RU2010147448A - Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой - Google Patents
Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010147448A RU2010147448A RU2010147448/02A RU2010147448A RU2010147448A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A RU 2010147448/02 A RU2010147448/02 A RU 2010147448/02A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A RU 2010147448 A RU2010147448 A RU 2010147448A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- metal
- components
- semimetal
- target
- alloy
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/0408—Light metal alloys
- C22C1/0416—Aluminium-based alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
- Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Drilling Tools (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления слоев, прежде всего стабильных при высоких температурах слоев, посредством испарения электрической дугой, содержащих тройной и/или более высокий оксид металлических и полуметаллических компонентов, ! отличающийся тем, что ! температура образования этих оксидов может быть, по существу, определена посредством выбора состава двоичной (или более высокого порядка) мишени из сплава таким образом, что фазовая диаграмма компонентов с выбранным составом обнаруживает переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу при температуре, которая соответствует желаемой температуре образования. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что точку плавления легкоплавких компонентов материала мишени так целенаправленно увеличивают посредством добавления более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов в мишень из сплава, что регулируется температура образования оксида. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С. ! 4. Способ по п.2, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полнос
Claims (16)
1. Способ изготовления слоев, прежде всего стабильных при высоких температурах слоев, посредством испарения электрической дугой, содержащих тройной и/или более высокий оксид металлических и полуметаллических компонентов,
отличающийся тем, что
температура образования этих оксидов может быть, по существу, определена посредством выбора состава двоичной (или более высокого порядка) мишени из сплава таким образом, что фазовая диаграмма компонентов с выбранным составом обнаруживает переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу при температуре, которая соответствует желаемой температуре образования.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что точку плавления легкоплавких компонентов материала мишени так целенаправленно увеличивают посредством добавления более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов в мишень из сплава, что регулируется температура образования оксида.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что слои имеют долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, при этом этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу между 1000°С и 1200°С.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу выше 1000°С.
6. Способ по п.2, отличающийся тем, что этот сплав имеет переход из полностью жидкой фазы в содержащую твердые компоненты фазу выше 1000°С.
7. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что слой имеет долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной состоящей из алюминия мишени из сплава и по меньшей мере одного другого металлического или полуметаллического компонента, однако предпочтительно точно одного металлического или полуметаллического компонента, при этом мишень имеет один из следующих составов, ат.%:
один или более из группы
остаток является, по существу, алюминием, однако не менее чем 70.
8. Способ по одному из пп.1-6, отличающийся тем, что слой имеет долю в более чем 70 ат.% оксида алюминия в корундовой структуре при использовании по меньшей мере одной алюминиевой мишени (полученной способом порошковой металлургии или пирометаллургическим легированием) и добавлении небольших количеств (менее чем 20 ат.%) одного или нескольких металлических или полуметаллических компонентов, отличающийся тем, что примеси имеют более высокую температуру плавления и, тем самым, достигается температура плавления смеси по меньшей мере 1000°С согласно диаграмме.
9. Мишень из сплава, состоящая из алюминия и другого металлического или полуметаллического компонента для осуществления способа по одному из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что сплав, образующий мишень согласно фазовой диаграмме, имеет переход из жидкой фазы выше 1000°С, предпочтительно ниже 1200°С.
10. Мишень из сплава по п.9, состоящая из алюминия и другого металлического или полуметаллического компонента из нижеприведенного списка в указанной концентрации, при этом остаток по меньшей мере 70 ат.% является алюминием, отличающаяся одним из следующих составов, ат.%:
11. Мишень из сплава по п.9, отличающаяся тем, что по меньшей мере два металлических или полуметаллических компонента различаются по их точке плавления по меньшей мере на 100°С до 500°С.
12. Мишень из сплава по п.10, отличающаяся тем, что по меньшей мере два металлических или полуметаллических компонента различаются по их точке плавления по меньшей мере на 100°С до 500°С.
