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KR20220014563A - Atmosphere type plasma treatment apparatus - Google Patents

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KR20220014563A
KR20220014563A KR1020200094304A KR20200094304A KR20220014563A KR 20220014563 A KR20220014563 A KR 20220014563A KR 1020200094304 A KR1020200094304 A KR 1020200094304A KR 20200094304 A KR20200094304 A KR 20200094304A KR 20220014563 A KR20220014563 A KR 20220014563A
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bar
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이정우
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Abstract

본 발명은 파워 바 등 부품의 국부적인 과열을 방지할 수 있게 하는 대기압 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로서, 내부에 수용 공간이 형성되는 케이스; 상기 케이스에 설치되고, 상기 수용 공간에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 공급부; 상기 케이스에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 전원 장치; 상기 케이스에 설치되고, 복수개의 가스 배출구가 형성되는 가스 배출판; 및 상기 가스 배출판과 이격되도록 상기 수용 공간에 설치되고, 상기 전원 장치와 전기적으로 연결되어 상기 공정 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 전극체;를 포함하고, 상기 전원 장치는, 상기 케이스와 절연될 수 있도록 상기 케이스에 설치된 절연 부재를 관통하는 막대 형상으로 형성되고, 일부분이 외부 단자와 전기적으로 연결되어 상기 전극체에 전원을 공급할 수 있도록 전도성 재질로 이루어지는 파워 바; 및 상기 파워 바에 집중되는 열을 냉각시키는 냉각 장치;를 포함할 수 있다.The present invention relates to an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of preventing local overheating of parts such as a power bar, comprising: a case having an accommodating space therein; a gas supply unit installed in the case and capable of supplying a process gas to the accommodation space; a power supply device installed in the case and capable of applying power for electrodes; a gas discharge plate installed in the case and having a plurality of gas outlets formed therein; and an electrode body installed in the accommodating space to be spaced apart from the gas discharge plate, and electrically connected to the power supply device to excite the process gas into a plasma state, wherein the power supply device may be insulated from the case a power bar formed in a bar shape penetrating the insulating member installed in the case so that a portion thereof is electrically connected to an external terminal to supply power to the electrode body; and a cooling device for cooling the heat concentrated on the power bar.

Description

대기압 플라즈마 처리 장치{Atmosphere type plasma treatment apparatus}Atmosphere type plasma treatment apparatus

본 발명은 대기압 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 파워 바 등 부품의 국부적인 과열을 방지할 수 있게 하는 대기압 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an atmospheric pressure plasma processing apparatus, and more particularly, to an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of preventing local overheating of parts such as a power bar.

일반적으로 반도체 및 디스플레이 제조공정에 사용되는 대기압 플라스마 발생 장치의 전극 구조는 대부분 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 방식이다.In general, most electrode structures of atmospheric pressure plasma generators used in semiconductor and display manufacturing processes are DBD (Dielectric Barrier Discharge) methods.

현재 상용화된 DBD 방식의 대기압 플라스마 전극의 구조는 금속과 유전체가 마주보거나 원주의 둘레에 위치하는 2차원적인 대향 구조로 이 방식에서 사용되는 금속 전극은 외부로 노출되어 세라믹과의 면접촉 방식으로 구성되어 있다. 이런 방식에서는 접촉면에서의 기생 방전에 의한 전력 손실 및 온도 상승의 문제로 플라스마의 효율이 감소하는 단점이 있다.The structure of the currently commercialized DBD type atmospheric pressure plasma electrode is a two-dimensional opposing structure in which metal and dielectric face or are located on the circumference of the circumference. has been In this method, there is a disadvantage in that the efficiency of the plasma decreases due to the problem of power loss and temperature rise due to parasitic discharge at the contact surface.

대기압 플라즈마 효율을 높이기 위해서, 디스플레이 기판 등 광폭을 가진 가공 대상물의 폭방향으로 전극이 길게 형성되어 가공 대상물 또는 전극이 이동 방향으로 이동하면서 스캔하는 스캔 방식의 대기압 플라즈마용 전극 장치가 적용될 수 있다.In order to increase atmospheric pressure plasma efficiency, an electrode device for atmospheric pressure plasma of a scanning method in which an electrode is formed long in the width direction of a processing object having a wide width, such as a display substrate, and scans while the processing object or electrode is moved in the movement direction may be applied.

이러한 스캔 방식의 경우, 가공 대상물의 폭방향 길이는 가공 대상물마다 다양한 것으로서, 이에 적용되는 플라즈마 전극의 길이를 가공 대상물의 길이에 맞추어 원피스 전극체를 제조하였으나, 통상적으로 디스플레이 패널 등 가공 대상물의 폭이 수미터에 이르는 광폭인 경우, 전극 가공 장치의 규격상 실질적으로 길이가 긴 전극을 형성하기가 어려웠었고, 이렇게 제작된 전극체는 생산 비용이나 생산 시간이 증대되어 제품의 생산성이 떨어지고, 이로 인해 장치의 생산 비용이 크게 증대되는 등 많은 문제점들이 있었다.In the case of such a scan method, the width direction length of the object to be processed varies for each object, and the one-piece electrode body was manufactured by matching the length of the plasma electrode applied thereto to the length of the object to be processed. In the case of a wide width of several meters, it was difficult to form a substantially long electrode according to the specifications of the electrode processing apparatus. There were many problems, such as a significant increase in the production cost of

