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KR960007778B1 - Electroplating apparatus of radial shape and the method therefor - Google Patents

Electroplating apparatus of radial shape and the method therefor Download PDF

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Publication number
KR960007778B1
KR960007778B1 KR1019930028495A KR930028495A KR960007778B1 KR 960007778 B1 KR960007778 B1 KR 960007778B1 KR 1019930028495 A KR1019930028495 A KR 1019930028495A KR 930028495 A KR930028495 A KR 930028495A KR 960007778 B1 KR960007778 B1 KR 960007778B1
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KR
South Korea
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roll
drum
strip
electrolyte
anode
Prior art date
Application number
KR1019930028495A
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KR950018685A (en
Inventor
조영봉
김재봉
조영호
Original Assignee
포항종합제철 주식회사
김종진
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Publication date
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Abstract

This process is used for electroplating of zinc or another metal on the surface of metal strip(14). The plating device having not less than one cell consists of tank(1) containing salt bath or sulphate bath electrolyte(2), elastic polymer drum(18) with reeled metal strip(14), soluble or insoluble anode(23), nozzles(25, 26) for spray of electrolyte in inverse direction from circulating direction of strip(14) and drum(18), deflector roll(13) of elastic polymer, conductor roll(10) and back-up roll(11) for supply of cathode potential. The conductor roll(10) and back-up roll(11) is equipped for circulating in the parallel direction of drum shaft(9) between drum(18) and deflector roll(13). And the surface pollution of strip(14) on the deflector roll(13) prevents by removing of plating solution on the strip surface with conductor roll(10) and back-up roll(11) as mentioned above.

Description

레이디얼형 전기도금장치 및 그 도금방법Radial Electroplating Apparatus and Plating Method

제1도는 일반적인 레이디얼형 전기도금장치를 도시한 구성도.1 is a block diagram showing a general radial electroplating apparatus.

제2도는 제1도의 양측구조를 도시한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view showing both sides of FIG.

제3도는 a) b)도는 전도체롤의 불균일 프로파일(profile)에 의한 스트립의 결합발생을 도시한 도면.3 shows a) b) b) bonding of strips due to non-uniform profiles of conductor rolls.

제4도는 본 발명에 따른 전기도금장치의 단면도.4 is a cross-sectional view of an electroplating apparatus according to the present invention.

제5도는 본 발명의 전기도금장치에 갖춰진 2개의 연속전해셀을 도시한 도면.5 shows two continuous electrolytic cells provided in the electroplating apparatus of the present invention.

제6도는 본 발명의 전기도금장치에 갖춰진 디프로렉터롤이 변형된 상태를 도시한 도면이다.6 is a diagram showing a state in which the deprotor roller provided in the electroplating apparatus of the present invention is deformed.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 탱크 2 : 전해액1: tank 2: electrolyte

5,14 : 스트립 3,10 : 전도체롤5,14 strip 3,10 conductor roll

11 : 백업롤(Back-up Roll) 13 : 디플렉터롤(Deflector Roll)11: Back-up Roll 13: Deflector Roll

18 : 드럼(Drum) 23 : 양극18 Drum 23 Anode

25,26 : 노즐(Nozzle)25,26: Nozzle

본 발명은 금속 스트립의 전기도금 장치 < 그 도금방법에 관한 것으로서, 특히 금속 스트립의 한 표면에 아연 또는 다른 금속을 전기도금하기 위한 레이디얼형 도금장치와 이를 이용한 전기아연도금강판을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electroplating apparatus for metal strips <the plating method thereof, and more particularly to a radial plating apparatus for electroplating zinc or another metal on one surface of a metal strip, and to a method for manufacturing an electrogalvanized steel sheet using the same. It is about.

일반적으로 도금된 금속쉬트 또는 코일에 대한 수요가 요구와 칫수특성, 도금조성등에 대한 제품의 다양성은 도금제품의 제작자로 하여금 고품질을 보증하고 수요가 요구특성을 만족시키도록 우수한 표면처리강판을 제공할 수 있는 도금강판 제조방법 및 장치를 추구하고 있다.In general, the demand for plated metal sheets or coils demands, dimensional characteristics, and the variety of products for plating composition can provide the producers of plated products with excellent surface treatment steel sheet to guarantee high quality and to meet the demand characteristics. Pursuing a method and apparatus for manufacturing a coated steel sheet.

이러한 수요가의 추세에 따른 도금장치 및 그 제조방법은 순 아연도금 뿐만 아니라 니켈 또는 철을 함유하는 아연합금으로 구성된 고품질의 편면도금 또는 양면도금을 포함하는 금속쉬트의 생산이 가능해야 할 것이며, 또한 도금 처리된 금속쉬트는 양호한 칫수여유와 기계적 성질이 적합하고 균일한 두께의 도금층을 나타내야 할 것이다. 특히, 상기 금속쉬트는 제품의 외관품질을 저해시키는 전도체롤에 의한 밴드마크(Band Mark), 아크 스포트(arc spot), 도금흐름무늬등이 나타나지 않아야 한다.The plating apparatus and its manufacturing method according to the trend of this demand should be capable of producing a metal sheet including high-quality single-sided or double-sided plating composed of zinc alloys containing nickel or iron as well as pure zinc plating. The plated metal sheet should show a plated layer of uniform thickness with good dimension and mechanical properties. In particular, the metal sheet should not show band marks, arc spots, plating flow patterns, etc. due to conductor rolls that hinder the appearance quality of the product.

