RU2453511C1 - Method of forming optical waveguide immersed in glass - Google Patents
Method of forming optical waveguide immersed in glass Download PDFInfo
- Publication number
- RU2453511C1 RU2453511C1 RU2010145640/03A RU2010145640A RU2453511C1 RU 2453511 C1 RU2453511 C1 RU 2453511C1 RU 2010145640/03 A RU2010145640/03 A RU 2010145640/03A RU 2010145640 A RU2010145640 A RU 2010145640A RU 2453511 C1 RU2453511 C1 RU 2453511C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- waveguide
- glass
- refractive index
- increase
- electrons
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к технологии оптических материалов и может быть использовано в интегральной оптике для изготовления волноводов и волноводных структур, а также для изготовления волноводных датчиков и сенсоров.The invention relates to the technology of optical materials and can be used in integrated optics for the manufacture of waveguides and waveguide structures, as well as for the manufacture of waveguide sensors and sensors.
Основным компонентом интегрально-оптических устройств является оптический волновод, который может быть использован как для передачи оптических сигналов, так и входить в состав интегрально-оптических устройств, управляющих оптическими сигналами: оптических переключателей и коммутаторов, волноводных фильтров, резонаторов и т.д. Оптический волновод представляет собой протяженную структуру из оптически прозрачного материала с показателем преломления большем, чем показатель преломления окружающей среды. Для изготовления оптических волноводов используют методы фотолитографии, вакуумного напыления, диффузии, ионного обмена, ионной имплантации и другие. Последние три метода используются для формирования внедренных или погруженных оптических волноводов, т.е. волноводов, расположенных в объеме подложки интегрально-оптического устройства.The main component of integrated optical devices is an optical waveguide, which can be used both for transmitting optical signals and can be a part of integrated optical devices that control optical signals: optical switches and switches, waveguide filters, resonators, etc. An optical waveguide is an extended structure of an optically transparent material with a refractive index greater than the refractive index of the environment. For the manufacture of optical waveguides using methods of photolithography, vacuum deposition, diffusion, ion exchange, ion implantation and others. The last three methods are used to form embedded or submerged optical waveguides, i.e. waveguides located in the substrate volume of an integrated optical device.
Известен способ формирования погруженных оптических волноводов в диэлектриках, заключающийся в том, что в приповерхностный слой диэлектрика через маску методом диффузии вводят ионы примеси (например, ионы металла) [Taylor H.F., Martin W.E., Hall D.B. Fabrication of single-crystal semiconductor optical waveguides by solid-state diffusion. // Appl. Phys. Lett. 1972. V.21. I.3. P.95-98]. Изменение химического состава приповерхностного слоя приводит к локальному увеличению показателя преломления и формированию оптического волновода. Недостатком способа является необходимость использования фотолитографии для изготовления маски.A known method of forming immersed optical waveguides in dielectrics is that impurity ions (for example, metal ions) are introduced into the surface layer of a dielectric through a mask by diffusion [Taylor H.F., Martin W.E., Hall D.B. Fabrication of single-crystal semiconductor optical waveguides by solid-state diffusion. // Appl. Phys. Lett. 1972. V.21. I.3. P.95-98]. A change in the chemical composition of the surface layer leads to a local increase in the refractive index and the formation of an optical waveguide. The disadvantage of this method is the need to use photolithography for the manufacture of masks.
Известен способ формирования погруженных оптических волноводов в диэлектриках, заключающийся в том, что приповерхностный слой диэлектрика облучают ускоренными ионами примеси [Somekh S., Garmire E., Yariv A., Garvin H.L., Hunsperger R.G. Channel Optical Waveguides and Directional Couplers in GaAs-lmbedded and Ridged // Appl. Opt. 1974. V.13. I.2. P.327-330]. Ионы примеси, внедряясь в приповерхностный слой диэлектрика, приводят к изменению его химического состава, к локальному увеличению показателя преломления и формированию оптического волновода. Недостатком метода имплантации является необходимость использования фотолитографии для изготовления маски.A known method of forming immersed optical waveguides in dielectrics, which consists in the fact that the surface layer of the dielectric is irradiated with accelerated impurity ions [Somekh S., Garmire E., Yariv A., Garvin H.L., Hunsperger R.G. Channel Optical Waveguides and Directional Couplers in GaAs-lmbedded and Ridged // Appl. Opt. 1974. V.13. I.2. P.327-330]. Impurity ions, penetrating into the surface layer of a dielectric, lead to a change in its chemical composition, to a local increase in the refractive index and the formation of an optical waveguide. The disadvantage of the implantation method is the need to use photolithography for the manufacture of masks.