이에 대하여, 전원을 공급하는 하나의 수직 파워 바에 수평 연결 바를 이용하여 복수개의 단위 전극들을 병렬로 연결하는 방식으로 이루어지는 멀티 전극체를 이용하는 멀티 전극 방식이 개발되었으나, 이러한 경우, 예컨대, 상기 멀티 전극체의 폭이 1000 mm 이상의 대형 전극의 경우, 상술된 상기 파워 바에 발열이 집중되어 비록 공정 가스가 케이스 내부에서 유동한다 하더라도 파워 바 또는 파워 바와 연결된 외부 단자(외부 케이블)이 손상되는 등 많은 문제점들이 있었다.In contrast, a multi-electrode method using a multi-electrode body formed by connecting a plurality of unit electrodes in parallel using a horizontal connecting bar to one vertical power bar for supplying power has been developed, but in this case, for example, the multi-electrode body In the case of a large electrode having a width of 1000 mm or more, heat is concentrated on the power bar, so even if the process gas flows inside the case, the power bar or the external terminal (external cable) connected to the power bar is damaged. .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 파워 바를 파이프 형상으로 형성하고 파워 바 내부에 냉매 유로(공정 가스 유로)를 형성하여 상기 파워 바 내경면의 표면 전류 증대 현상으로 인해 저항을 낮게 하여 저항열을 감소시키는 동시에, 상기 파워 바의 내부를 직접적으로 냉각시켜서 고온 발열로 인한 파워 바 또는 외부 단자의 손상 현상을 방지할 수 있고, 절연 부재나 케이스 등 주변의 온도를 하강시켜서 제품의 기능을 정상적으로 유지시킬 수 있게 하는 대기압 플라즈마 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.The present invention is to solve various problems including the above problems, by forming a power bar in a pipe shape and forming a refrigerant flow path (process gas flow path) inside the power bar to increase the surface current of the inner diameter surface of the power bar. By lowering the resistance, the resistance heat is reduced, and at the same time, the inside of the power bar is directly cooled to prevent damage to the power bar or external terminals due to high temperature heat generation, and the temperature around the insulation member or case is lowered. An object of the present invention is to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of maintaining normal product functions. However, these problems are exemplary, and the scope of the present invention is not limited thereto.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 대기압 플라즈마 처리 장치는, 내부에 수용 공간이 형성되는 케이스; 상기 케이스에 설치되고, 상기 수용 공간에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 공급부; 상기 케이스에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 전원 장치; 상기 케이스에 설치되고, 복수개의 가스 배출구가 형성되는 가스 배출판; 및 상기 가스 배출판과 이격되도록 상기 수용 공간에 설치되고, 상기 전원 장치와 전기적으로 연결되어 상기 공정 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 전극체;를 포함하고, 상기 전원 장치는, 상기 케이스와 절연될 수 있도록 상기 케이스에 설치된 절연 부재를 관통하는 막대 형상으로 형성되고, 일부분이 외부 단자와 전기적으로 연결되어 상기 전극체에 전원을 공급할 수 있도록 전도성 재질로 이루어지는 파워 바; 및 상기 파워 바에 집중되는 열을 냉각시키는 냉각 장치;를 포함할 수 있다.Atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the spirit of the present invention for solving the above problems, a case in which an accommodation space is formed therein; a gas supply unit installed in the case and capable of supplying a process gas to the accommodation space; a power supply device installed in the case and capable of applying power for electrodes; a gas discharge plate installed in the case and having a plurality of gas outlets formed therein; and an electrode body installed in the accommodating space to be spaced apart from the gas discharge plate, and electrically connected to the power supply device to excite the process gas into a plasma state, wherein the power supply device may be insulated from the case a power bar formed in a bar shape penetrating the insulating member installed in the case so that a portion thereof is electrically connected to an external terminal to supply power to the electrode body; and a cooling device for cooling the heat concentrated on the power bar.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 냉각 장치는, 냉매를 이용하여 상기 파워 바를 냉각시킬 수 있도록 상기 파워 바의 내부에 형성되는 냉매 유로일 수 있다.Also, according to the present invention, the cooling device may be a refrigerant passage formed inside the power bar to cool the power bar using a refrigerant.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 냉매 유로는, 상기 파워 바의 외측 단부에 형성되고, 상기 냉매를 공급받을 수 있도록 외부 냉매 공급관과 연결되는 냉매 유입 라인; 상기 냉매 유입 라인과 연결되고, 상기 냉매가 상기 파워 바의 중심축을 지나면서 열교환될 수 있도록 상기 냉매를 수직 방향으로 유도하는 냉매 유도 라인; 및 상기 냉매 유도 라인과 연결되고, 상기 냉매가 상기 케이스의 상기 수용 공간으로 배출될 수 있도록 상기 냉매를 수평 방향으로 배출시키는 냉매 배출 라인;을 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the refrigerant passage may include: a refrigerant inlet line formed at an outer end of the power bar and connected to an external refrigerant supply pipe to receive the refrigerant; a refrigerant induction line connected to the refrigerant inlet line and guiding the refrigerant in a vertical direction so that the refrigerant can exchange heat while passing through a central axis of the power bar; and a refrigerant discharge line connected to the refrigerant induction line and discharging the refrigerant in a horizontal direction so that the refrigerant can be discharged to the accommodation space of the case.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 냉매는 적어도 상기 공정 가스를 포함할 수 있다.Also, according to the present invention, the refrigerant may include at least the process gas.