그러나, 현재 공지된 전기도금장치 및 방법은 상기와 같은 다양한 수요가의 요구특성을 충족시키지 못한다.However, currently known electroplating apparatuses and methods do not meet the demand characteristics of such various demands.

전형적인 레이디얼형 도금장치는 미합중국 특허 제 3,483,113호 및 제 3,634,223호에 기술되어 있다.Typical radial plating apparatuses are described in US Pat. Nos. 3,483,113 and 3,634,223.

상기 특허들에 기술된 형태의 도금장치는 제1도에 도식적으로 설명되어 있다.The plating apparatus of the type described in the above patents is schematically illustrated in FIG.

이들 장치는 전해액 또는 도금액(2)을 포함하는 탱크(1), 도금액에 일부 잠겨있는 전도체롤(3) 및 탱크(1) 상부에 서로 마주보도록 위치된 업패스(Up-Pass) 및 다운 패스(Down-Pass) 디플렉터롤(4) 등으로 구성된다.These devices include a tank 1 comprising an electrolyte solution or a plating solution 2, a conductor roll 3 partially immersed in the plating solution, and an up-pass and a down-pass positioned to face each other on top of the tank 1. Down-Pass) deflector roll 4 or the like.

이들 장치는 또한 주양극(6)에 의해 지지되는 가용성양극(7)을 포함하고 있으며, 주양극(6)과 가용성양극(7) 모두다 도금액에 잠겨 있고, 선택적으로 외부물질을 제거하기 위하여 전도체롤(3)에 접촉하는 롤연마기(8)를 포함할 수 있다. 금속스트립이 전도체롤(3)을 따라 움직이는 동안에 전기전도로 인하여 도금금속이 가용성양극(7)으로부터 금속스트립의 외부에 도금된다.These devices also include a soluble anode (7) supported by the main anode (6), both the main anode (6) and the soluble anode (7) are immersed in the plating solution, and optionally a conductor to remove foreign matter. It may comprise a roll grinder 8 in contact with the roll 3. While the metal strip moves along the conductor roll 3, the plated metal is plated from the soluble anode 7 to the outside of the metal strip due to the electrical conduction.

상기 레이디얼형 도금셀은 특히, 스트립의 편측만의 도금수행이 가능하고 또한 스트립 면의 각각에 다른 금속의 도금을 수행하기에 유용하다. 상기와 같은 전도체롤(3)의 구조는 제2도에 도시되어 있다. 상기 전도체롤(3)은 가운데가 빈 금속실린더(3a), 금속실린더(3a)의 외부둘레의 중간에 있는 전도체링(3b) 및, 전도체링(3b)의 양축에 있는 탄성중합체 라이닝(3c)을 포함하고 있다. 또한 전도체롤의 내부는 화살표방향(3d)으로 도금 전류에 의해 생성되는 주울(Joule)열을 흡수하기 위한 냉각수가 순환된다.The radial plating cell is particularly capable of plating only one side of the strip and is also useful for plating another metal on each of the strip faces. Such a structure of the conductor roll 3 is shown in FIG. The conductor roll 3 has a hollow metal cylinder 3a, a conductor ring 3b in the middle of the outer circumference of the metal cylinder 3a, and an elastomer lining 3c on both axes of the conductor ring 3b. It includes. In addition, the inside of the conductor roll is circulated with a coolant for absorbing Joule heat generated by the plating current in the direction of the arrow 3d.

또한, 금속스트립이 상기 구조의 전도체롤(3)을 따라 움직일때 탄성중합체 라이닝(3c)은 스트립의 반대측면 가장자리를 밀봉(Sealing)하여 그 내부 표면에 전해액이 스며들어가는 것을 방지함으로써 편면도금이 가능하게 된다. 따라서 스트립(5)을 전도체롤(3)과 전기접촉되게 배치하는 것은 전도체를 탄성체측 단부에 충분한 압력을 가하여 전도체롤(3)의 양측상에서 상대측으로 지향된 큰 장력(이하 견인력이라 칭함)이 스트립(5)에 가압되어야 한다. 견인력은 전도체롤(3) 양측상의 스트립에 일정한 편향을 초래하도록 탱크(1)내의 액체레벨 이상에 베치된 디플렉터롤(4)에 의해 가압된다. 따라서 탄성중합체 라이닝(3)은 도금액에 대해 내식성이 있어야 하고, 밀봉기능을 갖기 위해 충분한 신축성 및 내마모성이 있어야 한다.In addition, when the metal strip moves along the conductor roll 3 of the above structure, the elastomeric lining 3c seals the opposite side edge of the strip to prevent the electrolyte from penetrating the inner surface thereof, thereby allowing one-side plating. Done. Therefore, the arrangement of the strip 5 in electrical contact with the conductor roll 3 is such that a large tension (hereinafter referred to as traction force) directed to the opposite side on both sides of the conductor roll 3 by applying sufficient pressure to the end of the conductor on the elastic side It should be pressurized in (5). The traction force is pressurized by deflector rolls 4 placed above the liquid level in the tank 1 to cause a constant deflection on the strips on both sides of the conductor roll 3. Thus, the elastomeric lining 3 should be corrosion resistant to the plating liquid and have sufficient elasticity and wear resistance to have a sealing function.

