation, the coating composition (C2a) preferably contains at least one photoinitiator which is capable of being degraded into radicals by irradiation of the emitted wavelength, which radicals are capable of causing radical polymerization. Conversely, in the case of curing using electron radiation, the presence of such photoinitiators is not necessary. As photoinitiators it is possible to use the same components, in the same quantities, as indicated above in connection with the photoinitiators of the coating composition (C1a).
Композиция (С2а) для нанесения покрытия может содержать по меньшей мере одну дополнительную добавку. В этом случае, в качестве добавки или дополнительного компонента (д) композиции (С1а) для нанесения покрытия возможно применять те же компоненты, в тех же количествах, которые указаны выше.The coating composition (C2a) may contain at least one additional additive. In this case, as an additive or additional component (e) of the composition (C1a) for coating, it is possible to use the same components, in the same quantities, as indicated above.
Композиция для нанесения покрытия, которую применяют в качестве композиции (С2а) для нанесения покрытия, более предпочтительно представляет собой композицию, имеющую (мет)акриловые группы. Предпочтительно, указанная композиция (С2а) для нанесения покрытия содержит по меньшей мере один уретан(мет)акрилат.Более того, предпочтительно, она включает в себя по меньшей мере один фотоинициатор.The coating composition to be used as the coating composition (C2a) is more preferably a composition having (meth)acrylic groups. Preferably, said coating composition (C2a) contains at least one urethane (meth)acrylate. Moreover, preferably, it includes at least one photoinitiator.
Композиция (С2а) для нанесения покрытия может быть композицией на основе растворителя или твердой композицией для нанесения покрытия. Для того, чтобы облегчить быстрое отверждение и предотвратить образование большого количества испаряющихся растворителей при отверждении, композиция (С2а) для нанесения покрытия предпочтительно является твердой композицией для нанесения покрытия или композицией для нанесения покрытия, содержащей небольшое количество растворителей. Таким образом, она предпочтительно имеет содержание твердых веществ, составляющее 75 - 100% по массе, из расчета общей массы композиции (С2а) для нанесения покрытия, как было определено в соответствии со стандартом DIN EN ISO 3251:2008-06 при температуре 125°С на протяжении 60 мин. Более того, она предпочтительно содержит общее количество соединения (а), и необязательно соединения (б) и (в), составляющее 90 - 100% по массе, предпочтительно 95 - 100% по массе, более предпочтительно 99 - 100% по массе, из расчета общей массы композиции (С2а) для нанесения покрытия.The coating composition (C2a) may be a solvent-based composition or a solid coating composition. In order to facilitate rapid curing and prevent the generation of a large amount of evaporating solvents during curing, the coating composition (C2a) is preferably a solid coating composition or a coating composition containing a small amount of solvents. Thus, it preferably has a solids content of 75 - 100% by weight, based on the total weight of the coating composition (C2a), as determined in accordance with DIN EN ISO 3251:2008-06 at a temperature of 125°C for 60 minutes. Moreover, it preferably contains a total amount of compound (a), and optionally compounds (b) and (c), amounting to 90 - 100% by weight, preferably 95 - 100% by weight, more preferably 99 - 100% by weight, of calculating the total mass of the composition (C2a) for coating.
Композитный материал (S1C1) в соответствии с изобретениемComposite material (S1C1) according to the invention
Дополнительный объект настоящего изобретения представляет собой композитный материал (S1C1), состоящий из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), причем покрытие (С1) можно получить посредством по меньшей мере частичного отверждения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1), и по меньшей мере частичного тиснения, в результате отверждения излучением, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюA further aspect of the present invention is a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), wherein the coating (C1) can be obtained by at least partially curing the composition ( C1a) for applying a coating applied to at least a portion of the surface of the substrate (S1), and at least partially embossing, as a result of radiation curing, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе или 85% по массе, предпочтительно 50 - 95% по массе или 85% по массе или 83% по массе, по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight or 85% by weight, preferably 50 - 95% by weight or 85% by weight or 83% by weight, of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0 - 5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Предпочтительно, каждый из компонентов (а), (б), (в), и (г) отличаются друг от друга.Preferably, each of components (a), (b), (c), and (d) are different from each other.
Все предпочтительные варианты осуществления, описанные выше в связи со способом в соответствии с изобретением, в частности, в связи с композицией (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют в нем, и в связи с подложкой (S1), а также покрытием (С1), также являются предпочтительными вариантами осуществления по отношению к композитному материалу (S1C1) в соответствии с изобретением.All preferred embodiments described above in connection with the method according to the invention, in particular in connection with the coating composition (C1a) used therein and in connection with the substrate (S1) as well as the coating (C1) , are also preferred embodiments with respect to the composite material (S1C1) according to the invention.
Предпочтительно, композитный материал (S1C1) в соответствии с изобретением можно получить посредством осуществления описанных выше стадий (6) - (9) способа в соответствии с изобретением. Подложка (S1) предпочтительно представляет собой рулон пленки, предпочтительно движущийся рулон пленки, более предпочтительно непрерывно движущийся рулон пленки.Preferably, the composite material (S1C1) according to the invention can be obtained by carrying out the above-described steps (6) to (9) of the method according to the invention. The substrate (S1) is preferably a film roll, preferably a moving film roll, more preferably a continuously moving film roll.
Применение в соответствии с изобретениемUse according to the invention
Дополнительный объект настоящего изобретения представляет собой применение композитного материала (S1C1) в соответствии с изобретением в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения для переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия, или по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия, которая, по меньшей мере частично, нанесена на подложку (S2).A further object of the present invention is the use of a composite material (S1C1) according to the invention as an embossing die (e2) of an embossing device (E2) for transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of the coating composition (C2a), or on at least a portion of the surface of the coating composition (C2a), which is at least partially applied to the substrate (S2).
Все предпочтительные варианты осуществления, описанные выше в связи со способом в соответствии с изобретением и композитным материалом (S1C1) в соответствии с изобретением, также являются предпочтительными вариантами осуществления по отношению к упомянутому выше применению композитного материала (S1C1) в соответствии с изобретением.All preferred embodiments described above in connection with the method according to the invention and the composite material (S1C1) according to the invention are also preferred embodiments with respect to the above-mentioned use of the composite material (S1C1) according to the invention.
Композиция (С2а) для нанесения покрытия в данном случае предпочтительно представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия.The coating composition (C2a) in this case is preferably a radiation-curable coating composition.
В частности, изобретение описано посредством следующих вариантов осуществления:In particular, the invention is described by means of the following embodiments:
Вариант осуществления 1: способ переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ содержит по меньшей мере стадии (1), (2-I) и (3-I) или (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-I) или (5-II), а именно:Embodiment 1: A method of transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2-I) and (3- I) or (2-II) and (3-II), as well as at least stage (4) and optionally stage (5-I) or (5-II), namely:
(1) обеспечение композитного материала (S1C1), состоящего из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1);(1) providing a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
иAnd
(2-I) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S2) с тем, чтобы получить композитный материал (S2C2a);(2-I) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) so as to obtain a composite material (S2C2a);
(3-I) по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a) с применением композитного материала (S 1С 1) с тем, чтобы получить композитный материал (SlClC2aS2);(3-I) at least partially embossing a composition (C2a) for coating a composite material (S2C2a) using a composite material (S 1C 1) so as to obtain a composite material (SlClC2aS2);
илиor
(2-II) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденной поверхности композитного материала (S1C1), и по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2a);(2-II) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite material (S1C1), and at least partially embossing the composition (C2a) for coating using a composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2a);
(3-II) необязательно нанесение подложки (S2) по меньшей мере на часть поверхности, образованной композицией (С2а) для нанесения покрытия, композитного материала (S1C1C2a), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2aS2);(3-II) optionally applying a substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of the composite material (S1C1C2a), thereby obtaining a composite material (S1C1C2aS2);
иAnd
(4) по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно нанесенной на подложку (S2), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2) или (S1C1C2S2);(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to a substrate (S2), which is in contact with the composite material (S1C1) throughout at least partial curing, with in order to obtain a composite material (S1C1C2) or (S1C1C2S2);
иAnd
(5-I) необязательно удаление композитного материала (C2S2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2S2), с композитного материала (S1C1) для восстановления композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1);(5-I) optionally removing the composite material (C2S2) located in the composite material (S1C1C2S2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) obtained in step (1);
илиor
(5-II) необязательно удаление покрытия (С2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2), с композитного материала (S1C1), для восстановления композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1);(5-II) optionally removing the coating (C2) located in the composite material (S1C1C2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) obtained in step (1);
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) композитного материала (S1C1), применяемого на стадии (1) и восстановленного на стадии (5-I) или стадии (5-II), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein a coating composition (C1a) which is used to obtain an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite material (S1C1) used in step (1) and restored in step (5-I) or stage (5-II), is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0 - 5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Вариант осуществления 2: способ переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ содержит по меньшей мере стадии (1), (2-I) и (3-I), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-I), а именно:Embodiment 2: A method of transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2-I) and (3- I), as well as at least step (4) and optionally step (5-I), namely:
(1) обеспечение композитного материала (S1C1), состоящего из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1);(1) providing a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
(2-I) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S2) с тем, чтобы получить композитный материал (S2C2a);(2-I) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the surface of the substrate (S2) so as to obtain a composite material (S2C2a);
(3-I) по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a) с применением композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2aS2);(3-I) at least partially embossing a composition (C2a) for coating a composite material (S2C2a) using a composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2aS2);
(4) по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, необязательно нанесенной на подложку (S2), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2S2);(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a), optionally applied to a substrate (S2), which is in contact with the composite material (S1C1) throughout at least partial curing, with in order to obtain a composite material (S1C1C2S2);
(5-I) необязательно удаление композитного материала (C2S2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2S2), с композитного материала (S1C1) для восстановления композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1);(5-I) optionally removing the composite material (C2S2) located in the composite material (S1C1C2S2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) obtained in step (1);
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) композитного материала (S1C1), применяемого на стадии (1) и восстановленного на стадии (5-I), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein a coating composition (C1a) which is used to obtain an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite material (S1C1) used in step (1) and recovered in step (5-I), is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0 - 5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Вариант осуществления 3: способ переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ содержит по меньшей мере стадии (1), (2-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-II), а именно:Embodiment 3: A method of transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2-II), as well as at least stage (4) and optionally stage (5-II), namely:
(1) обеспечение композитного материала (S1C1), состоящего из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1);(1) providing a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
(2-II) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненной и по меньшей мере частично отвержденной поверхности композитного материала (S1C1), и по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2a);(2-II) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite material (S1C1), and at least partially embossing the composition (C2a) for coating using a composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2a);
(4) по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2);(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a) which is in contact with the composite material (S1C1) throughout the at least partial curing time to form a composite material (S1C1C2) ;
иAnd
(5-II) необязательно удаление покрытия (С2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2), с композитного материала (S1C1) для восстановления композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1);(5-II) optionally removing the coating (C2) located in the composite material (S1C1C2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) obtained in step (1);
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) композитного материала (S1C1), применяемого на стадии (1) и восстановленного на стадии (5-II), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein a coating composition (C1a) which is used to obtain an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite material (S1C1) used in step (1) and recovered in step (5-II), is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15%по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0-5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0-5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Вариант осуществления 4: способ переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1), причем указанный способ содержит по меньшей мере стадии (1), (2-II) и (3-II), а также по меньшей мере стадию (4) и необязательно стадию (5-II), а именно:Embodiment 4: A method of transferring an embossed structure onto at least a portion of the surface of a coating composition (C2a) using a composite material (S1C1), said method comprising at least steps (1), (2-II) and (3- II), as well as at least stage (4) and optionally stage (5-II), namely:
(1) обеспечение композитного материала (S1C1), состоящего из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1);(1) providing a composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1);
(2-II) нанесение по меньшей мере одной композиции (С2а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть по меньшей мере частично тисненной и по меньшей мере частично отвержденной поверхности композитного материала (S1C1), и по меньшей мере частичное тиснение композиции (С2а) для нанесения покрытия с применением композитного материала (S1C1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2a);(2-II) applying at least one coating composition (C2a) to at least a portion of the at least partially embossed and at least partially cured surface of the composite material (S1C1), and at least partially embossing the composition (C2a) for coating using a composite material (S1C1) so as to obtain a composite material (S1C1C2a);
(3-II) нанесение подложки (S2) по меньшей мере на часть поверхности, образованной композицией (С2а) для нанесения покрытия, композитного материала (S1C1C2a), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2aS2);(3-II) applying a substrate (S2) to at least a portion of the surface formed by the coating composition (C2a) of a composite material (S1C1C2a), thereby obtaining a composite material (S1C1C2aS2);
(4) по меньшей мере частичное отверждение по меньшей мере частично тисненной композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной на подложку (S2), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте с композитным материалом (S1C1), с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1C2S2);(4) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C2a) applied to the substrate (S2), which is in contact with the composite material (S1C1) throughout the at least partial curing time, so that to obtain a composite material (S1C1C2S2);
(5-I) необязательно удаление композитного материала (C2S2), располагающегося в композитном материале (S1C1C2S2), с композитного материала (S1C1) для восстановления композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1);(5-I) optionally removing the composite material (C2S2) located in the composite material (S1C1C2S2) from the composite material (S1C1) to restore the composite material (S1C1) obtained in step (1);
причем композиция (С1а) для нанесения покрытия, которую применяют для получения по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1) композитного материала (S1C1), применяемого на стадии (1) и восстановленного на стадии (5-I), представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюwherein a coating composition (C1a) which is used to obtain an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1) of the composite material (S1C1) used in step (1) and recovered in step (5-I), is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки.(d) 0 - 5% by weight of at least one additive.
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе.wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating are 100% by weight.
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера;wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer;
Вариант осуществления 5: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-4, причем по меньшей мере одну композицию (С2а) для нанесения покрытия на стадии (2-I) и стадии (2-II) наносят с толщиной сухого слоя, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно по меньшей мере 1 мкм, более предпочтительно по меньшей мере 5 мкм.Embodiment 5: The method according to any of embodiments 1-4, wherein at least one coating composition (C2a) in step (2-I) and step (2-II) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 µm, preferably at least 1 µm, more preferably at least 5 µm.
Вариант осуществления 6: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-5, причем тисненная структура, подлежащая переносу представляет собой микроструктуру и/или наноструктуру, предпочтительно, имеющую ширину структуры в диапазоне от 10 нм до 500 мкм, более предпочтительно в диапазоне от 25 нм до 400 мкм, очень предпочтительно в диапазоне от 50 нм до 250 мкм, в частности, в диапазоне от 100 нм до 100 мкм, и предпочтительно высоту структуры в диапазоне от 10 нм до 500 мкм, более предпочтительно в диапазоне от 25 нм до 400 мкм, очень предпочтительно в диапазоне от 50 нм до 300 мкм, в частности, в диапазоне от 100 нм до 200 мкм.Embodiment 6: The method according to any of embodiments 1 to 5, wherein the embossed structure to be transferred is a microstructure and/or nanostructure, preferably having a structure width in the range of 10 nm to 500 μm, more preferably in the range of 25 nm to 400 µm, very preferably in the range from 50 nm to 250 µm, in particular in the range from 100 nm to 100 µm, and preferably the structure height in the range from 10 nm to 500 µm, more preferably in the range from 25 nm to 400 µm, very preferably in the range from 50 nm to 300 µm, in particular in the range from 100 nm to 200 µm.
Вариант осуществления 7: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-6, причем по меньшей мере одно клеящее вещество наносят на поверхность подложки (S2), которая не должно контактировать с композицией (С2а) для нанесения покрытия.Embodiment 7: The method according to any of embodiments 1 to 6, wherein at least one adhesive is applied to a surface of the substrate (S2) that is not to be in contact with the coating composition (C2a).
Вариант осуществления 8: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-7, причем на стадии (5-I) композитный материал (C2S2) получают посредством отслоения от композитного материала (S1C1C2S2) с дополнительным восстановлением композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1), или наоборот.Embodiment 8: The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein in step (5-I), the composite material (C2S2) is obtained by exfoliation from the composite material (S1C1C2S2) with additional restoration of the composite material (S1C1) obtained in step (1), or vice versa.
Вариант осуществления 9: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-7, причем по меньшей мере частично тисненное и по меньшей мере частично отвержденное покрытие (С2) на стадии (5-II) получают в виде свободной пленки посредством отслоения от композитного материала (S1C1C2) с дополнительным восстановлением композитного материала (S1C1), полученного на стадии (1), или наоборот.Embodiment 9: The method according to any one of embodiments 1-7, wherein the at least partially embossed and at least partially cured coating (C2) in step (5-II) is obtained as a loose film by peeling from the composite material ( S1C1C2) with additional restoration of the composite material (S1C1) obtained in step (1), or vice versa.
Вариант осуществления 10: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-7, причем удаление с композитного материала (S1C1) содержит следующие стадии:Embodiment 10: The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein removal from the composite material (S1C1) comprises the following steps:
(5-I-а) нанесение по меньшей мере одного клейкого слоя (AL) на поверхность подложки (S2), не находящейся в контакте по меньшей мере с частично тисненным покрытием (С2), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2S2AL);(5-I-a) applying at least one adhesive layer (AL) to the surface of the substrate (S2) not in contact with at least partially the embossed coating (C2), resulting in a composite material (S1C1C2S2AL);
(5-I-б) необязательно, по меньшей мере частичное прикрепление композитного материала (S1C1C2S2AL) к изделию (O1);(5-I-b) optionally at least partially attaching the composite material (S1C1C2S2AL) to the product (O1);
(5-I-в) удаление, предпочтительно отслоение, композитного материала (S1C1) от композитного материала (C2S2AL), необязательно по меньшей мере частично прикрепленного к изделию (O1), или наоборот.(5-I-c) removing, preferably peeling, the composite material (S1C1) from the composite material (C2S2AL), optionally at least partially attached to the article (O1), or vice versa.
Вариант осуществления 11: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-7, причем удаление с композитного материала (S1C1) содержит следующие стадии:Embodiment 11: The method according to any one of embodiments 1 to 7, wherein removal from the composite material (S1C1) comprises the following steps:
(5-II-а) нанесение по меньшей мере одного клейкого слоя (AL) по меньшей мере на часть неструктурированной поверхности по меньшей мере частично тисненного покрытия (С2), в результате чего получают композитный материал (S1C1C2AL);(5-II-a) applying at least one adhesive layer (AL) to at least a portion of the unstructured surface of the at least partially embossed coating (C2), resulting in a composite material (S1C1C2AL);
(5-II-б) необязательно, по меньшей мере частичное прикрепление композитного материала (S1C1C2AL) к изделию (O1);(5-II-b) optionally at least partially attaching the composite material (S1C1C2AL) to the product (O1);
(5-II-в) удаление, предпочтительно отслоение, композитного материала (S1C1) от композитного материала (C2S2AL), необязательно по меньшей мере частично прикрепленного к изделию (O1), или наоборот.(5-II-c) removing, preferably peeling, the composite material (S1C1) from the composite material (C2S2AL), optionally at least partially attached to the product (O1), or vice versa.
Вариант осуществления 12: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-11, причем композитный материал (S1C1), полученный на стадии (1), применяют в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения с тем, чтобы переносить тисненную структуру покрытия (С1) в качестве тисненной структуры на композицию (С2а) для нанесения покрытия на стадии (2-I), и на стадиях (2-II) и (3-II),Embodiment 12: The method according to any of Embodiments 1 to 11, wherein the composite material (S1C1) obtained in step (1) is used as an embossing die (e2) of the embossing device (E2) so as to transfer an embossed coating structure (C1) as an embossed structure on the composition (C2a) for coating in stage (2-I), and in stages (2-II) and (3-II),
причем зеркальное отображение структурированной поверхности покрытия (С1) композитного материала (S1C1), который применяют в качестве клише (е2) для тиснения наносится тиснением на поверхность по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С2), необязательно нанесенного на подложку (S2).wherein a mirror image of the structured surface of the coating (C1) of the composite material (S1C1), which is used as a cliche (e2) for embossing, is embossed onto the surface of the at least partially embossed and at least partially cured coating (C2), optionally applied to the substrate ( S2).
Вариант осуществления 13: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 12, причем подложка (S1) представляет собой рулон пленки, предпочтительно движущийся рулон пленки или непрерывный рулон пленки, более предпочтительно непрерывно движущийся рулон пленки.Embodiment 13: The method according to any of Embodiments 1 to 12, wherein the substrate (S1) is a film roll, preferably a moving film roll or a continuous film roll, more preferably a continuously moving film roll.
Вариант осуществления 14: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 13, причем подложка (S2) представляет собой рулон пленки, предпочтительно движущийся рулон пленки, более предпочтительно непрерывно движущийся рулон пленки.Embodiment 14: The method according to any of Embodiments 1 to 13, wherein the substrate (S2) is a film roll, preferably a moving film roll, more preferably a continuously moving film roll.
Вариант осуществления 15: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 14, причем композитный материал (S1C1), который применяют на стадии (2-I) и на стадиях (2-II) и (3-II), может применяться многоразово, и может применяться повторно для переноса по меньшей мере одной тисненной структуры, когда проводится стадия (5-I) или (5-II) способа.Embodiment 15: The method according to any one of embodiments 1 to 14, wherein the composite material (S1C1) which is used in step (2-I) and in steps (2-II) and (3-II) can be reused , and can be reused to transfer at least one embossed structure when method step (5-I) or (5-II) is carried out.
Вариант осуществления 16: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 15, причем во время осуществления стадии (3-I), композитный материал (S1C1) на стадии (3-I) направляется с помощью первого валка, функционирующего в качестве приспособление (Е2) для тиснения и композитный материал (S2C2a) направляется посредством второго валка, который расположен напротив первого валка и вращается в противоположном направлении по отношению к нему или вращающимся в одном направлении с ним,Embodiment 16: The method according to any one of embodiments 1 to 15, wherein during step (3-I), the composite material (S1C1) in step (3-I) is guided by the first roller functioning as a tool ( E2) for embossing and the composite material (S2C2a) is guided by a second roller, which is located opposite the first roller and rotates in the opposite direction to it or rotating in the same direction as it,
иAnd
во время осуществления стадии (3-II), композитный материал (S1C1C2a) на стадии (3-II) направляется с помощью первого валка, функционирующего в качестве приспособления (Е2) для тиснения, а подложка (S2), которую применяют на стадии (3-II), направляется посредством второго валка, который расположен напротив первого валка и вращается в противоположном направлении по отношению к нему или вращается в одном направлении с ним.during step (3-II), the composite material (S1C1C2a) in step (3-II) is guided by the first roller functioning as an embossing tool (E2), and the substrate (S2) which is used in step (3 -II), is guided by a second roller, which is located opposite the first roller and rotates in the opposite direction with respect to it or rotates in the same direction as it.
Вариант осуществления 17: Способ в соответствии с вариантом осуществления 16, причем по меньшей мере частичное тиснение на стадии (3-I) происходит на уровне зазора между валками, который образован двумя взаимно противоположными валками, причем валки вращаются в противоположном направлении или вращаются в одном направлении, причем по меньшей мере частично тисненное покрытие (С1) композитного материала (S1C1) обращено к композиции (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S2C2a), иEmbodiment 17: Method according to Embodiment 16, wherein at least partial embossing in step (3-I) occurs at the level of the nip between the rollers, which is formed by two mutually opposing rollers, the rollers rotating in the opposite direction or rotating in the same direction wherein at least partially the embossed coating (C1) of the composite material (S1C1) faces the composition (C2a) for coating the composite material (S2C2a), and
по меньшей мере частичное тиснение на стадии (3-II) происходит на уровне зазора между валками, который образован двумя взаимно противоположными валками, причем валки вращаются в противоположном направлении или вращаются в одном направлении, причем композиция (С2а) для нанесения покрытия композитного материала (S1C1C2a) обращена к подложке (S2).at least partial embossing in step (3-II) occurs at the level of the gap between the rollers, which is formed by two mutually opposite rollers, the rollers rotating in the opposite direction or rotating in the same direction, and the composition (C2a) for coating a composite material (S1C1C2a ) facing the substrate (S2).
Вариант осуществления 18: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 17, причем композитный материал (S1C1), обеспечиваемый на стадии (1), по меньшей мере можно получить посредствомEmbodiment 18: The method according to any of embodiments 1 to 17, wherein the composite material (S1C1) provided in step (1) can at least be obtained by
(6) нанесения отверждаемой под действием излучения композиции (С1а) для нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1) с тем, чтобы получить композитный материал (S1C1a);(6) applying a radiation-curable composition (C1a) to coat at least a portion of the surface of the substrate (S1) so as to obtain a composite material (S1C1a);
(7) по меньшей мере частичного тиснения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на поверхность подложки (S1) с помощью по меньшей мере одного приспособления (Е1) для тиснения, содержащего по меньшей мере одно клише (e1) для тиснения;(7) at least partially embossing a coating composition (C1a) applied at least partially onto the surface of the substrate (S1) by at least one embossing tool (E1) comprising at least one cliche (e1 ) for embossing;
(8) по меньшей мере частичного отверждения по меньшей мере частично тисненной композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной, по меньшей мере частично, на подложку (S1), которая на протяжении всего времени по меньшей мере частичного отверждения находится в контакте по меньшей мере с одним клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения;(8) at least partially curing the at least partially embossed coating composition (C1a) applied at least partially to the substrate (S1), which is in contact with at least with one cliche (e1) for embossing device (E1) for embossing;
(9) удаления композитного материала (S1C1) из клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения с тем, чтобы получить по меньшей мере частично тисненный и по меньшей мере частично отвержденный композитный материал (S1C1), или наоборот.(9) removing the composite material (S1C1) from the embossing die (e1) of the embossing fixture (E1) so as to obtain an at least partially embossed and at least partially cured composite material (S1C1), or vice versa.
Вариант осуществления 19: Способ в соответствии с вариантом осуществления 18, причем по меньшей мере одну композицию (С1а) для нанесения покрытия на стадии (6) наносят с толщиной сухого слоя, составляющей по меньшей мере 0,5 мкм, предпочтительно по меньшей мере 1 мкм, более предпочтительно по меньшей мере 5 мкм.Embodiment 19: Method according to embodiment 18, wherein the at least one coating composition (C1a) in step (6) is applied with a dry layer thickness of at least 0.5 μm, preferably at least 1 μm , more preferably at least 5 µm.
Вариант осуществления 20: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 19, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 5 - 45% по массе, предпочтительно 8 - 40% по массе, более предпочтительно 9 - 35% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера.Embodiment 20: The method according to any of embodiments 1 to 19, wherein the coating composition (C1a) contains a total amount of 5 to 45% by weight, preferably 8 to 40% by weight, more preferably 9 to 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer.
Вариант осуществления 21: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 20, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, более предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2-3 ненасыщенные группы.Embodiment 21: The method according to any of embodiments 1 to 20, wherein the coating composition (C1a) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of the total crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer, more preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer containing an average of 2-3 unsaturated groups.
Вариант осуществления 22: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-21, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 5 - 45% по массе, предпочтительно 8 - 40% по массе, более предпочтительно 9 - 35% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера, выбранного из группы, состоящей из I) по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера, предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, очень предпочтительно ровно одного силикон(мет)акрилатного олигомера, содержащего в среднем 2-3 ненасыщенные группы, и II) другого способного к сшиванию полимера и/или олигомера, выбранного из (мет)акрилированных олигомерных или полимерных соединений, уретан(мет)акрилатов, винил(мет)акрилатов, эпокси(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, поли(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, олефин(мет)акрилатов, (мет)акрилированных масел, и их смесей, предпочтительно уретан(мет)акрилатного олигомера.Embodiment 22: The method according to any of embodiments 1 to 21, wherein the coating composition (C1a) contains a total amount of 5 to 45% by weight, preferably 8 to 40% by weight, more preferably 9 to 35% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer selected from the group consisting of I) at least one silicone (meth)acrylate oligomer, preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer, very preferably exactly one silicone (meth)acrylate oligomer containing on average 2-3 unsaturated groups, and ii) another cross-linkable polymer and/or oligomer selected from (meth)acrylated oligomeric or polymeric compounds , urethane(meth)acrylates, vinyl(meth)acrylates, epoxy(meth)acrylates, polyester(meth)acrylates, poly(meth)acrylates, polyether(meth)acrylates, olefin(meth)acrylates, (meth)acrylated oils , and mixtures thereof, preferably urethane (meth)acrylate oligomer.
Вариант осуществления 23: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 22, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит в качестве реактивного разбавителя способные к свободно-радикальной полимеризации мономеры, предпочтительно этиленненасыщенные мономеры, более предпочтительно многофункциональные этиленненасыщенные мономеры.Embodiment 23: The method according to any one of embodiments 1 to 22, wherein the coating composition (C1a) contains free radical polymerizable monomers, preferably ethylenically unsaturated monomers, more preferably multifunctional ethylenically unsaturated monomers, as a reactive diluent.
Вариант осуществления 24: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 23, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит по меньшей мере один реактивный разбавитель, выбранный из гександиолдиакрилата и соединений, содержащих по меньшей мере две, предпочтительно по меньшей мере 3, более предпочтительно 3, структурных звена, которые могут отличаться друг от друга или быть, по меньшей мере частично, одинаковыми, общей формулы (I)Embodiment 24: The method according to any of embodiments 1 to 23, wherein the coating composition (C1a) contains at least one reactive diluent selected from hexanediol diacrylate and compounds containing at least two, preferably at least 3, more preferably 3, structural units, which may differ from each other or be at least partially the same, of general formula (I)
в которойwherein
радикалы R1, независимо друг от друга, представляют собой С2-С8 алкиленовые группы, очень предпочтительно С2 алкиленовые группы,radicals R 1 , independently of each other, represent C 2 -C 8 alkylene groups, very preferably C 2 alkylene groups,
радикалы R2, независимо друг от друга, представляют собой Н или метил, иthe R 2 radicals are independently H or methyl, and
переменные m, независимо друг от друга, представляют собой целое число в диапазоне от 1 до 15, очень предпочтительно от 1 до 4 или 2 - 4, но при условии, что по меньшей мере в одном из структурных звеньев формулы (I) переменная m составляет по меньшей мере 2, предпочтительно ровно 2.the variables m are, independently of each other, an integer in the range from 1 to 15, very preferably from 1 to 4 or 2 to 4, provided that in at least one of the structural units of formula (I) the variable m is at least 2, preferably exactly 2.
Вариант осуществления 25: Способ в соответствии с вариантом осуществления 24, причем указанное соединение содержит три одинаковых структурных звена формулы (I), и переменная m составляет по меньшей мере 2, предпочтительно ровно 2.Embodiment 25: The method according to Embodiment 24, wherein said compound contains three identical structural units of formula (I) and the variable m is at least 2, preferably exactly 2.
Вариант осуществления 26: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 24 или 25, причем соединение по меньшей мере одного реактивного разбавителя содержит по меньшей мере два структурных звена общей формулы (I), выбранных из (мет)акрилатов неопентилгликоля, триметилолпропана, триметилолэтана или пентаэритритола, с в общей сложности 4-кратным - 20-кратным или 4-кратным - 12-кратным алкоксилированием, предпочтительно этоксилированного, пропоксилированного или этоксилированного и пропоксилированного, очень предпочтительно этоксилированного, неопентилгликоля, триметилолпропана, триметилолэтана или пентаэритритола, наиболее предпочтительно из (мет)акрилатов, полученных из алкоксилированного триметилолпропана.Embodiment 26: The method according to any of Embodiments 24 or 25, wherein the at least one reactive diluent compound contains at least two structural units of general formula (I) selected from neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol (meth)acrylates , with a total of 4-fold - 20-fold or 4-fold - 12-fold alkoxylation, preferably ethoxylated, propoxylated or ethoxylated and propoxylated, very preferably ethoxylated, neopentylglycol, trimethylolpropane, trimethylolethane or pentaerythritol, most preferably from (meth)acrylates , obtained from alkoxylated trimethylolpropane.
Вариант осуществления 27: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-6, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее 40 - 95% по массе, предпочтительно 50 - 85% по массе, более предпочтительно 55 - 83% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного реактивного разбавителя, предпочтительно гександиолдиакрилата и/или (мет)акрилатов, полученных из 6-кратно этоксилированного триметилолпропана.Embodiment 27: The method according to any of Embodiments 1 to 6, wherein the coating composition (C1a) contains a total amount of 40 to 95% by weight, preferably 50 to 85% by weight, more preferably 55 to 83% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one reactive diluent, preferably hexanediol diacrylate and/or (meth)acrylates derived from 6-fold ethoxylated trimethylolpropane.
Вариант осуществления 28: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 27, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит по меньшей мере один фотоинициатор в общем количестве, составляющем 0,01 - 15% по массе, предпочтительно 0.5 - 10% по массе, более предпочтительно 1 - 8% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.Embodiment 28: The method according to any of embodiments 1 to 27, wherein the coating composition (C1a) contains at least one photoinitiator in a total amount of 0.01 to 15% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight by weight, more preferably 1 to 8% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a).
