[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

RU2010147448A - Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой - Google Patents

Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой Download PDF

Info

Publication number
RU2010147448A
RU2010147448A RU2010147448/02A RU2010147448A RU2010147448A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A RU 2010147448/02 A RU2010147448/02 A RU 2010147448/02A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
metal
components
semimetal
target
alloy
Prior art date
Application number
RU2010147448/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2528602C2 (ru
Inventor
Юрген РАММ (CH)
Юрген РАММ
Original Assignee
Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch)
Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch), Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах (Ch)
Publication of RU2010147448A publication Critical patent/RU2010147448A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2528602C2 publication Critical patent/RU2528602C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/0408Light metal alloys
    • C22C1/0416Aluminium-based alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/081Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/083Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

1. Способ изготовления слоев, прежде всего стабильных при высоких температурах слоев, посредством испарения электрической дугой, содержащих тройной и/или более высокий оксид металлических и полуметаллических компонентов, ! отличающийся тем, что ! температура образования этих оксидов может быть, по существу, определена посредством выбора состава двоичной (или более высокого порядка) мишени из сплава таким образом, что фазовая диаграмма компонентов с выбранным составом обнаруживает переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу при температуре, которая соответствует желаемой температуре образования. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что точку плавления легкоплавких компонентов материала мишени так целенаправленно увеличивают посредством добавления более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов в мишень из сплава, что регулируется температура образования оксида. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С. ! 4. Способ по п.2, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полнос

Claims (16)

