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KR20240008021A - Low-temperature curable silicone conductive composition having excellent flexibility and resistance stability - Google Patents

Low-temperature curable silicone conductive composition having excellent flexibility and resistance stability Download PDF

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Publication number
KR20240008021A
KR20240008021A KR1020220084844A KR20220084844A KR20240008021A KR 20240008021 A KR20240008021 A KR 20240008021A KR 1020220084844 A KR1020220084844 A KR 1020220084844A KR 20220084844 A KR20220084844 A KR 20220084844A KR 20240008021 A KR20240008021 A KR 20240008021A
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KR
South Korea
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formula
low
curable silicone
weight
parts
Prior art date
Application number
KR1020220084844A
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Korean (ko)
Inventor
변상현
황다울
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주식회사 위글루
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Publication date
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Abstract

본 발명은 유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능한 동시에 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되며, 나아가 제조비용이 절감될 수 있는, 유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a low-temperature curable silicone conductive composition with improved flexibility and resistance stability. Specifically, the present invention is capable of curing at a low temperature of 100°C or lower, while improving flexibility even after curing, improving resistance stability by maintaining resistance even during deformation such as bending, and further improving flexibility and resistance stability, which can reduce manufacturing costs. It relates to improved low-temperature curable silicone conductive compositions.

Description

유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물{Low-temperature curable silicone conductive composition having excellent flexibility and resistance stability}Low-temperature curable silicone conductive composition having excellent flexibility and resistance stability}

본 발명은 유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능한 동시에 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되며, 나아가 제조비용이 절감될 수 있는, 유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a low-temperature curable silicone conductive composition with improved flexibility and resistance stability. Specifically, the present invention is capable of curing at a low temperature of 100°C or lower, while improving flexibility even after curing, improving resistance stability by maintaining resistance even during deformation such as bending, and further improving flexibility and resistance stability, which can reduce manufacturing costs. It relates to improved low-temperature curable silicone conductive compositions.

전기 전도성 페이스트(Electrically Conductive paste)는 PCB 기판 및 전자 디바이스 등에 전기 전도성을 갖도록 하면서 구성요소를 상호 기계적으로 접합시키기 위하여 사용한다. 전기 전도성 페이스트는 납땜과는 달리 페이스트를 구성하는 고분자 수지로 기계적 강도를 유지하면서 그 내부에 충진된 금속 입자들의 치밀한 접촉으로 전기전도도가 발현된다. 구체적으로는 페이스트 중에 분산되어 있는 전도성 입자들이 경화 단계에서 접촉이 일어나 전기 전도성을 발현하는 것이다.Electrically conductive paste is used to mechanically bond components to each other while maintaining electrical conductivity in PCB boards and electronic devices. Unlike soldering, electrically conductive paste maintains mechanical strength with the polymer resin that makes up the paste and develops electrical conductivity through close contact with metal particles filled within it. Specifically, conductive particles dispersed in the paste come into contact during the curing step and develop electrical conductivity.

전기 전도성 페이스트의 납땜 대체용도는 반도체칩의 다이본드, 플립칩 본딩, 수정진동자, 센서 등 전자부품의 조립, 칩 부품 등의 표면실장뿐만 아니라 각종 전극재료 등에 납땜으로는 접합할 수 없는 부분에도 적용이 가능하다. 특히, 고온에 적용하기에 제약이 있는 소재나, 직접 납땜을 할 수 없는 경우에 전기 전도성 페이스트가 대체제로 사용된다. 또한, 최근에는 슁글드(shingled) 구조로 제작되는 태양광 모듈 접합용으로도 각광받고 있다.The use of electrically conductive paste as an alternative to soldering is not only for die bonding of semiconductor chips, flip chip bonding, assembly of electronic components such as crystal oscillators and sensors, and surface mounting of chip components, but also for parts that cannot be joined by soldering, such as various electrode materials. This is possible. In particular, electrically conductive paste is used as a substitute for materials that have restrictions on application at high temperatures or when direct soldering is not possible. Additionally, it has recently been in the spotlight for joining solar modules manufactured in a shingled structure.

전기 전도성 페이스트는 납땜과 비교하여 상대적으로 낮은 온도에서 공정이 가능하고, 납땜 공정이 인체와 환경에 미치는 유해한 부작용을 상당히 줄여줄 수 있는 장점이 있다. 그럼에도 불구하고 납땜이 가지는 상대적으로 우수한 전기전도성, 기계적 강도, 내열성, 내화학성 등을 만족하기 위해서는 보다 많은 특성의 향상이 요구되고 있다. 특히, 유연성과 저항 안정성은 서로 의존적이면서 항상 상충하는 관계이기 때문에 사양 및 요구되는 특성에 적합한 조성비를 최적화하는 과정이 반드시 필요하다.Compared to soldering, electrically conductive paste can be processed at a relatively low temperature and has the advantage of significantly reducing the harmful side effects of the soldering process on the human body and the environment. Nevertheless, in order to satisfy the relatively excellent electrical conductivity, mechanical strength, heat resistance, and chemical resistance of soldering, further improvement in properties is required. In particular, since flexibility and resistance stability are dependent on each other and are always in conflict, a process of optimizing the composition ratio suitable for specifications and required characteristics is essential.

전기 전도성 페이스트는 다양한 재료들이 제조에 사용되고, 각기 다른 조성물에 의해 상이한 화학적, 전기적, 기계적, 열적 특성을 갖는다. 전기 전도성 페이스트의 전기전도성을 높일 수 있는 방법 중 하나는 전도성 필러 함량을 증가시키는 것일 수 있지만 그로 인한 고분자 수지 함량의 감소는 유연성 및 접착강도 저하의 원인이 되기도 한다. 따라서 전기 전도성 페이스트는 요구되는 특성에 맞게 제조 원가를 고려하여 충분한 수준의 유연성과 전기전도성을 동시에 갖는 것이 매우 중요하다.Electrically conductive pastes are made from a variety of materials and have different chemical, electrical, mechanical, and thermal properties due to their different compositions. One way to increase the electrical conductivity of an electrically conductive paste may be to increase the content of conductive filler, but the resulting decrease in the polymer resin content also causes a decrease in flexibility and adhesive strength. Therefore, it is very important that the electrically conductive paste has a sufficient level of flexibility and electrical conductivity at the same time, considering the manufacturing cost to suit the required characteristics.

