PL191331B1 - Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli - Google Patents
Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoliInfo
- Publication number
- PL191331B1 PL191331B1 PL333984A PL33398497A PL191331B1 PL 191331 B1 PL191331 B1 PL 191331B1 PL 333984 A PL333984 A PL 333984A PL 33398497 A PL33398497 A PL 33398497A PL 191331 B1 PL191331 B1 PL 191331B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- formula
- oxidation
- carried out
- alkyl
- alkenyl
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 40
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 42
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 10
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- -1 N-substituted 3-hydroxypyrazoles Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 4
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005865 C2-C10alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical group [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000006193 alkinyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 23
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- DRENHOMDLNJDOG-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1NC(=O)C=C1 DRENHOMDLNJDOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QEWLOWAUHUOAEK-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1NC(=O)CC1 QEWLOWAUHUOAEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 6
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;iron(6+);hexacyanide Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[Fe+6].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 2
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-chlorophenyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylbutane-1,4-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C(=O)C=1C=CC(Cl)=CC=1)CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOSBJPUWTOXWKL-UHFFFAOYSA-N 1-(3,4-dichlorophenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1N1NC(=O)CC1 IOSBJPUWTOXWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJRVPGXSSILCJH-UHFFFAOYSA-N 1-(3-chloro-4-fluorophenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=C(Cl)C(F)=CC=C1N1NC(=O)CC1 DJRVPGXSSILCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PASQTEDKDMHJPQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)-4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=C(Cl)C=C1 PASQTEDKDMHJPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVJPLZNMCJQWPJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1NC(=O)CC1 SVJPLZNMCJQWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKOZNMGYWHAQTD-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dichlorophenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound N1=C(O)C=CN1C1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 WKOZNMGYWHAQTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULUZQFJTHKDVGX-UHFFFAOYSA-N 2-(3-chloro-4-fluorophenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound N1=C(O)C=CN1C1=CC=C(F)C(Cl)=C1 ULUZQFJTHKDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKMIHRILDQGEFJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-4-methyl-1h-pyrazol-5-one Chemical compound N1C(=O)C(C)=CN1C1=CC=C(Cl)C=C1 WKMIHRILDQGEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIYKQSGEUKDSZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1N=C(O)C=C1 YCIYKQSGEUKDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJKUMEWUKOVAOD-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-(4-chlorophenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound C1=C(Br)C(O)=NN1C1=CC=C(Cl)C=C1 UJKUMEWUKOVAOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUXHPBDDDHPEAC-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-(4-chlorophenyl)-1h-pyrazol-5-one Chemical compound C1=C(Cl)C(O)=NN1C1=CC=C(Cl)C=C1 RUXHPBDDDHPEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONBHUPNUUMQQMW-UHFFFAOYSA-K Cl[Cu](Cl)Cl Chemical compound Cl[Cu](Cl)Cl ONBHUPNUUMQQMW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021582 Cobalt(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+) Chemical compound [Co+3] JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910000336 copper(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L copper(i) sulfate Chemical compound [Cu+].[Cu+].[O-]S([O-])(=O)=O WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N ferricyanide Chemical compound [Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
- C07D231/22—One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
1. Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli o ogólnym wzorze I w którym R 1 oznacza C 1-C 10-alkil, C 2-C 10-alkenyl, C 1-C 10-alkinyl, C 3-C 10-cykloalkil, aryl oznacza fenyl ewentualnie podstawiony podstawnikami obojetnymi w warunkach reakcji wybranymi z grupy obejmujacej atom chlorowca, grupe cyjanowa, SO 3H, COOH, C 1-C 10-alkil, C 2-C 10-alkenyl i C 2-C 10-alkinyl, naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmujacej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, a R 2 i R 3 oznaczaja atom wodoru, grupe cyjanowa, atom chlorowca albo C 1-C 10-alkil, C 2-C 10-alkenyl, C 1-C 10 alkinyl, C 3-C 10- -cykloalkil, aryl wybrany z grupy obejmujacej fenyl i naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmujacej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, przy czym podstawniki R 1 , R 2 i R 3 sa obojetne w warunkach reakcji, przez utlenienie pirazolidyn-3-onu o ogólnym wzorze II w którym podstawniki R 1 , R 2 i R 3 maja wyzej podane znaczenie, znamienny tym, ze reakcje rozpuszczalnego w wodzie zwiazku o wzorze II prowadzi sie w wodzie w obecnosci zasady z uzyciem tlenu jako srodka utleniajacego. PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli, które są odpowiednie jako produkty pośrednie do wytwarzania barwników lub substancji czynnych stosowanych w dziedzinach farmacji i ochrony roślin.