1. Способ изготовления слоев, прежде всего стабильных при высоких температурах слоев, посредством испарения электрической дугой, содержащих тройной и/или более высокий оксид металлических и полуметаллических компонентов,
отличающийся тем, что
температура образования этих оксидов может быть, по существу, определена посредством выбора состава двоичной (или более высокого порядка) мишени из сплава таким образом, что фазовая диаграмма компонентов с выбранным составом обнаруживает переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу при температуре, которая соответствует желаемой температуре образования.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что точку плавления легкоплавких компонентов материала мишени так целенаправленно увеличивают посредством добавления более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов в мишень из сплава, что регулируется температура образования оксида.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу выше 1000°С.
6. Способ по п.2, отличающийся тем, что этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу выше 1000°С.
7. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что слой имеет долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, однако предпочтительно точно одного металлического или полуметаллического компонента, при этом мишень имеет один из следующих составов, ат.%:
один или более из группы
Аu 20-30 В менее 3 Be 20-30 С менее 3 Сr более 10 до 25 Fe 5-15 Hf 5-10 Ir 10-15 La 10-15 Mo 2-5 Nb 1-3 Та 1-3 Ti 2-6 V 3-8 W 5-8 Y 12-16 Zr 2-4,
остаток является, по существу, алюминием, однако не менее чем 70.
8. Способ по одному из пп.1-6, отличающийся тем, что слой имеет долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной алюминиевой мишени (полученной способом порошковой металлургии или пирометаллургическим легированием) и добавлении небольших количеств (менее чем 20 ат.%) одного или нескольких металлических или полуметаллических компонентов, отличающийся тем, что примеси имеют более высокую температуру плавления и, тем самым, достигается температура плавления смеси по меньшей мере 1000°С согласно диаграмме.
9. Мишень из сплава, состоящая из алюминия и другого металлического или полуметаллического компонента для осуществления способа по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что сплав, образующий мишень согласно фазовой диаграмме, имеет переход из жидкой фазы выше 1000°С, предпочтительно ниже 1200°С.
10. Мишень из сплава по п.9, состоящая из алюминия и другого металлического или полуметаллического компонента из нижеприведенного списка в указанной концентрации, при этом остаток по меньшей мере 70 ат.% является алюминием, отличающаяся одним из следующих составов, ат.%:
Аu 20-30 В менее 3 Be 20-30 С менее 3 Сr более 10 до 25 Fe 2-15 Hf 5-10 Ir 10-15 La 10-15 Mo 2-5 Nb 1-3 Та 1-3 Ti 2-6 V 3-8 W 5-8 Y 12-16 Zr 2-4
11. Мишень из сплава по п.9, отличающаяся тем, что по меньшей мере два металлических или полуметаллических компонента различаются по их точке плавления по меньшей мере на 100°С до 500°С.
12. Мишень из сплава по п.10, отличающаяся тем, что по меньшей мере два металлических или полуметаллических компонента различаются по их точке плавления по меньшей мере на 100°С до 500°С.
13. Слой в корундовой структуре, имеющей, по существу, оксид алюминия, изготовленный согласно способу по одному из пп.1-6, с мишенью по одному из пп.10-12, отличающийся тем, что слои имеют примеси более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов с долей в менее чем 25 ат.%, и слой, по существу, не представлен в виде смешанного кристалла.
14. Слой по п.13, отличающийся тем, что эта одна или несколько примесей содержит следующие компоненты, ат.%:
Au 20-30 В менее 3 Be 20-30 С менее 3 Сr более 10 до 25 Fe 2-15 Hf 5-10 Ir 10-15 La 10-15 Mo 2-5 Nb 1-3 Та 1-3 Ti 2-6 V 3-8 W 5-8 Y 12-16 Zr 2-4
15. Слой тройных или более высокого порядка оксидов, диапазон образования и стабильности которого может быть выбран целенаправленно, изготавливаемый согласно способу по одному из пп.1-6 с мишенью по одному из пп.10-12, отличающийся тем, что согласно фазовой диаграмме двоичных (или третичных, четвертичных и т.д.) металлических или полуметаллических компонентов оксида состав мишени выбран таким образом, что, по существу, переход из жидкой фазы совпадает с температурой образования оксида.
16. Слой по п.15 из смесей оксидных фаз посредством способа нанесения покрытия осаждением паров в целенаправленном фазовом составе, отличающийся тем, что согласно фазовой диаграмме двоичных (или третичных, четвертичных и т.д.) металлических или полуметаллических компонентов оксида состав мишени выбран таким образом, что, по существу, переход из жидкой фазы при этом составе определяет фазы.
RU2010147448/02A 2008-04-24 2009-02-06 Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой RU2528602C2 (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US4759108P 2008-04-24 2008-04-24
US61/047,591 2008-04-24
EP08016572.3 2008-09-19
EP08016572A EP2166128B1 (de) 2008-09-19 2008-09-19 Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung
PCT/EP2009/000852 WO2009129880A1 (de) 2008-04-24 2009-02-06 Verfahren zum herstellen von metalloxidschichten vorbestimmter struktur durch funkenverdampfung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2010147448A true RU2010147448A (ru) 2012-05-27
RU2528602C2 RU2528602C2 (ru) 2014-09-20

Family

ID=40297780

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010147448/02A RU2528602C2 (ru) 2008-04-24 2009-02-06 Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой
RU2010147450/02A RU2525949C2 (ru) 2008-04-24 2009-02-06 Способ изготовления слоев оксида металла посредством испарения электрической дугой

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010147450/02A RU2525949C2 (ru) 2008-04-24 2009-02-06 Способ изготовления слоев оксида металла посредством испарения электрической дугой

Country Status (16)