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 파워 바는, 상기 외부 단자의 링형 선단 접촉부를 관통하는 수나사부가 형성되는 몸체부; 및 일단이 상기 외부 냉매 공급관과 연결되고, 타단이 상기 링형 선단 접촉부와 밀착될 수 있도록 상기 수나사부에 나사 결합되는 암나사부가 형성되는 조임 나사부;를 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the power bar may include: a body in which a male thread penetrating a ring-shaped tip contact portion of the external terminal is formed; and a tightening screw portion having one end connected to the external refrigerant supply pipe and having a female screw portion screwed to the male screw portion so that the other end may be in close contact with the ring-shaped tip contact portion.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 절연 부재는, 상기 케이스와 상기 파워 바의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 케이스와 상기 파워 바 사이에 설치되는 절연 브라켓; 및 상기 절연 브라켓에 설치되고, 상기 케이스와 상기 외부 단자의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 외부 단자 및 상기 파워 바의 일부분을 둘러싸는 형상으로 형성되는 절연 박스;를 포함할 수 있다.In addition, according to the present invention, the insulating member may include: an insulating bracket installed between the case and the power bar to prevent a short circuit between the case and the power bar; and an insulating box installed on the insulating bracket and formed in a shape to surround a portion of the external terminal and the power bar to prevent a short circuit between the case and the external terminal.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 전극체는, 복수개의 단위 전극 기판들이 길이 방향으로 길게 배치되도록 복수개의 상기 단위 전극 기판들이 적어도 일렬을 이루어서 서로 어긋나게 연달아 배치되는 멀티 전극 기판일 수 있다.Also, according to the present invention, the electrode body may be a multi-electrode substrate in which a plurality of the unit electrode substrates are arranged in a row at least in a row so that the plurality of unit electrode substrates are arranged to be elongated in the longitudinal direction.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 전원 장치는, 상기 파워 바와 전기적으로 연결되고, 상기 멀티 전극 기판과 대응되도록 상기 수용 공간에 설치되는 연결 바;를 더 포함하고, 상기 케이스는, 상기 연결 바를 상기 수용 공간에 위치시킬 수 있도록 절연 재질로 이루어지는 복수개의 고정 브라켓이 설치될 수 있다.In addition, according to the present invention, the power supply device is electrically connected to the power bar, the connection bar is installed in the receiving space to correspond to the multi-electrode substrate; further comprising, the case, the connection bar to accommodate the A plurality of fixing brackets made of an insulating material may be installed so as to be positioned in the space.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 파워 바를 파이프 형상으로 형성하고 파워 바 내부에 냉매 유로(공정 가스 유로)를 형성하여 상기 파워 바 내경면의 표면 전류 증대 현상으로 인해 저항을 낮게 하여 저항열을 감소시키는 동시에, 상기 파워 바의 내부를 직접적으로 냉각시켜서 고온 발열로 인한 파워 바 또는 외부 단자의 손상 현상을 방지할 수 있고, 절연 부재나 케이스 등 주변의 온도를 하강시켜서 제품의 기능을 정상적으로 유지시킬 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. According to some embodiments of the present invention made as described above, the power bar is formed in a pipe shape and a refrigerant flow path (process gas flow path) is formed inside the power bar to reduce resistance due to an increase in surface current of the inner diameter surface of the power bar. At the same time, it is possible to prevent damage to the power bar or external terminals due to high temperature heat generation by directly cooling the inside of the power bar, and at the same time to reduce the resistance heat by lowering the temperature of the product by lowering the temperature around the insulation member or case. It has the effect of maintaining normal function. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 대기압 플라즈마 처리 장치를 나타내는 외관 사시도이다.
도 2는 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치의 전원 장치를 확대하여 나타내는 확대 외관 사시도이다.
도 3은 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치를 나타내는 전체 단면도이다.
도 4는 도 3의 대기압 플라즈마 처리 장치를 확대하여 나타내는 부분 단면도이다.
도 5는 도 4의 대기압 플라즈마 처리 장치를 나타내는 부분 절단 사시도이다.
도 6은 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
1 is an external perspective view illustrating an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to some embodiments of the present disclosure;
FIG. 2 is an enlarged external perspective view showing an enlarged power supply of the atmospheric pressure plasma processing apparatus of FIG. 1 .
3 is an overall cross-sectional view illustrating the atmospheric pressure plasma processing apparatus of FIG. 1 .
4 is an enlarged partial cross-sectional view of the atmospheric pressure plasma processing apparatus of FIG. 3 .
FIG. 5 is a partially cut-away perspective view illustrating the atmospheric pressure plasma processing apparatus of FIG. 4 .
FIG. 6 is an exploded perspective view of parts showing the atmospheric pressure plasma processing apparatus of FIG. 1 ;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, several preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.Examples of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is as follows It is not limited to an Example. Rather, these embodiments are provided so as to more fully and complete the present disclosure, and to fully convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. In addition, in the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated for convenience and clarity of description.