Z literatury wiadomo, że N-podstawione 3-hydroksypirazole wytwarza się przez utlenienie odpowiednich pirazolidynonów [J. Gen. Chem. USSR, Engl. Trans., 31, 1770 (1961); Chem. Heterocycl. Comp. 5, 527 (1969); J. Prakt. Chem. 313, 115 (1971); J. Prakt. Chem. 318, 253 (1976); J. Med. Chem. 34, 1560 (1991); J. Prakt. Chem. 313, 1118 (1971); DE-A 3415385; PCT/EP 96/02891].
Jako środki utleniające znajdują zastosowanie:
- siarka elementarna [J. Gen. Chem. USSR, Engl. Trans. 31, 1770 (1961)],
- chlorowce elementarne [Chem. Heterocycl. Com., 5, 527 (1969; J. Prakt. Chem. 318, 253 (1976); J. Prakt. Chem. 313, 1118 (1971)],
- nadtlenki lub nadkwasy [J. Med. Chem. 34, 1560 (1991); DE-A 3415385]
- tlen z powietrza [J. Prakt. Chem. 313, 115 (1971); J. Prakt. Chem. 313, 1118 (1971; PCT/EP 96/02891].
Techniczne wytwarzanie 3-hydroksypirazoli przez utlenianie siarką elementarną ma tę niedogodność, że tworzą sięznaczne ilości produktów redukcji siarki, co powoduje konieczność kosztownej obróbki i usuwania produktów ubocznych.
Zastosowanie chlorowców elementarnych w technicznej syntezie 3-hydroksypirazoli jest również niedogodne, gdyż w tym przypadku wydajność jest niezadowalająca, a ponadto oddzielenie produktów ubocznych, powstających w znacznej ilości, jest kosztowne. Ponadto stosowanie większej ilości chlorowców elementarnych jako środków utleniających stanowi problem dla środowiska i niedogodność ze względu na koszty.
Znane sposoby utleniania z pomocą nadtlenków z jednej strony wymagają kosztownego oczyszczania, a z drugiej strony, przy zastosowaniu droższych reagentów, uzyskuje się niezadowalającą wydajność, co powoduje, że nie można realizować syntezy na skalę techniczną.
Zastosowanie tlenu z powietrza jako środka utleniającego [J. Prakt. Chem. 313, 115 (1971) i J. Prakt. Chem. 313, 1118 (1971)] ma tę niedogodność, że reakcja musi przebiegać w silnie kwaśnym środowisku. Wymaga to zwiększonego zużycia zasad podczas obróbki, prowadzącego do wydzielania się znacznych ilości soli, co z ekologicznego punktu widzenia jest niepożądane.
W zgłoszeniu PCT/EP 96/02891 opisano utlenianie tlenem z powietrza w organicznym rozpuszczalniku w obecności soli żelaza i miedzi. Przy stosowaniu powietrza jako środka utleniającego powstają wybuchowe mieszaniny powietrze/opary rozpuszczalnika, które są niekorzystne ze względów bezpieczeństwa i wymagają włożenia znacznego wysiłku w zapewnienie bezpiecznych warunków pracy.
Niniejszy wynalazek pozwala na zastosowanie korzystnegoekonomicznie oraz pewnego i prostego technicznie sposobu wytwarzania 3-hydroksypirazoli.
Tak więc wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli o wzorze I
w którym 1
R1 oznacza C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl, C1-C10-alkinyl, C3-C10-cykloalkil, fenyl ewentualnie podstawiony podstawnikami obojętnymi w warunkach reakcji wybranymi z grupy obejmującej atom chlorowca, grupę cyjanową, SO3H, COOH, C1-C10-alkil,C2-C10-alkenyl i C2-C10-alkinyl, naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmującej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, a
R2 i R3 oznaczają atom wodoru, grupę cyjanową, atom chlorowca albo C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl, C1-C10-alkinyl, C3-C10-cykloalkil, aryl wybrany z grupy obejmującej fenyl i naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmującej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, przy czym podstawniki R1,R2 i R3 są obojętne w warunkach reakcji, przez utlenienie pirazolidyn-3-onu o ogólnym wzorze II
PL 191 331 B1
2 3 w którym podstawniki R1, R2 i R3 mają wyżej podane znaczenie, który charakteryzuje się tym, że reakcję rozpuszczalnego w wodzie związku o wzorze II prowadzi się w wodzie w obecności zasady z użyciem tlenu jako środka utleniającego.