그러나 이러한 요구조건을 모두 충족시키는 탄성중합체를 얻기는 힘들며, 실제 도금조업중에는 제2도에 도시된 바와같이, 전도체링(3b)과 탄성중합체 라이닝(3c) 사이에서 열팽창 계수 및 마모정도의 차이 발생으로 단차(S)가 발생된다.However, it is difficult to obtain an elastomer that meets all of these requirements, and during the actual plating operation, as shown in FIG. 2, a difference in thermal expansion coefficient and wear degree occurs between the conductor ring 3b and the elastomer lining 3c. Step S is generated.

만일, 전도체링(3b)이 탄성중합체 라이닝(3c)보다 높을 경우에는 제3도의 a)도에서 A로 나타낸 것과 같이 단차(S)의 위치에서 밴드 마크(Band Mark) 즉, 스트립 표면상에 전도체링(3b)의 양측 가장자리부의 늘림마크가 나타나고, 또는 견인력이 큰 경우에는 스트립이 굽어지는 결함이 나타나며, 반대로 전도체링(3b)이 탄성중합체 라이닝(3c)보다 낮을 경우에는 제3도의 b)도에서 B로 나타낸 것과 같이 단차(S)부에서 스트립(5)이 전도체링(3b)과 충분한 접촉을 유지할 수가 없어 도금불균일을 초래하게 되며, 또한 전도체링(3b) 양측 가장자리부에 전기장의 분포가 집중됨으로써 스트립 표면에 아크스포트(Arc spot) 즉, 전기열에 의해 스트립 표면이 국부적으로 타는, 반점상의 열적결함이 유발된다.If the conductor ring 3b is higher than the elastomer lining 3c, a band mark at the position of the step S, i.e., the conductor on the strip surface, as indicated by A in FIG. Elongation marks at both edges of the ring 3b appear, or if the traction is large, a deflection of the strip appears. On the contrary, if the conductor ring 3b is lower than the elastomer lining 3c, b) of FIG. In the step (S), as shown by B, the strip 5 cannot maintain sufficient contact with the conductor ring 3b, resulting in uneven plating, and the distribution of the electric field at both edges of the conductor ring 3b. By concentrating, an arc spot on the strip surface, i.e. electric heat, causes spot-like thermal defects where the strip surface burns locally.

또한 전도체롤(3)에 권취되어 잔행되는 스트립에 가압되는 큰 견인력은 금속스트립의 몸체부(Body)내에서 큰 기계적 응력을 발생하기 때문에 스트립의 성질이 열화된다. 또한, 상기와 같은 레이디얼형 도금셀에 의한 전기 도금법에서의 품질향상을 위한 노력은 상기 밴드마크 및 아크 스포트등과 같은 표면 품질의 개선과 스트립의 기계적 성질을 개선하는 방향으로 집중되어 왔으며, 몇가지 개선효과가 공지되어 있다.In addition, the property of the strip is degraded because the large traction force wound on the strip which is wound on the conductor roll 3 generates a large mechanical stress in the body of the metal strip. In addition, efforts to improve the quality in the electroplating method by the radial plating cell as described above have been concentrated in the direction of improving the surface quality, such as the band mark and arc spot, and the mechanical properties of the strip, several improvements The effect is known.

이와 관련된 공지 기술로는 미합중국 특허 제5,069,762호를 들 수 있다.Known techniques in this regard include US Pat. No. 5,069,762.

이 발명은 전도체롤과 금속 스트립의 전기적 접촉성을 개선하기 위한 것으로, 도금용액 레벨상의 전도체롤에 수평방향으로 가압롤을 부가하여 전도체를 중심방향으로 가압해 줌으로써 전도체롤과 금속 스트립간의 아크 발생을 억제하는 방법이다.The present invention is to improve the electrical contact between the conductor roll and the metal strip, and to add the pressure roll in the horizontal direction to the conductor roll on the plating solution level to press the conductor in the center direction to prevent arc generation between the conductor roll and the metal strip. It is a way to suppress.

이 방법은 아크스포트 방지에는 상당한 효과가 있는 기술이지만, 전도체롤에 가압롤을 부가함으로써 전도체롤의 전도체링과 탄성중합체 라이닝 사이의 단차부에서의 응력을 증가시켜 밴드마크의 발생을 억제할 수 없는 문제점이 있다.This method has a significant effect on the prevention of arc spots, but by adding a pressure roll to the conductor roll, it is not possible to suppress the occurrence of band marks by increasing the stress at the step between the conductor ring of the conductor roll and the elastomer lining. There is a problem.

또한 대한민국 특허공보 제3301호에도 이와 관련된 방법이 공지되어 있는데, 이 방법은 전류가 도금액 탱크내의 액체레벨 이상으로 배치된 디플렉터롤에 의해서 스트립에 가해지는 기술이다.Korean Patent Publication No. 3301 also discloses a related method, which is a technique in which a current is applied to a strip by a deflector roll disposed above a liquid level in a plating liquid tank.

이 장치는 기존의 전도체롤을 고무롤로 함으로써 밴드마크를 억제할 수 있는 잇점이 있으나, 부분적으로 전류가 양극과 분리된 디플렉터롤에 의해 스트립으로 흐르기 때문에 전력 소비면에서 비경제적인 문제점이 있다.This device has the advantage of suppressing the band mark by using a conventional roll of rubber, but there is an uneconomical problem in terms of power consumption because the current flows to the strip by the deflector roll separated from the anode.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위한 것으로, 레이디얼형 도금셀에 의한 순수 아연이나 니켈 또는 철을 함유하는 아연합금으로 구성된 고품질의 편도금 또는 양면 도금시 밴드 마크와 아크 스포트 및 기계적 성질 열화를 방지하기 위한 레이디얼형 전기도금장치 및 그 도금방법을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention is to solve the conventional problems as described above, the band mark and arc spot and mechanical properties during high-quality one-way plating or double-sided plating consisting of pure zinc, zinc alloy containing nickel or iron by radial plating cell It is an object of the present invention to provide a radial electroplating apparatus and a plating method thereof to prevent deterioration.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 염화욕 또는 황산욕 전해액을 함유하는 탱크와 도금할 금속 스트립을 권취한 채 전해액에 부분적으로 침지되어 회전하는 탄성중합체 드럼과 전해액내에 침지된 드럼의 외측 실린더형 표면 반대쪽으로 배치되는 가용성 양극 또는 불용성 양극과, 양극에 전류를 공급하기 위한 수단과, 상기 드럼과 양극사이에 스트립과 드럼의 순환방향에 대한 역류방향으로 전해액을 분사하는 수단과, 스트립의 전해액 통과를 유도하는 탄성중합체의 디플렉터롤 세트와, 상기 디플렉터롤과 드럼사이에서 스트립에 접촉되어 음극전위를 공급하는 전도체롤과 백업롤로 구성되는 적어도 하나의 셀을 포함하는 금속 스트립의 전기아연 도금 장치에 있어서, 상기 전도체롤과 백업롤은 각각의 셀에 대해 드럼의 양측면 상부에 배치되어 드럼측에 평행한 방향으로 회전 가능하게 설치되며, 적어도 부분적으로는 상기 전도체롤과 백업롤의 상부 레벨에 스트립의 유지를 보장하는 디플렉터롤이 장착됨을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치를 마련함에 의한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a tank containing a chlorinated bath or a sulfuric acid bath solution and an outer cylindrical shape of a drum immersed in the electrolyte solution and a rotating drum partially immersed in the electrolyte while winding a metal strip to be plated. Soluble anodes or insoluble anodes disposed opposite the surface, means for supplying current to the anodes, means for injecting electrolyte between the drums and the anodes in a countercurrent to the circulation direction of the strips and drums, and passing the electrolyte through the strips In the electro-zinc plating apparatus of a metal strip comprising a deflector roll set of an elastomer to induce a; and at least one cell consisting of a conductor roll and a back-up roll in contact with the strip between the deflector roll and the drum to supply a cathode potential. The conductor roll and the backup roll are disposed on both sides of the drum for each cell. A radial type electro galvanizing apparatus is provided, which is rotatably installed in a direction parallel to the air drum side, and at least partly, a deflector roll is installed at an upper level of the conductor roll and the backup roll. By

또한, 본 발명은, 금속스트립의 전해도금용 레이디얼형 셀을 포함하는 장치내에서 금속 스트립을 전기도금하는 방법에 있어서, 스트립은 전해액레벨상부에 위치한 디플렉터롤에 권취되어 전해액내로 유입되며, 양극의 활성면 맞은 편에서 전해액에 부분 첨지되고 절연재로 라이닝된 드럼의 표면과 접촉하여 전해액 내를 순환하며, 상기 절연재로 라이닝된 드럼과 디플렉터롤 사이에 배치된 전도체롤과 백업롤측으로 음극전류를 공급함을 특징으로 하는 금속 스트립의 전기도금 방법을 마련함에 의한다.In addition, the present invention is a method for electroplating a metal strip in a device including a radial type cell for electroplating a metal strip, wherein the strip is wound on a deflector roll located above the electrolyte level and flows into the electrolyte. It is circulated in the electrolyte in contact with the surface of the drum lined with the insulating material and partially attached to the electrolyte on the opposite side of the active surface, and supplies a cathode current to the conductor roll and the backup roll side disposed between the drum lined with the insulating material and the deflector roll. By providing a method of electroplating a metal strip characterized in that.