도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 대기압 플라즈마 처리 장치(100)를 나타내는 외관 사시도이고, 도 2는 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치(100)의 전원 장치(30)를 확대하여 나타내는 확대 외관 사시도이고, 도 3은 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치(100)를 나타내는 전체 단면도이고, 도 4는 도 3의 대기압 플라즈마 처리 장치(100)를 확대하여 나타내는 부분 단면도이고, 도 5는 도 4의 대기압 플라즈마 처리 장치(100)를 나타내는 부분 절단 사시도이고, 도 6은 도 1의 대기압 플라즈마 처리 장치(100)를 나타내는 부품 분해 사시도이다.FIG. 1 is an external perspective view illustrating an atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 according to some embodiments of the present disclosure, and FIG. 2 is an enlarged exterior showing an enlarged power supply device 30 of the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 of FIG. 1 . It is a perspective view, FIG. 3 is an overall cross-sectional view showing the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 of FIG. 1 , FIG. 4 is an enlarged partial cross-sectional view showing the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 of FIG. 3 , and FIG. 5 is the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 of FIG. It is a partially cut-away perspective view showing the plasma processing apparatus 100 , and FIG. 6 is an exploded perspective view of parts showing the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 of FIG. 1 .

도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 대기압 플라즈마 처리 장치(100)는, 케이스(10)와, 가스 공급부(20)와, 전원 장치(30)와, 가스 배출판(40) 및 전극체(50)를 포함할 수 있다.1 to 6 , the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 according to some embodiments of the present invention includes a case 10 , a gas supply unit 20 , a power supply device 30 , and a gas It may include a discharge plate 40 and an electrode body 50 .

여기서, 예컨대, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 케이스(10)는, 내부에 수용 공간(A)이 형성되도록 상판과 측판으로 이루어지는 하방이 개방된 박스 형상일 수 있다.Here, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the case 10 may have a box shape with an open lower side including an upper plate and a side plate so that an accommodating space A is formed therein.

여기서, 이러한 상기 상판과 측판은 복수개의 패널들로 이루어지고, 이러한 패널들은 나사나 볼트 등의 고정구를 이용하여 서로 조립될 수 있다.Here, the upper plate and the side plate are made of a plurality of panels, and these panels may be assembled with each other using fasteners such as screws or bolts.

더욱 구체적으로는, 상기 케이스(10)는 개방된 상기 하방에 상기 가스 배출판(40)이 설치되는 것으로서, 상기 가스 배출판(40)과 전기적으로 동일한 접지 수준을 형성하도록 전도성 금속 재질로 이루어질 수 있다.More specifically, the case 10 may be made of a conductive metal material to form the same ground level as the gas discharge plate 40 as the gas discharge plate 40 is installed under the open lower side. have.

그러나, 이러한 상기 케이스(10)의 형상은 도면에 반드시 국한되지 않고, 3차원적인 모든 통체 형상으로 형성되는 것이 가능하다.However, the shape of the case 10 is not necessarily limited to the drawings, and it is possible to form any three-dimensional cylindrical shape.

또한, 상기 케이스(10)는, 후술될 연결 바(C)를 상기 수용 공간(A)에 위치시킬 수 있도록 절연 재질로 이루어지는 복수개의 고정 브라켓(B)이 설치될 수 있다.In addition, the case 10 may be provided with a plurality of fixing brackets (B) made of an insulating material to position the connection bar (C), which will be described later, in the accommodation space (A).

또한, 예컨대, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 가스 공급부(20)는, 상기 케이스(10)의 상기 상판 일측에 복수개가 서로 이격되도록 균일하게 배치되고, 상기 수용 공간(A)에 공정 가스(G)를 공급할 수 있는 홀부 또는 공급관 형태의 구조체일 수 있다.In addition, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the gas supply unit 20 is uniformly disposed on one side of the upper plate of the case 10 so that a plurality of them are spaced apart from each other, and in the accommodating space (A). It may be a structure in the form of a hole or a supply pipe capable of supplying the process gas (G).

여기서, 상기 가스 공급부(20)는, 상기 수용 공간(A)에 상기 공정 가스(G)가 충전되어 상기 가스 배출판(40)의 가스 배출구(41)를 통해 균일하게 배출될 수 있도록 상기 케이스(10)의 상기 상판의 중심부로부터 일정한 거리에 적어도 하나 이상 배치될 수 있다.Here, the gas supply unit 20 includes the case ( 10), at least one may be disposed at a predetermined distance from the center of the upper plate.

여기서, 상기 가스 공급부(20)를 이용하여 상기 케이스(10)의 내부의 냉각을 겸용하는 목적으로 상기 공정 가스(G)가 주입될 수 있다.Here, the process gas G may be injected for the purpose of concurrently cooling the inside of the case 10 using the gas supply unit 20 .

따라서, 상기 가스 공급부(20)을 통해 상기 케이스(10)의 내부로 유입된 상기 공정 가스(G)는 상기 수용 공간(A)에 충전되어 압력이 골고루 분산될 수 있다.Accordingly, the process gas G introduced into the case 10 through the gas supply unit 20 may be filled in the accommodation space A so that the pressure may be uniformly distributed.

또한, 예컨대, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 전원 장치(30)는, 상기 케이스(10)의 상기 상판에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 장치로서, 상기 전극체(50)에 플라즈마 형성용 전원을 공급할 수 있다.In addition, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the power supply device 30 is installed on the upper plate of the case 10 and is a device capable of applying power for electrodes, and the electrode body ( 50) may be supplied with power for plasma formation.

또한, 예컨대, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 전원 장치(30)는, 상기 케이스(10)와 절연될 수 있도록 상기 케이스(10)에 설치된 절연 부재(60)를 관통하는 막대 형상으로 형성되고, 일부분이 외부 단자(E)와 전기적으로 연결되어 상기 전극체(50)에 전원을 공급할 수 있도록 전도성 재질로 이루어지는 파워 바(31)와, 상기 파워 바(31)에 집중되는 열을 냉각시키는 냉각 장치(32) 및 상기 파워 바(31)와 전기적으로 연결되고, 상기 멀티 전극 기판(52)과 대응되도록 상기 수용 공간(A)에 설치되는 연결 바(C)를 포함할 수 있다.In addition, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the power device 30 has a bar shape penetrating the insulating member 60 installed in the case 10 so as to be insulated from the case 10 . The power bar 31 made of a conductive material and heat concentrated on the power bar 31 so that a part of it is electrically connected to the external terminal E to supply power to the electrode body 50 . It may include a connection bar (C) electrically connected to the cooling device (32) and the power bar (31) for cooling, and installed in the accommodation space (A) to correspond to the multi-electrode substrate (52).

