[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

RU2293955C1 - Тензопреобразователь давления - Google Patents

Тензопреобразователь давления Download PDF

Info

Publication number
RU2293955C1
RU2293955C1 RU2005128376/28A RU2005128376A RU2293955C1 RU 2293955 C1 RU2293955 C1 RU 2293955C1 RU 2005128376/28 A RU2005128376/28 A RU 2005128376/28A RU 2005128376 A RU2005128376 A RU 2005128376A RU 2293955 C1 RU2293955 C1 RU 2293955C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
strain
pressure
silicon
crystal
dielectric substrate
Prior art date
Application number
RU2005128376/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Олег Вадимович Клитеник (RU)
Олег Вадимович Клитеник
Тать на Федоровна Первушина (RU)
Татьяна Федоровна Первушина
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Управляющая компания "ВИП"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Управляющая компания "ВИП" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Управляющая компания "ВИП"
Priority to RU2005128376/28A priority Critical patent/RU2293955C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2293955C1 publication Critical patent/RU2293955C1/ru

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

Сущность: тензопреобразователь давления содержит двухслойный упругий элемент в виде металлической мембраны, жестко соединенной с диэлектрической подложкой, на которой расположены тензорезисторы, соединенные в мостовую схему. Тензорезисторы выполнены из поликристаллического кремния, а диэлектрическая подложка выполнена из окиси алюминия, как монокристаллической, так и немонокристаллической структуры. Технический результат заключается в повышении температурной и временной стабильности тензопреобразователя, снижении его стоимости. 2 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Изобретение относится к измерительной технике, в частности к преобразователям механических величин в электрический сигнал, основанный на тензорезистивном эффекте, и может быть использовано для измерения давления жидких и газообразных сред.
Для преобразования давления в электрический сигнал используется тензорезистивный эффект.
Известны тензорезисторные преобразователи на основе гетероэпитаксиальных структур «Кремний на сапфире (Белоглазов А.В., Стучебников В.М., Хасиков Е.Е., Евдокимов В.И., Шадтина А.Г. Полупроводниковые тензопреобразователи силы и давления на основе гетероэпитаксиальных структур "кремний на сапфире". Приборы и системы управления, 1982, N5, с.21, а.с. РФ №1404850, оп. 23.06.88, пол. мод. РФ №45526, оп. 10.05.2005), выполненные в виде одномебранных или двухмембранных устройств, в которых на круглую металлическую мембрану напаян твердым припоем чувствительный элемент в виде сапфировой пластины с нанесенной на нее гетероэпитаксиальной тензочувствительной мостовой схемой.
В качестве материала металлической упругой мембраны тензопреобразователя используют дисперсионно-твердеющие титановые сплавы (ВТ-9).
Измеряемое давление подается либо непосредственно на измерительную мембрану с чувствительным элементом, либо на воспринимающую мембрану, соединенную с измерительной мембраной жестким штоком.
Один из основных элементов данной конструкции гетероэпитаксиальная тензочувствительная мостовая схема.
На монокристаллической подложке сапфира методом эпитаксии выращивается монокристаллический слой кремния с уровнем легирования около 1020 1/см3 и толщиной 1,5-2,0 мкм.
Затем выполнением операций фотолитографии, травления формируются тензорезисторы, объединенные в замкнутую мостовую схему. Путем окисления мостовая схема закрывается слоем термического окисла.
Выводы к мостовой схеме формируются путем вскрытия окон в слое окисла кремния на контактных площадках.
Внешние выводы устанавливаются на контактные площадки ультразвуковой сваркой
Данная конструкция имеет следующие положительные стороны:
- полная диэлектрическая изоляция тензорезисторов,
- высокий уровень выходного сигнала,
- тензопреобразователь сохраняет герметичность даже при разрушении кристалла от перегрузки (защита от разгерметизации),
- стабильность механических свойств сапфировой подложки,
- не требуется специальных мер по защите кристалла от измеряемой среды, в средах, инертных по отношению к титановым сплавам, кристалл защищен непосредственно металлической мембраной.
Основной недостаток данной конструкции - недостаточная повторяемость характеристик во времени, наличие температурного гистерезиса. Эффекты временной нестабильности и гистерезиса ограничивают применение данных тензопреобразователей в высокоточных датчиках давления.
Один из источников нестабильности - влияние на электрофизические параметры монокристаллического слоя кремния ионных загрязнений, влияние поверхности раздела между монокристаллическим кремнием и защитной пленкой из окиси кремния, между монокристаллическим кремнием и сапфиром.
Существует также непредсказуемое влияние сопротивления контакта алюминий-кремний в контактных окнах.
Кроме того, значительная разница в коэффициентах теплового расширения сапфира и титана приводит к деформации чувствительного элемента при изменении температуры и, как следствие, к температурной зависимости начального выходного сигнала тензопреобразователя.
Известен тензопреобразователь давления, содержащий мембрану, выполненную из монокристаллического кремния с тензорезисторами из поликристаллического кремния (пол. мод. РФ №42894, оп. 20.12.2004, пат. РФ №1830138, оп. 23.07.1993).
Основной элемент тензопреобразователя профилированная мембрана из монокристаллического кремния, установленная на стеклянном столбике.
Тензорезисторы из поликристаллического кремния отделены от кремниевой мембраны тонким слоем изолирующей пленки окисла кремния.
Основным недостатком тензопреобразователей давления, содержащих кремниевую мембрану, является необходимость дополнительных мер по защите кристалла тензопреобразователя от измеряемой среды. К таким мерам относится отделение лицевой стороны кристалла от измеряемой среды разделительной стальной мембраной, образованная при этом внутренняя полость заполнена силиконовой жидкостью, посредством которой передается давление на кристалл.
Эти дополнительные меры ухудшают температурную стабильность, затрудняют измерение давления высокотемпературных сред и повышают стоимость датчиков.
Известны тензопреобразователи давления с тензорезисторами из поликристаллического кремния на стальной мембране, покрытой тонким слоем изолятора (пленка SiO2) (www.adz.de). Чувствительный элемент датчика - мембрана из нержавеющей стали 17-4РН, покрытая тонким слоем изолятора - пленка окиси кремния, на которую методом тонкопленочной технологии нанесена измерительная схема из поликристаллического кремния. Расположение тензорезисторов из поликристаллического кремния непосредственно на металлической мембране, изолированной от тензорезисторов тонким слоем окиси кремния, обуславливает невысокую диэлектрическую прочность изоляции тензопреобразователей.
Наиболее близким аналогом, принятым за прототип, является тензопреобразователь давления на основе структуры «кремний на сапфире», содержащий двухслойный упругий элемент в виде металлической мембраны, жестко соединенной с монокристаллической сапфировой подложкой, на которой расположены монокристаллические кремниевые тензорезисторы, соединенные в мостовую схему (а.с. РФ №1451566, оп. 15.01.1989). К недостаткам прототипа относится временная и температурная нестабильность характеристик тензопреобразователя давления и высокая стоимость структур «кремний на сапфире».
Задачей, на решение которой направлено данное техническое решение, является повышение температурной и временной стабильности тензопреобразователя, путем уменьшения температурного гистерезиса при сохранении основных положительных качеств тензопреобразователей давления на основе структуры «кремний на сапфире», снижение стоимости тензопреобразователей.
Задача решается следующим образом.
В тензопреобразователе давления, включающем двухслойный упругий элемент в виде металлической мембраны, жестко соединенной с диэлектрической подложкой, на которой расположены тензорезисторы, соединенные в мостовую схему, согласно изобретению тензорезисторы выполнены из поликристаллического кремния, а диэлектрическая подложка выполнена из окиси алюминия. При этом окись алюминия используют как монокристаллической, так и немонокристаллической (неориентированной) структуры.
На чертеже схематично изображен заявляемый тензопреобразователь давления, который содержит двухслойный упругий элемент (металл-диэлектрик), выполненный в виде металлической мембраны 1, например из титанового сплава ВТ9, жестко соединенной, например пайкой, с диэлектрической подложкой 2, выполненной из окиси алюминия, например монокристаллического сапфира толщиной 120-180 мкм. На диэлектрической подложке 2 расположены тензорезисторы 3 из поликристаллического кремния, объединенные в мостовую схему. Металлическая мембрана 1 соединена сваркой, например лазерной, со штуцером 4, который служит для подачи давления.
При изготовлении тензопреобразователей на диэлектрическую подложку путем осаждения из парогазовой смеси при температуре 500-700°С осаждается поликристаллический кремний толщиной около 1 мкм. Затем этот слой поликристаллического кремния легируется бором путем диффузии до значений поверхностного сопротивления 20-30 Ом/кв.
Путем фотолитографии и плазмохимического травления образуются тензорезисторы, объединенные в замкнутую мостовую схему. Тензорезисторы сверху закрываются слоем пассивирующего пиролитического окисла кремния (на чертеже не показан). Выводы к мостовой схеме формируются путем вскрытия окон в слое окисла кремния на контактных площадках, на которые напыляется алюминий. Внешние выводы при помощи ультразвуковой сварки устанавливаются на контактные площадки.
В дальнейшем кристалл с мостовой схемой паяется на металлическую мембрану.
Тензопреобразователь давления работает следующим образом. При подаче давления двухслойный упругий элемент, содержащий металлическую мембрану и диэлектрическую подложку, изгибается, деформируя тензорезисторы из поликристаллического кремния, которые под действием деформации изменяют свое сопротивление, в результате чего на выходе мостовой схемы появляется электрический сигнал, пропорциональный давлению.
Данная конструкция позволяет повысить временную и температурную стабильность характеристик тензопреобразователя, за счет использования материала тензорезисторов, обладающего меньшей чувствительностью к дефектам поверхности тензорезисторов и большей стабильностью контактов между внешними выводами и материалом тензорезисторов. Снижение температурного гистерезиса после многократного термоциклирования по сравнению с прототипом происходит в 5-10 раз при сохранении основных положительных качеств тензопреобразователей на основе структуры «кремний на сапфире», например высокая диэлектрическая прочность, отсутствие разделительной жидкости в датчике. Поликристаллический кремний обладает меньшим температурным коэффициентом сопротивления - (0,5-0,8)·10-3 1/°С по сравнению со значением (1,2-1,5)·10-3 1/°C в прототипе.
Использование поликристаллического кремния позволяет в качестве подложки применять не только монокристаллический сапфир, но и не монокристаллическую (неориентированную) подложку из окиси алюминия, например керамику, что обеспечивает снижение стоимости тензопреобразователя.
Использование диэлектрической подложки из окиси алюминия обеспечивает хорошую надежность, радиационную стойкость, устойчивость тензопреобразователя к механическим и температурным воздействиям, повышенную диэлектрическую изоляцию и стабильность характеристик тензопреобразователей давления.

Claims (3)

1. Тензопреобразователь давления, включающий двухслойный упругий элемент в виде металлической мембраны, жестко соединенной с диэлектрической подложкой, на которой расположены тензорезисторы, соединенные в мостовую схему, отличающийся тем, что тензорезисторы выполнены из поликристаллического кремния, а диэлектрическая подложка выполнена из окиси алюминия.
2. Тензопреобразователь давления по п.1, отличающийся тем, что диэлектрическая подложка выполнена из окиси алюминия монокристаллической структуры, например монокристаллического сапфира.
3. Тензопреобразователь давления по п.1, отличающийся тем, что диэлектрическая подложка выполнена из окиси алюминия не монокристаллической структуры.
RU2005128376/28A 2005-09-02 2005-09-02 Тензопреобразователь давления RU2293955C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2005128376/28A RU2293955C1 (ru) 2005-09-02 2005-09-02 Тензопреобразователь давления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2005128376/28A RU2293955C1 (ru) 2005-09-02 2005-09-02 Тензопреобразователь давления

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2293955C1 true RU2293955C1 (ru) 2007-02-20

Family

ID=37863512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2005128376/28A RU2293955C1 (ru) 2005-09-02 2005-09-02 Тензопреобразователь давления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2293955C1 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018111135A1 (ru) * 2016-12-16 2018-06-21 Общество С Ограниченной Ответственностью "Тонкопленочные Технологии" Датчик деформации
RU183909U1 (ru) * 2018-08-24 2018-10-08 Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа") Малогабаритный радиационно стойкий высокотемпературный тензочувствительный элемент преобразователя давления
RU220891U1 (ru) * 2023-04-19 2023-10-09 Общество С Ограниченной Ответственностью "Микротензор" (Ооо "Микротензор") Высокотемпературный тензорезистивный интеллектуальный преобразователь давления

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018111135A1 (ru) * 2016-12-16 2018-06-21 Общество С Ограниченной Ответственностью "Тонкопленочные Технологии" Датчик деформации
RU183909U1 (ru) * 2018-08-24 2018-10-08 Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Всероссийский Научно-Исследовательский Институт Автоматики Им.Н.Л.Духова" (Фгуп "Внииа") Малогабаритный радиационно стойкий высокотемпературный тензочувствительный элемент преобразователя давления
RU220891U1 (ru) * 2023-04-19 2023-10-09 Общество С Ограниченной Ответственностью "Микротензор" (Ооо "Микротензор") Высокотемпературный тензорезистивный интеллектуальный преобразователь давления

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5186055A (en) Hermetic mounting system for a pressure transducer
US3697917A (en) Semiconductor strain gage pressure transducer
JP3076877B2 (ja) 圧抵抗型圧力変換器
TW593994B (en) Sensor usable in ultra pure and highly corrosive environments
JPH11211592A (ja) 高圧センサー及びその製造方法
EP0336437A2 (en) Pressure sensing transducer employing piezoresistive elements on sapphire
JPH11501123A (ja) 圧力センサおよび圧力トランスミッタ
IE64708B1 (en) Pressure sensor usable in oil wells
CN105043643B (zh) 高温压力传感器及其制作方法
US4527428A (en) Semiconductor pressure transducer
US20070017285A1 (en) Micromachined thermal mass flow sensors and insertion type flow meters and manufacture methods
KR20090087847A (ko) 반도체 감왜 센서
US7918137B2 (en) Method for temperature compensation of a piezoresistive gaged metal diaphragm
RU2362133C1 (ru) Микроэлектронный датчик абсолютного давления и чувствительный элемент абсолютного давления
US6022756A (en) Metal diaphragm sensor with polysilicon sensing elements and methods therefor
JP4185478B2 (ja) 歪検出器およびその製造方法
KR100432465B1 (ko) 박막 피에조 저항 센서 및 그 제조 방법
RU2293955C1 (ru) Тензопреобразователь давления
US6453748B1 (en) Boron nitride piezoresistive device
RU51212U1 (ru) Тензопреобразователь давления
EP0080186B1 (en) Semiconductor pressure transducer
GB2034970A (en) Semiconductor pressure transducer
JP3105680B2 (ja) 半導体差圧センサ及びそれを用いた差圧伝送器
RU2329480C2 (ru) Тензопреобразователь давления
RU2284613C1 (ru) Полупроводниковый преобразователь давления и способ его изготовления

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20110903

NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20121210

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150903

NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20170315

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20170327