LT4534B - Photosensitive composition developable by aqueous base solutions - Google Patents
Photosensitive composition developable by aqueous base solutions Download PDFInfo
- Publication number
- LT4534B LT4534B LT97-161A LT97161A LT4534B LT 4534 B LT4534 B LT 4534B LT 97161 A LT97161 A LT 97161A LT 4534 B LT4534 B LT 4534B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- composition
- weight
- organic
- polymer
- glass
- Prior art date
Links
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
Išradimas priklauso mikroelektronikos sričiai ir yra skirtas storasluoksnių hibridinių mikroschemų elementų (laidininkų, rezistorių, kondensatorių), daugiasluoksnių komutacinių plokščių ir specialios paskirties gaminių (temperatūros, drėgmės, dujų daviklių ir t.t.) charakteristikų pagerinimui bei funkcinių galimybių išplėtimui.The present invention relates to the field of microelectronics and is intended to improve the performance and functional capabilities of high-density hybrid chip elements (conductors, resistors, capacitors), multilayer circuit boards and special purpose products (temperature, humidity, gas sensors, etc.).
Charakteringas audringo šiuolaikinės mikroelektronika vystymosi bruožas nuolat didėjanti gaminių miniatiūrizacija, naujų medžiagų bei technologijų panaudojimas. Vis didesni reikalavimai keliami ir seniai žinomoms, klasikinėmis tapusiomis technologijoms, tame tarpe ir storasluoksnei technologijai, kuri, dėka savo paprastumo ir didelio našumo, šiuolaikinėje hibridinėje mikroelektronikoje yra išsikovojusi tvirtas pozicijas ir nesiruošia jų užleisti.A characteristic feature of the stormy development of modern microelectronics is the ever-increasing miniaturization of products, the use of new materials and technologies. There is a growing demand for well-known classical technologies, including thin-layer technology, which, thanks to its simplicity and high performance, has gained a firm foothold in modern hybrid microelectronics and is not about to lose them.
Storasluoksnės technologijos esmė - specialių daugiakomponenčių kompozicijų, vadinamų pastomis, tepimas per trafaretus ant keraminių pagrindų ir tolesnis jų terminis apdorojimas aukštose temperatūrose (600-1000° C). Pastos, savo ruožtu tai labai smulkių neorganinių komponentų miltelių dispersija inertinėje organinėje terpėje, kuri užtikrina reikiamą visos kompozicijos klampumą, Teologines ir tiksotropines savybes. Terminio apdorojimo metu organinė terpė išdega, ir ant keraminio pagrindo lieka trafaretinio spausdinimo būdu suformuoti hibridinių mikroschemų elementai. Priklausomai nuo pastų neorganinių komponentų sudėties bei jų tarpusavio santykio, šiuo metodu formuojami laidininkai, rezistoriai, kondensatoriai, izoliaciniai sluoksniai, gaminamos daugiasluoksnės komutacinės plokštės bei kiti gaminiai. Pagrindinis storasluoksnės technologijos trūkumas slypi trafaretinio spausdinimo principe. Nepaisant didelės pažangos šioje srityje, trafaretinio spausdinimo būdu praktiškai- neįmanoma suformuoti plonesnius nei 100 mikronų laidininkus, gauti siauresnius nei 100 mikronų tarpus tarp laidininkų arba mažesnes nei 200 mikronų kiaurymes izoliaciniuose sluoksniuose. Masinės gamybos sąlygomis nurodytos ribinės reikšmės yra gerokai didesnės. Todėl, įvertinant gerąsias storasluoksnės technologijos puses, labai aktualu ieškoti galimybių padidinti jos skiriamąją gebą. Viena iš tokių galimybių - disperguoti pastų neorganinių komponentų miltelius šviesai jautrioje organinėje terpėje. Švitinant tokios pastos sluoksnį ant keraminio padėklo didelio intensyvumo ultravioletiniais spinduliais per fotošabloną, kurio skaidrios spinduliavimui zonos atitinka būsimą plėvelinių elementų išsidėstymą, apšviestose vietose vyksta organinės terpės fotopolimerizacija. Eksponuoti tokios šviesai jautrios pastos plotai, skirtingai nuo neapšvitintų, praranda tirpumą ir, paveikus atitinkamu tirpikliu, lieka ant keraminio padėklo. Sekanti technologinė operacija (terminis apdorojimas) nesiskiria nuo įprastinės. Tuo būdu, pakeitus trafaretinį spausdinimą fotocheminiu procesu, žymiai padidėja storasluoksnės technologijos skiriamoji geba. Pirmoji tokio tipo fotopolimerinė kompozicija (pasta) užpatentuota 1975 m. (JAV patentas Nr. 3877950). Šiame patente aprašyta kompozicija, susidedanti iš:The essence of the thin-layer technology is the application of special multicomponent compositions called pastes to stencils on ceramic substrates and their subsequent heat treatment at high temperatures (600-1000 ° C). The paste, in turn, is a powder dispersion of very fine inorganic components in an inert organic medium that provides the required viscosity, theological and thixotropic properties of the entire composition. During the heat treatment, the organic media burns and the ceramic substrate retains the hybrid chip elements formed by stencil printing. Depending on the composition of the inorganic components of the paste and their relationship, this method is used to form conductors, resistors, capacitors, insulating layers, to produce multi-layer switchboards and other products. The main disadvantage of thick-film technology lies in the principle of stencil printing. Despite great advances in this area, screen printing is virtually impossible to form conductors thinner than 100 microns, to obtain a gap between conductors narrower than 100 microns, or to have apertures less than 200 microns in insulating layers. The thresholds for mass production are much higher. Therefore, looking at the benefits of thin-film technology, it is very important to look for ways to increase its resolution. One such option is to disperse the powder of the inorganic components of the paste in a photosensitive organic medium. By irradiating a layer of such a paste on a ceramic substrate with high intensity ultraviolet light through a photocell whose transparent radiation zones correspond to the future distribution of the film elements, photopolymerization of the organic medium takes place in the illuminated areas. The exposed areas of such a photosensitive paste, unlike non-irradiated ones, lose solubility and remain on the ceramic substrate when exposed to the appropriate solvent. The following technological operation (heat treatment) is no different from the conventional one. Thus, replacing screen printing with a photochemical process significantly increases the resolution of the thin-film technology. The first photopolymer composition of this type (paste) was patented in 1975. (U.S. Patent No. 3,877,950). This patent describes a composition comprising:
1) aukso miltelių, kurių dalelių dydis yra nuo 0.4 mikronų iki 4 mikronų;(1) gold powder with a particle size of 0.4 microns to 4 microns;
2) stiklo miltelių, kurie užtikrina aukso adheziją ant keramikos;2) glass powder, which ensures gold adherence to ceramics;
3) inertinio organinio polimero (polimetilmetakrilatas, polietilakrilatas arba jų mišinys);3) an inert organic polymer (polymethyl methacrylate, polyethyl acrylate or a mixture thereof);
4) fotoinicijuojaneios sistemos;4) photoinitiation systems;
5) polifunkcionalaus monomero;5) a polyfunctional monomer;
6) organinio tirpiklio.6) organic solvent.