여기서, 상기 냉각 장치(32)는, 냉매(M)를 이용하여 상기 파워 바(31)를 냉각시킬 수 있도록 상기 파워 바(31)의 내부에 형성되는 냉매 유로(33)일 수 있다.Here, the cooling device 32 may be a refrigerant passage 33 formed inside the power bar 31 to cool the power bar 31 using the refrigerant M.

더욱 구체적으로 예를 들면, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 냉매 유로(33)는, 전체적으로 역 T자 형상인 것으로서, 상기 파워 바(31)의 외측 단부에 형성되고, 상기 냉매(M)를 공급받을 수 있도록 외부 냉매 공급관(P)과 연결되는 냉매 유입 라인(331)과, 상기 냉매 유입 라인(331)과 연결되고, 상기 냉매(M)가 상기 파워 바(31)의 중심축을 지나면서 열교환될 수 있도록 상기 냉매(M)를 수직 방향으로 유도하는 냉매 유도 라인(332) 및 상기 냉매 유도 라인(332)과 연결되고, 상기 냉매(M)가 상기 케이스(10)의 상기 수용 공간(A)으로 배출될 수 있도록 상기 냉매(M)를 수평 방향으로 배출시키는 냉매 배출 라인(333)을 포함할 수 있다.More specifically, for example, as shown in FIGS. 4 and 5 , the refrigerant passage 33 has an inverted T-shape as a whole, and is formed at the outer end of the power bar 31 , and the refrigerant ( A refrigerant inlet line 331 connected to the external refrigerant supply pipe P so as to receive M), and connected to the refrigerant inlet line 331 , and the refrigerant M moves the central axis of the power bar 31 . It is connected to a refrigerant inducing line 332 and the refrigerant inducing line 332 for guiding the refrigerant M in a vertical direction so that heat exchange can be performed while passing, and the refrigerant M is the receiving space of the case 10 . It may include a refrigerant discharge line 333 for discharging the refrigerant (M) in a horizontal direction so as to be discharged to (A).

따라서, 상기 냉매(M)는 상기 외부 냉매 공급관(P)과 연결되는 상기 냉매 유입 라인(331)을 따라 상기 파워 바(31)의 내부로 유입될 수 있고, 상기 냉매 유도 라인(332)을 따라 상기 파워 바(31)의 중심축을 따라 수직으로 유도될 수 있으며, 상기 파워 바(31)의 중심축으로부터 4갈레(동서남북) 방향으로 수평 방사되는 상기 냉매 배출 라인(333)을 따라 상기 수용 공간(A)으로 배출되면서 상기 파워 바(31)에서 발생되는 저항열을 냉각시킬 수 있다.Accordingly, the refrigerant M may be introduced into the power bar 31 along the refrigerant inlet line 331 connected to the external refrigerant supply pipe P, and along the refrigerant induction line 332 . It can be guided vertically along the central axis of the power bar 31, and the receiving space ( It is possible to cool the resistance heat generated from the power bar 31 while being discharged to A).

여기서, 상기 냉매(M)는 불활성 가스 등 각종 가스가 적용될 수 있으나, 바람직하기로는 상기 공정 가스(G)가 적용될 수 있다.Here, various gases such as an inert gas may be applied as the refrigerant M, but preferably, the process gas G may be applied.

이 때, 상기 파워 바(31)에 형성된 상기 냉매 유로(33)로 인하여 상기 파워 바(31)의 단면적이 줄어들기 때문에 상기 파워 바(31)의 저항이 늘어날 수 있으나, 반복적인 실험 결과, 상기 냉매 유로(33)의 내경이 상기 파워 바(31)의 외경의 5 퍼센트 내지 70 퍼센트에서는 표면 전류량이 늘어나는 표면 전류 현상으로 인하여 오히려 저항이 줄어들고, 이로 인하여 저항열도 줄어들어서 상기 냉매 유로(33)를 형성하는 것이 유리하다는 것으로 확인할 수 있었다. 따라서, 이러한 상기 냉매 유도(33)는 그 내경이 상기 파워 바(31)의 외경의 5 퍼센트 내지 70 퍼센트인 것이 바람직하다.At this time, since the cross-sectional area of the power bar 31 is reduced due to the refrigerant passage 33 formed in the power bar 31, the resistance of the power bar 31 may increase, but as a result of repeated experiments, the When the inner diameter of the refrigerant passage 33 is 5 to 70 percent of the outer diameter of the power bar 31, the resistance is rather reduced due to the surface current phenomenon in which the amount of surface current increases, and thus the resistance heat is also reduced, so that the refrigerant passage 33 is It was confirmed that it is advantageous to form. Accordingly, it is preferable that the refrigerant guide 33 has an inner diameter of 5% to 70% of the outer diameter of the power bar 31 .

