RU2637044C2 - Method of producing coating based on indium and tin oxide - Google Patents
Method of producing coating based on indium and tin oxide Download PDFInfo
- Publication number
- RU2637044C2 RU2637044C2 RU2016114802A RU2016114802A RU2637044C2 RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2 RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2016114802 A RU2016114802 A RU 2016114802A RU 2637044 C2 RU2637044 C2 RU 2637044C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- indium
- tin oxide
- coating
- substrate
- spraying
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к оптоэлектронике, а именно к электропроводящим оптически прозрачным покрытиям на основе оксида индия и олова.The invention relates to semiconductor technology, in particular to optoelectronics, in particular to conductive optically transparent coatings based on indium and tin oxide.
Известен ряд методов получения покрытий на основе оксида индия и олова (ITO) с использованием метода электронно-лучевого испарения, магнетронного распыления или их комбинации.A number of known methods for producing coatings based on indium and tin oxide (ITO) using the method of electron beam evaporation, magnetron sputtering, or a combination thereof.
Так, известен способ получения пленочного покрытия на основе оксида индия и олова [RU 2530487], которое применяется в качестве прозрачного контакта светодиода.So, there is a known method of producing a film coating based on indium and tin oxide [RU 2530487], which is used as a transparent contact of the LED.
Данный способ включает формирование покрытия путем нанесения слоя оксида индия и олова толщиной 5-15 нм методом электронно-лучевого испарения на нагретую до высокой температуры подложку и последующее нанесение на указанный слой второго слоя оксида индия и олова толщиной, значительно большей, чем толщина первого слоя, методом магнетронного распыления.This method includes forming a coating by applying a layer of indium and tin oxide with a thickness of 5-15 nm by electron beam evaporation on a substrate heated to a high temperature and then applying a second layer of indium and tin oxide to the specified layer with a thickness significantly greater than the thickness of the first layer, magnetron sputtering method.
В результате получают покрытие, обладающее хорошей электрической проводимостью и с высоким (около 2) показателем преломления, что позволяет использовать его в качестве контакта светодиода.The result is a coating having good electrical conductivity and with a high (about 2) refractive index, which allows it to be used as an LED contact.
Однако данный способ не предусматривает возможность управления оптическими свойствами получаемого покрытия ITO.However, this method does not provide the ability to control the optical properties of the resulting ITO coating.
В настоящее время актуальной является задача создания способов получения покрытий ITO с контролируемым значением показателя преломления, что позволяет управлять их оптическими свойствами.Currently, the urgent task is to create methods for producing ITO coatings with a controlled value of the refractive index, which allows you to control their optical properties.
Известен способ получения покрытия на основе оксида индия и олова [Martin F. Schubert и др. Applied Physics Letters. 90, 141115 (2007)], выбранный в качестве ближайшего аналога.A known method of producing coatings based on indium and tin oxide [Martin F. Schubert and others Applied Physics Letters. 90, 141115 (2007)], selected as the closest analogue.
Данный способ включает операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения при наклонном падении напыляемого вещества на подложку. При наклонном напылении материала на подложку образующиеся на начальной стадии указанного процесса зародыши формируемой структуры покрытия затеняют собой часть поверхности подложки, что в дальнейшем предотвращает осаждение материала на затененные области и приводит к образованию на данных участках пор. В зависимости от угла напыления материала меняется пористость напыляемого слоя покрытия, и, следовательно, его показатель преломления.This method includes the operation of sputtering indium and tin oxide on a substrate by electron beam evaporation with an oblique incidence of the sprayed substance on the substrate. When the material is sprayed onto the substrate obliquely, the nuclei of the formed coating structure formed at the initial stage of this process obscure a part of the substrate surface, which further prevents the deposition of material on the shaded areas and leads to the formation of pores in these areas. Depending on the angle of deposition of the material, the porosity of the sprayed coating layer changes, and therefore its refractive index.
Согласно рассматриваемому способу, варьируя в процессе напыления технологический параметр, которым является угол напыления, обеспечивают требуемое значение показателя преломления напыляемого слоя покрытия.According to the method under consideration, varying the technological parameter during the spraying process, which is the spraying angle, provide the required refractive index of the sprayed coating layer.
