RU2656331C1 - Device for growing monocrystals - Google Patents
Device for growing monocrystals Download PDFInfo
- Publication number
- RU2656331C1 RU2656331C1 RU2017136555A RU2017136555A RU2656331C1 RU 2656331 C1 RU2656331 C1 RU 2656331C1 RU 2017136555 A RU2017136555 A RU 2017136555A RU 2017136555 A RU2017136555 A RU 2017136555A RU 2656331 C1 RU2656331 C1 RU 2656331C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- focus
- main
- additional
- reflector
- shield
- Prior art date
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010309 melting process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
- C30B13/22—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge
- C30B13/24—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge using electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/28—Controlling or regulating
- C30B13/30—Stabilisation or shape controlling of the molten zone, e.g. by concentrators, by electromagnetic fields; Controlling the section of the crystal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области выращивания монокристаллов, в частности к устройствам выращивания монокристаллов методом зонной плавки со световым (радиационным) нагревом. Также изобретение может быть использовано в других областях технической оптики.The invention relates to the field of growing single crystals, in particular to devices for growing single crystals by zone melting method with light (radiation) heating. Also, the invention can be used in other fields of technical optics.
Известен способ выращивания монокристаллов и конструкция установки для его реализации, описанные в патенте US 2017/0114474 А1, МПК C30B 13/24, C30B 29/66, C30B 13/32, 27.04.2017). Установка содержит четыре эллипсоидных отражателя, в каждом из которых расположена лампа (источник света), цилиндрический световой экран, кварцевую колбу и системы удержания выращиваемого монокристалла и расходуемого поликристаллического стержня. Каждый из четырех отражателей расположен таким образом, что имеется некоторый угол между горизонтом и его оптической осью. Регулировка интенсивности фокусируемого светового потока достигается за счет перемещения цилиндрического светового экрана относительно выращиваемого монокристалла.A known method of growing single crystals and the design of the installation for its implementation, described in patent US 2017/0114474 A1, IPC C30B 13/24, C30B 29/66, C30B 13/32, 04/27/2017). The installation contains four ellipsoid reflectors, in each of which there is a lamp (light source), a cylindrical light screen, a quartz bulb and systems for holding the grown single crystal and expendable polycrystalline rod. Each of the four reflectors is located in such a way that there is a certain angle between the horizon and its optical axis. Adjusting the intensity of the focused light flux is achieved by moving the cylindrical light screen relative to the grown single crystal.
Недостатками конструкции является неравномерный (точечный) нагрев зоны переплава и фронта кристаллизации (в азимутальной плоскости) из-за недостаточного перекрытия зон нагрева отдельных ламп, что приводит к модуляции температуры на фронте кристаллизации, отрицательно сказывающегося на качестве получаемого монокристалла. Каждый из пяти вариантов конструкции цилиндрического светового экрана, описанных в патенте US 2017/0114474 А1, не способствует решению этой проблемы, а в отдельных исполнениях, например цилиндрический световой экран с вертикальными прорезями, только обострят отрицательный эффект неравномерного нагрева.The design disadvantages are uneven (spot) heating of the remelting zone and the crystallization front (in the azimuthal plane) due to insufficient overlap of the heating zones of individual lamps, which leads to temperature modulation at the crystallization front, which adversely affects the quality of the obtained single crystal. Each of the five design options for a cylindrical light screen described in US 2017/0114474 A1 does not contribute to solving this problem, and in individual versions, for example a cylindrical light screen with vertical slots, only exacerbate the negative effect of uneven heating.
Наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для выращивания монокристаллов (патент на полезную модель RU №158160, МПК C30B 13/00, опуб. 20.12.2015) с основным эллипсоидным отражателем, в котором находится лампа (источник излучения), расположенным оптической осью вертикально, и дополнительным верхним эллипсоидным отражателем, также расположенным оптической осью вертикально, расходуемый поликристаллический стержень установлен в колбе из кварцевого стекла вблизи фокуса дополнительного верхнего эллипсоидального отражателя. Недостатком конструкции является отсутствие возможности регулировки интенсивности светового потока, фокусируемого основным и дополнительным эллипсоидными отражателями без изменения их положения, положения или тока накала лампы. Это значительно осложняет процесс выращивания монокристалла, особенно в момент начала процесса, что отражается на качестве получаемых монокристаллов и эффективности работы устройства в целом.The closest in technical essence to the invention is a device for growing single crystals (patent for utility model RU No. 158160, IPC C30B 13/00, publ. 12/20/2015) with the main ellipsoid reflector in which the lamp (radiation source) is located, the optical axis vertically, and with an additional upper ellipsoid reflector, also located vertically with the optical axis, a consumable polycrystalline rod is installed in a quartz glass bulb near the focus of the additional upper ellipsoid reflector of Tell. A design flaw is the inability to adjust the intensity of the light flux focused by the primary and secondary ellipsoidal reflectors without changing their position, position or lamp current. This greatly complicates the process of growing a single crystal, especially at the beginning of the process, which affects the quality of the obtained single crystals and the overall performance of the device.
Техническая задача изобретения заключается в обеспечении регулировки режима плавления.The technical task of the invention is to provide adjustment of the melting mode.
Техническим результатом изобретения является повышение качества получаемого монокристалла и повышение эффективности работы устройства в целом.The technical result of the invention is to improve the quality of the obtained single crystal and increase the efficiency of the device as a whole.
Это достигается тем, что известное устройство для выращивания монокристаллов, содержащее основной и дополнительный эллипсоидные отражатели, источник излучения, помещенный в фокусе основного эллипсоидного отражателя, и расходуемый поликристаллический стержень, установленный в колбе из кварцевого стекла вблизи фокуса дополнительного верхнего эллипсоидального отражателя, снабжено подвижным световым экраном, расположенным на главной вертикальной оптической оси и выполненным в виде тела вращения, причем размер подвижного экрана находится в пределах 10-25% внешнего диаметра основного эллипсоидного отражателя.This is achieved by the fact that the known device for growing single crystals containing the main and additional ellipsoid reflectors, a radiation source placed in the focus of the main ellipsoid reflector, and a consumable polycrystalline rod installed in a quartz glass bulb near the focus of the additional upper ellipsoid reflector, is equipped with a movable light screen located on the main vertical optical axis and made in the form of a body of revolution, and the size of the movable screen is It is within 10-25% of the outer diameter of the main ellipsoid reflector.
Сущность изобретения поясняется чертежом, на котором представлено устройство для выращивания монокристаллов.The invention is illustrated by the drawing, which shows a device for growing single crystals.
Устройство для выращивания монокристаллов содержит источник излучения 1, расположенный в фокусе F1 основного эллипсоидного отражателя 2, дополнительный эллипсоидный отражатель 3 с фокусом F2 и подвижный световой экран 4, выполненный в виде тела вращения, например диска. Световая система образована основным 2 и дополнительным 3 эллипсоидными отражателями и имеет промежуточную точку фокусировки F3. Линия ОЕ, соединяющая точки фокусировки F1, F2 и F3, является основной оптической осью световой системы. Расходуемый поликристаллический стержень 5 расположен в кварцевой колбе 6, установленной у фокуса F2 дополнительного эллипсоидного отражателя 3. Кроме того, колба 6 содержит формируемый монокристалл 7 и зону переплава 8.A device for growing single crystals contains a radiation source 1 located in the focus F1 of the
Устройство для выращивания монокристаллов работает следующим образом.A device for growing single crystals works as follows.
Поток энергии от источника излучения 1 собирается путем отражения от основного эллиптического отражателя 2 и направляется на дополнительный эллипсоидный отражатель 3, который концентрирует поток излучения в своем фокусе F2. Расходуемый поликристаллический стержень 5 размещается в кварцевой колбе 6. Чем ближе подвижный световой экран 4 располагается к промежуточной точке фокусировки F3 основного и дополнительного отражателей, соответственно 2 и 3, тем большая доля энергии не попадает в фокус дополнительного эллипсоидного отражателя 3. В начале процесса плавления подвижный световой экран 4 перемещается в положение, соответствующее наименьшей энергии, достигающей фокус F2. После формирования зоны переплава 8 и образования монокристалла 7 подвижный световой экран 4 перемещается от промежуточной точки фокусировки F3.The energy flow from the radiation source 1 is collected by reflection from the main
Перемещение подвижного светового экрана 4 вдоль основной оптической оси ОЕ обеспечивает регулировку режима плавления за счет изменения потока излучения, достигающего фокус F2 дополнительного эллипсоидного отражателя 3. При этом распределение энергии излучения, падающего на незатененную поверхность дополнительного эллипсоидного отражателя 3, не изменяется и остается однородным, чем обеспечивается равномерный нагрев зоны переплава 8, а следовательно, повышается качество получаемого монокристалла 7.The movement of the
Экспериментально установлено, что для плавной регулировки светового потока диаметр подвижного светового экрана 4 должен находиться в пределах 10-25% от величины внешнего диаметра основного эллипсоидного отражателя 2. При диаметре менее 10% световой экран 4 не дает возможности к значительному подавлению энергии в начальный момент плавления, при диаметрах больших 25% световой экран 4, находясь в любом из положений, поглощает значительную часть энергии, что делает установку для выращивания монокристаллов неэффективной.It was experimentally established that for smooth adjustment of the light flux, the diameter of the
Использование изобретения позволяет повысить качество получаемого монокристалла и эффективность работы устройства в целом.The use of the invention improves the quality of the resulting single crystal and the efficiency of the device as a whole.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017136555A RU2656331C1 (en) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | Device for growing monocrystals |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017136555A RU2656331C1 (en) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | Device for growing monocrystals |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2656331C1 true RU2656331C1 (en) | 2018-06-04 |
Family
ID=62560294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2017136555A RU2656331C1 (en) | 2017-10-17 | 2017-10-17 | Device for growing monocrystals |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2656331C1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2734936C1 (en) * | 2020-06-01 | 2020-10-26 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии твердого тела Уральского отделения Российской академии наук | Method of producing a niobium oxide monocrystal |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6071592A (en) * | 1983-09-29 | 1985-04-23 | Seiko Epson Corp | Manufacture of single crystal |
US20100307406A1 (en) * | 2007-12-25 | 2010-12-09 | Isamu Shindo | Floating zone melting apparatus |
RU158160U1 (en) * | 2015-09-10 | 2015-12-20 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | DEVICE FOR GROWING SINGLE CRYSTAL β-Ga2O3 |
US20170114474A1 (en) * | 2015-03-13 | 2017-04-27 | Shin AKUTSU | Single crystal production apparatus and single crystal production method |
-
2017
- 2017-10-17 RU RU2017136555A patent/RU2656331C1/en active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6071592A (en) * | 1983-09-29 | 1985-04-23 | Seiko Epson Corp | Manufacture of single crystal |
US20100307406A1 (en) * | 2007-12-25 | 2010-12-09 | Isamu Shindo | Floating zone melting apparatus |
US20170114474A1 (en) * | 2015-03-13 | 2017-04-27 | Shin AKUTSU | Single crystal production apparatus and single crystal production method |
RU158160U1 (en) * | 2015-09-10 | 2015-12-20 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") | DEVICE FOR GROWING SINGLE CRYSTAL β-Ga2O3 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2734936C1 (en) * | 2020-06-01 | 2020-10-26 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии твердого тела Уральского отделения Российской академии наук | Method of producing a niobium oxide monocrystal |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6030243B2 (en) | LED lamp focus adjustment structure | |
Li et al. | Optical analysis of a hexagonal 42kWe high-flux solar simulator | |
US9574729B2 (en) | Stage light fixture for varying the light beam concentration uniformity and method for operating said stage light fixture | |
CN206112651U (en) | It zooms lighting mechanism device to gather floodlight adjustable | |
GB2483554A (en) | Stage light | |
KR101157311B1 (en) | Floating zone melting apparatus | |
RU2656331C1 (en) | Device for growing monocrystals | |
JP2019523554A (en) | Heating modulator to improve epi uniformity control | |
CN102401319B (en) | Light emitting diode (LED) secondary optical lens | |
EP2722581A1 (en) | Stage light fixture | |
EP0768391B1 (en) | Floating zone melting apparatus | |
TWI616562B (en) | Apparatus and method for crystal growth in floating zone process | |
JP4738966B2 (en) | Floating zone melting device | |
CN201448755U (en) | Adjusting device for equilibrium position of focus and optical axis of stage lamp | |
KR102612372B1 (en) | Beam generation system for chamfering using Airy beam | |
CN108980782B (en) | A homogenization piece control platform for following spot lamp | |
JP2013224237A (en) | Multi-light source centralized heating apparatus | |
JP2017154919A (en) | Floating zone melting apparatus | |
JP5955575B2 (en) | Single crystal growth equipment | |
JPH09235171A (en) | Floatation zone melting apparatus | |
JP7026345B2 (en) | Single crystal growing device | |
US2078137A (en) | Lighting unit | |
US9970124B2 (en) | Single crystal production apparatus and single crystal production method | |
CN219713243U (en) | Spiral type LED spotlight focusing device | |
JP6669355B2 (en) | Floating zone melting equipment |