이와 관련하여, 한국등록특허 제10-1295801호는 입자 형태의 금속 분말과 은 나노와이어(nanowire)를 포함하는 전도성 금속 충진제, 고분자 수지, 첨가제, 경화제 및 경화 촉진제를 포함하는 전기전도성 접착제 조성물을 개시하고 있고, 한국등록특허 제10-0888324호는 수지 내부에 부가되는 도전성 재료간의 접촉률을 향상시킬 수 있도록 탄소 나노튜브가 사용된 도전성 접착제의 제조방법을 개시하고 있다. 그러나, 이러한 종래 특허기술은 저온 경화시 충분한 전기전도도와 접착력을 동시에 구현하는데 한계가 있다.In this regard, Korean Patent No. 10-1295801 discloses an electrically conductive adhesive composition containing a conductive metal filler containing particle-shaped metal powder and silver nanowires, a polymer resin, additives, a curing agent, and a curing accelerator. And Korean Patent No. 10-0888324 discloses a method of manufacturing a conductive adhesive using carbon nanotubes to improve the contact rate between conductive materials added inside the resin. However, this conventional patented technology has limitations in simultaneously realizing sufficient electrical conductivity and adhesion during low-temperature curing.

따라서, 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능한 동시에 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되며, 나아가 제조비용이 절감될 수 있는, 새로운 전도성 소재가 절실히 요구되고 있는 실정이다.Therefore, there is an urgent need for a new conductive material that can be cured at low temperatures below 100℃, has improved flexibility even after curing, improves resistance stability by maintaining resistance even when deformed such as bending, and further reduces manufacturing costs. am.

한국등록특허 제10-1295801호Korean Patent No. 10-1295801 한국등록특허 제10-0888324호Korean Patent No. 10-0888324

본 발명은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능한 동시에 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되며, 나아가 제조비용이 절감될 수 있는, 실리콘 전도성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a silicone conductive composition that can be cured at a low temperature of 100°C or lower, has improved flexibility even after curing, improves resistance stability by maintaining resistance even when deformed such as bending, and further reduces manufacturing costs. Do it as

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은,In order to solve the above problems, the present invention,

저온 경화형 실리콘 전도성 조성물로서, 고분자 수지 및 전기 전도성 입자를 포함하고, 상기 고분자 수지는 베이스 수지로서 아래 화학식 1의 폴리오르가노실록산 수지, 경화제 또는 사슬연장제로서 아래 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물, 및 가소제로서 아래 화학식 3의 폴리오르가노실록산 화합물을 포함하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.A low-temperature curable silicone conductive composition, comprising a polymer resin and electrically conductive particles, wherein the polymer resin is a polyorganosiloxane resin of the formula 1 below as a base resin, a polyorganosiloxane compound of the formula 2 below as a curing agent or chain extender, and a polyorganosiloxane compound of Formula 3 below as a plasticizer.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소나 C1~C6의 알킬, 또는 C2~C6의 알케닐이며, 단 R1 중 하나 이상은 C2~C6의 알케닐이고, n은 79 내지 1891의 정수이고,In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, C 1 to C 6 alkyl, or C 2 to C 6 alkenyl, provided that at least one of R 1 is C 2 to C 6 alkenyl. and n is an integer from 79 to 1891,

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서, R3 및 R5는 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬이며, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C6의 알킬이고, 단 R4 중 하나 이상은 수소이며, m 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 400의 정수이고,In Formula 2, R 3 and R 5 are each independently C 1 to C 6 alkyl, and R 4 are each independently hydrogen or C 1 to C 6 alkyl, provided that at least one of R 4 is hydrogen, m and p are each independently integers from 0 to 400,

[화학식 3][Formula 3]

상기 화학식 3에서, R6 및 R7은 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬이고, q는 300 내지 810이다.In Formula 3, R 6 and R 7 are each independently C 1 to C 6 alkyl, and q is 300 to 810.

여기서, R1은 모두 비닐기이고, R2는 메틸이며, R4 중 하나는 수소이고, R3 및 R5는 모두 메틸이며, R6 및 R7은 모두 메틸인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.Here, R 1 is all vinyl, R 2 is methyl, one of R 4 is hydrogen, R 3 and R 5 are both methyl, and R 6 and R 7 are both methyl. A silicone conductive composition is provided.

또한, 상기 화학식 1의 폴리오르가노실록산 수지는 중량평균분자량이 6,000 g/mol 이상 140,000 g/mol 미만인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.In addition, the polyorganosiloxane resin of Formula 1 provides a low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that the weight average molecular weight is 6,000 g/mol or more and less than 140,000 g/mol.

그리고, 상기 베이스 수지 100 중량부를 기준으로 상기 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량은 10 내지 100 중량부이고, 상기 베이스 수지 100 체적부를 기준으로 상기 화학식 3의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량은 1 내지 10 체적부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.And, based on 100 parts by weight of the base resin, the content of the polyorganosiloxane compound of Formula 2 is 10 to 100 parts by weight, and based on 100 parts by volume of the base resin, the content of the polyorganosiloxane compound of Formula 3 is 1. A low-temperature curable silicone conductive composition is provided, characterized in that from 10 to 10 parts by volume.

한편, 상기 전기 전도성 입자는 평균입경이 2 내지 10㎛인 마이크로 구형 입자, 평균입경이 2 내지 50㎛인 마이크로 판상형 입자, 및 평균입경이 10 내지 500㎚인 나노 입자를 포함하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.Meanwhile, the electrically conductive particles are low-temperature curable silicone conductive particles including micro spherical particles with an average particle diameter of 2 to 10 ㎛, micro plate-shaped particles with an average particle diameter of 2 to 50 ㎛, and nanoparticles with an average particle diameter of 10 to 500 ㎚. A composition is provided.

여기서, 아래 수학식 1로 정의되는 입도 분포비(γ)가 상기 마이크로 구형 입자의 경우 1.0 이하이고, 상기 마이크로 판상형 입자의 경우 2.0 이하인 것을 특징으로 하 는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.Here, a low-temperature curable silicone conductive composition is provided, characterized in that the particle size distribution ratio (γ) defined by Equation 1 below is 1.0 or less for the micro spherical particles and 2.0 or less for the micro plate-shaped particles.