Polimeras, fotoinicijuojaneios sistemos komponentai ir polifunkcionalus monomeras ištirpinami organiniame tirpiklyje.The polymer, the components of the photoinitiation system and the polyfunctional monomer are dissolved in an organic solvent.
Dispergavus tokiu būdu paruoštoje šviesai jautrioje terpėje aukso ir stiklo miheli'us. gaunama šviesai jautri pasta, kurią tepa per ploną tinkleli ant keraminių pagrindų, džiovina, eksponuoja ultravioletiniais spinduliais per fotošabloną, nuplauna neeksponuotas vietas suslėgto tetrachloretileno srove ir termiškai apdoroja ūkusią ant pagrindo pastą aukštoje temperatūroje konvejerinėje krosnyje.When dispersed in the thus prepared photosensitive medium, the gold and glass miheli. The resulting photosensitive paste is applied to a ceramic substrate through a thin mesh, dried, exposed to ultraviolet light via a photoconductor, washed unexposed areas with a pressurized tetrachlorethylene stream, and heat treated at the substrate with high temperature in a conveyor oven.
Vienas iš šios kompozicijos trūkumų yra tai, kad neeksponuotos pastos pašalinimui nuo keraminio padėklo, vadinamam ryškinimui, naudojamas neekologiškas ir sveikatai kenksmingas organinis tirpiklis - tetrachloretilenas.One of the disadvantages of this composition is the use of a non-organic and health-damaging organic solvent, tetrachlorethylene, to remove unexposed paste from the ceramic substrate, known as a developer.
Šio trūkumo neturi 0.8 % natrio karbonato vandeniniais tirpalais ryškinamos šviesai jautrios aukso laidininkų (JAV patentas Nr.5032478) bei sidabro laidininkų (JAV patentas Nr. 5049480) kompozicijos (pastos).This deficiency is not found in photosensitive gold conductors (US Patent No. 5032478) and silver conductors (US Patent No. 5049480) developed in aqueous solutions of 0.8% sodium carbonate.
Pagal sudėtį ir pasiekiamą rezultatą jos yra artimiausios patentuojamai fotopolimerinei kompozicijai. Abiejų nurodytų patentų išradimo apibrėžtys yra identiškos, išskyrus pirmąjį punktą, kuriame minimi arba aukso, arba sidabro milteliai, todėl abu nurodyti analogai gali būti nagrinėjami kartu. Analoguose aprašytos fotopolimerinės kompozicijos susideda iš:According to the composition and the result obtained, they are closest to the patented photopolymeric composition. The inventions of the two cited patents have the same definitions except for the first claim, which refers to either gold or silver powder, so that the two analogs mentioned can be considered together. The photopolymer compositions described in the analogs consist of:
1) aukso (arba sidabro) miltelių, kurių lyginamasis paviršius yra mažesnis nei 20 m2/g ir ne mažiau kaip 80 % aukso (arba sidabro) dalelių dydis yra 0.5-10 mikronų ribose ir(1) gold powder (or silver) with a reference surface area less than 20 m 2 / g and at least 80% gold (or silver) particle size within the range of 0.5 to 10 microns; and
2) stiklo miltelių (lydymosi temperatūra tarp 500 °C ir 825 °C), kurių lyginamasis paviršius ne didesnis kaip 10 m2/g ir mažiausiai 90 % stiklo dalelių yra mažesnės nei 10 mikronų, disperguotų organiniame rišiklyje, susidedančiame iš2. glass powder (melting point between 500 ° C and 825 ° C) with a reference surface area not exceeding 10 m 2 / g and at least 90% of the glass particles being less than 10 microns dispersed in an organic binder consisting of:
3) organinio polimero;3) an organic polymer;
4) fotoinicijuojaneios sistemos;4) photoinitiation systems;
5) polifunkcionalaus monomero ir5) polyfunctional monomer and
6) organinės terpės, kurioje6) organic media in which
a) organinis polimeras yra alkilakrilatų, alkilmetakrilatų, stirolo arba jų mišinio ir nesočiųjų karboksirūgščių (akrilo, metakrilo) kopolimeras, kurio molekulinė masė mažesnė nei 50000, o komonomero su laisvomis karboksilo grupėmis kiekis kopolimere yra ne mažesnis kaip 15 masės %, kas užtikrina polimero tirpumą vandeniniame dinatrio trioksokarbonato tirpale;(a) The organic polymer is a copolymer of alkyl acrylates, alkyl methacrylates, styrene or a mixture thereof and an unsaturated carboxylic acid (acrylic, methacrylic) with a molecular weight of less than 50,000 and a content of comonomer with free carboxyl groups of 15% or more. aqueous disodium trioxocarbonate solution;
b) fotoinicijuojančią sistemą sudaro benzofenonas ir Michlerio ketonas;b) the photoinitiation system comprises benzophenone and Michler's ketone;
c) polifunkeionalus monomeras yra trimetilolpropano triakrilatas arba polioksietilinto trimetilolpropano triakrilatas;c) the polyfunctional monomer is trimethylolpropane triacrylate or polyoxyethylated trimethylolpropane triacrylate;
d) organinę terpę sudaro organinis tirpiklis (karbitolacetatas arba βterpineolis) bei kiti organiniai komponentai, kurie Įeina (arba gali įeiti) į kompozicijos sudėti (plastifikatoriai, dispersantai, terminės polimerizacijos inhibitoriai, adhezijos promotoriai, pigmentai ir t.t.).d) the organic medium comprises an organic solvent (carbitol acetate or βterpineol) and other organic components which are (or may be) incorporated in the composition (plasticizers, dispersants, thermal polymerization inhibitors, adhesion promoters, pigments, etc.).
Organinis rišiklis paruošiamas tirpinant organiniame tirpiklyje polimerą, fotoiniciatorius ir terminės polimerizacijos inhibitorių. Sprendžiant iš analoguose pateiktų pavyzdžių, geriausi rezultatai gaunami, esant tokiam komponentų santykiui, masės % :The organic binder is prepared by dissolving the polymer, photoinitiators, and thermal polymerization inhibitor in an organic solvent. From the examples given in the analogues, the best results are obtained with the following ratio of components,% by weight:
c/c mctilmetakrilato ir 50.00 % metakrilo rūgšties kopolimeras (M=10000) c / c Copolymer of methyl methacrylate and 50.00% methacrylic acid (M = 10000)
Karbitolacetatas 42.38Carbitol acetate 42.38
Benzofenonas 5.94Benzophenone 5.94
Michlerio ketonas 1.00Michler’s Ketone 1.00
2,6-di-tret-butil-4-metilfenolis 0.682,6-di-tert-butyl-4-methylphenol 0.68
Aukso (arba sidabro) laidininkų formavimui skirtos pastos paruošiamos maišant organinį rišiklį ir polifunkcionalų monomerą (arba jų mišinį) su neorganinių komponentų milteliais. Geriausi rezultatai gaunami, esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis :Gold (or silver) conductive pastes are prepared by mixing an organic binder and a polyfunctional monomer (or a mixture thereof) with a powder of the inorganic components. The best results are obtained with the following ratio of components in parts by weight:
LentelėTable
Po to pastas tepa per ploną tinklelį ant keraminių pagrindų ir džiovina 75-100°C temperatūroje. Šviesai jautrių pastų sauso sluoksnio storis svyruoja tarp 16 mikronų ir 20 mikronų.The paste is then applied through a fine mesh over the ceramic substrates and dried at 75-100 ° C. The dry film thickness of photosensitive pastes ranges from 16 microns to 20 microns.
Organinio tirpiklio ir pastų paruošimo, pastų tepimo ir džiovinimo operacijos atliekamos geltonoje šviesoje, kadangi pastos yra jautrios matomai spektro daliai.Organic solvent and paste preparation, paste lubrication and drying operations are performed under yellow light since the pastes are sensitive to the visible part of the spectrum.
Eksponavimas ultravioletiniais spinduliais atliekamas specialiuose įrenginiuose, prapučiant azotu kamerą, kurioje randasi keraminis pagrindas su šviesai jautrios pastos sluoksniu ir fotošablonas, o po to sudarant joje vakuumą. Tai daroma todėl, kad pastos yra jautrios inhibitoriškam ore esančio deguonies poveikiui ir jų fotopolimerizacija ore nevyksta arba vyksta labai lėtai.Exposure to ultraviolet rays is done in special devices by flushing a nitrogen chamber containing a ceramic substrate with a layer of photosensitive paste and a photographic template and then vacuuming it. This is because the pastes are sensitive to the inhibitory action of airborne oxygen and their photopolymerization in air does not occur or is very slow.
Neeksponuotos pastos sluoksnio sritys nuplaunamos nuo keraminio pagrindo purškiant suslėgtą 0.8 % dinatrio trioksokarbonato vandenini tirpalą, o likusi ant pagrindo pasta išdegama 900 °C temperatūroje konvejerinėje krosnyje.The unexposed areas of the paste layer are washed from the ceramic substrate by spraying with a pressurized aqueous solution of 0.8% disodium trioxocarbonate and the remaining paste is burnt at 900 ° C in a conveyor oven.
Pateiktuose pavyzdžiuose nurodoma, kad aprašytos šv iesai jautrios kompozicijos (pastos) leidžia formuoti 25 mikronų pločio aukso ir sidabro laidininkus, kurių paviršiaus kvadrato varža yra atitinkamai 4.4 mOm/kv ir 2.7 mOm/kv.The examples provided show that the photosensitive compositions described herein allow the formation of 25 micron gold and silver conductors with a surface square impedance of 4.4 mOm / kv and 2.7 mOm / kv respectively.
Analoguose aprašytos šviesai jautrios kompozicijos turi visą eilę trūkumų:The photosensitive compositions described in the analogues have a number of disadvantages:
1) Organinio rišiklio pagrindą sudarantys kopolimerai yra fotochemiškai inertiški ir jų makromolekulės yra grynai mechaniškai fiksuojamos trimatėje erdvinėje struktūroje, susidarančioje vykstant polifunkcionalių monomerų fotopolimerizacijai. Selektyvus tirpumo praradimas apšviestose vietose sistemoje inertinis polimeras - polifunkcionalus monomeras galimas tik esant pakankamai dideliam monomero kiekiui. Analoguose pateiktuose pavyzdžiuose 1 g polimero tenka nuo 0.6 g iki 0.65 g polifunkcionalių, monomerų, tačiau ir šiuo atveju polimeras ryškinimo metu brinksta.1) The organic binder-based copolymers are photochemically inert and their macromolecules are purely mechanically fixed in the three-dimensional structure resulting from the photopolymerization of polyfunctional monomers. Selective loss of solubility in illuminated areas in the system is only possible with an inert polymer-polyfunctional monomer at sufficiently high monomer contents. In the examples provided in the analogs, from 0.6 g to 0.65 g of polyfunctional monomers per gram of polymer, the polymer also swells during development.
2) Kompozicijos yra jautrios matomai spektro daliai, kas apsunkina darbą su jomis ir kelia specialius reikalavimus patalpų apšvietimui. Nepageidautiną jautrumą matomai spektro daliai nulemia fotoinicijuojanti sistema benzofenonas-Michlerio ketonas, kuri taip pat nepasižymi dideliu efektyvumu, palyginus su kitais žinomais fotoiniciatoriais.2) The compositions are sensitive to the visible part of the spectrum, which complicates their work and creates special requirements for indoor lighting. The undesirable sensitivity to the visible part of the spectrum is determined by the benzophenone-Michler ketone photoinitiation system, which also does not exhibit high efficiency compared to other known photoinitiators.
3) Kompozicijos yra jautrios inhibitoriškam deguonies poveikiui, todėl jas eksponuoti reikia inertinėje atmosferoje arba vakuume, naudojant specialius sudėtingus Įrenginius.3) The compositions are sensitive to the inhibitory effects of oxygen and should be exposed in an inert atmosphere or vacuum using special sophisticated devices.
