RU2760426C2 - Снабженный покрытием режущий инструмент - Google Patents
Снабженный покрытием режущий инструмент Download PDFInfo
- Publication number
- RU2760426C2 RU2760426C2 RU2019131362A RU2019131362A RU2760426C2 RU 2760426 C2 RU2760426 C2 RU 2760426C2 RU 2019131362 A RU2019131362 A RU 2019131362A RU 2019131362 A RU2019131362 A RU 2019131362A RU 2760426 C2 RU2760426 C2 RU 2760426C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- hkl
- cutting tool
- coated cutting
- measured
- Prior art date
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 6
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims description 3
- 238000002447 crystallographic data Methods 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 5
- 238000007514 turning Methods 0.000 abstract description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000003801 milling Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 abstract description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 112
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 12
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 8
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000001144 powder X-ray diffraction data Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
- B23B27/14—Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
- B23B27/148—Composition of the cutting inserts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/36—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
- C23C28/42—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
- C23C28/44—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by a measurable physical property of the alternating layer or system, e.g. thickness, density, hardness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B2224/00—Materials of tools or workpieces composed of a compound including a metal
- B23B2224/32—Titanium carbide nitride (TiCN)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к снабженному покрытием режущему инструменту для механической обработки металлов: для токарной обработки, фрезерования или сверления металлического материала: легированной, углеродистой или труднообрабатываемой твердой стали. Режущий инструмент содержит подложку, покрытую многослойным износостойким покрытием, включающим в себя слой альфа–Al2O3 и слой карбонитрида титана TixCyN1–y с 0,85≤x≤1,3, предпочтительно 1,1≤x≤1,3 и 0,4≤y≤0,85, осажденный на слой альфа–Al2O3, причем TixCyN1–y имеет коэффициент текстуры TC(hkl), равный или более 3. Режущий инструмент имеет слой карбонитрида титана с повышенной твердостью, а соответственно, улучшенную износостойкость в применениях машиномеханической обработки. 9 з.п. ф-лы, 10 табл., 2 пр.
Description
ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ
Настоящее раскрытие относится к снабженному покрытием режущему инструменту для механической обработки металлов с образованием стружки, точней, снабженному покрытием режущему инструменту, включающему в себя подложку, покрытую многослойным износостойким покрытием, содержащим слой оксида алюминия и слой карбонитрида титана. Снабженный покрытием режущий инструмент в соответствии с настоящим раскрытием особенно полезен в применениях с высокими требованиями к абразивной износостойкости, например, в токарной обработке, фрезеровании или сверлении металлического материала, такого как легированная сталь, углеродистая сталь или труднообрабатываемая твердая сталь.
УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ
Нанесение тонких, тугоплавких покрытий на режущих инструментах широко использовалось в механообрабатывающей отрасли в течение нескольких десятилетий. Покрытия, такие как TiCN и Al2O3, как было показано, улучшают износостойкость режущих вставок при резании многих различных материалов. Сочетание на внутреннем слое TiCN и внешнем слое α–Al2O3 можно найти на многих промышленных режущих инструментах, сконструированных для токарной обработки или фрезерования, например, стали. Однако с развитием технологии устанавливаются более высокие требования к режущим инструментам. Таким образом, существует потребность в снабженных покрытием режущих инструментах, имеющих улучшенную износостойкость в операциях обработки металлов резанием.
РАСКРЫТИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Настоящее раскрытие предлагает снабженный покрытием режущий инструмент, имеющий улучшенные рабочие характеристики в операциях резания, в частности, снабженный покрытием режущий инструмент, имеющий улучшенную износостойкость, например, высокую стойкость к износу в виде кратера и износу задней поверхности резца. Настоящее раскрытие дополнительно предусматривает способ получения снабженного покрытием режущего инструмента, имеющего вышеупомянутые свойства.
Согласно аспектам, проиллюстрированным в настоящем документе, предложен снабженный покрытием режущий инструмент, включающий в себя подложку, покрытую многослойным износостойким покрытием, содержащим слой α–Al2O3 и слой карбонитрида TixCyN1–y с 0,85≤x≤1,3, предпочтительно 1,1≤x≤1,3 и 0,4≤y≤0,85, осажденный на слой α–Al2O3, при том TixCyN1–y имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, причем TC(hkl) определяется по формуле Харриса (Harris):
где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl);
I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность стандартной порошковой дифракции в соответствии с JCPDS(Объединенный комитет порошковых дифракционных стандартов)–картой №42–1489;
n представляет собой число отражений, использованное в расчете, и где использованными отражениями (hkl) являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и при том TC(111)≥3.
Неожиданно оказалось, что слой TixCyN1–y режущего инструмента в соответствии с настоящим раскрытием имеет неожиданно высокую твердость. Повышенная твердость слоя покрытия обычно ассоциируется с улучшенной износостойкостью, такой как стойкость к износу в виде кратера и износу задней поверхности резца. Использованный в настоящем документе термин режущий инструмент включает, но не ограничен, заменяемые пластины (вставки) режущего инструмента, индексируемые пластины режущего инструмента, а также цельные режущие инструменты.
Настоящее изобретение основано на реализации того, что с помощью покрытия режущего инструмента покрытием, включающим в себя слой α–Al2O3 и слой карбонитрида титана TixCyN1–y, осажденный поверх слоя α–Al2O3, и где TixCyN1–y имеет как раз предпочтительную ориентацию, может быть получен режущий инструмент, имеющий слой карбонитрида титана с повышенной твердостью, и, таким образом, улучшенную износостойкость в применениях машиномеханической обработки. Конкретней, такие свойства могут быть достигнуты с помощью режущего инструмента с покрытием, включающим в себя слой α–Al2O3 и слой карбонитрида титана TixCyN1–y, в котором, как обнаружено, геометрически эквивалентные кристаллографические плоскости {111} TixCyN1–y, являются предпочтительно ориентированными параллельно подложке, что выражено в настоящем документе как коэффициент текстуры TC (111)≥3.
