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KR20230036226A - 극자외선 생성용 콜렉터 미러 및 이를 포함하는 극자외선 생성 장치 - Google Patents

극자외선 생성용 콜렉터 미러 및 이를 포함하는 극자외선 생성 장치 Download PDF

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KR20230036226A
KR20230036226A KR1020210118840A KR20210118840A KR20230036226A KR 20230036226 A KR20230036226 A KR 20230036226A KR 1020210118840 A KR1020210118840 A KR 1020210118840A KR 20210118840 A KR20210118840 A KR 20210118840A KR 20230036226 A KR20230036226 A KR 20230036226A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mirror
collector
extreme ultraviolet
nozzle
air
Prior art date
Application number
KR1020210118840A
Other languages
English (en)
Inventor
송호석
김성협
이인재
김정길
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
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Priority to US17/709,534 priority patent/US11698590B2/en
Priority to EP22166490.7A priority patent/EP4145223A1/en
Priority to TW111117562A priority patent/TW202311785A/zh
Priority to CN202210679515.3A priority patent/CN115776754A/zh
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Abstract

극자외선 생성용 콜렉터 미러는 제 1 미러, 제 2 미러 및 제 3 미러를 포함할 수 있다. 상기 제 1 미러는 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV) 생성을 위한 원료와 레이저를 수용하는 용기에 설치될 수 있다. 상기 제 2 미러는 상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 제 3 미러는 상기 제 1 미러의 외경 이상의 내경 및 상기 제 2 미러의 내경 이하의 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치될 수 있다. 따라서, 제 3 미러만에 대한 세정 공정이 가능하게 되어, EUV 생성 장치의 가동율을 향상시킬 수 있다.

Description

극자외선 생성용 콜렉터 미러 및 이를 포함하는 극자외선 생성 장치{COLLECTOR MIRROR AND APPARATUS FOR CREATING AN EXTREME ULTRAVIOLET INCLUDING THE SAME}
본 발명은 극자외선 생성용 콜렉터 미러 및 이를 포함하는 극자외선 생성 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 극자외선을 반사하는 콜렉터 미러 및 이러한 콜렉터 미러를 포함하는 극자외선 생성 장치에 관한 것이다.
극자외선(Extreme UltraViolet : EUV)은 극자외선 생성 장치를 이용해서 생성될 수 있다. EUV 생성 장치는 Discharge Produced Plasma (DPP) 방식과 Laser Produced Plasma (LPP) 방식으로 구분될 수 있다.
DPP 방식의 EUV 생성 장치는 원료에 고전압을 인가하여 형성된 고밀도 플라즈마로부터 EUV를 생성할 수 있다. LPP 방식의 EUV 생성 장치는 원료에 레이저를 조사하여 형성된 고밀도 플라즈마로부터 EUV를 생성할 수 있다.
LPP 방식의 EUV 생성 장치에서, 원료와 레이저는 용기 내로 도입될 수 있다. 용기 내에서 발생된 EUV는 콜렉터 미러에 의해 노광 챔버로 반사될 수 있다.
원료로부터 발생된 부산물들이 용기 내에 축적될 수 있다. 이러한 부산물들은 콜렉터 미러의 표면에 적층되어, 콜렉터 미러를 오염시킬 수 있다. 특히, 부산물들은 콜렉터 미러의 중간 부위에 집중적으로 적층될 수 있다. 즉, 콜렉터 미러의 중간 부위 오염도가 다른 부위들의 오염도보다 상대적으로 높을 수 있다.
관련 기술들에 따르면, 콜렉터 미러를 세정하기 위해서 콜렉터 미러 전체를 용기로부터 분리시킬 것이 요구될 수 있다. 이로 인하여, EUV 생성 장치의 가동 시간이 줄어들 수 있다.
본 발명은 부분적인 세정이 가능한 극자외선 생성용 콜렉터 미러를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기된 콜렉터 미러를 포함하는 극자외선 생성 장치도 제공한다.