[수학식 1][Equation 1]

γ=(D90-D10) /D50 γ=(D 90 -D 10 )/D 50

또한, 상기 마이크로 판상형 입자 100 중량부 기준으로, 상기 마이크로 구형 입자 의 함량이 25 내지 83 중량부이고, 상기 마이크로 구형 입자 100 중량부 기준으로, 상기 나노 입자의 함량이 1 내지 30중량부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실 리콘 전도성 조성물을 제공한다.In addition, based on 100 parts by weight of the micro plate-shaped particles, the content of the micro spherical particles is 25 to 83 parts by weight, and based on 100 parts by weight of the micro spherical particles, the content of the nanoparticles is 1 to 30 parts by weight. Provided is a low-temperature curable silicone conductive composition.

나아가, 상기 베이스 수지 100 중량부를 기준으로, 상기 전기 전도성 입자의 총 중량 은 300 내지 600 중량부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.Furthermore, a low-temperature curable silicone conductive composition is provided, wherein the total weight of the electrically conductive particles is 300 to 600 parts by weight based on 100 parts by weight of the base resin.

또한, 상기 전기 전도성 입자는 전체 밀도가 2.0~4.0 g/㏄인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.In addition, the electrically conductive particles provide a low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that the overall density is 2.0 to 4.0 g/cc.

한편, 촉매제, 지연제, 비전도성 입자 및 용제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 기타 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물을 제공한다.Meanwhile, a low-temperature curable silicone conductive composition is provided, characterized in that it further comprises one or more other additives selected from the group consisting of catalysts, retarders, non-conductive particles, and solvents.

본 발명에 따른 유연성 및 저항 안정성이 향상된 실리콘 전도성 조성물은 고분자 수지의 특정 조합을 통해 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능하고, 이를 전제로 전기 전도성 입자의 종류별 형상, 입도, 함량을 정밀하게 조절함으로써 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되는 우수한 효과를 나타낸다. The silicone conductive composition with improved flexibility and resistance stability according to the present invention can be cured at low temperatures below 100°C through a specific combination of polymer resins, and on the premise of this, it can be cured by precisely controlling the shape, particle size, and content of each type of electrically conductive particle. It shows an excellent effect of improving flexibility and improving resistance stability by maintaining resistance even during deformation such as bending.

도 1은 본 발명에 따른 실리콘 전도성 접착 조성물에 포함되는 전기 전도성 입자 중 마이크로 판상형 입자의 전자 현미경 사진이다.
도 2는 본 발명에 따른 실리콘 전도성 접착 조 성물에 포함되는 전기 전도성 입자 중 마이크로 구형 입자의 전자 현 미경 사진이다.
도 3은 본 발명에 따른 실리콘 전도성 접착 조성물에 포함되는 전기 전도성 입자 중 나노 입자의 전자 현미경 사진이다.
도 4는 본 발명에 따른 실리콘 전도성 접착 조성물에서 전기 전도성 입자들의 효율적인 배열을 개략적으로 나타낸 모식도이다.
도 5는 실시예에서 조성물 시편의 굴곡 변형에 따른 저항을 측정하기 위한 모습의 사진이다.
도 6은 실시예에서 조성물 시편의 굽힘 변형률 및 굴률 반경에 따라 측정한 저항을 나타내는 그래프이다.
1 is an electron micrograph of micro-plate-shaped particles among the electrically conductive particles included in the silicone conductive adhesive composition according to the present invention.
Figure 2 is an electron micrograph of micro-spherical particles among the electrically conductive particles contained in the silicone conductive adhesive composition according to the present invention.
Figure 3 is an electron micrograph of nanoparticles among the electrically conductive particles included in the silicone conductive adhesive composition according to the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram schematically showing the efficient arrangement of electrically conductive particles in the silicone conductive adhesive composition according to the present invention.
Figure 5 is a photograph for measuring resistance according to bending deformation of a composition specimen in an example.
Figure 6 is a graph showing the resistance measured according to the bending strain and radius of curvature of the composition specimen in Examples.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명된 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어 지는 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosure will be thorough and complete, and so that the spirit of the invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 발명에 따른 유연성 및 저항 안정성이 향상된 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물은 고분자 수지 및 상기 고분자 수지 내에 분산된 전기 전도성 입자를 포함할 수 있다.The low-temperature curable silicone conductive composition with improved flexibility and resistance stability according to the present invention may include a polymer resin and electrically conductive particles dispersed in the polymer resin.

구체적으로, 상기 고분자 수지는 베이스 수지로서 아래 화학식 1의 폴리오르가노실록산을 포함할 수 있다.Specifically, the polymer resin may include polyorganosiloxane of Formula 1 below as a base resin.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소나 C1~C6의 알킬, 또는 C2~C6의 알케닐이며, 단 R1 중 하나 이상, 바람직하게는 R1 모두 C2~C6의 알케닐, 더욱 바람직하게는 비닐기이고, n은 79 내지 1891의 정수이다.In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, C 1 to C 6 alkyl, or C 2 to C 6 alkenyl, provided that at least one of R 1 , preferably both R 1 is C 2 ~C 6 alkenyl, more preferably vinyl, and n is an integer of 79 to 1891.

여기서, 상기 C1~C6의 알킬은 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 또는 헥실일 수 있다. 또한 C2~C6의 알케닐은 비닐, 알릴, 3-부테닐 또는 5-헥세닐일 수 있다.Here, the C 1 to C 6 alkyl may be, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, or hexyl. In addition, alkenyl of C 2 to C 6 may be vinyl, allyl, 3-butenyl, or 5-hexenyl.

상기 화학식 1의 폴리오르가노실록산 화합물은 중량평균분자량이 6,000 g/mol 이상 140,000 g/mol 미만일 수 있고, 예를 들면, 15,000 내지 30,000 g/mol일 수 있다. 상기 화합물의 동점도(25℃에서)는 100 내지 100000 cSt일 수 있다.The polyorganosiloxane compound of Formula 1 may have a weight average molecular weight of 6,000 g/mol or more and less than 140,000 g/mol, for example, 15,000 to 30,000 g/mol. The kinematic viscosity (at 25°C) of the compound may be 100 to 100000 cSt.

여기서, 상기 화학식 1의 폴리오르가노실록산 화합물의 중량평균분자량이 6,000 g/mol 미만인 경우 본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물의 기계적 특성, 내열성 등이 불충분할 수 있는 반면, 중량평균분자량이 140,000 g/mol 이상인 경우 경화 후 조성물의 저항 안정성이 저하될 수 있다.Here, when the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane compound of Formula 1 is less than 6,000 g/mol, the mechanical properties and heat resistance of the silicone conductive composition according to the present invention may be insufficient, while the weight average molecular weight is 140,000 g/mol. If it is more than this, the resistance stability of the composition after curing may decrease.

특히, 상기 화학식 1의 폴리오르가노실록산 화합물은 R1이 모두 비닐기(CH2=CH-)이고, R2는 메틸기인 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane; PDMS)일 수 있다. 나아가, R2 중 하나 이상은 방향족 관능기, 바람직하게는 페닐기로서, 본 발 명에 따른 실리콘 전도성 조성물의 내열성, 내화학성 등을 추가로 향상시킬 수 있다.In particular, the polyorganosiloxane compound of Formula 1 may be polydimethylsiloxane (PDMS), in which all R 1 is a vinyl group (CH 2 =CH-) and R 2 is a methyl group. Furthermore, at least one of R 2 is an aromatic functional group, preferably a phenyl group, which can further improve the heat resistance, chemical resistance, etc. of the silicone conductive composition according to the present invention.

한편, 상기 고분자 수지는 경화제 또는 사슬연장제로서 아래 화학식 2의 폴리오르가노실록산을 포함할 수 있다.Meanwhile, the polymer resin may include polyorganosiloxane of Formula 2 below as a curing agent or chain extender.

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서, R3 및 R5는 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬이며, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C6의 알킬이고, 단 R4 중 하나 이상은 수소이며, m 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 400의 정수이다. 여기서, 상기 C1~C6의 알킬은 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 또는 헥실일 수 있다. 특히, R3 및 R5는 모두 메틸기이고, R4 중 하나만 수소일 수 있다.In Formula 2, R 3 and R 5 are each independently C 1 to C 6 alkyl, and R 4 are each independently hydrogen or C 1 to C 6 alkyl, provided that at least one of R 4 is hydrogen, m and p are each independently integers from 0 to 400. Here, the C 1 to C 6 alkyl may be, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, or hexyl. In particular, R 3 and R 5 are both methyl groups, and only one of R 4 may be hydrogen.

또한, 상기 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물은 분자량이 300 내지 20000 g/mol, 예를 들면, 250 내지 15000 g/mol일 수 있다. 여기서, 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물의 분자량이 상대적으로 낮게 조절됨으로써 저온에서 경화가 가능하고 경화 후 우수한 전기전도도 및 향상된 저항 안정성을 구현할 수 있다.Additionally, the polyorganosiloxane compound of Formula 2 may have a molecular weight of 300 to 20,000 g/mol, for example, 250 to 15,000 g/mol. Here, by adjusting the molecular weight of the polyorganosiloxane compound of Formula 2 to be relatively low, curing is possible at low temperatures and excellent electrical conductivity and improved resistance stability can be achieved after curing.

경화제 또는 사슬연장제로서 상기 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량은 상기 화학식 1의 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 10 내지 100 중량부일 수 있다. 여기서, 상기 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량이 10 중량부 미만인 경우 저온 경화가 어렵고 경화 후 기계적 특성, 내열성 등이 불충분할 수 있는 반면, 100 중량부 초과인 경우 조성물의 도포 전에 조기 경화가 발생할 수 있고 경화 후 유연성이 저하될 수 있다.The content of the polyorganosiloxane compound of Formula 2 as a curing agent or chain extender may be 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin of Formula 1. Here, if the content of the polyorganosiloxane compound of Formula 2 is less than 10 parts by weight, low-temperature curing is difficult and mechanical properties and heat resistance after curing may be insufficient, whereas if it is more than 100 parts by weight, early curing occurs before application of the composition. This may occur and flexibility may decrease after curing.

여기서, 화학식 1의 폴리오르가노실록산을 포함하는 고분자 수지와 화학식 2의 폴리오르가노실록산을 포함하는 경화제 또는 사슬연장제의 몰비는 1:1 이상, 예를 들어, 1:5 내지 1:10으로 포함될 수 있다. 여기서, 상기 몰비가 1:1 미만인 경우 저온 경화가 어렵고 경화 후 기계적 특성, 내열성 등이 불충분할 수 있는 반면, 1:10 초과인 경우 경화 후 유연성이 저하될 수 있다.Here, the molar ratio of the polymer resin containing the polyorganosiloxane of Formula 1 and the curing agent or chain extender containing the polyorganosiloxane of Formula 2 is 1:1 or more, for example, 1:5 to 1:10. may be included. Here, if the molar ratio is less than 1:1, low-temperature curing is difficult and mechanical properties, heat resistance, etc. may be insufficient after curing, while if it is more than 1:10, flexibility may be reduced after curing.

또한, 상기 고분자 수지는 가소제로서 아래 화학식 3의 폴리오르가노실록산화합물을 포함할 수 있다.Additionally, the polymer resin may include a polyorganosiloxane compound of the following formula (3) as a plasticizer.

[화학식 3][Formula 3]

상기 화학식 3에서, R6 및 R7은 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 또는 헥실, 바람직하게는 메틸일 수 있고, q는 300 내지 810일 수 있다.In Formula 3, R 6 and R 7 may each independently be C 1 to C 6 alkyl, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, or hexyl, preferably methyl, and q is 300. It may be from 810 to 810.

가소제로서 화학식 3의 폴리오르가노실록산 화합물은 상기 베이스 수지 사이에 삽입되어 인력을 약화시키고 거리를 넓혀주어 조성물의 유연성을 향상시키는 기능을 수행할 수 있다. 여기서, 상기 가소제의 함량은 상기 베이스 수지 100 체적부를 기준으로 1 내지 10 체적부로 포함될 수 있다.As a plasticizer, the polyorganosiloxane compound of Formula 3 can be inserted between the base resins to weaken the attractive force and expand the distance, thereby improving the flexibility of the composition. Here, the content of the plasticizer may be 1 to 10 parts by volume based on 100 parts by volume of the base resin.