또한, 더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 파워 바(31)는 상기 케이스(10)의 상기 상판의 중심부에 설치될 수 있다. 이러한 중심부에 설치된 상기 파워 바(31)를 이용하면, 상기 케이스(10)의 내부로 유입된 상기 냉매(M)가 상기 수용 공간(A)에서 어느 한 쪽으로 치우치지 않고 좌우 방향으로 균등하게 분배될 수 있다.In addition, more specifically, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the power bar 31 may be installed in the center of the upper plate of the case 10 . When the power bar 31 installed in the central part is used, the refrigerant M introduced into the case 10 can be evenly distributed in the left and right directions without being biased toward either side in the accommodating space A. can

또한, 더욱 구체적으로 예를 들면, 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 파워 바(31)는, 상기 외부 단자(E)의 링형 선단 접촉부(R)를 관통하는 수나사부(Sa)가 형성되는 몸체부(31-1) 및 일단이 상기 외부 냉매 공급관(P)과 연결되고, 타단이 상기 링형 선단 접촉부(R)와 밀착될 수 있도록 상기 수나사부(Sa)에 나사 결합되는 암나사부(Sb)가 형성되는 조임 나사부(31-2)를 포함할 수 있다.In addition, more specifically, for example, as shown in FIGS. 4 to 6 , the power bar 31 has a male screw portion Sa penetrating the ring-shaped tip contact portion R of the external terminal E. The formed body part 31-1 and one end are connected to the external refrigerant supply pipe (P), and the other end is screwed to the male thread part (Sa) so that the other end can be in close contact with the ring-shaped tip contact part (R). Sb) may include a fastening screw portion 31-2 is formed.

따라서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 몸체부(31-1)의 상기 수나사부(Sa)를 상기 링형 선단 접촉부(R)에 삽입하고, 상기 수나사부(Sa)를 상기 조임 나사부(31-2)의 상기 암나사부(Sb)에 나사 결함시켜서 상기 외부 단자(E)와 상기 파워 바(31)를 물리적 및 전기적으로 서로 견고하게 고정시켜서 접촉 불량 현상을 방지할 수 있다.Accordingly, as shown in FIG. 6 , the male screw portion Sa of the body portion 31-1 is inserted into the ring-shaped tip contact portion R, and the male screw portion Sa is inserted into the tightening screw portion 31- 2), the external terminal E and the power bar 31 are physically and electrically fixed to each other with a screw defect in the female screw portion Sb, thereby preventing a contact failure phenomenon.

한편, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 대기압 플라즈마 처리 장치(100)는, 상기 케이스(10)와 상기 파워 바(31)가 적기적으로 절연 상태를 유지할 수 있도록 상기 절연 부재(60)를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, in the atmospheric pressure plasma processing apparatus 100 according to some embodiments of the present invention, the insulating member 60 is further provided so that the case 10 and the power bar 31 can maintain an insulating state in a timely manner. may include

도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 절연 부재(60)는, 상기 케이스(10)와 상기 파워 바(31)의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 케이스(10)와 상기 파워 바(31) 사이에 설치되는 절연 브라켓(61) 및 상기 절연 브라켓(61)에 설치되고, 상기 케이스(10)와 상기 외부 단자(E)의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 외부 단자(E) 및 상기 파워 바(31)의 일부분을 둘러싸는 형상으로 형성되는 절연 박스(62)를 포함할 수 있다.1 to 6 , the insulating member 60 includes the case 10 and the power bar 31 to prevent a short circuit between the case 10 and the power bar 31 . The external terminal (E) and the power bar (E) installed between the insulating bracket 61 and the insulating bracket 61 to prevent a short circuit between the case 10 and the external terminal E It may include an insulating box 62 formed in a shape surrounding a portion of the 31).

그러므로, 이러한 상기 절연 부재(60)를 이용하여 상기 케이스(10)와 상기 파워 바(31)의 쇼트를 방지할 수 있는 것은 물론이고, 상기 케이스(10)와 상기 외부 단자(E)의 쇼트도 방지할 수 있으며, 상기 파워 바(31)에서 발생되는 저항열이 주변에 악영향을 끼치는 것을 방지할 수 있다.Therefore, it is possible to prevent a short circuit between the case 10 and the power bar 31 by using the insulating member 60 , as well as a short circuit between the case 10 and the external terminal E. This can be prevented, and it is possible to prevent the resistance heat generated from the power bar 31 from adversely affecting the surroundings.

한편, 예컨대, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 가스 배출판(40)은, 나사나 볼트 등의 각종 고정구를 이용하여 상기 케이스(10)의 측판 하면에 설치되는 것으로서, 복수개의 가스 배출구(41)가 형성되고, 상기 케이스(10)와 접지상태를 유지할 수 있도록 판형상의 전도성 금속 재질일 수 있다.On the other hand, for example, as shown in FIGS. 1 to 6 , the gas discharge plate 40 is installed on the lower surface of the side plate of the case 10 using various fasteners such as screws or bolts, and a plurality of gas The outlet 41 is formed and may be made of a plate-shaped conductive metal material to maintain a ground state with the case 10 .

즉, 상기 케이스(10)와 상기 가스 배출판(40)은 전기적으로 접지 상태를 유지할 수 있도록 전기적으로 서로 연결될 수 있다.That is, the case 10 and the gas discharge plate 40 may be electrically connected to each other so as to maintain an electrically grounded state.

