KR20210133045A - Curable composition including quantum dot, resin layer using the same and display device - Google Patents
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Abstract
Description
본 기재는 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a curable composition containing quantum dots, a resin film using the same, and a display device including the resin film.
컬러필터는 액정표시장치, 카메라의 광학필터 등에 사용되는 것으로서, 3종 이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 고체촬영소자 또는 투명기판상에 코팅하여 제조된다. 이와 같은 착색박막은 통상 염색법, 인쇄법, 안료분산법, 잉크젯 방식 등에 의하여 형성될 수 있다.A color filter is used for a liquid crystal display device, an optical filter of a camera, and the like, and is manufactured by coating a fine area colored in three or more colors on a solid-state imaging device or a transparent substrate. Such a colored thin film may be generally formed by a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, an inkjet method, and the like.
염색법은 기판상에 미리 젤라틴 등의 천연 감광성 수지, 아민변성 폴리비닐알코올, 아민변성 아크릴계 수지 등의 염색기재를 가진 화상을 형성시킨 후, 직접염료 등의 염료로 염색하여 착색박막을 형성하게 된다. 염색법의 경우, 일반적으로 사용되는 염료 및 수지 자체의 선명성과 분산성을 양호하나, 내광성, 내습성 및 내열성이 떨어지는 단점이 있다.In the dyeing method, an image with a dyeing base such as a natural photosensitive resin such as gelatin, amine-modified polyvinyl alcohol, or amine-modified acrylic resin is formed on a substrate in advance, and then dyed with a dye such as a direct dye to form a colored thin film. In the case of the dyeing method, the clarity and dispersibility of commonly used dyes and resins themselves are good, but there is a disadvantage in that light resistance, moisture resistance and heat resistance are inferior.
인쇄법은 열경화성 또는 광경화성 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 사용하여 인쇄를 행한 후, 열 또는 광으로 경화시킴으로써 착색박막을 형성한다. 염색법의 경우, 타 방법에 비해 재료비를 절감할 수 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상 형성이 곤란하다는 단점이 있다.In the printing method, a colored thin film is formed by printing using an ink in which a pigment is dispersed in a thermosetting or photocurable resin, and then curing with heat or light. In the case of the dyeing method, the material cost can be reduced compared to other methods, but there is a disadvantage in that it is difficult to form a highly precise and detailed image.
안료분산법은 블랙 매트릭스가 제공된 투명한 기재 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅, 노광, 현상 및 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막을 형성하는 방법이다. 안료분산법은 내열성 및 내구성을 향상시킬 수 있고 필름의 두께를 균일하게 유지할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 미세 패턴의 구현이 우수하고 제조방법이 비교적 용이하여 보편적으로 채용되고 있다. 예컨대, 대한민국 특허공개 제1992-7002502호, 대한민국 특허공개 제1994-0005617호, 대한민국 특허공개 제1995-0011163호, 대한민국 특허공개 제1995-7000359호 등에서는 안료분산법을 이용한 착색 감광성 수지 조성물의 제조방법이 제안되고 있다.The pigment dispersion method is a method of forming a colored thin film by repeating a series of processes of coating, exposing, developing, and thermally curing a photopolymerizable composition containing a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix. The pigment dispersion method has advantages in that heat resistance and durability can be improved and the thickness of the film can be maintained uniformly. In addition, the implementation of the fine pattern is excellent and the manufacturing method is relatively easy, so it is universally employed. For example, in Korean Patent Publication No. 1992-7002502, Korean Patent Publication No. 1994-0005617, Korean Patent Publication No. 1995-0011163, Korean Patent Publication No. 1995-7000359, etc., the preparation of a colored photosensitive resin composition using a pigment dispersion method A method is being proposed.
그러나, 상기 방법은 화소를 형성하기 위하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)에 대하여 각각 코팅, 노광, 현상 및 경화하는 과정을 요구하여 제조 공정이 매우 길어지고 공정간 제어인자가 많아짐에 따라 수율 관리에 어려움이 있다.However, the method requires a process of coating, exposing, developing and curing each of red (R), green (G) and blue (B) to form a pixel. As the number increases, it is difficult to manage the yield.
이러한 문제점을 극복하기 위해 최근에는 종래의 안료분산법을 대체하기 위한 여러 가지 새로운 공정방식이 사용되고 있는데, 대표적인 것이 잉크젯 프린팅 방식이다. 잉크젯 프린팅 방식에서는 유리기판 상에 블랙 매트릭스 등의 차광층을 형성하고 상기 화소 공간에 잉크를 주입하는 방식이다. 잉크젯 프린팅 방식은 컬러필터를 제조함에 있어서 별도의 코팅, 노광, 현상 등의 공정이 불필요하므로 공정에 필요한 재료를 절감할 수 있고 공정의 단순화를 가능하게 할 수 있다.In order to overcome this problem, various new process methods have been used to replace the conventional pigment dispersion method, and a representative one is the inkjet printing method. In the inkjet printing method, a light blocking layer such as a black matrix is formed on a glass substrate and ink is injected into the pixel space. Since the inkjet printing method does not require a separate process such as coating, exposure, and development in manufacturing the color filter, materials required for the process can be reduced and the process can be simplified.