Слой TixCyN1–y обычно осаждают путем химического осаждения при умеренной температуре из паровой фазы (MTCVD, moderate temperature chemical vapor deposition) при температуре 600–900°C. α–Al2O3 обычно осаждают путем химического осаждения из паровой фазы (CVD, chemical vapor deposition) при температуре 800–1200°C. Слой TixCyN1–y обычно осаждают непосредственно поверх слоя Al2O3 без промежуточного слоя. Однако объем раскрытия также включает варианты осуществления, содержащие тонкий промежуточный слой, присутствующий между слоем TixCyN1–y и слоем α–Al2O3. Зерна осажденных TixCyN1–y и α–Al2O3 являются преимущественно столбчатыми.
Кроме того, покрытие в соответствии с настоящим раскрытием обеспечивает превосходную адгезию между слоем TixCyN1–y и нижележащими слоями.
Многослойное покрытие покрывает, по меньшей мере, площадь режущего инструмента, которая задействована в операции резания, а также, по меньшей мере, площади, подвергаемые износу в виде кратера и/или износу задней поверхности резца. Альтернативно, весь режущий инструмент может быть покрыт многослойным покрытием по настоящему описанию.
В некоторых вариантах осуществления настоящего раскрытия слой α–Al2O3 имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность из данных стандартной порошковой рентгеновской дифракции в соответствии с JCPDS–картой №00–010–0173, n является числом отражений, использованным в расчете, и где использованными отражениями (hkl) являются (104), (110), (113), (024), (116), (214), (300) и (0012); и TC(0012)≥7, предпочтительно TC(0012)≥7,2. Высокая интенсивность отражения от (0012), как показано, является преимуществом в том смысле, что это один путь для содействия формированию развитой текстуры <111> последующего слоя TixCyN1–y layer.
В некоторых вариантах осуществления толщина слоя TixCyN1–y составляет 1–10 µм, предпочтительно 1–5 µм, более предпочтительно 1–3 µм, наиболее предпочтительно 1–2 µм. Толщина слоя α–Al2O3 составляет 0,1–7 µм, предпочтительно 0,1–5 µм или 0,1–2 µм, или 0,3–1 µм.
В некоторых вариантах осуществления покрытие включает в себя дополнительный слой карбонитрида титана TiuCvN1–v с 0,85≤u≤1,3, предпочтительно 1,1≤u≤1,3 и 0,4≤v≤0,85, расположенный между подложкой и слоем α–Al2O3. Слой TiuCvN1–v может быть осажден непосредственно на подложку. Однако объем этого раскрытия также включает варианты осуществления, содержащие тонкий промежуточный слой между подложкой и слоем TiuCvN1–v, такой как слой TiN. Предпочтительно, TiuCvN1–v осаждают путем MTCVD при температуре 600–900°C. Толщина слоя TiuCvN1–v составляет обычно 3–20 µм, предпочтительно 3–10 µм или 3–7 µм, или 3–5 µм.
В некоторых вариантах осуществления слой TiuCvN1–v, расположенный между слоем α–Al2O3 и подложкой, имеет коэффициент текстуры TC(hkl), определенный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность в соответствии с JCPDS–картой №42–1489, n является числом отражений, использованными в расчете отражениями являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и при том TC(422)≥3, предпочтительно TC(422)≥3,5. В одном варианте осуществления слой TiuCvN1–v имеет TC(311)+TC(422)≥4; ≥5; ≥6; или ≥7. Как было показано, высокая интенсивность отражения (422) в TiuCvN1–v является преимуществом в том смысле, что это один способ содействия формированию развитой текстуры <001> последующего слоя α–Al2O3.
В некоторых вариантах осуществления слой TixCyN1–y имеет более высокую среднюю твердость, чем слой TiuCvN1–v. Твердость предпочтительно измеряют путем наноинтентирования с использованием индентора Берковича (Berkovich), причем твердость H определяют как H=(P/24,5hc 2), где P представляет собой максимальное контактное давление, показываемое индентором на слое покрытия, и hc представляет собой глубину сделанного индентором углубления. Индентирования проводят предпочтительно при постоянной нагрузке 3000 µН/мин до глубины hc=110 нм.
В некоторых вариантах осуществления слой TixCyN1–y имеет среднюю твердость более чем 25 ГПа, предпочтительно более чем 26 ГПа, более предпочтительно более чем 27 ГПа, даже более предпочтительно более чем 30 ГПа. Твердость измеряют предпочтительно путем наноиндентирования, используя индентор Берковича, причем твердость H определяют как H=(P/24,5hc 2), где P представляет собой максимальное контактное давление, показываемое индентором на слое покрытия, и hc представляет собой глубину сделанного индентором углубления. Индентирования предпочтительно проводят при постоянной нагрузке 3000 µН/мин до глубины hc=110 нм. Также могут рассматриваться известные в области техники другие инденторы. Высокая твердость TixCyN1–y может быть преимуществом в том смысле, что она обеспечивает снабженный покрытием режущий инструмент с повышенной износостойкостью.
В некоторых вариантах осуществления покрытие имеет суммарную толщину 4–32 µм, предпочтительно 4,5–20 µм или 5–15 µм.
В некоторых вариантах осуществления подложку выбирают из цементированного карбида, кермета, керамики, стали или кубического нитрида бора. Эти подложки имеют твердости и вязкости, которые подходят покрытию из настоящего изобретения.
В некоторых вариантах осуществления подложка снабженного покрытием режущего инструмента состоит из цементированного карбида, содержащего 4–12 мас.% Co, предпочтительно 6–8 мас.% Co, необязательно 0,1–10 мас.% кубических карбидов, нитридов или карбонитридов металлов из групп IVb, Vb и VIb Периодической таблицы, предпочтительно Ti, Nb, Ta или комбараринаций из них, а остальное – WC.
В некоторых вариантах осуществления подложка представляет собой цементированный карбид с обогащенной связующей фазой поверхностной зоной. Толщина обогащенной связующей фазой поверхностной зоны составляет предпочтительно 5–35 µм при измерении от поверхности подложки и по направлению к сердцевине подложки. Обогащенная связующей фазой поверхностная зона имеет среднее содержание связующей фазы, по меньшей мере, на 50% выше, чем содержание связующей фазы в сердцевине подложки. Обогащенная связующей фазой поверхностная зона повышает вязкость подложки. Подложка с высокой вязкостью предпочтительна в операциях резания, таких как токарная обработка стали.
В некоторых вариантах осуществления подложка представляет собой цементированный карбид с поверхностной зоной, по существу свободной от кубических карбидов. Толщина поверхностной зоны, по существу свободной от кубических карбидов, составляет предпочтительно 5–35 µм при измерении от поверхности подложки и по направлению к сердцевине подложки. Под "по существу свободной" подразумевается, что никаких кубических карбидов не видно при визуальном анализе поперечного сечения в светооптическом микроскопе.
В некоторых вариантах осуществления подложка представляет собой цементированный карбид с обогащенной связующей фазой поверхностной зоной, как раскрыто выше, в сочетании с поверхностной зоной, по существу свободной от кубических карбидов, как описано выше.
Согласно другим аспектам, проиллюстрированным в настоящем документе, также предложен способ получения снабженного покрытием режущего инструмента, имеющего подложку, причем способ содержит этапы
a) осаждения слоя TiuCvN1–v путем MTCVD при температуре 600–900°С на подложке
b) осаждения слоя α–Al2O3 путем CVD при температуре 800–1200°С поверх слоя TiuCvN1–v;
c) осаждения слоя карбонитрида титана TixCyN1–y поверх слоя Al2O3 путем MTCVD при температуре 600–900°С в атмосфере, содержащей TiCl4, CH3CN, N2 и H2 при парциальном давлении 3–13 об.% H2 и 83–94 об.% N2, предпочтительно 3–10 об.% H2 и 85–93 об.% N2, при том TixCyN1–y имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, причем TC(hkl) определяется по формуле Харриса:
где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl);
I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность из данных стандартной порошковой дифракции в соответствии с JCPDS–картой №42–1489;
n представляет собой число отражений, использованное в расчете, и где использованными отражениями (hkl) являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и при том TC(111)≥3.
Неожиданно было обнаружено, что при использовании малого количества H2 в CVD–реакторе может быть получен TixCyN1–y, имеющий текстуру согласно настоящему раскрытию. Согласно настоящему раскрытию, как полагают, малое количество H2 обозначает количество в диапазоне 3–13 об.%, предпочтительно 3–10 об.%. Кроме того, большое количество N2, такое как в диапазоне 83–94 об.%, предпочтительно 85–93 об.%, может быть выгодным. Суммарное давление в реакторе составляет предпочтительно около 80 мбар.
Снабженный покрытием режущий инструмент, изготовленный в соответствии со способом, может быть дополнительно определен, как изложено выше, со ссылкой на снабженный покрытием режущий инструмент по изобретению. В частности, толщина слоя TixCyN1–y покрытия может составлять 1–10 µм, предпочтительно 1–5 µм, более предпочтительно 1–3 µм, наиболее предпочтительно 1–2 µм.
В некоторых вариантах осуществления слой α–Al2O3 из способа предпочтительно имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность из данных стандартной порошковой рентгеновской дифракции в соответствии с JCPDS–картой №00–010–0173, n является числом отражений, использованным в расчете, и где использованными отражениями (hkl) являются (104), (110), (113), (024), (116), (214) (300) и (0012); и TC(0012)≥7, предпочтительно TC(0012)≥7,2.
В некоторых вариантах осуществления способа толщина слоя α–Al2O3 составляет предпочтительно 0,1–7 µм, предпочтительно 0,3–5 µм или 0,3–2 µм, или 0,3–1 µм.
В некоторых вариантах осуществления способа толщина слоя TiuCvN1–v составляет предпочтительно 3–20 µм, предпочтительно 3–10 µм или 3–7 µм, или 3–5 µм.
В некоторых вариантах осуществления способа слой TiuCvN1–v, расположенный между слоем α–Al2O3 и подложкой, имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность в соответствии с JCPDS–картой №42–1489, n является числом отражений, использованными в расчете отражениями являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и при том TC(422)≥3.
В некоторых вариантах осуществления способа слой TixCyN1–y имеет более высокую среднюю твердость, чем слой TiuCvN1–v.
В некоторых вариантах осуществления способа слой TixCyN1–y имеет среднюю твердость более чем 25 ГПа, предпочтительно более чем 26 ГПа или более чем 27 ГПа.
В некоторых вариантах осуществления способа покрытие имеет суммарную толщину 4–32 µм, предпочтительно 4,5–20 µм или 5–15 µм.
В некоторых вариантах осуществления способа подложку выбирают из цементированного карбида, кермета, керамики, стали или кубического нитрида бора.
ПРИМЕРЫ
Снабженный покрытием режущий инструмент и способ согласно настоящему раскрытию будут далее описаны более подробно с помощью неограничивающих примеров.
ОПРЕДЕЛЕНИЯ И МЕТОДЫ
CVD–покрытия
CVD–покрытия готовили в реакторе с радиальным потоком типа Bernex BPX 325S, имеющем высоту 1250 мм и диаметр 325 мм.
Коэффициент текстуры, TC
Кристаллографическая плоскость кристалла определяется индексами Миллера h, k, l. Средство для выражения предпочтительного роста, т.е. то, что один набор геометрически эквивалентных кристаллографических плоскостей {hkl} оказывается преимущественно ориентированным параллельно подложке, представляет собой коэффициент текстуры TC (hkl), рассчитанный по формуле Харриса на основе определенного набора XRD–отражений, измеренных на соответствующем образце. Интенсивности отражений стандартизованы с использованием JCPDS–карты, указывающей интенсивности XRD–отражений от того же материала, например, TiCN, но со случайной ориентацией, такой как в порошке материала. Коэффициент текстуры TC (hkl)>1 слоя кристаллического материала указывает на то, что зерна кристаллического материала ориентированы так, что их кристаллографическая плоскость {hkl} параллельна поверхности подложки чаще, чем при случайном распределении, по меньшей мере, по сравнению с XRD–отражениями, используемыми в формуле Харриса для определения коэффициента текстуры TC.
