KR980005328A - 반사굴절 광학계 - Google Patents
반사굴절 광학계 Download PDFInfo
- Publication number
- KR980005328A KR980005328A KR1019970021294A KR19970021294A KR980005328A KR 980005328 A KR980005328 A KR 980005328A KR 1019970021294 A KR1019970021294 A KR 1019970021294A KR 19970021294 A KR19970021294 A KR 19970021294A KR 980005328 A KR980005328 A KR 980005328A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- optical system
- lens group
- imaging optical
- light
- imaging
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
상측(傷惻)에 있어 충분히 큰 개구수 및 작동거리를 갖고, 자외선 파장영역에서 쿼터 미크론 단위의 해상도를 갖는 소형 반사굴절 광학계를 제공코자 하는 것으로, 물체면으로부터의 빛에 의거하여 물체면의 중간상을 형성하기 위한 제 1 결상광학계S1과, 상기 중간상으로부터 빛에 의거하여 물체면의 축소상을 형성하기 위한 제 2 결상광학계S2와, 중간상이 형성되는 위치의 근방에 배치되어 상기 제 1 결광학계S1을 거친 빛을 상기 제 2 결상광학계S2를 향해서 편향하기 위한 제 1 광로편향부재M1과를 구비하고 있다. 제 1 결상광학계S1은 요면(凹面)반사경CM을 갖고, 물체면으로부터의 빛은 상기 요면반사경CM에서 반사된 후에, 상기 제 1 결상광학계S1의 광로중에 중간상을 형성하고, 조건식(1) 및 (2)를 만족한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1 실시예에 있어서 반사굴절 광학계의 렌즈 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
Claims (7)
- 물체면으로부터의 빛에 의거하여 상기 물체면의 중간상을 형성하기 위한 제 1 결상광학계S1과, 상기 중간상으로부터의 빛에 의거하여 상기 물체면의 축소상을 형성하기 위한 제 2 결상광학계S2와, 상기 중간상이 형성되는 위치의 근방에 배치되어 상기 제 1 결상광학계을 거친 빛을 상기 제 1 결상광학계S2를 향해서 편향하기 위한 제 1 광로편향부재M1를 구비하고, 상기 제 1 결상광학계S1은 요면(凹面)반사경CM을 갖고, 상기 물체면으로부터의 빛은 상기 요면반사경CM에서 반사된 후에 , 상기 제 1 결상광학계S1의 광로중에 상기 중간상을 형성하고, 상기 제 1 광로편향부재M1은, 상기 제 1 결상광학계S1의 광로중에 배치된 평면반사경을 가지며, 상기 제 1 결상광학계S1의 결상배율을 β1으로 하고, 상기 제 1 결상광학계S1의 광축과 상기 제 2 결상광학계S2의 광축과의 교점과 상기 물체면과의 사이의 축상거리를 L1으로 하며, 상기 물체면과 상기 요면반사경CM과의 사이의 축상거리를 LM으로 하였을 때.0.75 〈 |β1 | 〈 0.950.13 〈 L1 / LM 〈 0.35의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 결상광학계S1은, 물체측으로부터 순서대로, 제 1 렌즈군G1과 제 2 렌즈군G2와, 상기 요면반사경CM과를 갖고, 상기 물체면으로부터의 빛은, 상기 제 1 렌즈군G1 및 상기 제 2 렌즈군G2를 거쳐 상기 요면반사경CM에서 반사된 후에, 상기 제 1 렌즈군G1과 상기 제 2 렌즈군G2와의 사이의 광로중에 상기 중간상을 형서하는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군G2는 적어도 2개의 서로 다른 부굴절력(負屈折力)을 갖는 굴절소자와, 적어도 2개의 서로 다른 정(正)굴절력을 갖는 굴절소자를 가지는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
- 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 렌즈군G1은 적오도 세 개의 서로 다른 굴절력을 갖는 굴절소자를 갖는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
- 제 1 항 내지 제 4 항의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 결상광학계S2는, 물체측으로부터 순서대로, 전체로서는 정(正)의 굴절력을 갖는 제 3 렌즈군G3과,그 제 3렌즈군을 거친 빛을 편향하기 위한 제 2 광로 편향부재 M2와 및 전체로서 정(正)의 굴절력을 갖는 제 4 렌즈군G4를 가지며, 상기 중간상으로부터의 빛은, 상기 제 3 렌즈군G3, 상기 제 2 광로편향부재M2 및 상기 제 4 렌즈군G4를 거쳐서 상기 물체면의 축소상을 형성하는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
- 제 1 항 내지 제 5 항의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 반사굴절 광학계를 구성하는 굴절소자는 석영 및 형석중 적어도 어느 한쪽의 광학재료로 형성된 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.