상기와 같은 잉크젯 잉크를 사용하여 컬러필터를 제조하는 경우, 요구되는 색 특성을 확보하기 위해서는 2 종류 이상의 안료를 혼합하여 사용하는 것이 일반적이다. 특히, 적색 필터에 있어서는 주안료로 다이키토파이롤로파이롤계 적색 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Red 254가 주로 채용된다. 또한, 조색 안료로는 안트라퀴논계 적색 안료, 예를 들면, C.I. Pigment Red 177을 첨가하거나, 또는 아이소인돌리논계 황색 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Yellow 139를 첨가하는 것이 일반적이다. 경우에 따라서는 다른 황색 및 오렌지색의 안료, 예를 들면 C.I. Pigment Yellow 138, C.I Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Orange 38 등을 첨가할 수도 있다. 상기의 안료들은 색특성, 내광성 및 내열성이 우수한 특징이 있어, 컬러필터용 재료로서 흔히 사용되어 왔으나, 최근 LCD 컬러필터의 용도가 확대됨에 따라, 요구되는 물성 수준은 나날이 높아지고 있다. 따라서, 투과될 때의 명도 및 색순도 향상과 같은 색특성을 높이기 위해, 상기 안료들을 미립화 및 미세 분산화하는 연구가 진행되고 있으나, 사실상 이들 안료의 조합만으로는 컬러필터의 색특성 발현에 한계가 있다.When a color filter is manufactured using the inkjet ink as described above, it is common to use a mixture of two or more types of pigments in order to secure required color characteristics. In particular, in a red filter, a dicytopyrrolopyrrole-based red pigment, for example, C.I. Pigment Red 254 is mainly used. In addition, as a toning pigment, an anthraquinone-based red pigment, for example, C.I. Pigment Red 177 is added, or an isoindolinone-based yellow pigment such as C.I. It is common to add Pigment Yellow 139. Optionally other yellow and orange pigments, for example C.I. Pigment Yellow 138, C.I Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Orange 38 or the like may be added. The above pigments have excellent color characteristics, light resistance and heat resistance, and have been frequently used as a material for color filters. Therefore, in order to increase color characteristics such as improvement of brightness and color purity when transmitted, research is being conducted to atomize and finely disperse the pigments, but in fact, there is a limit to the expression of color characteristics of a color filter only by a combination of these pigments.
이에, 상기 안료들을 양자점으로 대체하려는 시도가 계속되었으며, 그 결과 양자점은 디스플레이 분야에 새로운 기술 트렌드로 자리를 잡게 되었으며, 상기 양자점은 현재 TV, LED 외에 다양한 디스플레이 장치, 전자 장치 등에 적용이 가능하게 되었다. CdSe, InP 등으로 대표되는 양자점은 발광효율(Quantum Yield)적인 면에서 연구가 매우 활발하게 진행되어, 현재에는 발광효율이 100%에 가까운 합성법들이 소개되고 있으며, 실제로 양자점 시트를 적용한 TV인 QD SUHDTV가 상품화되기에 이르렀다. 다만, 상기 QD SUHDTV는 컬러필터층에서 광의 필터링이 이루어지는 필터링 타입의 제품으로서 한계가 있기에, 그 다음 버전으로 양자점을 기존 LED TV의 컬러필터층에 포함(안료, 염료 등의 기존 착색제 배제)시켜, 상기 컬러필터층에서 필터링 타입이 아닌, 자체 발광 타입의 양자점 TV를 개발하기 위한 연구가 현재 계속되고 있다. Accordingly, attempts have been made to replace the pigments with quantum dots, and as a result, quantum dots have been established as a new technological trend in the display field, and the quantum dots are currently applicable to various display devices, electronic devices, etc. in addition to TVs and LEDs. . Quantum dots, represented by CdSe and InP, have been actively studied in terms of luminous efficiency (Quantum Yield), and synthetic methods with luminous efficiency close to 100% are being introduced. has been commercialized. However, the QD SUHDTV has limitations as a filtering type product in which light is filtered in the color filter layer. Research to develop a self-emission type quantum dot TV in the filter layer, not the filtering type, is currently ongoing.
이외에도 양자점을 적용한 다양한 타입의 디스플레이 장치가 검토되고 있으나, 모든 케이스에서 공정성 및 성능발현을 위해서는, 유기물 조성과의 포뮬레이션(formulation)이 조정될 필요가 있다. 하지만 양자점이 유기물 조성(단량체, 바인더 수지, 개시제, 기타 첨가제 등)과 혼합되어 경화 단계(열경화 또는 광경화)를 거치면서 상기 양자점을 충분히 안정화(passivation)시킬 수 있는 유기물 조성이 아직 개발되지 않아, 공정 상 필연적으로 양자점의 소광이 일어나고 있다. 따라서, 양자점을 충분히 안정화 시킴으로써 소광을 방지할 수 있는 유기물 조성의 개발이 양자점 적용 디스플레이 장치 개발에 중요한 이슈로 떠오르고 있다. In addition, various types of display devices to which quantum dots are applied have been studied, but in order to achieve fairness and performance in all cases, it is necessary to adjust the formulation with the organic material composition. However, an organic composition capable of sufficiently stabilizing the quantum dots (passivation) while the quantum dots are mixed with the organic composition (monomer, binder resin, initiator, other additives, etc.) and undergo a curing step (thermal curing or photocuring) has not yet been developed. , the quenching of quantum dots is inevitably occurring in the process. Therefore, the development of an organic material composition capable of preventing quenching by sufficiently stabilizing the quantum dot is emerging as an important issue in the development of a quantum dot-applied display device.
한편, 최근들어 용매형 경화성 조성물보다 실제 공정에 적용하기 쉬운 무용매형 경화성 조성물에 대한 니즈가 갈수록 증대되고 있으며, 이에 부응하여 양자점을 포함하는 무용매형 경화성 조성물에 대한 연구도 활발하게 진행되고 있다.On the other hand, recently, the need for a solvent-free curable composition that is easier to apply to an actual process than a solvent-type curable composition is increasing.
일 구현예는 양자점 표면개질을 통해 양자점을 충분히 안정화시킴과 동시에, 중합성 화합물 및 용매 모두에 대한 분산성이 크게 향상된, 표면개질된 양자점 함유 경화성 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a surface-modified quantum dot-containing curable composition that sufficiently stabilizes quantum dots through quantum dot surface modification, and has greatly improved dispersibility for both a polymerizable compound and a solvent.
다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a resin film prepared using the curable composition.
또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a display device including the resin film.