Grupy alifatyczne mogą mieć łańcuch prosty lub rozgałęziony. Długość łańcucha podstawnika jest dla sposobu według wynalazku bez znaczenia, jednak ze względów technicznych zazwyczaj stosuje się grupy z co najwyżej atomami węgla. Grupy alkilowe zawierają zwykle 1-10 atomów węgla, grupy alkenylowe i alkinylowe zawierają zazwyczaj 2-10 atomów węgla, a grupy cykloalkilowe 3-10 członów pierścienia.
Atom chlorowca oznacza atom chloru, atom fluoru, atom bromu lub atom jodu.
Korzystnie stosuje się związek o wzorze II, w którym R1 oznacza fenyl ewentualnie podstawiony podstawnikami obojętnymi w warunkach reakcji wybranymi z grupy obejmującej atom chlorowca, grupę cyjanową, SO3H, COOH, C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl i C2-C10-alkinyl; R2 oznacza atom wodoru; R3 oznacza atom wodoru lub C1-C10-alkil.
Korzystnie stosuje się zasadę o wartości pKa > 7.
Korzystnie stosuje się zasadę nieorganiczną.
Korzystnie utlenianie związków o wzorze II prowadzi się z użyciem czystego tlenu jako środka utleniającego.
Korzystnie utlenianie związków o wzorze II prowadzi się pod ciśnieniem 0,1-5 MPa.
Korzystnie utlenianie związków o wzorze II prowadzi sięw obecności soli metali, takich jak sole żelaza na drugim lub trzecim stopniu utlenienia, sole miedzi na pierwszym lub drugim stopniu utlenienia, sole kobaltu na drugim lub trzecim stopniu utlenienia, sole metali grup głównych lub metali przejściowych albo ich mieszanin.
Szczególnie korzystnie sole metali dodaje się w ilościach katalitycznych, przy czym jako sól metalu stosuje się sól żelaza, sól miedzi lub sól kobaltu, a utlenianie związków o wzorze II prowadzi się z użyciem tlenu z powietrza jako środka utleniającego.
To utlenianie pirazolidynonów o wzorze II prowadzi sięna ogół w ten sposób, że do wodnego zasadowego roztworu związku II wprowadza się gaz w postaci powietrza lub czystego tlenu.
Jako zasady można stosować zasady nieorganiczne lub organiczne, których wartość pKa jest większa niż 7.
Sposób według wynalazku nie wymaga całkowitego deprotonowania związku o wzorze II. Przy niecałkowitym deprotonowaniu związku o wzorze II wartość pH środowiska reakcyjnego wynosi poniżej 7. Szczególnie korzystnie ten sposób realizuje się przy wartości pH powyżej 7. Zasadę dodaje się do związku o wzorze II w ilości co najmniej równomolowej.
Dzięki dodaniu zasady rozpuszczalność pirazolidynonów wzrasta do tego stopnia, że możliwe staje się prowadzenie reakcji w wodzie. Dla utrzymania możliwie niskiej zawartości węgla w odpadowych produktach reakcji, korzystne są zasady nieorganiczne, takie jak np. wodorotlenki lub węglany metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych, takie jak np. wodorotlenek sodu, wodorotlenek potasu, wodorotlenek magnezu, węglan potasu lub węglan sodu. Dla uniknięcia strat zasad w roztworze przy nagazowywaniu tlenem, korzystnie stosuje się zasady nielotne.
Zasadniczo odpowiednie są również zasady organiczne. Korzystne są zasady nielotne w warunkach reakcji, nie tylko z wyżej podanych powodów, lecz także ze względów bezpieczeństwa pracy.
Proces można także prowadzić przyśpieszając utlenianie mieszaniny reakcyjnej przez dodanie katalitycznych ilości soli metali. W większości przypadków wzrasta wówczas także selektywność.
Jako sole metali są szczególnie odpowiednie sole żelaza na drugim lub trzecim stopniu utlenienia (np. chlorek żelaza (II), chlorek żelaza (III), siarczan żelaza(II), siarczan żelaza (III), heksacyjanożelazian(II) potasu i heksacyjanożelazian(III) potasu), sole miedzi na pierwszym lub drugim stopniu utlenienia (np. chlorek miedzi(I), chlorek miedzi(III), siarczan miedzi(I) i siarczan miedzi(II)), sole kobaltu na drugim lub trzecim stopniu utlenienia (np. octan kobaltu (II), chlorek kobaltu(II) i fluorek
PL 191 331B1 kobaltu(III)), jak również odpowiednie sole metali grup głównych lub metali przejściowych. Można również stosować mieszaniny większej liczby soli.