본 발명의 일 견지에 따른 극자외선 생성용 콜렉터 미러는 제 1 미러, 제 2 미러 및 제 3 미러를 포함할 수 있다. 상기 제 1 미러는 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV) 생성을 위한 원료와 레이저를 수용하는 용기에 설치될 수 있다. 상기 제 2 미러는 상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 제 3 미러는 상기 제 1 미러의 외경 이상의 내경 및 상기 제 2 미러의 내경 이하의 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 견지에 따른 극자외선 생성용 콜렉터 미러는 제 1 미러, 제 2 미러 및 제 3 미러를 포함할 수 있다. 상기 제 1 미러는 EUV 생성을 위한 원료와 레이저를 수용하는 용기에 설치될 수 있다. 상기 제 2 미러는 상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 상기 제 3 미러는 상기 제 1 미러의 외경과 동일한 내경 및 상기 제 2 미러의 내경과 동일한 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치될 수 있다. 상기 제 1 미러, 상기 제 2 미러 및 상기 제 3 미러가 결합된 형상은 반구 형상일 수 있다. 상기 제 1 미러의 내측면 상부 부위에 상기 제 1 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 1 노즐이 형성될 수 있다. 상기 제 3 미러의 내측면 상단은 상기 제 1 미러의 외측면 상단보다 아래에 위치하여 상기 제 1 미러의 외측면 상부 부위가 노출될 수 있다. 상기 제 1 미러의 외측면 상부 부위에 상기 제 3 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 2 노즐이 형성될 수 있다. 상기 제 3 미러의 외측면 상단은 상기 제 2 미러의 내측면 상단보다 위에 위치하여 상기 제 3 미러의 외측면 상부 부위가 노출될 수 있다. 상기 제 3 미러의 외측면 상부 부위에 상기 제 2 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 3 노즐이 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 견지에 따른 극자외선 생성 장치는 용기, 원료 공급부, 레이저 조사부 및 콜렉터 미러를 포함할 수 있다. 상기 용기는 EUV 생성을 위한 원료와 레이저를 수용할 수 있다. 상기 원료 공급부는 상기 용기 내로 위한 상기 원료를 공급할 수 있다. 상기 레이저 조사부는 상기 원료로 레이저를 조사하여 상기 EUV를 생성시킬 수 있다. 상기 콜렉터 미러는 상기 극자외선을 반사할 수 있다. 상기 콜렉터 미러는 상기 용기에 설치된 제 1 미러, 상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치된 제 2 미러, 및 상기 제 1 미러의 외경 이상의 내경 및 상기 제 2 미러의 내경 이하의 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치된 제 3 미러를 포함할 수 있다.
상기된 본 발명에 따르면, EUV 생성 중에 발생된 부산물들에 의해 가장 많이 오염되는 제 3 미러가 제 1 미러와 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치됨으로써, 제 3 미러만에 대한 세정 공정이 가능해질 수 있다. 따라서, 콜렉터 미러 전체를 용기로부터 분리시키지 않아도 되므로, EUV 생성 장치의 가동율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 극자외선 생성 장치의 콜렉터 미러를 확대해서 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2에 도시된 콜렉터 미러의 제 3 미러의 분리 상태를 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 2에 도시된 콜렉터 미러를 나타낸 단면도이다.
도 5는 도 4에 도시된 콜렉터 미러의 제 3 미러를 확대해서 나타낸 단면도이다.
도 6은 도 4에 도시된 콜렉터 미러의 고정부를 확대해서 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 극자외선 생성 장치를 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 극자외선 생성 장치는 용기(vessel)(110), 원료 공급부, 레이저 조사부 및 콜렉터 미러(collector mirror)(200)를 포함할 수 있다.