Išradimo uždavinys - sukurti tobulesnę šviesai jautrią vandeniniais bazių tirpalais ryškinamą kompoziciją plėvelinių elementų formavimui storasluoksnės technologijos metodu, kuri būtų nejautri matomai spektro daliai ir inhibitoriškam deguonies poveikiui, pasižymėtų dideliu fotopolimerizacijos greičiu ir didesne skiriamąja geba. Šį uždavinį išsprendžia patentuojama kompozicija pagal apibrėžties 1 punkto bendrąją dalį tuo, kad organinės terpės pagrindą sudarantis polimeras yra fotochemiškai aktyvus, t.y. atlieka ne tik plėvelę sudarančio ir tirpumą vandeniniuose bazių tirpaluose užtikrinančio komponento vaidmenį, bet tuo pačiu yra ir stambiamolekulis polifunkcionalus monomeras, kurio fotopolimerizaciją efektyviai inicijuoja matomai spektro daliai nejautrus fotoiniciatorius, o polimero šoninės grandys su alilo grupėmis ir papildomai į organinę terpę pridėtas organinis disulfidas neutralizuoja inhibitorišką deguonies poveikį esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis:SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a more photosensitive composition based on aqueous base solutions for film forming by a thin-film technology that is insensitive to visible spectrum and inhibitory oxygen, exhibiting high photopolymerization rates and higher resolution. This object is solved by the patentable composition according to the general part of claim 1, wherein the organic polymer-based polymer is photochemically active, i. not only serves as a film-forming and solubility component in aqueous base solutions, but is also a large molecular polyfunctional monomer whose photopolymerization is efficiently initiated by a photo-insensitive photoinitiator, and the polymer side chains with allyl groups and additionally an organic disulfide added to the organic medium effect of oxygen at the following ratio of components, by mass:
Patentuojamos kompozicijos pranašumai pasireiškia tuo, kad visos technologinės operacijos (šviesai jautrios organinės terpės paruošimas, jos sumaišymas su neorganinio užpildo milteliais, gautos kompozicijos tepimas ant keraminių pagrindų ir džiovinimas) gali būti atliekamos išsklaidytoje dienos šviesoje arba esant Įprastam dirbtiniam apšvietimui.Advantages of the patented composition are that all technological operations (preparation of photosensitive organic media, mixing with powder of inorganic filler, application of the resulting composition on ceramic substrates and drying) can be carried out in diffused daylight or under normal artificial light.
Be to, žymiai supaprastėja ir eksponavimo procesas, kadangi nereikia imtis specialių priemonių, siekiant išvengti kompozicijos paviršiaus kontakto su ore esančiu deguonimi. Vykstant fotopolimerizacijai, linijinės polimero makromolekulės, turinčios šonines grandis su akrilo ir alilo grupėmis, sudaro tankią erdvinę struktūrą, todėl apšviestose vietose polimeras tampa visiškai netirpus vandeniniuose bazių tirpaluose. Dėka to atsiranda galimybė padidinti kompozicijos skiriamąją gebą, o panaudotas acilfosfinų klasės fotoiniciatorius leidžia sutrumpinti kompozicijos eksponavimo laiką.In addition, the exposure process is greatly simplified, since no special measures are required to avoid contact of the surface of the composition with airborne oxygen. During photopolymerization, linear polymer macromolecules having side chains with acrylic and allyl groups form a dense spatial structure, rendering the polymer completely insoluble in aqueous base solutions upon illumination. This makes it possible to increase the resolution of the composition, and the use of a photoinitiator of the acylphosphine class allows a shorter exposure time of the composition.
Išradimas toliau aprašomas konkretizuojant išradimo apibrėžtyje minimus neorganinio užpildo bei organinės terpės komponentus ir pateikiant pavyzdžius su eksperimentų rezultatais.The invention is further described by the specification of the components of the inorganic filler and organic media mentioned in the definition of the invention and by the presentation of examples with experimental results.
A. Neorganiniai komponentaiA. Inorganic Components
1) Aukso milteliai, kurių dalelės yra sferinės formos. Specifinis paviršius 0.33 m“/g, dalelių dydis nuo 0.5 mikronų iki 2.0 mikronų, 90 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.85 mikronų.1) Gold powder with spherical particles. Specific surface area 0.33 m ”/ g, particle size 0.5 microns to 2.0 microns, 90% by weight of particles less than 1.85 microns.
2) Sidabro milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Specifinis paviršius 0.8 m /g, dalelių dydis nuo 0.2 mikronų iki 2.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.5 mikrono.2) Silver powder with irregularly shaped particles. Specific surface area 0.8 m / g, particle size 0.2 microns to 2.0 microns, 50 wt% particles smaller than 1.5 microns.
3) Paladžio milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Specifinis paviršius 5 m2/g, dalelių dydis nuo 0.1 mikrono iki 2.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 1.0 mikronas.3) Palladium powder with irregularly shaped particles. Specific surface area 5 m 2 / g, particle size 0.1 micron to 2.0 micron, 50% by weight of particles less than 1.0 micron.
4) Platinos milteliai, kurių dalelės yra netaisyklingos formos. Sperifinis paviršius 0.4 m2/g, dalelių dydis nuo 0.5 mikrono iki 4.0 mikronų, 50 masės % dalelių yra mažesnės nei 2.0 mikronai.4) Platinum powder with irregularly shaped particles. Spherical surface 0.4 m 2 / g, particle size 0.5 microns to 4.0 microns, 50 wt% particles smaller than 2.0 microns.
5) Stiklas Nr.l, lydymosi temperatūra 710-720 °C, esant tokiam komponentų santykiui, molio %:5) Glass No. 1, melting point 710-720 ° C, at the following component ratio, mole%:
6) Stiklas Nr.2, lydymosi temperatūra 660-680 °C, esant tokiam komponentų santykiui, molio % :6) Glass No. 2, melting point 660-680 ° C, with the following component ratio, mole%:
7) Stiklas Nr.3, lydymosi temperatūra 780-795 °C, esant tokiam komponentų santykiui .molio % :7) Glass No. 3, melting point 780-795 ° C, at the following component ratio: mole%:
8) Stiklas Nr.4 - specialus besikristalinantis stiklas tarpsluoksninei izoliacijai, kristalizacijos temperatūra 850 °C.8) Glass No. 4 - special crystallizing glass for interlayer insulation, crystallization temperature 850 ° C.