Известен способ формирования погруженных оптических волноводов в диэлектриках, заключающийся в том, что приповерхностный слой диэлектрика, например стекла, облучают сфокусированными лазерными импульсами фемтосекундной длительности, причем лазерный луч перемещают вдоль направления формируемого волновода [G.Cheng, K.Mishchik, C.Mauclair, E.Audouard, R.Stoian Ultrafast laser photoinscription of polarization sensitive devices in bulk silica glass // Opt. Express. V.17. No 12. P.9515. 2009]. Модификация структуры стекла в зоне облучения приводит к появлению локальных механических напряжений, увеличивающих показатель преломления, и формированию оптического волновода. Недостатком способа является импульсно-периодический режим обработки, приводящий к пространственной неоднородности формируемого волновода.A known method of forming immersed optical waveguides in dielectrics is that a surface layer of a dielectric, such as glass, is irradiated with focused laser pulses of femtosecond duration, the laser beam being moved along the direction of the waveguide being formed [G. Cheng, K. Mishchik, C. Mauclair, E .Audouard, R. Stian Ultrafast laser photoinscription of polarization sensitive devices in bulk silica glass // Opt. Express V.17. No 12. P.9515. 2009]. A modification of the glass structure in the irradiation zone leads to the appearance of local mechanical stresses that increase the refractive index and the formation of an optical waveguide. The disadvantage of this method is the pulse-periodic processing mode, leading to spatial heterogeneity of the generated waveguide.
Известен способ формирования погруженных оптических волноводов в стеклах, заключающийся в том, что стекла помещают в расплав соли металла, например азотнокислого серебра, проводят процесс ионного обмена, после чего стекло подвергают термообработке [Н.В.Никоноров, Г.Т.Петровский. Стекла для ионного обмена в интегральной оптике: современное состояние и тенденции дальнейшего развития (обзор). // Физ. и хим. стекла, 1999, Т.25, №1, С.21-69. A.Tervonen, S.Honkanen, M.Leppihalme. Control of ion-exchange waveguide profiles with Ag thin-film sources // J. Appl. Phys. 62. N3. P.759. 1987]. При ионном обмене ионы металла внедряются в приповерхностный слой стекла, что приводит к увеличению показателя преломления этого слоя. Недостатком способа является необходимость использования дополнительных фотолитографических процессов для создания в приповерхностном слое стекла волноводов заданной конфигурации.A known method of forming immersed optical waveguides in glasses, which consists in the fact that the glasses are placed in a molten metal salt, for example silver nitrate, an ion exchange process is carried out, after which the glass is subjected to heat treatment [N.V. Nikonorov, G.T. Petrovsky. Glass for ion exchange in integrated optics: current status and trends for further development (review). // Phys. and chem. glass, 1999, T.25, No. 1, C.21-69. A. Tervonen, S. Honkanen, M. Leppihalme. Control of ion-exchange waveguide profiles with Ag thin-film sources // J. Appl. Phys. 62. N3. P.759. 1987]. During ion exchange, metal ions are introduced into the surface layer of the glass, which leads to an increase in the refractive index of this layer. The disadvantage of this method is the need to use additional photolithographic processes to create waveguides of a given configuration in the surface layer of glass.
Известен способ формирования слоев наночастиц металлов в стекле, выбранный в качестве прототипа, заключающийся в том, что стекло, содержащее ионы серебра или меди, подвергают облучению электронами, после чего проводят термообработку стекла [заявка на патент РФ №2008143850, от 05.11.2008, решение о выдаче патента от 17.02.2010]. Данный способ позволяет формировать погруженный волновод с металлическими наночастицами в приповерхностном слое стекла. Недостатком способа является увеличение коэффициента оптического поглощения в слое за счет формирования в нем поглощающих металлических наночастиц. Такой волновод имеет высокие потери из-за наличия в нем наночастиц.A known method of forming layers of metal nanoparticles in glass, selected as a prototype, which consists in the fact that the glass containing silver or copper ions is irradiated with electrons, and then the glass is heat treated [patent application of the Russian Federation No. 2008143850, from 05.11.2008, solution on the grant of a patent dated February 17, 2010]. This method allows the formation of an immersed waveguide with metal nanoparticles in the surface layer of glass. The disadvantage of this method is the increase in the coefficient of optical absorption in the layer due to the formation of absorbing metal nanoparticles in it. Such a waveguide has high losses due to the presence of nanoparticles in it.
Изобретение решает задачу повышения точности и технологичности изготовления погруженных оптических волноводов заданной геометрии с высоким эффективным показателем преломления и малыми оптическими потерями, а также возможности варьирования глубины залегания и толщины волновода в подложке.The invention solves the problem of improving the accuracy and manufacturability of manufacturing submerged optical waveguides of a given geometry with a high effective refractive index and low optical losses, as well as the possibility of varying the depth and thickness of the waveguide in the substrate.
Поставленная задача решается следующим образом.The problem is solved as follows.
Приповерхностный слой стекла, содержащего ионы щелочного металла, например Na, K, Li, в области формирования волновода облучают электронами с энергией 5-20 кэВ и дозой облучения 0.5-10 мК/см2 при плотности электронного тока 0.5-10 мкА/см2. После облучения электронами стекло подвергают термообработке при температуре 350-400°C в течение 1-2 ч.The surface layer of a glass containing alkali metal ions, for example, Na, K, Li, is irradiated with electrons with an energy of 5-20 keV and an irradiation dose of 0.5-10 mK / cm 2 at an electron current density of 0.5-10 μA / cm 2 in the waveguide formation region. After irradiation with electrons, the glass is subjected to heat treatment at a temperature of 350-400 ° C for 1-2 hours
Сущность заявляемого изобретения поясняется следующим.The essence of the invention is illustrated as follows.
При облучении электронами стекла с ионами щелочных металлов области формирования волновода в приповерхностном слое стекла формируется отрицательный объемный заряд, связанный с накоплением термализованных электронов и высоким удельным сопротивлением стекла, толщина слоя объемного заряда при начальной энергии электронов менее 10 кэВ не превышает 0.5 мкм. Напряженность электрического поля, создаваемого таким слоем объемного заряда, может достигать 100-200 кВ/см [M.Touzin, D.Goeriot, C.Guerret-Piécort, D.Juvé, D.Tréheux, H.-J.Fitting // J. Appl. Phys. 99. 114110. 2006]. Электрическое поле высокой напряженности приводит к появлению полевой миграции в область отрицательного объемного заряда положительных ионов щелочного металла, обладающих в стеклах высокой подвижностью [A.Tervonen, S.Honkanen, М.Leppihalme // J. Appl. Phys. 62. 759. 1987]. Полевая миграция положительных ионов происходит на протяжении всего процесса облучения электронами. В результате часть ионов щелочного металла из объема стекла перемещается в приповерхностный слой. При этом вблизи поверхности стекла формируется локальная область с высокой концентрацией ионов щелочного металла, а в глубине стекла - область с пониженной концентрацией указанных ионов. Это приводит к появлению в приповерхностном слое стекла области с повышенным показателем преломления, а в глубине стекла - области с пониженным показателем преломления относительно показателя преломления исходного стекла. Такая структура является погруженным оптическим волноводом с градиентным профилем показателя преломления. Формирование волновода в виде двух слоев - с повышенным и пониженным показателями преломления относительно показателя преломления исходного стекла улучшает эффективность каналирования волноводных мод.Upon electron irradiation of glass with alkali metal ions, the region of waveguide formation in the near-surface glass layer forms a negative space charge associated with the accumulation of thermalized electrons and high specific resistivity of the glass; the thickness of the space charge layer at an initial electron energy of less than 10 keV does not exceed 0.5 μm. The electric field generated by such a space charge layer can reach 100-200 kV / cm [M.Touzin, D. Goeriot, C. Guerret-Piécort, D.Juvé, D.Tréheux, H.-J.Fitting // J .Appl. Phys. 99. 114110. 2006]. An electric field of high tension leads to the appearance of field migration to the negative space charge region of positive alkali metal ions with high mobility in glasses [A.Tervonen, S. Honkanen, M. Leppihalme // J. Appl. Phys. 62. 759. 1987]. Field migration of positive ions occurs throughout the process of electron irradiation. As a result, part of the alkali metal ions from the bulk of the glass moves into the surface layer. In this case, a local region with a high concentration of alkali metal ions is formed near the glass surface, and a region with a low concentration of these ions is formed in the depth of the glass. This leads to the appearance in the surface layer of the glass of a region with a high refractive index, and in the depth of the glass, a region with a low refractive index relative to the refractive index of the original glass. Such a structure is an immersed optical waveguide with a gradient profile of the refractive index. The formation of a waveguide in the form of two layers — with increased and decreased refractive indices relative to the refractive index of the original glass, improves the channeling efficiency of waveguide modes.