Sole metali stosuje się na ogół w ilości od 0,01% mol. do 20% mol., korzystnie 0,3% mol. do 10% mol., szczególnie korzystnie 0,5% mol. do 5% mol., w przeliczeniu na ilość związku o wzorze II.
Korzystną postacią sposobu według wynalazku jest utlenianie czystym tlenem, przy którym można uniknąć stosowania katalitycznych soli metali.
Utlenianie następuje zazwyczaj w temperaturze od 0°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej, korzystnie w temperaturze 20 - 100°C. Przy prowadzaniu procesu pod ciśnieniem można stosować także wyższą temperaturę.
Proces można prowadzić pod ciśnieniem 0,1 - 20 MPa. Ciśnienie wytwarza się przez sprężanie powietrza lub czystego tlenu, względnie ich mieszanin. Korzystnie ciśnienie wynosi 0,1-5 MPa, a szczególnie korzystne 0,1-2 MPa.
Mieszaniny reakcyjne poddaje się obróbce z użyciem znanych sposobów, np. przez wytrącanie produktu drogą zobojętniania roztworu reakcyjnego, ewentualnie przez ekstrakcję, rozdzielanie faz i ewentualnie oczyszczenie surowego produktu drogą chromatografii. Produkty pośrednie i końcowe wypadają częściowo w postaci bezbarwnych lub słabo brunatno zabarwionych ciągnących się olejów, z których usuwa się części lotne lub które oczyszcza się pod zmniejszonym ciśnieniem i w umiarkowanie podwyższonej temperaturze. Gdy produkty pośrednie lub końcowe otrzymuje się w postaci substancji stałych, ich oczyszczenie można prowadzić drogą rekrystalizacji lub ekstrakcji na ciepło.
Sposób według wynalazku może być stosowany także w przypadku inaczej podstawionych związków, o ile tylko podstawniki są obojętne w warunkach reakcji.
Otrzymane sposobem według wynalazku 3-hydroksypirazole są odpowiednie jako produkty pośrednie do wytwarzania barwników lub substancji czynnych stosowanych w dziedzinach farmacji i ochrony roślin.
Przykłady porównawcze:
1. Utlenianie pirazolidynonów z użyciem FeCl3 [J. Prakt. Ch. 313, 1118 (1991)]
Do mieszaniny 14 g (0,071 mola) 1-(4-chlorofenylo)-pirazolidyn-3-onu i 100 ml 1 N kwasu solnego wkroplono w temperaturze około 25°C roztwór 23 g (0,142 mola) FeCl3w 40 ml wody. Po mieszaniu przez noc do mieszaniny reakcyjnej dodano porcjami 24 g NaOH, po czym całość ogrzano do 90°C i przesączono. Osad przemyto wrzącą wodą.
Po zakwaszeniu przesączu do pH 5-6 i następnie ekstrakcji CHCl3 otrzymano z fazy organicznej niewielką ilość ciemnej pozostałości, w której nie stwierdzono pożądanego produktu.
Także z fazy wodnej i otrzymanej po odsączeniu substancji stałej nie udało się wyodrębnić produktu, którego czystość pozwoliłaby na ustalenie jego charakterystyki jakościowej lub ilościowej.
2. Utlenianie pirazolidynonów z użyciem CuCl2 [J. Prakt. Ch. 213, 115 (1971)]
2.1. W temperaturze 50°C do mieszaniny 19,6 g (0,1 mola) 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu, 200 ml 1 N kwasu solnego i 0,05 g (0,293 mmola) CuCl2 x H2O wprowadzano przez 8 godzin tlen. Całość mieszano przez noc i powstałą brązową substancję stałą odsączono. Otrzymano 17,7 g mieszaniny pirazolinonu i pirazolidynonu w stosunku 4:1. Obliczona wydajność: 73%.
2.2. W analogicznej próbie wprowadzano tlen w temperaturze 50°C przez 24 godziny i otrzymano 17,8 g mieszaniny, której dane spektroskopowe i fizyczne były identyczne z substancją otrzymaną w próbie 2.1. Badanie drogą chromatografii cienkowarstwowej przeprowadzone podczas reakcji wykazało, żeilość produktów ubocznych stale wzrastała w trakcie jej przebiegu reakcji. Z tego powodu nie próbowano dalszego przedłużenia czasu reakcji.
3. Utlenianie gazowym chlorem
W 300 ml chlorku metylenu rozpuszczono 49,2 g 1-(4-chlorofenylo) pirazolidyn-3-onu.