이하, 본 발명을 도면에 따라서 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

제4도에서는 본 발명에 따른 전기도금장티의 전해셀의 개략도를 나타낸다.4 shows a schematic view of an electrolytic cell of an electroplating tee according to the present invention.

상기 전해셀은 전해액 또는 도금액(2)을 함유하는 탱크(1)를 포함한다. 탱크(1)는 도금액(Cl-이온 또는 SO4 2-이온)(2)과 양극(23)을 함유한다, 상기 양극(23)은 90o보다 조금 작은 각도의 원호로 구성되는 활모양의 세그먼트(Segment)형태를 가지며, 아연 또는 다른 금속으로 제조된 일련의 가용성 양극, 혹은 불용성 양극으로 구성되어진다.The electrolytic cell includes a tank 1 containing an electrolyte solution or a plating solution 2. The tank 1 contains a plating liquid (Cl ions or SO 4 2− ions) 2 and an anode 23, the anode 23 having an bow-shaped segment consisting of an arc of an angle slightly smaller than 90 °. It is in the form of a segment and consists of a series of soluble anodes or insoluble anodes made of zinc or other metals.

상기 양극(23)은 회전드럼(18)으로 부터 다소 공간을 가진 채 활성내면을 제공하기 위해 180o보다 조금 작은 포위원호를 가지고 드럼축(9)과 수평방향으로 연이어 배치되는데, 양극(23)의 폭은 도금형 스트립의 폭과 적어도 동일한 원통형의 연속 활성표면으로 구성되어진다. 또한, 양극(23)은 도금액(2)의 종류에 따라 가용성 양극과 불용성 양극으로 구분되어 적용된다.The anode 23 is arranged laterally in a horizontal direction with the drum shaft 9 with a slightly smaller pore than 180 ° to provide an active inner surface with some space from the rotating drum 18. The width of is composed of a cylindrical continuous active surface at least equal to the width of the plated strip. In addition, the anode 23 is divided into soluble anodes and insoluble anodes according to the type of the plating solution 2.

금속도금의 경우 특히, 전기아연 도금의 경우에 있어서 가장 일번적으로 사용되는 도금액은 염화물욕(Cl-)과 황산염욕(SO4 2-)으로 대별된다. 도금액(2)이 염화물욕인 경우에는 가용성 양극이 적용되고, 황산염욕인 경우에는 불용성 양극이 사용되어진다In the case of metal plating, in particular, in the case of electro zinc plating, the plating solution most commonly used is divided into a chloride bath (Cl ) and a sulfate bath (SO 4 2- ). If the plating solution 2 is a chloride bath, a soluble anode is applied; in the case of a sulfate bath, an insoluble anode is used.

직경이 양극(23)의 활성계면보다 다소 작은 드럼(18)은 드럼축(9)에 의해 셀(Cell)상에서 회전가능하게 설치되어지며, 드럼(18)의 표면은 기존의 레이디얼형 셀에 있어서의 드럼이 중앙부와 양측면부의 재질이 다르고 또한 높이차(단차)가 있었던 것에 반해 본 발명에서는 중앙부와 양측위 단차가 없는 동일 절연재료인 탄성중합체로 완전히 라이닝하므로서 기존의 레이디얼형 도금셀에서의 주요 문제점인 밴드마크 및 마크 스포트가 발생되지 않도록 구성된다. 그리고, 상기 드럼(18)과 양극(23) 사이에는 일정한 공간이 있으며, 이 사이에는 전해액 분사용 노즐(25)(26)이 각각 드럼(18)의 직하부와 전해액 레벨(15) 직상부에 배피되어 스트립(14) 진행방향의 반대방향으로 전해액을 분사한다.The drum 18, whose diameter is somewhat smaller than the active interface of the anode 23, is rotatably mounted on the cell by the drum shaft 9, and the surface of the drum 18 is formed in a conventional radial cell. In the present invention, the drum is completely lined with elastomer, which is the same insulating material without the difference between the central part and both sides, while the material of the central part and both side parts is different, and there is a height difference (step difference). The in band mark and the mark spot are configured not to occur. Then, there is a predetermined space between the drum 18 and the anode 23, between which the nozzles 25 and 26 for the injection of the electrolyte are respectively located directly below the drum 18 and directly above the electrolyte level 15. It is removed and the electrolyte is sprayed in the direction opposite to the traveling direction of the strip 14.