용기(110)는 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV)이 형성되는 내부 공간을 가질 수 있다. EUV는 원료로 레이저를 조사하여 발생된 고온의 플라즈마(plasma)로부터 생성될 수 있다. 용기(110)는 고온의 플라즈마에 의해 손상되지 않는 재질을 포함할 수 있다.
용기(110)는 좌로부터 우로 갈수록 점진적으로 좁아지는 폭들을 가질 수 있다. 용기(110)의 좌측면은 개방될 수 있다. 용기(110)의 우측면에 EUV가 통과하는 포커싱 어퍼처(focusing aperture)(112)가 형성될 수 있다. EUV 생성 중에 발생된 부산물들이 배출되는 배출구(114)가 용기(110)의 측면에 형성될 수 있다. 배출구(114)는 스크러버(scrubber)에 연결될 수 있다.
원료 공급부는 용기(110)의 상부에 배치될 수 있다. 원료 공급부는 원료 액적(droplet)을 하나씩 수직 방향을 따라 용기(110)의 내부로 공급할 수 있다. 원료는 주석, 주석 화합물 등을 포함할 수 있다.
원료 액적이 용기(110) 내에 설정된 레이저 조사점으로 정확하게 도달할 수 있도록 하기 위해서, 원료 공급부의 위치는 제어부에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어서, 제어부는 원료 공급부를 수평 방향 및 수직 방향을 따라 미세하게 이동시킬 수 있다.
레이저 조사부는 용기(110)의 측부에 배치될 수 있다. 레이저 조사부는 용기(110)의 개방된 좌측면을 통해서 레이저를 용기(110)의 내부로 조사할 수 있다. 따라서, 레이저 조사부로부터 조사된 레이저의 조사 방향은 원료 공급부로부터 공급된 원료 액적의 공급 방향과 실질적으로 직교할 수 있다. 레이저는 이산화탄소 레이저를 포함할 수 있으나, 이에 국한되지 않을 수 있다.
수직 방향을 따라 이동하는 원료로 레이저를 수평 방향을 따라 정확하게 조사하기 위해서, 레이저 조사부의 위치는 제어부에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어서, 제어부는 레이저 조사부를 수평 방향 및 수직 방향을 따라 미세하게 이동시킬 수 있다.
콜렉터 미러(200)는 용기(110)의 개방된 좌측면에 배치될 수 있다. 콜렉터 미러(200)는 용기(110) 내부에서 생성된 EUV를 포커싱 어퍼처(112)를 향해 반사시킬 수 있다. 포커싱 어퍼처(112)를 통과한 EUV는 노광 챔버(exposing chamber)로 입사될 수 있다. 레이저 조사부는 콜렉터 미러(200)의 좌측에 배치되어 있으므로, 콜렉터 미러(200)의 중앙부에 레이저가 통과하는 통공(hole)(202)이 형성될 수 있다.
도 2는 도 1에 도시된 극자외선 생성 장치의 콜렉터 미러를 확대해서 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 콜렉터 미러의 제 3 미러의 분리 상태를 나타낸 사시도이며, 도 4는 도 2에 도시된 콜렉터 미러를 나타낸 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 콜렉터 미러의 제 3 미러를 확대해서 나타낸 단면도이며, 도 6은 도 4에 도시된 콜렉터 미러의 고정부를 확대해서 나타낸 단면도이다.
도 2 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예의 콜렉터 미러(200)는 대략 반구 형상(semi-spherical shape)을 가질 수 있다. 반구 형상을 갖는 콜렉터 미러(200)의 내면이 EUV를 반사하는 반사면일 수 있다.
