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KR20240131499A - Manufacturing method for optical laminate, optical laminate manufactured by the same, and smart window comprising the same - Google Patents

Manufacturing method for optical laminate, optical laminate manufactured by the same, and smart window comprising the same Download PDF

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Publication number
KR20240131499A
KR20240131499A KR1020230024178A KR20230024178A KR20240131499A KR 20240131499 A KR20240131499 A KR 20240131499A KR 1020230024178 A KR1020230024178 A KR 1020230024178A KR 20230024178 A KR20230024178 A KR 20230024178A KR 20240131499 A KR20240131499 A KR 20240131499A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical laminate
manufacturing
polarizing film
layer
transmittance
Prior art date
Application number
KR1020230024178A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
신정수
이강재
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020230024178A priority Critical patent/KR20240131499A/en
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Abstract

본 발명은 편광 필름의 일면에 투명 도전층을 형성하는 단계; 상기 편광 필름의 이면에, 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 접합하는 단계; 상기 도전층 상에 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및 상기 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 박리하는 단계; 를 포함하는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법과 그 제조방법으로 제조된 광학 적층체 및 이를 포함하는 스마트 윈도우에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, comprising the steps of forming a transparent conductive layer on one surface of a polarizing film; bonding a carrier substrate including a temperature-sensitive adhesive layer to the back surface of the polarizing film; forming a column spacer on the conductive layer; and peeling off the carrier substrate including the temperature-sensitive adhesive layer; and to an optical laminate manufactured by the manufacturing method and a smart window including the same.

Description

광학 적층체의 제조방법, 그 제조방법으로 제조된 광학 적층체 및 이를 포함하는 스마트 윈도우{MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL LAMINATE, OPTICAL LAMINATE MANUFACTURED BY THE SAME, AND SMART WINDOW COMPRISING THE SAME}Method for manufacturing an optical laminate, an optical laminate manufactured by the manufacturing method, and a smart window comprising the same {MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL LAMINATE, OPTICAL LAMINATE MANUFACTURED BY THE SAME, AND SMART WINDOW COMPRISING THE SAME}

본 발명은 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법과 그 제조방법으로 제조된 광학 적층체 및 이를 포함하는 스마트 윈도우에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an optical laminate having variable transmittance, an optical laminate manufactured by the method, and a smart window including the same.

일반적으로 차량 등의 이동 수단의 유리창에 외광 차단 코팅을 하는 경우가 많다. 그러나, 종래의 이동수단의 유리창은 투과율이 고정되어 있으며, 외광 차단 코팅 역시 투과율이 고정되어 있다. 따라서, 이러한 종래의 이동수단의 윈도우는 전체 투과율이 고정되어 있어, 사고를 유발할 수 있다. 예컨대, 전체적인 투과율이 낮게 설정되어 있다면, 주변에 광량이 충분한 주간에는 문제가 없지만, 주변에 광량이 충분하지 않은 야간 등의 경우에는 운전자 등이 이동 수단의 주변을 제대로 확인함에 있어 어려움을 겪을 수 있다는 문제점이 있었다. 또는 전체적인 투과율이 높게 설정되어 있다면, 주변에 광량이 충분한 주간에는 운전자 등의 눈부심을 야기할 수 있다는 문제점이 있었다. 이에, 전압이 인가되면 빛의 투과성을 변화시킬 수 있는 투과율 가변 광학 적층체가 개발되었다.In general, external light blocking coatings are often applied to the windows of vehicles and other means of transportation. However, the windows of conventional means of transportation have fixed transmittance, and the external light blocking coating also has fixed transmittance. Therefore, the windows of such conventional means of transportation have fixed overall transmittance, which may cause accidents. For example, if the overall transmittance is set low, there is no problem during the day when there is sufficient surrounding light, but at night when there is not enough surrounding light, there is a problem that drivers and others may have difficulty properly checking the surroundings of the means of transportation. Alternatively, if the overall transmittance is set high, there is a problem that drivers and others may experience glare during the day when there is sufficient surrounding light. Therefore, a transmittance-variable optical laminate capable of changing the transmittance of light when voltage is applied has been developed.

상기 투과율 가변 광학 적층체는, 전압 인가에 따라 액정을 구동시켜 투과율을 가변 시킴으로써 구동되는데, 현재까지 개발된 투과율 가변 광학 적층체는, 액정 구동을 위한 도전층을 별도의 기재 상에 형성한 뒤, 이를 편광 필름 등의 다른 소자와 결합하여 제작된다.The above-mentioned variable transmittance optical laminate is driven by varying the transmittance by driving the liquid crystal according to the application of voltage. The variable transmittance optical laminate developed to date is manufactured by forming a conductive layer for driving the liquid crystal on a separate substrate and then combining this with other elements such as a polarizing film.

예를 들어, 일본 공개특허 제2018-010035호 또한, 소정의 두께를 갖는 폴리카보네이트(PC) 기판 등에 형성된 투명 전극층을 포함하는 투과율 가변 광학 적층체를 개시하고 있다.For example, Japanese Patent Publication No. 2018-010035 also discloses a transmittance variable optical laminate including a transparent electrode layer formed on a polycarbonate (PC) substrate or the like having a predetermined thickness.

그러나, 이와 같이 도전층을 형성하기 위하여 별도의 기재를 포함할 경우, 제작 공정이 복잡해짐에 따라 제조 비용이 상승하고, 적층체의 두께가 두꺼워지며, 위상차가 발생함으로 인해 투과율이 변화하는 문제가 있다.However, if a separate substrate is included to form a challenging layer in this way, the manufacturing process becomes complicated, which increases manufacturing costs, increases the thickness of the laminate, and causes a change in transmittance due to a phase difference.

나아가, 투과율 가변 광학 적층체는 두 적층체를 포함하며, 두 적층체 사이에 액정층을 배치하는데, 종래 일부 광학 적층체의 경우 상기 두 적층체의 간격을 일정하게 유지하기 위하여 액정층 내에 컬럼 스페이서가 위치하는 경우가 있다. 그러나, 특히 투과율 가변 광학 적층체가 플렉서블 형태로 구현되는 경우, 유리 대신 플렉서블 성능을 갖는 편광 필름 등이 포함되게 되는데, 이 경우 컬럼 스페이서를 형성하는 과정에서 열처리에 의해 편광 필름의 변형이 발생되는 등의 문제가 있다.Furthermore, the optical laminate with variable transmittance includes two laminates, and a liquid crystal layer is disposed between the two laminates. In some optical laminates of the past, a column spacer is positioned within the liquid crystal layer in order to maintain a constant gap between the two laminates. However, especially when the optical laminate with variable transmittance is implemented in a flexible form, a polarizing film having flexible performance is included instead of glass. In this case, there is a problem in that the polarizing film is deformed due to heat treatment during the process of forming the column spacer.

따라서, 도전층을 형성하기 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써 제작 공정이 간소화되고 두께를 감소시킬 수 있으면서도, 공정 과정에서 발생되는 크랙(crack) 내지 스크래치(scratch), 편광 필름의 변형 등을 방지할 수 있는 투과율 가변 광학 적층체에 대한 개발이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need for development of a transmittance variable optical laminate that can simplify the manufacturing process and reduce the thickness by not including a separate substrate for forming a challenging layer, while preventing cracks, scratches, and deformation of polarizing films that may occur during the process.

일본 공개특허 제2018-010035호Japanese Publication Patent No. 2018-010035

본 발명은 기존의 제조설비에 적용 가능하며, 플렉서블한 고유 특성을 발휘할 수 있으면서도 컬럼 스페이서 형성 공정 중 열처리에 의한 편광 필름의 변형에 따른 불량을 방지할 수 있는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, which can be applied to existing manufacturing facilities and exhibits flexible unique characteristics while preventing defects due to deformation of a polarizing film caused by heat treatment during a column spacer forming process.

또한, 본 발명은, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써, 제작 공정이 간소화된 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.In addition, the present invention aims to provide a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate with a simplified manufacturing process by not including a separate substrate for forming a conductive layer.

또한, 본 발명은, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써, 두께가 현저히 감소된 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.In addition, the present invention aims to provide a method for manufacturing a variable transmittance optical laminate having a significantly reduced thickness by not including a separate substrate for forming a conductive layer.

또한, 본 발명은, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써, 투광 모드에서의 투과율이 향상된 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.In addition, the present invention aims to provide a method for manufacturing a variable transmittance optical laminate having improved transmittance in a light-transmitting mode by not including a separate substrate for forming a conductive layer.

또한, 본 발명은, 상기 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체를 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.In addition, the present invention aims to provide a transmittance variable optical laminate manufactured by the method for manufacturing the above-mentioned transmittance variable optical laminate.

또한, 본 발명은, 상기 투과율 가변 광학 적층체를 포함하는 스마트 윈도우를 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a smart window including the above-described variable transmittance optical laminate.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

본 발명은, 편광 필름의 일면에 투명 도전층을 형성하는 단계; 상기 편광 필름의 이면에, 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 접합하는 단계; 상기 투명 도전층 상에 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및 상기 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 박리하는 단계; 를 포함하는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, comprising: a step of forming a transparent conductive layer on one surface of a polarizing film; a step of bonding a carrier substrate including a temperature-sensitive adhesive layer to the back surface of the polarizing film; a step of forming a column spacer on the transparent conductive layer; and a step of peeling off the carrier substrate including the temperature-sensitive adhesive layer.

본 발명은, 그 제1 관점에 있어서, 상기 감온성 점착층은, 상기 편광 필름과 접하는 면의 점착력이, JIS Z0237(180°당겨 벗김)에 따라 측정하였을 때, 폴리이미드 필름 기준으로 25 내지 50℃에서 1.0N/25mm 내지 2.0N/25mm이고, -40 내지 0℃에서 0.05N/25mm 이하인 것일 수 있다.In the first aspect of the present invention, the temperature-sensitive adhesive layer may have an adhesive strength on a surface in contact with the polarizing film of 1.0 N/25 mm to 2.0 N/25 mm at 25 to 50°C and 0.05 N/25 mm or less at -40 to 0°C, based on a polyimide film, when measured in accordance with JIS Z0237 (180° peeling).

본 발명은, 그 제2 관점에 있어서, 상기 감온성 점착층은, 양면에 이형필름을 포함하는 감온성 점착제로부터 형성되고, 상기 감온성 점착제는 양면의 이형필름과 점착력이 서로 다른 것인 것일 수 있다.In the second aspect of the present invention, the temperature-sensitive adhesive layer may be formed from a temperature-sensitive adhesive including a release film on both sides, and the temperature-sensitive adhesive may have different adhesive strengths from the release films on both sides.

본 발명은, 그 제3 관점에 있어서, 상기 컬럼 스페이서를 형성하는 단계는, 상기 도전층 상에 감광성 수지 조성물을 도포하고 열처리하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.In the third aspect of the present invention, the step of forming the column spacer may include the step of applying a photosensitive resin composition on the conductive layer and performing a heat treatment.

본 발명은, 그 제4 관점에 있어서, 상기 캐리어 기판을 박리하는 단계는, 상기 컬럼 스페이서가 형성된 투과율 가변 광학 적층체를 0℃ 이하에서 박리하는 것일 수 있다.In the fourth aspect of the present invention, the step of peeling off the carrier substrate may be peeling off the transmittance variable optical laminate on which the column spacer is formed at 0°C or lower.

본 발명은, 그 제5 관점에 있어서, 상기 투명 도전층은, 상기 편광 필름과의 사이에 별도의 기재를 포함하지 않고, 직접 접촉하여 형성되는 것일 수 있다.In the fifth aspect of the present invention, the transparent conductive layer may be formed in direct contact with the polarizing film without including a separate substrate therebetween.

본 발명은, 그 제6 관점에 있어서, 상기 투명 도전층은, 상기 편광 필름에 접착 용이층을 포함하여, 직접 접촉하여 형성되는 것일 수 있다.In the sixth aspect of the present invention, the transparent conductive layer may be formed by directly contacting the polarizing film, including an adhesive-friendly layer.

본 발명은, 그 제7 관점에 있어서, 상기 투명 도전층은, 투명 도전성 산화물, 금속, 탄소계 물질, 전도성 고분자, 도전성 잉크 및 나노 와이어로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.In the seventh aspect of the present invention, the transparent conductive layer may include at least one selected from the group consisting of a transparent conductive oxide, a metal, a carbon-based material, a conductive polymer, a conductive ink, and nanowires.

또한, 본 발명은, 상기 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체에 관한 것이다.In addition, the present invention relates to a transmittance variable optical laminate manufactured by the method for manufacturing the above-mentioned transmittance variable optical laminate.

본 발명의 상기 투과율 가변 광학 적층체는, 점착층, 배향막, 자외선 흡수층 및 하드 코팅층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것일 수 있다.The variable transmittance optical laminate of the present invention may further include at least one selected from the group consisting of an adhesive layer, an alignment film, an ultraviolet absorbing layer, and a hard coating layer.

본 발명의 상기 투과율 가변 광학 적층체는, 편광 필름; 상기 편광 필름의 일면에 형성된 투명 도전층; 상기 투명 도전층 상에 형성된 컬럼 스페이서; 및 상기 편광 필름의 이면에 감온성 점착층을 통해 점착된 캐리어 기판을 포함하며, 상기 캐리어 기판은 상기 컬럼 스페이서 형성 후 제거되는 것일 수 있다.The variable transmittance optical laminate of the present invention comprises: a polarizing film; a transparent conductive layer formed on one surface of the polarizing film; a column spacer formed on the transparent conductive layer; and a carrier substrate adhered to the back surface of the polarizing film via a temperature-sensitive adhesive layer, wherein the carrier substrate may be removed after forming the column spacer.

또한, 본 발명은, 상기 투과율 가변 광학 적층체를 포함하는, 스마트 윈도우에 관한 것이다.In addition, the present invention relates to a smart window including the above-described variable transmittance optical laminate.

본 발명에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 의하면, 기존의 제조설비에서 광학 적층체를 제조하더라도 컬럼 스페이서 형성 공정 중 열처리에 의한 편광 필름의 변형에 따른 불량 발생을 방지할 수 있다.According to the method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to the present invention, even if the optical laminate is manufactured using existing manufacturing equipment, occurrence of defects due to deformation of the polarizing film by heat treatment during the column spacer forming process can be prevented.

또한, 본 발명에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 의하면, 종래 광학 적층체 형성을 위하여 기재 상에 도전층을 형성하고 이를 타 부재와 첩합(貼合)하는 등의 공정을 생략할 수 있어, 종래 광학 적층체 대비 제작 공정이 간소화될 수 있다.In addition, according to the method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to the present invention, the process of forming a conductive layer on a substrate and bonding it with another member for forming a conventional optical laminate can be omitted, so that the manufacturing process can be simplified compared to the conventional optical laminate.

또한, 본 발명에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 의하면, 편광 필름의 일면 상에 직접 도전층이 형성되어, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써, 종래 광학 적층체 대비 두께가 현저히 감소된 것일 수 있다. In addition, according to the method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to the present invention, a conductive layer is formed directly on one surface of a polarizing film, so that a separate substrate for forming the conductive layer is not included, and thus the thickness can be significantly reduced compared to a conventional optical laminate.

또한, 본 발명에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 의하면, 편광 필름의 일면 상에 직접 도전층이 형성되어, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않음으로써, 종래 광학 적층체 대비 투광 모드에서의 투과율이 향상된 것일 수 있다.In addition, according to the method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to the present invention, a conductive layer is formed directly on one surface of a polarizing film, so that a separate substrate for forming the conductive layer is not included, and thus the transmittance in the light transmission mode can be improved compared to a conventional optical laminate.