상기 드럼(18)에 권취되어 전해액내를 통과하는 스트립(14)은 드럼(18)의 양측면의 상부에 위치한 디플렉터롤(13)에 의해 가압된다. 상기 디플렉터롤(13)과 전해액 레벨(15) 사이에는 음극단자로 연결되는 철제(Steel)로 구성되는 전도체롤(10)과, 상기 전도체롤(10)과 함께 도금셀로의 스트립(14)의 안내를 수행하는 탄성중합체로 구성되는 백업롤(11)이 배치된다. 또한, 전도체롤(10)의 표면에는 연마기(12)가 부착되어 표면 오염으로 인한 스트립으로의 전기전도도 저하를 억제한다.The strip 14 wound on the drum 18 and passing through the electrolyte is pressed by the deflector roll 13 located on the upper sides of the drum 18. Between the deflector roll 13 and the electrolyte level 15, the conductive roll 10 made of steel connected to the negative electrode terminal, and the strip 14 into the plating cell together with the conductive roll 10 are formed. A backup roll 11 composed of an elastomer for guiding is disposed. In addition, the polishing machine 12 is attached to the surface of the conductor roll 10 to suppress the decrease in electrical conductivity to the strip due to surface contamination.

미설명부호(17)는 전원 공급장치이다.Reference numeral 17 is a power supply.

본 발명에 다른 전기도금공정은 탈지-산세-전기도금의 순서로 행하여진다.The electroplating process according to the present invention is carried out in the order of degreasing-pickling-electroplating.

전처리 공정에서 도금될 스트립의 표면이문질 또는 산화층이 제거된 후 전도체롤(10)에 의해 대전된 스트립(14)은 도금용액에 반쯤 잠겨 돌아가는 드럼(18)에 밀착되어 전해액을 연속적으로 통과하므로써 전기도금이 이루어진다.In the pretreatment process, after the surface of the strip to be plated has been removed, or the oxide layer is removed, the strip 14 charged by the conductor roll 10 is in close contact with the drum 18 which is half immersed in the plating solution and continuously passes through the electrolyte. Plating takes place.

상기 양극(23)은 기능에 따라 가용성과 불용성 양극으로 대별된다. 가용성 양극은 대극으로써의 역할 외에 도금될 금속이온을 보충하는 기능을 갖고 있어 별도의 도금 보충없이도 도금액 농도를 유지할 수 있는 잇점이 있다. 그리고, 가용성 양극은 도금층과 같은 금속을 사용하는데 아연 도금시에는 아연 양극을, 아연-철 합금도금시에는 아연 또는 도금층 조성과 같은 비율의 아연과 철 양극을 함께 사용하며 이는 아연-니켈 합금도금시에도 같은 개념으로 적용된다. 하지만 합금양극은 한 원소의 선택적인 용해가 일어나지 않는 경우에만 제한하여 사용되며, 아연계 도금시에는 거의 사용하지 않고 납-주석과 같이 양 금속의 용해전위가 비슷한 합금시에만 사용한다. 불용성 양극은 산소발생반응을 일이켜 대극의 역할을 하는 것으로 관리상태에 따라 반영구적으로 일정한 극간거리를 유지하면서 사용할 수 있는 잇점이 있다.The anode 23 is roughly classified into a soluble and an insoluble anode according to its function. Soluble anode has the function of replenishing metal ions to be plated in addition to its role as a counter electrode, thus maintaining the plating solution concentration without additional plating replenishment. In addition, the soluble anode is made of the same metal as the plating layer, and the zinc anode is used for zinc plating, and the zinc and iron anode in the same proportion as the zinc or plating layer composition are used together in the zinc-iron alloy plating. The same concept applies to. However, alloy anodes are used only when selective dissolution of one element does not occur, and is rarely used for zinc-based plating, and is only used for alloys with similar dissolution potentials of both metals such as lead-tin. Insoluble anodes act as a counter electrode by generating oxygen-generating reactions, which can be used while maintaining a constant interpolar distance permanently depending on the management state.

도금용액(2)은 황산욕과 염산용으로 구별 사용된다. 황산욕은 도금용의 가격, 도금 욕관리, 도금표면의 광택성, 세척(Rinsing)성 등이 유리하며, 염산욕은 전기전도도가 황산욕의 1/2정도이어서 도금전력 비용 감소 및 도금효율 증대의 장점이 있다. 도금액의 조성은 프로세스에 있어 어떤 금속도금을 하느냐에 따라서 서로 다른 도금용액이 사용되어진다. 순수 아연(Zn) 전해질은 오직 순수아연 도금에만 쓰여지고 ZnCl2(황산욕인 경우엔 ZnSO4), KCl(황산욕인 경우엔 H2SO4), HCl등을 함유한다. Zn-Fe 또는 Zn-Ni 합금도금을 위한 전해액은 각각 Zn 전해액의 화학성분에 대해서 Ni 및 Fe 이온함유 용액을 함유한다.The plating solution 2 is used for the sulfuric acid bath and hydrochloric acid. Sulfuric acid bath is advantageous for plating price, plating bath management, glossiness of plating surface, and rinsing property.In hydrochloric acid bath, electrical conductivity is about 1/2 of sulfuric acid bath, reducing plating power cost and increasing plating efficiency. Has the advantage. The plating solution is composed of different plating solutions depending on the metal plating in the process. Pure zinc (Zn) electrolytes are used only for pure zinc plating and contain ZnCl 2 (ZnSO 4 for sulfuric acid baths), KCl (H 2 SO 4 for sulfuric acid baths), HCl and the like. The electrolyte solution for Zn-Fe or Zn-Ni alloy plating contains Ni and Fe ion-containing solutions, respectively, for the chemical composition of the Zn electrolyte.