Do mieszaniny reakcyjnej, w trakcie chłodzenia na łaźni wodnej z lodem, wprowadzono powoli w temperaturze 10 °C 18 g gazowego chloru. Według HPLC (powierzchnie - %) roztwór reakcyjny zawierał około 70% 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu, 15% substancji wydzielonej i 15% 4-chloro-1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu.
4. Utlenianie bromem [Chem. Heterocycl. Comp. 5, 527, (1969)]
W 300 ml chlorku metylenu rozpuszczono 49,2 g 1-(4-chlorofenylo) pirazolidyn-3-onu. Do mieszaniny reakcyjnej w trakcie chłodzenia na łaźni lodowej, wkroplono powoli w temperaturze 10°C 40 g bromu. Według HPLC (powierzchnie - %) roztwór 5 reakcyjny zawierał około 76% 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu, 8% substancji wydzielonej i 21% 4-bromo-1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu.
PL 191 331 B1
Przykłady sposobu według wynalazku:
5. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksy-4-metylo-pirazolu drogą utleniania powietrzem z użyciem kobaltu (II) jako katalizatora
W mieszaninie 700 ml wody i 43,1 g wodorotlenku potasu (85%) rozpuszczono 92 g 1-(4-chlorofenylo)-4-metylopirazolidyn-3-onu i 1,3 g octanu kobaltu(II) x 4 H2O. Mieszaninę ogrzano w trakcie mieszania do temperatury 80°C i wprowadzano do niej powietrze przez 7 godzin. Po ochłodzeniu mieszaninę reakcyjną odsączono, odczyn przesączu doprowadzono do pH = 5,5 kwasem octowym, osad odsączono, przemyto wodą i wysuszono pod próżnią. Otrzymano 78,9 g jasnej substancji stałej o t.t. 214°C.
6. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania powietrzem z użyciem heksacyjanożelazianu(III) potasu jako katalizatora
W mieszaninie 641,3 g wody i 33,75 g wodorotlenku potasu 25 rozpuszczono 98,3 g 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu i dodano 0,98 g heksacyjanożelazianu(III) potasu. Podczas doprowadzenia silnego strumienia powietrza przez kapilarę temperatura mieszaniny reakcyjnej podniosła się do 80°C i w tej temperaturze prowadzono nadal proces utleniania. Po ochłodzeniu odczyn mieszaniny reakcyjnej doprowadzono do pH = 2 stężonym kwasem siarkowym, wydzieloną substancję stałą odsączono, przemyto wodą i eterem diizopropylowym i wysuszono. Pozostałość stanowiło 76 g jasnobrązowej substancji stałej.
7. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania powietrzem z użyciem żelaza(III) jako katalizatora
W mieszaninie 3,87 kg wodorotlenku potasu i 73,6 kg wody rozpuszczono 9,06 kg 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu i dodano 90 g chlorku żelaza(III). Całość ogrzano do 80 - 85°C i przez mieszaninę reakcyjną przepuszczono silny strumień powietrza. Po około 3 godzinach reakcję zakończono i otrzymano roztwór, który według ilościowej analizy HPLC zawierał 8,72% wag. (co odpowiada 7,53 kg) 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu.
8. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem pod ciśnieniem, bez katalizy
Autoklaw o pojemności 300 ml napełniono roztworem 9,75 g 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu w 150 g wody, a następnie pod ciśnieniem 1,5 MPa wprowadzono tlen, całość ogrzano do temperatury 50°C i w tej temperaturze pozostawiono przez 6 godzin. Po ochłodzeniu odczyn mieszaniny reakcyjnej doprowadzono do pH = 5 kwasem octowym, wytrąconą substancję stałą odsączono, w ciągu 30 minut poddawano ją ekstrakcji wodą w temperaturze 60°C, a następnie powtórnie odsączono i wysuszono. Otrzymano 9,4 g produktu w postaci bezbarwnego proszku zawierającego 95,4% tytułowego związku.
9. Wytwarzanie 1-(4-metylofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem, bez katalizy
W mieszaninie 10,3 g wodorotlenku potasu i 196 g wody rozpuszczono 25,8 g 1-(4-metylofenylo)-pirazolidyn-3-onu. Do mieszaniny reakcyjnej w temperaturze 60°C wprowadzono tlen do całkowitego zaabsorbowania. Po około 90 minutach tlen nie ulegał już absorpcji i mieszaninę reakcyjną ochłodzono do temperatury pokojowej, produkt wytrącono kwasem octowym, odsączono, przemyto wodą, wysuszono i otrzymano 21,6 g bezbarwnej substancji stałej o t.t. 135-137°C.