13. Слой в корундовой структуре, имеющей, по существу, оксид алюминия, изготовленный согласно способу по одному из пп.1-6, с мишенью по одному из пп.10-12, отличающийся тем, что слои имеют примеси более тугоплавких металлических или полуметаллических компонентов с долей в менее чем 25 ат.%, и слой, по существу, не представлен в виде смешанного кристалла.
14. Слой по п.13, отличающийся тем, что эта одна или несколько примесей содержит следующие компоненты, ат.%:
15. Слой тройных или более высокого порядка оксидов, диапазон образования и стабильности которого может быть выбран целенаправленно, изготавливаемый согласно способу по одному из пп.1-6 с мишенью по одному из пп.10-12, отличающийся тем, что согласно фазовой диаграмме двоичных (или третичных, четвертичных и т.д.) металлических или полуметаллических компонентов оксида состав мишени выбран таким образом, что, по существу, переход из жидкой фазы совпадает с температурой образования оксида.
16. Слой по п.15 из смесей оксидных фаз посредством способа нанесения покрытия осаждением паров в целенаправленном фазовом составе, отличающийся тем, что согласно фазовой диаграмме двоичных (или третичных, четвертичных и т.д.) металлических или полуметаллических компонентов оксида состав мишени выбран таким образом, что, по существу, переход из жидкой фазы при этом составе определяет фазы.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US4759108P | 2008-04-24 | 2008-04-24 | |
US61/047,591 | 2008-04-24 | ||
EP08016572.3 | 2008-09-19 | ||
EP08016572A EP2166128B1 (de) | 2008-09-19 | 2008-09-19 | Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung |
PCT/EP2009/000852 WO2009129880A1 (de) | 2008-04-24 | 2009-02-06 | Verfahren zum herstellen von metalloxidschichten vorbestimmter struktur durch funkenverdampfung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010147448A true RU2010147448A (ru) | 2012-05-27 |
RU2528602C2 RU2528602C2 (ru) | 2014-09-20 |
Family
ID=40297780
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010147448/02A RU2528602C2 (ru) | 2008-04-24 | 2009-02-06 | Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой |
RU2010147450/02A RU2525949C2 (ru) | 2008-04-24 | 2009-02-06 | Способ изготовления слоев оксида металла посредством испарения электрической дугой |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010147450/02A RU2525949C2 (ru) | 2008-04-24 | 2009-02-06 | Способ изготовления слоев оксида металла посредством испарения электрической дугой |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10323320B2 (ru) |
EP (2) | EP2166128B1 (ru) |
JP (3) | JP2011518949A (ru) |
KR (2) | KR101629905B1 (ru) |
CN (2) | CN102016104B (ru) |
AT (1) | ATE532886T1 (ru) |
AU (2) | AU2009240321B2 (ru) |
BR (2) | BRPI0907264A2 (ru) |
CA (2) | CA2722380A1 (ru) |
ES (2) | ES2377225T3 (ru) |
MX (2) | MX2010011496A (ru) |
PL (2) | PL2166128T3 (ru) |
PT (2) | PT2166128E (ru) |
RU (2) | RU2528602C2 (ru) |
TW (2) | TWI390061B (ru) |
WO (2) | WO2009129879A1 (ru) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8652589B2 (en) * | 2008-01-25 | 2014-02-18 | Oerlikon Trading Ag, Truebbach | Permeation barrier layer |
EP2166128B1 (de) * | 2008-09-19 | 2011-11-09 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung |
ES2379518T3 (es) * | 2008-07-08 | 2012-04-26 | Bekaert Advanced Coatings | Un procedimiento para fabricar una diana de óxido mediante depósito por pulverización catódica que comprende una primera fase y una segunda fase |
JP2011084804A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-04-28 | Kobelco Kaken:Kk | 金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲット |
EP2363509A1 (en) * | 2010-02-28 | 2011-09-07 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Synthesis of metal oxides by reactive cathodic arc evaporation |
DE102010053751A1 (de) | 2010-10-28 | 2012-05-03 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Molybdänmonoxidschichten und deren Herstellung mittels PVD |
RU2015111178A (ru) * | 2012-08-29 | 2016-10-20 | Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах | Покрытие, нанесенное катодно-дуговым физическим осаждением из паровой фазы, с улучшенными антифрикционными и противоизносными свойствами |
DE102012023260A1 (de) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Verfahren zur Strukturierung von Schichtoberflächen und Vorrichtung dazu |
WO2014111264A1 (en) * | 2013-01-18 | 2014-07-24 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | COATING METHOD FOR PRODUCING (Al,Cr)2O3-BASED COATINGS WITH ENHANCED PROPERTIES |
DE102013006633A1 (de) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen |
CA2932841C (en) * | 2013-07-09 | 2021-11-23 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Trubbach | Target for the reactive sputter deposition of electrically insulating layers |
DE102014104672A1 (de) * | 2014-04-02 | 2015-10-08 | Kennametal Inc. | Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung |
EP2980267B1 (en) | 2014-07-28 | 2019-05-01 | Oerlikon Surface Solutions AG, Trübbach | Corundum-type fe-doped cathodic arc evaporated al-cr-o coatings |
EP3184663B1 (en) * | 2015-12-23 | 2020-04-15 | Materion Advanced Materials Germany GmbH | Zirconium oxide based sputtering target |
DE102016125042A1 (de) * | 2015-12-28 | 2017-06-29 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Infrarotspiegel mit einer thermisch stabilen Schicht |
DE102016212874A1 (de) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Schutzbeschichtung für eine thermisch beanspruchte Struktur |
CN110945156A (zh) * | 2017-07-31 | 2020-03-31 | 瓦尔特公开股份有限公司 | 涂层切削工具及其制造方法 |
US11249234B2 (en) * | 2019-07-29 | 2022-02-15 | Moxtek, Inc. | Polarizer with composite materials |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5246787A (en) * | 1989-11-22 | 1993-09-21 | Balzers Aktiengesellschaft | Tool or instrument with a wear-resistant hard coating for working or processing organic materials |
US6099457A (en) * | 1990-08-13 | 2000-08-08 | Endotech, Inc. | Endocurietherapy |
US5342283A (en) * | 1990-08-13 | 1994-08-30 | Good Roger R | Endocurietherapy |
US5500301A (en) * | 1991-03-07 | 1996-03-19 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | A1 alloy films and melting A1 alloy sputtering targets for depositing A1 alloy films |
US5415829A (en) * | 1992-12-28 | 1995-05-16 | Nikko Kyodo Co., Ltd. | Sputtering target |
CH688863A5 (de) * | 1994-06-24 | 1998-04-30 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zum Beschichten mindestens eines Werkstueckes und Anlage hierfuer. |
US5518597A (en) | 1995-03-28 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cathodic arc coating apparatus and method |
JP3484861B2 (ja) | 1995-03-31 | 2004-01-06 | セイコーエプソン株式会社 | 画像形成装置用のローラ及びその成形用金型 |
RU2163942C2 (ru) * | 1996-07-25 | 2001-03-10 | Сименс Акциенгезелльшафт | Металлическая подложка с оксидным слоем и улучшенным крепежным слоем |
US6268284B1 (en) * | 1998-10-07 | 2001-07-31 | Tokyo Electron Limited | In situ titanium aluminide deposit in high aspect ratio features |
JP4155641B2 (ja) * | 1998-10-27 | 2008-09-24 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 耐摩耗性被膜およびその製造方法ならびに耐摩耗部材 |
EP1132498B1 (en) * | 2000-03-09 | 2008-05-07 | Sulzer Metaplas GmbH | Hard layer coated parts |