도 1은, 본 발명의 일 실시 예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 공정 순서에 따라 나타낸 흐름도이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시 예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 공정 순서에 따라 단계적으로 도시한 도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시 예에 적용되는 감온성 점착제의 공급 형태를 나타낸 도이다.
도 4는, 본 발명의 다른 실시 예에 따른, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체의 적층 구조를 나타낸 도이다.
도 5 및 도 6은, 본 발명의 일 또는 복수의 실시 예에 따른 스마트 윈도우의 적층 구조를 나타낸 도이다.
Figure 1 is a flow chart showing the process sequence for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to an embodiment of the present invention step by step according to the process sequence.
Figure 3 is a diagram showing a supply form of a temperature-sensitive adhesive applied to one embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing the laminated structure of a transmittance variable optical laminate manufactured by a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate according to another embodiment of the present invention.
FIGS. 5 and 6 are diagrams showing a laminated structure of a smart window according to one or more embodiments of the present invention.

본 발명은, 플렉서블한 편광필름을 이용하여 투과율 가변 광학 적층체를 제조하는 방법에 관한 것으로, 상세하게는, 편광필름의 일면에 투명 도전층을 형성하고, 이면에 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 접합하고, 상기 투명 도전층 상에 컬럼 스페이서를 형성한 후 상기 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 박리함으로써, 기존의 제조설비에 적용 가능하면서도 스마트 윈도우의 고유 특성을 발휘할 수 있도록 제조 공정 중 불량을 방지할 수 있는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an optical laminate with variable transmittance using a flexible polarizing film, and more particularly, to a method for manufacturing an optical laminate with variable transmittance, which can be applied to existing manufacturing facilities while preventing defects during the manufacturing process so as to exhibit the unique characteristics of a smart window, by forming a transparent conductive layer on one surface of a polarizing film, bonding a carrier substrate including a temperature-sensitive adhesive layer to the reverse surface, forming a column spacer on the transparent conductive layer, and then peeling off the carrier substrate including the temperature-sensitive adhesive layer.

더욱 상세하게는, 편광 필름의 일면에 투명 도전층을 형성하는 단계; 상기 편광 필름의 이면에, 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 접합하는 단계; 상기 도전층 상에 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및 상기 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 박리하는 단계; 를 포함하는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 관한 것이다.More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, comprising: a step of forming a transparent conductive layer on one side of a polarizing film; a step of bonding a carrier substrate including a temperature-sensitive adhesive layer to the back side of the polarizing film; a step of forming a column spacer on the conductive layer; and a step of peeling off the carrier substrate including the temperature-sensitive adhesive layer.

본 발명의 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조되는 투과율 가변 광학 적층체는, 전압의 인가에 따라 빛의 투과성을 변화시킬 수 있는 기술 분야에 특히 적합하며, 예를 들어, 스마트 윈도우(smart window) 등에 사용될 수 있다.A transmittance variable optical laminate manufactured by the method for manufacturing a transmittance variable optical laminate of the present invention is particularly suitable for a technical field in which the transmittance of light can be changed according to the application of voltage, and can be used, for example, in smart windows.

스마트 윈도우(smart window)란, 전기적 신호의 인가에 따라 빛의 투과성을 변화시켜 통과되는 빛 또는 열의 양을 제어하는 광학 구조물을 의미한다. 즉, 스마트 윈도우(smart window)는, 전압에 의해서 투명, 불투명 또는 반투명 상태로 변화될 수 있게 구비되며 투과도 가변유리, 조광유리 또는 스마트 글래스(smart glass) 등으로도 불린다.A smart window is an optical structure that controls the amount of light or heat that passes through by changing the light transmittance according to the application of an electrical signal. In other words, a smart window is provided so that it can be changed to a transparent, opaque, or translucent state by voltage, and is also called variable transmittance glass, dimming glass, or smart glass.

스마트 윈도우(smart window)는, 차량 및 건축물의 내부 공간의 구획용 또는 사생활 보호용 칸막이로 활용되거나 건축물의 개구부에 배치된 채광창으로 활용될 수 있고, 고속도로 표지판, 게시판, 점수판, 시계 또는 광고스크린으로도 활용될 수 있으며, 자동차, 버스, 항공기, 선박 또는 기차의 창(windows) 또는 선루프와 같은 운송 수단의 유리를 대체하여 활용 가능하다.Smart windows can be used as partitions for dividing the interior space of vehicles and buildings or for privacy, or as skylights placed in openings of buildings, and can also be used as highway signs, bulletin boards, scoreboards, clocks or advertising screens, and can be used to replace glass in transportation means such as windows or sunroofs of cars, buses, airplanes, ships or trains.

본 발명의 투과율 가변 광학 적층체 또한, 상술한 여러 기술 분야의 스마트 윈도우(smart window)로 활용이 가능하나, 도전층이 편광 필름에 직접 형성됨으로써, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않아 두께가 얇고 굴곡 특성에 유리하여, 차량용 또는 건물용 스마트 윈도우(smart window)에 특히 적합하게 사용될 수 있다. 일 또는 복수의 실시 형태에 있어서, 본 발명의 투과율 가변 광학 적층체가 적용된 스마트 윈도우(smart window)는, 자동차의 전면창, 후면창, 측면창 및 썬루프창, 또는 건물용 창호 등에 사용될 수 있으며, 외광 차단 용도 이외에도, 내부 칸막이 등과 같이 자동차 또는 건물 등의 내부 공간 구획용 또는 사생활 보호용으로도 사용될 수 있다.The optical laminate with variable transmittance of the present invention can also be utilized as a smart window in the various technical fields described above, but since the conductive layer is formed directly on the polarizing film, it does not include a separate substrate for forming the conductive layer, so it is thin and has advantageous bending characteristics, and can be particularly suitably used as a smart window for vehicles or buildings. In one or more embodiments, the smart window to which the optical laminate with variable transmittance of the present invention is applied can be used for front windows, rear windows, side windows, and sunroof windows of vehicles, or windows for buildings, and in addition to the purpose of blocking external light, it can also be used for partitioning internal spaces of vehicles or buildings, such as interior partitions, or for protecting privacy.

이하, 도면을 참고하여, 본 발명의 실시 형태를 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and together with the contents of the invention described above, serve to further understand the technical idea of the present invention, so the present invention should not be interpreted as being limited to matters described in such drawings.

본 명세서에서 사용되는 용어는 실시 형태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않은 한 복수형도 포함한다. The terms used in this specification are for the purpose of describing embodiments only and are not intended to limit the invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase.

본 명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자 이외의 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 의미로 사용한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.As used herein, the terms “comprises” and/or “comprising” are used to mean that they do not exclude the presence or addition of one or more other components, steps, operations, and/or elements other than the components, steps, operations, and/or elements mentioned. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

공간적으로 상대적인 용어인 「아래」, 「저면」, 「하부」, 「위」, 「상면」, 「상부」 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 「아래」 또는 「하부」로 기술된 소자는 다른 소자의 「위」에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 「아래」는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.Spatially relative terms such as "below," "bottom," "lower," "above," "top," and "upper" can be used to easily describe the relationship between one element or component and other elements or components, as illustrated in the drawings. It should be understood that spatially relative terms include different orientations of the elements during use or operation in addition to the orientations illustrated in the drawings. For example, if an element illustrated in the drawings is flipped, an element described as "below" or "lower" of another element can be placed "above" the other element. Thus, the exemplary term "below" can include both the above and below directions. The elements can also be oriented in other directions, and thus spatially relative terms can be interpreted according to the orientation.

본 명세서 내에서 사용된, 「평면 방향」은, 편광 필름 및/또는 투명 도전층에 대하여 직교하는 방향, 즉 사용자의 시인 측에서 바라보는 방향으로 해석될 수 있다.As used herein, “plane direction” can be interpreted as a direction orthogonal to the polarizing film and/or transparent conductive layer, i.e., the direction viewed from the user’s viewing side.

< 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법 ><Method for manufacturing optical laminate with variable transmittance>

도 1은, 본 발명의 일 실시 예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 공정 순서에 따라 나타낸 흐름도이며, 도 2는, 본 발명의 일 실시 예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법을 공정 순서에 따라 단계적으로 도시한 단면도이다.FIG. 1 is a flow chart showing the process sequence for a method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the process sequence for a method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to an embodiment of the present invention step by step.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법은, 편광 필름(100)의 일면에 투명 도전층(200)을 형성하는 단계(S101); 상기 편광 필름(100)의 이면에, 감온성 점착층(300)을 포함하는 캐리어 기판(400)을 접합하는 단계(S102); 상기 투명 도전층(200) 상에 컬럼 스페이서(500)를 형성하는 단계(S103); 및 상기 감온성 점착층(300)을 포함하는 캐리어 기판(400)을 박리하는 단계(S104); 를 포함하는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 관한 것이다.Referring to FIGS. 1 and 2, a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate according to an embodiment of the present invention relates to a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, including the steps of: forming a transparent conductive layer (200) on one surface of a polarizing film (100) (S101); bonding a carrier substrate (400) including a temperature-sensitive adhesive layer (300) to the back surface of the polarizing film (100) (S102); forming a column spacer (500) on the transparent conductive layer (200) (S103); and peeling off the carrier substrate (400) including the temperature-sensitive adhesive layer (300) (S104).

본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법은, 우선 편광 필름(100)을 준비하여 그 일면에 투명 도전층(200)을 형성하는 단계(S101)를 포함한다.A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to one embodiment of the present invention includes a step (S101) of first preparing a polarizing film (100) and forming a transparent conductive layer (200) on one surface thereof.

상기 편광 필름(100)은, 편광자를 포함하며, 연신형 편광자를 포함하거나, 연신형 편광 필름으로 제공될 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 상기 연신형 편광자는, 연신된 폴리비닐알코올(PVA)계 수지를 포함할 수 있다. 상기 폴리비닐알코올(PVA)계 수지는 폴리아세트산 비닐계 수지를 비누화하여 얻은 폴리비닐알코올계 수지일 수 있다. 폴리아세트산 비닐계 수지로는 아세트산 비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산 비닐 이외에, 아세트산 비닐과 이와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다. 상기 다른 단량체로는 불포화 카르복시산계, 불포화 술폰산계, 올레핀계, 비닐에테르계, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드계 단량체 등일 수 있다. 또한 폴리비닐알코올(PVA)계 수지는 변성된 것으로, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈일 수도 있다.The polarizing film (100) includes a polarizer, and may include a stretchable polarizer or may be provided as a stretchable polarizing film. In one embodiment, the stretchable polarizer may include a stretched polyvinyl alcohol (PVA)-based resin. The polyvinyl alcohol (PVA)-based resin may be a polyvinyl alcohol-based resin obtained by saponifying a polyvinyl acetate-based resin. As the polyvinyl acetate-based resin, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, examples thereof include copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith. The other monomers may include unsaturated carboxylic acid-based, unsaturated sulfonic acid-based, olefin-based, vinyl ether-based, and acrylamide-based monomers having an ammonium group. Additionally, polyvinyl alcohol (PVA) resins may be modified, such as polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes.

또한, 상기 편광 필름(100)은 코팅형 편광자를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 상기 코팅형 편광자는, 액정 코팅용 조성물에 의해 형성될 수 있고, 예를 들어, 액정 코팅용 조성물을 보호층의 상면 상에 도포하여 형성할 수 있다. 이 때, 상기 액정 코팅용 조성물은 반응성 액정 화합물 및 이색성 염료를 포함할 수 있다.In addition, the polarizing film (100) may include a coated polarizer. In one embodiment, the coated polarizer may be formed by a liquid crystal coating composition, and may be formed, for example, by applying the liquid crystal coating composition onto the upper surface of the protective layer. At this time, the liquid crystal coating composition may include a reactive liquid crystal compound and a dichroic dye.

상기 반응성 액정 화합물은 액정성을 발현할 수 있는 반응성 메조겐(Reactive Mesogen: RM), 및/또는 중합 가능한 말단 관능기를 포함하며 열 또는 광에 의한 가교반응 후 액정상을 갖는 단량체 분자 등을 포함할 수 있다. 상기 반응성 액정 화합물은 광 또는 열의 의해 중합되면 액정 배열이 유지되면서 고분자 네트워크가 형성될 수 있다. 상기 반응성 액정 화합물을 활용함으로써 액정의 광학 이방성이나 유전율 특성을 유지하면서 기계적, 열적 안정성이 향상된 박막 형태의 편광자를 형성할 수 있다. The above reactive liquid crystal compound may include a reactive mesogen (RM) capable of expressing liquid crystal properties, and/or a monomer molecule including a polymerizable terminal functional group and having a liquid crystal phase after a crosslinking reaction by heat or light. When the above reactive liquid crystal compound is polymerized by light or heat, a polymer network can be formed while maintaining the liquid crystal arrangement. By utilizing the above reactive liquid crystal compound, a thin film polarizer with improved mechanical and thermal stability can be formed while maintaining the optical anisotropy or dielectric constant characteristics of the liquid crystal.

상기 이색성 염료는 액정 코팅용 조성물에 포함되어 편광 특성을 부여하는 성분으로서, 분자의 장축 방향에서의 흡광도와 단축 방향에서의 흡광도가 다른 성질을 갖는다. 상기 이색성 염료는, 종래 또는 이후 개발되는 이색성 염료를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소, 안트라퀴논 색소 등을 포함할 수 있고, 이들을 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.The above dichroic dye is a component that is included in a liquid crystal coating composition to impart polarization properties, and has properties in which the absorbance in the long-axis direction of the molecule and the absorbance in the short-axis direction are different. The above dichroic dye may be a dichroic dye that has been developed in the past or will be developed in the future, and may include, for example, an acridine dye, an oxazine dye, a cyanine dye, a naphthalene dye, an azo dye, an anthraquinone dye, and the like, and these may be used alone or in combination.

상기 액정 코팅용 조성물은 상기 반응성 액정 화합물 및 상기 이색성 염료를 용해시킬 수 있는 용제를 더 포함할 수 있으며, 예를 들면 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 메틸에틸케톤(MEK), 자일렌(Xylene) 및 클로로포름(Chloroform) 등이 사용될 수 있다. 또한, 상기 액정 코팅용 조성물은 코팅막의 편광 특성을 저해하지 않는 범위 내에서 레벨링제, 중합 개시제 등을 더 포함할 수 있다.The above liquid crystal coating composition may further include a solvent capable of dissolving the reactive liquid crystal compound and the dichroic dye, and examples thereof include propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), methyl ethyl ketone (MEK), xylene, and chloroform. In addition, the liquid crystal coating composition may further include a leveling agent, a polymerization initiator, and the like, within a range that does not impair the polarization characteristics of the coating film.

상기 두 편광 필름(100)을 액정층 양면에 적층하였을 때 각 편광 필름(100)의 투과축은 평면 방향에서 서로 수직하게 배치되는 것이 바람직하며, 이 경우, 액정 구동에 따른 광학 적층체의 투광 모드와 차광 모드 간의 투과율 가변 범위 향상에 이점이 있을 수 있다.When the above two polarizing films (100) are laminated on both sides of the liquid crystal layer, it is preferable that the transmission axes of each polarizing film (100) are arranged perpendicular to each other in the plane direction. In this case, there may be an advantage in improving the transmittance variable range between the light-transmitting mode and the light-blocking mode of the optical laminate according to the liquid crystal driving.

일 또는 복수의 실시 예에 있어서, 상기 편광 필름(100)은, 보호층, 위상차 조절층 및 굴절률 조절층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 기능층을 더 포함하는 것일 수 있다.In one or more embodiments, the polarizing film (100) may further include one or more functional layers selected from the group consisting of a protective layer, a phase difference control layer, and a refractive index control layer.

상기 보호층은, 후공정 및 외부 환경으로부터 편광 필름(100)의 편광 특성을 보호하기 위한 것으로, 보호 필름 등의 형태로 구현될 수 있다.The above protective layer is intended to protect the polarization characteristics of the polarizing film (100) from post-processing and external environments, and can be implemented in the form of a protective film, etc.

상기 보호층은, 하나 이상의 보호층이 연속적으로 적층된 복층 구조로도 사용될 수도 있으며, 다른 기능층과 조합하여 사용될 수도 있다.The above protective layer may also be used as a multi-layer structure in which one or more protective layers are continuously laminated, and may also be used in combination with other functional layers.

일 또는 복수의 실시 예에 있어서, 상기 보호층은, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 폴리에틸렌 이소프탈레이트(polyethylene isophthalate; PEI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate; PEN), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(polybutylene terephthalate; PBT), 디아세틸 셀룰로오스(diacetyl cellulose), 트리아세틸 셀룰로오스(triacetyl cellulose; TAC), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC), 폴리에틸렌(polyethylene; PE), 폴리프로필렌(polypropylene; PP), 폴리메틸 아크릴레이트(polymethyl acrylate; PMA), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate; PMMA), 폴리에틸 아크릴레이트(polyethyl acrylate; PEA), 폴리에틸 메타크릴레이트(polyethyl methacrylate; PEMA) 및 환형 올레핀계 폴리머(cyclic olefin polymer; COP)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.In one or more embodiments, the protective layer may include at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene isophthalate (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate (PBT), diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polymethyl acrylate (PMA), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethyl acrylate (PEA), polyethyl methacrylate (PEMA), and cyclic olefin polymer (COP). there is.

상기 위상차 조절층은, 광학 적층체의 광학 특성을 보완하기 위한 것으로, 위상차 필름 등의 형태로 구현될 수 있으며, 종래 또는 이후 개발되는 위상차 필름 등을 사용할 수 있다. 예를 들어, 광의 위상을 지연시키기 위한 사분 파장판(1/4 파장판) 또는 반파장판(1/2 파장판) 등을 사용할 수 있고, 이들을 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.The above-mentioned phase difference control layer is intended to complement the optical characteristics of the optical laminate, and can be implemented in the form of a phase difference film, etc., and can use a phase difference film, etc. that is conventional or developed in the future. For example, a quarter-wave plate (1/4 wave plate) or a half-wave plate (1/2 wave plate) for delaying the phase of light can be used, and these can be used alone or in combination.

상기 위상차 조절층은, 단독으로 사용될 수도 있으며, 다른 기능층과 조합하여 사용될 수도 있다.The above phase difference control layer may be used alone or in combination with other functional layers.

상기 위상차 조절층은, 연신에 의해 광학 이방성을 부여할 수 있는 고분자 필름을 적절한 방식으로 연신한 고분자 연신 필름 또는 액정 중합 필름을 사용할 수 있다. The above-mentioned phase difference control layer can use a polymer film or a liquid crystal polymer film that is stretched in an appropriate manner to impart optical anisotropy through stretching.

일 실시 예에 있어서, 상기 고분자 연신 필름은, 폴리에틸렌(polyethylene; PE) 또는 폴리프로필렌(polypropylene; PP) 등의 폴리올레핀, 폴리노르보넨(polynorbornene) 등의 고리형 올레핀 폴리머(COP: cyclo olefin polymer), 폴리염화비닐(polyvinyl chloride; PVC), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile; PAN), 폴리설폰(polysulfone; PSU), 아크릴 수지(acryl resin), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET) 등의 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리비닐알코올(polyvinyl acholol; PVA) 또는 트리아세틸 셀룰로오스(triacetyl cellulose; TAC) 등의 셀룰로오스 에스테르계 폴리머나, 상기 폴리머를 형성하는 단량체 중에서 2종 이상의 단량체의 공중합체 등을 포함하는 고분자층을 사용할 수 있다.In one embodiment, the polymer stretched film may use a polymer layer including a polyolefin such as polyethylene (PE) or polypropylene (PP), a cyclo olefin polymer (COP) such as polynorbornene, a polyester such as polyvinyl chloride (PVC), polyacrylonitrile (PAN), polysulfone (PSU), an acrylic resin, polycarbonate (PC), or polyethylene terephthalate (PET), a cellulose ester polymer such as polyacrylate, polyvinyl alcohol (PVA), or triacetyl cellulose (TAC), or a copolymer of two or more monomers among the monomers forming the polymer.

상기 고분자 연신 필름을 얻는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 상기 고분자 재료를 필름 형태로 성형한 후, 연신함으로써 얻을 수 있다. 상기 필름 형태로의 성형 방법은 특히 제한되는 것은 아니며, 사출 성형, 시트 성형, 블로우 성형, 사출 블로 성형, 인플레이션 성형, 압출 성형, 발포 성형, 캐스트 성형 등 공지 방법으로 필름으로 성형하는 것이 가능하며 압공 성형, 진공 성형 등의 2차 가공 성형법도 이용할 수 있다. 그 중에서도 압출 성형, 캐스트 성형이 바람직하게 이용된다. 이 때 예를 들면, T다이, 원형 다이 등이 장착된 압출기 등을 이용하여 미연신 필름을 압출 성형할 수 있다. 압출 성형에 의해 성형품을 얻을 경우에는 사전에 각종 수지 성분, 첨가제 등을 용융 혼련한 재료를 이용할 수도 있으면, 압출 성형 시에 용융 혼련을 거쳐 성형할 수도 있다. 또한 각종 수지 성분에 공통된 용매, 예를 들면 클로로포름, 2 염화메틸렌 등의 용매를 이용하여 각종 수지 성분을 용해 후, 캐스트 건조 고체화함으로써 미연신 필름을 캐스트 성형할 수도 있다.The method for obtaining the above polymer stretched film is not particularly limited, and for example, the polymer material may be formed into a film and then stretched. The method for forming into the film form is not particularly limited, and it is possible to form the film by known methods such as injection molding, sheet molding, blow molding, injection blow molding, inflation molding, extrusion molding, foam molding, and cast molding, and secondary processing molding methods such as pressure molding and vacuum molding can also be used. Among these, extrusion molding and cast molding are preferably used. At this time, for example, an extruder equipped with a T-die, a circular die, etc. can be used to extrusion mold an unstretched film. When obtaining a molded product by extrusion molding, a material in which various resin components, additives, etc. are melt-mixed in advance can be used, and it can also be molded by melt-mixing during extrusion molding. In addition, a solvent common to various resin components, such as chloroform or dimethylene chloride, can be used to dissolve various resin components, and then cast and dry and solidify to cast an unstretched film.

상기 고분자 연신 필름은 상기 성형된 필름을 기계적 흐름 방향(MD; Mechanical Direction, 종 방향 또는 길이 방향)으로 1축 연신, 기계적 흐름 방향으로 직행하는 방향(TD; Transverse Direction, 횡 방향 또는 폭 방향)으로 1축 연신할 수 있고 또한 롤 연신과 텐터연신의 순차 이축 연신법, 텐터연신에 의한 동시 이축 연신법, 튜블러 연신에 의한 이축 연신법 등에 의해 연신함으로써 이축 연신 필름을 제조할 수도 있다.The above polymer stretched film can be stretched uniaxially in the mechanical direction (MD; mechanical direction, longitudinal direction or length direction) of the formed film, uniaxially in the direction perpendicular to the mechanical direction (TD; transverse direction, transverse direction or width direction), and can also be manufactured into a biaxially stretched film by stretching by a sequential biaxial stretching method of roll stretching and tenter stretching, a simultaneous biaxial stretching method by tenter stretching, a biaxial stretching method by tubular stretching, etc.

상기 액정 중합 필름은 반응성 액정 화합물을 중합된 상태로 포함할 수 있다. 상기 반응성 액정 화합물은, 상술한 코팅형 편광자의 반응성 액정 화합물에 관한 내용이 동일하게 적용될 수 있다.The above liquid crystal polymerization film may contain a reactive liquid crystal compound in a polymerized state. The reactive liquid crystal compound may be applied in the same manner as the reactive liquid crystal compound of the above-described coated polarizer.

일 또는 복수의 실시 예에 있어서, 상기 위상차 조절층의 두께는, 고분자 연신 필름인 경우에는 10㎛ 내지 100㎛일 수 있고, 액정 중합 필름인 경우에는 0.1㎛ 내지 5㎛일 수 있다.In one or more embodiments, the thickness of the phase difference control layer may be 10 µm to 100 µm in the case of a polymer stretched film, and 0.1 µm to 5 µm in the case of a liquid crystal polymer film.

상기 굴절률 조절층은, 상기 투명 도전층(200)에 의한 광학 적층체의 굴절률 차이를 보상하기 위하여 구비되는 것으로, 굴절률 차이를 감소시킴으로써 시인 특성 등을 개선시키기 위한 역할을 수행하는 것일 수 있다. 또한, 상기 굴절률 조절층은, 상기 투명 도전층(200)에 기인하는 색상을 보정하기 위하여 구비되는 것일 수 있다. 한편, 상기 투명 도전층이 패턴을 갖는 경우에는, 상기 굴절률 조절층을 통해 상기 패턴이 형성되어 있는 패턴 영역과 패턴이 형성되지 않은 비패턴 영역 간의 투과율 차이를 보상할 수 있다.The above refractive index control layer is provided to compensate for the refractive index difference of the optical laminate due to the transparent conductive layer (200), and may serve to improve visibility characteristics, etc. by reducing the refractive index difference. In addition, the refractive index control layer may be provided to correct the color caused by the transparent conductive layer (200). Meanwhile, when the transparent conductive layer has a pattern, the difference in transmittance between the pattern area where the pattern is formed and the non-pattern area where the pattern is not formed can be compensated for through the refractive index control layer.

구체적으로, 상기 투명 도전층(200)은, 이와 굴절률이 상이한 다른 부재와 인접하여 적층되며, 인접한 타층과의 굴절률 차이로 인해 광 투과율의 차이가 유발될 수 있고, 특히 투명 도전층에 패턴이 형성된 경우, 패턴 영역과 비패턴 영역을 구분할 수 있게 시인되는 문제점이 발생할 수 있다. 따라서, 상기 굴절률 조절층을 포함함으로써, 굴절률을 보상하도록 하여 광학 적층체의 광 투과율의 차이를 감소시킬 수 있도록 하며, 특히 투명 도전층(200)에 패턴이 형성된 경우에는, 패턴 영역 및 비패턴 영역이 구분되어 시인되지 않도록 한다. Specifically, the transparent conductive layer (200) is laminated adjacent to another member having a different refractive index, and a difference in light transmittance may be induced due to a difference in refractive index with respect to the adjacent layer. In particular, when a pattern is formed on the transparent conductive layer, a problem may occur in which a pattern area and a non-pattern area are distinguished and recognized. Therefore, by including the refractive index control layer, the difference in light transmittance of the optical laminate can be reduced by compensating for the refractive index. In particular, when a pattern is formed on the transparent conductive layer (200), the pattern area and the non-pattern area are not distinguished and recognized.

일 실시 예에 있어서, 상기 굴절률 조절층의 굴절률은, 인접한 타 부재의 재료에 따라 적절히 선택될 수 있으나, 1.4 내지 2.6인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 1.4 내지 2.4일 수 있다. 이 경우, 상기 타 부재와 투명 도전층(200) 사이의 급격한 굴절률 차이로 인한 광손실을 방지할 수 있다. In one embodiment, the refractive index of the refractive index control layer may be appropriately selected depending on the material of the adjacent other member, but is preferably 1.4 to 2.6, and more preferably 1.4 to 2.4. In this case, light loss due to a sharp difference in refractive index between the other member and the transparent conductive layer (200) can be prevented.

상기 굴절률 조절층은, 타 부재와 투명 도전층(200) 사이의 급격한 굴절률 차이를 방지할 수 있는 것이면, 특별히 제한되지 않으며, 종래 또는 이후 개발되는 굴절률 조절층의 형성에 사용되는 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 중합성 이소시아누레이트 화합물을 포함하는 굴절률 조절층 형성 조성물로부터 형성되는 것일 수 있다.The above refractive index control layer is not particularly limited as long as it can prevent a sharp difference in refractive index between other elements and the transparent conductive layer (200), and a compound used in the formation of a refractive index control layer that is conventionally or later developed can be used, and for example, it can be formed from a refractive index control layer forming composition containing a polymerizable isocyanurate compound.

일 실시 예에 있어서, 상기 편광 필름(100)은, 상술한 기능층 이외에도 편광 필름의 특성을 보조 내지 강화하기 위한 다른 기능층을 더 포함할 수 있으며, 예를 들어, 기계적 내구성을 더욱 향상시키기 위하여, 오버코트층 등을 더 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment, the polarizing film (100) may further include, in addition to the functional layer described above, another functional layer to assist or enhance the characteristics of the polarizing film, and for example, may further include an overcoat layer, etc. to further enhance mechanical durability.

일 또는 복수의 실시 예에 있어서, 상기 편광 필름(100)은, 30 내지 300 ㎛의 두께를 갖는 것일 수 있고, 바람직하게는 30 내지 200 ㎛일 수 있으며, 더욱 바람직하게는, 50 내지 150 ㎛인 것일 수 있다. 이 경우, 상기 편광 필름(100)은 광학 특성을 유지하면서도, 얇은 두께의 광학 적층체의 제조가 가능하다.In one or more embodiments, the polarizing film (100) may have a thickness of 30 to 300 μm, preferably 30 to 200 μm, and more preferably 50 to 150 μm. In this case, the polarizing film (100) can be used to manufacture a thin optical laminate while maintaining optical properties.

본 발명은, 상기 편광 필름(100)의 일면에 투명 도전층(200)을 형성할 수 있다.The present invention can form a transparent conductive layer (200) on one surface of the polarizing film (100).

상기 투명 도전층(200)은, 액정층의 구동을 위하여 구비되는 것으로, 예를 들어, 도 2에 도시된 것과 같이, 상기 투명 도전층(200)은 상기 편광 필름(100) 상에 직접 접촉하여 형성되는 것일 수 있다.The above transparent conductive layer (200) is provided for driving the liquid crystal layer. For example, as shown in FIG. 2, the transparent conductive layer (200) may be formed in direct contact with the polarizing film (100).

종래 스마트 윈도우(smart window) 등의 제조에 사용되는 광학 적층체는, 액정 구동을 위한 도전층을 기재의 일면 상에 형성하고, 상기 기재의 타면을 편광 필름과 첩합(貼合)함으로써 제조되었다. 그러나, 본 발명에 따른 투과율 가변 광학 적층체는, 도전층 형성을 위한 별도의 기재를 포함하지 않고, 편광 필름의 일면 상에 도전층을 직접 형성함으로써, 적층체의 두께를 감소시키면서 투광 모드에서의 투과율 및 굴곡 특성을 향상시키는 것을 특징으로 한다.Conventionally, optical laminates used in the manufacture of smart windows and the like have been manufactured by forming a conductive layer for driving liquid crystals on one surface of a substrate and bonding the other surface of the substrate with a polarizing film. However, the optical laminate with variable transmittance according to the present invention is characterized in that the thickness of the laminate is reduced while the transmittance and bending characteristics in the light transmission mode are improved by directly forming the conductive layer on one surface of a polarizing film without including a separate substrate for forming the conductive layer.

일 실시 예에 있어서, 상기 투명 도전층(200)은, 편광 필름(100) 상에 직접 증착되어 형성되는 것일 수 있다. 이때, 상기 투명 도전층(200)은, 편광 필름(100)과의 접착력 향상을 위하여, 편광 필름(100)의 일면 상에 코로나 처리 또는 플라즈마 처리 등의 전처리를 실시한 후, 상기 전처리를 실시한 면과 직접 접촉하여 형성되는 것일 수 있다. 상기 전처리는, 코로나 처리 또는 플라즈마 처리에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 목적을 해하지 않는 범위 내에서, 종래 또는 이후 개발되는 전처리 공정을 사용할 수 있다.In one embodiment, the transparent conductive layer (200) may be formed by being directly deposited on the polarizing film (100). At this time, the transparent conductive layer (200) may be formed by performing a pretreatment such as corona treatment or plasma treatment on one side of the polarizing film (100) to improve adhesion to the polarizing film (100), and then directly contacting the side on which the pretreatment was performed. The pretreatment is not limited to corona treatment or plasma treatment, and any pretreatment process that is conventionally or later developed may be used within a range that does not harm the purpose of the present invention.

다른 실시 예에 있어서, 상기 투명 도전층(200)은, 편광 필름(100)과의 접착력 향상을 위하여, 편광 필름(100)의 일면 상에 구비된 접착 용이층(도시하지 않음)을 사이에 두고, 편광 필름(100)과 직접 접촉하여 형성되는 것일 수 있다.In another embodiment, the transparent conductive layer (200) may be formed in direct contact with the polarizing film (100) with an adhesive-friendly layer (not shown) provided on one side of the polarizing film (100) interposed therebetween to improve adhesion to the polarizing film (100).

상기 투명 도전층(200)은 가시광에 대한 투과율이 50% 이상인 것이 바람직하며, 예를 들어, 투명 도전성 산화물, 금속, 탄소계 물질, 전도성 고분자, 도전성 잉크 및 나노 와이어로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 종래 또는 이후 개발되는 투명 도전층의 재료가 사용될 수 있다.The above transparent conductive layer (200) preferably has a visible light transmittance of 50% or more, and may include, for example, at least one selected from the group consisting of transparent conductive oxides, metals, carbon-based materials, conductive polymers, conductive inks, and nanowires, but is not limited thereto, and any material of a transparent conductive layer developed in the past or later may be used.

일 또는 복수의 실시 예에 있어서, 상기 투명 도전성 산화물은, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 알루미늄아연산화물(AZO), 갈륨아연산화물(GZO), 플로린주석산화물(FTO) 및 아연산화물(ZnO) 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속은, 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn) 및 이들 중 적어도 하나를 함유하는 합금 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들어, 은-팔라듐-구리(APC) 합금 또는 구리-칼슘(CuCa) 합금을 포함할 수 있다. 상기 탄소계 물질은, 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀(graphene) 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있으며, 상기 전도성 고분자는 폴리피롤(polypyrrole), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 피닷(PEDOT) 및 폴리아닐린(polyaniline) 등으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 도전성 잉크는 금속파우더와 경화성 고분자 바인더가 혼합된 잉크일 수 있고, 나노 와이어는 예를 들면 실버 나노 와이어(AgNW)일 수 있다.In one or more embodiments, the transparent conductive oxide may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), aluminum zinc oxide (AZO), gallium zinc oxide (GZO), fluorine tin oxide (FTO), and zinc oxide (ZnO). In addition, the metal may include at least one selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn), and alloys containing at least one of these, and may include, for example, a silver-palladium-copper (APC) alloy or a copper-calcium (CuCa) alloy. The above carbon-based material may include at least one selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNTs) and graphene, and the conductive polymer may include at least one selected from the group consisting of polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, PEDOT, and polyaniline. The conductive ink may be an ink in which a metal powder and a curable polymer binder are mixed, and the nanowire may be, for example, a silver nanowire (AgNW).

또한, 상기 투명 도전층(200)은 상기 물질들을 조합하여, 2층 이상의 구조로 형성될 수 있다. 예를 들어, 입사광의 반사율을 낮추고, 투과율을 높이도록 금속층 및 투명 도전성 산화물층을 포함하는 2층 구조로 형성될 수 있다.In addition, the transparent conductive layer (200) may be formed into a two-layer or more structure by combining the above materials. For example, it may be formed into a two-layer structure including a metal layer and a transparent conductive oxide layer to lower the reflectivity of incident light and increase the transmittance.

상기 투명 도전층(200)은, 당해 분야에서 통상적으로 사용되는 방법에 의해 형성될 수 있으며, 예를 들어, 스핀 코트법, 롤러 코트법, 바 코트법, 딥 코트법, 그라비아 코트법, 커튼 코트법, 다이 코트법, 스프레이 코트법, 닥터 코트법, 니더 코트법 등의 코트 공정; 스크린 인쇄법, 스프레이 인쇄법, 잉크젯 인쇄법, 철판 인쇄법, 요판 인쇄법, 평판 인쇄법 등의 인쇄 공정; 및 CVD(chemical vapor deposition), PVD(physical vapor deposition), PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) 등의 증착 공정 등의 방식 중 적절한 공정을 선택하여 형성될 수 있다.The above transparent conductive layer (200) can be formed by a method commonly used in the field, and for example, can be formed by selecting an appropriate process from among coating processes such as a spin coating method, a roller coating method, a bar coating method, a dip coating method, a gravure coating method, a curtain coating method, a die coating method, a spray coating method, a doctor coating method, and a kneader coating method; printing processes such as a screen printing method, a spray printing method, an inkjet printing method, a lithographic printing method, a plate printing method, and a flat printing method; and a deposition process such as a CVD (chemical vapor deposition), a PVD (physical vapor deposition), and a PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition).

본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법은, 상기 편광 필름(100)의, 투명 도전층(200)이 형성되지 않은 이면에 감온성 점착층(300)을 포함하는 캐리어 기판(400)을 접합하는 단계(S102)를 포함한다.A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to one embodiment of the present invention includes a step (S102) of bonding a carrier substrate (400) including a temperature-sensitive adhesive layer (300) to the back surface of the polarizing film (100) on which a transparent conductive layer (200) is not formed.

상기 감온성 점착층(300)은 상기 캐리어 기판(400)의 일면에 형성되는데, 상기 감온성 점착층(300)의 형성 방법에 특별한 제한은 없으며, 예컨대 감온성 점착제가 도포되어 형성될 수도 있고, 필름 형태의 감온성 점착제를 준비하여 점착시킨 것일 수 있다.The above temperature-sensitive adhesive layer (300) is formed on one surface of the carrier substrate (400), and there is no particular limitation on the method of forming the temperature-sensitive adhesive layer (300). For example, the temperature-sensitive adhesive may be formed by applying the temperature-sensitive adhesive, or the temperature-sensitive adhesive may be prepared in a film form and bonded.

상기 감온성 점착제는 온도 변화에 대응해서 점착력이 변화되는 점착제를 의미하며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 감온성 점착제의 공급 형태를 나타낸 도면이다.The above temperature-sensitive adhesive refers to an adhesive whose adhesive strength changes in response to temperature change, and FIG. 3 is a drawing showing a supply form of a temperature-sensitive adhesive according to one embodiment of the present invention.

상기 감온성 점착제(20)를 필름 형태로 준비하여 상기 감온성 점착층(300)을 형성하는 경우, 상기 감온성 점착제(20)는 양면에 이형필름(10, 30)을 포함하는 점착제일 수 있고, 이 때 상기 감온성 점착제(20)는 양면의 이형필름(10, 30)과의 점착력이 서로 다른 것이 바람직하다. 상기 감온성 점착제(20)와 양면의 이형필름(10, 30)과의 점착력이 각각 서로 다름으로 인하여, 상기 감온성 점착제(20) 일면의 이형필름(10)을 제거할 때 다른 면의 이형필름(30)은 제거되지 않으며, 상기 일면의 이형필름(10)이 제거된 감온성 점착제(20)를 상기 캐리어 기판(400)의 일면에 먼저 점착하고, 이후 다른 면의 이형필름(30)을 제거할 때에도 상기 캐리어 기판(400)에 점착된 점착면이 떨어지지 않는다. When the temperature-sensitive adhesive (20) is prepared in a film form to form the temperature-sensitive adhesive layer (300), the temperature-sensitive adhesive (20) may be an adhesive that includes a release film (10, 30) on both sides. In this case, it is preferable that the temperature-sensitive adhesive (20) has different adhesive strengths with respect to the release films (10, 30) on both sides. Since the adhesive strengths of the temperature-sensitive adhesive (20) and the release films (10, 30) on both sides are different from each other, when the release film (10) on one side of the temperature-sensitive adhesive (20) is removed, the release film (30) on the other side is not removed, and when the temperature-sensitive adhesive (20) from which the release film (10) on one side has been removed is first adhered to one side of the carrier substrate (400), and then the release film (30) on the other side is removed, the adhesive surface adhered to the carrier substrate (400) does not come off.

상기 감온성 점착층(300)은 편광 필름과 접하는 면의 점착력이, JIS Z0237(180°당겨 벗김)에 따라 측정하였을 때, 폴리이미드 필름 기준으로 25 내지 50℃에서 1.0N/25mm 내지 2.0N/25mm이고, -40 내지 0 ℃에서 0.05N/25mm이하인 것을 특징으로 한다. 특히 -40 내지 0 ℃에서 0.05N/25mm이하인 특징은 일반적인 박리력 측정법으로는 신뢰할 수 있는 범위 밖으로 매우 낮은 값을 가지는 것이므로, -40 내지 0 ℃에서 박리 시 편광 필름에의 손상 없이 용이하게 박리시킬 수 있다.The above temperature-sensitive adhesive layer (300) is characterized in that the adhesive strength of the surface in contact with the polarizing film is, when measured in accordance with JIS Z0237 (180° peeling), 1.0 N/25 mm to 2.0 N/25 mm at 25 to 50°C and 0.05 N/25 mm or less at -40 to 0°C based on the polyimide film. In particular, the characteristic of 0.05 N/25 mm or less at -40 to 0°C is a very low value that is outside the reliable range by a general peeling force measurement method, so that the polarizing film can be easily peeled at -40 to 0°C without damage.

상기 감온성 점착층(300)의 형성을 위한 감온성 점착제는 측쇄 결정성 고분자, 가교제 및 대전방지제를 포함하는 것일 수 있으며, 상기 대전방지제로 녹는점이 0℃ 이하인 이온성 액체를 포함하는 것일 수 있다. 상기 성분들의 함량을 적절히 조절하여 목적하는 감온성 점착제를 제조할 수 있다.The temperature-sensitive adhesive for forming the above-mentioned temperature-sensitive adhesive layer (300) may include a side chain crystalline polymer, a crosslinking agent, and an antistatic agent, and the antistatic agent may include an ionic liquid having a melting point of 0° C. or lower. The desired temperature-sensitive adhesive can be manufactured by appropriately adjusting the content of the above-mentioned components.

한편 상기 캐리어 기판(400)은 공정 상 고온의 열처리가 수반되더라도 상기 편광 필름(100)이 변형되지 않도록 해주며, 공정 진행 및 이동시 용이하게 하는 것으로 두께 0.5 ~ 1T의 글래스(glass)류를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 강화유리인 것일 수 있다.Meanwhile, the carrier substrate (400) may include glass having a thickness of 0.5 to 1T to prevent the polarizing film (100) from being deformed even when high-temperature heat treatment is involved in the process, and to facilitate the process and movement. The carrier substrate (400) may be made of tempered glass, preferably tempered glass.

본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법은, 상기 편광 필름(100)의 일면에 형성된 상기 투명 도전층(200) 상에 컬럼 스페이서(500)를 형성하는 단계(S103)를 포함한다. A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to one embodiment of the present invention includes a step (S103) of forming a column spacer (500) on the transparent conductive layer (200) formed on one surface of the polarizing film (100).

상기 컬럼 스페이서(500)는 액정 셀 갭(gap)을 일정하게 유지시키는 역할을 하는 것으로, 상기 투명 도전층(200) 상에 형성할 수 있다. The above column spacer (500) serves to maintain a constant liquid crystal cell gap and can be formed on the transparent conductive layer (200).

상기 컬럼 스페이서(500)는 감광성 수지 조성물을 이용하여 상기 투명 도전층(200) 상에 도포하고 열처리하는 단계를 포함하며, 이를 통해 도포막을 형성한 후 노광 및 현상함으로써 컬럼 스페이서(500) 패턴을 형성할 수 있다. The above column spacer (500) includes a step of applying a photosensitive resin composition onto the transparent conductive layer (200) and performing a heat treatment, and thereby forming a coating film, and then exposing and developing it to form a column spacer (500) pattern.

상기 도포 방법으로는 특별히 한정되지 않으며, 롤 코팅, 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등과 같은 코팅 방법 또는 프린팅 공정 등에 의해 실시될 수 있다. The above coating method is not particularly limited, and may be carried out by a coating method or a printing process such as roll coating, spin coating, slit coating, inkjet printing, etc.

상기 열처리는 50 ~ 100℃에서 수행될 수 있으며, 이러한 열처리 공정을 거치더라도 상기 편광 필름(100)은 상기 캐리어 기판(400)에 점착되어 있으며, 상기 캐리어 기판(400) 및 감온성 점착층(300)은 공정을 진행함에 있어 상기 열처리 온도에 대하여 내열성을 갖고 있으므로 열처리에 의한 편광 필름(100)의 수축, 팽창, 열화 등의 변형을 최소화할 수 있다. The above heat treatment can be performed at 50 to 100°C, and even after undergoing this heat treatment process, the polarizing film (100) is adhered to the carrier substrate (400), and the carrier substrate (400) and the temperature-sensitive adhesive layer (300) have heat resistance to the heat treatment temperature during the process, so that deformation such as shrinkage, expansion, and deterioration of the polarizing film (100) due to the heat treatment can be minimized.

따라서 스마트 윈도우의 제공을 위하여 내열 성능이 다소 부족한 재질이 포함되어 있는 경우에도, 본 발명의 제조방법에 의하면 상기와 같은 열처리를 수행하더라도 안정적으로 컬럼 스페이서 형성이 가능하며 스마트 윈도우의 변형이 발생되지 않는다.Therefore, even if a material with somewhat insufficient heat resistance is included in order to provide a smart window, the manufacturing method of the present invention enables stable formation of a column spacer even if the heat treatment as described above is performed, and deformation of the smart window does not occur.

상기 컬럼 스페이서(500)용 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 것일 수 있다. The photosensitive resin composition for the above column spacer (500) may include a binder resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 바인더 수지는 현상 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 부여하는 성분으로 알칼리 현상액에 용해 가능하다면 제한 없이 사용 가능하다. 상기 바인더 수지는 패턴을 형성할 때의 현상 처리 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 가지고, 저온경화성 특성을 향상시키기 위해, 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체를 공중합하거나, 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 및 공중합 가능한 불포화 단량체를 중합하여 상기 바인더 수지를 제조할 수 있다.The above binder resin is a component that provides solubility in an alkaline developer used in a development process, and can be used without limitation as long as it is soluble in an alkaline developer. The binder resin has solubility in an alkaline developer used in a development process when forming a pattern, and in order to improve low-temperature curing characteristics, the binder resin can be manufactured by copolymerizing an ethylenically unsaturated monomer having a carboxyl group, or by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having a carboxyl group and a copolymerizable unsaturated monomer.

상기 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타아크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 및 상기 디카르복실산의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있으며, 아크릴산 및 메타아크릴산이 바람직하다.Specific examples of the ethylenically unsaturated monomer having the above carboxyl group include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; dicarboxylic acids such as fumaric acid, mesaconic acid, and itaconic acid; and anhydrides of the above dicarboxylic acids; and mono(meth)acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals such as ω-carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate, and acrylic acid and methacrylic acid are preferable.

상기 공중합 가능한 불포화 중합 단량체의 구체적인 예로는, Specific examples of the above copolymerizable unsaturated polymerizable monomers include:

글리시딜기를 갖는 불포화 단량체인 글리시딜메타아크릴레이트;Glycidyl methacrylate, an unsaturated monomer having a glycidyl group;

2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 (메타)아크릴레이트, N-히드록시에틸 아크릴아마이드 등의 히드록시에틸(메타)아크릴레이트류 등의 수산기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체;Ethylenically unsaturated monomers having a hydroxyl group, such as hydroxyethyl (meth)acrylates, such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, and N-hydroxyethyl acrylamide;

스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether;

N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물;N-substituted maleimide compounds such as N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, N-m-hydroxyphenylmaleimide, N-p-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, N-m-methylphenylmaleimide, N-p-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, N-m-methoxyphenylmaleimide, and N-p-methoxyphenylmaleimide;

메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류;Alkyl (meth)acrylates such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, i-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, and t-butyl (meth)acrylate; Alicyclic (meth)acrylates such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth)acrylate, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decan-8-yl (meth)acrylate, 2-dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate;

페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류;Aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate;

3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물; 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.Unsaturated oxetane compounds such as 3-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-trifluoromethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-phenyloxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)oxetane, and 2-(methacryloyloxymethyl)-4-trifluoromethyloxetane; but are not limited thereto.

공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 중합 단량체로는 글리시딜기를 갖는 불포화 단량체인 글리시딜메타아크릴레이트와 테트라하이드로푸릴 메타크릴레이트가 바람직하하다. As polymerizable monomers having unsaturated bonds capable of copolymerization, glycidyl methacrylate and tetrahydrofuryl methacrylate, which are unsaturated monomers having a glycidyl group, are preferable.

상기 공중합 가능한 불포화 단량체 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Each of the above copolymerizable unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

상기 바인더 수지의 함유량은 감광성 수지 조성물 중의 총 중량 대하여 3 내지 40중량%, 바람직하게는 3 내지 20중량%로 포함된다. 상기 바인더 수지의 함유량이 상기 범위이면 현상액에의 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해지므로 바람직하다.The content of the above binder resin is comprised in an amount of 3 to 40 wt%, preferably 3 to 20 wt%, based on the total weight of the photosensitive resin composition. When the content of the above binder resin is within the above range, the solubility in the developer is sufficient, facilitating pattern formation, and preventing film reduction in the pixel portion of the exposed portion during development, thereby improving the omission property of the non-pixel portion, which is preferable.

또한 감광성 수지 조성물의 현상성을 확보하기 위해 바인더 수지의 산가는 30~150mgKOH/g 인 것이 바람직하다. 바인더 수지의 산가가 30mgKOH/g 미만인 경우 감광성 수지 조성물이 충분한 현상속도를 확보하기 어려우며 150mgKOH/g를 초과하는 경우 기판과의 밀착성이 감소되어 패턴의 단락이 발생하기 쉽다. In addition, in order to secure the developability of the photosensitive resin composition, the acid value of the binder resin is preferably 30 to 150 mgKOH/g. If the acid value of the binder resin is less than 30 mgKOH/g, it is difficult for the photosensitive resin composition to secure a sufficient developing speed, and if it exceeds 150 mgKOH/g, the adhesion with the substrate is reduced, making it easy for pattern short-circuiting to occur.

상기 광중합성 화합물은 하기 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로, 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. The above photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by the action of the following photopolymerization initiator, and a monofunctional monomer, a difunctional monomer or a polyfunctional monomer can be used, and it is preferable to use a polyfunctional monomer having two or more functions.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the above monofunctional monomers include, but are not limited to, nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, or N-vinylpyrrolidone.

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올디(메타) 아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타) 아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 또는 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the above bifunctional monomers include, but are not limited to, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, bis(acryloyloxyethyl)ether of bisphenol A, or 3-methylpentanediol di(meth)acrylate.

상기 다관능 단량체의 구체적인 예로는, 트리메틸올 프로판트리(메타) 아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리 (메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴 레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 디펜타 에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the above multifunctional monomers include, but are not limited to, trimethylol propane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylol propane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

또한, 상기 광중합성 화합물은 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 50 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 7 내지 45 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함되는 경우, 스페이서의 강도와 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다.In addition, the photopolymerizable compound may be included in an amount of 5 to 50 wt% based on the total weight of the photosensitive resin composition, preferably 7 to 45 wt%, and more preferably 10 to 20 wt%. When the photopolymerizable compound is included within the above range, the strength and smoothness of the spacer are improved, which is preferable.

상기 광중합 개시제는 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선의 노광에 의해, 상기 광중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 라디칼을 발생하는 화합물이다.The above photopolymerization initiator is a compound that generates radicals capable of initiating polymerization of the photopolymerizable compound upon exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, ultraviolet light, electron beams, or X-rays.

상기 광중합 개시제는, 옥심에스테르계 광중합 개시제를 필수 성분으로 한다.The above photopolymerization initiator contains an oxime ester photopolymerization initiator as an essential component.

상기 옥심에스테르계 화합물로는 2-O-벤조일옥심-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤질)-9H-카바졸-3-일]에타논1-(O-아세틸옥심)(1-[9-Ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone 1-(O-acetyloxime)) 등이 있으며 시판 중인 옥심에스테르계 광중합 개시제로는 BASF사의 Irgacure® OXE 01, Irgacure® OXE 02, Irgacure® OXE 03 등이 있으며 각각의 흡광도와 발생하는 라디칼종이 다양하기 때문에 2종 이상을 혼용하여 사용하는 것이 바람직하다. Examples of the above oxime ester compounds include 2-O-benzoyloxime-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone 1-(O-acetyloxime), etc. Examples of commercially available oxime ester photopolymerization initiators include BASF's Irgacure® OXE 01, Irgacure® OXE 02, and Irgacure® OXE 03, etc. Since each has a different absorbance and generated radical species, it is preferable to use two or more types in combination.

또한, 옥심에스테르계 광중합 개시제 이외의 광중합 개시제를 추가로 병용할 수도 있다. 대표적으로는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 및 티오크산톤계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, a photopolymerization initiator other than an oxime ester-based photopolymerization initiator may be additionally used in combination. Representative examples thereof include at least one compound selected from the group consisting of acetophenone-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, biimidazole-based compounds, and thioxanthone-based compounds.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.Specific examples of the above acetophenone compounds include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propan-1-one, 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, etc.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-[0107] 페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다.Examples of the above benzophenone compounds include benzophenone, 0-benzoylbenzoate methyl, 4-[0107] phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Specific examples of the above triazine compounds include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-1,3,5-triazine, Examples thereof include 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine, etc.

상기 비이미다졸 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the above biimidazole compounds include 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(alkoxyphenyl)biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)biimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, or imidazole compounds in which the phenyl group at the 4,4',5,5' position is substituted by a carboalkoxy group. Among these, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, and 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole are preferably used.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오 크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.Examples of the above thioxanthone compounds include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, etc.

또한, 상기 광중합 개시제는 적외선 투과 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 적외선 투과 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.In addition, the photopolymerization initiator may further include a photopolymerization initiation assistant in order to improve the sensitivity of the infrared transmitting photosensitive resin composition. The infrared transmitting photosensitive resin composition according to the present invention can further improve the sensitivity by containing the photopolymerization initiation assistant, thereby improving the productivity.

상기 광중합 개시 보조제로는, 예를 들어, 아민 화합물, 카르복실산 화합물 및 티올기를 가지는 다관능 티올 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.As the photopolymerization initiation assistant, for example, at least one compound selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and a multifunctional thiol compound having a thiol group can be preferably used.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.As the above amine compound, it is preferable to use an aromatic amine compound, and specifically, aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, and the like can be used.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.The above carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, and specific examples thereof include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, and the like.

상기 티올기를 가지는 다관능 티올 화합물로는, 예를 들어, 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional thiol compounds having the above thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, 1,3,5-tris(3-mercaptobutyloxyethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis(3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), etc.

또한, 상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 상기 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.In addition, the photopolymerization initiator may further include a photopolymerization initiation assistant to improve the sensitivity of the photosensitive resin composition. By containing the photopolymerization initiation assistant, the photosensitive resin composition can further increase the sensitivity and improve productivity.

상기 광중합 개시 보조제는 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 다관능 티올화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.The photopolymerization initiation assistant may preferably be one or more compounds selected from the group consisting of, for example, amine compounds, carboxylic acid compounds, and multifunctional thiol compounds.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.As the above amine compound, it is preferable to use an aromatic amine compound, and specifically, aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, and the like can be used.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.The above carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, and specific examples thereof include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, and the like.

상기 다관능 티올화합물로는 Tris-[(3-mercaptopropionyloxy)-ethyl]-isocyanurate, Trimethylolpropane tris -3-mercaptopropionate), Pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate), Dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate) 등이 있다. The polyfunctional thiol compounds include Tris-[(3-mercaptopropionyloxy)-ethyl]-isocyanurate, Trimethylolpropane tris -3-mercaptopropionate), Pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate), and Dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate).

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물의 총 중량을 기준으로 1 내지 20 중량%, 바람직하는 1 내지 10 중량% 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상술한 범위 내에 있으면, 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상될 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 상술한 조건의 조성물을 사용하여 형성한 스페이서의 강도와 상기 스페이서의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다. 또한 상기 옥심에스테르계 광중합 개시제의 경우 전체 광중합 개시제 중 10 내지 100 중량%, 바람직하게는 20 내지 100 중량%를 포함해야 한다. 전체 광중합 개시제 중 옥심에스테르계 광중합 개시제의 비율이 10 중량% 미만일 경우 염료에 의한 감도 저하가 극복되지 못하고 현상공정 중 패턴의 단락이 발생하기 쉽다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 1 to 20 wt%, preferably 1 to 10 wt%, based on the total weight of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is within the above-described range, the photosensitive resin composition becomes highly sensitive, so that the exposure time is shortened, thereby improving productivity, which is preferable. In addition, the strength of the spacer formed using the composition under the above-described conditions and the smoothness on the surface of the spacer may be improved. In addition, in the case of the oxime ester-based photopolymerization initiator, it should be included in an amount of 10 to 100 wt%, preferably 20 to 100 wt%, of the total photopolymerization initiator. When the proportion of the oxime ester-based photopolymerization initiator in the total photopolymerization initiator is less than 10 wt%, the decrease in sensitivity due to the dye cannot be overcome, and pattern short-circuiting is likely to occur during the developing process.

또한, 상기 광중합 개시 보조제를 더 사용하는 경우, 상기 광중합 개시 보조제는 고형분을 기준으로 바인더 수지와 광중합성 화합물의 합 100중량부에 대해서 0.1 내지 40 중량부, 바람직하게는 1 내지 30 중량부 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시 보조제의 사용량이 상술한 0.1 내지 40 중량부의 범위 내에 있으면 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 스페이서의 생산성이 향상되는 효과를 제공한다.In addition, when the photopolymerization initiation auxiliary agent is further used, the photopolymerization initiation auxiliary agent may be included in an amount of 0.1 to 40 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on the solid content, per 100 parts by weight of the total of the binder resin and the photopolymerizable compound. When the amount of the photopolymerization initiation auxiliary agent used is within the range of 0.1 to 40 parts by weight described above, the sensitivity of the photosensitive resin composition is further increased, and the productivity of the spacer formed using the composition is improved.

상기 바인더 수지에 사용되는 용제는 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면 가능한데, 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제가 바람직하다. 좀더 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용할 수 있으며, 나아가 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및/또는 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온의 용제가 바람직하다.The solvent used in the above binder resin may be any solvent effective in dissolving other components included in the photosensitive resin composition, but an organic solvent having a boiling point of 100°C to 200°C is preferable in terms of applicability and drying property. More preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, butalactate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, etc. can be used, and further, a solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate and/or 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone is preferable.

상기 용제와 함께 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인, 통상의 감광성 수지 조성물에서 사용되는 용제를 추가로 혼용하여 사용가능하다. 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.It is possible to additionally use a solvent used in a conventional photosensitive resin composition that is effective in dissolving other components included in the photosensitive resin composition together with the above solvent. In particular, ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters or amides are preferable.

구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜 디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; Specifically, ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate;

프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.Examples thereof include alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin; esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and cyclic esters such as γ-butyrolactone.

상기 용제는 감광성 수지 조성물의 총 중량을 기준으로 60 내지 90 중량%, 바람직하게 는 70 내지 85 중량% 포함될 수 있다. 상기 용제가 상술한 60 내지 90 중량%의 범위이면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.The above solvent may be included in an amount of 60 to 90 wt%, preferably 70 to 85 wt%, based on the total weight of the photosensitive resin composition. When the above solvent is in the range of 60 to 90 wt% as described above, it provides an effect of improving the coatability when applied using a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit-and-spin coater, a slit coater (sometimes also called a die coater), or an inkjet.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 상기 성분 외에 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 당업자의 필요에 따라 산화방지제, 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 밀착 촉진제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 병용하는 것도 가능하다.In addition to the above components, the photosensitive resin composition of the present invention may also contain additives such as antioxidants, fillers, other polymer compounds, curing agents, adhesion promoters, ultraviolet absorbers, and anti-coagulants, as needed by those skilled in the art, within a range that does not impair the purpose of the present invention.

시판중인 산화방지제로는 아데카사의 ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50F, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-80, ADK STAB 1178, ADK STAB TPP, ADK STAB 1500, ADK STAB 135A, ADK STAB 3010 등이 있다. Commercially available antioxidants include ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50F, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-80, ADK STAB 1178, ADK STAB TPP, ADK STAB 1500, ADK STAB 135A, and ADK STAB 3010 from Adeka.

상기 충진제는 구체적으로, 유리, 실리카, 알루미나 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, the filler may be glass, silica, alumina, etc., but is not limited thereto.

상기 다른 고분자 화합물은 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜 모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above other polymer compounds may specifically include, but are not limited to, curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane.

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 구체적으로 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 에폭시 화합물은 구체적으로, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 옥세탄 화합물은 구체적으로, 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산 디카르복실산비스옥세탄 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The above curing agent is used to increase deep curing and mechanical strength, and specifically, epoxy compounds, polyfunctional isocyanate compounds, melamine compounds, oxetane compounds, etc. can be used, but are not limited thereto. Specifically, the epoxy compound can be bisphenol A-based epoxy resin, hydrogenated bisphenol A-based epoxy resin, bisphenol F-based epoxy resin, hydrogenated bisphenol F-based epoxy resin, novolak-type epoxy resin, other aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidyl ester-based resins, glycidyl amine-based resins, or brominated derivatives of these epoxy resins, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and brominated derivatives thereof, butadiene (co)polymer epoxides, isoprene (co)polymer epoxides, glycidyl (meth)acrylate (co)polymers, triglycidyl isocyanurate, etc., but are not limited thereto. The above oxetane compound may specifically be, but is not limited to, carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, cyclohexane dicarboxylic acid bisoxetane, etc.

상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 구체적으로, 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 사용할 수 있다. 상기 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 시판되는 상기 에폭시 수지 경화제로서는 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다.The above curing agent can be used together with a curing auxiliary compound which can cause the epoxy group of the epoxy compound and the oxetane skeleton of the oxetane compound to ring-open and polymerize together with the curing agent. Specific examples of the above curing auxiliary compound include polycarboxylic acids, polycarboxylic anhydrides, and acid generators. The above carboxylic anhydrides can be those commercially available as epoxy resin curing agents. Examples of the commercially available epoxy resin curing agents include product names such as (ADEKAHADONA EH-700) (manufactured by ADEKA Kogyo Co., Ltd.), (RIKASHIDO HH) (manufactured by Shin Nippon Eika Co., Ltd.), and (MH-700) (manufactured by Shin Nippon Eika Co., Ltd.).

상기에서 예시한 경화제 및 경화 보조 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.The curing agents and curing auxiliary compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 밀착 촉진제는 구체적으로, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토 프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란 및 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The adhesion accelerator may be specifically selected from the group consisting of vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, and 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, or a mixture thereof. there is.

상기 자외선 흡수제는 구체적으로, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The above ultraviolet absorbent may specifically be, but is not limited to, 2-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone, etc.

상기 응집 방지제는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The above-mentioned anti-coagulant may specifically include, but is not limited to, sodium polyacrylate.

상기 첨가제는 감광성 수지 조성물 중의 총 중량 대하여 0.01 내지 20중량%, 바람직하게는 0.1 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하다. It is preferable that the above additive be included in an amount of 0.01 to 20 wt%, preferably 0.1 to 10 wt%, based on the total weight of the photosensitive resin composition.

상기 노광 공정은 상기 화소 영역을 선택적으로 노출시키는 마스크를 사용한 자외선 노광(예를 들면, g-라인, h-라인, i-라인, KrF 광원 사용)을 포함할 수 있다. 이후, 비노광 영역을 현상액을 사용하여 선택적으로 제거함으로써 목적으로 하는 패턴 형상을 갖는 상기 패턴을 형성할 수 있다.The above exposure process may include ultraviolet exposure (e.g., using a g-line, h-line, i-line, or KrF light source) using a mask that selectively exposes the pixel area. Thereafter, the unexposed area is selectively removed using a developer, thereby forming the pattern having the desired pattern shape.

상기 현상액은 예를 들면, 무기 또는 유기 알칼리성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 무기 알칼리성 화합물의 예로서 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 상기 유기 알칼리성 화합물의 예로서 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The developer may include, for example, an inorganic or organic alkaline compound. Examples of the inorganic alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia, and the like. Examples of the organic alkaline compounds include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상 공정 이후, 추가 가열 경화 공정(포스트베이크, 후 소성)을 통하여 상기 컬럼 스페이서(500) 패턴을 보다 단단하게 경화시킬 수 있으며, 이 때 가열 온도는 90 내지 180℃일 수 있고, 가열 시간은 5 내지 180 분, 바람직하게는 15 내지 90 분일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.After the above development process, the column spacer (500) pattern can be more firmly hardened through an additional heating hardening process (post-bake, post-firing). At this time, the heating temperature can be 90 to 180°C, and the heating time can be 5 to 180 minutes, preferably 15 to 90 minutes, but is not limited thereto.

본 발명의 일 실시예에 따른 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법은, 상기 감온성 점착층(300)을 포함하는 캐리어 기판(400)을 박리하는 단계(S104)를 포함한다.A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate according to one embodiment of the present invention includes a step (S104) of peeling off a carrier substrate (400) including the temperature-sensitive adhesive layer (300).

상기 컬럼 스페이서(500)를 형성한 후 0℃ 이하에서 박리시키며, 바람직하게는 -40 내지 0℃에서 박리시킬 수 있다.After forming the above column spacer (500), it can be peeled off at 0°C or lower, and preferably at -40 to 0°C.

따라서 상기와 같이 0℃ 이하에서 감온성 점착층의 박리력 특성 변화로 인하여 상기 편광 필름으로부터 상기 감온성 점착층(300)이 깨끗하게 박리될 수 있어 캐리어 기판(400)을 용이하게 박리할 수 있다.Therefore, as described above, due to the change in the peeling force characteristics of the temperature-sensitive adhesive layer at 0℃ or lower, the temperature-sensitive adhesive layer (300) can be cleanly peeled from the polarizing film, so that the carrier substrate (400) can be easily peeled.

< 투과율 가변 광학 적층체 > < Optical laminate with variable transmittance >

본 발명은 이상 설명한 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법에 따라 제조된 투과율 가변 광학 적층체를 포함한다.The present invention includes a transmittance variable optical laminate manufactured according to the method for manufacturing a transmittance variable optical laminate described above.

도 4는, 본 발명의 다른 실시 예에 따른, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체의 적층 구조를 나타낸 도이다.FIG. 4 is a diagram showing the laminated structure of a transmittance variable optical laminate manufactured by a method for manufacturing a transmittance variable optical laminate according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 투과율 가변 광학 적층체는, 복수 개의 편광 필름(100), 투명 도전층(200) 및 컬럼 스페이서(500)를 포함할 수 있으며, 그 사이에 액정층(550)이 배치된 형태의 적층체일 수 있다. 이 경우, 예컨대 상술한 바와 같은 방법으로 제조되어 하부 편광 필름(100-1), 하부 투명 도전층(200-1) 및 컬럼 스페이서(500)가 차례로 적층된 제1 적층체(10)를 준비하고, 상부 투명 도전층(200-2)이 형성된 상부 편광 필름(100-2)을 제2 적층체(20)로써 별도로 준비하여 상기 컬럼 스페이서(500)를 중심으로 하여 투명 도전층(200) 및 편광 필름(100)이 서로 대향되도록 배치하고 그 사이의 컬럼 스페이서(500)가 형성되어 있는 공간에 액정 화합물을 주입 또는 적하함으로써 액정층(550)을 배치할 수 있다. 상기 제1 적층체(10) 및 제2 적층체(20)는, 필요에 따라 점착층(600), 배향막(250-1, 250-2), 자외선 흡수층, 하드 코팅층 등을 더 포함하는 것일 수 있다.The optical laminate with variable transmittance of the present invention may include a plurality of polarizing films (100), transparent conductive layers (200), and column spacers (500), and may be a laminate in the form of a liquid crystal layer (550) disposed therebetween. In this case, for example, a first laminate (10) is prepared by the method described above in which a lower polarizing film (100-1), a lower transparent conductive layer (200-1), and a column spacer (500) are sequentially laminated, and an upper polarizing film (100-2) on which an upper transparent conductive layer (200-2) is formed is separately prepared as a second laminate (20), and the transparent conductive layer (200) and the polarizing film (100) are disposed to face each other with the column spacer (500) as the center, and a liquid crystal compound is injected or dropped into the space between them in which the column spacer (500) is formed, thereby disposing the liquid crystal layer (550). The above first laminate (10) and second laminate (20) may further include an adhesive layer (600), an alignment film (250-1, 250-2), an ultraviolet absorption layer, a hard coating layer, etc., as needed.

상기 액정층(550)은, 전계에 따라 일 또는 복수의 방향에서 입사되는 광의 투과도를 조절함으로써, 상기 광학 적층체의 구동 모드를 변경시킬 수 있으며, 액정 화합물을 포함한다. 상기 액정 화합물은, 전계에 따라 구동되는 것으로 광의 투과율을 제어할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 종래 또는 이후 개발되는 액정 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 상술한 코팅형 편광자의 반응성 액정 화합물에 관한 내용이 동일하게 적용될 수 있다.The liquid crystal layer (550) can change the driving mode of the optical laminate by controlling the transmittance of light incident from one or more directions according to an electric field, and includes a liquid crystal compound. The liquid crystal compound is not particularly limited as long as it is capable of controlling the transmittance of light by being driven according to an electric field, and a liquid crystal compound developed in the past or later can be used. For example, the content regarding the reactive liquid crystal compound of the above-described coated polarizer can be equally applied.

상기 액정 화합물의 액정 거동 방식은 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들어, TN(Twisted nematic) 모드로 구동될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, STN(Super twisted nematic) 모드, VA(Vertical alignment) 모드 등에 의해서도 구동될 수 있다.The liquid crystal behavior of the above liquid crystal compound is not particularly limited, and for example, it can be driven in a TN (Twisted nematic) mode, but is not limited thereto, and can also be driven in an STN (Super twisted nematic) mode, a VA (Vertical alignment) mode, etc.

일 실시 예에 있어서, 상기 액정층(550)은, TN(Twisted Nematic)모드로 구동되는 것일 수 있다. 이 경우, 상술한 편광 필름(100)과의 광학적 설계를 통해 광학 적층체의 투광 모드와 차광 모드 간의 투과율 가변 범위를 향상시킬 수 있으며, 광학 적층체의 대형화가 용이하다는 측면에서 이점이 있을 수 있다. In one embodiment, the liquid crystal layer (550) may be driven in a TN (Twisted Nematic) mode. In this case, the optical design with the polarizing film (100) described above may improve the transmittance variable range between the light-transmitting mode and the light-shielding mode of the optical laminate, and there may be an advantage in that the optical laminate can be easily enlarged.

본 발명의 투과율 가변 광학 적층체는, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서 다른 부재를 더 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들어, 광학 적층체의 일면 또는 양면 상에 점착층(600)을 더 포함하는 것일 수 있고, 배향막(250-1, 250-2), 자외선 흡수층, 하드 코팅층 등을 더 포함하는 것일 수도 있다.The optical laminate with variable transmittance of the present invention may further include other members within a range that does not impair the purpose of the present invention, for example, it may further include an adhesive layer (600) on one or both sides of the optical laminate, and may further include an alignment film (250-1, 250-2), an ultraviolet absorption layer, a hard coating layer, etc.

상기 점착층(600)은, 점착제를 사용하여 형성될 수 있으며, 광학 적층체의 취급 시 박리, 기포 등이 발생하지 않도록 적절한 점착력을 가짐과 동시에, 투명성 및 열안정성을 갖는 것이 바람직하다.The above adhesive layer (600) can be formed using an adhesive, and it is preferable that it have appropriate adhesive strength to prevent peeling, bubbles, etc. from occurring when handling the optical laminate, while also having transparency and thermal stability.

상기 점착제는, 종래 또는 이후 개발되는 점착제를 사용할 수 있으며, 일 또는 복수의 실시 형태에 있어서, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제 등을 사용할 수 있다. 상기 점착제는, 점착력과 점탄성을 갖는 것이면 특별히 제한되지는 않으나, 입수 용이성 등의 측면에서 바람직하게는, 아크릴계 점착제일 수 있고, 예를 들어, (메타)아크릴레이트 공중합체, 가교제 및 용제 등을 포함하는 것일 수 있다.The adhesive may be a conventional or later-developed adhesive, and in one or more embodiments, an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl alcohol adhesive, a polyvinyl pyrrolidone adhesive, a polyacrylamide adhesive, a cellulose adhesive, a vinyl alkyl ether adhesive, or the like may be used. The adhesive is not particularly limited as long as it has adhesive strength and viscoelasticity, but in terms of ease of acquisition, etc., it may preferably be an acrylic adhesive, and may include, for example, a (meth)acrylate copolymer, a crosslinking agent, a solvent, or the like.

상기 가교제는, 종래 또는 이후 개발되는 가교제를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 폴리이소시아네이트화합물, 에폭시수지, 멜라민수지, 요소수지, 디알데히드류, 메틸올폴리머 등을 포함하는 것일 수 있고, 바람직하게는 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 것일 수 있다.The crosslinking agent may be a crosslinking agent that has been developed in the past or will be developed in the future, and may include, for example, a polyisocyanate compound, an epoxy resin, a melamine resin, a urea resin, dialdehydes, a methylol polymer, etc., and preferably, a polyisocyanate compound.

상기 용제는, 수지 조성물 분야에서 사용되는 통상의 용매를 포함할 수 있으며, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌글리콜 메톡시 알코올 등의 알코올계 화합물; 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤 등의 케톤계 화합물; 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 메톡시 아세테이트 등의 아세테이트계 화합물; 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 프로필 셀로솔브 등의 셀로솔브계 화합물; 헥산, 헵탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소계 화합물 등의 용매들이 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다.The above solvent may include a typical solvent used in the field of resin compositions, and for example, alcohol compounds such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and propylene glycol methoxy alcohol; ketone compounds such as methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, and dipropyl ketone; acetate compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and propylene glycol methoxy acetate; cellosolve compounds such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and propyl cellosolve; and hydrocarbon compounds such as hexane, heptane, benzene, toluene, and xylene. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 점착층(600)의 두께는 점착체의 역할을 하는 수지의 종류, 점착 강도, 점착제가 이용되는 환경 등에 따라 적절하게 결정될 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 상기 점착층(600)은, 충분한 점착력을 확보하고 광학 적층체의 두께를 최소화하기 위하여, 0.01 내지 50㎛일 수 있고, 바람직하게는 0.05 내지 20㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10㎛의 두께를 갖는 것일 수 있다.The thickness of the adhesive layer (600) may be appropriately determined depending on the type of resin that acts as the adhesive, the adhesive strength, the environment in which the adhesive is used, etc. In one embodiment, the adhesive layer (600) may have a thickness of 0.01 to 50 μm, preferably 0.05 to 20 μm, and more preferably 0.1 to 10 μm, in order to secure sufficient adhesive strength and minimize the thickness of the optical laminate.

상기 배향막(250-1, 250-2)은, 배향성 고분자, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 배향막 코팅 조성물을 도포한 뒤 러빙 공정에 의해 형성되는 것일 수 있다. 상기 배향성 고분자는, 특별히 한정되지 않으나, 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리아믹산 수지, 폴리이미드계 수지, 신나메이트기를 포함하는 고분자 등을 사용할 수 있으며, 종래 또는 이후 개발되는 배향성을 나타낼 수 있는 고분자를 사용할 수 있다. The above-mentioned alignment film (250-1, 250-2) may be formed by a rubbing process after applying an alignment film coating composition containing an alignment polymer, a photopolymerization initiator, and a solvent. The alignment polymer is not particularly limited, but may be a polyacrylate-based resin, a polyamic acid resin, a polyimide-based resin, a polymer containing a cinnamate group, etc., and a polymer capable of exhibiting alignment that has been developed in the past or in the future may be used.

상기 자외선 흡수층은, 자외선에 따른 광학 적층체의 열화를 방지하기 위한 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 살리실산계 자외선 흡수제(페닐살리실레이트, p-tert-부틸살리실레이트 등), 벤조페논계 자외선 흡수제(2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등), 벤조트리아졸계 자외선 흡수제(2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라히드로프탈이미드메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2-메틸렌비스(4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀), 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)-페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(1-메틸-1-페닐에틸)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페닐)벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 옥틸-3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트와 2-에틸헥실-3-[3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트의 혼합물 등), 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제(2'-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3-(3',4'-메틸렌디옥시페닐)-아크릴레이트 등), 트리아진계 자외선 흡수제 등을 사용할 수 있으며, 투명성이 높고, 편광 필름이나 투과율 가변층의 열화를 방지하는 효과가 우수한 벤조트리아졸계 자외선 흡수제나 트리아진계 자외선 흡수제가 바람직하며, 분광 흡수 스펙트럼이 보다 적절한 벤조트리아졸계 자외선 흡수제가 특히 바람직하다. 상기 벤조트리아졸계 자외선 흡수제는 비스(Bis)화한 것일 수도 있으며, 예를 들어 6,6'-메틸렌비스(2-(2H-벤조[d][1,2,3]트리아졸-2-일)-4-(2,4,4-트리메틸펜탄-2-일)페놀), 6,6'-메틸렌비스(2-(2H-벤조[d][1,2,3]트리아졸-2-일)-4-(2-히드록시에틸)페놀) 등일 수 있다.The above ultraviolet absorbing layer is not particularly limited as long as it is for preventing deterioration of the optical laminate due to ultraviolet rays, and examples thereof include salicylic acid-based ultraviolet absorbers (phenyl salicylate, p-tert-butyl salicylate, etc.), benzophenone-based ultraviolet absorbers (2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, etc.), benzotriazole-based ultraviolet absorbers (2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-tert-butylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-tert-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-Hydroxy-3'-(3",4",5",6"-tetrahydrophthalimidemethyl)-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2,2-Methylenebis(4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-(2H-benzotriazol-2-yl)phenol), 2-(2'-Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-(2-octyloxycarbonylethyl)-phenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-Hydroxy-3'-(1-methyl-1-phenylethyl)-5'-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-phenyl)benzotriazole, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(linear and branched dodecyl)-4-methylphenol, mixtures of octyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate and 2-ethylhexyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate, etc.), cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers (2'-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate, ethyl-2-cyano-3-(3',4'-methylenedioxyphenyl)-acrylate, etc.), triazine-based ultraviolet absorbers, etc., can be used, and benzotriazole-based ultraviolet absorbers with high transparency and excellent effect in preventing deterioration of polarizing films or variable transmittance layers, Triazine-based UV absorbers are preferred, and benzotriazole-based UV absorbers having a more appropriate spectral absorption spectrum are particularly preferred. The benzotriazole-based UV absorbers may be bis-based, and examples thereof include 6,6'-methylenebis(2-(2H-benzo[d][1,2,3]triazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol), 6,6'-methylenebis(2-(2H-benzo[d][1,2,3]triazol-2-yl)-4-(2-hydroxyethyl)phenol), and the like.

상기 하드 코팅층은, 외부의 물리적, 화학적 충격으로부터 편광 필름, 투과율 가변층 등의 부재를 보호하기 위한 것이면 특별히 제한되지 않으며, 종래 또는 이후에 개발되는 하드 코팅층이 사용될 수 있다.The above hard coating layer is not particularly limited as long as it is for protecting components such as a polarizing film and a variable transmittance layer from external physical or chemical impacts, and a hard coating layer developed previously or later may be used.

일 실시 예에 있어서, 상기 하드 코팅층은, 타 부재 상에 하드 코팅층 형성용 조성물을 도포한 후 광 또는 열에 의해 경화시켜 형성될 수 있다. 상기 하드 코팅층 형성용 조성물은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 광경화성 화합물 및 광개시제를 포함할 수 있다.In one embodiment, the hard coating layer can be formed by applying a composition for forming a hard coating layer on another member and then curing it with light or heat. The composition for forming the hard coating layer is not particularly limited and may include, for example, a photocurable compound and a photoinitiator.

상기 광경화성 화합물 및 광개시제는 당 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면 상기 광경화성 화합물은 광중합성 모노머, 광중합성 올리고머 등일 수 있고, 예를 들면 단관능 및/또는 다관능 (메타)아크릴레이트를 들 수 있고, 광개시제는 옥심에스테르계 등을 들 수 있다.The photocurable compound and photoinitiator can be used without limitation as those commonly used in the art, for example, the photocurable compound can be a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, etc., and examples thereof include monofunctional and/or polyfunctional (meth)acrylates, and the photoinitiator can include oxime esters, etc.

<스마트 윈도우><Smart Window>

본 발명은, 상기 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체에 더하여, 이를 포함하는 스마트 윈도우를 포함한다. 또한, 본 발명은, 상기 스마트 윈도우를 포함하는 교통 수단, 예를 들어, 상기 스마트 윈도우를 전면창, 후면창, 측면창, 썬루프창, 및 내부 칸막이 중 적어도 하나 이상에 적용한 자동차, 상기 스마트 윈도우를 포함하는 웨어러블 장치 및 건축용 창호를 포함한다.The present invention includes a smart window including the same, in addition to the transmittance variable optical laminate manufactured by the method for manufacturing the above-described transmittance variable optical laminate. In addition, the present invention includes a means of transportation including the smart window, for example, an automobile applying the smart window to at least one of a front window, a rear window, a side window, a sunroof window, and an interior partition, a wearable device including the smart window, and an architectural window.

예를 들면, 본 발명의 스마트 윈도우를 포함하는 자동차는, 편광 필름(100), 투명 도전층(200), 액정층 및 점착층(600)을 포함하는 광학 적층체의 양면 상에 차량용 글라스(700)를 접합한 것(도 5 참조)일 수 있고, 예를 들어, 광학 적층체의 양면 상에 접착 필름 및 차량용 글라스를 올린 뒤, Press machine을 사용하여 온도 90

Figure pat00001
및 약1bar 진공 상태에서 10~20분 가열하여 제조된 것일 수 있고, 상기 접착 필름은 EVA 필름, PVB 필름 등을 포함하는 것일 수 있다. For example, an automobile including a smart window of the present invention may be a vehicle glass (700) bonded on both sides of an optical laminate including a polarizing film (100), a transparent conductive layer (200), a liquid crystal layer, and an adhesive layer (600) (see FIG. 5), and for example, an adhesive film and vehicle glass are placed on both sides of the optical laminate, and then a press machine is used to press the vehicle glass at a temperature of 90
Figure pat00001
And it can be manufactured by heating for 10 to 20 minutes in a vacuum state of about 1 bar, and the adhesive film can include an EVA film, a PVB film, etc.

또한 상기 광학 적층체의 일면(도 6a 참조) 또는 양면(도 6b 참조) 상에 건물용 창호(창호용 글라스, 800)를 접합한 것 일 수 있고, 광학 적층체의 일면 상에 창호용 글라스를 라미네이트 방식으로 접합하여 도 6a와 동일한 구성의 창호용 스마트 윈도우 제품을 제조한 것 일 수 있고, 광학 적층체의 양면 상에 창호용 글라스를 UV접착제 도포 후 접합한 후 UV 경화하여 도 6b와 동일한 구성의 창호용 스마트 윈도우 제품을 제조한 것일 수 있다.In addition, a building window (window glass, 800) may be bonded to one side (see FIG. 6a) or both sides (see FIG. 6b) of the optical laminate, and a smart window product for a window having the same configuration as FIG. 6a may be manufactured by bonding window glass to one side of the optical laminate in a laminated manner, and a smart window product for a window having the same configuration as FIG. 6b may be manufactured by bonding window glass to both sides of the optical laminate after applying UV adhesive thereto and then UV curing.

이하, 구체적으로 본 발명의 실시예를 기재한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and these embodiments are provided only to ensure that the disclosure of the present invention is complete and to fully inform those skilled in the art of the invention of the scope of the invention, and the present invention is defined only by the scope of the claims.

제조예Manufacturing example

제조예 1 : 편광 필름 제작Manufacturing Example 1: Manufacturing of polarizing film

(1) 팽윤 처리 공정(1) Swelling treatment process

두께 60 ㎛의 폴리비닐알코올 필름(원단 필름)(가부시키가이샤쿠라레 제조, 상품명 「쿠라레포발필름 VF-PE#6000」, 평균 중합도 2400, 비누화도 99.9 몰%)을 원단 롤로부터 연속적으로 풀어내면서 반송하여, 20℃의 순수가 들어간 팽윤욕에 30초간 침지했다. 이 팽윤 처리 공정에서는, 닙 롤 사이에 주속도의 차를 붙여 롤간 연신(세로 일축 연신)을 행했다. 원단 필름을 기준으로 하는 연신 배율은 2.5배로 했다.A 60 ㎛ thick polyvinyl alcohol film (fabric film) (manufactured by Kuraray Co., Ltd., trade name "Kurare Poval Film VF-PE#6000", average degree of polymerization 2400, degree of saponification 99.9 mol%) was continuously unwound from a fabric roll and conveyed, and immersed in a swelling bath containing pure water at 20°C for 30 seconds. In this swelling treatment process, interrolling (longitudinal uniaxial stretching) was performed by providing a difference in peripheral speed between the nip rolls. The stretching ratio based on the fabric film was 2.5 times.

(2) 염색 처리 공정(2) Dyeing process

이어서, 닙 롤을 통과한 필름을, 순수/요오드화칼륨/요오드/붕산(질량비)이 100/2/0.01/0.3인 30℃의 염색욕에 120초간 침지했다. 이 염색 처리에 있어서도 닙 롤 사이에 주속도의 차를 붙여 롤간 연신(세로 일축 연신)을 행했다. 팽윤 처리 공정 후의 필름을 기준으로 하는 연신 배율은 1.1배로 했다.Next, the film passed through the nip roll was immersed in a dyeing bath at 30°C with a mass ratio of pure/potassium iodide/iodine/boric acid of 100/2/0.01/0.3 for 120 seconds. In this dyeing treatment, inter-rolling (longitudinal uniaxial stretching) was performed by providing a difference in peripheral speed between the nip rolls. The stretching ratio based on the film after the swelling treatment process was set to 1.1 times.

(3) 가교 처리 공정(3) Cross-linking process

이어서, 닙 롤을 통과한 필름을, 순수/요오드화칼륨/붕산(질량비)이 100/12/4인 56℃의 제1 가교욕에 70초간 침지했다. 닙 롤과, 제1 가교욕과 제2 가교욕의 사이에 마련된 닙 롤과의 사이에 주속도의 차를 붙여 롤간 연신(세로 일축 연신)을 행했다. 염색 처리 공정 후의 필름을 기준으로 하는 연신 배율은 1.9배로 했다.Next, the film that passed through the nip roll was immersed in a first crosslinking bath having a mass ratio of 100/12/4 in a 56°C pure potassium iodide/boric acid at a temperature of 100°C for 70 seconds. Roll-to-roll stretching (longitudinal uniaxial stretching) was performed by providing a difference in peripheral speed between the nip roll and the nip roll provided between the first crosslinking bath and the second crosslinking bath. The stretching ratio based on the film after the dyeing treatment process was set to 1.9 times.

(4) 보색 처리 공정(4) Complementary color treatment process

이어서, 가교 처리 후의 필름을 요오드화칼륨/붕산/순수(질량비)가 9/2.9/100인 40℃의 제2 가교욕에 10초간 침지했다.Next, the film after cross-linking treatment was immersed in a second cross-linking bath at 40°C containing potassium iodide/boric acid/pure water (mass ratio) of 9/2.9/100 for 10 seconds.

(5) 세정 처리 공정(5) Cleaning process

이어서, 제2 가교 처리 후의 필름을 14℃의 순수가 들어간 세정욕에 5초간 침지시키고, 샤워량 5m3/h 및 샤워온도 14℃으로 세정하였다.Next, the film after the second cross-linking treatment was immersed in a washing bath containing pure water at 14°C for 5 seconds, and washed with a shower amount of 5 m 3 /h and a shower temperature of 14°C.

(6) 건조 처리 공정(6) Drying process

이어서, 세정 처리 공정 후의 필름을 건조로에 통과시킴으로써 80℃에서 190초간 가열 건조시켜 편광자 필름을 제작하였다. 건조 후 수분율은 13.6%였고, 얻어진 편광자 필름의 두께는 약 21 ㎛였다. Next, the film after the cleaning process was passed through a drying oven, and was dried by heating at 80°C for 190 seconds to produce a polarizer film. The moisture content after drying was 13.6%, and the thickness of the obtained polarizer film was approximately 21 μm.

(7) 접합 처리 공정(7) Bonding process

이어서, 점착제로서, 물 100 질량부에 대하여 폴리비닐알코올을 5 질량부 함유하는 수계 점착제를 조제했다. 이후, 상기 편광자 필름의 양측에, 조제한 UV 점착제를 이용하여 보호 필름을 적층시켰다. 얻어진 적층체에 UV노광을 행하고, 점착제를 경화시켜 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름을 각각 제작했다. 또한, 얻어진 편광 필름에 있어서의 점착제층의 두께는 약 2 ㎛ 였다.Next, as an adhesive, an aqueous adhesive containing 5 parts by mass of polyvinyl alcohol per 100 parts by mass of water was prepared. Thereafter, a protective film was laminated on both sides of the polarizing film using the prepared UV adhesive. The obtained laminate was exposed to UV light and the adhesive was cured to produce an upper polarizing film and a lower polarizing film, respectively. In addition, the thickness of the adhesive layer in the obtained polarizing film was about 2 ㎛.

제조예 2: 하드코팅층 형성용 조성물 제조Manufacturing Example 2: Manufacturing of a composition for forming a hard coating layer

덴드리머 화합물(미원스페셜티케미칼, SP-1106) 16.2g, 무기나노입자 (10 내지 20nm, 실리카 입자: 50 중량%, 용매: 메틸에틸케톤(MEK)) 14.4g, 에틸렌글리콜기를 포함하는 다관능(메타)아크릴레이트 화합물 1.8g, 광개시제 (1-히드록시시클로헥실페닐케톤) 0.7g, 메틸에틸케톤 2.9g을 혼합하여 하드코팅층 형성용 조성물을 제조하였다.A composition for forming a hard coating layer was prepared by mixing 16.2 g of a dendrimer compound (Miwon Specialty Chemical, SP-1106), 14.4 g of inorganic nanoparticles (10 to 20 nm, silica particles: 50 wt%, solvent: methyl ethyl ketone (MEK)), 1.8 g of a multifunctional (meth)acrylate compound containing an ethylene glycol group, 0.7 g of a photoinitiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone), and 2.9 g of methyl ethyl ketone.

제조예 3: 하드코팅층 제작Manufacturing Example 3: Production of a hard coating layer

상기 제조예 2에서 제조된 하드코팅층 형성용 조성물을 제조예 1에서 제조된 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름 각각의 일면에 Mayer Bar 종류 및 고형분 함량을 조정하여 경화 후 하드코팅 두께를 계산하여 Bar코팅하고, 80℃에서 5분 동안 건조한 후 고압 수은램프에서 500mJ/㎠의 광량으로 경화하여 일면 상에 하드코팅층이 형성된 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름을 각각 제작하였다.The composition for forming a hard coating layer manufactured in the above Manufacturing Example 2 was bar-coated on one side of each of the upper and lower polarizing films manufactured in Manufacturing Example 1 by adjusting the Mayer Bar type and solid content to calculate the hard coating thickness after curing, and then dried at 80° C. for 5 minutes and cured with a high-pressure mercury lamp at a light amount of 500 mJ/cm2 to manufacture an upper and lower polarizing film, respectively, having a hard coating layer formed on one side.

제조예 4: 투명 도전층 제작Manufacturing Example 4: Fabrication of a transparent conductive layer

상기 제조예 3에서 제작된 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름을 넣고 450W DC 전력을 인가하여 스퍼터건을 작동시킨 다음, ITO(10wt% Sn doped In2O3) 타겟에 플라즈마를 유도하여 두께 90nm의 상부 투명 도전층 및 하부 투명 도전층을 형성시켰다. 상기 형성된 투명도전층에 50W DC 파워로 이온건을 작동시켜 이온 처리하였다. 이때 상온에서 압력을 3mTorr로 유지하고, 아르곤 가스 및 산소 가스를 30sccm 및 1sccm로 각각 공급하면서 제조하였다. 이때 ITO 두께는 FT-SEM로 측정하였고, ITO 면저항(Ω/□)은 Four point probe를 사용하여 측정하였다.The upper and lower polarizing films manufactured in the above Manufacturing Example 3 were placed, 450 W DC power was applied to operate the sputter gun, and plasma was induced on the ITO (10 wt% Sn doped In 2 O 3 ) target to form an upper transparent conductive layer and a lower transparent conductive layer with a thickness of 90 nm. The formed transparent conductive layer was ion-treated by operating the ion gun with 50 W DC power. At this time, the pressure was maintained at 3 mTorr at room temperature, and argon gas and oxygen gas were supplied at 30 sccm and 1 sccm, respectively, while manufacturing. At this time, the ITO thickness was measured by FT-SEM, and the ITO sheet resistance (Ω/□) was measured using a four point probe.

제조예 5: 감온성 점착층 제작Manufacturing Example 5: Production of a thermosensitive adhesive layer

<감온성 점착제의 제조><Manufacture of thermosensitive adhesive>

감온성 점착제는 감온성 점착층의 양면에 이형필름이 접합되어 있는 형태의 형태로 공급된다. 상온에서 양면의 이형필름과 감온성 점착층 박리력 차이로 박리를 진행하며, 점착층의 양면 중 박리력이 약한 이형필름에 대하여 감온성 점착층과의 박리가 진행된다. 상기 감온성 점착제는 측쇄 결정성 고분자, 가교제 및 대전방지제를 포함하여 제조되는 것으로 상기 성분들의 함량을 적절히 조절하여 목적하는 감온성 점착제를 제조할 수 있다. 상기 감온성 점착제는 편광 필름과 접하는 면의 점착력이, JIS Z0237(180°당겨 벗김)에 따라 측정하였을 때, 폴리이미드 필름 기준으로 25℃에서 1.5N/25mm이고, -20℃에서 0.03N/25mm 었다.The temperature-sensitive adhesive is supplied in a form in which a release film is bonded to both sides of a temperature-sensitive adhesive layer. At room temperature, peeling occurs due to the difference in peel strength between the release films on both sides and the temperature-sensitive adhesive layer, and peeling from the temperature-sensitive adhesive layer occurs with respect to the release film with a weaker peel strength among the two sides of the adhesive layer. The temperature-sensitive adhesive is manufactured by including a side crystalline polymer, a cross-linking agent, and an antistatic agent, and the desired temperature-sensitive adhesive can be manufactured by appropriately adjusting the contents of the above components. The adhesive strength of the side of the temperature-sensitive adhesive that comes into contact with a polarizing film, when measured according to JIS Z0237 (180° pulling peeling), was 1.5 N/25 mm at 25°C and 0.03 N/25 mm at -20°C based on a polyimide film.

감온성 점착제를 원하는 형태 및 사이즈로 재단하여 캐리어 기판의 접합 준비를 실시한다.Cut the temperature-sensitive adhesive to the desired shape and size and prepare it for bonding to the carrier substrate.

<캐리어 기판 접합><Carrier substrate bonding>

캐리어 기판위에, 상기 감온성 점착제에서 이형필름 중 박리력이 약한 이형필름을 박리한 후 캐리어 기판에 상온 ~ 60℃이하의 조건에서 롤러를 이용한 방식으로 부착한다. 이 후, 나머지 이형 필름을 박리하여 하부 편광 필름에서 투명도전층 및 배향막이 형성되지 않은 이면에 상온 ~ 60℃ 조건에서 부착한다. On the carrier substrate, a release film having a weak peeling force among the release films from the above temperature-sensitive adhesive is peeled off and attached to the carrier substrate using a roller under conditions of room temperature to 60°C or lower. Thereafter, the remaining release films are peeled off and attached to the back surface of the lower polarizing film, where the transparent conductive layer and the alignment film are not formed, under conditions of room temperature to 60°C.