Visi stiklai buvo malami šlapiu būdu firmos Fritsh planetariniame malūne agato būgnuose 20 valandų, o gauta suspensija frakcionuojama tos pačios firmos vibrosietais. Eksperimentams buvo panaudota smulkiausioji miltelių, nufiltruotų, praplautų acetonu ir išdžiovintų vakuume 50 °C temperatūroje, frakcija. Specifinis miltelių paviršius 6-8 m^/g. 50 masės % dalelių mažesnės nei 1.5 mikrono.All glasses were wet milled on a Fritsh planetary mill in agate drums for 20 hours, and the resulting slurry was fractionated with the same firm's vibrocouples. The smallest fraction of the powders filtered off, washed with acetone and dried in vacuo at 50 ° C was used for the experiments. Specific powder surface 6-8 m ^ / g. 50% by weight of particles smaller than 1.5 microns.
9) Rutenio oksido milteliai buvo gauti termiškai skaidant rutenio (IV) hidroksichloridą. Miltelių specifinis paviršius 10 m^/g, 50 masės % dalelių mažesnės nei 1.0 mikronas.9) Ruthenium oxide powder was obtained by thermal decomposition of ruthenium (IV) hydroxychloride. The powder has a specific surface area of 10 µm / g, 50% by weight of particles smaller than 1.0 micron.
B. Organiniai komponentaiB. Organic Components
1) Polimerai.1) Polymers.
Patentuojamos kompozicijos šviesai jautrios organinės terpės pagrindą sudarančiam polimerui keliama visa eilė reikalavimų. Jis turi būti tirpus vandeniniuose bazių tirpaluose, sudaryti kambario temperatūroje nelipnią plėvelę, užtikrinti reikiamą visos kompozicijos klampumą, aktyviai dalyvauti fotoinicijuotoje radikalinėje polimerizacijoje deguonies turinčioje aplinkoje, o polimero terminė destrukcija turi užsibaigti kaip galima žemesnėje temperatūroje.The patented composition has a number of requirements for a photosensitive organic substrate based polymer. It must be soluble in aqueous base solutions, form a non-stick film at room temperature, provide the required viscosity of the entire composition, actively participate in photoinitiated radical polymerization in an oxygen-containing environment, and terminate at the lowest possible temperature.
Nustatyta, kad šiuos reikalavimus geriausiai atitinka akrilo arba vinilo monomerų ir nesočiųjų karboksirūgščių (akrilo, metakrilo) kopolimerai, kurių molekulinė masė yra nuo 10000 iki 20000, o nesočios karboksirūgšties kiekis kopolimere yra nuo 15 iki 30 masės %.Copolymers of acrylic or vinyl monomers and unsaturated carboxylic acids (acrylic, methacrylic) having a molecular weight of 10,000 to 20,000 and an unsaturated carboxylic acid content of 15 to 30% by weight have been found to meet these requirements best.
Yra žinoma, kad deguonis yra labai aktyvus laisvaradikalinių procesų inhibitorius, tačiau jo Įtaka mažėja, didėjant akrilo monomerų molekulinei masei.Oxygen is known to be a very active inhibitor of free radical processes, but its influence decreases with increasing molecular weight of acrylic monomers.
Taip pat yra žinoma, kad alilo monomerų polimerizacijai, vykstančiai pagal kitą mechanizmą, deguonis Įtakos neturi.It is also known that the polymerization of allyl monomers by other mechanisms is unaffected by oxygen.
Pasinaudojus šiais seniai žinomais principais ir esterifikavus dalj inertinio bazinio kopolimero laisvų karboksi grupių glicidilakrilatu arba glicidilmetakrilatu ir alilglieidiniu eteriu, buvo susintetinti polimerai, pasižymintys dideliu fotocheminiu aktyvumu ir mažai jautrūs inhibitoriškam deguonies poveikiui.Using these long-known principles and esterification of a portion of the free carboxy group glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and allyl glyceride ether of the inert base copolymer, polymers with high photochemical activity and low sensitivity to the inhibitory effect of oxygen were synthesized.
Baziniai kopolimerai pagal apibrėžties 3 ir 4 punktus buvo susintetinti pagal bendrą metodiką, lašinant monomerų mišinį su ištirpintu terminės polimerizacijos iniciatoriumi Į maišomą verdanti izo-propilo spiritą ir tęsiant reakciją inertinėje atmosferoje 18 valandų. Po to į polimero tirpalą pridedami terminės polimerizacijos inhibitorius ir katalizatorius (tretinis aminas arba ketvirtinė amonio bazė), sulašinamas glicidinių monomerų mišinys ir reakcija tęsiama tirpiklio virimo temperatūroje 6 valandas. Reakcijos mišinys atšaldomas, atskiedžiamas izo-propilo spiritu ir. intensyviai maišant, išpilamas į dešimteriopai didesnį vandens tūri.The basic copolymers according to claims 3 and 4 were synthesized according to a general procedure by dropwise addition of a monomer mixture with a dissolved thermal polymerization initiator to a stirred boiling isopropyl alcohol and continued the reaction under an inert atmosphere for 18 hours. Thereafter, a polymerization inhibitor and a catalyst (tertiary amine or quaternary ammonium base) are added to the polymer solution, the mixture of glycidic monomers is added dropwise and the reaction is continued at the boiling point of the solvent for 6 hours. The reaction mixture was cooled, diluted with iso-propyl alcohol and. with vigorous stirring, pour into ten times the volume of water.
Polimero dribsniai filtruojami, plaunami ant filtro vandeniu ir džiovinami 40 °C temperatūroje vakuume 24 valandas. Pagal šią metodiką buvo susintetinti polimerai, sąlyginai pavadinti polimerais A ir B (komponentų kiekis nurodytas mases % ).The polymer flakes were filtered, washed on the filter with water and dried at 40 ° C under vacuum for 24 hours. According to this procedure, polymers conditionally named polymers A and B (content by weight of components) were synthesized.
Polimeras A (M = 15000) Polimeras B fM = 15000)Polymer A (M = 15000) Polymer B (M = 15000)
2) Organinis disulfidas.2) Organic disulfide.
Patentuojamoje kompozicijoje aprašomi polimerai, turintys šonines grandis su akrilo.ir alilo grupėmis, žymiai sumažina organinės terpės jautrumą inhibitoriškam deguonies poveikiui, tačiau galutinai jo nepanaikina.The patented composition describes polymers having side chains with acrylic and allyl groups significantly reduce the sensitivity of the organic medium to the inhibitory action of oxygen, but do not permanently eliminate it.