10. Wytwarzanie 1-(3,4-dichlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem, bez katalizy
W mieszaninie 5,9 g wodorotlenku potasu i 113 g wody rozpuszczono 11,8 g 1-(3,4-dichlorofenylo)-pirazolidyn-3-onu. W temperaturze 60°C wprowadzono tlen i reakcję monitorowano z użyciem HPLC. Po około 60 minutach reakcja dobiegła końca, a wówczas mieszaninę reakcyjną ochłodzono do temperatury pokojowej, produkt wytrącono 6 g kwasu octowego, odsączono, przemyto wodą, wysuszono i otrzymano 7,3 g bezbarwnej substancji stałej o t.t. 168-170°C.
11. Wytwarzanie 1-(3-chloro-4-fluorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem, bez katalizy
Do roztworu 21,55 g wodorotlenku potasu w 409 g wody, dodano 47,9 g 1-(3-chloro-4-fluorofenylo)pirazolidyn-3-onu i w temperaturze 70°C wprowadzano tlen dla przeprowadzenia reakcji utleniania. Po około 40 minutach reakcja dobiegła końca, a wówczas mieszaninę reakcyjną ochłodzono do temperatury pokojowej i dodano 23 g kwasu octowego. Wytrąconą mazistą substancję stałą wyekstrahowano na ciepło kolejno wodą i eterem diizopropylowym i odsączono. Po wysuszeniu pozostało 39 g substancji stałej, którą oczyszczono drogą chromatografii kolumnowej na żelu krzemionkowym z użyciem cykloheksanu i otrzymano 21 g tytułowego związku o t.t. 157-159°C.
PL 191 331B1
12. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem, bez katalizy
850 g 7,4% roztworu 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu w 5% ługu potasowym ogrzano do temperatury 60°C. Do roztworu reakcyjnego wprowadzono przez kapilarę tlen do całkowitej jego absorpcji. Według HPLC reakcja dobiegła końca po około 90 minutach i otrzymano 855 g roztworu o zawartości 7,3% 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu.
13. Wytwarzanie 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu drogą utleniania czystym tlenem, z użyciem kobaltu(II) jako katalizatora
Do 900 g 6,9% roztworu 1-(4-chlorofenylo)pirazolidyn-3-onu w 5% ługu potasowym dodano 600 mg octanu kobaltu(II) i w temperaturze pokojowej wprowadzono przez kapilarę tlen do całkowitej jego absorpcji. Według HPLC reakcja dobiegła końca po około 30 minutach, przy czym temperatura wzrosła do 40°C. Otrzymano 908 g roztworu o zawartości 6,7% 1-(4-chlorofenylo)-3-hydroksypirazolu.
Claims (14)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli o ogólnym wzorze I w którym 1R oznacza C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl, C1-C10-alkinyl, C3-C10-cykloalkil, aryl oznacza fenyl ewentualnie podstawiony podstawnikami obojętnymi w warunkach reakcji wybranymi z grupy obejmującej atom chlorowca, grupę cyjanową, SO3H, COOH, C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl i C2-C10-alkinyl, naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmującej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, aR2 i R3 oznaczają atom wodoru, grupę cyjanową, atom chlorowca albo C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl, C1-C10-alkinyl, C3-C10-cykloalkil, aryl wybrany z grupy obejmującej fenyl i naftyl lub heteroaryl wybrany z grupy obejmującej furyl, tienyl, pirolil, izoksazolil, izotiazolil, pirazolil, oksazolil, imidazolil, pirydyl, pirydazynyl, pirymidynyl i triazynyl, przy czym podstawniki R1, R2 i R3 są obojętne w warunkach reakcji, przez utlenienie pirazolidyn-3-onu o ogólnym wzorze II1 2 3 w którym podstawniki R1, R2 i R3 mają wyżej podane znaczenie, znamienny tym, że reakcję rozpuszczalnego w wodzie związku o wzorze II prowadzi się w wodzie w obecności zasady z użyciem tlenu jako środka utleniającego.1
- 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się związek o wzorze II, w którym R1 oznacza fenyl ewentualnie podstawiony podstawnikami obojętnymi w warunkach reakcji wybranymi z grupy obejmującej atom chlorowca, grupę cyjanową, SO3H, COOH, C1-C10-alkil, C2-C10-alkenyl i C1-C10-alkinyl.
- 3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się związek o wzorze II, w którym 2R2 oznacza atom wodoru.