한편, 예컨대, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 전극체(50)는, 상기 가스 배출판(40)과 이격되도록 상기 수용 공간(A)에 설치되고, 상기 전원 장치(30)와 전기적으로 연결되어 상기 공정 가스(G)를 플라즈마 상태로 여기시키는 전극 구조체로서, 상기 전극체(50)는, 복수개의 단위 전극 기판(51)들이 길이 방향으로 길게 배치되도록 복수개의 상기 단위 전극 기판(51)들이 적어도 일렬을 이루어서 서로 어긋나게 연달아 배치되는 멀티 전극 기판(52)일 수 있다.On the other hand, for example, as shown in FIG. 6 , the electrode body 50 is installed in the accommodation space A so as to be spaced apart from the gas discharge plate 40 , and is electrically connected to the power supply device 30 . As an electrode structure for excitation of the process gas G into a plasma state, the electrode body 50 includes a plurality of unit electrode substrates 51 such that the plurality of unit electrode substrates 51 are elongated in the longitudinal direction. It may be at least a multi-electrode substrate 52 arranged in a row and shifted from each other.

그러므로, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 파워 바(31)를 파이프 형상으로 형성하고 상기 파워 바(31) 내부에 상기 냉매 유로(33)를 형성하여 상기 파워 바(31) 내경면의 표면 전류 증대 현상으로 인해 저항을 낮게 하여 저항열을 감소시키는 동시에, 상기 파워 바(31)의 내부를 직접적으로 냉각시켜서 고온 발열로 인한 파워 바(31) 또는 외부 단자(E)의 손상 현상을 방지할 수 있고, 상기 절연 부재(60)나 상기 케이스(10) 등 주변의 온도를 하강시켜서 제품의 기능을 정상적으로 유지시킬 수 있다.Therefore, as shown in FIGS. 1 to 6 , the power bar 31 is formed in a pipe shape and the refrigerant passage 33 is formed inside the power bar 31 to form the inner diameter surface of the power bar 31 . At the same time, the resistance heat is reduced by lowering the resistance due to the increase of the surface current of can be prevented, and by lowering the temperature of the surrounding such as the insulating member 60 or the case 10, the function of the product can be maintained normally.

더불어, 미리 제작된 상기 단위 전극 기판(51)들을 필요에 따라 길이 방향으로 길게 연결하면서 전체적으로 길게 형성된 상기 멀티 전극 기판(50)을 형성함으로써 단위 전극 기판을 레고 형식으로 유니트화 하여 다수개를 결합하여 형성함으로 소형 전극에서 대형 전극까지 운용을 가능하게 하며, 대형 전극에서의 전극 휨 문제를 방지할 수 있고, 이를 통해서 대형 가공 대상물에 적용할 수 있으며, 다양한 규격의 가공 대상물에 모두 만족할 수 있고, 이로 인하여 전극의 생산 비용과 생산 시간을 줄여서 제품의 생산성을 높이며, 제품의 단가를 낮출 수 있다.In addition, by forming the multi-electrode substrate 50 which is formed elongated as a whole while connecting the pre-fabricated unit electrode substrates 51 in the longitudinal direction, if necessary, uniting the unit electrode substrates in a Lego form and combining a plurality of them. By forming it, it is possible to operate from a small electrode to a large electrode, and it is possible to prevent the electrode bending problem in a large electrode. Therefore, it is possible to reduce the production cost and production time of the electrode, thereby increasing the productivity of the product and lowering the unit price of the product.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, which are merely exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

10: 케이스
A: 수용 공간
G: 공정 가스
20: 가스 공급부
30: 전원 장치
31: 파워 바
31-1: 몸체부
31-2: 조임 나사부
32: 냉각 장치
33: 냉매 유로
331: 냉매 유입 라인
332: 냉매 유도 라인
333: 냉매 배출 라인
40: 가스 배출판
41: 가스 배출구
50: 전극체
51: 단위 전극 기판
52: 멀티 전극 기판
60: 절연 부재
61: 절연 브라켓
62: 절연 박스
E: 외부 단자
M: 냉매
P: 외부 냉매 공급관
R: 링형 선단 접촉부
Sa: 수나사부
Sb: 암나사부
C: 연결 바
B: 고정 브라켓
100: 대기압 플라즈마 처리 장치
10: case
A: accommodating space
G: process gas
20: gas supply
30: power supply
31: power bar
31-1: body part
31-2: tightening thread part
32: cooling device
33: refrigerant flow path
331: refrigerant inlet line
332: refrigerant guide line
333: refrigerant discharge line
40: gas exhaust plate
41: gas outlet
50: electrode body
51: unit electrode substrate
52: multi-electrode substrate
60: insulation member
61: insulation bracket
62: insulation box
E: external terminal
M: refrigerant
P: External refrigerant supply pipe
R: ring-shaped tip contact
Sa: male part
Sb: female thread part
C: connecting bar
B: fixed bracket
100: atmospheric pressure plasma processing device

Claims (8)