일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 표면개질된 양자점을 포함하는 경화성 조성물을 제공한다.One embodiment provides a curable composition comprising quantum dots surface-modified with a compound represented by the following formula (1).
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Formula 1,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L1 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, *-C(=O)O-* 또는 하기 화학식 L-1로 표시되고, L 1 to L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, *-C(=O)O-*, or represented by the following formula L-1,
[화학식 L-1][Formula L-1]
상기 화학식 L-1에서,In the formula L-1,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
X는 산소 원자 또는 황 원자이고,X is an oxygen atom or a sulfur atom,
n은 1 내지 20의 정수이다. n is an integer from 1 to 20;
상기 화학식 1에서, L1은 상기 화학식 L-1로 표시되고, L2 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-C(=O)O-* 일 수 있다.In Formula 1, L 1 is represented by Formula L-1, and L 2 to L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-C(=O)O-* can be
상기 화학식 1에서, L1은 하기 화학식 L-1-1, 화학식 L-1-2 또는 이들의 조합으로 표시될 수 있다.In Formula 1, L 1 may be represented by Formula L-1-1, Formula L-1-2, or a combination thereof.
[화학식 L-1-1][Formula L-1-1]
[화학식 L-1-2][Formula L-1-2]
상기 화학식 L-1-1 및 화학식 L-1-2에서,In the above formulas L-1-1 and L-1-2,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.n1 and n2 are each independently an integer from 1 to 10.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 1-1 to 1-4 below.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
[화학식 1-3][Formula 1-3]
[화학식 1-4][Formula 1-4]
상기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4에서,In Formulas 1-1 to 1-4,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L2, L4 및 L5는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 2 , L 4 and L 5 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.n1 and n2 are each independently an integer from 1 to 10.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 2 to 6 below.
[화학식 2][Formula 2]
[화학식 3][Formula 3]
[화학식 4][Formula 4]
[화학식 5][Formula 5]
[화학식 6][Formula 6]
상기 경화성 조성물은 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 중합성 화합물을 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a polymerizable compound having a carbon-carbon double bond at the terminal thereof.
상기 중합성 화합물은 말단에 하기 화학식 7-1로 표시되는 관능기 또는 하기 화학식 7-2로 표시되는 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 중합성 단량체일 수 있다.The polymerizable compound may be a polymerizable monomer having at least one functional group represented by the following Chemical Formula 7-1 or a functional group represented by the following Chemical Formula 7-2 at the terminal thereof.
[화학식 7-1][Formula 7-1]
[화학식 7-2][Formula 7-2]
상기 화학식 7-1 및 화학식 7-2에서,In Formulas 7-1 and 7-2,
L6은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 6 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.
상기 양자점은 코어-쉘 구조를 가지며, 상기 쉘은 Zn을 포함할 수 있다.The quantum dots may have a core-shell structure, and the shell may include Zn.
상기 양자점은 360 nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 500nm 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점일 수 있다.The quantum dot may be a quantum dot that absorbs light of 360 nm to 780 nm and emits fluorescence at 500 nm to 700 nm.
상기 양자점은 녹색 양자점, 적색 양자점 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The quantum dots may include green quantum dots, red quantum dots, or a combination thereof.
상기 경화성 조성물은 중합 개시제, 광확산제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include a polymerization initiator, a light diffusing agent, or a combination thereof.
상기 광확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The light diffusing agent may include barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.
상기 경화성 조성물은 바인더 수지 및 용매로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함할 수 있다.The curable composition may further include at least one selected from the group consisting of a binder resin and a solvent.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.
상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르아세테이트, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 디메틸아디페이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ부티로락톤, 아세톤 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol butyl ether acetate, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide , dimethyl adipate, cyclohexyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, 2-butoxyethanol, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γbutyrolactone, acetone or a combination thereof may include
상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition comprises malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or it may further include a combination thereof.
다른 일 구현예는 상기 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a resin film prepared using the curable composition.
또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the resin film.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.The specific details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.
특정 표면개질 물질을 통해 양자점을 안정적으로 패시베이션함으로써, 중합성 화합물, 친수성 용매, 소수성 용매 모두에 대한 양자점의 분산성을 크게 향상시켜, 양자점의 양자효율 저하 방지를 통한 디스플레이 장치의 신뢰성 개선을 꾀할 수 있다.By stably passivating the quantum dots through a specific surface modification material, the dispersibility of the quantum dots in all polymerizable compounds, hydrophilic solvents, and hydrophobic solvents is greatly improved, and the reliability of the display device can be improved by preventing the decrease in quantum efficiency of quantum dots. have.
도 1은 일 구현예에 따른 경화성 조성물을 구성하는 표면개질된 양자점을 설명한 그림이다.
도 2는 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 양자점을 표면개질시킨 후, 상기 표면개질된 양자점이 PGMEA(프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트) 용매에 분산되는 공정을 나타낸 그림이다.
도 3은 표면개질된 양자점이 잘 분산되어 있는 PGMEA 분산액 사진이다.
도 4는 화학식 2 내지 화학식 6으로 표시되는 화합물 각각의 합성법을 간략하게 나타낸 반응식이다.1 is a diagram illustrating a surface-modified quantum dot constituting a curable composition according to an embodiment.
2 is a diagram illustrating a process in which the surface-modified quantum dots are dispersed in a PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) solvent after the curable composition according to an embodiment surface-modifies the quantum dots.
3 is a photograph of a PGMEA dispersion in which the surface-modified quantum dots are well dispersed.