Вариант осуществления 29: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 28, причем фотоинициатор, содержащийся в композиции (С1а) для нанесения покрытия, выбирают из фосфиноксидов включая (алкил-)бензоилфенилфосфиноксиды, бензофеноны, а-гидроксиалкиларилкетоны, тиоксантоны, антрахиноны, ацетофеноны, бензоины и простые эфиры бензоина, кетали, имидазолы или фенилглиоксиловые кислоты и их смеси, предпочтительно дифенил(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид, этил(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфинат, фенилбис(2,4,6-триметилбензоил)-фосфиноксид, бензофенон, 1-бензоилциклогексан-1-ол, 2-гидрокси-2,2-диметилацетофенон и 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон и их смеси.Embodiment 29: The method according to any of embodiments 1 to 28, wherein the photoinitiator contained in the coating composition (C1a) is selected from phosphine oxides including (alkyl-)benzoylphenylphosphine oxides, benzophenones, α-hydroxyalkylaryl ketones, thioxanthones, anthraquinones, acetophenones , benzoins and benzoin ethers, ketals, imidazoles or phenylglyoxylic acids and mixtures thereof, preferably diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, ethyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, phenylbis(2,4,6- trimethylbenzoyl)-phosphine oxide, benzophenone, 1-benzoylcyclohexan-1-ol, 2-hydroxy-2,2-dimethylacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and mixtures thereof.
Вариант осуществления 30: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 29, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит по меньшей мере одну добавку в общем количестве, составляющем 0,01 - 5% по массе, предпочтительно 0,2 или 0.5 - 5% по массе, более предпочтительно 0,5 - 3% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одной добавки.Embodiment 30: The method according to any of embodiments 1 to 29, wherein the coating composition (C1a) contains at least one additive in a total amount of 0.01 to 5% by weight, preferably 0.2 or 0.5 - 5% by weight, more preferably 0.5 - 3% by weight, based on the total weight of the coating composition (C1a), of at least one additive.
Вариант осуществления 31: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 30, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит общее количество, составляющее менее 10% по массе, предпочтительно менее 5% по массе, более предпочтительно менее 1% по массе органических растворителей, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, очень предпочтительно композиция (С1а) не содержит органических растворителей.Embodiment 31: The method according to any of embodiments 1 to 30, wherein the coating composition (C1a) contains a total amount of less than 10% by weight, preferably less than 5% by weight, more preferably less than 1% by weight of organic solvents, based on the total weight of the coating composition (C1a), very preferably the composition (C1a) does not contain organic solvents.
Вариант осуществления 32: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1 - 30, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия при этом содержит, в общем количестве, составляющем 90 - 100% по массе, предпочтительно 95 - 100% по массе, более предпочтительно 99 - 100% по массе компонентов (а), (б), (в), и необязательно (г), из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.Embodiment 32: The method according to any one of embodiments 1 to 30, wherein the coating composition (C1a) comprises, in a total amount of 90 to 100% by weight, preferably 95 to 100% by weight, more preferably 99 - 100% by weight of components (a), (b), (c), and optionally (d), based on the total weight of the coating composition (C1a).
Вариант осуществления 33: композитный материал (S1C1), состоящий из подложки (S1) и по меньшей мере частично тисненного и по меньшей мере частично отвержденного покрытия (С1), причем покрытие (С1) можно получить посредством по меньшей мере частичного отверждения композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенной по меньшей мере на часть поверхности подложки (S1), и по меньшей мере частичного тиснения, в результате отверждения излучением, причем композиция (С1а) для нанесения покрытия представляет собой отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, содержащуюEmbodiment 33: composite material (S1C1) consisting of a substrate (S1) and an at least partially embossed and at least partially cured coating (C1), wherein the coating (C1) can be obtained by at least partially curing the composition (C1a) for applying a coating applied to at least a portion of the surface of the substrate (S1), and at least partially embossing, as a result of radiation curing, wherein the coating composition (C1a) is a radiation-curable coating composition containing
(а) 5 - 45% по массе по меньшей мере одного способного к сшиванию полимера и/или олигомера,(a) 5 - 45% by weight of at least one crosslinkable polymer and/or oligomer,
(б) 40 - 95% по массе по меньшей мере одного реактивного разбавителя,(b) 40 - 95% by weight of at least one reactive diluent,
(в) 0,01 - 15% по массе по меньшей мере одного фотоинициатора, и(c) 0.01 to 15% by weight of at least one photoinitiator, and
(г) 0 - 5% по массе по меньшей мере одной добавки;(d) 0 - 5% by weight of at least one additive;
причем (I) указанные общие количества каждого из компонентов (а), (б), (в), и (г) основаны на общей массе композиции (С1а) для нанесения покрытия, и (II) общие количества всех компонентов, присутствующих в композиции (С1а) для нанесения покрытия, составляют 100% по массе;wherein (I) the stated total amounts of each of components (a), (b), (c), and (d) are based on the total weight of the coating composition (C1a), and (II) the total amounts of all components present in the composition (C1a) for coating, are 100% by weight;
причем по меньшей мере один способный к сшиванию полимер и/или олигомер (а) содержит общее количество, составляющее по меньшей мере 25% по массе, предпочтительно по меньшей мере 50% по массе, более предпочтительно по меньшей мере 90% по массе, очень предпочтительно 100% по массе, из расчета общей массы всего способного к сшиванию полимера и/или олигомера, содержащегося в композиции (С1а) для нанесения покрытия, по меньшей мере одного силикон(мет)акрилатного олигомера.wherein the at least one crosslinkable polymer and/or oligomer(s) contains a total amount of at least 25% by weight, preferably at least 50% by weight, more preferably at least 90% by weight, very preferably 100% by weight, based on the total weight of all crosslinkable polymer and/or oligomer contained in the coating composition (C1a), of at least one silicone (meth)acrylate oligomer.
Вариант осуществления 34: Композитный материал (S1C1) в соответствии с вариантом осуществления 33, причем композитный материал (S1C1) можно получить посредством осуществления стадий (6) - (9) способа, которые описаны в варианте осуществления 18 или 19.Embodiment 34: The composite material (S1C1) according to embodiment 33, wherein the composite material (S1C1) can be obtained by carrying out method steps (6) to (9) that are described in Embodiment 18 or 19.
Вариант осуществления 35: Композитный материал (S1C1) в соответствии с вариантом осуществления 33 или 34, причем подложка (S1) представляет собой рулон пленки, предпочтительно движущийся рулон пленки, более предпочтительно непрерывно движущийся рулон пленки.Embodiment 35: The composite material (S1C1) according to Embodiment 33 or 34, wherein the substrate (S1) is a film roll, preferably a moving film roll, more preferably a continuously moving film roll.
Вариант осуществления 36: применение композитного материала (S1C1) в соответствии с любым из вариантов осуществления 33 - 35 в качестве клише (е2) для тиснения приспособления (Е2) для тиснения для переноса тисненной структуры по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия, или по меньшей мере на часть поверхности композиции (С2а) для нанесения покрытия, которая, по меньшей мере частично, нанесена на подложку (S2).Embodiment 36: Using a composite material (S1C1) according to any one of embodiments 33 to 35 as an embossing die (e2) of an embossing device (E2) for transferring an embossed structure to at least a portion of the surface of the composition (C2a) to be applied coating, or at least a portion of the surface of the coating composition (C2a), which is at least partially applied to the substrate (S2).
Вариант осуществления 37: Способ в соответствии с любым из вариантов осуществления 1-5, причем отверждаемая под действием излучения композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит 50 - 95% по массе, или 50 -85% по массе, или 50 - 83% по массе, по меньшей мере одного реактивного разбавителя, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.Embodiment 37: The method according to any of embodiments 1 to 5, wherein the radiation-curable coating composition (C1a) contains 50 to 95% by weight, or 50 to 85% by weight, or 50 to 83% by weight weight of at least one reactive diluent, based on the total weight of the coating composition (C1a).
Вариант осуществления 38: Композитный материал в соответствии с любым из вариантов осуществления 33 - 36, причем отверждаемая под действием излучения композиция (С1а) для нанесения покрытия содержит 50 - 95% по массе, или 50 - 85% по массе, или 50 - 83% по массе, по меньшей мере одного реактивного разбавителя, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия.Embodiment 38: The composite material according to any of embodiments 33 to 36, wherein the radiation-curable coating composition (C1a) contains 50 to 95% by weight, or 50 to 85% by weight, or 50 to 83% by weight of at least one reactive diluent, based on the total weight of the coating composition (C1a).
Методы определенияDetermination methods
1. Определение заполнение клише1. Definition of cliche filling
Заполнение клише определяют с помощью доступного на рынке растрового электронного микроскопа (РЭМ). С помощью РЭМ можно, соответственно, сравнивать, например, поверхностную топографию определенной структуры решетки разных шаблонных пленок (S1C1) после тиснения, имеющих, например, элементы от 10 нм до 1000 мкм ширины структуры, и глубины структуры в диапазоне от 1 нм до 1000 мкм. Заполнение клише считается полным, если полностью воспроизводятся острые элементы, такие как кончик структуры треугольной формы. Наряду со сравнением поверхностной топографии разных шаблонных пленок (S1C1), также можно сравнивать заполнение клише.The cliche filling is determined using a commercially available scanning electron microscope (SEM). Using SEM it is possible, accordingly, to compare, for example, the surface topography of a certain lattice structure of different template films (S1C1) after embossing, having, for example, elements from 10 nm to 1000 μm structure width, and structure depths in the range from 1 nm to 1000 μm . The filling of the cliché is considered complete if the sharp elements, such as the tip of the triangular shaped structure, are completely reproduced. As well as comparing the surface topography of different template films (S1C1), the filling of the cliches can also be compared.
2. Определение времени текучести2. Determination of flow time
Время текучести определяют в соответствии со стандартом DIN EN ISO 2431 (дата: март 2012 г.). Способ включает определение времени текучести с помощью чашечного вискозиметра 4 мм (№4), чашечного вискозиметра 5 мм (№5), или чашечного вискозиметра 6 мм (№6) при комнатной температуре (20°С).The flow time is determined in accordance with DIN EN ISO 2431 (date: March 2012). The method involves determining the flow time using a 4 mm cup viscometer (No. 4), a 5 mm cup viscometer (No. 5), or a 6 mm cup viscometer (No. 6) at room temperature (20°C).
Время текучести в диапазоне от 40 или 50 до 100 с, измеренное в чашечном вискозиметре 4 мм, от 30 до 100 с, измеренное в чашечном вискозиметре 5 мм, и от 30 до 200 с, предпочтительно 30 - 150 с, более предпочтительно 30 - 115 с, измеренное в чашечном вискозиметре 6 мм, считается приемлемым. Соответственно, композиции для нанесения покрытия с временем текучести >200 с в чашечном вискозиметре 6 мм считаются не подходящими, поскольку композиции для нанесения покрытия не будут расплываться достаточно быстро с однородной толщиной слоя по всей ширине подложки или композитного материала, что приводит к снижению качества заполнения клише и воспроизведения, при этом риск захвата воздуха в нанесенной композиции для нанесения покрытия повышается с увеличением времени текучести. С другой стороны, время текучести <40 или 50 с в чашечном вискозиметре 4 мм считается недостатком, поскольку композиции для нанесения покрытия будут просто стекать с подложки при их применении, например, в устройстве для тиснения с рулона на рулон (R2R), не обеспечивая таким образом достаточной когезии в пределах слоя, позволяющей обеспечить толщину слоя, достаточную для тиснения микроструктур и наноструктур с достаточным заполнением клише и качеством переноса.Flow times ranging from 40 or 50 to 100 s, measured in a 4 mm cup viscometer, from 30 to 100 s, measured in a 5 mm cup viscometer, and from 30 to 200 s, preferably 30 to 150 s, more preferably 30 to 115 s measured in a 6 mm cup viscometer is considered acceptable. Accordingly, coating compositions with a flow time >200 s in a 6 mm cup viscometer are considered unsuitable because the coating compositions will not spread quickly enough to a uniform layer thickness across the entire width of the substrate or composite material, resulting in poor quality of the cliché fill. and reproduction, wherein the risk of air entrapment in the applied coating composition increases with increasing flow time. On the other hand, a flow time of <40 or 50 s in a 4 mm cup viscometer is considered a disadvantage since the coating compositions will simply flow off the substrate when applied, for example in a roll-to-roll (R2R) embosser, without providing such in a manner of sufficient cohesion within the layer, allowing to provide a layer thickness sufficient for embossing microstructures and nanostructures with sufficient cliche filling and transfer quality.
3. Определение адгезии3. Adhesion determination
3.1 Определение адгезии методом решетчатого надреза3.1 Determination of adhesion using the grid cut method
Адгезию определяют в соответствии со стандартом DIN EN ISO 2409 (дата: июнь 2013 г. ) с помощью определения адгезии методом решетчатого надреза. В этом испытании, в процессе продублированного определения, исследуют адгезию слоя исследуемого покрытия к подложке. Устройство для испытания адгезии методом решетчатого надреза от компании Byk Gardner с расстоянием между надрезами 2 мм применяли вручную. Затем, к поврежденной площади прижимается лента Tesa №4651, и снимается для удаления отслоившихся частей. Оценку осуществляют на основе характеристических значений по шкале от 0 (минимальное отслоение) до 5 (очень большое отслоение). При этом среднее значение, составляющее менее или равное 3,5, считается достаточным.Adhesion is determined in accordance with DIN EN ISO 2409 (date: June 2013) using the grid cut adhesion test. In this test, in a duplicate determination process, the adhesion of the coating layer under study to the substrate is examined. A Byk Gardner grid cut adhesion tester with a cut distance of 2 mm was used manually. Then, Tesa tape No. 4651 is pressed onto the damaged area and removed to remove the peeled parts. The evaluation is based on characteristic values on a scale from 0 (minimal delamination) to 5 (very severe delamination). In this case, an average value of less than or equal to 3.5 is considered sufficient.
3.2 Определение адгезии по методу Андреевского креста3.2 Determination of adhesion using the St. Andrew's cross method
Адгезию определяют с помощью специально разработанного определения адгезии методом решетчатого надреза. В этом испытании, в слое покрытия вручную надрезают Андреевский крест (длина: 10 см, угол: 45°) с помощью скальпеля. Затем, к поврежденной площади прижимают ленту Tesa №4651, и снимают для удаления отслоившихся частей. Если слой покрытия не показывает видимого отслоения после осуществления надрезов и/или после снимания ленты, то адгезия слоя покрытия оценивается как "ХОРОШО". Если слой покрытия показывает видимое отслоение после осуществления надрезов и/или после снимания ленты, то адгезия слоя покрытия оценивается как "Неудовлетворительно".Adhesion is determined using a specially developed adhesion test using the lattice notch method. In this test, a St. Andrew's cross (length: 10 cm, angle: 45°) is manually cut into the coating layer using a scalpel. Then, Tesa tape No. 4651 is pressed onto the damaged area and removed to remove the peeled parts. If the coating layer does not show visible peeling after making cuts and/or after removing the tape, then the adhesion of the coating layer is rated as "GOOD". If the coating layer shows visible peeling after making cuts and/or after removing the tape, then the adhesion of the coating layer is rated as "Unsatisfactory".
4. Определение успешности воспроизведения4. Determination of successful reproduction
Успешность воспроизведения определяют визуально, при этом определяют долю в процентах успешно воспроизведенной площади. Диапазон в данном случае составляет от 0% до 100% успешно воспроизведенной площади. Если воспроизводится менее 100% площади, это означает, что соответствующая доля площади не могла быть удалена из клише для тиснения, другими словами указанное покрытие С1 в виде композитного материала S1C1 осталось частично прилипшим к клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения, или это покрытие С2 осталось частично прилипшим к композитному материалу (S1C1) после отделения.The success of reproduction is determined visually, and the percentage of successfully reproduced area is determined. The range in this case is from 0% to 100% of the successfully reproduced area. If less than 100% of the area is reproduced, this means that the corresponding portion of the area could not be removed from the embossing die, in other words, said composite material coating C1 S1C1 remained partially adhered to the embossing die (e1) of the embossing fixture (E1), or this coating C2 remained partially adhered to the composite material (S1C1) after peeling off.
5. Определение распределения толщины слоя5. Determination of layer thickness distribution
Распределение толщины слоя определяют посредством измерения толщины слоя композитного материала S1C1, включая отпечатанные структуры. Другими словами, определенная общая толщина комплекта S1C1 слоя является суммой отдельных высот подложки S1, остаточного слоя покрытия С1, и структур, образованных в или на покрытии С1. Толщину определяли в соответствии со стандартом DIN EN ISO 2808 (дата: май 2007 г. ), процедура 12А с помощью микропроцессорного толщиномера покрытия ElektroPhysik MiniTest® 2100 в сочетании с датчиком F1.6 (погрешность измерений: ±(1% + 1 мкм)). В случае отсутствия ферромагнитной подложки, измерение проводили посредством размещения композитного материала S1C1 на ровной ферромагнитной пластине. На участке S1C1 размером 15 см × 15 см, толщину слоя определяют в 9 предварительно определенных точках, расположенных в матрице 3×3. Все точки измерений расположены на расстоянии друг от друга в 5 см, при этом первая точка или начальная точка измерения на расстоянии 2,5 см с верхней стороны и 2 5 см с левой стороны участка S1C1 размером 15 см × 15 см. Следовательно, вторая точка измерения расположена на расстоянии 2,5 см с верхней стороны и 7,5 см с левой стороны участка S1C1 размером 15 см × 15 см.The layer thickness distribution is determined by measuring the layer thickness of the composite material S1C1 including the printed structures. In other words, the determined total thickness of the layer stack S1C1 is the sum of the individual heights of the substrate S1, the residual coating layer C1, and the structures formed in or on the coating C1. Thickness was determined according to DIN EN ISO 2808 (date: May 2007), procedure 12A using an ElektroPhysik MiniTest® 2100 microprocessor coating thickness gauge in combination with an F1.6 sensor (measurement error: ±(1% + 1 µm)) . In the absence of a ferromagnetic substrate, the measurement was carried out by placing the S1C1 composite material on a flat ferromagnetic plate. In an area S1C1 measuring 15 cm × 15 cm, the layer thickness is determined at 9 predefined points located in a 3 × 3 matrix. All measurement points are spaced 5 cm apart, with the first point or starting measurement point 2.5 cm on the top side and 2 5 cm on the left side of the 15 cm × 15 cm area S1C1. Therefore, the second point measurement is located at a distance of 2.5 cm from the top side and 7.5 cm from the left side of the area S1C1 measuring 15 cm × 15 cm.
6. Определение гибкости6. Definition of flexibility
Гибкость соответствующего композитного материала (S1C1) определяли посредством его сгибания на 180°. Если во время и/или после сгибания в покрытии (С1) не наблюдалось каких-либо видимых трещин и/или повреждений, то его оценивают как "ХОРОШО". Если во время и/или после сгибания в покрытии (С1) наблюдались видимые трещины и/или повреждения, то его оценивают как "неудовлетворительно".The flexibility of the corresponding composite material (S1C1) was determined by bending it through 180°. If, during and/or after bending, no visible cracks and/or damage were observed in the coating (C1), then it is assessed as “GOOD”. If visible cracks and/or damage were observed in the coating (C1) during and/or after bending, it is assessed as “unsatisfactory”.
Примеры в соответствии с изобретением и сравнительные примерыExamples according to the invention and comparative examples
Примеры в соответствии с изобретением и сравнительные примеры, приведенные ниже, служат для иллюстрации изобретения, и не должны интерпретироваться как налагающие какие-либо ограничения.The examples in accordance with the invention and the comparative examples given below serve to illustrate the invention and should not be interpreted as imposing any limitations.
Если не указано иное, количества, выраженные в частях, являются частями по массе, и количества, выраженные в процентах, в каждом случае являются процентами по массе.Unless otherwise indicated, quantities expressed in parts are parts by weight, and quantities expressed as percentages are in each case percentages by weight.
1. Применяемые ингредиенты и материалы1. Ingredients and materials used
Hostaphan® GN СТ01В - доступная на рынке РЕТ-пленка, двусторонняя химически обработанная для улучшения адгезии покрытий, с толщина слоя 175 мкм.Hostaphan® GN CT01B is a commercially available PET film, double-sided chemically treated to improve coating adhesion, with a layer thickness of 175 microns.
Доступная на рынке РЕТ-пленка, с двусторонним уретановым покрытием, для усиления адгезии к краскам и покрытиям, в частности, к УФ-отверждаемым краскам, с толщиной слоя 125 мкм, предоставленная компанией SKC, Южная Корея.Commercially available PET film, double-sided urethane coated, to enhance adhesion to paints and coatings, particularly UV-curable paints, with a layer thickness of 125 microns, provided by SKC, South Korea.
Laromer® UA 9033 (L UA 9033) - алифатический уретанакрилат от компании BASF SELaromer® UA 9033 (L UA 9033) - aliphatic urethane acrylate from BASF SE
Laromer® UA 9089 (L UA 9089) - алифатический уретанакрилат от компании BASF SELaromer® UA 9089 (L UA 9089) - aliphatic urethane acrylate from BASF SE
Гександиолдиакрилат (HDDA)Hexanediol diacrylate (HDDA)
Гидроксипропилакрилат (HPA)Hydroxypropylacrylate (HPA)
Sartomer® CN9800 (CN9800) - алифатический силиконакрилат от компании SartomerSartomer® CN9800 (CN9800) - aliphatic silicone acrylate from Sartomer
Sartomer® 499 (SR 499) - ТМРТА (триметилолпропантриакрилат) с 6-кратным этоксилированием, иот компании SartomerSartomer® 499 (SR 499) - TMPTA (trimethylolpropane triacrylate) with 6-fold ethoxylation, from Sartomer
Sartomer® SR 344 (Arkema Inc.) - полиэтиленгликоля (400) диакрилатSartomer® SR 344 (Arkema Inc.) - polyethylene glycol (400) diacrylate
Irgacure® 184 (1-184) - доступный на рынке фотоинициатор от компании BASF SE,Irgacure® 184 (1-184) is a commercially available photoinitiator from BASF SE,
Irgacure® TPO-L (I-TPO-L) - доступный на рынке фотоинициатор от компании BASF SE,Irgacure® TPO-L (I-TPO-L) is a commercially available photoinitiator from BASF SE,
Tego® Rad 2500 (TR 2500) - смазывающая и противодействующая слипанию добавка от компании Evonik (силиконакрилат),Tego® Rad 2500 (TR 2500) - lubrication and anti-caking additive from Evonik (silicone acrylate),
2. Примеры2. Examples
2.1 Получение композиций (С1а) для нанесения покрытия в соответствии с изобретением (С1а-1) и соответствующей сравнительной композиции (С1а-2) для нанесения покрытия2.1 Preparation of coating compositions (C1a) according to the invention (C1a-1) and the corresponding comparative coating composition (C1a-2)
Композиции для нанесения покрытия, подходящие в качестве композиции (С1а) для нанесения покрытия для получения композитных материалов (S1C1), получали в соответствии с Таблицей 1, приведенной ниже. Время текучести, которое определяли при комнатной температуре (20°С), находится в диапазоне от 26 до 172 с в случае получения С1а-5 и С1а-9.Coating compositions suitable as the coating composition (C1a) for producing composite materials (S1C1) were prepared in accordance with Table 1 below. The flow time, which was determined at room temperature (20°C), ranges from 26 to 172 s in the case of C1a-5 and C1a-9.
Время текучести, которое определяли посредством метода, описанного выше в пункте 2. (Определение времени текучести), примеров в соответствии с изобретением С1а-2 - СТа-8, имеющих общее количество реактивного разбавителя от 40 до 80% по массе, из расчета общей массы композиции (С1а) для нанесения покрытия, находится в приемлемом диапазоне от 50 с, как было измерено в чашечном вискозиметре 4 мм, до 200 с, как было измерено в чашечном вискозиметре 6 мм. Время текучести сравнительных примеров С1а-1 (общее количество реактивного разбавителя 35% по массе), С1а 10 (общее количество реактивного разбавителя 25% по массе) и С1а-11 (общее количество реактивного разбавителя 25% по массе, композиция в соответствии с KR 2009/0068490 А, пример 1) является неблагоприятно высоким и, следовательно, неприемлемым.The flow time, which was determined by the method described above in paragraph 2. (Determination of the flow time), of examples in accordance with the invention C1a-2 to CTa-8 having a total amount of reactive diluent from 40 to 80% by weight, based on the total weight composition (C1a) for coating is in an acceptable range from 50 s, as measured in a 4 mm cup viscometer, to 200 s, as measured in a 6 mm cup viscometer. Flow times of comparative examples C1a-1 (total reactive diluent 35% by weight), C1a 10 (total reactive diluent 25% by weight) and C1a-11 (total reactive diluent 25% by weight, composition according to KR 2009 /0068490 A, example 1) is unfavorably high and therefore unacceptable.
2.2 Получение композитных материалов (S1C1), посредством применения композиции для нанесения покрытия в соответствии с изобретением (С1а-5) и сравнительной композиции (С1а-9) для нанесения покрытия2.2 Preparation of composite materials (S1C1) by using a coating composition according to the invention (C1a-5) and a comparative coating composition (C1a-9)
Получали несколько разных композитных материалов (S1C1) в соответствии с Таблицей 2, приведенной ниже, посредством применения устройства для тиснения с рулона на пластину (R2P) с клише (e1) для тиснения, изготовленным из никеля, содержащим желаемой изображение подлежащей нанесению тиснением структуры. Таким образом, изображение структур в клише (e1) для тиснения соответствует изображению структур, подлежащих тиснению на композицию (С2а) для нанесения покрытия в последующей стадии.Several different composite materials (S1C1) were produced in accordance with Table 2 below by using a roll-to-plate embosser (R2P) with an embossing die (e1) made of nickel containing the desired image of the structure to be embossed. Thus, the image of the structures in the stamping plate (e1) corresponds to the image of the structures to be embossed onto the composition (C2a) for coating in the subsequent stage.
В указанных примерах, применяли клише (e1) для тиснения, изготовленные из никеля с разными позитивными структурами, а именно с:In the above examples, stamping cliches (e1) were used, made of nickel with different positive structures, namely with:
• микроструктурой M1 (трехмерная треугольная структура высотой 61 мкм и периодическим повтором 130 мкм, или с• microstructure M1 (three-dimensional triangular structure with a height of 61 microns and a periodic repetition of 130 microns, or with
• микроструктурой М2 (двумерная треугольная структура высотой 42 мкм и расстоянием между структурами 55 мкм,• microstructure M2 (two-dimensional triangular structure with a height of 42 microns and a distance between structures of 55 microns,
С этой целью, каждую из описанных выше композиций С1а-5 и С1а-9 для нанесения покрытия наносят на клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения, и на нее наносят PET-пленку в качестве подложки (S1). Затем полученный комплект пленки и соответствующей композиции для нанесения покрытия проходит под прижимным валком и, в то время, пока устройство для тиснения находится в контакте с композицией для нанесения покрытия соответствующего комплекта, композиции для нанесения покрытия по меньшей мере частично отверждаются с помощью УФ-светодиодной лампы. По меньшей мере частично отвержденное покрытие вместе с пленкой, с негативной структурой, если сравнивать с клише (e1) для тиснения, затем отделяют от устройства для тиснения, в результате чего получают структурированную пленку (шаблонную пленку) в качестве композитного материала (S1C1). Шаблонные пленки впоследствии подвергаются дополнительному воздействию УФА-лампы. Символ "-" в Таблице означает, что конкретное дополнительное отверждение не осуществлялось.For this purpose, each of the above-described coating compositions C1a-5 and C1a-9 is applied to the embossing die (e1) of the embossing device (E1), and a PET film is applied thereto as a substrate (S1). The resulting assembly of film and corresponding coating composition is then passed under a pressure roll and, while the embosser is in contact with the coating composition of the corresponding assembly, the coating compositions are at least partially cured using a UV LED lamp . The at least partially cured coating together with the film having a negative structure as compared to the embossing die (e1) is then separated from the embossing apparatus, resulting in a structured film (template film) as a composite material (S1C1). The template films are subsequently subjected to additional exposure to a UVA lamp. The symbol "-" in the Table indicates that a specific additional curing was not performed.
Шаблонные пленки А и Б с микроструктурой M1 применяют для определения качества заполнения клише, адгезии, успешности воспроизведения -смотри Раздел 2.3.1 - а также их применяют для получения пленок для переноса и их исследований, как описано ниже в пунктах 2.4 - 2.5.2. Шаблонные пленки В, Г, Д, и Е с микроструктурой М2 применяют для определения однородности толщины слоя, как описано в Раздел 2.3.2, приведенном ниже. Для получения указанных шаблонных пленок, применяют композиции (С1а-5) и (С1а-9) для нанесения покрытия и, соответственно, композитные материалы (S1C1), причем покрытие (С1) представляет собой покрытие (С1-5) или (С1-9), полученное из композиций (С1а-5) или (С1а-9) для нанесения покрытия, соответственно, имеющее в качестве тисненной структуры микроструктуру M1 или М2.Template films A and B with M1 microstructure are used to determine the quality of cliche filling, adhesion, success of reproduction - see Section 2.3.1 - and they are also used to obtain transfer films and their research, as described below in paragraphs 2.4 - 2.5.2. Template films B, D, E, and E with M2 microstructure are used to determine layer thickness uniformity, as described in Section 2.3.2 below. To obtain the specified template films, compositions (C1a-5) and (C1a-9) are used for coating and, accordingly, composite materials (S1C1), wherein the coating (C1) is a coating (C1-5) or (C1-9 ) obtained from coating compositions (C1a-5) or (C1a-9), respectively, having an M1 or M2 microstructure as an embossed structure.
В другой серии экспериментов, композитные материалы (S1C1) были получены в соответствии с параметрами получения композитных материалов "Шаблонная пленка В", как показано в Таблице 2, причем композиция (С1а-5) для нанесения покрытия была, соответственно, заменена одной из композиций (СТа-1) - (СТа-8), (С1а-10) или (С1а-11) для нанесения покрытия, как показано в Таблице 1, обеспечивая шаблонные пленки Ж - Р.In another series of experiments, composite materials (S1C1) were prepared in accordance with the composite production parameters of "Template Film B" as shown in Table 2, and the coating composition (C1a-5) was accordingly replaced by one of the compositions ( STa-1) - (STa-8), (S1a-10) or (S1a-11) for coating, as shown in Table 1, providing template films F - R.
Все шаблонные пленки Ж - Р, полученные из композиций (С1а-1) - (С1а-8), (С1а-10) или (С1а-11) для нанесения покрытия, показывают приемлемую толщину слоя, находящуюся в диапазоне, составляющем 203 - 225 мкм. Гибкость шаблонных пленок Ж - П, которую определяли через 7 дней после получения в соответствии со способом, описанным в пункте 6. выше, была оценена как "ХОРОШО". Только гибкость шаблонной пленки Р, полученной из сравнительной композиции (С1а-11) для нанесения покрытия, была оценена как "неудовлетворительно". Более того, рассмотрение шаблонных пленок Ж - Р с помощью стереомикроскопа Olympus SZX12 выявило неприемлемое количество захвата воздуха в случае шаблонной пленки Р, полученной из сравнительной композиции (С1а-11) для нанесения покрытия.All J - P master films obtained from coating compositions (C1a-1) - (C1a-8), (C1a-10) or (C1a-11) show acceptable layer thicknesses ranging from 203 - 225 µm. The flexibility of the template films F - P, which was determined 7 days after production in accordance with the method described in paragraph 6. above, was rated as "GOOD". Only the flexibility of the template film P prepared from the comparative composition (C1a-11) for coating was rated as "unsatisfactory." Moreover, examination of the J - P template films using an Olympus SZX12 stereo microscope revealed an unacceptable amount of air entrapment in the case of the P template film prepared from the comparative coating composition (C1a-11).
2.3 Исследования шаблонных пленок (S1C1)2.3 Research on template films (S1C1)
2.3.1 Определение адгезии и заполнения клише.2.3.1 Determination of adhesion and cliche filling.
В приведенной ниже Таблице 3 подытожены исследования, которые были проведены на шаблонных пленках А и Б. Каждое из исследований проводили в соответствии с методами, описанными выше.Table 3 below summarizes the studies that were carried out on template films A and B. Each of the studies was carried out in accordance with the methods described above.
Данные в Таблице 3 показывает хорошую адгезию для шаблонной пленки А в соответствии с изобретением (определение адгезии методом решетчатого надреза и определение адгезии по методу Андреевского креста), по сравнению с неудовлетворительной адгезией, достигнутой сравнительной шаблонной пленкой Б (определение адгезии методом решетчатого надреза имело оценку 5, определение адгезии по методу Андреевского креста имело негативную оценку). Если адгезия шаблонного покрытия (С1) к подложке (S1), в указанных примерах адгезия композиций (С1-5) и (С1-9) для нанесения покрытия к РЕТ-пленке, является недостаточной, то могут возникнуть проблемы, как во время тиснения композиции (С1а) для нанесения покрытия, так и, в дальнейшем, при применении шаблонной пленки в качестве клише (е2) для тиснения композиции (С2а) для нанесения покрытия.The data in Table 3 shows good adhesion for template film A according to the invention (grid cut adhesion test and St. Andrew's Cross adhesion test), compared to the poor adhesion achieved by comparative template film B (grid cut adhesion test scored 5 , the determination of adhesion using the St. Andrew's cross method had a negative assessment). If the adhesion of the template coating (C1) to the substrate (S1), in these examples the adhesion of the coating compositions (C1-5) and (C1-9) to the PET film, is insufficient, then problems may arise, as during embossing of the composition (C1a) for coating, and, subsequently, when using a template film as a cliche (e2) for embossing the composition (C2a) for coating.
Успешность воспроизведения шаблонной пленки А оставалась такой же хорошей, как и успешности воспроизведения шаблонной пленки Б (Таблица 3, успешность воспроизведения). Следовательно, также в случае применения композиции для нанесения покрытия в соответствии с изобретение не оставалось остатков на клише (e1) для тиснения.The reproduction success of template film A remained as good as the reproduction success of template film B (Table 3, reproduction success). Therefore, also in the case of using the coating composition according to the invention, no residue was left on the embossing block (e1).
Заполнение клише шаблонных пленок А и Б определяли, как описано выше, посредством визуального осмотра и сравнения изображений РЭМ треугольных элементов, нанесенных тиснением на композиции (С1а) для нанесения покрытия, нанесенных на подложки (S1) с помощью клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения (Фиг. 3). Сравнение изображений РЭМ шаблонных пленок А и Б показывает полный и сопоставимый перенос структур с клише для тиснения на композицию (С1а) для нанесения покрытия, включая острые детали, такие как края и треугольные элементы. Следовательно, введение больших количеств силикон(мет)акрилатных олигомеров в композицию (С1а) для нанесения покрытия в соответствии с изобретением, не приводило к получению каких-либо потерь качества заполнения клише, как можно было ожидать из-за различных поверхностных натяжений композиций (С1а-5) и (С1а-9) для нанесения покрытия. Следовательно, наблюдается полное и сопоставимое наполнение негативных элементов в клише для обеих композиций С1а-1 и С1а-2 для нанесения покрытия.The cliche filling of master films A and B was determined as described above by visual inspection and comparison of SEM images of triangular elements embossed on the coating compositions (C1a) applied to the substrates (S1) using the cliches (e1) of the embossing fixture ( E1) for embossing (Fig. 3). Comparison of SEM images of master films A and B shows complete and comparable transfer of structures from the embossing block to the coating composition (C1a), including sharp features such as edges and triangular elements. Consequently, the introduction of large quantities of silicone (meth)acrylate oligomers into the coating composition (C1a) in accordance with the invention did not lead to any loss in the quality of the cliche filling, as might be expected due to the different surface tensions of the compositions (C1a- 5) and (C1a-9) for coating. Consequently, there is a complete and comparable filling of negative elements in the cliche for both compositions C1a-1 and C1a-2 for coating.
Подводя итог, можно констатировать, что только шаблонная пленка А обеспечивает хорошие результаты в отношении всех исследуемых характеристик (адгезия, заполнение клише, успешность воспроизведения).To summarize, it can be stated that only template film A provides good results in terms of all the characteristics studied (adhesion, cliche filling, reproduction success).
2.3.2 Определение однородности толщины слоя2.3.2 Determination of uniformity of layer thickness
В приведенной ниже Таблице 4, подытожены исследования, которые были проведены на шаблонных пленках В, Г, Д, и Е. Каждое из исследований проводили в соответствии с методами, описанными выше. В этой серии экспериментов прилагаемое давление (3,3 бара) и размер щели (3,28 мм) устройства для нанесения покрытий для нанесения композиции для нанесения покрытия были одинаковыми.Table 4 below summarizes the studies that were carried out on template films B, D, E, and E. Each of the studies was carried out in accordance with the methods described above. In this series of experiments, the applied pressure (3.3 bar) and the slit size (3.28 mm) of the coater for applying the coating composition were the same.
Данные в Таблице 4 показывают сильное уменьшение между максимальной разницей в толщине слоя (дельта минимальной и максимальной толщины слоя (S1C1)), которую определяли для применяемых в соответствии с изобретением шаблонных пленок В и Д, по сравнению со сравнительными шаблонными пленками Г и Е, для двух скоростей обработки, что также отражено намного меньшими среднеквадратическими отклонениями. Более того, толщина слоя нанесенных композиций для нанесения была не только намного более однородной, но и средняя толщина слоя как таковая также могла повышаться.The data in Table 4 shows a strong decrease between the maximum difference in layer thickness (delta of the minimum and maximum layer thickness (S1C1)), which was determined for the template films B and E used in accordance with the invention, compared with the comparative template films D and E, for two processing speeds, which is also reflected by much smaller standard deviations. Moreover, not only was the layer thickness of the applied application compositions much more uniform, but the average layer thickness as such could also be increased.
Если толщина слоя шаблонного покрытия (С1а) является слишком неоднородной по всей ширине подложки (S1), то проблемы могут возникнуть во время тиснения, как композиции (С1а) для нанесения покрытия, а также, в дальнейшем, так и композиции (С2а) для нанесения покрытия. Качество воспроизведения изображения структур с клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения, особенно в отношении более крупных размеров, как правило, улучшается с однородностью толщины слоя композиции (С1а) для нанесения покрытия, поскольку давление, приложенное для вдавливания позитивных элементов клише (e1) для тиснения приспособления (Е1) для тиснения в композицию (С1а) для нанесения покрытия распределяется равномерно, обеспечивая равномерное вдавливание по всей ширине приспособления для тиснения. Следовательно, однородная толщина слоя композиции (С1а) для нанесения покрытия будет приводить к получению более высокого качества воспроизведения элементов клише (e1) для тиснения в покрытии (С1), имеющем однородный остаточный слой по всей или почти по всей ширине пленки. В результате, при применении композитного материала (S1C1) в качестве клише для тиснения как такового, такого как клише (е2) для тиснения, однородная толщина слоя покрытия (С1) позволит улучшить перенос тисненных структур на композицию (С2а) для нанесения покрытия, и также в данном случае давление, прилагаемое к композитному материалу (S1C1) более равномерно распределяется по всему композитному материалу (S1C1), обеспечивая более высокое качество воспроизведения и более воспроизводимый перенос тисненных структур на композицию (С2а) для нанесения покрытия.If the thickness of the pattern coating layer (C1a) is too uneven across the entire width of the substrate (S1), then problems may arise during embossing of both the coating composition (C1a) and subsequently the coating composition (C2a). coverings. The image reproduction quality of the cliche structures (e1) of the embossing fixture (E1) for embossing, especially in relation to larger sizes, generally improves with the uniformity of the layer thickness of the coating composition (C1a) as the pressure applied to indent the positive elements of the cliche (e1) for embossing the embossing tool (E1) into the coating composition (C1a) is distributed evenly, providing uniform indentation across the entire width of the embossing tool. Consequently, a uniform layer thickness of the coating composition (C1a) will result in higher quality reproduction of the embossing plate elements (e1) in a coating (C1) having a uniform residual layer over the entire or almost the entire width of the film. As a result, when using a composite material (S1C1) as an embossing die per se, such as an embossing die (e2), a uniform thickness of the coating layer (C1) will improve the transfer of the embossed structures onto the coating composition (C2a), and also in this case, the pressure applied to the composite material (S1C1) is more evenly distributed throughout the composite material (S1C1), providing higher quality reproduction and more reproducible transfer of the embossed structures onto the coating composition (C2a).
Подводя итог, можно констатировать, что однородность толщины слоя шаблонных пленок В и Д была сильно улучшена, по сравнению с шаблонными пленками Г и Е.To summarize, it can be stated that the layer thickness uniformity of template films B and D was greatly improved compared with template films D and E.
2.4 Получение пленок (S1C1C2) для переноса:2.4 Preparation of films (S1C1C2) for transfer:
Затем, каждую из шаблонных пленок (S1C1), полученных, соответственно, со структурой M1, применяли в устройстве для тиснения с рулона на пластину (R2P), и композицию (С2а) для нанесения покрытия наносили на структурированную поверхность соответствующей шаблонной пленки с толщиной сухого слоя, составляющей 40 мкм. Полученный комплект шаблонной пленки и композиции (С2а) для нанесения покрытия временно покрывали ТАС-пленкой для защиты композиции (С2а) для нанесения покрытия от воздействия кислорода и механических воздействий. В свою очередь, полученный комплект, содержащий шаблонную пленку (S1C1), композицию (С2а) для нанесения покрытия, нанесенную на нее, и ТАС-пленку, нанесенную на композицию (С2а) для нанесения покрытия, затем пропускали под прижимным валком (прилагаемое давление 6 бар), одновременно с процессом по меньшей мере частичного отверждения композиции (С2а) для нанесения покрытия посредством УФ-светодиодной лампы. Применяемая в данном случае лампа представляет собой УФ-светодиодную лампу от компании Easytec, длина волны 365 нм, мощность 6 Вт (100% мощность лампы, 2 м/мин, 2 прохода). Таким образом, после удаления защитной ТАС-пленки, из шаблонной пленки А получают композитный материал (S1C1C2-1), и из шаблонной пленки Б получают композитный материал (S1C1C2-2).Then, each of the template films (S1C1) obtained respectively with the structure M1 was used in a roll-to-plate embossing machine (R2P), and the coating composition (C2a) was applied to the structured surface of the corresponding template film at a dry layer thickness , amounting to 40 microns. The resulting template film and coating composition (C2a) set was temporarily coated with TAC film to protect the coating composition (C2a) from oxygen and mechanical stress. In turn, the resulting set containing the template film (S1C1), the coating composition (C2a) applied thereto, and the TAC film applied to the coating composition (C2a) was then passed under a pressure roller (applied pressure 6 bar), simultaneously with the process of at least partially curing the coating composition (C2a) using a UV LED lamp. The lamp used in this case is a UV LED lamp from Easytec, wavelength 365 nm, power 6 W (100% lamp power, 2 m/min, 2 passes). Thus, after removing the protective TAC film, a composite material (S1C1C2-1) is obtained from template film A, and a composite material (S1C1C2-2) is obtained from template film B.
Применяемая композиция (С2а) для нанесения покрытия представляет собой доступную на рынке, отверждаемую под действием излучения композицию для нанесения покрытия, которая содержит по меньшей мере один уретанакрилат, по меньшей мере один фотоинициатор, а также доступные на рынке добавки.The coating composition (C2a) used is a commercially available, radiation-curable coating composition that contains at least one urethane acrylate, at least one photoinitiator, as well as commercially available additives.
2.5 Исследования композитных материалов (S1C1C2) 2.5.1 Характеристики разделения I) в зависимости от времени между получением композитного материала (S1C1) и нанесением композиции (С2а) для нанесения покрытия и II) в зависимости от времени между нанесением композиции (С2а) для нанесения покрытия на композитный материал (S1C1) и разделением.2.5 Studies of composite materials (S1C1C2) 2.5.1 Separation characteristics I) depending on the time between preparation of the composite material (S1C1) and application of the coating composition (C2a) and II) depending on the time between application of the coating composition (C2a) onto composite material (S1C1) and separation.
В приведенной ниже Таблице 5 подытожены результаты исследований характеристик разделения между структурированной шаблонной пленкой (S1C1) и полученным в результате покрытием (С2), в зависимости от времени хранения шаблонной пленки (S1C1), выраженных качеством воспроизведения, с учетом конкретной шаблонной пленки (S1C1), применяемой для тиснения. Покрытие (С2) удаляют с композитного материала (S 1С 1) посредством отслоения. Символ "-" в Таблице означает, что конкретное исследование не осуществлялось.Table 5 below summarizes the results of studies on the separation characteristics between the structured template film (S1C1) and the resulting coating (C2), depending on the storage time of the template film (S1C1), expressed by the reproduction quality, taking into account the specific template film (S1C1), used for embossing. The coating (C2) is removed from the composite material (S 1C 1) by peeling. The symbol "-" in the Table means that a particular study was not carried out.
При применении шаблонной пленки Б, успешность воспроизведения при разделении шаблонной пленки (S1C1) и покрытия (С2) составляет намного ниже <100%, даже 0%, когда композицию (С2а) для нанесения покрытия наносят через 5 дней после получения шаблонной пленки (S1C1) из композиции (С1а-9) для нанесения покрытия, и при разделении непосредственно после отверждения. Следовательно, большие части покрытия (С2) не могли быть отделены или удалены из покрытия (С1) соответствующей шаблонной пленки Б без разрушения покрытия (С2) или шаблонной пленки Б. Шаблонная пленка "Р", полученная из сравнительной композиции (С1а-11) для нанесения покрытия, описанной в Таблице 2, оставалась липкой после отверждения, что приводило к тому, что указанные шаблонные пленки прилипали друг над другом при хранении, а также к неудовлетворительным характеристикам отделения от покрытия (С2), составляющим 0% непосредственно, и через 1 день после отверждения. В отличие от этого, при применении исследуемой шаблонной пленки А, достигалась успешность воспроизведения при отделении, составляющая 100% или примерно 100% (97%), независимо от времени, прошедшего между получением шаблонной пленки и нанесением композиции (С2а) для нанесения покрытия, или времени, прошедшего после тиснения и отверждения композиции (С2а) для нанесения покрытия, нанесенной на шаблонную пленку (S1C1). Другими словами, применение шаблонной пленки А обеспечивает очень высокую успешность воспроизведения (как показатель характеристики отделения) независимо от времени хранения шаблонной пленки как таковой, позволяя даже хранить или транспортировать комплект слоя (S1C1C2), состоящий из шаблонной пленки (S1C1) и покрытия (С2). Следовательно, шаблонная пленка А позволяет, по сравнению с шаблонной пленкой Б, непосредственно наносить композицию (С2а) для нанесения покрытия на шаблонную пленку, наносить ее после нескольких дней или даже наносить композицию (С2а) для нанесения покрытия и хранить ее вместе с шаблонной пленкой (S1С1) до отделения покрытия (С2) от шаблонной пленки (S1C1), что обеспечивает защиту отпечатанных структур композитного материала (S1C1), чистое отделение от композитного материала (S1С1) без остатков, улучшая таким образом возможность повторного применения композитного материала (S1С1) в качестве клише для тиснения, позволяя получать тисненное покрытие (С2) в виде отдельной пленки. Подобное относится к 9-дневным шаблонным пленкам Ж - П, полученным из композиций (С1а-1) - (С1а-8), и (С1а-10) для нанесения покрытия, которые показывают характеристики отделения покрытия (С2) непосредственно и через 1 день после отверждения, составляющие 100%.When using template film B, the reproducibility success rate in separating the template film (S1C1) and coating (C2) is much lower than <100%, even 0%, when the coating composition (C2a) is applied 5 days after obtaining the template film (S1C1) from the composition (C1a-9) for coating, and when separated immediately after curing. Consequently, large portions of the coating (C2) could not be separated or removed from the coating (C1) of the corresponding template film B without destroying the coating (C2) or template film B. Template film "P" prepared from comparative composition (C1a-11) for coating described in Table 2 remained tacky after curing, which resulted in these template films sticking on top of each other during storage, as well as unsatisfactory peel-off characteristics (C2) of 0% immediately and after 1 day after curing. In contrast, when using the test template film A, a separation success rate of 100% or about 100% (97%) was achieved, regardless of the time elapsed between obtaining the template film and application of the coating composition (C2a), or the time elapsed after embossing and curing of the coating composition (C2a) applied to the template film (S1C1). In other words, the use of master film A provides a very high success rate of reproduction (as an indicator of peel-off performance) regardless of the storage time of the master film itself, even allowing the storage or transport of a layer set (S1C1C2) consisting of a master film (S1C1) and a coating (C2) . Therefore, template film A allows, compared to template film B, the coating composition (C2a) to be directly applied to the template film, applied after several days, or even the coating composition (C2a) to be applied and stored together with the template film ( S1C1) until the coating (C2) is separated from the template film (S1C1), which protects the printed structures of the composite material (S1C1), clean separation from the composite material (S1C1) without residue, thus improving the reusability of the composite material (S1C1) as cliche for embossing, allowing you to obtain an embossed coating (C2) in the form of a separate film. The same applies to 9-day template films F - P, obtained from compositions (C1a-1) - (C1a-8), and (C1a-10) for coating, which show coating release characteristics (C2) immediately and after 1 day after curing, amounting to 100%.
2.5.2 Заполнение клише2.5.2 Filling cliches
Качество заполнения клише композицией (С2а) для нанесения покрытия в шаблонных пленках А и Б (Фиг. 3), применяемых в качестве клише для тиснения, определяли, как описано выше, посредством визуального осмотра и сравнения изображений РЭМ треугольных элементов, перенесенных на композицию (С2а) для нанесения покрытия посредством тиснения, при этом идентичную композицию (С2а) для нанесения покрытия наносили через 11 дней после получения шаблонной фольги А или В, соответственно, и отделение осуществляли непосредственно после отверждения (Фиг. 4). В данном случае, сравнение изображений РЭМ тисненного и отвержденного покрытия (С2) после отделения от шаблонной пленки А и Б также показывает полный и сопоставимый перенос структур с шаблонных пленок А и Б на композицию (С2а) для нанесения покрытия, в том числе острые детали, такие как края и треугольные элементы. На Фиг. 4, покрытие (С2), полученное после отделения от шаблонной пленки А в соответствии с изобретением, обозначается как покрытие С2-1. Соответственно, покрытие (С2), полученное после отделения от шаблонной пленки Б, обозначается как покрытие С2-2. Следовательно, введение больших количеств силикон(мет)акрилатных олигомеров в композицию (С1а) для нанесения покрытия в соответствии с изобретением не приводило к получению каких-либо потерь качества заполнения клише или уменьшения заполнения клише, как можно было ожидать из-за различных поверхностных энергий композиций (С1-5) и (С1-9) для нанесения покрытия, по сравнению с поверхностным натяжением композиции (С2а) для нанесения покрытия. Следовательно, наблюдали полный и сопоставимый перенос позитивных элементов шаблонных пленок А и Б, содержащих композиции (С1а-5) и (С1а-9) для нанесения покрытия.The quality of filling the cliches with the composition (C2a) for coating in template films A and B (Fig. 3), used as cliches for embossing, was determined as described above, through visual inspection and comparison of SEM images of triangular elements transferred to the composition (C2a ) for embossing coating, wherein an identical coating composition (C2a) was applied 11 days after production of template foil A or B, respectively, and peeling was carried out immediately after curing (FIG. 4). In this case, comparison of SEM images of the embossed and cured coating (C2) after separation from the template films A and B also shows a complete and comparable transfer of structures from the template films A and B to the coating composition (C2a), including sharp parts, such as edges and triangular elements. In FIG. 4, the coating (C2) obtained after separation from the template film A according to the invention is designated as coating C2-1. Accordingly, the coating (C2) obtained after separation from the template film B is designated as coating C2-2. Consequently, the introduction of large quantities of silicone (meth)acrylate oligomers into the coating composition (C1a) according to the invention did not result in any loss in cliche filling quality or reduction in cliche filling, as might be expected due to the different surface energies of the compositions (C1-5) and (C1-9) for coating, compared to the surface tension of the composition (C2a) for coating. Consequently, complete and comparable transfer of positive elements of template films A and B containing coating compositions (C1a-5) and (C1a-9) was observed.
Claims (56)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19199453.2 | 2019-09-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2822393C1 true RU2822393C1 (en) | 2024-07-04 |
Family
ID=
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2286883C2 (en) * | 2002-01-11 | 2006-11-10 | Таркетт Инк. | Selectively stamped surface coating (versions) and the method of its manufacture (versions) |
US20070204953A1 (en) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Ching-Bin Lin | Method for forming structured film as molded by tape die |
DE102007062123A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Giesecke & Devrient Gmbh | Tool mold for creating a microstructure |
KR20090068490A (en) * | 2007-12-24 | 2009-06-29 | 동우 화인켐 주식회사 | Composition for nano-pattern forming mold and polymer mold using the same |
US7964243B2 (en) * | 2007-04-30 | 2011-06-21 | S.D. Warren Company | Materials having a textured surface and methods for producing same |
RU2449881C2 (en) * | 2006-04-18 | 2012-05-10 | 3М Инновейтив Пропертиз Компани (3М Innovative Properties Company) | Embossed structured abrasive article and method of its production and use |
WO2015154866A1 (en) * | 2014-04-08 | 2015-10-15 | Giesecke & Devrient Gmbh | Method for producing a security element |
US20160082688A1 (en) * | 2013-04-05 | 2016-03-24 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Multilayer structure, method for producing same, and article |
US9778564B2 (en) * | 2013-04-18 | 2017-10-03 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Imprint material |
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2286883C2 (en) * | 2002-01-11 | 2006-11-10 | Таркетт Инк. | Selectively stamped surface coating (versions) and the method of its manufacture (versions) |
US20070204953A1 (en) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Ching-Bin Lin | Method for forming structured film as molded by tape die |
RU2449881C2 (en) * | 2006-04-18 | 2012-05-10 | 3М Инновейтив Пропертиз Компани (3М Innovative Properties Company) | Embossed structured abrasive article and method of its production and use |
US7964243B2 (en) * | 2007-04-30 | 2011-06-21 | S.D. Warren Company | Materials having a textured surface and methods for producing same |
DE102007062123A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Giesecke & Devrient Gmbh | Tool mold for creating a microstructure |
KR20090068490A (en) * | 2007-12-24 | 2009-06-29 | 동우 화인켐 주식회사 | Composition for nano-pattern forming mold and polymer mold using the same |
US20160082688A1 (en) * | 2013-04-05 | 2016-03-24 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Multilayer structure, method for producing same, and article |
US9778564B2 (en) * | 2013-04-18 | 2017-10-03 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Imprint material |
WO2015154866A1 (en) * | 2014-04-08 | 2015-10-15 | Giesecke & Devrient Gmbh | Method for producing a security element |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111886117B (en) | Method for transferring an embossed structure to a surface of a coating and composite comprising said coating | |
AU2019240858B2 (en) | Method for transferring an embossed structure to the surface of a coating means and compound structure usable as an embossing die | |
JP7560491B2 (en) | Method for transferring an embossed structure to a coating composition involving pre-treatment of an embossing tool - Patent Application 20070123333 | |
RU2822393C1 (en) | Method of transferring embossed structure onto coating surface and composite material used as die for embossing | |
CN114521167B (en) | Method for transferring an embossed structure to a surface of a coating and composite which can be used as an embossing die | |
RU2778706C2 (en) | Method for transfer of embossed structure to surface of covering means, and combined material used as matrix for embossing | |
RU2777734C2 (en) | Method for transfer of embossed structure to coating surface, and combined material containing this coating | |
RU2787108C1 (en) | Method for manufacturing a structured product by application of a removable protective layer and a structured product obtained by the specified method | |
AU2020354334B2 (en) | Process to prepare a structured article using a removable protective layer and structured article obtained by said process |