내부에 수용 공간이 형성되는 케이스;
상기 케이스에 설치되고, 상기 수용 공간에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 공급부;
상기 케이스에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 전원 장치;
상기 케이스에 설치되고, 복수개의 가스 배출구가 형성되는 가스 배출판; 및
상기 가스 배출판과 이격되도록 상기 수용 공간에 설치되고, 상기 전원 장치와 전기적으로 연결되어 상기 공정 가스를 플라즈마 상태로 여기시키는 전극체;를 포함하고,
상기 전원 장치는,
상기 케이스와 절연될 수 있도록 상기 케이스에 설치된 절연 부재를 관통하는 막대 형상으로 형성되고, 일부분이 외부 단자와 전기적으로 연결되어 상기 전극체에 전원을 공급할 수 있도록 전도성 재질로 이루어지는 파워 바; 및
상기 파워 바에 집중되는 열을 냉각시키는 냉각 장치;
를 포함하는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
a case in which an accommodation space is formed therein;
a gas supply unit installed in the case and capable of supplying a process gas to the accommodation space;
a power supply device installed in the case and capable of applying power for electrodes;
a gas discharge plate installed in the case and having a plurality of gas outlets formed therein; and
and an electrode body installed in the receiving space to be spaced apart from the gas discharge plate and electrically connected to the power supply to excite the process gas into a plasma state; and
The power supply is
a power bar formed in a bar shape penetrating an insulating member installed in the case so as to be insulated from the case and made of a conductive material so that a part thereof is electrically connected to an external terminal to supply power to the electrode body; and
a cooling device for cooling the heat concentrated on the power bar;
Including, atmospheric pressure plasma processing apparatus.
제 1 항에 있어서,
상기 냉각 장치는,
냉매를 이용하여 상기 파워 바를 냉각시킬 수 있도록 상기 파워 바의 내부에 형성되는 냉매 유로인, 대기압 플라즈마 처리 장치.
The method of claim 1,
The cooling device is
An atmospheric pressure plasma processing apparatus, which is a refrigerant passage formed inside the power bar to cool the power bar using a refrigerant.
제 2 항에 있어서,
상기 냉매 유로는,
상기 파워 바의 외측 단부에 형성되고, 상기 냉매를 공급받을 수 있도록 외부 냉매 공급관과 연결되는 냉매 유입 라인;
상기 냉매 유입 라인과 연결되고, 상기 냉매가 상기 파워 바의 중심축을 지나면서 열교환될 수 있도록 상기 냉매를 수직 방향으로 유도하는 냉매 유도 라인; 및
상기 냉매 유도 라인과 연결되고, 상기 냉매가 상기 케이스의 상기 수용 공간으로 배출될 수 있도록 상기 냉매를 수평 방향으로 배출시키는 냉매 배출 라인;
을 포함하는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
3. The method of claim 2,
The refrigerant passage is
a refrigerant inlet line formed at an outer end of the power bar and connected to an external refrigerant supply pipe to receive the refrigerant;
a refrigerant induction line connected to the refrigerant inlet line and guiding the refrigerant in a vertical direction so that the refrigerant can exchange heat while passing through a central axis of the power bar; and
a refrigerant discharge line connected to the refrigerant induction line and discharging the refrigerant in a horizontal direction so that the refrigerant can be discharged to the accommodation space of the case;
Including, atmospheric pressure plasma processing apparatus.
제 2 항에 있어서,
상기 냉매는 적어도 상기 공정 가스를 포함하는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
3. The method of claim 2,
and the refrigerant comprises at least the process gas.
제 1 항에 있어서,
상기 파워 바는,
상기 외부 단자의 링형 선단 접촉부를 관통하는 수나사부가 형성되는 몸체부; 및
일단이 상기 외부 냉매 공급관과 연결되고, 타단이 상기 링형 선단 접촉부와 밀착될 수 있도록 상기 수나사부에 나사 결합되는 암나사부가 형성되는 조임 나사부;
를 포함하는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
The method of claim 1,
The power bar is
a body portion in which a male thread penetrating the ring-shaped tip contact portion of the external terminal is formed; and
a tightening screw portion having one end connected to the external refrigerant supply pipe and having a female screw portion screwed to the male screw portion so that the other end can be in close contact with the ring-shaped tip contact portion;
Including, atmospheric pressure plasma processing apparatus.
제 1 항에 있어서,
상기 절연 부재는,
상기 케이스와 상기 파워 바의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 케이스와 상기 파워 바 사이에 설치되는 절연 브라켓; 및
상기 절연 브라켓에 설치되고, 상기 케이스와 상기 외부 단자의 쇼트를 방지할 수 있도록 상기 외부 단자 및 상기 파워 바의 일부분을 둘러싸는 형상으로 형성되는 절연 박스;
를 포함하는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
The method of claim 1,
The insulating member is
an insulating bracket installed between the case and the power bar to prevent a short circuit between the case and the power bar; and
an insulating box installed on the insulating bracket and formed in a shape surrounding a portion of the external terminal and the power bar to prevent a short circuit between the case and the external terminal;
Including, atmospheric pressure plasma processing apparatus.
제 1 항에 있어서,
상기 전극체는,
복수개의 단위 전극 기판들이 길이 방향으로 길게 배치되도록 복수개의 상기 단위 전극 기판들이 적어도 일렬을 이루어서 서로 어긋나게 연달아 배치되는 멀티 전극 기판인, 대기압 플라즈마 처리 장치.
The method of claim 1,
The electrode body,
A multi-electrode substrate in which a plurality of the unit electrode substrates are arranged in a line at least in a row so that the plurality of unit electrode substrates are arranged to be elongated in the longitudinal direction, the multi-electrode substrate being displaced from each other, the atmospheric pressure plasma processing apparatus.
제 7 항에 있어서,
상기 전원 장치는,
상기 파워 바와 전기적으로 연결되고, 상기 멀티 전극 기판과 대응되도록 상기 수용 공간에 설치되는 연결 바;
를 더 포함하고,
상기 케이스는, 상기 연결 바를 상기 수용 공간에 위치시킬 수 있도록 절연 재질로 이루어지는 복수개의 고정 브라켓이 설치되는, 대기압 플라즈마 처리 장치.
8. The method of claim 7,
The power supply is
a connection bar electrically connected to the power bar and installed in the accommodating space to correspond to the multi-electrode substrate;
further comprising,
In the case, a plurality of fixing brackets made of an insulating material are installed to position the connection bar in the accommodation space, the atmospheric pressure plasma processing apparatus.
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