RU2785334C1

RU2785334C1 - Protective element

Info

Publication number: RU2785334C1
Application number: RU2022106270A
Authority: RU
Inventors: Штефан ТРАССЛ
Original assignee: Хуек Фолиен Гезелльшафт М.Б.Х.
Priority date: 2019-08-12
Filing date: 2020-08-12
Publication date: 2022-12-06

Abstract

FIELD: securities.

SUBSTANCE: The invention relates to a protective element (1) for securities or securities with anti-counterfeit protection, and the security element (1) has an embossed (2), in particular diffraction embossed structures (3), and the embossed structures (2) are at least partially covered with a metal layer divided into parts and forming a mosaic pattern (4).

EFFECT: The present invention provides a protective element for securities.

1 cl, 12 cl, 1 dwg

Description

Изобретение относится к защитному элементу для ценных бумаг или бумаг с защитой от подделок, причем защитный элемент имеет тиснение, в частности, дифракционные тисненые структуры.The invention relates to a security element for securities or anti-counterfeiting papers, the security element being embossed, in particular diffractive embossed structures.

В связи с данным описанием под ценными документами и бумагами с защитой от подделок понимают, в частности, банкноты, заграничные паспорта, удостоверения личности, водительские права, билеты на мероприятия, ценные бумаги и тому подобные.In connection with this description, valuable documents and counterfeit-proof papers are understood to mean, in particular, banknotes, foreign passports, identity cards, driver's licenses, event tickets, securities and the like.

Защитные элементы вышеуказанного типа известны в большом числе. Для этого обычно используют тиснения, чтобы сформировать оптически различимый защитный признак.Security elements of the above type are known in large numbers. For this, embossings are usually used to form an optically distinguishable security feature.

Задача настоящего изобретения состоит в создании тисненого защитного элемента, уровень защиты посредством которого от подделки дополнительно повышена.The object of the present invention is to provide an embossed security element by which the level of security against counterfeiting is further increased.

Эта задача согласно изобретению решена посредством защитного элемента вышеуказанного типа тем, что тисненые структуры по меньшей мере частично покрыты разделенным на части металлическим и образующим мозаичный рисунок слоем.This problem is solved according to the invention by means of a security element of the above type, in that the embossed structures are at least partially covered with a layer which is divided into parts and forms a mosaic pattern.

Комбинацией тисненых структур с мозаичным рисунком может быть сформирован рисунок с различимым для наблюдателя трехмерным изображением, благодаря чему значительно возрастает уровень защиты от подделки.By combining the embossed structures with the mosaic pattern, a three-dimensional pattern can be formed that is visible to the observer, thereby significantly increasing the level of security against counterfeiting.

Согласно одному предпочтительному варианту осуществления изобретения, может быть предусмотрено, что тисненые структуры выполнены как ахроматические тисненые структуры.According to one preferred embodiment of the invention, it can be provided that the embossed structures are designed as achromatic embossed structures.

Особенно благоприятным оказалось то, что тисненые структуры образуют согласованный с мозаичным рисунком рельеф. Например, тисненые структуры могут соответствовать трехмерному воспроизведению сформированного мозаичным рисунком изображения или мотива мозаичного рисунка.It turned out to be particularly favorable that the embossed structures form a relief consistent with the mosaic pattern. For example, the embossed structures may correspond to a three-dimensional reproduction of a tiled image or tiled motif.

Согласно предпочтительному усовершенствованию изобретения, тисненые структуры могут образовывать плоский рельеф. Пример плоского рельефа представляет собой тиснение на монете.According to a preferred development of the invention, the embossed structures can form a flat relief. An example of flat relief is the embossing on a coin.

Чтобы достигать особенно хорошего пластичного впечатления мозаичного рисунка, может быть предусмотрено, что тисненые структуры являются светопроницаемыми.In order to achieve a particularly good plastic impression of the mosaic pattern, it can be provided that the embossed structures are translucent.

Согласно одному предпочтительному варианту осуществления изобретения, может быть предусмотрено, что защитный элемент имеет несущую пленку из синтетического материала, в частности, из светопроницаемого синтетического материала.According to one preferred embodiment of the invention, it can be provided that the security element has a carrier film of synthetic material, in particular of translucent synthetic material.