4 is a reaction scheme schematically illustrating a synthesis method of each of the compounds represented by Chemical Formulas 2 to 6.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, and "cycloalkenyl group" means a C3 to C20 cycloalkenyl group, , "heterocycloalkenyl group" means a C3 to C20 heterocycloalkenyl group, "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, "arylalkyl group" means a C6 to C20 arylalkyl group, "alkylene group" means a C1 to C20 alkylene group, "arylene group" means a C6 to C20 arylene group, "alkylarylene group" means a C6 to C20 alkylarylene group, and "heteroarylene group" means a C3 to C20 hetero It refers to an arylene group, and "alkoxyylene group" refers to a C1 to C20 alkoxyylene group.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substitution" means that at least one hydrogen atom is a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, an amine group, an imino group, Azido group, amidino group, hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group, ether group, carboxyl group or a salt thereof, sulfonic acid group or a salt thereof, phosphoric acid or a salt thereof, C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C20 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cycloalkenyl group, C3 to C20 cycloalkynyl group, C2 to C20 heterocycloalkyl group, C2 to C20 heterocycloalkenyl group, C2 to C20 heterocycloalkynyl group, C3 to C20 heteroaryl group, or a combination thereof means substituted with a substituent.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.In addition, unless otherwise specified in the present specification, "hetero" means that at least one hetero atom among N, O, S and P is included in the formula.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. In addition, unless otherwise specified herein, "(meth)acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth)acrylic acid" is "acrylic acid" and "methacrylic acid" “It means that both are possible.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "combination" means mixing or copolymerization.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in the present specification, when a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded to the position.
본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 8-1 내지 화학식 8-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.As used herein, the cardo-based resin refers to a resin in which one or more functional groups selected from the group consisting of the following Chemical Formulas 8-1 to 8-11 are included in the backbone of the resin.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise specified in the present specification, "*" means a moiety connected to the same or different atoms or chemical formulas.
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 표면개질된 양자점을 포함한다. The curable composition according to an embodiment includes a quantum dot surface-modified with a compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에서,In Formula 1,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L1 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, *-C(=O)O-* 또는 하기 화학식 L-1로 표시되고, L 1 to L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, *-C(=O)O-*, or represented by the following formula L-1,
[화학식 L-1][Formula L-1]
상기 화학식 L-1에서,In the formula L-1,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
X는 산소 원자 또는 황 원자이고,X is an oxygen atom or a sulfur atom,
n은 1 내지 20의 정수이다. n is an integer from 1 to 20;
기존 LCD기반 TV에 양자점을 적용하는 컨셉(필터링 타입)으로 여러 방식의 패널들이 개발되고 있다. 최근에는 휘도 개선 등을 위해 기존 PMMA 도광판를 대신하여 glass 도광판에 양자점 함유 수지 조성물을 도포 후 경화하는 양자점-글래스(QD-galss) 개발이 진행되고 있으며, 이와 관련된 시장의 요구수준이 갈수록 높아져, 현재에는 양자점 시트가 적용된 QLED TV의 기본적인 패널 작동 메커니즘 및 광특성의 장점은 그대로 가져가면서, 동시에 패널의 두께를 얇게하고, 나아가 휘도 개선 효과까지 기대할 수 있는 패널에 대한 수요가 크게 증가한 상태이다.Various types of panels are being developed with the concept of applying quantum dots to existing LCD-based TVs (filtering type). Recently, instead of the existing PMMA light guide plate to improve luminance, the development of quantum dot-glass (QD-galss) that cures after coating a resin composition containing quantum dots on a glass light guide plate is in progress. The demand for a panel that can reduce the thickness of the panel while retaining the advantages of the basic panel operation mechanism and optical characteristics of QLED TV to which the quantum dot sheet is applied, and further improving the luminance, has greatly increased.
일반적으로 상기 요구수준에 부합하는 조성물을 제공하기 위해서는, 무엇보다 조성물 내 양자점이 어떤 공정을 거치더라도 안정적으로 존재하는 게 중요하다. 즉, 양자점의 안정화가 신뢰성이 우수한 디스플레이 장치를 제공의 중요 요소가 된다. 즉, 양자점 함유 경화성 조성물을 적용한 TV 개발의 핵심은 상기 조성물 조성의 패터닝성과 열공정 등의 공정에서 양자점이 얼마나 잘 안정화되어, 양자점의 광 효율이 얼마나 잘 유지되느냐와 패턴성을 잘 구현하느냐에 달려있다.In general, in order to provide a composition that meets the above requirements, it is important that the quantum dots in the composition stably exist regardless of any process. That is, stabilization of quantum dots is an important factor in providing a display device having excellent reliability. That is, the core of TV development to which the quantum dot-containing curable composition is applied depends on how well the quantum dots are stabilized in the process such as the patterning properties of the composition composition and the thermal process, how well the light efficiency of the quantum dots is maintained and the patternability is well implemented. .
보통 양자점을 안정화시키려는 목적으로 양자점의 리간드 역할을 할 수 있는 물질, 예컨대 카르복실산, 티올, 아민 등의 단분자 화합물, 이들의 올리고머 또는 이들을 포함하는 고분자 물질들을 첨가하게 된다. 이러한 리간드 물질들이 경화된 조성 내에서 양자점에 배위(리간드가 양자점 표면의 dangling bond를 안정화시킴)함으로서, 양자점 최외곽의 원자들을 안정시키고, 양자점의 소광을 억제(양자점 자체의 안정성 향상)함과 동시에 소수성 용매에 대한 양자점의 분산성을 향상시키게 된다. Usually, for the purpose of stabilizing the quantum dot, a material capable of serving as a ligand of the quantum dot, for example, a monomolecular compound such as carboxylic acid, thiol, or amine, an oligomer thereof, or a polymer material including the same is added. These ligand materials coordinate to the quantum dot in the cured composition (ligand stabilizes the dangling bond on the surface of the quantum dot), thereby stabilizing the outermost atoms of the quantum dot, suppressing the quenching of the quantum dot (improving the stability of the quantum dot itself), and at the same time The dispersibility of quantum dots in a hydrophobic solvent is improved.