Запись волновода с помощью сканирующего электронного микроскопа, перемещающего электронный луч по поверхности подложки по заданной программе, позволяет формировать волновод заданной геометрии. Изменение энергии электронов дает возможность регулировать глубину залегания волновода. При варьировании энергии электронов от 5 до 20 кэВ глубина залегания центра волновода от поверхности стекла будет изменяться от 0.5 до 6 мкм. Использование остро сфокусированного электронного луча позволяет получить пространственное разрешение менее 10 нм [Ч.Пул, Ф.Оуэнс. Нанотехнологии. - М.: Техносфера, 2004, 328 с.], что обеспечивает высокую точность изготовления волновода.Recording a waveguide using a scanning electron microscope that moves an electron beam over the surface of the substrate according to a given program allows you to form a waveguide of a given geometry. Changing the electron energy makes it possible to adjust the depth of the waveguide. When the electron energy varies from 5 to 20 keV, the depth of the waveguide center from the glass surface will vary from 0.5 to 6 μm. The use of a sharply focused electron beam makes it possible to obtain a spatial resolution of less than 10 nm [C. Pool, F. Owens. Nanotechnology. - M .: Technosphere, 2004, 328 p.], Which provides high precision manufacturing waveguide.
Последующая термообработка позволяет увеличить эффективный показатель преломления волновода за счет уменьшения локальных механических напряжений в стекле, а также увеличить толщину волновода за счет термической диффузии ионов щелочного металла из волноводной области. Так как ионы щелочных металлов в силу своей высокой химической активности не могут сформировать в стекле поглощающие металлические наночастицы, то увеличение их концентрации в приповерхностном слое стекла не приводит к увеличению поглощения в волноводном слое.Subsequent heat treatment allows you to increase the effective refractive index of the waveguide by reducing local mechanical stresses in the glass, as well as increase the thickness of the waveguide due to thermal diffusion of alkali metal ions from the waveguide region. Since alkali metal ions, due to their high chemical activity, cannot form absorbing metal nanoparticles in glass, an increase in their concentration in the surface layer of the glass does not lead to an increase in absorption in the waveguide layer.
Сущность изобретения поясняется чертежом, на котором показана зависимость эффективного показателя преломления сформированного волноводного слоя от угла падения излучения на призму ввода: 1 - до термообработки, 2 - после термообработки.The invention is illustrated by the drawing, which shows the dependence of the effective refractive index of the formed waveguide layer on the angle of incidence of radiation on the input prism: 1 - before heat treatment, 2 - after heat treatment.
Далее сущность изобретения раскрывается на примере, который не должен рассматриваться экспертом как ограничивающий притязания изобретения.Further, the invention is disclosed by an example, which should not be construed by an expert as limiting the claims of the invention.
В качестве подложки для волновода используют пластину из натриево-боро-силикатного стекла, по химическому составу близкого к оптическому стеклу К8. Толщина пластины 2 мм. Показатель преломления стекла n=1.511. На пластину методом вакуумного напыления наносят слой Al толщиной 100-200 нм для снятия заряда с поверхности стекла при облучении электронами. Облучение электронами производят с помощью сканирующего электронного микроскопа путем перемещения сфокусированного электронного луча вдоль формируемого волновода. Облучение электронами производят при следующих режимах: энергия электронов - 10 кэВ, доза электронного облучения - 5 мК/см2, плотность тока электронов на поверхности стекла - 2.5 мкА/см2, продолжительность облучения - 1000 с. Облучение электронами проводят при комнатной температуре. После электронного облучения пленку Al удаляют путем химического травления в 10% водном растворе KOH. Таким образом, в приповерхностном слое стекла уже сформирован оптический волновод. После этого, чтобы еще увеличить эффективный показатель преломления волновода за счет уменьшения локальных механических напряжений в стекле, а также увеличить толщину волновода за счет термической диффузии ионов щелочного металла из волноводной области, проводят термообработку стекла при температуре 350°C в течение 1 ч.As a substrate for the waveguide, a plate made of sodium-boron-silicate glass is used, whose chemical composition is close to that of K8 optical glass.