- 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się związek o wzorze II, w którym 3R3 oznacza atom wodoru lub C1-C10-alkil.
- 5. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się zasadę o wartości pKa> 7.
- 6. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się zasadę nieorganiczną.PL 191 331 B1
- 7. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że utlenianie związków o wzorze II prowadzi się z użyciem czystego tlenu jako środka utleniającego.
- 8. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że utlenianie związków o wzorze II prowadzi się pod ciśnieniem 0,1-5 MPa.
- 9. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że utlenianie związków o wzorze II prowadzi się w obecności soli metali, takich jak sole żelaza na drugim lub trzecim stopniu utlenienia, sole miedzi na pierwszym lub drugim stopniu utlenienia, sole kobaltu na drugim lub trzecim stopniu utlenienia, sole metali grup głównych lub metali przejściowych albo ich mieszanin.
- 10. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że sole metali dodaje się w ilościach katalitycznych.
- 11. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że jako sól metalu stosuje się sól żelaza.
- 12. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że jako sól metalu stosuje się sól miedzi.
- 13. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że jako sól metalu stosuje się sól kobaltu.
- 14. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że utlenianie związków o wzorze II prowadzi się z użyciem tlenu z powietrza jako środka utleniającego.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19652516A DE19652516A1 (de) | 1996-12-17 | 1996-12-17 | Verfahren zur Herstellung von N-substituierten 3-hydroxypyrazolen |
| PCT/EP1997/006780 WO1998027062A1 (de) | 1996-12-17 | 1997-12-04 | Verfahren zur herstellung von n-substituierten 3-hydroxypyrazolen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL333984A1 PL333984A1 (en) | 2000-01-31 |
| PL191331B1 true PL191331B1 (pl) | 2006-04-28 |
Family
ID=7815027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL333984A PL191331B1 (pl) | 1996-12-17 | 1997-12-04 | Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6040458A (pl) |
| EP (1) | EP0946514B1 (pl) |
| JP (1) | JP4465048B2 (pl) |
| KR (1) | KR100508594B1 (pl) |
| CN (1) | CN1098253C (pl) |
| AR (1) | AR008944A1 (pl) |
| AT (1) | ATE238994T1 (pl) |
| AU (1) | AU746496B2 (pl) |
| BR (1) | BR9713951A (pl) |
| CA (1) | CA2275253C (pl) |
| CO (1) | CO5011024A1 (pl) |
| CZ (1) | CZ292280B6 (pl) |
| DE (2) | DE19652516A1 (pl) |
| DK (1) | DK0946514T3 (pl) |
| EA (1) | EA001630B1 (pl) |
| ES (1) | ES2199382T3 (pl) |
| HU (1) | HU228235B1 (pl) |
| IL (1) | IL130125A (pl) |
| IN (1) | IN185466B (pl) |
| NZ (1) | NZ335953A (pl) |
| PL (1) | PL191331B1 (pl) |
| SK (1) | SK282689B6 (pl) |
| UA (1) | UA53678C2 (pl) |
| WO (1) | WO1998027062A1 (pl) |
| ZA (1) | ZA9711238B (pl) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2151433A1 (en) | 2008-08-05 | 2010-02-10 | Institut Pasteur | Alkoxypyrazoles and the process for their preparation |
| EP2547653B1 (en) | 2010-03-18 | 2015-01-28 | Basf Se | N-carbomethoxy-n-methoxy-(2-chloromethyl)-anilines, their preparation and their use as precursors for preparing 2-(pyrazol-3'-yloxymethylene)-anilides |
| US9022956B2 (en) | 2011-06-10 | 2015-05-05 | U.S. Bionics, Inc. | Trunk supporting exoskeleton and method of use |
| US9744066B2 (en) | 2011-06-10 | 2017-08-29 | The Regents Of The University Of California | Trunk supporting exoskeleton and method of use |
| EP2815647A1 (en) | 2013-06-18 | 2014-12-24 | Basf Se | Novel strobilurin-type compounds for combating phytopathogenic fungi |
| JP6372560B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2018-08-15 | 住友化学株式会社 | ピラゾール化合物の製造方法 |
| EP3702355B1 (en) | 2015-05-18 | 2022-01-12 | Shenyang Sinochem Agrochemicals R&D Co., Ltd. | Substituted pyrazole compounds containing pyrimidine, the preparation and application thereof |
| CN105061322B (zh) * | 2015-07-27 | 2018-07-24 | 北京颖泰嘉和生物科技股份有限公司 | N-取代的3-羟基吡唑化合物的制备方法 |