하지만 양자점 합성 조건을 고려할 때, 전술한 리간드 시스템을 원하는 대로 변경하지 못하는 경우가 대부분이며, 따라서 굉장히 제한된 소수성 용매에서만 양자점이 분산됨으로써, 양자점의 어플리케이션(QD application)에 상당한 제약이 되고 있다. 현재 InP계 양자점 liagnd는 대부분 oleic acid, trioctylamine, trioctylphosphine(-oxide) 등으로 이루어져 있고 분산 가능한 용매로는 hexane, cyclohexane, chloroform, toluene 등이 있으나, 모두 전자재료 공정 상에서 인체독성 문제로 사용이 권장되는 물질이 아니며, 공정 상 필요한 물성(녹는점, 끓는점, 증기압, 다른 용매와의 상용성 등) 또한 알맞지 않다. 용매뿐만 아니라 경화가능한 중합성 화합물이나 바인더 수지 등에 대해서도 양자점 표면의 소수성 특성으로 인해 상용성 및 분산이 안 되어 양자점의 어플리케이션에 제약이 되고 있다.However, when considering the conditions of quantum dot synthesis, in most cases, the above-described ligand system cannot be changed as desired, and thus quantum dots are dispersed only in a very limited hydrophobic solvent, which is a significant limitation to the application of quantum dots (QD application). Currently, InP-based quantum dot liagnd is mostly composed of oleic acid, trioctylamine, trioctylphosphine (-oxide), etc. Dispersible solvents include hexane, cyclohexane, chloroform, and toluene. It is not a substance, and the physical properties required for the process (melting point, boiling point, vapor pressure, compatibility with other solvents, etc.) are also not suitable. Due to the hydrophobic properties of the surface of the quantum dot, compatibility and dispersion are not possible with respect to not only the solvent but also the curable polymerizable compound or binder resin, thereby limiting the application of quantum dots.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 주로 사용되고 있는 QD-oleate(올레산을 최외각 표면에 가지고 있는 양자점)를 분산할 수 있는 용매를 스크리닝하였고, 친수성과 소수성의 중간쯤되는 cyclohexyl acetate(CHA) 등의 long alkyl ester계 용매를 찾아내었으며, 현재 이를 전자재료 공정 중 양자점 분산 용매로써 사용하고 있다. 하지만, CHA의 독특한 냄새로 인하여 공정 상 작업자들의 애로사항이 이만저만한 게 아니며, 양자점을 CHA에 분산시켜 장기 보관할 경우 분산성과 양자효율(quantum yield; QY)이 현저히 낮아지는 현상이 발생하게 된다. In order to solve the above problems, a solvent capable of dispersing QD-oleate (quantum dots having oleic acid on the outermost surface), which is mainly used, was screened. A long alkyl ester-based solvent has been found, and it is currently being used as a quantum dot dispersion solvent in the electronic material process. However, due to the unique smell of CHA, there are not many difficulties for workers in the process, and when quantum dots are dispersed in CHA and stored for a long time, dispersibility and quantum efficiency (QY) are significantly lowered.
이에 전자재료 공정을 전통적인 포토레지스트 공정 대신 잉크젯 공정으로 변경하려는 시도도 있었는데, 기존 양자점 분산 용매(chloroform, toluene, cyclohexyl acetate)는 낮은 끊는점, 낮은 증기압(상온), 낮은 표면 에너지 등의 특성을 가지기에, 잉크젯 공정 적용 자체가 불가함을 확인만 하였다. 이러한 관점에서 양자점을 잉크젯 공정 가능 용매에 잘 분산을 시키고, 장기간 분산성과 양자효율을 유지시킬 수 있는 양자점 분산기술이 필요로 하게 되었으며, 본 발명자들은 너무나도 많은 시행착오를 겪은 끝에, 양자점의 (최외각) 표면과 친화성(affinity)이 좋은 리간드를 개발하기에 이르렀으며, 이를 이용하여 QD-oleate의 ligand를 표면개질시킴으로써, 디스플레이 공정, 특히 잉크젯 공정에 유리한 용매 및 중합성 화합물에 상기 표면개질된 양자점(코어-쉘-리간드로 구성; 도 1 참조)을 용이하게 분산시킬 수 있었다.There was also an attempt to change the electronic material process to an inkjet process instead of a traditional photoresist process. Existing quantum dot dispersion solvents (chloroform, toluene, cyclohexyl acetate) have characteristics such as low boiling point, low vapor pressure (room temperature), and low surface energy. In this case, it was only confirmed that the inkjet process application itself was impossible. From this point of view, quantum dots are well dispersed in inkjet processable solvents and a quantum dot dispersion technology that can maintain long-term dispersibility and quantum efficiency is needed, and the inventors have gone through so much trial and error, ) led to the development of a ligand with good surface affinity (affinity), and by using this to surface-modify the ligand of QD-oleate, the surface-modified quantum dots in a solvent and polymerizable compound advantageous for display processes, especially inkjet processes (consisting of core-shell-ligand; see FIG. 1) could be easily dispersed.
한편, 일 구현예에 따른 경화성 조성물을 구성하는 양자점은 잉크젯 공정에 사용 가능한 용매나 중합성 화합물에도 분산이 잘 되는 바, 일 구현예에 따른 경화성 조성물은 용매형 경화성 조성물 또는 무용매형 경화성 조성물일 수 있다. On the other hand, the quantum dots constituting the curable composition according to the embodiment are well dispersed in solvents or polymerizable compounds that can be used in the inkjet process, and the curable composition according to the embodiment may be a solvent-type curable composition or a solvent-free curable composition. have.
예컨대, 상기 경화성 조성물은 상기 양자점 외에, 중합성 화합물, 광중합 개시제, 용매, 바인더 수지 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있으며, 여기에 추가로 광확산제 및 후술하는 기타 첨가제를 더 포함할 수도 있다.For example, the curable composition may further include a polymerizable compound, a photoinitiator, a solvent, a binder resin, or a combination thereof, in addition to the quantum dots, and may further include a light diffusing agent and other additives to be described later. .
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each component will be described in detail.
양자점quantum dots
일 구현예에 따른 경화성 조성물에 포함되는 양자점은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물로 표면개질되어 있다.The quantum dots included in the curable composition according to an embodiment are surface-modified with the compound represented by Formula 1 above.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 양자점 표면과의 친화성(affinity)이 우수하기 때문에, QD-oleate의 ligand를 치환하여 디스플레이 공정, 특히 잉크젯(INKJET) 공정에 유리한 용매 및 중합성 화합물에 대한 양자점의 분산안정성을 크게 향상시킬 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 말단의 *-C(=O)NHOH 관능기는 carboxylic acid, acid chloride, methyl ester 등에서 1 step으로 쉽게 합성할 수 있기에, 상기 관능기를 함유하는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물로 표면 개질된 양자점은 PGMEA와 같은 친수성 용매(Ethanol, ethylene glycol, ethyl acetate, acetone, γ-butyrolactone (GBL), Di(propylene glycol) methyl ether acetate (DPMA), dimethyl adipate (DMA) 뿐만 아니라, 소수성 용매 등에도 분산이 가능하여 양자점의 적용분야를 크게 확장시킬 수 있다. (즉, 일 구현예에 따른 경화성 조성물에 사용되는 양자점은 향후 양자점의 application에 중요한 tool이 될 수 있다.) 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물로 표면개질된 양자점은 상기 용매뿐만 아니라 다수의 중합성 화합물(acryl monomer, 2-hydroxyethylacrylate(HEA), HDDA 등)에도 직접 분산이 가능하다. 상기와 같은 용매 및/또는 중합성 화합물에 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 분산시킬 경우, 종래와 다르게 양자효율 저하 현상이 방지되며, 분산안정성 또한 우수하다.Since the compound represented by Formula 1 has excellent affinity with the quantum dot surface, it is advantageous for a display process, particularly an inkjet (INKJET) process, by substituting a ligand for QD-oleate. The dispersion stability can be greatly improved. Since the *-C (= O) NHOH functional group at the end of the compound represented by Formula 1 can be easily synthesized in one step from carboxylic acid, acid chloride, methyl ester, etc., it is a compound represented by Formula 1 containing the functional group. The surface-modified quantum dots are hydrophilic solvents such as PGMEA (Ethanol, ethylene glycol, ethyl acetate, acetone, γ-butyrolactone (GBL), Di(propylene glycol) methyl ether acetate (DPMA), dimethyl adipate (DMA), as well as hydrophobic solvents. Since it is possible to disperse the quantum dots, it is possible to greatly expand the field of application of quantum dots (that is, the quantum dots used in the curable composition according to one embodiment can be an important tool for future applications of quantum dots). The quantum dots surface-modified with the compound represented by can be directly dispersed not only in the solvent but also in a number of polymerizable compounds (acryl monomer, 2-hydroxyethylacrylate (HEA), HDDA, etc.). When the compound represented by the formula (1) is dispersed in the above, the quantum efficiency decrease is prevented, unlike in the prior art, and the dispersion stability is also excellent.
상기 화학식 1에서, L1은 상기 화학식 L-1로 표시되고, 상기 L2 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-C(=O)O-* 일 수 있다.In Formula 1, L 1 is represented by Formula L-1, and L 2 to L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-C(=O)O— * can be
예컨대, 상기 L1은 하기 화학식 L-1-1, 화학식 L-1-2 또는 이들의 조합으로 표시될 수 있다.For example, L 1 may be represented by Formula L-1-1, Formula L-1-2, or a combination thereof.
[화학식 L-1-1][Formula L-1-1]
[화학식 L-1-2][Formula L-1-2]
상기 화학식 L-1-1 및 화학식 L-1-2에서,In the above formulas L-1-1 and L-1-2,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.n1 and n2 are each independently an integer from 1 to 10.
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4 중 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 1-1 to 1-4 below.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
[화학식 1-3][Formula 1-3]
[화학식 1-4][Formula 1-4]
상기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4에서,In Formulas 1-1 to 1-4,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L2, L4 및 L5는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 2 , L 4 and L 5 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.n1 and n2 are each independently an integer of 1 to 10.
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 2 to 6, but is not necessarily limited thereto.
[화학식 2][Formula 2]
[화학식 3][Formula 3]
[화학식 4][Formula 4]
[화학식 5][Formula 5]
[화학식 6][Formula 6]
상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 파장영역, 예컨대 400nm 내지 780nm의 파장영역의 광을 흡수하여, 500nm 내지 700nm의 파장영역, 예컨대 500nm 내지 580nm에서 형광을 방출하거나, 600nm 내지 680nm에서 형광을 방출할 수 있다. 즉, 상기 양자점은 500nm 내지 680nm에서 최대형광 발광파장(fluorescence λem)을 가질 수 있다. The quantum dots absorb light in a wavelength region of 360 nm to 780 nm, for example, 400 nm to 780 nm, and emit fluorescence in a wavelength region of 500 nm to 700 nm, such as 500 nm to 580 nm, or emit fluorescence in 600 nm to 680 nm. . That is, the quantum dots may have a maximum fluorescence emission wavelength (fluorescence λ em ) at 500 nm to 680 nm.
상기 양자점은 각각 독립적으로 20nm 내지 100nm, 예컨대 20nm 내지 50nm의 반치폭(Full width at half maximum; FWHM)을 가질 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위의 반치폭을 가질 경우, 색순도가 높음에 따라, 컬러필터 내 색재료로 사용 시 색재현율이 높아지는 효과가 있다.The quantum dots may each independently have a full width at half maximum (FWHM) of 20 nm to 100 nm, for example, 20 nm to 50 nm. When the quantum dot has a half width in the above range, as the color purity is high, color gamut is increased when used as a color material in a color filter.
상기 양자점은 각각 독립적으로 유기물이거나 무기물 또는 유기물과 무기물의 하이브리드(혼성물)일 수 있다.The quantum dots may each independently be an organic material or an inorganic material or a hybrid (hybrid material) of an organic material and an inorganic material.
상기 양자점은 각각 독립적으로 코어 및 상기 코어를 감싸는 쉘로 구성될 수 있으며, 상기 코어 및 쉘은 각각 독립적으로 II-IV족, III-V족 등으로 이루어진 코어, 코어/쉘, 코어/제1쉘/제2쉘, 합금, 합금/쉘 등의 구조를 가질 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dots may each independently consist of a core and a shell surrounding the core, wherein the core and the shell are each independently made of a group II-IV, group III-V, etc., a core, a core/shell, a core/first shell/ It may have a structure such as a second shell, an alloy, an alloy/shell, and the like, but is not limited thereto.
예컨대, 상기 코어는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 코어를 둘러싼 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 쉘은 Zn을 포함할 수 있다.For example, the core may include at least one material selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, and alloys thereof. , but is not necessarily limited thereto. The shell surrounding the core may include at least one material selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe, and alloys thereof, but is not necessarily limited thereto. For example, the shell may include Zn.
일 구현예에서는, 최근 전 세계적으로 환경에 대한 관심이 크게 증가하고 유독성 물질에 대한 규제가 강화되고 있으므로, 카드뮴계 코어를 갖는 발광물질을 대신하여, 양자 효율(quantum yield)은 다소 낮지만 친환경적인 비카드뮴계 발광소재(InP/ZnS)를 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment, since interest in the environment has recently increased significantly around the world and regulations on toxic substances are being strengthened, instead of a light emitting material having a cadmium-based core, quantum yield is somewhat low, but eco-friendly Although a non-cadmium-based light emitting material (InP/ZnS) was used, it is not necessarily limited thereto.
상기 양자점의 구조는 특별하게 한정되지 않으나, 상기 코어/쉘 구조의 양자점의 경우, 쉘을 포함한 전체 양자점 각각의 크기(평균 입경)는 1nm 내지 15nm, 예컨대 5nm 내지 15nm 일 수 있다. The structure of the quantum dot is not particularly limited, but in the case of the quantum dot of the core/shell structure, the size (average particle diameter) of each quantum dot including the shell may be 1 nm to 15 nm, for example 5 nm to 15 nm.
예컨대, 상기 양자점은 적색 양자점, 녹색 양자점 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 양자점은 녹색 양자점 및 적색 양자점을 모두 포함할 수 있다. 이 때, 상기 녹색 양자점은 상기 적색 양자점보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 상기 적색 양자점은 10nm 내지 15nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 상기 녹색 양자점은 5nm 내지 8nm의 평균 입경을 가질 수 있다.For example, the quantum dots may include red quantum dots, green quantum dots, or a combination thereof. For example, the quantum dots may include both green quantum dots and red quantum dots. In this case, the green quantum dot may be included in an amount greater than that of the red quantum dot. The red quantum dots may have an average particle diameter of 10 nm to 15 nm. The green quantum dots may have an average particle diameter of 5 nm to 8 nm.
한편, 상기 양자점의 분산안정성을 위해, 일 구현예에 따른 경화성 수지 조성물은 분산제를 더 포함할 수도 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질이 경화성 조성물 내에서 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제 모두를 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르류, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질의 고형분 대비 0.1 중량% 내지 100 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%로 사용될 수 있다.On the other hand, for the dispersion stability of the quantum dots, the curable resin composition according to an embodiment may further include a dispersing agent. The dispersing agent helps to uniformly disperse a light conversion material such as quantum dots in the curable composition, and any nonionic, anionic or cationic dispersant may be used. Specifically, polyalkylene glycol or esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salt, alkyl amide alkylene oxide Adducts, alkyl amines, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more. The dispersant may be used in an amount of 0.1 wt% to 100 wt%, for example 10 wt% to 20 wt%, based on the solid content of the light conversion material such as quantum dots.
상기 양자점은 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매형 경화성 조성물인 경우 상기 용매형 경화성 조성물 총량에 대해 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있고, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 무용매형 경화성 조성물인 경우 상기 무용매형 경화성 조성물 총량에 대해 20 중량% 내지 95 중량%, 예컨대 20 중량% 내지 93 중량%로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우, 광변환률이 우수하며 패턴 특성과 현상 특성을 저해하지 않아 우수한 공정성을 가질 수 있다. The quantum dots may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, such as 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the solvent-type curable composition when the curable composition according to an embodiment is a solvent-type curable composition, and in one embodiment When the curable composition according to the above is a solvent-free curable composition, it may be included in an amount of 20 wt% to 95 wt%, such as 20 wt% to 93 wt%, based on the total amount of the solvent-free curable composition. When the quantum dots are included within the above range, the light conversion rate is excellent and the pattern characteristics and the developing characteristics are not impaired, and thus excellent processability may be obtained.
중합성 화합물polymeric compound
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 중합성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 중합성 화합물은 종래의 경화성 조성물에 일반적으로 사용되는 모노머 또는 올리고머를 혼합하여 사용할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may include a polymerizable compound. The polymerizable compound may be used by mixing monomers or oligomers generally used in conventional curable compositions.
예컨대, 상기 중합성 화합물은 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 중합성 단량체일 수 있다.For example, the polymerizable compound may be a polymerizable monomer having a carbon-carbon double bond at the terminal.
예컨대, 상기 중합성 화합물은 말단에 하기 화학식 7-1로 표시되는 관능기 또는 하기 화학식 7-2로 표시되는 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 중합성 단량체일 수 있다.For example, the polymerizable compound may be a polymerizable monomer having at least one functional group represented by the following Chemical Formula 7-1 or a functional group represented by the following Chemical Formula 7-2 at the terminal thereof.