콜렉터 미러(200)는 제 1 미러(210), 제 2 미러(220) 및 제 3 미러(230)를 포함할 수 있다. 제 1 미러(210)는 제 1 직경을 가질 수 있다. 제 2 미러(220)는 제 1 직경보다 긴 제 2 직경을 가질 수 있다. 제 3 미러(230)는 제 1 직경보다는 길고 제 2 직경보다는 짧은 제 3 직경을 가질 수 있다. 제 1 미러(210), 제 3 미러(230) 및 제 2 미러(220)가 순차적으로 적층될 수 있다. 즉, 제 3 미러(230)는 제 1 미러(210) 상에 적층될 수 있다. 제 2 미러(220)는 제 3 미러(230) 상에 적층될 수 있다.
제 1 미러(210), 제 3 미러(230) 및 제 2 미러(220)가 순차적으로 적층되어 결합되면, 결합된 구조는 전술한 반구 형상을 가질 수가 있게 된다. 즉, 제 3 미러(230)는 반구 형상의 구조물의 중간 부위를 반구 형상의 구조물로부터 분리시키는 것에 의해 형성될 수 있다.
제 1 미러(210)는 용기(110)의 개방된 좌측면 중앙부에 배치될 수 있다. 레이저가 통과하는 통공(202)은 제 1 미러(210)의 중앙부에 형성될 수 있다. 따라서, 제 1 미러(210)는 제 1 미러(210)의 내경을 정의하는 내측면 및 제 1 미러(210)의 외경을 정의하는 외측면(212)을 가질 수 있다.
제 1 미러(210)의 내측면 상단에 제 1 노즐(nozzle)(213)이 형성될 수 있다. 제 1 노즐(213)은 제 1 미러(210)의 표면과 평행한 방향을 따라 형성될 수 있다. 따라서, 제 1 노즐(213)은 제 1 미러(210)의 표면으로 에어를 분사하여, 제 1 미러(210)의 표면에 묻은 부산물을 제거할 수 있다. 제 1 에어 소스(air source)(260)가 제 1 노즐(213)에 연결될 수 있다. 따라서, 에어는 제 1 에어 소스(260)로부터 제 1 노즐(213)로 공급될 수 있다.
제 1 미러(210)는 대략 원판 형상의 본체부(body portion)(218)를 포함할 수 있다. 본체부(218)는 제 1 미러(210)의 하부면으로부터 제 1 미러(210)의 반지름 방향을 따라 연장될 수 있다. 본체부(218)는 제 3 미러(230)의 아래에 위치할 수 있다.
전술한 바와 같이, 제 2 미러(220)의 제 2 직경은 제 1 미러(210)의 제 1 직경보다 길므로, 제 2 미러(220)는 제 1 미러(210)를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 따라서, 제 2 미러(220)는 제 2 미러(220)의 내경을 정의하는 내측면(222) 및 제 2 미러(220)의 외경을 정의하는 외측면을 가질 수 있다.
제 2 미러(220)는 제 1 미러(210)와 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어서, 제 2 미러(220)는 본체부(218)에 연결될 수 있다. 다른 실시예로서, 제 2 미러(220)는 제 1 미러(210)로부터 분리될 수 있는 별도의 부재일 수도 있다.
제 3 미러(230)는 제 1 미러(210)와 제 2 미러(220) 사이에 배치될 수 있다. 용기(110) 내부에서 비산되는 부산물은 제 3 미러(230) 부근에서 부분적으로 정체(stagnation)될 수 있다. 따라서, 부산물은 제 1 미러(210)와 제 2 미러(220)보다는 제 3 미러(230)를 상대적으로 더 많이 오염시킬 수 있다.