한편, 상기 전기 전도성 입자는 은, 구리, 금, 알루미늄, 몰리브덴, 아연, 텅스텐, 니켈, 철, 팔라듐, 백금, 주석, 납, 티타늄 등을 사용할 수 있고, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이에 제한되지 않으나, 바람직하게 는, 은 또는 은이 도금된 구리를 사용할 수 있다. Meanwhile, the electrically conductive particles may be silver, copper, gold, aluminum, molybdenum, zinc, tungsten, nickel, iron, palladium, platinum, tin, lead, titanium, etc., and may be used alone or in a mixture of two or more types. there is. Although not limited thereto, silver or silver-plated copper may be preferably used.

상기 전기 전도성 입자는 전체 밀도가 2.0~4.0 g/㏄ 이고, 도 1에 도시된 마이크로 사이즈의 판상형 입자, 도 2에 도시된 마이크로 사이즈의 구형 입자, 및 도 3에 도시된 나노 사이즈의 입자를 포함할 수 있다. 이로써 도 4에 도시된 바와 같이 전기 전도성 입자의 형상별로 효율적인 배열을 통해 전체 함량을 최소화할 수 있어 조성물의 충분한 접착력 및 기계적 특성을 확보하는 동시에, 전도성 입자들 사이의 접촉 면적을 증가시켜 접촉저항을 저감시킴으로써 상기 고분자 수지 내에서 충분한 전기적 네트워크를 형성할 수 있다. The electrically conductive particles have a total density of 2.0 to 4.0 g/cc and include micro-sized plate-shaped particles shown in FIG. 1, micro-sized spherical particles shown in FIG. 2, and nano-sized particles shown in FIG. 3. can do. As a result, as shown in Figure 4, the total content can be minimized through efficient arrangement of the electrically conductive particles by shape, thereby ensuring sufficient adhesive strength and mechanical properties of the composition, and at the same time increasing the contact area between the conductive particles to reduce contact resistance. By reducing it, a sufficient electrical network can be formed within the polymer resin.

구체적으로, 상기 전기 전도성 입자의 전체 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 300 내지 600 중량부일 수 있다. 여기서, 상기 전기 전도성 입자의 함량이 300 중량부 미만인 경우 상기 고분자 수지 내에서 충분한 전기적 네트워크를 형성할 수 없는 반면, 600 중량부 초과인 경우 접착 조성물의 유연성 감소와 함께 전도성 입자들의 효율적인 배열이 어려워 오히려 조성물의 비저항이 증가하고 저항 안정성이 저하되는 문제가 있다.Specifically, the total content of the electrically conductive particles may be 300 to 600 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin. Here, if the content of the electrically conductive particles is less than 300 parts by weight, a sufficient electrical network cannot be formed within the polymer resin, whereas if it is more than 600 parts by weight, the flexibility of the adhesive composition decreases and efficient arrangement of the conductive particles is difficult. There is a problem that the specific resistance of the composition increases and the resistance stability decreases.

나아가, 상기 전기 전도성 입자 중 마이크로 판상형 입자 100 중량부 기준으 로 마이크로 구형 입자의 함량이 25 내지 83 중량부이고, 마이크로 구형 입자 100 중량부 기준으로 나노 입자의 함량이 1 내지 30중량부이다.Furthermore, among the electrically conductive particles, the content of micro spherical particles is 25 to 83 parts by weight based on 100 parts by weight of micro plate-shaped particles, and the content of nanoparticles is 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of micro spherical particles.

특히, 상기 전기 전도성 입자 중에서 마이크로 구형의 입자의 평균입경은 2 내지 10㎛, 마이크로 판상형 입자의 평균입경은 2 내지 50㎛, 나노 입자의 평균입경은 10 내지 500㎚일 수 있으며, 나노 입자의 D50은 40 내지 60 nm일 수 있다. 임 의의 단면에서 최장축 기준으로 최단축이 30% 이상이면 마이크로 구형 입자이고 30% 미만이면 마이크로 판상형 입자일 수 있다.In particular, among the electrically conductive particles, the average particle diameter of micro-spherical particles may be 2 to 10 ㎛, the average particle diameter of micro plate-shaped particles may be 2 to 50 ㎛, the average particle diameter of nanoparticles may be 10 to 500 ㎚, and the D of the nanoparticles 50 may be 40 to 60 nm. If the shortest axis is more than 30% of the longest axis in any cross section, it may be a micro spherical particle, and if it is less than 30%, it may be a micro plate-shaped particle.

나아가, 아래 수학식 1로 정의되는 입도 분포비(γ)가 마이크로 구형 입자의 경우 1.0 이하, 예를 들어 0.1 내지 1.0, 마이크로 판상형 입자의 경우 2.0 이하, 예를 들어, 1.1 내지 2.0일 수 있다.Furthermore, the particle size distribution ratio (γ) defined by Equation 1 below may be 1.0 or less, for example, 0.1 to 1.0 for micro-spherical particles, and 2.0 or less, for example, 1.1 to 2.0 for micro-plate-shaped particles.

[수학식 1][Equation 1]

γ=(D90-D10)/D50 γ=(D 90 -D 10 )/D 50

상기의 수학식 1로 정의되는 입도 분포비(γ)의 값이 작을수록 입자의 누적중량 50% 기 준 입도분포가 균일함을 의미하고, 상기 입도 분포비(γ)의 값이 클수 록 입도 분포가 불균일함을 의미하는데, 마이크로 구형 입자 및 마이크로 판상형 입자 각각의 입도 분포비(γ)가 앞서 기술한 범위를 만족하는 경우 상기 고분자 수 지 내에서 전기 전도성 입자들의 효율적인 배열이 가능하여 전도성 입자의 함량을 최소화함에도 불구하고 충분한 전기적 네트워크를 형성할 수 있는 동시에 본 발명 에 따른 실리콘 전도성 조성물은 높은 접착강도를 보유할 수 있다.The smaller the value of the particle size distribution ratio (γ) defined by Equation 1 above, the more uniform the particle size distribution is based on 50% of the cumulative weight of the particles, and the larger the value of the particle size distribution ratio (γ), the more uniform the particle size distribution is. means that it is non-uniform, and if the particle size distribution ratio (γ) of each micro-spherical particle and micro-plate-shaped particle satisfies the range described above, efficient arrangement of electrically conductive particles is possible within the polymer resin, thereby increasing the content of conductive particles. Despite minimizing , a sufficient electrical network can be formed and at the same time, the silicone conductive composition according to the present invention can maintain high adhesive strength.

한편, 상기 전기 전도성 입자 중에서 나노 입자는 본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물의 접착강도를 향상시킬 수 있다. 상기 나노 입자는 상기 고분자 수지와의 상용성 향상을 위해 소수성 표면을 가질 수 있고, 필요에 따라 전처리를 통해 소수성 막을 제거할 수 있다. Meanwhile, among the electrically conductive particles, nanoparticles can improve the adhesive strength of the silicone conductive composition according to the present invention. The nanoparticles may have a hydrophobic surface to improve compatibility with the polymer resin, and if necessary, the hydrophobic film may be removed through pretreatment.

상기 나노 입자는 높은 비표면적을 갖고 있어 표면을 통한 이차결합에 의해 다른 입자들 및 피착면과 접촉 효과를 증가시킬 수 있다. 이러한 나노 입자들은 피착면 표면에 효과적으로 달라붙고, 강한 기계적 결합이 발생하며 접착력이 확보될 수 있다. 이때 조성물 사이의 접착력(Cohesion)보다 피착면과 조성물 간의 접착력 (Adhesion)이 강해지면서 접착강도가 향상될 수 있다.The nanoparticles have a high specific surface area and can increase the contact effect with other particles and the surface to be adhered through secondary bonding through the surface. These nanoparticles can effectively stick to the surface of the adherend, generate strong mechanical bonding, and secure adhesion. At this time, the adhesive strength can be improved as the adhesion between the surface to be adhered and the composition becomes stronger than the cohesion between the compositions.

또한, 상기 나노 입자는 나노 사이즈의 작은 입자 크기로 표면이 거친 피착면의 미세한 굴곡 사이로 침투가 가능하여 피착면과의 접촉면을 늘려주면서 접착강도를 향상시킬 수 있다.In addition, the nanoparticles have a small nano-sized particle size and can penetrate into the fine bends of the rough surface to be adhered, thereby increasing the contact surface with the adhered surface and improving adhesive strength.

이로써, 본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능하고, 경화 후에도 유연성이 향상되고 굴곡 등 변형시에도 저항이 유지되는 저항 안정성이 향상되며, 나아가 제조비용이 절감될 수 있는 우수한 효과를 나타낸다.As a result, the silicone conductive composition according to the present invention can be cured at a low temperature of 100°C or lower, has improved flexibility even after curing, improves resistance stability by maintaining resistance even when deformed such as bending, and further reduces manufacturing costs. Shows effect.

본 발명에 따른 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물은 기타 첨가제로서 촉매제, 지연제, 비전도성 입자, 용제 등을 추가로 포함할 수 있다.The low-temperature curable silicone conductive composition according to the present invention may further include catalysts, retarders, non-conductive particles, solvents, etc. as other additives.

구체적으로, 상기 촉매제는 저온에서 접착 조성물의 경화반응을 촉진시키는 기능을 수행하고, 백금족 금속 원자 화합물, 예를 들어 Karstedt 또는 Speier 계열의 백금 화합물을 사용할 수 있다. 백금족 금속은 백금, 로듐, 팔라듐 등이 있으며, 백금족 금속 원자 화합물은 염화백금산, 염화백금산과 알코올의 반응 생성물, 백금-올레핀 착체, 백금-비닐실록산 착체, 백금-케톤 착체, 백금-포스핀 착체와 같 은 백금 화합물, 로듐-포스핀 착체, 로듐-설파이드 착체와 같은 로듐 화합물, 팔라 듐-포스핀 착체와 같은 팔라듐 화합물 등이 있다.Specifically, the catalyst functions to accelerate the curing reaction of the adhesive composition at low temperatures, and a platinum group metal atom compound, for example, a Karstedt or Speier series platinum compound, may be used. Platinum group metals include platinum, rhodium, and palladium, and platinum group metal atomic compounds include chloroplatinic acid, reaction products of chloroplatinic acid and alcohol, platinum-olefin complex, platinum-vinylsiloxane complex, platinum-ketone complex, and platinum-phosphine complex. There are platinum compounds such as rhodium-phosphine complexes, rhodium compounds such as rhodium-sulfide complexes, and palladium compounds such as palladium-phosphine complexes.

상기 촉매제의 함량은 10 내지 1000 ppm, 바람직하게 는 50 내지 500 ppm일 수 있고, 촉매제의 함량이 기준 미달인 경우 저온에서의 경화반응이 불충분할 수 있는 반면, 기준 초과인 경우 조성물의 도포 전 조기 경화의 문제가 발생할 수 있다.The content of the catalyst may be 10 to 1000 ppm, preferably 50 to 500 ppm. If the catalyst content is below the standard, the curing reaction at low temperature may be insufficient, whereas if the catalyst content is above the standard, the curing reaction may be insufficient before application of the composition. Hardening problems may occur.

한편, 상기 지연제는 상온에서 접착 조성물의 도포 전 보관시 자연 경화를 억제하여 저장 안정성을 구현하기 위한 첨가제로서, 푸말레이트(fumarate), 말레이 트(maleate) 및 테트라비닐시클로테트라실록산(tetravinylcyclotetrasiloxane) 계 열 등을 사용할 수 있다.Meanwhile, the retardant is an additive to achieve storage stability by suppressing natural hardening when stored at room temperature before applying the adhesive composition, and is a fumarate, maleate, and tetravinylcyclotetrasiloxane-based Heat, etc. can be used.

접착 조성물의 상온에서의 저장 안정성 향상을 위해 상기 지연제의 비 점(boiling point)이 최소 60℃ 이상, 바람직하게는 100 내지 220 ℃인 지연제를 사용할 수 있다. 또한, 상기 지연제의 함량은 상기 촉매제 100 체적부를 기준으로 200 내지 1,000 체적부일 수 있다. 여기서, 상기 지연제의 함량이 200 체적부 미만인 경우 상온에서의 저장 안정성이 저하될 수 있는 반면, 1,000 체적부 초과인 경우 도포 후 저온 경화시 경화반응이 불충분할 수 있다.To improve the storage stability of the adhesive composition at room temperature, a retarder having a boiling point of at least 60°C, preferably 100 to 220°C, may be used. Additionally, the content of the retardant may be 200 to 1,000 parts by volume based on 100 parts by volume of the catalyst. Here, if the content of the retardant is less than 200 parts by volume, storage stability at room temperature may be reduced, while if it is more than 1,000 parts by volume, the curing reaction may be insufficient when curing at low temperature after application.

상기 비전도성 입자는 이산화규소(SiO2 ), 알루미나(Al2O3), 탄산칼슘(CaCO3), 보론 나이트라이드(BN) 등을 사용할 수 있고, 예를 들어, 평균 입경이 10 내지 1,000 nm일 수 있으며, 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 1 내지 20 중량부일 수 있다.The non-conductive particles may be silicon dioxide (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), boron nitride (BN), etc., and, for example, have an average particle diameter of 10 to 1,000 nm. It may be, and the content may be 1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin.

상기 비전도성 입자는 상기 고분자 수지의 실록산 결합과 이차 결합을 형성 하여, 고분자 수지의 시간 혹은 전단력에 따른 유변학 특성 개선에 도움이 될 수 있으며, 조성물의 경화 후에는 접착제의 경계선의 형상을 유지하며 크기의 균일성을 유지하는데 도움을 줄 수 있다.The non-conductive particles form secondary bonds with the siloxane bonds of the polymer resin, which can help improve the rheological properties of the polymer resin depending on time or shear force. After curing the composition, it maintains the shape of the border of the adhesive and changes its size. It can help maintain uniformity.

상기 용제는 유기 용제일 수 있으며, 상기 고분자 수지와의 화학적 호환성이 우수한 것을 사용할 수 있다. 비점은 100℃ 이상의 것이 바람직하며, 최종 작업 점도의 개선 및 경화 지연의 효과를 줄 수 있으며, 이로 인해 보관시 저장 안정성을 확보하는데 도움을 줄 수 있다.The solvent may be an organic solvent, and one having excellent chemical compatibility with the polymer resin may be used. The boiling point is preferably 100°C or higher, which can improve final working viscosity and delay curing, which can help ensure storage stability during storage.

본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물은 밀링(milling), 블렌 딩(blending), 스티어링(stirring), 플레니터리 믹싱(planetary mixing) 등의 방법으로 고분자 수지와 전기 전도성 입자 및 기타 첨가제가 균일하게 혼합될 수 있다.The silicone conductive composition according to the present invention can be uniformly mixed with the polymer resin, electrically conductive particles, and other additives by methods such as milling, blending, stirring, and planetary mixing. You can.

또한, 상기 혼합된 실리콘 전도성 조성물은 80 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 100℃에서 경화될 수 있다. 또한, 이에 제한되지 않으나 경화시간은 0.5 내지 3 시간일 수 있다.Additionally, the mixed silicone conductive composition may be cured at 80 to 200°C, preferably 80 to 100°C. Additionally, although not limited thereto, the curing time may be 0.5 to 3 hours.

[실시예][Example]

1. 제조예 1. Manufacturing example

불소 이형 필름에 1 mm 두께의 본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물을 도포한 후 80℃에서 경화하고 박리한 조성물 시편을 도 5에 도시된 바와 같이 시편 양 말단에 저항 측정용 와이어를 연결한 상태로 굴곡시키면서 굴곡 반경에 따른 저항을 측정했다.A 1 mm thick silicone conductive composition according to the present invention was applied to a fluorine release film, cured at 80°C, and the peeled composition specimen was bent with wires for resistance measurement connected to both ends of the specimen as shown in Figure 5. While doing so, the resistance according to the bending radius was measured.

측정 결과는 도 6 및 아래 표 1에 기재된 바와 같다.The measurement results are as shown in Figure 6 and Table 1 below.

곡률반경(mm)Curvature radius (mm) 굽힘 변형률bending strain 저항[mΩ]Resistance [mΩ] 3.1753.175 0.157480.15748 41.441.4 3.053.05 0.1639340.163934 41.441.4 2.3052.305 0.216920.21692 41.441.4 2.152.15 0.2325580.232558 41.441.4 22 0.250.25 41.441.4 1.881.88 0.2659570.265957 41.441.4 1.7151.715 0.2915450.291545 41.441.4 1.651.65 0.303030.30303 41.441.4 1.61.6 0.31250.3125 41.441.4 1.551.55 0.3225810.322581 41.441.4 1.451.45 0.3448280.344828 41.441.4 1.3351.335 0.3745320.374532 41.441.4 1.241.24 0.4032260.403226 41.441.4 1.1351.135 0.4405290.440529 41.441.4 1.021.02 0.4901960.490196 41.441.4 0.750.75 0.6666670.666667 41.441.4 0.450.45 1.1111111.111111 41.441.4 0.180.18 2.7777782.777778 41.441.4 0.090.09 5.5555565.555556 41.441.4 0.060.06 8.3333338.333333 41.441.4

상기 표 1 및 도 6에 나타난 바와 같이, 조성물 시편의 곡률 반경이 점차적으로 감소하여 굽힘 변형률이 증가함에도 불구하고 저항은 균일하게 유지되는 것으로 확인되었다. 따라서, 본 발명에 따른 실리콘 전도성 조성물은 경화 후 유연성이 향상되고 굴곡시에도 저항이 균일하게 유지되는 저항 안정성이 향상된 것으로 확인되었다.As shown in Table 1 and Figure 6, it was confirmed that the resistance was maintained uniformly even though the radius of curvature of the composition specimen gradually decreased and the bending strain increased. Accordingly, it was confirmed that the silicone conductive composition according to the present invention had improved flexibility after curing and improved resistance stability in which the resistance was maintained uniformly even when bent.