Термин "столбчатые" зерна в данном документе предназначен для обозначения кристаллических зерен, которые растут от нижней части слоя к внешней поверхности слоя, и которые обычно вытянуты в этом направлении. Столбчатые зерна отличаются от равноосных зерен тем, что равноосные зерна непрерывно восстанавливаются в процессе роста слоя.
Рентгенодифрактографические (XRD) измерения
Кристаллографию тонких пленок, фазовые составы и ориентацию вне плоскости оценивали с помощью дифракции рентгеновских лучей при θ–2θ с использованием дифрактометра Philips MRD–XPERT, снабженного первичным гибридным монохроматором и вторичным рентгеновским зеркалом. Для измерений использовали излучение CuKα при напряжении 45 кВ и токе 40 мА. Использовали антирассеивающую щель ½ градуса и приемную щель 0,3 мм. Дифрагированную интенсивность от снабженного покрытием режущего инструмента измеряли в интервале для 2θ от 30° до 140°, то есть в интервале угла падения θ от 15° до 70°.
Анализ данных, включая вычитание фона и подбор профиля данных, был выполнен с использованием программного обеспечения PANalytical X'Pert HighScore Plus. Выходные данные (интегрированные площади пиков для кривой, подобранной по профилю) из этой программы затем использовали для расчета коэффициентов текстуры слоя путем сравнения отношения данных измеренной интенсивности к данным стандартной интенсивности в соответствии с JCPDS–картой конкретного слоя (такого как слой TiCN или α–Al2O3), используя формулу Харриса, как описано выше.
Поскольку слой представлял собой пленку конечной толщины, относительные интенсивности пары пиков при разных углах 2θ отличаются от интенсивности для объемных образцов из–за различий в длине пути через слой. Поэтому, применяли поправку на тонкую пленку к интегрированным площадям пика извлеченных интенсивностей для подобранной по профилю кривой с учетом также линейного коэффициента поглощения слоя при расчете значений TC. Так как возможные дополнительные слои над, например, слоем TixCyN1–y, будут влиять на интенсивности рентгеновского излучения, входящего в слой TixCyN1–y и выходящего из всего покрытия, необходимо также внести поправки для них, принимая во внимание линейный коэффициент поглощения для соответствующего соединения в слое. То же самое относится к измерениям дифракции рентгеновских лучей для слоя α–Al2O3, если слой α–Al2O3 расположен ниже, например, слоя TixCyN1–y. Альтернативно, дополнительный слой, такой как TiN над слоем TixCyN1–y, может быть удален способом, который существенно не влияет на результаты XRD–измерений, например, химическим травлением или механическим полированием. В вариантах осуществления, содержащих нижний слой TiuCvN1–v, расположенный между слоем α–Al2O3 и подложкой, внешний слой TixCyN1–y необходимо удалить перед проведением измерений дифракции рентгеновских лучей для нижнего слоя TiuCvN1–v.
Измерения твердости
Твердость слоя карбонитрида титана измеряли с использованием наноиндентирования. Наноиндентирование проводили с использованием наноиндентора CSM UNHT с помощью индентора Берковича с алмазным наконечником. Индентирования осуществляли при постоянной нагрузке 3000 µН/мин до глубины hc=110 нм. Твердость измеряли на ровной внешней поверхности или слое после осторожного полирования поверхности (алмазной суспензией 6 µм) для уменьшения поверхностной шероховатости. Измерения на образцовой установке проводили на плавленом кварце для выбора оптимальных рабочих характеристик индентора. Твердость H определяется как H=(P/24,5hc 2), где P является контактным давлением, показываемым индентором на слое покрытия, и hc является глубиной углубления, сделанного индентором. Углубление делали в направлении, перпендикулярном поверхности слоя. Любые внешние слои необходимо удалять с помощью, например, химического травления или механического полирования перед проведением измерения твердости.
Пример 1 – TixCyN1–y на сапфировом кристалле
Подготовка образца и анализ
TixCyN1–y выращивали на подложках (001) из полированного монокристалла с–сапфира в CVD–реакторе Bernex 325 химического осаждения из паровой фазы на горячую стенку, имеющем высоту 1250 мм и диаметр 325 нм, при температуре 830°C.
Экспериментальные условия для осаждения покрытий в соответствии с настоящим раскрытием (образец 1 и 2) и для образца сравнения (образец 3) показаны в таблице 1. Покрытия выращивали до толщины около 1,5 µм.
Таблица 1. Экспериментальные условия в CVD–камере.
MTCVD TixCyN1–y (830°C) | Давление [мбар] |
TiCl4 [об.%] |
CN3CN [об.%] | H2 [об.%] |
N2 [об.%] |
Образец 1 (изобр.) |
80 | 3,3 | 0,5 | 8,7 | 87,5 |
Образец 2 (изобр.) |
80 | 3,3 | 0,5 | 5,0 | 91,2 |
Образец 3 (сравн.) |
80 | 3,3 | 0,5 | 96,2 | 0 |
Рентгеновская дифрактография (XRD–измерения) и коэффициенты текстуры
Слои TixCyN1–y в покрытиях анализировали путем рентгеновской дифракции, при этом определяли, как описано выше, коэффициенты текстуры (hkl)–отражений (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422) для TiCN. Применяли поправку на тонкую пленку к исходным данным XRD. Результаты показаны в таблице 2.
Таблица 2. Коэффициенты текстуры TixCyN1–y.
Образец | TC(111) | TC(200) | TC(220) | TC(311) | TC(331) | TC(420) | TC(422) |
1 (изобр.) | 7,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 |
2 (изобр.) | 7,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 | 0,0 |
3 (сравн.) | 2,8 | 0,0 | 0,0 | 0,7 | 0,0 | 0,0 | 3,5 |
Измерения твердости
Измеряли твердость слоев TixCyN1–y, наноиндентирование проводили с использованием наноиндентора CSM UNHT с индентором Берковича с алмазным наконечником и рассчитывали, как описано выше. Твердостью покрытия считали среднюю твердость после 36 вдавливаний. Результаты показаны в таблице 3.
Таблица 3. Измерения твердости.
Образец | Средняя твердость [ГПа] |
1 (изобр.) | 37 |
2 (изобр.) | 36 |
3 (сравн.) | 22 |
Пример 2 – TixCyN1–y на цементированном карбиде
Подготовка образца и анализ
Подложку из цементированного карбида по типу ИСО CNMG120408 для токарной обработки готовили из 7,2 вес.% Co, 2,7 вес.% Ta, 1,8 вес.% Ti, 0,4 вес.% Nb, 0,1 вес.% N и остальное–WC, включающую в себя обогащенную Co поверхностную зону около 25 µм от поверхности подложки и вглубь в тело, по существу являющуюся свободной от кубических карбидов. Таким образом, составом цементрованного карбида является примерно 7,2 вес.% Co, 2,9 вес.% TaC, 1,9 вес.% TiC, 0,4 вес.% TiN, 0,4 вес.% NbC и 86,9 вес.% WC.
Пластину, образец 4, сначала покрывали тонким слоем TiN около 0,4 µм, затем слоем TiuCvN1–v около 12 µм с применением хорошо известного метода MTCVD с использованием TiCl4, CH3CN, N2, HCl и H2 при 885°C. Объемное отношение TiCl4/CH3CN в первоначальной части MTCVD–осаждения слоя TiuCvN1–v составляло 6,6, с использованием отношения TiCl4/CH3CN 3,7 в последующем периоде. Подробности осаждения TiN и TiuCvN1–v показаны в таблице 4.
Таблица 4. Образец 4 с MTCVD–осаждением TiN и TiuCvN1–v
MTCVD TiN и TiuCvN1–v (885°C) |
Давление [мбар] |
H2 [об.%] |
N2 [об.%] |
HCl [об.%] |
TiCl4 [об.%] |
CH3CN [об.%] |
TiN | 400 | 48,8 | 48,8 | – | 2,44 | – |
TiuCvN1–v внутренний | 55 | 59 | 37,6 | – | 2,95 | 0,45 |
TiuCvN1–v внешний | 55 | 81,5 | 7,8 | 7,8 | 2,38 | 0,65 |
Поверх MTCVD–слоя TiuCvN1–v осаждали при 1000°C связующий слой толщиной 1–2 µм способом, состоящим из четырех отдельных реакционных стадий. Во–первых, стадия HTCVD–TiuCvN1–v с использованием TiCl4, CH4, N2, HCl и H2 при 400 мбар, затем вторая стадия (TiCNO–1) с использованием TiCl4, CH3CN, CO, N2 и H2 при 70 мбар, затем третья стадия (TiCNO–2) с использованием TiCl4, CH3CN, CO, N2 и H2 при 70 мбар и, в конце концов, четвертая стадия (TiCNO–3) с использованием TiCl4, CO, N2 и H2 при 70 мбар. Во время третьей и четвертой стадий осаждения некоторые из газов непрерывно изменялись, как показано первым исходных уровнем содержания и вторым конечным уровнем содержания, представленными в таблице 5. До начала последующего зародышеобразования Al2O3 связующий слой окисляли при 55 мбар в течение 4 мин в смеси CO2, CO, N2 и H2. Подробности осаждения связующего слоя показаны в таблице 5.
Таблица 5. Образец 4 с осаждением связующего слоя
Связующий слой (1000°C) | H2 [об.%] |
N2 [об.%] |
CH4 [об.%] |
HCl [об.%] |
CO [об.%] |
TiCl4 [об.%] |
CH3CN [об.%] |
CO2 [об.%] |
HTCVD–TiCN | 67,9 | 25,5 | 3,4 | 1,7 | – | 1,56 | – | – |
TiCNO–1 | 83,7 | 12 | – | 1,2 | 1,2 | 1,5 | 0,4 | – |
TiCNO–2 | 63,1–61,7 | 31,5–30,9 | – | – | 1,6–3,7 | 3,15–3,09 | 0,66–0,64 | – |
TiCNO–3 | 62,1–61,5 | 31,1–30,8 | – | – | 3,7–4,6 | 3,11–3,08 | – | – |
Окисление | 53,8 | 30 | – | – | 12,5 | – | – | 3,7 |
Слой α–Al2O3 осаждали поверх связующего слоя, используя CVD. Весь α–Al2O3 осаждали при 1000°C и 55 мбар в две стадии. Первая стадия с использованием 1,2 об.% AlCl3, 4,7 об.% CO2, 1,8 об.% HCl и остальное – H2, дающая около 0,1 µм α–Al2O3, и вторая стадия, как описано ниже, дающая суммарную толщину слоя α–Al2O3 около 10 µм.
Слой α–Al2O3 второй стадии осаждали с использованием 1,2% AlCl3, 4,7% CO2, 2,9% HCl, 0,58% H2S и остальное – H2, см. таблицу 6.
Таблица 6. Образец 4 со второй стадией осаждения α–Al2O3 (остальное – H2)
Образец | HCl [об.%] | CO2 [об.%] | H2S [об.%] | AlCl3 [об.%] |
4 | 2,9 | 4,7 | 0,58 | 1,2 |
Слой TixCyN1–y толщиной 1,7 осаждали поверх слоя α–Al2O3, используя MTCVD. Слой TixCyN1–y осаждали при 830°C и 80 мбар, используя 3,3 об.% TiCl4, 0,5 об.% CH3CN, 8,75 об.% H2 и остальное – N2, см. таблицу 7.
Таблица 7. Осаждение крайнего снаружи слоя TiCN.
MTCVD–TixCyN1–y (830°C) | TiCl4 [об.%] |
CN3CN [об.%] | H2 [об.%] |
N2 [об.%] |
Скорость роста [µм/мин] |
Образец 4 (Изобр.) | 3,3 | 0,5 | 8,8 | 87,5 | 0,67 |
Рентгеновская дифрактография (XRD–измерения) и коэффициенты текстуры
Крайний снаружи слой TixCyN1–y, внутренний слой TiuCvN1–v и слой α–Al2O3 покрытия анализировали с помощью рентгеновской дифракции (XRD) и определяли коэффициенты текстуры отражений(hkl), как описано в настоящем документе. К данным XRD применяли поправку на тонкую пленку. Результаты представлены в таблицах 8–10.
Таблица 8. Коэффициенты текстуры крайнего снаружи слоя TiCN образца 4
(hkl) | TC |
(111) | 3,41 |
(200) | 0,00 |
(220) | 0,04 |
(311) | 0,37 |
(331) | 0,16 |
(420) | 0,23 |
(422) | 2,81 |
Таблица 9. Коэффициенты текстуры внутреннего слоя TiCN образца 4
(hkl) | TC |
(111) | 0,03 |
(200) | 0,00 |
(220) | 0,02 |
(311) | 1,08 |
(331 | 0,16 |
(420) | 0,04 |
(422) | 5,67 |
Таблица 10. Коэффициенты текстуры слоя α–Al2O3 образца 4
(hkl) | TC |
(104) | 0,00 |
(110) | 0,05 |
(113) | 0,00 |
(024) | 0,00 |
(116) | 0,00 |
(214) | 0,00 |
(300) | 0,00 |
(0012) | 7,95 |
Измерения твердости
Твердость крайнего снаружи слоя TixCyN1–y измеряли с помощью наноинтентирования с использованием наноиндентора CSM UNHT с индентором Берковича с алмазным наконечником и рассчитывали, как описано выше в настоящем документе. Твердостью покрытия крайнего снаружи слоя TixCyN1–y считали среднюю твердость после 15 вдавливаний. Среднюю твердость крайнего снаружи слоя TixCyN1–y измеряли до 26,7 ГПа.
Claims (16)
1. Снабженный покрытием режущий инструмент, содержащий подложку, покрытую многослойным износостойким покрытием, включающим в себя слой α–Al2O3 и слой карбонитрида титана TixCyN1–y с 0,85≤x≤1,3, предпочтительно 1,1≤x≤1,3 и 0,4≤y≤0,85, осажденный на слой α–Al2O3, причем TixCyN1–y имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, причем TC(hkl) определяется по формуле Харриса:
где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl);
I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность из данных стандартной порошковой дифракции в соответствии с JCPDS–картой №42–1489;
n представляет собой число отражений, использованное в расчете, и где использованными отражениями (hkl) являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и
причем TC(111)≥3.
2. Снабженный покрытием режущий инструмент по п.1, в котором слой α–Al2O3 имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, в которой I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность из данных стандартной порошковой дифракции в соответствии с JCPDS–картой №00–010–0173, n является числом отражений, использованным в расчете, и где использованными отражениями являются (104), (110), (113), (024), (116), (214), (300) и (0012); и TC(0012)≥7, предпочтительно TC(0012) ≥ 7,2.
3. Снабженный покрытием режущий инструмент по п.1 или 2, в котором толщина слоя TixCyN1–y составляет 1–10 мкм, предпочтительно 1–5 мкм или 1–3 мкм, или 1–2 мкм.
4. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из предшествующих пунктов, в котором толщина слоя α–Al2O3 составляет 0,3–7 мкм, предпочтительно 0,3–5 мкм или 0,3–2 мкм, или 0,3–1 мкм.
5. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из предшествующих пунктов, в котором покрытие включает в себя дополнительный слой карбонитрида титана TiuCvN1–v с 0,85≤u≤1,3, предпочтительно 1,1≤u≤1,3 и 0,4≤v≤0,85, расположенный между подложкой и слоем α–Al2O3, причем слой TiuCvN1–v, расположенный между слоем α–Al2O3 и подложкой, имеет коэффициент текстуры TC(hkl), измеренный с помощью рентгеновской дифракции с использованием излучения CuKα и сканирования θ–2θ, определенный по формуле Харриса, где I(hkl) представляет собой измеренную интенсивность (интегрированную площадь) отражения (hkl), I0(hkl) представляет собой стандартную интенсивность в соответствии с JCPDS–картой №42–1489, n является числом отражений, использованными в расчете отражениями являются (111), (200), (220), (311), (331), (420) и (422); и
причем TC(422)≥3.
6. Снабженный покрытием режущий инструмент по п.5, в котором толщина слоя TiuCvN1–v составляет 3–20 мкм, предпочтительно 3–10 мкм или 3–7 мкм, или 3–5 мкм.
7. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из пп.5, 6, в котором слой TixCyN1–y имеет более высокую среднюю твердость, чем слой TiuCvN1–v.
8. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из предшествующих пунктов, в котором слой TixCyN1–y имеет среднюю твердость более чем 25 ГПа, предпочтительно более чем 26 ГПа, даже более предпочтительно более чем 27 ГПа.
9. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из предшествующих пунктов, в котором покрытие имеет суммарную толщину 4–32 мкм, предпочтительно 4,5–20 мкм или 5–15 мкм.
10. Снабженный покрытием режущий инструмент по любому из предшествующих пунктов, в котором подложку выбирают из цементированного карбида, кермета, керамики, стали или кубического нитрида бора.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17165547.5 | 2017-04-07 | ||
EP17165547 | 2017-04-07 | ||
PCT/EP2018/057622 WO2018184887A1 (en) | 2017-04-07 | 2018-03-26 | Coated cutting tool |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2019131362A RU2019131362A (ru) | 2021-05-07 |
RU2019131362A3 RU2019131362A3 (ru) | 2021-08-13 |
RU2760426C2 true RU2760426C2 (ru) | 2021-11-25 |
Family
ID=58669589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2019131362A RU2760426C2 (ru) | 2017-04-07 | 2018-03-26 | Снабженный покрытием режущий инструмент |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US12031207B2 (ru) |
EP (1) | EP3607110B1 (ru) |
JP (1) | JP7393946B2 (ru) |
KR (1) | KR102635624B1 (ru) |
CN (1) | CN110431254A (ru) |
RU (1) | RU2760426C2 (ru) |
WO (1) | WO2018184887A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220012854A (ko) * | 2019-05-27 | 2022-02-04 | 에이비 산드빅 코로만트 | 피복 절삭 공구 |
KR20220012855A (ko) * | 2019-05-27 | 2022-02-04 | 에이비 산드빅 코로만트 | 피복 절삭 공구 |
JP6916472B2 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-08-11 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
WO2021038060A1 (en) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | Seco Tools Ab | Coated cutting tool |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2206432C2 (ru) * | 1997-11-06 | 2003-06-20 | САНДВИК АБ (пабл) | Режущий инструмент и способ его изготовления |
EP2570510A1 (en) * | 2011-09-16 | 2013-03-20 | Walter AG | Sulfur containing alpha-alumina coated cutting tool |
RU2014126092A (ru) * | 2013-06-27 | 2016-01-27 | Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб | Снабженный покрытием режущий инструмент |
EP3034653A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-22 | Sandvik Intellectual Property AB | Cvd coated cutting tool |
EP3034652A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-22 | Sandvik Intellectual Property AB | CVD coated cutting tool |
Family Cites Families (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0165923B1 (ko) * | 1993-05-31 | 1999-01-15 | 하지메 히토추야나기 | 피복 절삭공구 및 그 제조방법 |
SE514737C2 (sv) * | 1994-03-22 | 2001-04-09 | Sandvik Ab | Belagt skärverktyg av hårdmetall |
JP3833288B2 (ja) * | 1994-10-04 | 2006-10-11 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 被覆硬質合金 |
WO1996010658A1 (fr) * | 1994-10-04 | 1996-04-11 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Alliage dur revetu |
SE510778C2 (sv) * | 1996-07-11 | 1999-06-21 | Sandvik Ab | Belagt skär för finfräsning av grått gjutjärn |
US6015614A (en) * | 1997-11-03 | 2000-01-18 | Seco Tools Ab | Cemented carbide body with high wear resistance and extra tough behavior |
JP3678924B2 (ja) * | 1998-11-05 | 2005-08-03 | 日立ツール株式会社 | 酸化アルミニウム被覆工具 |
JP4593852B2 (ja) * | 1999-06-21 | 2010-12-08 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 被覆硬質合金 |
SE526604C2 (sv) * | 2002-03-22 | 2005-10-18 | Seco Tools Ab | Belagt skärverktyg för svarvning i stål |
SE527349C2 (sv) * | 2003-04-24 | 2006-02-14 | Seco Tools Ab | Skär med beläggning av skikt av MTCVD-Ti (C,N) med styrd kornstorlek och morfologi och metod för att belägga skäret |
SE527346C2 (sv) * | 2003-04-24 | 2006-02-14 | Seco Tools Ab | Skär med beläggning av skikt av MTCVD-Ti (C,N) med styrd kornstorlek och morfologi och metod för att belägga skäret |
EP1609883B1 (en) | 2004-06-24 | 2017-09-20 | Sandvik Intellectual Property AB | Coated metal cutting tool |
SE528431C2 (sv) * | 2004-11-05 | 2006-11-14 | Seco Tools Ab | Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta |
US7597970B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-10-06 | Kyocera Corporation | Surface coated member and cutting tool |
DE102005032860B4 (de) * | 2005-07-04 | 2007-08-09 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Hartstoffbeschichtete Körper und Verfahren zu deren Herstellung |
JP2007257888A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Allied Material Corp | 固体高分子形燃料電池用酸素極触媒およびそれを用いた酸素還元電極およびそれらの製造方法 |
US7906230B2 (en) * | 2006-09-05 | 2011-03-15 | Tungaloy Corporation | Coated cutting tool and method for producing the same |
JP5099586B2 (ja) * | 2007-08-31 | 2012-12-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具 |
JP2009095907A (ja) * | 2007-10-15 | 2009-05-07 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 刃先交換型切削チップ |
DE102008009487B4 (de) * | 2008-02-15 | 2022-09-22 | Walter Ag | Strahlbehandelter Schneideinsatz und Verfahren |
EP2287359B1 (en) * | 2009-07-03 | 2012-05-23 | Sandvik Intellectual Property AB | Coated cutting tool insert |
US8557405B2 (en) * | 2009-08-04 | 2013-10-15 | Tungaloy Corporation | Coated member |
JP5534765B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2014-07-02 | 京セラ株式会社 | 表面被覆部材 |
CN102612417A (zh) * | 2009-11-06 | 2012-07-25 | 株式会社图格莱 | 被覆工具 |
CN101831608B (zh) * | 2010-05-11 | 2012-06-13 | 广东工业大学 | 一种纳米复合钛铝硅氮化物刀具涂层及其制备方法 |
JP5672444B2 (ja) * | 2010-11-12 | 2015-02-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐摩耗性と切屑排出性に優れた表面被覆ドリル |
US9180522B2 (en) * | 2010-11-23 | 2015-11-10 | Seco Tools Ab | Coated cutting tool insert |
JP2012196726A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-18 | Kyocera Corp | 切削工具 |
CN103459070B (zh) * | 2011-03-31 | 2016-01-20 | 日立工具股份有限公司 | 硬质皮膜被覆部件及其制造方法,以及具备其的刀刃更换式旋转工具 |
US8801817B2 (en) * | 2011-03-31 | 2014-08-12 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Surface-coated cutting tool and manufacturing method thereof |
CN102858483B (zh) * | 2011-04-21 | 2014-11-26 | 住友电工硬质合金株式会社 | 表面被覆切削工具及其制造方法 |
DE102011053705A1 (de) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | Walter Ag | Schneideinsatz und Verfahren zu dessen Herstellung |
IN2015DN01831A (ru) * | 2012-10-01 | 2015-05-29 | Hitachi Tool Eng | |
JP6162484B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-07-12 | 京セラ株式会社 | 表面被覆部材 |
US9956667B2 (en) * | 2013-06-14 | 2018-05-01 | Sandvik Intellectual Property Ab | Coated cutting tool |
ES2636867T3 (es) * | 2013-06-26 | 2017-10-09 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS |
KR101841512B1 (ko) * | 2013-12-26 | 2018-03-23 | 쿄세라 코포레이션 | 절삭공구 |
CN103668105B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-03-09 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种在切削刀片上制备涂层的方法 |
ES2586479T3 (es) * | 2014-01-30 | 2016-10-14 | Walter Ag | Herramienta de corte recubierta con alúmina con límites de grano de alúmina en zigzag |
JP6752147B2 (ja) * | 2014-01-30 | 2020-09-09 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | アルミナ被覆切削工具 |
JP6331503B2 (ja) * | 2014-03-11 | 2018-05-30 | 三菱日立ツール株式会社 | 被覆切削工具およびNi基超耐熱合金の切削方法 |
DE102014103220A1 (de) * | 2014-03-11 | 2015-09-17 | Walter Ag | TiAIN-Schichten mit Lamellenstruktur |
EP3000913B1 (en) * | 2014-09-26 | 2020-07-29 | Walter Ag | Coated cutting tool insert with MT-CVD TiCN on TiAI(C,N) |
US9650714B2 (en) * | 2014-12-08 | 2017-05-16 | Kennametal Inc. | Nanocomposite refractory coatings and applications thereof |
EP3262207B1 (en) * | 2015-02-24 | 2018-12-12 | Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon | High performance coating for high-strength steel cold metal forming |
KR20180035740A (ko) * | 2015-07-27 | 2018-04-06 | 발터 악티엔게젤샤프트 | TiAlN 코팅을 갖는 공구 |
WO2017057456A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 京セラ株式会社 | 被覆工具 |
WO2017167980A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Walter Ag | Coated cutting tool with h-aln and ti1-xalxcynz layers |
JP6045010B1 (ja) * | 2016-04-14 | 2016-12-14 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具およびその製造方法 |
JP6241630B1 (ja) * | 2016-07-01 | 2017-12-06 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
KR101687142B1 (ko) * | 2016-07-20 | 2016-12-15 | 한국야금 주식회사 | 절삭공구용 경질피막 |
JP6229911B1 (ja) * | 2016-10-19 | 2017-11-15 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
CN110100046B (zh) * | 2017-01-26 | 2021-10-01 | 瓦尔特公开股份有限公司 | 涂层切削工具 |
EP3366796A1 (en) * | 2017-02-28 | 2018-08-29 | Sandvik Intellectual Property AB | Coated cutting tool |
JP6999383B2 (ja) * | 2017-11-29 | 2022-01-18 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
JP6784928B2 (ja) * | 2018-09-04 | 2020-11-18 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
-
2018
- 2018-03-26 CN CN201880019670.4A patent/CN110431254A/zh active Pending
- 2018-03-26 RU RU2019131362A patent/RU2760426C2/ru active
- 2018-03-26 JP JP2019554750A patent/JP7393946B2/ja active Active
- 2018-03-26 KR KR1020197029025A patent/KR102635624B1/ko active IP Right Grant
- 2018-03-26 EP EP18712236.1A patent/EP3607110B1/en active Active
- 2018-03-26 US US16/500,854 patent/US12031207B2/en active Active
- 2018-03-26 WO PCT/EP2018/057622 patent/WO2018184887A1/en active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2206432C2 (ru) * | 1997-11-06 | 2003-06-20 | САНДВИК АБ (пабл) | Режущий инструмент и способ его изготовления |
EP2570510A1 (en) * | 2011-09-16 | 2013-03-20 | Walter AG | Sulfur containing alpha-alumina coated cutting tool |
RU2014126092A (ru) * | 2013-06-27 | 2016-01-27 | Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб | Снабженный покрытием режущий инструмент |
EP3034653A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-22 | Sandvik Intellectual Property AB | Cvd coated cutting tool |
EP3034652A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-22 | Sandvik Intellectual Property AB | CVD coated cutting tool |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7393946B2 (ja) | 2023-12-07 |
KR102635624B1 (ko) | 2024-02-08 |
CN110431254A (zh) | 2019-11-08 |
US12031207B2 (en) | 2024-07-09 |
JP2020516469A (ja) | 2020-06-11 |
RU2019131362A3 (ru) | 2021-08-13 |
KR20190133690A (ko) | 2019-12-03 |
BR112019020882A2 (pt) | 2020-04-28 |
EP3607110B1 (en) | 2023-11-01 |
EP3607110A1 (en) | 2020-02-12 |
US20200141007A1 (en) | 2020-05-07 |
WO2018184887A1 (en) | 2018-10-11 |
RU2019131362A (ru) | 2021-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7394172B2 (ja) | Cvd被覆切削工具 | |
EP3436619B1 (en) | Coated cutting tool with h-aln and ti1-xalxcynz layers | |
EP0653499B1 (en) | Coated cutting tool and method for producing the same | |
USRE49475E1 (en) | Coated cutting tool | |
KR102216097B1 (ko) | 표면 피복 절삭 공구 및 그 제조 방법 | |
RU2760426C2 (ru) | Снабженный покрытием режущий инструмент | |
KR20120073322A (ko) | 피복 공구 | |
JP2018501118A (ja) | Cvdコーティングされた切削工具 | |
JP6519057B2 (ja) | 表面被覆切削工具の製造方法 | |
RU2766604C2 (ru) | Режущий инструмент с покрытием | |
RU2766635C2 (ru) | Режущий инструмент с покрытием | |
RU2669134C1 (ru) | РЕЖУЩИЙ ИНСТРУМЕНТ С CVD-ПОКРЫТИЕМ СО СЛОЕМ k-Al2O3 ТЕКСТУРЫ { 0 0 1} | |
KR20230111223A (ko) | 피복 절삭 공구 | |
KR20230111224A (ko) | 피복 절삭 공구 | |
BR112019020882B1 (pt) | Ferramenta de corte revestida | |
CN114875379A (zh) | 一种氧化铝复合涂层、其制备方法以及切削装置 |