이상에서 설명한 바와같이 본 발명은 전해액에 일부 잠겨 도금될 스트립을 권취한 채 회전하는 탄성중합체로 라이닝된 드럼(18)과 전해액 내로의 스트립 진행을 유도하는 디플렉터롤(13) 사이에 적어도 전해액 레벨(15)보다 높은 위치에 전도체롤(10)과 백업롤(11)을 배치하고, 음극전류를 공급함으로써 종래의 레이디얼형 도금셀에서 공지된 모든 담점을 해결할 수 있다.As described above, the present invention provides at least an electrolyte level between the drum 18 lined with a rotating elastomer and the deflector roll 13 for inducing strip propagation into the electrolyte while winding the strip to be partially immersed in the electrolyte. By disposing the conductor roll 10 and the backup roll 11 at a position higher than 15) and supplying a cathode current, all known points in the conventional radial plating cell can be solved.

따라서, 본 발명의 잇점으로는 드럼상에 권취된 전도체 링을 사용하는 레이디얼형 셀에 대한 공지된 방법의 단점 즉, 스트립상의 큰 견인력 가압에 따른 스트립의 기계적 성질 열화와 전도체 링과 탄성중합체라이닝의 단차부에서의 밴드마크 및 아크 스포트 등의 결함을 방지할 수 있다.Thus, the advantages of the present invention are the disadvantages of the known method for radial cells using conductor rings wound on drums, namely the degradation of the mechanical properties of the strips due to the large traction force on the strips and of the conductor rings and elastomer linings. Defects such as band marks and arc spots in the stepped portions can be prevented.

또한, 본 발명은 드럼(18)과 디플렉터롤(13)사이에 전도체롤(10) 및 백업롤(11)을 배치함으로써 도금 셀로부터 스트립(14)의 진행에 따라 스트립(14) 표면에 묻어 올라가는 도금액을 제거해 줌으로써 디플렉터롤(13)상에서의 스트립(14)의 표면 오염을 방지할 수 있다.In addition, the present invention arranges the conductor roll 10 and the backup roll 11 between the drum 18 and the deflector roll 13 to bury the surface of the strip 14 as the strip 14 progresses from the plating cell. By removing the plating liquid, surface contamination of the strip 14 on the deflector roll 13 can be prevented.

본 발명에 따른 도금장치는 가용성 양극-염화물욕 계통과 불용성 양극-황상염욕 계통을 모두 사용할 수 있으며, 다수의 셀을 배치함으로써 스트립의 순환속도를 증가시켜 생산성 향상을 기할 수 있다.The plating apparatus according to the present invention can use both a soluble anode-chloride bath system and an insoluble anode-sulfur salt bath system, and can increase productivity by increasing the circulation speed of the strip by arranging a plurality of cells.

상기에서와 같이 본 발명에 따른 전기 도금장치 및 도금방법은 철 또는 니켈을 함유하는 아연 합금층 또는 순수 아연층으로 구성되는 동일 또는 다른 도금층에 의해 두 면상에 도금된 금속쉬트의 생산도 용이하게 조절할 수 있다.As described above, the electroplating apparatus and the plating method according to the present invention can also easily control the production of the metal sheet plated on both sides by the same or different plating layer consisting of a zinc alloy layer or pure zinc layer containing iron or nickel. Can be.

또한, 본 발명에서 배치된 전도체롤과 백업롤의 크기와 배치 및 위치는 기술한 것과는 다를 수 있으며, 이와 유사하게 드럼과 양극사이에 배치된 환형지역 내의 전해액 순환이 기술한 것과 다른 방식으로 검취될 수도 있지만, 이는 모두 본 발명의 범주와 사상내에 포함되는 것이다.In addition, the size, arrangement, and position of the conductor roll and the backup roll disposed in the present invention may be different from that described, and similarly, the electrolyte circulation in the annular zone disposed between the drum and the anode may be detected in a manner different from that described. Although all may be, they are included within the scope and spirit of the present invention.