- 제 2 항 내지 제 6 항의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제 2 렌즈군G2는 적어도 하나의 형석으로 이루어진 정(正) 렌즈를 갖고, 상기 제 2 렌즈군G2중의 형석으로 이루어진 정(正) 렌즈의 굴절력의 총합을øc로 하고, 상기 요면반사경CM의 굴절력을 øm으로 하였을 때.0.5 〈 |øc / øm | 〈 1.6의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 반사굴절 광학계.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP180013/1996 | 1996-06-20 | ||
JP8180013A JPH1010431A (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 反射屈折光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR980005328A true KR980005328A (ko) | 1998-03-30 |
Family
ID=16075939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970021294A KR980005328A (ko) | 1996-06-20 | 1997-05-28 | 반사굴절 광학계 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1010431A (ko) |
KR (1) | KR980005328A (ko) |
DE (1) | DE19726058A1 (ko) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09311278A (ja) | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP3395801B2 (ja) | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
USRE38438E1 (en) | 1994-08-23 | 2004-02-24 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same |
JPH08179204A (ja) | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
JP3454390B2 (ja) | 1995-01-06 | 2003-10-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
EP1079253A4 (en) | 1998-04-07 | 2004-09-01 | Nikon Corp | DEVICE AND PROCESS FOR PROJECTION EXPOSURE, AND OPTICAL SYSTEM WITH REFLECTION AND REFRACTION |
EP1293832A1 (en) * | 1998-06-08 | 2003-03-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
DE69933973T2 (de) | 1998-07-29 | 2007-06-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung |
US6995930B2 (en) | 1999-12-29 | 2006-02-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with geometric beam splitting |
WO2002044786A2 (en) * | 2000-11-28 | 2002-06-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection system for 157 nm lithography |
TW538256B (en) | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
JP4532647B2 (ja) | 2000-02-23 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
US7301605B2 (en) * | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
DE10127227A1 (de) | 2001-05-22 | 2002-12-05 | Zeiss Carl | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv |
US7046459B1 (en) | 2001-12-18 | 2006-05-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric reductions lens |
US8208198B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
US20080151365A1 (en) | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
KR20140138350A (ko) | 2004-05-17 | 2014-12-03 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈 |
DE102005033564A1 (de) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder eines digitalen Projektionssystems |
-
1996
- 1996-06-20 JP JP8180013A patent/JPH1010431A/ja active Pending
-
1997
- 1997-05-28 KR KR1019970021294A patent/KR980005328A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-06-19 DE DE19726058A patent/DE19726058A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19726058A1 (de) | 1998-01-02 |
JPH1010431A (ja) | 1998-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR980005328A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR980005325A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR980005330A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR960024506A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
KR960029910A (ko) | 반사굴절 축소 투영 광학계 및 그를 사용하는 노광 장치 | |
US5341186A (en) | Active autofocusing type rangefinder optical system | |
KR980005327A (ko) | 반사굴절 축소 광학계 | |
KR960029883A (ko) | 뷰파인더광학계 | |
KR100499880B1 (ko) | 광학소자, 이것을 가진 주사광학계 및 화상형성장치 | |
KR900002098A (ko) | 광주사장치 및 비대칭 비구면 주사렌즈 | |
EP1059550A4 (en) | REFRACTION REFLECTION IMAGE FORMING SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS INCLUDING THE OPTICAL SYSTEM | |
KR960018769A (ko) | 투영 광학 시스템 및 투영 노광장치 | |
KR970002390A (ko) | 반사광 변조기용 오프셋 줌 렌즈 | |
EP0869383A3 (en) | Catadioptric optical system | |
KR970071147A (ko) | 투영 광학계 및 노광 장치 | |
US5052767A (en) | Optical beam scanning system | |
EP0528969A1 (en) | Unit magnification optical system with improved reflective reticle | |
KR960024489A (ko) | 반사굴절 광학계 | |
US6069749A (en) | Catadioptric reduction optical system | |
CA2215691A1 (en) | Scanning lithography system having double pass wynne-dyson optics | |
KR970048668A (ko) | 사진 렌즈 광학계 | |
JPH04326315A (ja) | 投射光学系及びそれを有する光学機器 | |
KR980005331A (ko) | 반사굴절 광학계 및 그 조정 방법 | |
KR980005326A (ko) | 반사 굴절 광학계 | |
JP2000171741A (ja) | 光走査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |