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KR920002795B1 - N,n'-치환우레아의 제조방법 - Google Patents

N,n'-치환우레아의 제조방법 Download PDF

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KR920002795B1
KR920002795B1 KR1019890015880A KR890015880A KR920002795B1 KR 920002795 B1 KR920002795 B1 KR 920002795B1 KR 1019890015880 A KR1019890015880 A KR 1019890015880A KR 890015880 A KR890015880 A KR 890015880A KR 920002795 B1 KR920002795 B1 KR 920002795B1
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Abstract

내용 없음.

Description

N,N'-치환우레아의 제조방법
본 발명은 방향족 모노니트로화합물, 방향족 제1급 아민 및 일산화탄소를 주촉매인 팔라듐 화합물, 조촉매인 할로겐원소를 포함한 암모니움염 또는 포스포늄염 및 비극성용매 존재하에서 반응시켜 하기 일반식(I)로 표시되는 N,N'-치환우레아를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Figure kpo00001
상기식에서, Ar1및 Ar2는 비치한 방향족기 또는 할로겐, 알킬, 알콕시 등으로 치환된 방향족기를 나타내며, 서로 같거나 상이하다.
N,N'-치환우레아는 농약에 사용되는 카바메이트의 원료로 사용되는 유용한 물질이다.
아민과 일산화탄소를 반응시켜 N,N'-치환우레아를 제조하는 종래의 방법은 코발트카르보닐(Can. J. Chem., 40,1718,1962), 초산온(J. Org. Chem., 37,2670,1972) 또는 초산수온 등의 백금족 이외의 금속화합물을 촉매로 사용하는 방법과, 황(J. Org. Chem., 26,3309,1691), 셀레늄(J. Amer. Chem. Soc., 93,6344,1971) 등의 비금속화합물을 촉매로 사용하는 방법 및 백금족화합물을 촉매로 사용하는 방법등이 알려져 있다.
이 중에서 백금족 이외의 금속화합물을 촉매로 사용하는 방법은 N,N'-치환우레아의 수율 및 선택도가 높지 못하고, 황이나 셀레늄 등의 비금속 화합물을 촉매로 사용하는 방법은 수율이나 선택도는 높으나, 촉매의 분리회수가 곤란하여 복잡한 조작을 필요로 하므로 경제성이 문제가 된다.
백금족화합물을 촉매로 사용하는 방법은 일본특허공고 소 53-41123, 일본특개소 58-144363, 일본특개소 62-59253 및 문헌(J. Org. Chem. Vol. 40, No. 19, 2819, 1975)등에 나타나 있는데, 일본특허공고 소 53-41123 및 일본특개소 58-144363에는 고온고압하에서 아민을 일산화탄소 및 산소와 반응시켜서 N,N'-치환우레아를 제조하는 방법으로서, 이 방법은 기상 반응물이 두가지(일산화탄소 및 산소)이므로 연속반응시 두 기체의 분압조절이 어렵고, 산소를 사용하므로 폭발 위험성이 따르는 단점이 있다. 또한, J. Org. Chem.(Vol.40(19), 2819,1975) 및 일본특개소 62-59253에는 아민을 일산화탄소 및 니트로화합물과 반응시켜 N,N'-치환우레아를 제조하는 방법으로서, 전자의 방법은 수율이 낮고(64%), 용매와 함께 n-트리부틸아민을 사용해야 하며, 촉매의 활성이 급격히 떨어지는 단점이 있다.
후자의 방법은 수율 및 선택도는 높으나 로듐(Rh) 및 루테늄(Ru)등의 값비싼 촉매를 사용해야 하며, 생성되는 N,N'-치환우레아의 성상이 깨끗하지 못하고, 아닐린이 부산물로 생성되며, 촉매가 열에 불안정화여 반응온도 부근에서 분해되는 문제점이 있다.
본 발명자는 방향족 모노니트로화합물, 방향족 제1급 아민 및 일산화탄소를 반응시켜서 상기 일반식(I)로 표시되는 N,N'-치환우레아를생성하는 반응에 있어서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 부단한 노력을 기울여 연구를 계속한 결과, 방향족 모노니트로화합물에 대하여 방향족 제1급 아민을 2몰배 이상의 과량으로 사용하고, 팔라듐화합물을 주체로 하는 촉매와 할로겐 원소를 포함하는 조촉매를 사용하여 반응시킴으로써 반응부산물이 거의 없고, 수율이 아주 높으며, 촉매회수가 용이한 방법을 발명하게 되어 본 발명을 완성하게 되었다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 사용되는 방향족 모노니트로화합물로는 니트로벤젠류, 니트로나프탈렌류, 니트로안트라센류, 니트로비페닐류 등이 있고, 구체적인 화합물로는 니트로벤젠, o-, m-, p-니트로톨루엔, o-니트로-p-크실렌, 2-메틸-1-니트로나프탈렌, o-, m-, p-클로로니트로벤젠, 1-브로모-4-니트로벤젠, 클로로니트로벤젠(각 이성질체), 2-클로로-6-니트로톨루엔, 4-클로로-3-니트로톨루엔, 1,4-디클로로-2-니트로벤젠, 3,4-디클로로-1-니트로벤젠,, α-클로로-m-니트로톨루엔, 1,2,4-트리클로로-5-니트로벤젠 등이 있다.
또한 본 발명에 사용되는 방향족 제1급 아민으로는 아닐린류, 아미노나프탈렌류, 아미노안트라센류, 아미노비페닐류 등이 있고, 구체적인 화합물로는 아닐린, o-, m-, p-톨루이딘, o-, m-, p-클로로아닐린, α- 또는 β-나프틸아민, 2-메틸-1-아미노 나프탈렌, 아미노톨루엔 등이 있다.
본 발명에 사용되는 방향족 제1급 아민은 반응물 뿐만 아니라, 촉매성분을 용해시켜 주는 용매로도 사용될 수 있는 보통 방향족 모노니트로화합물에 대하여 과량(몰비로 1 : 2 이상)으로 사용한다. 이렇게 함으로써 촉매의 비활성화를 방지하고, 촉매회수를 용이하게 할 수 있다.
본 발명자들이 연구에 의하면 본 발명의 방법에 의한 일반식(I)의 N,N'-치환우레아의 생성반응은 하기 반응식(1) 및 (2)의 반응이 경쟁적으로 동시에 진행되는 것으로 사료된다.
Figure kpo00002
Figure kpo00003
이때, 방향족 모노니트로화합물과 방향족 제1급 아민의 몰비에 따라 N,N'-치환우레아의 생성량이 크게 달라지는데 방향족 모노니트로화합물의 양이 같을때 방향족 제1급 아민의 양이 많아짐에 따라 N,N'-치환우레아의 생성량이 증가한다.
그 이유는 방향족 아민의 농도가 커지면 반응식(1) 반응에 비하여 반응식(2) 반응이 상대적으로 빠르게 진행되어 생성되는 N,N'-치환우레아의 생성량이 많아지기 때문이다.
본 발명에 사용되는 팔라듐 화합물을 주체로 하는 촉매는 2가 상태의 팔라듐 원소를 포함하는 화합물을 말한다.
팔라듐 화합물에는 일반식 PdX2로 표시되는 팔라듐염과 일반식 PdX2L2로 표시되는 착체화합물이 있다. 여기에서 X는 할로겐, NO3, OCOCH3, OCOF3등을 나타내며, L은 리간드로서 PR3(식 중, R은 메틸, 에틸 또는 부틸을 나타낸다), PPh3, C6H5NH2, CH3CN, P-ClC6H4NH2, P-CH3C6H4NH2등을 나타낸다.
구체적인 화합물로는 PdCl2, PdBr2, PdI2, Pd(NO3)2, PdSO4등의 무기염류; Pd(OCOCH3)2, Pd(OCOCF3)2등의 유기산염류; PdCl2(PPh3)2, Pd(OCOCH3)2(PPh3)2등의 착체화합물 등이 있다.
사용되는 촉매의 양은 몰수로 방향족 모노니트로 화합물의 1/10~1/3000의 양을 사용하는 것이 바람직하다. PdX2형태의 촉매를 사용할 경우, 위에서 언급한 리간드를 사용하여 촉매의 비활성화를 방지해 주는 것이 필요한데, 리간드로서는 PPh3, PR3(식중, R은 메틸, 에틸 또는 부틸을 나타낸다)등의 인화합물이 특히 바람직하다. 리간드는 촉매사용 몰수의 2배 이상의 양을 사용하는 것이 좋다.
한편, 본 발명의 방법에서 조촉매로 사용하는 할로겐원소를 포함하는 화합물에는 일반식[R4N+]X-로 표시되는 암모니움염과 일반식[R4P+]X-로 표시되는 포스포니움염이 있다(여기에서 R은 수소, 지방족기, 치환족기, 방향족기, 방향지방족기로부터 선택되는 기를 표시하며 서로 같거나 다를 수 있으며, X는 할로겐원소를 나타낸다). 구체적인 화합물로는 암모니움염으로서 테트라에틸암모니움클로라이드, 테트라메틸암모니움클로라이드, 테트라부틸암모니움클로라이드, 테트라에틸암모니움브로마이드, 테트라메틸암모니움브로마이드, 테트라부틸암모니움브로마이드, 테트라에틸암모니움요오드, 테트라메틸암모니움요오드, 테트라부틸암모니움요오드, 트리메틸벤질암모니움클로라이드 등이 있고, 포스포니움염으로서는 테트라부틸포스포니움브로마이드, 테트라메틸포스포니움클로라이드, 테트라에틸포스포니움브로마이드, 테트라에틸포스포니움클로라이드, 테트라메틸포스포니움클로라이드, 테트라부틸포스포니움클로라이드, 테트라메틸포스포니움요오드, 테트라부틸포스포니움요오드, 테트라에틸포스포니움요오드 등이 있다. 조촉매로 사용되는 화합물은 팔라듐화합물에 대하여 1~10배의 몰수를 사용한다. 1몰배 이하의 양을 사용하면 충분히 반응이 진행되지 않고 10몰배 이상의 양을 사용하면 경제적으로 불합리하다.
팔라듐화합물을 주체로 하는 촉매(리간드포함) 및 리간드의 양은 반응시에 완전히 용해되어 액상으로 존재하도록 각 성분의 용해도, 반응온도, 방향족 제1급 아민의 사용량, 용매의 종류 및 사용량 등의 반응조건에 따라 조절해주는 것이 바람직하다.
본 반응에서 사용된 촉매 및 조촉매의 회수는 고체상태인 N,N'-치환우레아를 여과시켜 분리함으로써 쉽게 달성할 수 있다. 생성물을 여과한 후 N,N'-치환우레아를 방향족 제1급 아민으로 세척함으로써 촉매를 거의 완벽하게 회수할 수 있다.
본 발명에 사용되는 용매로는 N,N'-치환우레아의 용해도가 크지 않은 비극성 용매가 적합하며 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등이 특히 바람직하다. 상기의 용매는 필요에 따라 사용하여도 좋고 사용하지 않아도 무방하다.
본 발명의 방법에 의한 반응온도는 50~200℃의 온도범위에서, 바람직하게는 80~140℃의 범위에서 진행시킨다. 반응온도가 너무 낮으면 미반응 모노니트로화합물의 양이 많아지게 되고, 반응온도가 너무 높으면 촉매의 비활성화가 일어나 촉매의 활성이 떨어지거나 촉매가 분해된다. 반응압력은 1기압 이상의 압력에서 진행시키며, 통상적으로는 5~100기압에서 반응시킨다. 5기압 이하의 압력에서는 반응이 빨리 진행되지 않고, 100기압 이상의 압력에서는 장치비가 비싸지므로 경제성이 문제가 된다. 반응시간은 10분~600분인데 사용되는 반응물의 종류, 반응압력, 온도, 촉매의 종류 및 사용량에 따라 달라지게 된다.
이하, 본 발명을 실시예로서 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.
실시예에서 기재된 반응은 모두 300ml 오토클레이브에서 배치(batch)로 수행한 것이다. 반응물의 가열은 반응기 외부에 장치된 가열기로 하였으며 반응이 끝난후, 반응기 내부에 장치된 냉각코일을 따라 흐르는 냉각수에 의해 냉각시켰다. 반응물은 t-부틸벤젠을 내부표준 물질로 사용하여 가스크로마토그래피아 고속액체크로마토그래피로 분석하였다.
N,N'-치환우레아의 수율은 아래의 공식에 의해 계산하였다.
Figure kpo00004
[실시예 1]
300ml 오토클레이브에 니트로벤젠 6.15g(50밀리몰), 아닐린 27.9g(300밀리몰), 팔라듐 아세테이트(Pd(CH3COO)2) 0.15g 트리페닐포스핀(PPh3) 1g, 테트라에틸암모니움 클로라이드(NEt4Cl) 2g, t-부틸벤젠(가스크로마토그래피 분석을 위한 내부표준물질)과 크실렌 60g을 투입하였다. 10기압의 일산화탄소로 기상 부분을 3회 치환한 후 상온에서 일산화탄소압을 가하여 40기압이 되게 하였다. 반응기를 교반시키면서 온도를 올려 120℃에서 1.5시간 동안 반응시킨 후, 샘플 밸브를 통하여 샘플을 취하여 가스크로마토그래피로 분석하였다. 반응기를 상온까지 냉각시킨 후 가스를 배출시켰다. 반응물을 감압 여과한 후 아닐린(18.6g, 200밀리몰)과 크실렌(50g)으로 세척하고 건조하여 흰색의 고체 18.4g을 얻었다. 가스크로마토그래피 분석결과, 니트로벤젠의 전화율은 100% 이었으며, N,N'-디페닐 우레아(DPU)의 수율은 97.3%였다.
[실시예 2]
실시예 1의 촉매함유 여과액(생성물 분리후의 반응여과액 및 아닐린세척액)에 니트로벤젠 6.15g(50밀리몰)을 첨가한 후 실시예 1과 같은 반응조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 100%였으며, N,N'-디페닐우레아 수율은 98%로서 회수된 촉매의 활성감소는 나타나지 않았다.
[실시예 3]
테트라에틸 암모니움 클로라이드(NEt4Cl) 대신에 테트라부틸포스포니움 브로마이드(Bu4PBr)을 사용하여 4시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 97.8%였고, N,N'-디페닐우레아의 수율은 96.4%였다.
[실시예 4]
팔라듐 아세테이트(Pd(CH3COO)2) 대신에 팔라듐 트리플루오로 아세테이트(Pd(CF3COO)2) 0.5g을 사용하여 62기압, 100℃에서 7시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 96.2%였고, N,N'-디페닐우레아의 수율은 93.4%였다.
[실시예 5]
팔라듐 아세테이트(Pd(CH3COO)2) 대신에 PdCl2(0.15g)를 사용하여 6시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 88.9%였고, N,N'-디페닐우레아의 수율은 86.1%였다.
[실시예 6]
크실렌 대신에 톨루엔 60g을 사용하여 53기압, 100℃에서 6시간 동안 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 95.2%였으며, N,N'-디페닐우레아의 수율은 92.4%였다.
[비교예 1]
테트라에틸암모니움 클로라이드(NEt4Cl) 없이 실험한 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 11.5%였고, N,N'-디페닐우레아(DPU)의 수율은 11.4%였다.
[비교예 2]
아닐린 없이 실험한 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 그 결과, 아닐린 생성은 없었으며 반응이 일어나지 않았다.
[비교예 3]
니트로벤젠 없이 실험한 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 그 결과 반응이 일어나지 않았다.
[비교예 4]
테트라에틸암모니움 클로라이드(NEt4Cl) 대신에 KCl(2g)을 사용하여 5.5시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 55.5%였고, N,N'-디페닐우레아(DPU)의 수율은 55.1%였다.
[비교예 5]
테트라에틸암모니움 클로라이드(NEt4Cl) 대신에 CuCl2(2g)을 사용하여 55기압에서 5시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 그 결과 반응은 일어나지 않았다.
[비교예 6]
팔라듐 아세테이트(Pd(CH3COO)2) 대신에 금속팔라듐(0.15g)을 사용하여 50기압, 100℃에서 4.5시간 반응시킨 외에는 실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였다. 그 결과 반응은 일어나지 않았다.
[비교예 7]
크실렌 대신에 아세톤 700ml를 사용하여 실시예 6과 동일한 조건에서 실험하였다. 니트로벤젠의 전화율은 25.4%였으며, N,N'-디페닐우레아의 수율은 25.1%였다.

Claims (8)

  1. 방향족 모노니트로화합물, 방향족 제1급 아민, 일산화탄소를 반응시켜 N,N'-치환우레아를 제조하는 방법에 있어서, 주촉매인 팔라듐화합물 및 조촉매인 할로겐원소를 포함하는 암모니움염 또는 포스포늄염 및 비극성 용매 존재하에서 반응시킴을 특징으로 하는 다음 일반식(I)의 N,N'-치환우레아의 제조방법.
    Figure kpo00005
    상기식에서, Ar1및 Ar2는 비치환 방향족기 또는 할로겐, 알킬, 알콕시등으로 치환된 방향족기를 나타내며, 서로 같거나 상이하다.
  2. 제1항에 있어서, 팔라듐 화합물은 PdCl2, PdBr2, Pdl2, Pd(NO3)|2, PdSO4, Pd(OCOCH3)2, Pd(OCOCF3)2, PdX2L2[X=할로겐원소, NO3, OCOCH3, OCOCF3; L=PR3(식 중, R은 메틸, 에틸 또는 부틸기를 나타낸다), PPh3]임을 특징으로 하는 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 할로겐원소 포함 암모니움염은 테트라에틸암모니움클로라이드, 테트라메틸암모니움 클로라이드, 테트라부틸암모니움클로라이드, 테트라에틸암모니움브로마이드, 테트라메틸암모니움브로마이드, 테트라메틸암모니움브로마이드, 테트라암모니움요오드, 테트라메틸암모니움요오드, 테트라부틸암모니움요오드, 트리메틸벤질암모니움클로라이드임을 특징으로 하는 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 할로겐원소 포함 포스포늄염은 테트라부틸포스포니움브로마이드, 테트라메틸포스포니움브로마이드, 테트라에틸포스포니움브로마이드, 테트라에틸포스포니움클로라이드, 테트라메틸포스포니움클로라이드, 테트라부틸포스포니움클로라이드, 테트라메틸포스포니움요오드, 테트라부틸포스포니움요오드, 테트라에틸포스포니움요오드임을 특징으로 하는 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 비극성용매는 벤젠, 톨루엔, 크실레임을 특징으로 하는 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 반응온도가 50~200℃임을 특징으로 하는 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 방향족 제1급 아민의 사용량은 방향족 모노니트로화합물에 대하여 2몰배 이상 사용함을 특징으로 하는 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 조촉매의 사용양은 팔라듐화합물에 대하여 1~10몰배 사용함을 특징으로 하는 제조방법.
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