Данный способ позволяет получать покрытия ITO с заданным значением показателя преломления, однако при наклонном напылении вещества не обеспечивается однородность по толщине получаемого покрытия.This method allows to obtain ITO coatings with a given value of the refractive index, however, with inclined spraying of a substance, uniformity in the thickness of the resulting coating is not provided.
Задачей заявляемого изобретения является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.The task of the invention is to obtain a coating of indium and tin oxide with a given value of the refractive index while ensuring its uniformity in thickness.
Сущность изобретения заключается в том, что в способе получения покрытия на основе оксида индия и олова на поверхности подложки, включающем напыление на подложку оксида индия и олова с получением покрытия с заданным значением показателя преломления, согласно изобретению напыление осуществляют при нормальной ориентации подложки относительно потока напыляемого вещества, причем напыление оксида индия и олова на подложку осуществляют путем электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при температуре от 400 до 500°С и последующего магнетронного распыления при температуре от 15 до 75°С, при этом требуемое значение показателя преломления покрытия обеспечивают количеством вещества, наносимого на каждой из указанных операций напыления.The essence of the invention lies in the fact that in the method of producing a coating based on indium and tin oxide on a surface of a substrate, comprising spraying on a substrate indium and tin oxide to obtain a coating with a predetermined refractive index, according to the invention, the spraying is carried out at normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance moreover, the deposition of indium and tin oxide on the substrate is carried out by electron beam evaporation or magnetron sputtering at a temperature of from 400 to 500 ° C and the subsequent magnetron sputtering at a temperature of from 15 to 75 ° C, while the required value of the refractive index of the coating is provided by the amount of substance applied to each of these spraying operations.
Заявляемый способ основан на зависимости структуры и соответственно оптических свойств покрытия от технологических параметров напыления материала оксида индия и олова на подложку.The inventive method is based on the dependence of the structure and, accordingly, the optical properties of the coating on the technological parameters of the deposition of the material of indium oxide and tin on the substrate.
Первоначально осуществляют операцию напыления на подложку оксида индия и олова методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки выше температуры кристаллизации ITO (400-500°С). Структура нанесенного слоя материала покрытия характеризуется наличием вытянутых (в случае электронно-лучевого испарения их можно назвать нитевидными) кристаллов и содержит большое количество пустот. Показатель преломления такого слоя имеет значение, меньшее, чем показатель преломления плотного слоя материала оксида индия и олова без пустот.Initially, an indium and tin oxide is sprayed onto a substrate by electron beam evaporation or magnetron sputtering when the substrate is heated above the ITO crystallization temperature (400-500 ° C). The structure of the applied layer of the coating material is characterized by the presence of elongated (in the case of electron beam evaporation, they can be called filamentary) crystals and contains a large number of voids. The refractive index of such a layer has a value less than the refractive index of a dense layer of indium and tin oxide material without voids.
Далее осуществляют операцию напыления на полученный ранее слой материала покрытия оксида индия и олова методом магнетронного распыления мишени без нагрева подложки при температуре 15-75°С. При этом происходит уплотнение структуры материала за счет внедрения в имеющиеся в ней пустоты напыляемого материала, что обуславливает повышение коэффициента преломления полученного с помощью указанных операций покрытия.Next, the operation is carried out by sputtering on the previously obtained layer of the coating material of indium and tin oxide by magnetron sputtering of the target without heating the substrate at a temperature of 15-75 ° C. In this case, the structure of the material is densified due to the introduction of the sprayed material into the voids contained in it, which leads to an increase in the refractive index obtained by using the indicated coating operations.
Как показали исследования авторов, варьируя массу напыляемого оксида индия и олова при осуществлении каждой из описанных выше операций, можно добиться заданной величины показателя преломления покрытия в широком диапазоне значений.As the authors showed, by varying the mass of the sprayed indium and tin oxide during each of the operations described above, it is possible to achieve a given value of the refractive index of the coating in a wide range of values.
Благодаря тому, что при осуществлении процесса напыления обеспечивают нормальную ориентацию подложки относительно потока напыляемого вещества, вещество равномерно распределяется по поверхности подложки, чем достигается однородность покрытия по толщине.Due to the fact that during the spraying process they ensure the normal orientation of the substrate relative to the flow of the sprayed substance, the substance is evenly distributed over the surface of the substrate, thereby achieving uniform coating thickness.
Таким образом, техническим результатом, достигаемым при реализации изобретения, является получение покрытия оксида индия и олова с заданным значением показателя преломления при обеспечении его однородности по толщине.Thus, the technical result achieved by the implementation of the invention is to obtain a coating of indium and tin oxide with a given value of the refractive index while ensuring its uniformity in thickness.
Способ осуществляют следующим образом.The method is as follows.
Нанесение покрытия ITO на подложку осуществляют с использованием оборудования, позволяющего реализовать метод напыления оксида индия и олова на подложку, при котором обеспечивается нормальная ориентация напыляемого вещества относительно подложки.The coating of ITO on a substrate is carried out using equipment that allows implementing the method of deposition of indium oxide and tin on a substrate, which ensures the normal orientation of the sprayed substance relative to the substrate.
Осуществляют операцию напыления материала оксида индия и олова на подложку методом электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400-500°С. В процессе напыления контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого значения массы. Контроль массы осуществляют, в частности, с помощью кварцевого датчика.The operation is carried out by sputtering the material of indium oxide and tin on a substrate by electron beam evaporation or magnetron sputtering when the substrate is heated to a temperature of 400-500 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance is controlled and the desired mass value is achieved. The mass control is carried out, in particular, using a quartz sensor.
Осуществляют последующую операцию напыления материала оксида индия и олова методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 15-75°С. В процессе напыления также контролируют массу напыляемого вещества и обеспечивают достижение требуемого массового количества вещества, в частности, с помощью кварцевого датчика.Subsequent operation is carried out by sputtering the material of indium oxide and tin oxide by magnetron sputtering without heating the substrate at a temperature of 15-75 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance is also monitored and the desired mass quantity of the substance is achieved, in particular by means of a quartz sensor.
Требуемые значения массы материала оксида индия и олова, напыляемого при осуществлении каждой из описанных стадий процесса напыления, предварительно определяют экспериментально из условия достижения заданного значения показателя преломления получаемого покрытия.The required mass values of the indium and tin oxide material sprayed during each of the described stages of the deposition process are previously determined experimentally from the condition that the specified value of the refractive index of the resulting coating is achieved.
Для обеспечения требуемых свойств полученного покрытия в отношении прозрачности осуществляют известные технологические операции, такие как промежуточный, последующий отжиг или напыление в среде кислорода.To ensure the required properties of the obtained coating with respect to transparency, known technological operations are carried out, such as intermediate, subsequent annealing or sputtering in an oxygen medium.
При необходимости аналогичным образом можно осуществлять дальнейшее напыление слоев оксида индия и олова, чередуя указанные выше операции, напыления и обеспечивая достижение при проведении каждой из них требуемого массового количества напыляемого вещества.If necessary, in a similar manner, further spraying of the indium and tin oxide layers can be carried out, alternating the above operations, spraying and ensuring that each of them achieves the required mass amount of the sprayed substance.
Возможность реализации способа показана в примерах его выполнения.The possibility of implementing the method is shown in examples of its implementation.
Пример 1Example 1
Наносили тонкопленочное покрытие ITO на подложку, в качестве которой использовали покровное стекло толщиной 0, 17 мм. Площадь покровного стекла составляла 1 см2.An ITO thin film coating was applied to the substrate, which was used as a cover glass with a thickness of 0.17 mm. The area of the coverslip was 1 cm 2 .
Напыление осуществляли на специализированной установке комбинированного электронно-лучевого и магнетронного напыления, производства фирмы Torr Int., США.Spraying was carried out at a specialized installation of combined electron beam and magnetron sputtering, manufactured by Torr Int., USA.
Рабочая камера установки откачивалась до давления 10-7 mbar, в камере был предусмотрен нагрев подложкодержателя, а также обеспечивался напуск газов (Ar, N2, O2).The working chamber of the installation was pumped out to a pressure of 10 -7 mbar, heating of the substrate holder was provided in the chamber, as well as gas inlet (Ar, N 2 , O 2 ) was provided.
Осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 500°С. В процессе напыления контролировали массу напыляемого вещества и обеспечивали достижение требуемого значения массы.The operation of sputtering the ITO material by electron beam evaporation was carried out when the substrate was heated to a temperature of 500 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance was controlled and the desired mass value was achieved.
Контроль массы ITO осуществляли с помощью кварцевого датчика.ITO mass control was performed using a quartz sensor.
Напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.ITO material was sprayed, the mass of which was 71 μg.
Осуществляли последующую операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления без нагрева подложки при температуре 22°С. В процессе напыления также контролировали массу напыляемого вещества. Напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.The subsequent operation of ITO material deposition was carried out by magnetron sputtering without heating the substrate at a temperature of 22 ° C. During the spraying process, the mass of the sprayed substance was also controlled. Sprayed ITO material, the mass of which was 50 μg.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.
Получили покрытие с показателем преломления 1,4.Got a coating with a refractive index of 1.4.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.
Пример 2Example 2
Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.The coating was sprayed in the same manner as described in Example 1.
При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом электронно-лучевого испарения при нагреве подложки до температуры 450°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 36 мкг.In this case, an ITO material was sprayed by electron beam evaporation by heating the substrate to a temperature of 450 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 36 μg.
Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 20°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 121 мкг.The subsequent sputtering operation by magnetron sputtering was carried out at a temperature of 20 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 121 μg.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.
Получили покрытие с показателем преломления 1,7.Got a coating with a refractive index of 1.7.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.
Пример 3Example 3
Осуществляли процесс напыления покрытия аналогично, как описано в примере 1.The coating was sprayed in the same manner as described in Example 1.
При этом осуществляли операцию напыления материала ITO методом магнетронного распыления при нагреве подложки до температуры 400°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 71 мкг.In this case, the operation of sputtering the ITO material by magnetron sputtering was carried out when the substrate was heated to a temperature of 400 ° C and the ITO material was sprayed, the mass of which was 71 μg.
Последующую операцию напыления методом магнетронного распыления осуществляли при температуре 60°С и напыляли материал ITO, масса которого составляла 50 мкг.The subsequent sputtering operation by magnetron sputtering was carried out at a temperature of 60 ° C and ITO material was sprayed, the mass of which was 50 μg.
Далее обеспечивали требуемые свойства покрытия в отношении прозрачности, для чего осуществляли отжиг в атмосфере, состоящей из смеси азота и кислорода, при 500°С в течение 10 мин.Further, the required coating properties with respect to transparency were provided, for which annealing was carried out in an atmosphere consisting of a mixture of nitrogen and oxygen at 500 ° C for 10 minutes.
Получили покрытие с показателем преломления 1,3.Got a coating with a refractive index of 1.3.
Как показали исследования, осуществляемые с помощью сканирующей электронной микроскопии, полученное покрытие являлось однородным по толщине.As shown by studies using scanning electron microscopy, the resulting coating was uniform in thickness.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016114802A RU2637044C2 (en) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Method of producing coating based on indium and tin oxide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016114802A RU2637044C2 (en) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Method of producing coating based on indium and tin oxide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2016114802A RU2016114802A (en) | 2017-10-19 |
RU2637044C2 true RU2637044C2 (en) | 2017-11-29 |
Family
ID=60120470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2016114802A RU2637044C2 (en) | 2016-04-15 | 2016-04-15 | Method of producing coating based on indium and tin oxide |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2637044C2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2800664C1 (en) * | 2022-12-22 | 2023-07-25 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Application of indium tin oxide (ito) coating as a transparent hydrophobic coating |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5541959A (en) * | 1978-09-18 | 1980-03-25 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering |
SU1499573A1 (en) * | 1987-09-08 | 1992-03-07 | Предприятие П/Я А-7873 | Method of producing transparent conducting films based on induim and tin oxides |
JPH05345973A (en) * | 1992-06-12 | 1993-12-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Production of transparent conductive film |
JPH10140332A (en) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Anelva Corp | Production of amorphous ito film |
RU2112076C1 (en) * | 1997-05-22 | 1998-05-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" | Method for depositing electroconductive transparent coating |
EA011247B1 (en) * | 2003-06-27 | 2009-02-27 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Dielectric-layer-coated substrate and installation for production thereof |
RU2564650C1 (en) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Method for application of electroconductive coating for electrically-heated organic glass element |
-
2016
- 2016-04-15 RU RU2016114802A patent/RU2637044C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5541959A (en) * | 1978-09-18 | 1980-03-25 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | Production of indium oxide transparent conductive film through sputtering |
SU1499573A1 (en) * | 1987-09-08 | 1992-03-07 | Предприятие П/Я А-7873 | Method of producing transparent conducting films based on induim and tin oxides |
JPH05345973A (en) * | 1992-06-12 | 1993-12-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Production of transparent conductive film |
JPH10140332A (en) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | Anelva Corp | Production of amorphous ito film |
RU2112076C1 (en) * | 1997-05-22 | 1998-05-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТИКО" | Method for depositing electroconductive transparent coating |
EA011247B1 (en) * | 2003-06-27 | 2009-02-27 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Dielectric-layer-coated substrate and installation for production thereof |
RU2564650C1 (en) * | 2014-07-22 | 2015-10-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Method for application of electroconductive coating for electrically-heated organic glass element |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2800664C1 (en) * | 2022-12-22 | 2023-07-25 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого" (ФГАОУ ВО "СПбПУ") | Application of indium tin oxide (ito) coating as a transparent hydrophobic coating |
RU2808498C1 (en) * | 2023-02-09 | 2023-11-28 | Акционерное общество "Северный пресс" (АО "Северный пресс") | Method for producing thin-film coating based on indium tin oxide |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2016114802A (en) | 2017-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Duta et al. | Sol–gel versus sputtering indium tin oxide films as transparent conducting oxide materials | |
JP2004511655A (en) | Preparation method of indium tin oxide thin film using magnetron negative ion sputtering source | |
KR20160098165A (en) | Gradient thin films | |
KR101524271B1 (en) | A composition of anti-fingerprint coating layer with a plurality of thin films and method of manufacturing the same. | |
KR20120079716A (en) | Anti-fingerprint coating method and device | |
Zhong et al. | Optical and electrical properties of indium tin oxide thin films with tilted and spiral microstructures prepared by oblique angle deposition | |
US20060023311A1 (en) | Method for obtaining a thin, stabilized fluorine-doped silica layer, resulting thin layer, and use thereof in ophthalmic optics | |
CN1891848A (en) | Optical coating device | |
FR2542278A1 (en) | IMPROVEMENTS IN COATINGS RESISTANT TO HIGH THERMAL CONSTRAINTS AND IN PARTICULAR TO COATINGS FOR SATELLITES AND SPACE VESSELS AND METHODS FOR PRODUCING THESE COATINGS | |
Bah et al. | Fabrication of TaOxNy thin films by reactive ion beam-assisted ac double magnetron sputtering for optical applications | |
RU2637044C2 (en) | Method of producing coating based on indium and tin oxide | |
Hong et al. | Preparation of SiO2 passivation thin film for improved the organic light-emitting device life time | |
CN108796452B (en) | Vanadium dioxide thin film and preparation method and application thereof | |
US9909208B2 (en) | Method for developing a coating having a high light transmission and/or a low light reflection | |
RU2241065C2 (en) | Method for applying conductive transparent cover | |
Volpian et al. | Nanogradient optical coatings | |
Marinov et al. | Optical properties of ZnO thin films deposited by the method of electrospray | |
CN101713062B (en) | Shading element and film coating method thereof | |
US20140268348A1 (en) | Anti-Reflective Coatings with Porosity Gradient and Methods for Forming the Same | |
Jung et al. | Optimized sputtering parameters for ITO thin films of high conductivity and transparency | |
US20050181177A1 (en) | Isotropic glass-like conformal coatings and methods for applying same to non-planar substrate surfaces at microscopic levels | |
TWI417410B (en) | A manufacturing method of electric conduction film | |
KR101907143B1 (en) | a fabricating method for anti-reflection film with an excellent performance and a anti-reflection film fabricated thereof | |
WO1996011289A1 (en) | Low surface energy coatings | |
MacKay et al. | Laser damage threshold results for sputtered coatings produced using different deposition technologies |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180416 |