Соответственно одному предпочтительному варианту исполнения предусмотрено, что несущая пленка и/или тисненые структуры выполнены из одного или нескольких материалов, выбранных из группы, включающей полиимид (PI), полипропилен (PP), моноаксиально ориентированный полипропилен (MOPP), биаксиально ориентированный полипропилен (BOPP), полиэтилен (PE), полифениленсульфид (PPS), простой полиэфирэфиркетон (PEEK), простой полиэфиркетон (PEK), полиэтиленимид (PEI), полисульфон (PSU), простой полиарилэфиркетон (PAEK), полиэтиленнафталат (PEN), жидкокристаллические полимеры (LCP), сложный полиэфир, полибутилентерефталат (PBT), полиэтилентерефталат (PET), полиамид (PA), поликарбонат (PC), циклоолефиновые сополимеры (COC), полиоксиметилен (POM), акрилонитрил-бутадиен-стирольный сополимер (ABS), поливинилхлорид (PVC), этилентетрафторэтилен (ETFE), политетрафторэтилен (PTFE), поливинилфторид (PVF), поливинилиденфторид (PVDF) и/или тройной фторсополимер этилена, тетрафторэтилена и гексафторпропилена (EFEP).According to one preferred embodiment, it is provided that the carrier film and/or the embossed structures are made of one or more materials selected from the group consisting of polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP) , polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), polyvinyl chloride (PVC), ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF), and/or ethylene tetrafluoroethylene hexafluoropropylene terpolymer (E FEP).

Особенно благоприятным оказалось, что образующий мозаичный рисунок слой сформирован из по меньшей мере одного металлического материала, в частности, выбранного из группы, включающей алюминий, серебро, медь, золото, платину, ниобий, олово или из никеля, титана, ванадия, хрома, кобальта и палладия, или сплавов этих материалов, в частности, кобальт-никелевых сплавов, или из по меньшей мере одного диэлектрического материала с высоким показателем преломления свыше 1,65, в частности, выбранного из группы, включающей сульфид цинка (ZnS), оксид цинка (ZnO), диоксид титана (TiO₂), углерод (C), оксид индия (In₂O₃), оксид индия-олова (ITO), пентоксид тантала (Ta₂O₅), оксид церия (CeO₂), оксид иттрия (Y₂O₃), оксид европия (Eu₂O₃), оксид железа, например, такой как оксид железа(III) (Fe₃O₄) и оксид железа(II) (Fe₂O₃), нитрид гафния (HfN), карбид гафния (HfC), оксид гафния (HfO₂), оксид лантана (La₂O₃), оксид магния (MgO), оксид неодима (Nd₂O₃), оксид празеодима (Pr₆O₁₁), оксид самария (Sm₂O₃), триоксид сурьмы (Sb₂O₃), карбид кремния (SiC), нитрид кремния (Si₃N₄), монооксид кремния (SiO), триоксид селена (Se₂O₃), оксид олова (SnO₂), триоксид вольфрама (WO₃), органические мономеры с высоким показателем преломления и/или органические полимеры с высоким показателем преломления, или слои из оксидов металлов, например, таких, как нестехиометрический оксид алюминия, оксид меди, или оксид хрома. Эти оксиды металлов обусловливают характеристическое окрашивание, так, например, нестехиометрический оксид алюминия выглядит черным, оксид меди бывает черным или красным. В альтернативном варианте, слой может быть сформирован по меньшей мере из одного металлического материала из печатных красок или лаков с металлическими пигментами, в частности, выбранными из группы, включающей алюминий, серебро, медь, золото, платину, ниобий, олово или из никеля, титана, ванадия, хрома, кобальта и палладия, или из сплавов этих материалов, в частности, кобальт-никелевых сплавов, посредством общеизвестных способов печати.Particularly advantageous is that the layer forming the mosaic pattern is formed from at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of aluminium, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin or nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt. and palladium, or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys, or at least one dielectric material with a high refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide ( ZnO), titanium dioxide (TiO ₂ ), carbon (C), indium oxide (In ₂ O ₃ ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta ₂ O ₅ ), cerium oxide (CeO ₂ ), yttrium oxide (Y ₂ O ₃ ), europium oxide (Eu ₂ O ₃ ), iron oxide such as iron(III) oxide (Fe ₃ O ₄ ) and iron(II) oxide (Fe ₂ O ₃ ), hafnium nitride ( HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (HfO ₂ ), lanthanum oxide (La ₂ O ₃ ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd ₂ O ₃ ), praseodymium oxide (Pr ₆ O ₁₁ ), samarium oxide (Sm ₂ O ₃ ), antimony trioxide (Sb ₂ O ₃ ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si ₃ N ₄ ), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se ₂ O ₃ ), tin oxide (SnO ₂ ), tungsten trioxide (WO ₃ ), high refractive index organic monomers and/or high refractive index organic polymers, or layers of metal oxides, such as, for example, non-stoichiometric alumina, copper oxide, or chromium oxide. These metal oxides are responsible for the characteristic coloration, for example, non-stoichiometric alumina appears black, copper oxide appears black or red. Alternatively, the layer may be formed from at least one metallic material from printing inks or lacquers with metallic pigments, in particular selected from the group consisting of aluminium, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin or nickel, titanium , vanadium, chromium, cobalt and palladium, or from alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys, by means of well-known printing methods.