Длина сформированного волновода - 15 мм. Измерение эффективного показателя преломления производилось по методике, описанной в [B.C.Голубков, Н.Н.Евтихиев, В.Ф.Папуловский. Интегральная оптика в информационной технике.- М.: Энергоатомиздат. 1985. 152 с.]. Ввод и вывод в волновод линейно-поляризованного излучения (ТЕ-поляризация) с длиной волны 0.63 мкм производился призменным методом. Измерения показали, что облучение электронами позволяет сформировать вблизи поверхности стекла волноводный слой толщиной 0.5-1 мкм с эффективным показателем преломления nэфф=1,537-1,575 для волноводной моды ТЕ0. Таким образом облучение электронами позволяет локально увеличить эффективный показатель преломления по сравнению с показателем преломления исходного стекла на величину Δn=0.064. Измерения показали, что последующая термообработка стекла приводит к увеличению эффективного показателя преломления волновода для ТЕ0-моды до nэфф=1,583…1,595. Таким образом последующая термообработка позволяет локально увеличить эффективный показатель преломления по сравнению с показателем преломления исходного стекла на величину Δn=0.084. Измерение спектров поглощения волноводной области с помощью спектрофотометра Cary 500 показало, что в спектральном интервале 0.4-1 мкм коэффициент поглощения в волноводном слое не превышает коэффициента поглощения исходного стекла.The length of the generated waveguide is 15 mm. The effective refractive index was measured according to the method described in [BCGolubkov, N.N. Evtikhiev, V.F. Papulovsky. Integral optics in information technology. - M.: Energoatomizdat. 1985. 152 p.]. The input and output of linearly polarized radiation (TE polarization) with a wavelength of 0.63 μm into the waveguide was carried out by the prism method. The measurements showed that electron irradiation makes it possible to form a waveguide layer 0.5-1 μm thick near the glass surface with an effective refractive index n eff = 1.537-1.575 for the TE 0 waveguide mode. Thus, electron irradiation allows locally increasing the effective refractive index compared to the refractive index of the original glass by Δn = 0.064. Measurements showed that subsequent heat treatment of the glass leads to an increase in the effective refractive index of the waveguide for the TE 0 mode to n eff = 1.583 ... 1.595. Thus, the subsequent heat treatment allows one to locally increase the effective refractive index in comparison with the refractive index of the initial glass by Δn = 0.084. Measurement of the absorption spectra of the waveguide region using a Cary 500 spectrophotometer showed that in the spectral range of 0.4-1 μm, the absorption coefficient in the waveguide layer does not exceed the absorption coefficient of the original glass.
Для изготовления оптических волноводов по предлагаемому способу может быть использовано стандартное технологическое оборудование:For the manufacture of optical waveguides by the proposed method can be used standard technological equipment:
Для проведения облучения электронами - сканирующие электронные микроскопы или установки для электронной литографии.For electron irradiation - scanning electron microscopes or installations for electronic lithography.
Для термообработки - муфельные печи с программным управлением.For heat treatment - programmable muffle furnaces.
Предлагаемое техническое решение позволяет изготавливать погруженные оптические волноводы в тонких приповерхностных слоях стекол, повысить точность и технологичность изготовления волноводных слоев заданной геометрии, с высоким эффективным показателем преломления и малыми оптическими потерями, а также варьировать глубину залегания волновода в подложке и его толщину, улучшает эффективность каналирования направляемых волноводных мод. Достоинством способа является его совместимость с электронной литографией, а также возможность записи оптических волноводов в стандартных оптических силикатных стеклах, выпускаемых промышленностью.The proposed technical solution allows to produce immersed optical waveguides in thin surface layers of glasses, to increase the accuracy and manufacturability of the manufacture of waveguide layers of a given geometry, with a high effective refractive index and low optical losses, as well as vary the depth of the waveguide in the substrate and its thickness, improves the channeling efficiency of the guided waveguide modes. The advantage of the method is its compatibility with electronic lithography, as well as the ability to record optical waveguides in standard optical silicate glasses produced by the industry.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010145640/03A RU2453511C1 (en) | 2010-11-09 | 2010-11-09 | Method of forming optical waveguide immersed in glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010145640/03A RU2453511C1 (en) | 2010-11-09 | 2010-11-09 | Method of forming optical waveguide immersed in glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2010145640A RU2010145640A (en) | 2012-05-20 |