Yra žinoma,..kad deguonies poveikį neutralizuoja organiniai disulfidai, kurių bendra formulėIt is known .. that the effect of oxygen is neutralized by organic disulfides of the general formula
Ri - CH2 - S - S - CH2 - R2 , aprašyti EP Nr. 0028749, G03C 1/68, 1981.05.20, kurioje Rx ir R2 yra vienodi arba skirtingi alkilo, cikloalkilo, arilo, arilalkilo arba karbamoilalkilo radikalai.Ri-CH 2 -S-S-CH 2 -R 2 described in EP no. 0028749, G03C 1/68, May 20, 1981, wherein R x and R 2 are the same or different alkyl, cycloalkyl, aryl, arylalkyl or carbamoylalkyl radicals.
Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas didodecildisulfidas buvo susintetintas oksiduojant dodecilmerkaptaną geležies (III) chloridu organiniame tirpiklyje. Gauti adatų pavidalo bespalviai kristalai, lydymosi temperatūra 45 °C.The didodecyldisulfide used in the patented formulation was synthesized by oxidation of dodecylmercaptan with iron (III) chloride in an organic solvent. Colorless needles were obtained in the form of needles, melting point 45 ° C.
3) Fotoiniciatorius.3) Photoinitiator.
Šiuo metu yra žinoma labai daug organinių junginių, kurie yra termiškai stabilūs, tačiau generuoja laisvus radikalus pagal vienokį ar kitokį mechanizmą, absorbuodami šviesą· ultravioletinėje arba matomoje spektro dalyje. Galima paminėti antrachinono, fenantrenchinono ir kitų daugiabranduolinių chinonų darinius, λ-dikctonus ir jų dialkilketalius, aciloinus ir jų eterius, akridino, chinoksalino, oksazino, tioksantono darinius ir daugybę kitų įvairių organinių klasių atstovi}.At present, there are many organic compounds known to be thermally stable but which generate free radicals by one or the other mechanism by absorbing light in the ultraviolet or visible part of the spectrum. Mention may be made of anthraquinone, phenanthrenquinone and other multinuclear quinone derivatives, λ-dicctones and their dialkyl ketals, acyloins and their ethers, acridine, quinoxaline, oxazine, thioxanthone derivatives and many other organic classes}.
Vieni iš efektyviausių šiuo metu žinomų fotoiniciatorių yra acilfosfinų klasės junginiai, aprašyti EP Nr.0040721. CO7F 9/50, 1981.12.12.One of the most effective photoinitiators currently known is the acylphosphine class of compounds described in EP 0040721. CO7F 9/50, 12.12.1981.
Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas 2,6-dimetoksibenzoildifenilfosfinas buvo susintetintas pagal šią metodiką:The 2,6-dimethoxybenzoyl diphenylphosphine used in the patented composition was synthesized according to the following procedure:
Keturgurklčje kolboje su hermetine maišykle, grįžtamuoju šaldytuvu, lašinamuoju piltuvu ir vamzdeliu dujoms leisti oras išstumiamas sausu argonu ir 500 ml bevandenio dietilo eterio ištirpinama 46.5 g difenilfosfino ir 25 g trietilamino.In a four-flask flask fitted with an air-tight stirrer, reflux condenser, a dropping funnel and a bubbling tube, purge the air with dry argon and dissolve 46.5 g of diphenylphosphine and 25 g of triethylamine in 500 ml of anhydrous diethyl ether.
Maišant tirpalą ir palaikant ne aukštesnę kaip 20 °C temperatūrą sulašinamas 50 g 2,6- dimetoksibenzoilchlorido tirpalas 100 ml sauso dietilo eterio. Reakcijos mišinys virinamas inertinėje atmosferoje 5 valandas, po to atšaldomas, nufiltruojamas susidaręs trietilamino hidrochloridas, o filtratas nugarinamas rotaciniame garintuve. Abejingas likutis valomas chromatografiškai kolonėlėje su silikageliu, eliuentas - toluenas/eteris (2:1).50 g of 2,6-dimethoxybenzoyl chloride solution in 100 ml of dry diethyl ether are added dropwise while stirring and maintaining the temperature at 20 ° C. The reaction mixture is refluxed for 5 hours, then cooled, the resulting triethylamine hydrochloride is filtered off and the filtrate is evaporated on a rotary evaporator. The residue is purified by column chromatography over silica gel, eluting with toluene / ether (2: 1).
Išeiga 17 g (10 % teorinės). Lydymosi temperatūra 113-115 °C λ max=336 nm.Yield: 17 g (10% of theory). Melting point 113-115 ° C λ max = 336 nm.
Apskaičiuota, %: C 72.0 H 5.43 P 8.86Calculated,%: C 72.0 H 5.43 P 8.86
Rasta, %: C 71.7 H 5.4 P 8.7Found,%: C 71.7 H 5.4 P 8.7
4) Tirpiklis4) Solvent
Šviesai jautrių kompozicijų sudėtyje esantis organinis tirpiklis turi gerai tirpinti visus organinius komponentus, jis turi būti mažai lakus kambario temperatūroje ir pakankamai greitai išgaruoti 80-100 °C temperatūroje. Dažniausiai naudojami tirpikliai yra terpenai (a ir β-terpineolis), karbitolacetatas, butilkarbitolacetatas, aukštesniųjų alkoholių esteriai. Nustatyta, kad patentuojamai kompozicijai tinkamiausias tirpiklis yra benzilo spiritas.The photosensitive composition of the organic solvent must dissolve all the organic components well, be low volatile at room temperature, and evaporate sufficiently quickly at 80-100 ° C. The most commonly used solvents are terpenes (a and β-terpineol), carbitol acetate, butylcarbitol acetate, higher alcohol esters. Benzyl alcohol has been found to be the most suitable solvent for the patented composition.
5) Terminės polimerizacijos inhibitorius turi užtikrinti visos kompozicijos stabilumą, ypač džiovinimo metu. Nustatyta, kad tinkamiausias inhibitorius yra 2,6di-tret-butil-1,4- krezolis.5) The thermal polymerization inhibitor must ensure stability of the whole composition, especially during drying. 2,6di-tert-butyl-1,4-cresol has been found to be the most suitable inhibitor.
Šviesai jautri organinė terpė paruošiama tirpinant benzilo spirite likusius organinius komponentus 60 °C temperatūroje. Klampus tirpalas perkošiamas per tankų nerūdijančio plieno tinkleli ir atšaldomas.The photosensitive organic medium is prepared by dissolving the remaining organic components in benzyl alcohol at 60 ° C. The viscous solution is passed through a dense stainless steel mesh and cooled.
Šiuo būdu buvo paruoštos tolimesniuose eksperimentuose panaudotos organinės terpės, esant tokiam komponentų santykiui, masės dalimis:In this way, the organic media used in the following experiments were prepared in the following proportions by weight:
LentelėTable
Pastaba: Organinėje terpėje IV panaudota analoguose aprašyta fotoinicijuojanti sistema benzofenonas/Michlerio ketonas, siekiant palyginti fotoiniciatorių efektyvumą.Note: Organic media IV uses the benzophenone / Michler ketone photoinitiation system described in the analogues to compare the efficacy of photoinitiators.
Šviesai jautrios kompozicijos pagal apibrėžties 9-14 punktus buvo paruoštos maišant neorganinių komponentų miltelius su šviesai jautria organine terpe. Pirminis sumaišymas atliekamas rankiniu būdu agato grūstuvėliuose, o galutinis specialioje trijų velenų maišyklėje, kuri užtikrina tolygų neorganinio užpildo miltelių pasiskirstymą organinėje terpėje.The photosensitive compositions according to claims 9-14 were prepared by mixing the powder of the inorganic components with the photosensitive organic medium. The initial mixing is done manually in an agate mortar, and the final mixing in a special three-shaft mixer which ensures an even distribution of the inorganic filler powder in the organic medium.
Paruoštos tokiu būdu šviesai jautrios kompozicijos buvo tepamos per nerūdijančio plieno tinkleli (tinklelio storis 80 mikronų, siūlo storis 40 mikronų, akučių dydis 90x90 mikronų) ant aliuminio oksido keramikos pagrindų, naudojant įprastą technologinę įrangą.The photosensitive compositions prepared in this way were applied over a stainless steel mesh (80 microns mesh, 40 microns mesh, 90x90 microns mesh) on alumina ceramic substrates using conventional technology.
Užteptos ant pagrindų kompozicijos buvo džiovinamos 10 minučių 100 °C temperatūroje elektrinėse krosnyse, o po to eksponuojamos per specialų fotošabloną, leidžiantį įvertinti tiriamų kompozicijų bei jų pagrindu suformuotų plėvelinių elementų charakteristikas (skiriamąją gebą, specifinę varžą, adheziją ir t.t.).The substrate compositions were dried for 10 minutes at 100 ° C in electric furnaces and then exposed through a special photo template to evaluate the properties (resolution, specific resistivity, adhesion, etc.) of the compositions under investigation and of the substrates formed therefrom.
Šviesos šaltinis, panaudotas eksponavimo įrenginyje - Philips halogeninė 1000 W lempa HPA1000, kurios emisijos spektras sukoncentruotas 320-400 nm srityje. Optimalus eksponavimo laikas kiekvienai kompozicijai buvo nustatytas eksperimentiškai, įvertinant rezultatus, gautus išryškinus, t.y. nuplovus nuo padėklo neeksponuotas kompozicijos sluoksnio sritis.The light source used in the exhibit is the Philips halogen 1000W HPA1000 halogen lamp with an emission spectrum concentrated in the 320-400 nm range. The optimum exposure time for each composition was determined experimentally by evaluating the results obtained by focusing, i.e. flushing unexposed areas of the composition layer from the substrate.
Ryškinimas buvo atliekamas specialiame Įrenginyje, purškiant ant besisukančio 3000 aps/min greičiu padėklo su eksponuotos pastos sluoksniu 0.5 % monoetanolamino vandeninio tirpalo aerozolį. Paduodamo Į purškimo galvutę tirpalo ir suspausto oro slėgius galima reguliuoti plačiose ribose, n purškimo trukmę reguliuoti 0.1 sekundės tikslumu. Tipinis ryškinimo laikas yra nuo 2 iki 5 sekundžių, kai tirpalo slėgis 1.5 baro, o oro slėgis 2,5 baro. Pasibaigus ryškinimo ciklui, likusi ant padėklo kompozicija plaunama tame pačiame įrenginyje 2-3 sekundes distiliuotu vandeniu, o po to džiovinama 10-15 sekundžių, esant tam pačiam sukimosi greičiui.The clarification was performed on a special machine by spraying an aerosol of 0.5% aqueous solution of monoethanolamine on a rotating pad at 3000 rpm. The pressures of solution and compressed air delivered to the nozzle head can be adjusted over a wide range, and the nozzle duration can be adjusted in 0.1 second increments. Typical development times are between 2 and 5 seconds at a solution pressure of 1.5 bar and an air pressure of 2.5 bar. At the end of the development cycle, the rest of the composition on the substrate is washed in the same machine for 2-3 seconds with distilled water and then dried for 10-15 seconds at the same rotation speed.
Pagamintos tokiu būdu testinės struktūros buvo termiškai apdorotos elektrinėje konvejerinėje krosnyje, išlaikant jas maksimalioje 850 °C temperatūroje 15 minučių.The test structures produced in this way were heat treated in an electric conveyor furnace for a maximum of 850 ° C for 15 minutes.
Eksperimentų rezultatai pateikti lentelėje Nr.3, komponentų kiekiai nurodyti masės dalimis.The results of the experiments are shown in Table 3, the amounts of the components being given in parts by weight.
Sugretinus kompozicijų Nr.2.3,4 ir 5, besiskiriančių tik organinės terpės sudėtimi, bandymų rezultatus, galima padaryti šias išvadas:Comparison of the results of the tests of compositions Nos. 2,3,4 and 5, which differ only in the composition of the organic medium, leads to the following conclusions:
1) Polimerų, turinčių šonines grandis su akrilo grupėmis (kompozicija Nr.4), fotocheminis aktyvumas didesnis, nei polimerų su šoninėmis metakrilo grupėmis (kompozicija Nr.2).1) The photochemical activity of polymers having side chains with acrylic groups (composition No. 4) is higher than that of polymers with side methacrylic groups (composition No. 2).
2) Panaudojus tą patį polimerą, organinio disulfido priedas pilnai neutralizuoja inhibitorišką deguonies poveikį ir 3 kartus sutrumpina eksponavimo laiką (kompozicijos Nr.3 ir 4).2) Using the same polymer, the organic disulfide additive completely neutralizes the inhibitory effect of oxygen and shortens the exposure time 3 times (compositions 3 and 4).
3) Patentuojamoje kompozicijoje panaudotas fotoiniciatorius yra žymiai efektyvesnis už analoguose aprašytą fotoinicijuojančią sistemą benzofenonas/Michlerio ketonas (kompozicijos Nr.4 ir 5).3) The photoinitiator used in the patented composition is significantly more effective than the benzophenone / Michler ketone photoinitiation system described in the analogs (Compositions Nos. 4 and 5).
Kompozicijos Nr.l, 4 ir 6 leidžia formuoti itin siaurus laidininkus storasluoksnės technologijos metodu, kas žymiai praplečia jos galimybes ir pritaikymo sritį.Compositions Nos. 1, 4 and 6 allow the formation of ultra-narrow conductors by the method of thick-layer technology, which significantly extends its capabilities and application range.
Panaudojus kompozicijas Nr.l (arba Nr.5) ir Nr.8, galima formuoti pakaitomis einančius komutacinius ir izoliacinius sluoksnius ir pagaminti ypač didelio integracijos laipsnio daugiasluoksnes komutacines plokštes.By using compositions No. 1 (or No. 5) and No. 8, alternating switching and insulating layers can be formed and multi-layer switching boards of extremely high degree of integration can be produced.
Kompozicijos Nr.7 ir Nr.9 gali būti panaudotos miniatiūrinių temperatūros daviklių su dideliu temperatūriniu varžos koeficientu gamybai.Compositions Nos. 7 and 9 can be used for the manufacture of miniature temperature sensors with high temperature resistance.
Pastaba: Kompozicijai Nr.8 nurodyta skiriamoji geba reiškia, kad izoliaciniame sluoksnyje galima suformuoti 50x50 mikronų dydžio kiaurymę.Note: The resolution indicated for composition # 8 means that a 50x50 micron hole can be formed in the insulating layer.
Claims (14)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
LT97-161A LT4534B (en) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Photosensitive composition developable by aqueous base solutions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
LT97-161A LT4534B (en) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Photosensitive composition developable by aqueous base solutions |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
LT97161A LT97161A (en) | 1999-04-26 |
LT4534B true LT4534B (en) | 1999-08-25 |
Family
ID=19721902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
LT97-161A LT4534B (en) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | Photosensitive composition developable by aqueous base solutions |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
LT (1) | LT4534B (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6803093B2 (en) * | 2000-03-14 | 2004-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Ceramic blank with a photostructurable functional layer containing platinum and method for production thereof |
LT5390B (en) | 2005-10-24 | 2006-12-27 | Uždaroji Akcinė Bendrovė "Energetikos Tiekimo Bazė" | Complete set for transportation of irrediated fuel assemblies of nuclear reactor |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US502478A (en) | 1893-08-01 | Attachment for machines for sewing looped fabrics | ||
US3877950A (en) | 1974-03-21 | 1975-04-15 | Du Pont | Photosensitive gold compositions |
EP0028749A2 (en) | 1979-11-07 | 1981-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerisable composition and photopolymerisable recording material made therewith |
EP0040721A2 (en) | 1980-05-27 | 1981-12-02 | BASF Aktiengesellschaft | Acyl phosphine compounds and their application |
US5049480A (en) | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
-
1997
- 1997-10-07 LT LT97-161A patent/LT4534B/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US502478A (en) | 1893-08-01 | Attachment for machines for sewing looped fabrics | ||
US3877950A (en) | 1974-03-21 | 1975-04-15 | Du Pont | Photosensitive gold compositions |
EP0028749A2 (en) | 1979-11-07 | 1981-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerisable composition and photopolymerisable recording material made therewith |
EP0040721A2 (en) | 1980-05-27 | 1981-12-02 | BASF Aktiengesellschaft | Acyl phosphine compounds and their application |
US5049480A (en) | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6803093B2 (en) * | 2000-03-14 | 2004-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Ceramic blank with a photostructurable functional layer containing platinum and method for production thereof |
LT5390B (en) | 2005-10-24 | 2006-12-27 | Uždaroji Akcinė Bendrovė "Energetikos Tiekimo Bazė" | Complete set for transportation of irrediated fuel assemblies of nuclear reactor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LT97161A (en) | 1999-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2723975B2 (en) | Photosensitive ceramic coating composition | |
DE3429615C1 (en) | Process for producing patterns consisting of powders | |
KR100392867B1 (en) | Plasma Display Panel Device and Method of Fabricating the Same | |
EP0568853B1 (en) | Photoenhanced diffusion patterning for organic polymer films | |
JPH0323514B2 (en) | ||
KR100803498B1 (en) | Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof | |
EP0277915A2 (en) | Photoinitiator mixture containing a titanocene and a 3-ketocoumarin | |
JPH03210703A (en) | Sensitive copper conductor composite allowing water developing | |
JP2006108072A (en) | Positive type photosensitive paste composition for plasma display panel electrode formation, film manufactured using the same, plasma display panel electrode and plasma display panel | |
KR100635430B1 (en) | Aqueous developable photoimageable thick film compositions | |
JPH083057B2 (en) | Semi-aqueous developable photosensitive copper conductor composition and method for producing the same | |
JPH03171690A (en) | Photosensitive metal conductor composite allowing water development | |
JP2723974B2 (en) | Semi-aqueous developable photosensitive ceramic coating composition | |
DE69607569T2 (en) | PHOTO SENSITIVE PASTE AND PLASMA DISPLAY, AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF | |
JP4303110B2 (en) | Aqueous developable photoimageable thick film composition containing a photospeed accelerator | |
JP4240577B2 (en) | Dielectric paste and display substrate manufacturing method using the same | |
KR20040073991A (en) | Electrode-forming composition for field emission type of display device, and method using such a composition | |
KR100540967B1 (en) | Aqueous developable photoimageable thick film compositions for making photoimageable black electrodes | |
LT4534B (en) | Photosensitive composition developable by aqueous base solutions | |
JP4214563B2 (en) | Inorganic fine particles, photosensitive paste and plasma display manufacturing method | |
JP2680726B2 (en) | Semi-aqueous developable photosensitive gold conductor composition | |
KR20000005964A (en) | Barrier diffusion forming method | |
KR20110014673A (en) | Photosensitive paste and sintered layer | |
JP2004345917A (en) | Inorganic material membrane, inorganic material membrane structure, method for manufacturing the same and transfer film | |
JPH02230153A (en) | Composition for photosensitive ceramic coating and manufacture thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PC9A | Transfer of patents |
Owner name: VALENTINAS BALTRUSAITIS, , , LT Effective date: 20041115 |
|
MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20061007 |