Мозаичный рисунок предпочтительно образован из элементов изображения, которые имеют различные величину и форму, причем элемент изображения образован сопряженной поверхностью образующего мозаичный рисунок слоя, и причем между двумя элементами изображения образующий мозаичный рисунок слой прерван.The tiling is preferably formed from image elements that are of different size and shape, the image element being formed by the conjugated surface of the tiling layer, and the tiling layer being interrupted between two image elements.

Согласно одному особенно предпочтительному варианту исполнения, элементы изображения с различными размерами соответствуют различным мозаикам мозаичного рисунка.According to one particularly preferred embodiment, image elements with different sizes correspond to different tiles of the mosaic pattern.

Особенно предпочтительно участки разрыва образующего мозаичный рисунок слоя образованы деметаллированием.Particularly preferably, the ruptured portions of the tiled layer are formed by demetalization.

Несущая пленка может иметь толщину 5-700 мкм, предпочтительно 5-200 мкм, особенно предпочтительно 5-125 мкм, в частности, 10-75 мкм.The carrier film may have a thickness of 5-700 µm, preferably 5-200 µm, particularly preferably 5-125 µm, in particular 10-75 µm.

Толщина слоя, образующего мозаичный рисунок слоя на всех не имеющих выемки участках, слоя предпочтительно является одинаковой.The thickness of the layer forming the mosaic pattern of the layer in all non-indented areas of the layer is preferably the same.

Для лучшего понимания изобретения оно подробнее разъяснено нижеследующими фигурами.For a better understanding of the invention, it is explained in more detail by the following figures.

В каждом случае в сильно увеличенном виде показано схематическое изображение:In each case, a highly enlarged schematic representation is shown:

Фиг. 1 представляет вид в разрезе соответствующего изобретению защитного элемента.Fig. 1 is a sectional view of a security element according to the invention.

В порядке введения следует отметить, что в различных описываемых вариантах исполнения одинаковые части снабжены одинаковыми номерами позиций, соответственно, одинаковыми обозначениями компонентов, причем приведенные во всем описании элементы изобретения целесообразно могут быть перенесены на такие же детали с такими же номерами, соответственно, одинаковыми обозначениями компонентов. Выбранные в описании данные о положении, например, такие как выше, ниже, сбоку, и т.д., относятся к непосредственно описываемой и, соответственно, представленной фигуре, и эти сведения о положении при изменении положения целесообразно должны быть перенесены на новое положение.By way of introduction, it should be noted that in the various described embodiments, the same parts are provided with the same reference numbers, respectively, the same component designations, and the elements of the invention given throughout the description can expediently be transferred to the same parts with the same numbers, respectively, the same component designations. . The position data selected in the description, such as above, below, sideways, etc., refer to the directly described and respectively represented figure, and this position information should appropriately be transferred to the new position when the position is changed.

Согласно Фиг. 1, соответствующий изобретению защитный элемент 1 для ценных бумаг или бумаг с защитой от подделок имеет тиснение 2 с тиснеными структурами 3. Тисненые структуры 3 предпочтительно выполнены как дифракционные тисненые структуры. Тисненые структуры 2 по меньшей мере частично покрыты разделенным на части металлическим и образующим мозаичный рисунок слоем 4. Под разделенным на части слоем при этом понимают слой, который прерывается, и тем самым присутствует только частично как замкнутый слой.According to FIG. 1, the security element 1 according to the invention for securities or anti-counterfeiting papers has an embossment 2 with embossed structures 3. The embossed structures 3 are preferably designed as diffractive embossed structures. The embossed structures 2 are at least partially covered with a divided metallic and tessellated layer 4. A divided layer is here understood to be a layer which is interrupted and therefore only partially present as a closed layer.