Claims (6)

염화욕 또는 황산욕 전해액(2)을 함유하는 탱크(1)와 도금할 금속 스트립(14)을 권취한 채 전해액에 부분적으로 침지되어 회전하는 탄성중합체 드럼(18)과 전해액내에 침지된 드럼의 외측 실린더형 표면 반대쪽으로 배치되는 가용성 양극 또는 불용성 양극(23)과, 양극에 전류를 공급하기 위한 수단(17)과, 상기 드럼(18)과 양극(23) 사이에 스트립(14)과 드럼(18)의 순환방향에 대한 역류방향으로 전해액을 분사하는 수단(25)(26)과, 스트립(14)의 전해액(2) 통과를 유도하는 탄성중합체의 디플렉터롤(13)과, 상기 디플렉터롤(13)과 드럼(18) 사이에서 스트립(14)에 접촉되어 음극전위를 공급하는 전도체롤(10)과 백업롤(11)로 구성되는 적어도 하나의 셀을 포함하는 금속 스트립의 전기아연 도금 장치에 있어서, 상기 전도체롤(10)과 백업롤(11)은 각각의 셀에 대해 드럼(18)의 양측면 상부에 배치되어 드럼축(9)에 평행한 방향으로 회전가능하게 설치되며, 적어도 부분적으로는 상기 전도체롤(10)과 백업롤(11)의 상부 레벨에 에스트립(14)의 유지를 보장하는 디플렉터롤(13)이 장착됨을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치.The tank 1 containing the chloride bath or the sulfuric acid bath solution 2 and the outer side of the drum immersed in the electrolyte and the rotating elastomer drum 18 partially immersed in the electrolyte while winding the metal strip 14 to be plated. Soluble anode or insoluble anode 23 disposed opposite the cylindrical surface, means 17 for supplying current to the anode, and strip 14 and drum 18 between the drum 18 and anode 23. Means 25, 26 for injecting the electrolyte solution in the counter-current direction with respect to the circulation direction of the &lt; RTI ID = 0.0 &gt;), a deflector roll 13 of elastomer, which induces passage of the electrolyte solution 2 through the strip 14, and the deflector roll 13. In the electro-zinc plating apparatus of a metal strip comprising at least one cell consisting of a conductor roll 10 and a backup roll 11 in contact with the strip 14 to supply a cathode potential between the drum and the drum 18. The conductor roll 10 and the back-up roll 11 are connected to the drum 18 for each cell. Disposed on both sides and rotatably installed in a direction parallel to the drum shaft (9), at least in part ensuring the retention of the strips (14) at the upper levels of the conductor roll (10) and the backup roll (11). Radial electroplating apparatus characterized in that the deflector roll 13 is mounted. 제1항에 있어서, 상기 전도체롤(10)과 백업롤(11)은 적어도 전해액레벨(15) 상부에 배치되며, 스트립(14)을 사이에 두고 상호 위치변경이 가능한 것을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치.The method of claim 1, wherein the conductor roll 10 and the back-up roll 11 is disposed at least on the electrolyte level 15, the radial type electric, characterized in that the mutual position can be changed with the strip 14 in between. Galvanizing equipment. 제1항에 있어서, 상기 디플렉터롤(13)은 탄성중합체 재료를 가지고, 적어도 전도체롤(10)과 백업롤(11)보다 상부에 연속적으로 2개 이상으로 배치되어 하부의 전도체롤(10)의 직경을 크게 할 수 있는 것을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치.2. The deflector roll (13) according to claim 1, wherein the deflector roll (13) has an elastomeric material and is disposed at least two consecutively on top of at least the conductor roll (10) and the backup roll (11). Radial type electro zinc plating apparatus, characterized in that the diameter can be increased. 금속 스트립의 전해도금용 레이디얼형 셀을 포함하는 장치내에서 금속스트립을 전기도금하는 방법에 있어서, 스트립(14)은 전해액레벨(15) 상부에 위치한 디플렉터롤(13)에 권취되어 전해액내로 유입되며, 양극(23)의 활성면 맞은 편에서 전해액에 부분 첨지되고 절연재로 라이닝된 드럼(18)의 표면과 접촉하여 전해액내를 순환하며, 상기 절연재로 라이닝 된 드럼(18)과 디플렉터롤(13) 사이에 배치된 전도체롤(10)과 백업롤(11)측으로 음극전류를 공급함을 특징으로 하는 금속 스트립의 전기도금 방법을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치.In a method of electroplating a metal strip in an apparatus comprising a radial cell for electroplating a metal strip, the strip 14 is wound on a deflector roll 13 located above the electrolyte level 15 and introduced into the electrolyte. In contact with the surface of the drum 18, which is partially attached to the electrolyte and opposite to the active surface of the anode 23, contacts with the surface of the drum 18 lined with an insulating material, the drum 18 and the deflector roll 13 lined with the insulating material A radial type electro zinc plating apparatus, characterized in that the electroplating method of a metal strip, characterized by supplying a cathode current to the conductor roll (10) and the backup roll (11) side disposed between. 제4항에 있어서, 상기 양극(23)은 도금금속으로 구성되는 가용성 양극이나 불용성 양극 모두 사용가능한 것을 특징으로 하는 레이디얼형 전기아연도금장치.5. The radial type electro zinc plating apparatus according to claim 4, wherein the anode (23) can use both a soluble anode and an insoluble anode made of a plated metal. 제4항에 있어서, 상기 전해액(2)은 염화물욕과 황산염욕 모두 사용가능한 것을 특징으로 하는 금속스트립의 전기도금방법.5. The electroplating method of a metal strip according to claim 4, wherein the electrolyte solution (2) can use both a chloride bath and a sulfate bath.
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