Country Link
US (2) US10323320B2 (ru)
EP (2) EP2166128B1 (ru)
JP (3) JP2011518949A (ru)
KR (2) KR101629905B1 (ru)
CN (2) CN102016104B (ru)
AT (1) ATE532886T1 (ru)
AU (2) AU2009240321B2 (ru)
BR (2) BRPI0907264A2 (ru)
CA (2) CA2722380A1 (ru)
ES (2) ES2377225T3 (ru)
MX (2) MX2010011496A (ru)
PL (2) PL2166128T3 (ru)
PT (2) PT2166128E (ru)
RU (2) RU2528602C2 (ru)
TW (2) TWI390061B (ru)
WO (2) WO2009129879A1 (ru)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8652589B2 (en) * 2008-01-25 2014-02-18 Oerlikon Trading Ag, Truebbach Permeation barrier layer
EP2166128B1 (de) * 2008-09-19 2011-11-09 Oerlikon Trading AG, Trübbach Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung
ES2379518T3 (es) * 2008-07-08 2012-04-26 Bekaert Advanced Coatings Un procedimiento para fabricar una diana de óxido mediante depósito por pulverización catódica que comprende una primera fase y una segunda fase
JP2011084804A (ja) * 2009-09-18 2011-04-28 Kobelco Kaken:Kk 金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲット
EP2363509A1 (en) * 2010-02-28 2011-09-07 Oerlikon Trading AG, Trübbach Synthesis of metal oxides by reactive cathodic arc evaporation
DE102010053751A1 (de) 2010-10-28 2012-05-03 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Molybdänmonoxidschichten und deren Herstellung mittels PVD
RU2015111178A (ru) * 2012-08-29 2016-10-20 Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах Покрытие, нанесенное катодно-дуговым физическим осаждением из паровой фазы, с улучшенными антифрикционными и противоизносными свойствами
DE102012023260A1 (de) * 2012-11-29 2014-06-05 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zur Strukturierung von Schichtoberflächen und Vorrichtung dazu
WO2014111264A1 (en) * 2013-01-18 2014-07-24 Oerlikon Trading Ag, Trübbach COATING METHOD FOR PRODUCING (Al,Cr)2O3-BASED COATINGS WITH ENHANCED PROPERTIES
DE102013006633A1 (de) * 2013-04-18 2014-10-23 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen
CA2932841C (en) * 2013-07-09 2021-11-23 Oerlikon Surface Solutions Ag, Trubbach Target for the reactive sputter deposition of electrically insulating layers
DE102014104672A1 (de) * 2014-04-02 2015-10-08 Kennametal Inc. Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung
EP2980267B1 (en) 2014-07-28 2019-05-01 Oerlikon Surface Solutions AG, Trübbach Corundum-type fe-doped cathodic arc evaporated al-cr-o coatings
EP3184663B1 (en) * 2015-12-23 2020-04-15 Materion Advanced Materials Germany GmbH Zirconium oxide based sputtering target
DE102016125042A1 (de) * 2015-12-28 2017-06-29 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Infrarotspiegel mit einer thermisch stabilen Schicht
DE102016212874A1 (de) * 2016-07-14 2018-01-18 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Schutzbeschichtung für eine thermisch beanspruchte Struktur
CN110945156A (zh) * 2017-07-31 2020-03-31 瓦尔特公开股份有限公司 涂层切削工具及其制造方法
US11249234B2 (en) * 2019-07-29 2022-02-15 Moxtek, Inc. Polarizer with composite materials

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5246787A (en) * 1989-11-22 1993-09-21 Balzers Aktiengesellschaft Tool or instrument with a wear-resistant hard coating for working or processing organic materials
US6099457A (en) * 1990-08-13 2000-08-08 Endotech, Inc. Endocurietherapy
US5342283A (en) * 1990-08-13 1994-08-30 Good Roger R Endocurietherapy
US5500301A (en) * 1991-03-07 1996-03-19 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho A1 alloy films and melting A1 alloy sputtering targets for depositing A1 alloy films
US5415829A (en) * 1992-12-28 1995-05-16 Nikko Kyodo Co., Ltd. Sputtering target
CH688863A5 (de) * 1994-06-24 1998-04-30 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Beschichten mindestens eines Werkstueckes und Anlage hierfuer.
US5518597A (en) 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
JP3484861B2 (ja) 1995-03-31 2004-01-06 セイコーエプソン株式会社 画像形成装置用のローラ及びその成形用金型
RU2163942C2 (ru) * 1996-07-25 2001-03-10 Сименс Акциенгезелльшафт Металлическая подложка с оксидным слоем и улучшенным крепежным слоем
US6268284B1 (en) * 1998-10-07 2001-07-31 Tokyo Electron Limited In situ titanium aluminide deposit in high aspect ratio features
JP4155641B2 (ja) * 1998-10-27 2008-09-24 住友電工ハードメタル株式会社 耐摩耗性被膜およびその製造方法ならびに耐摩耗部材
EP1132498B1 (en) * 2000-03-09 2008-05-07 Sulzer Metaplas GmbH Hard layer coated parts
JP4502475B2 (ja) * 2000-08-04 2010-07-14 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜および耐摩耗部材並びにその製造方法
US6835414B2 (en) * 2001-07-27 2004-12-28 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Method for producing coated substrates
US6709557B1 (en) * 2002-02-28 2004-03-23 Novellus Systems, Inc. Sputter apparatus for producing multi-component metal alloy films and method for making the same
JP4216518B2 (ja) * 2002-03-29 2009-01-28 株式会社神戸製鋼所 カソード放電型アークイオンプレーティング用ターゲットおよびその製造方法
FR2838752B1 (fr) * 2002-04-22 2005-02-25 Snecma Moteurs Procede de formation d'un revetement ceramique sur un substrat par depot physique en phase vapeur sous faisceau d'electrons
US20040022662A1 (en) 2002-07-31 2004-02-05 General Electric Company Method for protecting articles, and related compositions
US20040185182A1 (en) 2002-07-31 2004-09-23 General Electric Company Method for protecting articles, and related compositions
US6767627B2 (en) * 2002-12-18 2004-07-27 Kobe Steel, Ltd. Hard film, wear-resistant object and method of manufacturing wear-resistant object
FR2860790B1 (fr) * 2003-10-09 2006-07-28 Snecma Moteurs Cible destinee a etre evaporee sous faisceau d'electrons, son procede de fabrication, barriere thermique et revetement obtenus a partir d'une cible, et piece mecanique comportant un tel revetement
EP1536041B1 (en) * 2003-11-25 2008-05-21 Mitsubishi Materials Corporation Coated cermet cutting tool with a chipping resistant, hard coating layer
US7381282B2 (en) * 2004-04-07 2008-06-03 Hitachi Metals, Ltd. Co alloy target and its production method, soft magnetic film for perpendicular magnetic recording and perpendicular magnetic recording medium
US7247529B2 (en) * 2004-08-30 2007-07-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing display device
TWI282385B (en) * 2004-12-02 2007-06-11 Taiwan Textile Res Inst Method for producing durably anti-microbial fibers
JP4579709B2 (ja) * 2005-02-15 2010-11-10 株式会社神戸製鋼所 Al−Ni−希土類元素合金スパッタリングターゲット
CA2601722C (en) 2005-03-24 2014-02-25 Oerlikon Trading Ag, Trubbach Hard material layer
US9997338B2 (en) 2005-03-24 2018-06-12 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for operating a pulsed arc source
US7450295B2 (en) * 2006-03-02 2008-11-11 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers
US7857948B2 (en) * 2006-07-19 2010-12-28 Oerlikon Trading Ag, Trubbach Method for manufacturing poorly conductive layers
TWI411696B (zh) 2006-07-19 2013-10-11 Oerlikon Trading Ag 沉積電絕緣層之方法
US7939181B2 (en) * 2006-10-11 2011-05-10 Oerlikon Trading Ag, Trubbach Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide
US8436051B2 (en) 2007-06-08 2013-05-07 Aptalis Pharma Canada Inc. Mesalamine suppository
EP2166128B1 (de) * 2008-09-19 2011-11-09 Oerlikon Trading AG, Trübbach Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung

Also Published As

Publication number Publication date
RU2010147450A (ru) 2012-05-27
JP2011522960A (ja) 2011-08-04
US10323320B2 (en) 2019-06-18
CA2722380A1 (en) 2009-10-29
MX2010011502A (es) 2010-11-30
CA2722520A1 (en) 2009-10-29
US20090269615A1 (en) 2009-10-29
EP2265744A1 (de) 2010-12-29
AU2009240321A1 (en) 2009-10-29
TW201000657A (en) 2010-01-01
CN102016104A (zh) 2011-04-13
CN102016108B (zh) 2017-03-15
EP2166128B1 (de) 2011-11-09
JP2015038248A (ja) 2015-02-26
TWI410506B (zh) 2013-10-01
TWI390061B (zh) 2013-03-21
BRPI0907265A2 (pt) 2015-11-17
PT2265744E (pt) 2014-07-04
CN102016108A (zh) 2011-04-13
BRPI0907264A2 (pt) 2015-11-17
KR20100135946A (ko) 2010-12-27
JP5876123B2 (ja) 2016-03-02
CN102016104B (zh) 2016-08-03
EP2265744B1 (de) 2014-05-07
US9611538B2 (en) 2017-04-04
RU2525949C2 (ru) 2014-08-20
US20090269600A1 (en) 2009-10-29
TW200946698A (en) 2009-11-16
WO2009129879A1 (de) 2009-10-29
KR20110010737A (ko) 2011-02-07
KR101629905B1 (ko) 2016-06-13
PL2166128T3 (pl) 2012-05-31
WO2009129880A1 (de) 2009-10-29
EP2166128A1 (de) 2010-03-24
PL2265744T3 (pl) 2014-10-31
AU2009240321B2 (en) 2013-10-24
PT2166128E (pt) 2012-01-17
JP2011518949A (ja) 2011-06-30
MX2010011496A (es) 2011-03-02
ATE532886T1 (de) 2011-11-15
KR101629909B1 (ko) 2016-06-13
ES2377225T3 (es) 2012-03-23
AU2009240320A1 (en) 2009-10-29
ES2485909T3 (es) 2014-08-14
RU2528602C2 (ru) 2014-09-20
AU2009240320B2 (en) 2014-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2010147448A (ru) Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой
Waseem et al. A combinatorial approach for the synthesis and analysis of AlxCryMozNbTiZr high-entropy alloys: Oxidation behavior
JP6464096B2 (ja) 合金
KR102220219B1 (ko) Bcc 2상 복합구조를 가지는 내열 고엔트로피 초합금 및 그 제조 방법
WO2011070860A1 (ja) 磁性材スパッタリングターゲット
JP2022500557A (ja) ニッケル基超合金
CN111344807B (zh) 具有提高的高温抗氧化性的锆合金包壳管及其制备方法
KR102696324B1 (ko) 열적 안정성이 향상된 Al-Cr 계열 세라믹 코팅
EP2954091B1 (en) Coating method for producing (al,cr)2o3-based coatings with enhanced properties
CN102630254A (zh) 用于硫属化物光伏应用的低熔点溅射靶及其制造方法
TW201309828A (zh) 濺鍍用鈦靶
JP4731347B2 (ja) 複合銅微粉の製造方法
KR20220010026A (ko) 다중 음이온 고엔트로피 합금 옥시질화물을 포함하는 pvd 코팅
JP2018184657A (ja) オキシフッ化イットリウム溶射膜及びその製造方法、並びに溶射部材
CN113512657A (zh) 一种高均匀含硼钛合金铸锭的制备方法
TWI542705B (zh) Production method of high purity calcium
CN113458553B (zh) 一种耐磨高熵合金堆焊层及制备方法
KR20170102187A (ko) 주석 함유 비정질 합금 복합물
JP5295474B2 (ja) ニオブ基合金耐熱部材
CN107099714B (zh) 一种稀土镁合金及其制备方法
Miedzinski et al. The actual state and prospects of a high power electron beam technology for metallic and non-metallic compositions used in electric contacts and electrodes
KR101779715B1 (ko) 스피노달 분해 기공 구조를 가진 bcc hea-lea 복합 구조 다공체 및 이의 제조 방법
JP5274603B2 (ja) 複合銅微粉
JP6513530B2 (ja) Ti−Si系合金の脱酸方法
JP2006257451A (ja) 耐熱合金の耐酸化被覆構造および被覆方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180207