제조예 6: 컬럼 스페이서 제작Manufacturing Example 6: Manufacturing of Column Spacer

<바인더 수지의 제조><Manufacture of binder resin>

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen introduction tube was prepared.

모노머 적하 로트로서, 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트 및 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트를 몰비 50:50으로 혼합한 혼합물 40 중량부, 메틸메타크릴레이트 50 중량부, 아크릴산 40중량부, 비닐톨루엔 70 중량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40 중량부를 첨가하여 교반을 준비하였다.As a monomer loading lot, 40 parts by weight of a mixture of 3,4-epoxytricyclodecan-8-yl (meth)acrylate and 3,4-epoxytricyclodecan-9-yl (meth)acrylate in a molar ratio of 50:50, 50 parts by weight of methyl methacrylate, 40 parts by weight of acrylic acid, 70 parts by weight of vinyltoluene, 4 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were added, and stirring was prepared.

연쇄이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 첨가하여 교반을 준비하였다. 이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 첨가하고, 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 교환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 그 후 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시하였다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하였고, 1 시간 후에 110℃까지 승온하여 5 시간 동안 유지하여 고형분 산가가 100㎎·KOH/g이며, 중량평균 분자량이 17000인 바인더 수지의 Si-O 결합을 포함하지 않는 수지를 얻었다.As a chain transfer agent loading tank, 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirring was prepared. Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was added to the flask, and the atmosphere inside the flask was exchanged from air to nitrogen, and the temperature of the flask was raised to 90°C while stirring. Thereafter, the monomer and the chain transfer agent were started to be dropped from the dropping lot. The dropping was performed for 2 hours each while maintaining 90°C, and after 1 hour, the temperature was raised to 110°C and maintained for 5 hours to obtain a binder resin having a solid acid value of 100 mg KOH/g and a weight average molecular weight of 17000 and not including Si-O bonds.

<감광성 수지 조성물의 제조><Preparation of photosensitive resin composition>

상기 수득된 바인더 수지 12.41wt% 와 광중합성 화합물로서 MA0701(POSS, Hybrid Plastic Inc.) 0.59wt% 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(Kayarad DPHA: 닛본 카야꾸㈜) 5.32wt% 와 광중합 개시제로서 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE-02: Ciba사) 1.58wt% 와 첨가제로서 BYK-052N(BYK사) 0.1wt% 와 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 80wt% 조성을 혼합하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared by mixing 12.41 wt% of the obtained binder resin, 0.59 wt% of MA0701 (POSS, Hybrid Plastic Inc.) and 5.32 wt% of dipentaerythritol hexaacrylate (Kayarad DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd.) as photopolymerizable compounds, 1.58 wt% of ethanone-1-[9-ethyl-6-(2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-1-(O-acetyloxime) (Irgacure OXE-02: Ciba) as a photopolymerization initiator, 0.1 wt% of BYK-052N (BYK) as an additive, and 80 wt% of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent.

<스페이서 형성><Spacer formation>

상기의 감광성 수지 조성물을 이용하여 다음과 같은 방법으로 경화막 패턴을 형성하였다. 상기 제조예 5에서 수득된 하부 편광 필름의 투명 도전층 상에 스핀 코터를 사용하여 300rpm으로 코팅하여 수지 도포층을 형성하였다. 도포 후, 핫플레이트로 80℃의 온도로 2분간 건조시켜 도포막 두께를 6㎛ 되도록 하였다. 이후 자외선 등의 활성 에너지선을 조사에너지선량 60mJ/㎠의 범위로 노광하였다. 노광하여 얻은 막을 현상액(0.04% KOH수용액, 25℃)을 사용하여 현상(현상시간 60초)하여 패턴을 형성하였다. 현상 후 80℃ 컨벡션 오븐에 넣은 후 60분 동안 포스트베이크를 수행하였다.Using the above photosensitive resin composition, a cured film pattern was formed by the following method. A spin coater was used to coat the transparent conductive layer of the lower polarizing film obtained in Manufacturing Example 5 at 300 rpm to form a resin coating layer. After coating, the film was dried at a temperature of 80° C. for 2 minutes using a hot plate to have a coating film thickness of 6 μm. Thereafter, the film was exposed to active energy rays such as ultraviolet rays at an irradiation energy dose of 60 mJ/cm2. The film obtained by exposure was developed (developing time 60 seconds) using a developer (0.04% KOH aqueous solution, 25° C.) to form a pattern. After development, the film was placed in an 80° C. convection oven and post-baked for 60 minutes.

제조예 7: 배향막 제작Manufacturing Example 7: Manufacturing of an Alignment Film

상기 제조예 6에서 제작된 컬럼 스페이서 상에 TN배향액(RN-4662, 닛산화학공업)을 코팅 및 건조(80℃, 2분)하였다. 이후, 상기 건조된 배향액 상에 UV를 조사하여, 배향막을 제작하였다.TN alignment solution (RN-4662, Nissan Chemical Industries, Ltd.) was coated and dried (80°C, 2 minutes) on the column spacer manufactured in the above Manufacturing Example 6. Thereafter, UV was irradiated on the dried alignment solution to manufacture an alignment film.

<캐리어 기판 박리><Carrier substrate peeling>

상기 배향막, 컬럼 스페이서 및 투명 도전층이 적층된 편광 필름에 대하여 캐리어 기판을 -40 내지 0℃조건에서 박리를 실시한다. 박리시, 편광 필름의 모서리 끝단을 잡고 박리를 실시하며 -40 내지 0℃조건에서의 감온성 점착층의 박리력 특성 변화로 인해 감온성 점착층과 편광 필름의 박리가 진행된다. 감온성 점착층과 캐리어 기판은 부착된 상태로 함께 박리된다.For the polarizing film on which the above alignment film, column spacer, and transparent conductive layer are laminated, the carrier substrate is peeled off at -40 to 0°C. When peeling, the polarizing film is peeled off while holding the corner ends thereof, and the temperature-sensitive adhesive layer and the polarizing film are peeled off due to changes in the peeling force characteristics of the temperature-sensitive adhesive layer at -40 to 0°C. The temperature-sensitive adhesive layer and the carrier substrate are peeled off together in an attached state.

제조예 8: 광학 적층체 제작Manufacturing Example 8: Manufacturing of optical laminate

상기 제조예 7에서 제조된 하부 편광 필름의 외주면 상에 실런트 디스펜서(SHOTmini 200Ωx, USASHI社)를 사용하여 제품 사이즈에 맞춰 실런트(UVF-006, 7만mPa·s, SEKISUI社)를 도포하였다. 그 후, 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름의 편광축이 서로 0° 또는 90°로 평행하게 배치한 상태에서 상부 편광 필름의 배향막 상에 액정을 ODF 공정방식으로 주입하였다. 그 후, 상부 편광 필름 및 하부 편광 필름을 1.5Kg/cm2의 압력으로 접합한 뒤, 실런트 라인을 따라 UV경화(500mJ/cm2)를 진행하여 스마트 윈도우용 광학 적층체를 제조하였다A sealant (UVF-006, 70,000 mPa s, SEKISUI) was applied to the outer surface of the lower polarizing film manufactured in the above Manufacturing Example 7 using a sealant dispenser (SHOTmini 200Ωx, USASHI) according to the product size. Then, liquid crystal was injected onto the alignment layer of the upper polarizing film using the ODF process while the polarization axes of the upper polarizing film and the lower polarizing film were arranged parallel to each other at 0° or 90°. Thereafter, the upper polarizing film and the lower polarizing film were bonded at a pressure of 1.5 kg/cm 2 , and UV curing (500 mJ/cm 2 ) was performed along the sealant line to manufacture an optical laminate for a smart window.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

실시예 1Example 1

상기 제조예 1 내지 8에 따라 실시예 1의 광학 적층체를 제작하였다. An optical laminate of Example 1 was manufactured according to Manufacturing Examples 1 to 8 above.

비교예 1Comparative Example 1

상기 제조예 5의 감온성 점착층 제작 및 제조예 7의 이후의 <캐리어 기판 박리> 단계를 제외한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 비교예 1의 광학 적층체를 제작하였다.An optical laminate of Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the temperature-sensitive adhesive layer manufacturing of Manufacturing Example 5 and the subsequent <carrier substrate peeling> step of Manufacturing Example 7 were excluded.

구분division 캐리어 기판 접합/박리 여부Carrier substrate bonding/peeling 편광 필름 변형 여부Whether the polarizing film is deformed 실시예 1Example 1 접합○, 박리○Bonding ○, Peeling ○ 변형 없음No deformation 비교예 1Comparative Example 1 접합ⅹ, 박리ⅹBonding X, Peeling X 변형 있음There is a variation

상기 표 1을 참조하면, 본 발명의 감온성 점착제를 사용함으로써 투과율 가변 광학 적층체를 제조하는 경우, 플렉서블한 편광 필름 상에 열처리가 가해지는 공정이 수행되더라도 편광 필름의 변형이 발생되지 않았으며, 또한 플렉서블한 필름에 대한 공정 진행을 도와주는 역할을 하는 캐리어 기판은 공정이 끝난 후 용이하게 박리되어 이로 인한 편광 필름의 변형 역시 발생되지 않은 것을 알 수 있다.Referring to Table 1 above, when a transmittance variable optical laminate is manufactured by using the temperature-sensitive adhesive of the present invention, even when a process of applying heat treatment to a flexible polarizing film is performed, the polarizing film is not deformed, and further, it can be seen that the carrier substrate, which assists in the process progress for the flexible film, is easily peeled off after the process is completed, and thus, no deformation of the polarizing film occurs.

이에 반하여, 본 발명의 감온성 점착제 및 캐리어 기판을 사용하지 않은 비교예 1의 경우, 스페이서를 형성하는 공정을 진행함에 따라 편광 필름에 변형이 발생된 것을 볼 수 있었다.In contrast, in the case of Comparative Example 1, which did not use the temperature-sensitive adhesive and carrier substrate of the present invention, it was observed that deformation occurred in the polarizing film as the process of forming the spacer proceeded.

100: 편광 필름 100-1: 하부 편광 필름
100-2: 상부 편광 필름 200: 투명 도전층
200-1: 하부 투명 도전층 200-2: 상부 투명 도전층
250-1: 배향막 250-2: 배향막
300: 감온성 점착층 400: 캐리어 기판
500: 컬럼 스페이서 550: 액정층
600: 점착층 700: 차량용 글라스
800: 건물용 창호 10: 이형필름
20: 감온성 점착제 30: 이형필름
100: Polarizing film 100-1: Lower polarizing film
100-2: Top polarizing film 200: Transparent conductive layer
200-1: Lower transparent conductive layer 200-2: Upper transparent conductive layer
250-1: Alignment film 250-2: Alignment film
300: Thermosensitive adhesive layer 400: Carrier substrate
500: Column spacer 550: Liquid crystal layer
600: Adhesive layer 700: Automotive glass
800: Windows for buildings 10: Iridescent film
20: Thermosensitive adhesive 30: Release film

Claims (12)

편광 필름의 일면에 투명 도전층을 형성하는 단계;
상기 편광 필름의 이면에, 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 접합하는 단계;
상기 도전층 상에 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및
상기 감온성 점착층을 포함하는 캐리어 기판을 박리하는 단계; 를 포함하는 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
A step of forming a transparent conductive layer on one side of a polarizing film;
A step of bonding a carrier substrate including a temperature-sensitive adhesive layer to the back surface of the polarizing film;
A step of forming a column spacer on the above challenge layer; and
A method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, comprising: a step of peeling off a carrier substrate including the temperature-sensitive adhesive layer;
청구항 1에 있어서,
상기 감온성 점착층은, 상기 편광 필름과 접하는 면의 점착력이, JIS Z0237(180°당겨 벗김)에 따라 측정하였을 때, 폴리이미드 필름 기준으로 25 내지 50℃에서 1.0N/25mm 내지 2.0N/25mm이고, -40 내지 0℃에서 0.05N/25mm 이하인 것인, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, wherein the temperature-sensitive adhesive layer has an adhesive strength on a surface in contact with the polarizing film of 1.0 N/25 mm to 2.0 N/25 mm at 25 to 50°C and 0.05 N/25 mm or less at -40 to 0°C, when measured in accordance with JIS Z0237 (180° peeling) based on a polyimide film.
청구항 1에 있어서,
상기 감온성 점착층은, 양면에 이형필름을 포함하는 감온성 점착제로부터 형성되고, 상기 감온성 점착제는 양면의 이형필름과 점착력이 서로 다른 것인, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate, wherein the temperature-sensitive adhesive layer is formed from a temperature-sensitive adhesive including a release film on both sides, and the temperature-sensitive adhesive has different adhesive strengths from the release films on both sides.
청구항 1에 있어서,
상기 컬럼 스페이서를 형성하는 단계는, 상기 도전층 상에 감광성 수지 조성물을 도포하고 열처리하는 단계를 포함하는 것인, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, wherein the step of forming the column spacer includes the step of applying a photosensitive resin composition on the conductive layer and performing a heat treatment.
청구항 1에 있어서,
상기 캐리어 기판을 박리하는 단계는, 상기 컬럼 스페이서가 형성된 투과율 가변 광학 적층체를 0℃ 이하에서 박리하는 것인, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate, wherein the step of peeling off the carrier substrate comprises peeling off the variable transmittance optical laminate on which the column spacer is formed at 0°C or lower.
청구항 1에 있어서,
상기 투명 도전층은, 상기 편광 필름과의 사이에 별도의 기재를 포함하지 않고, 직접 접촉하여 형성되는, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate, wherein the transparent conductive layer is formed in direct contact with the polarizing film without including a separate substrate between the transparent conductive layer and the polarizing film.
청구항 1에 있어서,
상기 투명 도전층은, 상기 편광 필름에 접착 용이층을 포함하여, 직접 접촉하여 형성되는, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a variable transmittance optical laminate, wherein the transparent conductive layer is formed by direct contact with the polarizing film, including an adhesive-friendly layer.
청구항 1에 있어서,
상기 투명 도전층은, 투명 도전성 산화물, 금속, 탄소계 물질, 전도성 고분자, 도전성 잉크 및 나노 와이어로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 투과율 가변 광학 적층체의 제조방법.
In claim 1,
A method for manufacturing a transmittance variable optical laminate, wherein the transparent conductive layer comprises at least one selected from the group consisting of transparent conductive oxides, metals, carbon-based materials, conductive polymers, conductive inks, and nanowires.
청구항 1 내지 8 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 투과율 가변 광학 적층체.
A transmittance variable optical laminate manufactured by the manufacturing method of any one of claims 1 to 8.
청구항 9에 있어서, 상기 투과율 가변 광학 적층체는, 점착층, 배향막, 자외선 흡수층 및 하드 코팅층으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는, 투과율 가변 광학 적층체.
A variable transmittance optical laminate according to claim 9, wherein the variable transmittance optical laminate further comprises at least one selected from the group consisting of an adhesive layer, an alignment film, an ultraviolet absorbing layer, and a hard coating layer.
편광 필름;
상기 편광 필름의 일면에 형성된 투명 도전층;
상기 투명 도전층 상에 형성된 컬럼 스페이서; 및
상기 편광 필름의 이면에 감온성 점착층을 통해 점착된 캐리어 기판을 포함하며,
상기 캐리어 기판은 상기 컬럼 스페이서 형성 후 제거되는 것인, 투과율 가변 광학 적층체.
polarizing film;
A transparent conductive layer formed on one side of the polarizing film;
A column spacer formed on the transparent conductive layer; and
A carrier substrate is included that is adhered to the back surface of the polarizing film through a temperature-sensitive adhesive layer,
A variable transmittance optical laminate, wherein the carrier substrate is removed after forming the column spacer.
청구항 9의 투과율 가변 광학 적층체를 포함하는, 스마트 윈도우.A smart window comprising a variable transmittance optical laminate of claim 9.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018010035A (en) 2016-07-11 2018-01-18 大日本印刷株式会社 Light control film

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