JP4502475B2 (ja) * | 2000-08-04 | 2010-07-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜および耐摩耗部材並びにその製造方法 |
US6835414B2 (en) * | 2001-07-27 | 2004-12-28 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Method for producing coated substrates |
US6709557B1 (en) * | 2002-02-28 | 2004-03-23 | Novellus Systems, Inc. | Sputter apparatus for producing multi-component metal alloy films and method for making the same |
JP4216518B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2009-01-28 | 株式会社神戸製鋼所 | カソード放電型アークイオンプレーティング用ターゲットおよびその製造方法 |
FR2838752B1 (fr) * | 2002-04-22 | 2005-02-25 | Snecma Moteurs | Procede de formation d'un revetement ceramique sur un substrat par depot physique en phase vapeur sous faisceau d'electrons |
US20040022662A1 (en) | 2002-07-31 | 2004-02-05 | General Electric Company | Method for protecting articles, and related compositions |
US20040185182A1 (en) | 2002-07-31 | 2004-09-23 | General Electric Company | Method for protecting articles, and related compositions |
US6767627B2 (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-27 | Kobe Steel, Ltd. | Hard film, wear-resistant object and method of manufacturing wear-resistant object |
FR2860790B1 (fr) * | 2003-10-09 | 2006-07-28 | Snecma Moteurs | Cible destinee a etre evaporee sous faisceau d'electrons, son procede de fabrication, barriere thermique et revetement obtenus a partir d'une cible, et piece mecanique comportant un tel revetement |
EP1536041B1 (en) * | 2003-11-25 | 2008-05-21 | Mitsubishi Materials Corporation | Coated cermet cutting tool with a chipping resistant, hard coating layer |
US7381282B2 (en) * | 2004-04-07 | 2008-06-03 | Hitachi Metals, Ltd. | Co alloy target and its production method, soft magnetic film for perpendicular magnetic recording and perpendicular magnetic recording medium |
US7247529B2 (en) * | 2004-08-30 | 2007-07-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing display device |
TWI282385B (en) * | 2004-12-02 | 2007-06-11 | Taiwan Textile Res Inst | Method for producing durably anti-microbial fibers |
JP4579709B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2010-11-10 | 株式会社神戸製鋼所 | Al−Ni−希土類元素合金スパッタリングターゲット |
CA2601722C (en) | 2005-03-24 | 2014-02-25 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Hard material layer |
US9997338B2 (en) | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
US7450295B2 (en) * | 2006-03-02 | 2008-11-11 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers |
US7857948B2 (en) * | 2006-07-19 | 2010-12-28 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Method for manufacturing poorly conductive layers |
TWI411696B (zh) | 2006-07-19 | 2013-10-11 | Oerlikon Trading Ag | 沉積電絕緣層之方法 |
US7939181B2 (en) * | 2006-10-11 | 2011-05-10 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide |
US8436051B2 (en) | 2007-06-08 | 2013-05-07 | Aptalis Pharma Canada Inc. | Mesalamine suppository |
EP2166128B1 (de) * | 2008-09-19 | 2011-11-09 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Verfahren zum Herstellen von Metalloxidschichten durch Funkenverdampfung |
-
2008
- 2008-09-19 EP EP08016572A patent/EP2166128B1/de not_active Not-in-force
- 2008-09-19 PL PL08016572T patent/PL2166128T3/pl unknown
- 2008-09-19 ES ES08016572T patent/ES2377225T3/es active Active
- 2008-09-19 AT AT08016572T patent/ATE532886T1/de active
- 2008-09-19 PT PT08016572T patent/PT2166128E/pt unknown
-
2009
- 2009-02-06 PT PT97348734T patent/PT2265744E/pt unknown
- 2009-02-06 WO PCT/EP2009/000851 patent/WO2009129879A1/de active Application Filing