| CN106008350A (zh) * | 2016-07-21 | 2016-10-12 | 山东益丰生化环保股份有限公司 | 一种1-(4-氯苯基)-3-吡唑醇的制备方法 |
| CN109890794B (zh) * | 2016-11-17 | 2023-04-11 | 巴斯夫欧洲公司 | 纯化1-(4-氯苯基)吡唑-3-醇的方法 |
| CN107778246A (zh) * | 2017-12-05 | 2018-03-09 | 利民化工股份有限公司 | 一种杀菌剂吡唑醚菌酯中间体吡唑醇的精制方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3415385A1 (de) * | 1984-04-25 | 1985-11-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von pyrazolen |
| UA48189C2 (uk) * | 1995-07-14 | 2002-08-15 | Басф Акцієнгезельшафт | Спосіб одержання n-заміщених 3-гідроксипіразолів |
-
1996
- 1996-12-17 DE DE19652516A patent/DE19652516A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-04-12 UA UA99074135A patent/UA53678C2/uk unknown
- 1997-12-04 EA EA199900536A patent/EA001630B1/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 IL IL13012597A patent/IL130125A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 HU HU0000554A patent/HU228235B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 ES ES97953736T patent/ES2199382T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-04 SK SK776-99A patent/SK282689B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 KR KR10-1999-7005382A patent/KR100508594B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 CZ CZ19992147A patent/CZ292280B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 DK DK97953736T patent/DK0946514T3/da active
- 1997-12-04 CA CA002275253A patent/CA2275253C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-04 NZ NZ335953A patent/NZ335953A/xx unknown
- 1997-12-04 DE DE59709989T patent/DE59709989D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-04 US US09/319,880 patent/US6040458A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-04 CN CN97180756A patent/CN1098253C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-04 PL PL333984A patent/PL191331B1/pl unknown
- 1997-12-04 JP JP52724998A patent/JP4465048B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-04 AT AT97953736T patent/ATE238994T1/de active
- 1997-12-04 BR BR9713951A patent/BR9713951A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-12-04 WO PCT/EP1997/006780 patent/WO1998027062A1/de active IP Right Grant
- 1997-12-04 EP EP97953736A patent/EP0946514B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-12-04 AU AU57536/98A patent/AU746496B2/en not_active Ceased
- 1997-12-12 IN IN2867MA1997 patent/IN185466B/en unknown
- 1997-12-15 ZA ZA9711238A patent/ZA9711238B/xx unknown
- 1997-12-17 CO CO97073663A patent/CO5011024A1/es unknown
- 1997-12-17 AR ARP970105956A patent/AR008944A1/es active IP Right Grant
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HRP20020438A2 (en) | Process for preparing 4-trifluoromethylsulphinylpyrazole derivative | |
| PL191331B1 (pl) | Sposób wytwarzania N-podstawionych 3-hydroksypirazoli | |
| JP3981153B2 (ja) | Ｎ−置換３−ヒドロキシピラゾールの製造方法 | |
| US4434292A (en) | Process for the preparation of pyrazole | |
| EP0169375B1 (en) | Process for producing 2-tert.-butyl-4,5-dichloro-3(2h)-pyridazinone | |
| CA1255332A (en) | Process for the preparation of 4,4'-dinitrodibenzyls | |
| US5300675A (en) | Process for synthesizing substituted cinnamic acid derivatives | |
| US5550237A (en) | Process for the preparation of carboxyarenesulfonic acids and their carboxylic acid derivatives | |
| US5233082A (en) | Method of making 3-hydroxy-2,4,5-trifluorobenzoic acid | |
| JPH04360879A (ja) | 芳香族トリアゾール類の精製方法 | |
| US4394309A (en) | Process for the preparation of N,N-dimethyl-N-(2-bromo-4-methylphenyl)-triazene | |
| KR100549354B1 (ko) | 케토산의정제방법 | |
| EP2349980B1 (en) | Process for preparing 2-amino-6-nitro-benzoic acid | |
| US20040106829A1 (en) | Process for the synthesis of modafinil | |
| EP1535898A1 (en) | Method of producing aromatic amine compound having alkylthio group | |
| CA2423605A1 (en) | Method for producing 1 substituted 5-chloro-4 methyl pyrazoles | |
| JP2002155033A (ja) | アミノベンジルアルコール類の製造法 | |
| JPH10175958A (ja) | ２−ホルミルイミダゾール誘導体の製造法 | |
| EP1627877A1 (en) | Processes for producing pyrazoloacridone derivative and intermediate therefor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |