RU2488910C1 - X-ray template and method for its manufacturing - Google Patents
X-ray template and method for its manufacturing Download PDFInfo
- Publication number
- RU2488910C1 RU2488910C1 RU2012103812/28A RU2012103812A RU2488910C1 RU 2488910 C1 RU2488910 C1 RU 2488910C1 RU 2012103812/28 A RU2012103812/28 A RU 2012103812/28A RU 2012103812 A RU2012103812 A RU 2012103812A RU 2488910 C1 RU2488910 C1 RU 2488910C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- ray
- template
- polymer film
- absorbing structure
- ray absorbing
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к способу изготовления рентгеношаблонов, преимущественно для «мягкой» рентгенолитографии (где основная часть применяемого экспонирующего излучения характеризуется квантами с длинами волн - λ≥5Å).The invention relates to a method for the manufacture of X-ray templates, mainly for “soft” X-ray lithography (where the main part of the applied exposure radiation is characterized by quanta with wavelengths of λ≥5Å).
Известны различные конструкции используемых в вышеуказанном спектральном диапазоне рентгеношаблонов, содержащих, как правило, выполненную из тяжелых металлов рентгенопоглощающую структуру, крепящуюся силами адгезии к тонкой несущей мембране (в виде органической или неорганической пленки), фиксирующейся на опорном кольце, различающихся как материалами, из которых выполнены три вышеперечисленные основные элемента шаблона, так и видами связей между ними.Various designs are known for the X-ray masks used in the above spectral range, which contain, as a rule, an X-ray absorbing structure made of heavy metals, which is attached by adhesion forces to a thin supporting membrane (in the form of an organic or inorganic film), which is fixed on the support ring, which differ as materials from which they are made three of the above basic elements of the template, and the types of connections between them.
В качестве аналога выбраны конструкция и способ изготовления рентгеношаблона, описанные в работе Артамонова Л.Д., Гаврюшкина Н.И., Гаштольд В.Н. и др. - Рентгеновские шаблоны для рентгенолитографии и LIGA-технологии // Отчет Сибирского международного центра синхротронного излучения за 1991-1992 г. / Ин-т ядерной физики им.Будкера СО РАН. - Новосибирск, 1993, с.229-231.As an analogue, the design and method of manufacturing an X-ray template, described in the work of Artamonov L.D., Gavryushkina N.I., Gashtold V.N. et al. - X-ray patterns for X-ray lithography and LIGA technology // Report of the Siberian International Center for Synchrotron Radiation for 1991-1992 / Budker Institute of Nuclear Physics SB RAS. - Novosibirsk, 1993, p.229-231.
Конструкция-аналог, схематическое изображение которой приведено на фиг.1, содержит следующие основные элементы: несущую мембрану 1 в виде тонкой пленки легированного бором кремния; выполненные из золота элементы 2 рентгенопоглощающей структуры; кремниевое опорное кольцо 3.The analog design, a schematic representation of which is shown in figure 1, contains the following main elements: a supporting
Способ-аналог изготовления рентгеношаблона содержит следующие операции:An analogous method of manufacturing an x-ray template contains the following operations:
- формируют границу несущей мембраны путем создания стоп-слоя (например, методом термического легирования кремниевой пластины со стороны ее рабочей поверхности бором на глубину ~2÷3 мкм) для селективного травления;- form the boundary of the supporting membrane by creating a stop layer (for example, by thermal alloying a silicon wafer from the side of its working surface with boron to a depth of ~ 2 ÷ 3 μm) for selective etching;
- напыляют на кремниевую пластину адгезивные электропроводящие подслои;- adhesive electrically conductive sublayers are sprayed onto the silicon wafer;
- наносят на рабочую поверхность пластины толстый (≥10 мкм) слой рентгенорезиста и формируют методом рентгеновской литографии резистивную маску;- a thick (≥10 μm) layer of X-ray resist is applied to the working surface of the plate and a resistive mask is formed by X-ray lithography;
- производят гальваническое осаждение золотой рентгенопоглощающей структуры;- produce galvanic deposition of a gold x-ray absorbing structure;
- удаляют остаточную резистивную маску и формируют (стравливая центральную часть кремниевой пластины до «стоп-слоя») несущую мембрану.- remove the residual resistive mask and form (etching the central part of the silicon wafer to the "stop layer") the supporting membrane.
Выбранная в качестве аналога конструкция рентгеношаблона характеризуется низкой прочностью несущей мембраны, требует очень аккуратного обращения и наличия некоторого зазора между шаблоном и подложкой в процессе экспонирования (теневая печать), что приводит к деформациям рисунка при его переносе вследствие дифракционных эффектов. Кроме того, реализуемое на последнем этапе изготовления шаблона формирование несущей мембраны приводит к перераспределению его внутренних напряжений и к искажению геометрии рентгенопоглощающей структуры.The design of the X-ray template chosen as an analogue is characterized by low strength of the carrier membrane, requires very careful handling and the presence of a certain gap between the template and the substrate during exposure (shadow printing), which leads to deformation of the pattern when it is transferred due to diffraction effects. In addition, the formation of the supporting membrane, which is realized at the last stage of manufacturing the template, leads to a redistribution of its internal stresses and to a distortion of the geometry of the X-ray absorbing structure.
Способ-аналог характеризуется большим количеством высокотехнологичных операций и низким процентом выхода годных изделий, что, в конечном результате, приводит к значительной себестоимости изготавливаемых рентгеношаблонов.The analogue method is characterized by a large number of high-tech operations and a low percentage of suitable products, which, in the end result, leads to a significant cost of manufactured x-ray templates.
В качестве прототипа выбраны конструкция и способ, описанные в работе Flanders D.C., Smith H.I. Polyimide membrane X-ray lithography masks fabrication and distortion measurements. - J. Vac. Sci. Technol., 1978, V.15, №3. - P.995.As a prototype, the design and method described in the work of Flanders D.C., Smith H.I. Polyimide membrane X-ray lithography masks fabrication and distortion measurements. - J. Vac. Sci. Technol., 1978, V.15, No. 3. - P.995.
Конструкция-прототип, схематически изображенная на фиг.2, содержит следующие основные элементы: несущую мембрану 1 в виде тонкой (толщиной 0,5÷1 мкм) пленки майлара (лавсана, полиэтилентерефталата), элементы 2 рентгенопоглощающей структуры (топологического рисунка шаблона); металлическое опорное кольцо 3.The prototype design, schematically depicted in figure 2, contains the following main elements: a supporting
Способ-прототип изготовления рентгеношаблона содержит следующие операции:The prototype method of manufacturing an x-ray template contains the following operations:
- наносят тонкий слой полимера (полиэтилентерефталата) на подложку из стекла (сапфира, кварца или другого материала, способного выдержать температуру 400°C и имеющего хорошо подготовленную поверхность);- apply a thin layer of polymer (polyethylene terephthalate) on a substrate of glass (sapphire, quartz or other material capable of withstanding a temperature of 400 ° C and having a well-prepared surface);
- производят высокотемпературную (при температуре 400°C) полимеризацию слоя;- produce high-temperature (at a temperature of 400 ° C) polymerization of the layer;
- наносят рентгенопоглощающий слой «тяжелого» металла поверх полимерного слоя,- apply an X-ray absorbing layer of the "heavy" metal on top of the polymer layer,
- формируют защитную резистивную маску методами литографии;- form a protective resistive mask by lithography methods;
- формируют рентгенопоглощающую структуру (топологический рисунок) шаблона путем травления «тяжелого» металла через резистивную маску;- form an X-ray absorbing structure (topological pattern) of the template by etching the "heavy" metal through a resistive mask;
- удаляют остаточную резистивную маску;- remove the residual resistive mask;
- прикрепляет (приклеивают) к полимерной мембране опорное кольцо (из стали, алюминия или другого материала);- attaches (glues) a support ring (made of steel, aluminum or other material) to the polymer membrane;
- удаляют подложку (проводят селективное травление подложки).- remove the substrate (conduct selective etching of the substrate).
Выбранная в качестве прототипа конструкция рентгеношаблона характеризуется высокой прочностью несущей мембраны, вследствие чего она может находиться в непосредственном контакте с резистивным слоем, нанесенным на рабочую поверхность обрабатываемой подложки. В результате влияние дифракции экспонирующего излучения на разрешающую способность рентгенолитографического процесса может быть сведено к минимуму, поскольку зазор между рабочими поверхностями шаблона и подложки может быть установлен практически равным нулю. Однако производимое уже после формирования топологии рентгенопоглощающей структуры крепление (приклеивание) опорного кольца к мембране вносит дополнительные внутренние напряжения, что приводит к деформациям геометрии структуры.The design of the X-ray template selected as a prototype is characterized by the high strength of the carrier membrane, as a result of which it can be in direct contact with the resistive layer deposited on the working surface of the processed substrate. As a result, the influence of diffraction of the exposure radiation on the resolution of the X-ray lithography process can be minimized, since the gap between the working surfaces of the template and the substrate can be set to practically zero. However, the fastening (gluing) of the support ring to the membrane, made after the formation of the topology of the X-ray absorbing structure, introduces additional internal stresses, which leads to deformation of the structure’s geometry.
Способ-прототип характеризуется большим количеством высокотехнологичных операций, что ведет к значительной себестоимости изготавливаемых рентгеношаблонов.The prototype method is characterized by a large number of high-tech operations, which leads to a significant cost of manufactured x-ray templates.
Предлагаемым конструкции и способу изготовления рентгеношаблона не свойственны недостатки, присущие прототипу.The proposed design and method of manufacturing an x-ray template does not have the disadvantages inherent in the prototype.
С целью минимизации геометрических искажений рентгенопоглощающей структуры шаблона и уменьшения себестоимости его изготовления предлагается формировать рентгенопоглощающую структуру на уже зафиксированной в металлических пяльцах (играющих роль опорного кольца) промышленно-выпускаемой полимерной пленке, выполняющей функцию несущей мембраны, а в качестве одной из частей рентгенопоглощающей структуры (которая может быть сложносоставной) используется толстая резистивная маска, что схематически проиллюстрировано на фиг.3.In order to minimize geometric distortions of the X-ray absorbing structure of the template and reduce the cost of its manufacture, it is proposed to form an X-ray absorbing structure on an industrial-produced polymer film already functioning in the metal hoop (playing the role of a support ring), which serves as a supporting membrane, and as one of the parts of the X-ray absorbing structure (which can be complex) a thick resistive mask is used, which is schematically illustrated in figure 3.
Предлагаемый способ изготовления рентгеношаблона характеризуется простотой и выглядит следующим образом:The proposed method of manufacturing an x-ray pattern is characterized by simplicity and is as follows:
1) фиксируют в специальных пяльцах (играющих роль опорного кольца) промышленно-выпускаемую полимерную пленку (выполняющую функцию несущей мембраны);1) they fix in a special hoop (playing the role of a support ring) an industrially produced polymer film (acting as a supporting membrane);
2) на рабочую поверхность полимерной пленки наносят толстый (обеспечивающий требуемую контрастность при дальнейшей эксплуатации готового шаблона) слой резиста и формируют методами литографии резистивную маску.2) a thick layer is applied to the working surface of the polymer film (providing the required contrast during the further operation of the finished template) and a resistive mask is formed by lithography.
Предлагаемая конструкция рентгеношаблона, схематически изображенная на фиг.3, содержит следующие основные элементы: несущую мембрану 1 в виде тонкой полимерной пленки; выполненные из резиста элементы 2 рентгенопоглощающей структуры; составное опорное кольцо в виде пялец из двух колец 3а и 3б.The proposed design of the x-ray template, schematically depicted in figure 3, contains the following main elements: a supporting
Конструкция пялец для реализации равномерного и регулируемого натяжения полимерной пленки может быть более сложной и состоять из более чем двух колец. Для снятия внутренних напряжений в пленке может проводиться ее высокотемпературный отжиг в сборе с пяльцами (на первом этапе до нанесения не нее каких-либо слоев).The design of the hoop to realize uniform and adjustable tension of the polymer film can be more complex and consist of more than two rings. To relieve internal stresses in the film, its high-temperature annealing can be carried out assembled with a hoop (at the first stage, before applying any layers to it).
Предлагаемые конструкция и способ изготовления рентгеношаблона с применением составного в виде пялец опорного кольца, а в качестве рентгенопоглощающей структуры резистивной маски достаточно просты и легко реализуемы, причем рентгенопоглощающая структура создается на уже «сформированной» несущей мембране (на уже зафиксированной в пяльцах полимерной пленке), что исключает внесение дополнительных деформаций геометрии рентгенопоглощающей структуры, связанных с фиксацией (приклейкой) мембраны к кольцу, как это имеет место в прототипе. Для использования в качестве несущей мембраны может быть выбрана промышленно-выпускаемая радиационно-стойкая полимерная пленка (например, из материала ПЭЭК - полиэфирэфиркетона), что позволит увеличить срок эксплуатации изготовленного таким образом рентгеношаблона.The proposed design and method for manufacturing an X-ray template using a hoop-shaped support ring, and as an X-ray absorbing structure of the resistive mask are quite simple and easy to implement, and the X-ray absorbing structure is created on an already “formed” carrier membrane (on a polymer film already fixed in the hoop), which eliminates the introduction of additional deformations of the geometry of the x-ray absorbing structure associated with the fixation (gluing) of the membrane to the ring, as is the case in the prototype. For use as a supporting membrane, an industrially produced radiation-resistant polymer film can be selected (for example, from PEEK - polyetheretherketone), which will increase the life of the X-ray template made in this way.
С целью повышения контрастности рентгеношаблона предлагаемой конструкции могут быть дополнительно произведены следующие действия (операции):In order to increase the contrast of the X-ray template of the proposed design, the following actions (operations) can be additionally performed:
- рентгенопоглощающая топологическая структура может быть сформирована- X-ray absorbing topological structure can be formed
- с предварительным нанесением (напылением) на рабочую поверхность пленки тонкого слоя тяжелого металла и последующим (на финальных стадиях) его травлением через сформированную резистивную маску;- with preliminary deposition (spraying) on the working surface of the film of a thin layer of heavy metal and its subsequent (in the final stages) etching through the formed resistive mask;
- с обеих сторон несущей мембраны (т.е. двусторонний рентгеношаблон);- on both sides of the carrier membrane (i.e., two-sided x-ray template);
- из сенсибилизированного металлами (входящими в его химическую формулу и/или добавленными в виде наночастиц) резиста;- from a metal sensitized by a resist (included in its chemical formula and / or added in the form of nanoparticles);
- (в тех случаях, когда позволяет топология рентгенопоглощающей структуры) полимерная пленка может быть удалена на рентгенопрозрачных участках рентгеношаблона (т.е. шаблон выполняется в «перфорированном» варианте).- (in cases where the topology of the x-ray absorbing structure allows) the polymer film can be removed on the x-ray transparent sections of the x-ray template (ie the template is executed in the “perforated” version).
Пример конкретного исполнения. Для реализации предлагаемых конструкции рентгеношаблона и способа его изготовления, в наиболее сложном варианте исполнения: «перфорированный» двусторонний шаблон с металлическими подслоями с резистивной маской из сенсибилизированного резиста (например, из позитивного рентгенорезиста CuMA-MA - сополимера метакриловой кислоты и медной соли метакриловой кислоты, характеризующийся содержанием меди ~5,2% [описанный в работе Александров Ю.М., Валиев К.А., Беликов Л.В. и др. Механизм плазмохимического травления полимеров // Микроэлектроника. - 1983. - Т.12, вып.1. - С.10]), изготавливают пяльца, содержащие три кольца из органического стекла и две прокладки из силиконовой резины (толщина пялец в сборе ~10 мм, внутренний диаметр меньшего кольца ~40 мм), с помощью которых зажимается лавсановая пленка толщиной ~2,5 мкм, причем ее натяжение может регулироваться путем стягивания крайних колец между собой посредством фиксирующих винтов.An example of a specific implementation. To implement the proposed design of the X-ray template and the method of its manufacture, in the most complex embodiment: a “perforated” double-sided template with metal sublayers with a resistive mask of a sensitized resist (for example, a positive X-ray resist CuMA-MA - a copolymer of methacrylic acid and copper salt of methacrylic acid, characterized copper content ~ 5.2% [described in the work by Alexandrov Yu.M., Valiev K.A., Belikov L.V. et al. Mechanism of plasma-chemical etching of polymers // Microelectronics. - 1983. - T.12,
На фиг.4 схематически изображены следующие основные элементы рентгеношаблона предлагаемой конструкции: несущая мембрана 1 в виде тонкой лавсановой пленки толщиной ~2,5 мкм; элементы 2 рентгенопоглощающей структуры; опорное кольцо в виде пялец с обеспечивающим регулируемое натяжение несущей мембраны механизмом, содержащее кольца 3а, 3б, 3в (где 3а - внутреннее кольцо, 3б и 3в - крайние кольца, крепящиеся к внутреннему через резиновые прокладки); резиновые прокладки 4; фиксирующие винты 5.Figure 4 schematically shows the following basic elements of the x-ray template of the proposed design: the supporting
Проводят отжиг внутренних напряжений лавсановой пленки (1 час при температуре ~70°C), с последующим напылением на обе ее стороны тонких (толщиной ~0,2 мкм) слоев серебра, поверх которых наносят (на центрифуге с помощью специальных приспособлений или другим способом) толстые (≥50 мкм) слои вышеуказанного резиста. Затем при помощи рентгенолучевого генератора изображений [описанного в работе Петрова Е.В., Гольденберг Б.Г., Кондратьев В.И. и др. Создание рентгеношаблонов на толстой подложке для глубокой рентгеновской литографии // Поверхность: Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2007. - №6. - С.14-19]), используя пучок сравнительно жесткого синхротронного излучения (λ≈1Å), формируют в обоих слоях резиста скрытое изображение (производят экспонирование резиста по заданной программе). После чего, проявляя резист, формируют резистивную маску и через нее травят (в водном растворе азотной кислоты) серебряные подслои, в результате получается сформированная на полимерной пленке рентгенопоглощающая структура, содержащая расположенные с разных сторон несущей мембраны идентичные слои из серебра 2а и рентгенорезиста 2б, что схематично представлено на фиг.4.Annealing the internal stresses of the lavsan film is carried out (1 hour at a temperature of ~ 70 ° C), followed by spraying on both sides of it thin (~ 0.2 μm thick) layers of silver, on top of which they are applied (in a centrifuge using special devices or in another way) thick (≥50 μm) layers of the above resist. Then, using an X-ray image generator [described in the work of Petrova E.V., Goldenberg B.G., Kondratiev V.I. et al. Creation of X-ray templates on a thick substrate for deep X-ray lithography // Surface: X-ray, synchrotron and neutron studies. - 2007. - No. 6. - S.14-19]), using a beam of relatively hard synchrotron radiation (λ≈1Å), a latent image is formed in both layers of the resist (the resist is exposed according to a given program). Then, showing a resist, a resistive mask is formed and silver sublayers are etched through it (in an aqueous solution of nitric acid), as a result, an X-ray absorbing structure formed on the polymer film contains identical layers of
Контрастность такого шаблона при экспонировании монохроматическим излучением с длиной волны λ=5Å составит ≥45 и будет возрастать по мере ее увеличения. Для увеличения контрастности шаблона следует увеличивать толщину элементов рентгенопоглощающей структуры, а также, если позволяет ее топология, можно удалять полимерную пленку с рентгенопрозрачных участков шаблона, что достигается путем экспонирования шаблона рентгеновским излучением, до набора пленкой на открытых участках требуемой экспозиционной дозы и травления ее в водном растворе щелочи (гидроксида натрия).The contrast of such a pattern when exposed to monochromatic radiation with a wavelength of λ = 5 Å will be ≥45 and will increase as it increases. To increase the contrast of the template, it is necessary to increase the thickness of the elements of the x-ray absorbing structure, and also, if its topology allows, you can remove the polymer film from the x-ray transparent sections of the template, which is achieved by exposing the template to x-ray radiation until the film exposes the required exposure dose in open areas and etches it in water alkali solution (sodium hydroxide).
Claims (11)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2012103812/28A RU2488910C1 (en) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | X-ray template and method for its manufacturing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2012103812/28A RU2488910C1 (en) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | X-ray template and method for its manufacturing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2488910C1 true RU2488910C1 (en) | 2013-07-27 |
Family
ID=49155759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012103812/28A RU2488910C1 (en) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | X-ray template and method for its manufacturing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2488910C1 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2546989C2 (en) * | 2013-08-01 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН) | X-ray mask and method of its fabrication |
| RU2598153C1 (en) * | 2015-05-18 | 2016-09-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Белгородский государственный национальный исследовательский университет" (НИУ "БелГУ") | Method of forming contrast x-ray image |
| RU2716858C1 (en) * | 2019-04-22 | 2020-03-17 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт Ядерной Физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения (ИЯФ СО РАН) | Method of making a silicon x-ray image |
| RU2721172C1 (en) * | 2019-04-16 | 2020-05-18 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт Ядерной Физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения (ИЯФ СО РАН) | Method of manufacturing self-bearing x-ray lithography mask |
| RU2759387C1 (en) * | 2020-11-11 | 2021-11-12 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения Российской академии наук (ИЯФ СО РАН) | Method for producing a self-supporting x-ray mask |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5124561A (en) * | 1991-04-04 | 1992-06-23 | International Business Machines Corporation | Process for X-ray mask warpage reduction |
| SU1217196A1 (en) * | 1984-07-12 | 1996-05-10 | В.В. Чесноков | Method of manufacturing roentgen gauge |
| JP2000105463A (en) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | Formation of resist, resist pattern forming method and production of mask for x-ray exposure |
| EP1045288A2 (en) * | 1999-04-12 | 2000-10-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask structure and method of manufacturing the same |
| JP2002118044A (en) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Mitsubishi Materials Corp | Mask for x-ray lithography with highly accurate integrated circuit pattern formed on x-ray absorption body |
-
2012
- 2012-02-03 RU RU2012103812/28A patent/RU2488910C1/en active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1217196A1 (en) * | 1984-07-12 | 1996-05-10 | В.В. Чесноков | Method of manufacturing roentgen gauge |
| US5124561A (en) * | 1991-04-04 | 1992-06-23 | International Business Machines Corporation | Process for X-ray mask warpage reduction |
| JP2000105463A (en) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | Formation of resist, resist pattern forming method and production of mask for x-ray exposure |
| EP1045288A2 (en) * | 1999-04-12 | 2000-10-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask structure and method of manufacturing the same |
| JP2002118044A (en) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Mitsubishi Materials Corp | Mask for x-ray lithography with highly accurate integrated circuit pattern formed on x-ray absorption body |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Артамонова Л.Д. и др. Рентгеновские шаблоны для рентгенолитографии и LIGA-технологии. Отчет Сибирского международного центра синхротронного излучения за 1991-1992 г. Ин-т ядерной физики им.Будкера СО РАН. - Новосибирск, 1993, с.229-231. Flanders D.C., Smith H.I. Polyimide membrane X-ray lithography masks fabrication and distortion measurements. J. Vac. Sci. Technol., 1978, v.15, №3, p.995. * |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2546989C2 (en) * | 2013-08-01 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН) | X-ray mask and method of its fabrication |
| RU2598153C1 (en) * | 2015-05-18 | 2016-09-20 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Белгородский государственный национальный исследовательский университет" (НИУ "БелГУ") | Method of forming contrast x-ray image |
| RU2721172C1 (en) * | 2019-04-16 | 2020-05-18 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт Ядерной Физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения (ИЯФ СО РАН) | Method of manufacturing self-bearing x-ray lithography mask |
| RU2716858C1 (en) * | 2019-04-22 | 2020-03-17 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт Ядерной Физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения (ИЯФ СО РАН) | Method of making a silicon x-ray image |
| RU2759387C1 (en) * | 2020-11-11 | 2021-11-12 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения Российской академии наук (ИЯФ СО РАН) | Method for producing a self-supporting x-ray mask |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2488910C1 (en) | X-ray template and method for its manufacturing | |
| WO2015178250A1 (en) | Pellicle film, pellicle, exposure master, exposure device, and method for manufacturing semiconductor device | |
| US20110194673A1 (en) | Microstructure manufacturing method and microstructure | |
| EP3100114B1 (en) | A monolithic mesh-supported euv membrane | |
| KR20130074066A (en) | Euv pellicle and manufacturing method of the same | |
| KR20130088565A (en) | Euv pellicle uging graphene and manufacturing method of the same | |
| TW201044115A (en) | Method and system for forming a pattern in a semiconductor device, and semiconductor device | |
| US20140334604A1 (en) | Microstructure, and imaging apparatus having the microstructure | |
| US20120219916A1 (en) | Microstructure manufacturing method | |
| RU2469369C2 (en) | X-ray lithographic template and method for production thereof | |
| TW201142482A (en) | Method of processing substrate, method of manufacturing euv mask and euv mask | |
| KR100515369B1 (en) | Apparatus for forming fine patterns of semiconductor wafer by electric field and the method of the same | |
| WO2015043321A1 (en) | Nanoimprint lithography device and method | |
| JP5343378B2 (en) | Stencil mask and manufacturing method thereof | |
| JPH0689847A (en) | X-ray mask structure and its manufacture, x-ray exposure using the structure, and device manufactured by using the structure | |
| RU2350996C1 (en) | Method for manufacture of litographic mask for liga-technology | |
| JPS63170917A (en) | Formation of fine pattern | |
| RU2546989C2 (en) | X-ray mask and method of its fabrication | |
| RU2716858C1 (en) | Method of making a silicon x-ray image | |
| KR20100028330A (en) | Fablicating method of cylinder having fine patterns | |
| JP6148112B2 (en) | Light transmittance measurement method | |
| EP2851749B1 (en) | X-ray mask structure and method for preparing the same | |
| US20240353353A1 (en) | Multi-layer high-aspect ratio x-ray grating and method of manufacture | |
| RU2350995C2 (en) | Lithographic mask for liga-technology and method for its manufacture | |
| WO2009129858A1 (en) | High aspect ratio microstructures |