В дополнение, тисненые структуры 2 могут быть выполнены как ахроматические тисненые структуры. Тисненые структуры 3 могут образовывать определяющий мозаичный рисунок рельеф, в частности, плоский рельеф. Кроме того, тисненые структуры 3 могут быть светопроницаемыми.In addition, the embossed structures 2 can be made as achromatic embossed structures. The embossed structures 3 can form a pattern-defining relief, in particular a flat relief. In addition, the embossed structures 3 can be translucent.

Благоприятные боковые размеры тисненых структур составляют 0,3-5,0 мкм, особенно предпочтительно между 0,5-2,0 мкм.Favorable side dimensions of the embossed structures are 0.3-5.0 µm, particularly preferably between 0.5-2.0 µm.

Кроме того, как очевидно из Фиг. 1, защитный элемент может иметь несущую пленку 5 из синтетического материала, в частности, из светопроницаемого синтетического материала. Тисненые структуры 3 могут быть вытиснены непосредственно в несущей пленке 5. Но в альтернативном варианте тисненые структуры 3 могут быть также вытиснены в находящемся на несущей пленке 5 слое, например, слое предназначенного для тиснения лака. Несущая пленка 5 предпочтительно имеет толщину 5-700 мкм, предпочтительно 5-200 мкм, особенно предпочтительно 5-125 мкм, в частности, 10-75 мкм.Moreover, as is evident from FIG. 1, the security element may have a carrier film 5 made of synthetic material, in particular of translucent synthetic material. The embossed structures 3 can be embossed directly in the carrier film 5. Alternatively, however, the embossed structures 3 can also be embossed in a layer located on the carrier film 5, for example a layer of embossing varnish. The carrier film 5 preferably has a thickness of 5-700 µm, preferably 5-200 µm, particularly preferably 5-125 µm, in particular 10-75 µm.

Несущая пленка 5 и/или тисненые структуры 3 могут быть выполнены из одного или нескольких материалов, выбранных из группы, включающей полиимид (PI), полипропилен (PP), моноаксиально ориентированный полипропилен (MOPP), биаксиально ориентированный полипропилен (BOPP), полиэтилен (PE), полифениленсульфид (PPS), простой полиэфирэфиркетон (PEEK), простой полиэфиркетон (PEK), полиэтиленимид (PEI), полисульфон (PSU), простой полиарилэфиркетон (PAEK), полиэтиленнафталат (PEN), жидкокристаллические полимеры (LCP), сложный полиэфир, полибутилентерефталат (PBT), полиэтилентерефталат (PET), полиамид (PA), поликарбонат (PC), циклоолефиновые сополимеры (COC), полиоксиметилен (POM), акрилонитрил-бутадиен-стирольный сополимер (ABS), поливинилхлорид (PVC), этилентетрафторэтилен (ETFE), политетрафторэтилен (PTFE), поливинилфторид (PVF), поливинилиденфторид (PVDF) и/или тройной фторсополимер этилена, тетрафторэтилена и гексафторпропилена (EFEP).The carrier film 5 and/or the embossed structures 3 may be made from one or more materials selected from the group consisting of polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE ), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), polyvinyl chloride (PVC), ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF) and/or ethylene tetrafluoroethylene hexafluoropropylene terpolymer (EFEP).