- 2009-02-06 KR KR1020107026387A patent/KR101629905B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-06 JP JP2011505376A patent/JP2011518949A/ja active Pending
- 2009-02-06 RU RU2010147448/02A patent/RU2528602C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-02-06 AU AU2009240321A patent/AU2009240321B2/en not_active Ceased
- 2009-02-06 CN CN200980114304.8A patent/CN102016104B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-06 KR KR1020107026388A patent/KR101629909B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-06 ES ES09734873.4T patent/ES2485909T3/es active Active
- 2009-02-06 BR BRPI0907264A patent/BRPI0907264A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-02-06 BR BRPI0907265A patent/BRPI0907265A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-02-06 MX MX2010011496A patent/MX2010011496A/es active IP Right Grant
- 2009-02-06 CN CN200980114303.3A patent/CN102016108B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-06 AU AU2009240320A patent/AU2009240320B2/en not_active Ceased
- 2009-02-06 JP JP2011505377A patent/JP2011522960A/ja active Pending
- 2009-02-06 PL PL09734873T patent/PL2265744T3/pl unknown
- 2009-02-06 WO PCT/EP2009/000852 patent/WO2009129880A1/de active Application Filing
- 2009-02-06 EP EP09734873.4A patent/EP2265744B1/de not_active Not-in-force
- 2009-02-06 MX MX2010011502A patent/MX2010011502A/es active IP Right Grant
- 2009-02-06 RU RU2010147450/02A patent/RU2525949C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-02-06 CA CA2722380A patent/CA2722380A1/en not_active Abandoned
- 2009-02-06 CA CA2722520A patent/CA2722520A1/en not_active Abandoned
- 2009-04-23 US US12/428,699 patent/US10323320B2/en active Active
- 2009-04-24 TW TW098113822A patent/TWI390061B/zh not_active IP Right Cessation
- 2009-04-24 TW TW098113824A patent/TWI410506B/zh not_active IP Right Cessation
- 2009-04-24 US US12/429,252 patent/US9611538B2/en active Active
-
2014
- 2014-09-16 JP JP2014188025A patent/JP5876123B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2010147448A (ru) | Способ изготовления слоев оксида металла заранее заданной структуры посредством испарения электрической дугой | |
Waseem et al. | A combinatorial approach for the synthesis and analysis of AlxCryMozNbTiZr high-entropy alloys: Oxidation behavior | |
JP6464096B2 (ja) | 合金 | |
KR102220219B1 (ko) | Bcc 2상 복합구조를 가지는 내열 고엔트로피 초합금 및 그 제조 방법 | |
WO2011070860A1 (ja) | 磁性材スパッタリングターゲット | |
JP2022500557A (ja) | ニッケル基超合金 | |
CN111344807B (zh) | 具有提高的高温抗氧化性的锆合金包壳管及其制备方法 | |
KR102696324B1 (ko) | 열적 안정성이 향상된 Al-Cr 계열 세라믹 코팅 | |
EP2954091B1 (en) | Coating method for producing (al,cr)2o3-based coatings with enhanced properties | |
CN102630254A (zh) | 用于硫属化物光伏应用的低熔点溅射靶及其制造方法 | |
TW201309828A (zh) | 濺鍍用鈦靶 | |
JP4731347B2 (ja) | 複合銅微粉の製造方法 | |
KR20220010026A (ko) | 다중 음이온 고엔트로피 합금 옥시질화물을 포함하는 pvd 코팅 | |
JP2018184657A (ja) | オキシフッ化イットリウム溶射膜及びその製造方法、並びに溶射部材 | |
CN113512657A (zh) | 一种高均匀含硼钛合金铸锭的制备方法 | |
TWI542705B (zh) | Production method of high purity calcium | |
CN113458553B (zh) | 一种耐磨高熵合金堆焊层及制备方法 | |
KR20170102187A (ko) | 주석 함유 비정질 합금 복합물 | |
JP5295474B2 (ja) | ニオブ基合金耐熱部材 | |
CN107099714B (zh) | 一种稀土镁合金及其制备方法 | |
Miedzinski et al. | The actual state and prospects of a high power electron beam technology for metallic and non-metallic compositions used in electric contacts and electrodes | |
KR101779715B1 (ko) | 스피노달 분해 기공 구조를 가진 bcc hea-lea 복합 구조 다공체 및 이의 제조 방법 | |
JP5274603B2 (ja) | 複合銅微粉 | |
JP6513530B2 (ja) | Ti−Si系合金の脱酸方法 | |
JP2006257451A (ja) | 耐熱合金の耐酸化被覆構造および被覆方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180207 |