제 3 미러(230)는 제 3 미러(230)의 내경을 정의하는 내측면(232) 및 제 3 미러(230)의 외경을 정의하는 외측면(234)을 가질 수 있다. 제 3 미러(230)의 내경은 제 1 미러(210)의 외경 이상일 수 있다. 또한, 제 3 미러(230)의 외경은 제 2 미러(220)의 내경 이하일 수 있다. 따라서, 제 3 미러(230)는 제 1 미러(210)와 제 2 미러(220)와 간섭하지 않으면서 제 1 미러(210)와 제 2 미러(220) 사이의 공간으로 수직 방향을 따라 아래로 진입될 수 있다. 즉, 제 3 미러(230)는 제 1 미러(210) 및 제 2 미러(220)와 중첩되지 않을 수 있다. 이와 같이, 제 1 미러(210)와 제 3 미러(230) 사이 및 제 3 미러(230)와 제 2 미러(220) 사이에 중첩되는 부분이 존재하지 않으므로, 제 3 미러(230)만을 수직 방향을 따라 위로 들어올릴 수 있다. 결과적으로, 제 3 미러(230)만에 대한 독립적인 세정 공정이 수행될 수 있다.
본 실시예에서, 제 3 미러(230)의 내경은 제 1 미러(210)의 외경과 동일할 수 있다. 따라서, 제 3 미러(230)의 내측면(232)은 제 1 미러(210)의 외측면(212)에 맞대어질 수 있다. 라비린스 실(labyrinth seal)(216)이 제 3 미러(230)의 내측면(232)에 맞대어진 제 1 미러(210)의 외측면(212)에 형성될 수 있다.
제 3 미러(230)의 내측면(232) 상단은 제 1 미러(210)의 외측면(212) 상단보다 아래에 위치할 수 있다. 따라서, 제 1 미러(210)의 외측면(212) 상부 부위는 제 3 미러(230)의 내측면(232)으로 가려지지 않고 노출될 수 있다.
제 2 노즐(214)이 제 1 미러(210)의 외측면(212) 상부 부위에 형성될 수 있다. 제 2 노즐(214)은 제 3 미러(230)의 표면과 평행한 방향을 따라 형성될 수 있다. 따라서, 제 2 노즐(214)은 제 3 미러(230)의 표면으로 에어를 분사하여, 제 3 미러(230)의 표면에 묻은 부산물을 제거할 수 있다. 제 2 에어 소스(262)가 제 2 노즐(214)에 연결될 수 있다. 따라서, 에어는 제 2 에어 소스(262)로부터 제 2 노즐(214)로 공급될 수 있다.
또한, 제 3 미러(230)의 외경은 제 2 미러(220)의 내경과 동일할 수 있다. 따라서, 제 3 미러(230)의 외측면(234)은 제 2 미러(220)의 내측면(222)에 맞대어질 수 있다. 라비린스 실(238)이 제 2 미러(220)의 내측면(222)에 맞대어진 제 3 미러(230)의 외측면(234)에 형성될 수 있다.
제 3 미러(230)의 외측면(234) 상단은 제 2 미러(220)의 내측면(222) 상단보다 위에 위치할 수 있다. 따라서, 제 3 미러(230)의 외측면(234) 상부 부위는 제 2 미러(220)의 내측면(222)으로 가려지지 않고 노출될 수 있다.
제 3 노즐(236)이 제 3 미러(230)의 외측면(234) 상부 부위에 형성될 수 있다. 제 3 노즐(236)은 제 2 미러(220)의 표면과 평행한 방향을 따라 형성될 수 있다. 따라서, 제 3 노즐(236)은 제 2 미러(220)의 표면으로 에어를 분사하여, 제 2 미러(220)의 표면에 묻은 부산물을 제거할 수 있다. 제 3 에어 소스(264)가 제 3 노즐(236)에 연결될 수 있다. 따라서, 에어는 제 3 에어 소스(264)로부터 제 3 노즐(236)로 공급될 수 있다.
컨트롤러(controller)(270)는 제 1 에어 소스(260), 제 2 에어 소스(262) 및 제 3 에어 소스(264)를 개별적으로 제어할 수 있다. 특히, 컨트롤러(270)는 제 1 에어 소스(260) 내의 공압, 제 2 에어 소스(262) 내의 공압 및 제 3 에어 소스(264) 내의 공압을 개별적으로 제어할 수 있다. 전술한 바와 같이, 제 3 미러(230)의 오염도가 제 1 미러(210)와 제 2 미러(220)의 오염도보다 높으므로, 제 3 미러(230)를 세정하는 제 2 노즐(214)로부터 분사되는 에어의 압력이 제 1 노즐(213)과 제 3 노즐(236)로부터 분사되는 에어의 압력보다 높아야만 세정 효율이 향상될 수 있다. 이를 위해서, 컨트롤러(270)는 제 2 에어 소스(262) 내의 공압을 제 1 및 제 3 에어 소스(264) 내의 공압보다 높게 설정할 수 있다.
제 1 미러(210)와 제 2 미러(220) 사이로 진입한 제 3 미러(230)를 제 1 미러(210)의 본체부(218)에 고정시키기 위해서, 제 3 미러(230)는 고정부(240)를 포함할 수 있다. 고정부(240)는 제 3 미러(230)의 하부면으로부터 아래를 향해 연장될 수 있다. 본 실시예에서, 고정부(240)는 제 3 미러(230)의 하부면에 제 3 미러(230)의 원주선을 따라 배열된 하나로 이루어질 수 있다. 다른 실시예로서, 고정부(240)는 제 3 미러(230)의 하부면에 제 3 미러(230)의 원주선을 따라 배열된 복수개로 이루어질 수도 있다.
제 3 미러(230)는 아래로 갈수록 점진적으로 좁아지는 테이퍼진(tapered) 하단(242)을 가질 수 있다. 제 3 미러(230)의 테이퍼진 하단(242)이 삽입되는 고정홈(219)이 본체부(218)의 표면에 형성될 수 있다. 고정홈(219)은 제 3 미러(230)의 테이퍼진 하단(242)과 대응하는 테이퍼진 형상을 가질 수 있다.
또한, 고정부(240)를 자력으로 고정하기 위한 자성체(250)가 본체부(218) 내에 배치될 수 있다. 자성체(250)로부터의 자력이 작용될 수 있도록, 고정부(240)는 자성 물질을 포함할 수 있다. 자성체(250)는 전자석을 포함할 수 있으나, 이에 국한되지 않을 수 있다.
한편, 본 실시예에서는 콜렉터 미러(200)가 3개의 미러들을 포함하는 것으로 예시하였으나, 콜렉터 미러(200)는 2개 또는 4개 이상의 미러들을 포함할 수도 있다.
상기된 본 실시예들에 따르면, 상기된 본 발명에 따르면, EUV 생성 중에 발생된 부산물들에 의해 가장 많이 오염되는 제 3 미러가 제 1 미러와 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치됨으로써, 제 3 미러만에 대한 세정 공정이 가능해질 수 있다. 따라서, 콜렉터 미러 전체를 용기로부터 분리시키지 않아도 되므로, EUV 생성 장치의 가동율을 향상시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
110 ; 용기 112 ; 포커싱 어퍼처
114 ; 배출구 120 ; 원료 공급부
130 ; 레이저 조사부 200 ; 콜렉터 미러
202 ; 통공 210 ; 제 1 미러
212 ; 제 1 미러의 외측면 213 ; 제 1 노즐
214 ; 제 2 노즐 216, 238 ; 라비린스 실
218 ; 본체부 219 ; 고정홈
220 ; 제 2 미러 222 ; 제 2 미러의 내측면
230 ; 제 3 미러 232 ; 제 3 미러의 내측면
234 ; 제 3 미러의 외측면
236 ; 제 3 노즐 240 ; 고정부
242 ; 테이퍼진 하단 250 ; 자성체
260 ; 제 1 에어 소스 262 ; 제 2 에어 소스
264 ; 제 3 에어 소스 270 ; 컨트롤러

Claims (10)

  1. 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV) 생성을 위한 원료와 레이저를 수용하는 용기에 설치된 제 1 미러;
    상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치된 제 2 미러; 및