Образующий мозаичный рисунок слой 4 предпочтительно выполнен из по меньшей мере одного металлического материала, в частности, выбранного из группы, включающей алюминий, серебро, медь, золото, платину, ниобий, олово, или из никеля, титана, ванадия, хрома, кобальта и палладия, или сплавов этих материалов, в частности, кобальт-никелевых сплавов, или из по меньшей мере одного диэлектрического материала с высоким показателем преломления свыше 1,65, в частности, выбранного из группы, включающей сульфид цинка (ZnS), оксид цинка (ZnO), диоксид титана (TiO₂), углерод (C), оксид индия (In₂O₃), оксид индия-олова (ITO), пентоксид тантала (Ta₂O₅), оксид церия (CeO₂), оксид иттрия (Y₂O₃), оксид европия (Eu₂O₃), оксид железа, например, такой как оксид железа(III) (Fe₃O₄) и оксид железа(II) (Fe₂O₃), нитрид гафния (HfN), карбид гафния (HfC), оксид гафния (HfO₂), оксид лантана (La₂O₃), оксид магния (MgO), оксид неодима (Nd₂O₃), оксид празеодима (Pr₆O₁₁), оксид самария (Sm₂O₃), триоксид сурьмы (Sb₂O₃), карбид кремния (SiC), нитрид кремния (Si₃N₄), монооксид кремния (SiO), триоксид селена (Se₂O₃), оксид олова (SnO₂), триоксид вольфрама (WO₃), органические мономеры с высоким показателем преломления и/или органические полимеры с высоким показателем преломления, или слои из оксидов металлов, например, таких, как нестехиометрический оксид алюминия, оксид меди, или оксид хрома.The tiled layer 4 is preferably made of at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of aluminium, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium. , or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys, or from at least one dielectric material with a high refractive index of more than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO) , titanium dioxide (TiO ₂ ), carbon (C), indium oxide (In ₂ O ₃ ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta ₂ O ₅ ), cerium oxide (CeO ₂ ), yttrium oxide (Y ₂ O ₃ ), europium oxide (Eu ₂ O ₃ ), iron oxide such as, for example, iron(III) oxide (Fe ₃ O ₄ ) and iron(II) oxide (Fe ₂ O ₃ ), hafnium nitride (HfN) , hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (HfO ₂ ), lanthanum oxide (La ₂ O ₃ ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd ₂ O ₃ ), praseodymium oxide (Pr ₆ O ₁₁ ), oxide c amaria (Sm ₂ O ₃ ), antimony trioxide (Sb ₂ O ₃ ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si ₃ N ₄ ), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se ₂ O ₃ ), tin oxide ( SnO ₂ ), tungsten trioxide (WO ₃ ), high refractive index organic monomers and/or high refractive index organic polymers, or layers of metal oxides such as, for example, non-stoichiometric alumina, copper oxide, or chromium oxide.

В альтернативном варианте, слой может быть сформирован по меньшей мере из одного металлического материала из печатных красок или лаков с металлическими пигментами, в частности, выбранными из группы, включающей алюминий, серебро, медь, золото, платину, ниобий, олово, или из никеля, титана, ванадия, хрома, кобальта и палладия, или из сплавов этих материалов, в частности, кобальт-никелевых сплавов, посредством стандартных способов печати.Alternatively, the layer may be formed from at least one metallic material from printing inks or lacquers with metallic pigments, in particular selected from the group consisting of aluminium, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium, or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys, by standard printing methods.

Мозаичный рисунок образован из элементов 6 изображения, которые имеют различные размер и форму. Элемент 6 изображения при этом образован сопряженной поверхностью образующего мозаичный рисунок слоя 4. Элементы 6 изображения с различными размерами соответствуют различным мозаикам мозаичного рисунка.The mosaic pattern is formed from image elements 6 which have different sizes and shapes. The image element 6 is formed by the mating surface of the tiled layer 4. Image elements 6 with different sizes correspond to different mosaics of the tiling.

Между двумя элементами 6 изображения образующий мозаичный рисунок слой 4 прерван. Участки 7 разрыва образующего мозаичный рисунок слоя 6 предпочтительно сформированы деметаллированием. Кроме того, как видно из Фиг. 1, слой 4 покрывает верхние стороны тисненых структур 3 полностью или частично.Between two image elements 6, the tiled layer 4 is interrupted. The ruptured portions 7 of the tiled layer 6 are preferably formed by demetalization. Moreover, as seen from FIG. 1, the layer 4 covers the upper sides of the embossed structures 3 in whole or in part.

Толщина слоя 4 на всех не имеющих выемки участках слоя, то есть, на участках элементов 6 изображения, особенно предпочтительно является одинаковой.The thickness of the layer 4 is particularly preferably the same in all areas of the layer without recesses, ie in areas of picture elements 6 .

Все данные для диапазонов значений в приведенном описании следует понимать так, что они включают любые и все частичные диапазоны, например, величины от 1 до 10 следует понимать так, что включены все частичные диапазоны, исходя из нижней границы 1 и до верхней границы 10, то есть, все частичные диапазоны, начиная от нижней границы 1 или более, и заканчивая верхней границей 10 или менее, например, от 1 до 1,7, или от 3,2 до 8,1, или от 5,5 до 10.All data for ranges of values in the foregoing should be understood to include any and all partial ranges, for example, values from 1 to 10 should be understood to include all partial ranges from a lower limit of 1 to an upper limit of 10, then yes, all partial ranges from a lower limit of 1 or more to an upper limit of 10 or less, such as 1 to 1.7, or 3.2 to 8.1, or 5.5 to 10.