본 명세서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기 술분야의 당업자는 이하에서 서술하는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경 실시할 수 있을 것이다. 그러므로 변형된 실시가 기본적으로 본 발명의 특허청구범위의 구 성요소를 포함한다면 모두 본 발명의 기술적 범주에 포함된다고 보아야 한다.Although this specification has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art may modify and modify the present invention in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims described below. Changes may be made. Therefore, if the modified implementation basically includes the elements of the claims of the present invention, it should be considered to be included in the technical scope of the present invention.

Claims (10)

저온 경화형 실리콘 전도성 조성물로서,
고분자 수지 및 전기 전도성 입자를 포함하고,
상기 고분자 수지는 베이스 수지로서 아래 화학식 1의 폴리오르가노실록산 수지, 경화제 또는 사슬연장제로서 아래 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물, 및 가소제로서 아래 화학식 3의 폴리오르가노실록산 화합물을 포함하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소나 C1~C6의 알킬, 또는 C2~C6의 알케닐이며, 단 R1 중 하나 이상은 C2~C6의 알케닐이고, n은 79 내지 1891의 정수이고,
[화학식 2]

상기 화학식 2에서, R3 및 R5는 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬이며, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C6의 알킬이고, 단 R4 중 하나 이상은 수소이며, m 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 400의 정수이고,
[화학식 3]

상기 화학식 3에서, R6 및 R7은 각각 독립적으로 C1~C6의 알킬이고, q는 300 내지 810이다.
A low-temperature curable silicone conductive composition, comprising:
Contains polymer resin and electrically conductive particles,
The polymer resin includes a polyorganosiloxane resin of Formula 1 below as a base resin, a polyorganosiloxane compound of Formula 2 below as a curing agent or chain extender, and a polyorganosiloxane compound of Formula 3 below as a plasticizer. Curable silicone conductive composition.
[Formula 1]

In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, C 1 to C 6 alkyl, or C 2 to C 6 alkenyl, provided that at least one of R 1 is C 2 to C 6 alkenyl. and n is an integer from 79 to 1891,
[Formula 2]

In Formula 2, R 3 and R 5 are each independently C 1 to C 6 alkyl, and R 4 are each independently hydrogen or C 1 to C 6 alkyl, provided that at least one of R 4 is hydrogen, m and p are each independently integers from 0 to 400,
[Formula 3]

In Formula 3, R 6 and R 7 are each independently C 1 to C 6 alkyl, and q is 300 to 810.
제1항에 있어서,
R1은 모두 비닐기이고, R2는 메틸이며,
R4 중 하나는 수소이고, R3 및 R5는 모두 메틸이며,
R6 및 R7은 모두 메틸인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to paragraph 1,
R 1 is all vinyl, R 2 is methyl,
One of R 4 is hydrogen, R 3 and R 5 are both methyl,
A low-temperature curable silicone conductive composition, wherein R 6 and R 7 are both methyl.
제2항에 있어서,
상기 화학식 1의 폴리오르가노실록산 수지는 중량평균분자량이 6,000 g/mol 이상 140,000 g/mol 미만인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to paragraph 2,
A low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that the polyorganosiloxane resin of Formula 1 has a weight average molecular weight of 6,000 g/mol or more and less than 140,000 g/mol.
제2항에 있어서,
상기 베이스 수지 100 중량부를 기준으로 상기 화학식 2의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량은 10 내지 100 중량부이고,
상기 베이스 수지 100 체적부를 기준으로 상기 화학식 3의 폴리오르가노실록산 화합물의 함량은 1 내지 10 체적부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to paragraph 2,
The content of the polyorganosiloxane compound of Formula 2 is 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the base resin,
A low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that the content of the polyorganosiloxane compound of Formula 3 is 1 to 10 parts by volume based on 100 parts by volume of the base resin.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전기 전도성 입자는 평균입경이 2 내지 10㎛인 마이크로 구형 입자, 평균입경이 2 내지 50㎛인 마이크로 판상형 입자, 및 평균입경이 10 내지 500㎚인 나노 입자를 포함하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to any one of claims 1 to 4,
The electrically conductive particles include micro spherical particles with an average particle diameter of 2 to 10 μm, micro plate-shaped particles with an average particle diameter of 2 to 50 μm, and nanoparticles with an average particle diameter of 10 to 500 nm. A low-temperature curable silicone conductive composition.
제5항에 있어서,
아래 수학식 1로 정의되는 입도 분포비(γ)가 상기 마이크로 구형 입자의 경우 1.0 이하이고, 상기 마이크로 판상형 입자의 경우 2.0 이하인 것을 특징으로 하 는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
[수학식 1]
γ=(D90-D10) /D50
According to clause 5,
A low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that the particle size distribution ratio (γ) defined by Equation 1 below is 1.0 or less for the micro spherical particles and 2.0 or less for the micro plate-shaped particles.
[Equation 1]
γ=(D 90 -D 10 )/D 50
제6항에 있어서,
상기 마이크로 판상형 입자 100 중량부 기준으로, 상기 마이크로 구형 입자 의 함량이 25 내지 83 중량부이고, 상기 마이크로 구형 입자 100 중량부 기준으로, 상기 나노 입자의 함량이 1 내지 30중량부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실 리콘 전도성 조성물.
According to clause 6,
Based on 100 parts by weight of the micro plate-shaped particles, the content of the micro spherical particles is 25 to 83 parts by weight, and based on 100 parts by weight of the micro spherical particles, the content of the nanoparticles is 1 to 30 parts by weight, Low-temperature curable silicone conductive composition.
제7항에 있어서,
상기 베이스 수지 100 중량부를 기준으로, 상기 전기 전도성 입자의 총 중량 은 300 내지 600 중량부인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
In clause 7,
A low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that, based on 100 parts by weight of the base resin, the total weight of the electrically conductive particles is 300 to 600 parts by weight.
제5항에 있어서,
상기 전기 전도성 입자는 전체 밀도가 2.0~4.0 g/㏄인 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to clause 5,
A low-temperature curable silicone conductive composition, wherein the electrically conductive particles have a total density of 2.0 to 4.0 g/cc.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
촉매제, 지연제, 비전도성 입자 및 용제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 기타 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 저온 경화형 실리콘 전도성 조성물.
According to any one of claims 1 to 4,
A low-temperature curable silicone conductive composition, characterized in that it further comprises one or more other additives selected from the group consisting of catalysts, retarders, non-conductive particles, and solvents.
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