    상기 제 1 미러의 외경 이상의 내경 및 상기 제 2 미러의 내경 이하의 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치된 제 3 미러를 포함하는 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 미러, 상기 제 2 미러 및 상기 제 3 미러가 결합된 형상은 반구 형상인 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3 미러의 내경은 상기 제 1 미러의 외경과 동일하여 상기 제 3 미러의 내측면이 상기 제 1 미러의 외측면에 맞대어지고, 상기 제 3 미러의 내측면에 맞대어진 상기 제 1 미러의 외측면에 라비린스 실이 형성되며,
    상기 제 3 미러의 외경은 상기 제 2 미러의 내경과 동일하여 상기 제 3 미러의 외측면이 상기 제 2 미러의 내측면에 맞대어지고, 상기 제 2 미러의 내측면에 맞대어진 상기 제 3 미러의 외측면에 라비린스 실이 형성된 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3 미러의 내경은 상기 제 1 미러의 외경과 동일하여 상기 제 3 미러의 내측면이 상기 제 1 미러의 외측면에 맞대어지고, 상기 제 3 미러의 외경은 상기 제 2 미러의 내경과 동일하여 상기 제 3 미러의 외측면이 상기 제 2 미러의 내측면에 맞대어진 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 미러의 내측면 상부 부위에 상기 제 1 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 1 노즐이 형성되고,
    상기 제 3 미러의 내측면 상단은 상기 제 1 미러의 외측면 상단보다 아래에 위치하여 상기 제 1 미러의 외측면 상부 부위가 노출되고, 상기 제 1 미러의 외측면 상부 부위에 상기 제 3 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 2 노즐이 형성되며,
    상기 제 3 미러의 외측면 상단은 상기 제 2 미러의 내측면 상단보다 위에 위치하여 상기 제 3 미러의 외측면 상부 부위가 노출되고, 상기 제 3 미러의 외측면 상부 부위에 상기 제 2 미러의 표면을 향해 에어를 분사하는 제 3 노즐이 형성된 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 노즐로 상기 에어를 공급하는 제 1 에어 소스;
    상기 제 2 노즐로 상기 에어를 공급하는 제 2 에어 소스;
    상기 제 3 노즐로 상기 에어를 공급하는 제 3 에어 소스; 및
    상기 제 1 내지 제 3 에어 소스들로부터 상기 제 1 내지 제 3 노즐들로 공급되는 상기 에어들의 압력들을 개별적으로 제어하는 컨트롤러를 더 포함하는 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 제 3 미러는 상기 제 3 미러의 하부면으로부터 연장된 고정부를 포함하고, 상기 제 1 미러는 상기 고정부가 삽입된 고정홈을 포함하는 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 고정부의 하단은 아래로 갈수록 점진적으로 좁아지는 테이퍼진 형상을 갖고, 상기 고정홈은 상기 고정부의 테이퍼진 하단과 대응하는 테이퍼진 형상을 갖는 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 미러에 내장되어 상기 고정부를 자력으로 고정시키는 자성체를 더 포함하는 극자외선 생성용 콜렉터 미러.
  10. 극자외선(Extreme UltraViolet : EUV) 생성을 위한 원료와 레이저를 수용하는 용기;
    상기 용기 내로 위한 상기 원료를 공급하는 원료 공급부;
    상기 원료로 레이저를 조사하여 상기 극자외선을 생성시키는 레이저 조사부; 및
    상기 극자외선을 반사하는 콜렉터 미러를 포함하고,
    상기 콜렉터 미러는
    상기 용기에 설치된 제 1 미러;
    상기 제 1 미러를 둘러싸도록 배치된 제 2 미러; 및
    상기 제 1 미러의 외경 이상의 내경 및 상기 제 2 미러의 내경 이하의 외경을 가져서 상기 제 1 미러와 상기 제 2 미러 사이에 분리 가능하게 배치된 제 3 미러를 포함하는 극자외선 생성 장치.
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