В заключение ради порядка следует указать на то, что для лучшего понимания конструкции элементы были представлены частично не в масштабе и/или увеличенными, и/или уменьшенными.In conclusion, for the sake of order, it should be pointed out that for a better understanding of the design, the elements have been shown partially not to scale and/or enlarged and/or reduced.

Список ссылочных позицийList of reference positions

1 защитный элемент1 protective element

2 тиснение2 embossing

3 тисненые структуры3 embossed structures

4 слой4 layer

5 несущая пленка5 carrier film

6 элемент изображения6 picture element

7 участок7 plot

Claims

1. A security element (1) for anti-counterfeit papers, wherein the security element (1) has an embossment (2) with diffractive embossed structures (3), characterized in that the embossed structures (2) are at least partially covered with a divided metallic and mosaic-forming layer (4).

2. Security element according to claim 1, characterized in that the embossed structures (3) are designed as achromatic embossed structures.

3. A security element according to claim 1 or 2, characterized in that the embossed structures (3) form a relief consistent with the mosaic pattern.

4. Protective element according to one of paragraphs. 1-3, characterized in that the embossed structures (3) form a bas-relief.

5. Protective element according to one of paragraphs. 1-4, characterized in that the embossed structures (3) are translucent.

6. Protective element according to one of paragraphs. 1-5, characterized in that it has a carrier film (5) of synthetic material, in particular of translucent synthetic material.

7. Protective element according to one of paragraphs. 1-6, characterized in that the carrier film (5) and/or embossed structures (3) are made of one or more materials selected from the group including polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), polyvinyl chloride (PVC), ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF) and/or ethylene tetrafluoroethylene hexafluoropropylene terpolymer (EFEP).

8. Protective element according to one of paragraphs. 1-7, characterized in that the layer (4) forming the mosaic pattern is made of at least one metal material selected from the group including aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin or nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium, or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys, or from at least one dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO ₂ ), carbon (C), indium oxide (In ₂ O ₃ ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta ₂ O ₅ ), cerium oxide (CeO ₂ ), oxide yttrium (Y ₂ O ₃ ), europium oxide (Eu ₂ O ₃ ), iron oxide, such as iron(III) oxide (II) (Fe ₃ O ₄ ) and iron oxide (Fe ₂ O ₃ ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (HfO ₂ ), lanthanum oxide (La ₂ O ₃ ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd ₂ O ₃ ), praseodymium oxide (Pr ₆ O ₁₁ ), samarium oxide (Sm ₂ O ₃ ), antimony trioxide (Sb ₂ O ₃ ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si ₃ N ₄ ), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se ₂ O ₃ ), tin oxide (SnO ₂ ) , tungsten trioxide (WO ₃ ), organic monomers with a refractive index greater than 1.65 and/or organic polymers with a refractive index greater than 1.65, or layers of metal oxides such as, for example, non-stoichiometric alumina, copper oxide or chromium oxide, and/or from at least one metallic material from printing inks or varnishes with metallic pigments, in particular selected from the group consisting of aluminium, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium , cobalt and palladium, or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys.

9. The protective element according to one of paragraphs. 1-8, characterized in that the mosaic pattern is formed from image elements (6), which have different sizes and shapes, and the image element (6) is formed by the mating surface of the layer (4) forming the mosaic pattern, and between the two image elements forming a mosaic drawing layer (4) interrupted.

10. Protective element according to one of paragraphs. 1-9, characterized in that image elements (6) with different sizes correspond to different mosaics of the mosaic pattern.

11. Protective element according to one of paragraphs. 1-10, characterized in that the areas (7) of the gap forming a mosaic pattern of the layer (4) are formed by demetalization.

12. Protective element according to one of paragraphs. 1-11, characterized in that the carrier film (5) has a thickness of 5-700 µm, preferably 5-200 µm, particularly preferably 5-125 µm, in particular 10-75 µm.

13. Protective element according to one of paragraphs. 1-12, characterized in that the thickness of the layer forming the mosaic pattern of the layer (4) in all areas of the layer (4) that do not have a notch is the same.