| RU2453511C1 true RU2453511C1 (en) | 2012-06-20 |
Family
ID=46230204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2010145640/03A RU2453511C1 (en) | 2010-11-09 | 2010-11-09 | Method of forming optical waveguide immersed in glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2453511C1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1625834A1 (en) * | 1989-03-10 | 1991-02-07 | Научно-исследовательский институт энергетики и автоматики АН УзССР | Method for manufacturing heat sensitive element |
| WO2002083583A1 (en) * | 2001-04-12 | 2002-10-24 | Omniguide Communications | High index-contrast fiber waveguides and applications |
| RU2279400C2 (en) * | 2004-10-26 | 2006-07-10 | Сергей Николаевич Максимовский | Method of formation of nano-sized clusters and of creation of ordered structures |
| RU2394001C1 (en) * | 2008-11-05 | 2010-07-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет информационных технологий, механики и оптики" | Method of forming metal nanoclusters in glass |
-
2010
- 2010-11-09 RU RU2010145640/03A patent/RU2453511C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1625834A1 (en) * | 1989-03-10 | 1991-02-07 | Научно-исследовательский институт энергетики и автоматики АН УзССР | Method for manufacturing heat sensitive element |
| WO2002083583A1 (en) * | 2001-04-12 | 2002-10-24 | Omniguide Communications | High index-contrast fiber waveguides and applications |
| RU2279400C2 (en) * | 2004-10-26 | 2006-07-10 | Сергей Николаевич Максимовский | Method of formation of nano-sized clusters and of creation of ordered structures |
| RU2394001C1 (en) * | 2008-11-05 | 2010-07-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный университет информационных технологий, механики и оптики" | Method of forming metal nanoclusters in glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2010145640A (en) | 2012-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Haglund Jr et al. | Nonlinear optical properties of metal-quantum-dot composites synthesized by ion implantation | |
| Gonella et al. | Metal nanocluster composite glasses | |
| Hirao et al. | Active glass for photonic devices: photoinduced structures and their application | |
| Nazabal et al. | Sputtering and pulsed laser deposition for near‐and mid‐infrared applications: a comparative study of Ge25Sb10S65 and Ge25Sb10Se65 amorphous thin films | |
| Ignat’ev et al. | Formation of silver nanoparticles in photothermorefractive glasses during electron irradiation | |
| Brunov et al. | Formation of silver thin films and nanoparticles inside and on the surface of silver-containing glasses by electron irradiation | |
| Sigaev et al. | Spatially selective Au nanoparticle growth in laser-quality glass controlled by UV-induced phosphate-chain cross-linkage | |
| Podsvirov et al. | Specific features of the formation of optical waveguides in silicate glass at high energy and doze of electron irradiation | |
| Torun et al. | Ultrafast laser direct-writing of self-organized microstructures in Ge-Sb-S chalcogenide glass | |
| Podsvirov et al. | Formation of copper nanocrystals in photochromic glasses under electron irradiation and heat treatment | |
| RU2453511C1 (en) | Method of forming optical waveguide immersed in glass | |
| Babich et al. | Thermal poling of glasses to fabricate masks for ion exchange | |
| RU2394001C1 (en) | Method of forming metal nanoclusters in glass | |
| Albert et al. | Formation and bleaching of strong ultraviolet absorption bands in germanium implanted synthetic fused silica | |
| RU140494U1 (en) | DIFFRACTION GRATING | |
| Ivan et al. | Structural and optical changes in As2S3 thin films induced by light ion irradiation | |
| Zhiganov et al. | Forming optical waveguides in silicate glasses under electron irradiation | |
| Sidorov et al. | The effect of electron beam irradiation on silver–sodium ion exchange in silicate glasses | |
| Rahman et al. | Thermal annealing and laser-induced mechanisms in controlling the size and size-distribution of silver nanoparticles in Ag+-Na+ ion-exchanged silicate glasses | |
| Vostokov et al. | Comparison of the formation kinetics of silver nanoparticles of photo-thermo-refractive glass after ultraviolet and electron irradiation | |
| Zur et al. | Glass and glass-ceramic photonic systems | |
| Lucas et al. | Comparison of photostructural changes induced by continuous and pulsed laser in chalcogenide glass | |
| Hughes et al. | High temperature proton implantation induced photosensitivity of Ge-doped SiO 2 planar waveguides | |
| RU2544873C1 (en) | Method of making diffraction grating | |
| Chiasera et al. | GeO2 glass ceramic planar waveguides fabricated by RF-sputtering |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20201110 |