[화학식 7-1][Formula 7-1]
[화학식 7-2][Formula 7-2]
상기 화학식 7-1 및 화학식 7-2에서,In Formulas 7-1 and 7-2,
L6은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 6 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.
상기 중합성 화합물이 말단에 탄소-탄소 이중결합, 구체적으로 상기 화학식 7-1로 표시되는 관능기 또는 상기 화학식 7-2로 표시되는 관능기를 적어도 하나 이상 포함함으로써, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 -C(=O)NH-OH 관능기와 가교 구조를 형성할 수 있고, 이렇게 형성된 하나의 가교체는 양자점을 안정화시키는 역할을 수행할 수 있다.When the polymerizable compound includes at least one carbon-carbon double bond at the terminal, specifically, at least one functional group represented by Formula 7-1 or a functional group represented by Formula 7-2, the compound represented by Formula 1 - A crosslinked structure may be formed with a C(=O)NH—OH functional group, and one crosslinked product thus formed may serve to stabilize the quantum dots.
예컨대, 말단에 상기 화학식 7-1로 표시되는 관능기를 하나 이상 포함하는 중합성 화합물로는 디비닐 벤젠, 트리알릴 시아누레이트, 트리알릴 이소시아누레이트, 트리알릴 트리멜리테이트, 트리알릴 포스페이트, 트리알릴 포스파이트, 트리알릴 트리아진, 디알릴 프탈레이트 또는 이들의 조합 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, examples of the polymerizable compound including at least one functional group represented by Formula 7-1 at the terminal include divinyl benzene, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl trimellitate, triallyl phosphate, triallyl phosphite, triallyl triazine, diallyl phthalate, or a combination thereof, but is not necessarily limited thereto.
예컨대, 말단에 상기 화학식 7-2로 표시되는 관능기를 하나 이상 포함하는 중합성 화합물로는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 다관능 에폭시(메타) 아크릴레이트, 다관능 우레탄(메타)아크릴레이트, 일본화학社의 KAYARAD DPCA-20, KAYARAD DPCA-30, KAYARAD DPCA-60, KAYARAD DPCA-120, KAYARAD DPEA-12 또는 이들의 조합 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, examples of the polymerizable compound including at least one functional group represented by Chemical Formula 7-2 at the terminal include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, and 1,6-hexane. diol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Pentaerythritol hexaacrylate, bisphenol A diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, novolac epoxy acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, propylene Glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, polyfunctional epoxy (meth) acrylate, polyfunctional urethane (meth) acrylate, KAYARAD from Nippon Chemical DPCA-20, KAYARAD DPCA-30, KAYARAD DPCA-60, KAYARAD DPCA-120, KAYARAD DPEA-12 or a combination thereof may be mentioned, but is not necessarily limited thereto.
상기 중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The polymerizable compound may be used by treating it with an acid anhydride in order to provide more excellent developability.
일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매를 포함하는 용매형 경화성 조성물인 경우, 상기 중합성 화합물은 상기 용매형 경화성 조성물 총량에 대해 0 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 또한, 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매를 포함하지 않는 무용매형 경화성 조성물인 경우, 상기 중합성 화합물은 상기 무용매형 경화성 조성물 총량에 대해 2 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 20 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성, 내화학성, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.When the curable composition according to an embodiment is a solvent-type curable composition including a solvent, the polymerizable compound is 0% to 30% by weight, such as 1% to 30% by weight, such as based on the total amount of the solvent-type curable composition. It may be included in 3 wt% to 30 wt%. In addition, when the curable composition according to an embodiment is a solvent-free curable composition that does not include a solvent, the polymerizable compound is present in an amount of 2 wt% to 80 wt%, such as 20 wt% to 80 wt%, based on the total amount of the solvent-free curable composition. %, such as 30% to 80% by weight. When the polymerizable compound is included within the above range, curing occurs sufficiently upon exposure in the pattern forming process, and reliability is excellent, and the heat resistance, light resistance, chemical resistance, resolution and adhesion of the pattern are also excellent.
중합 개시제polymerization initiator
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 중합 개시제를 더 포함할 수 있으며, 예컨대, 광중합 개시제, 열중합 개시제 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The curable composition according to the exemplary embodiment may further include a polymerization initiator, for example, a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, or a combination thereof.
상기 광중합 개시제는 경화성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 아미노케톤계 화합물 등을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The photopolymerization initiator is an initiator generally used in the curable resin composition, for example, an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, an oxime-based compound, an aminoketone-based compound and the like may be used, but is not necessarily limited thereto.
상기 아세토페논계의 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, pt-Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane- 1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, etc. are mentioned.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, benzoylbenzoic acid, methylbenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethyl amino)benzophenone, 4,4 '-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, etc. are mentioned.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone etc. are mentioned.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethyl ketal.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4' -dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-Biphenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)- 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4 -bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc. are mentioned. .
상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compound include an O-acyloxime-based compound, 2-(O-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, and 1-(O-acetyloxime) -1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one, etc. can be used Specific examples of the O-acyloxime compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione-2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione -2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1-oneoxime-O-acetate and 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butan-1-oneoxime- O-acetate etc. are mentioned.
상기 아미노케톤계 화합물의 예로는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄온-1 (2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1) 등을 들 수 있다.Examples of the aminoketone-based compound include 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 (2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone -1) and the like.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a carbazole-based compound, a diketone-based compound, a sulfonium borate-based compound, a diazo-based compound, an imidazole-based compound, or a biimidazole-based compound may be used in addition to the above compound.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that causes a chemical reaction by absorbing light to enter an excited state and then transferring the energy.
상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and the like. can be heard
상기 열중합 개시제의 예로는, 퍼옥사이드, 구체적으로 벤조일 퍼옥사이드, 다이벤조일 퍼옥사이드, 라우릴 퍼옥사이드, 다이라우릴 퍼옥사이드, 다이-tert-부틸 퍼옥사이드, 사이클로헥산 퍼옥사이드, 메틸 에틸 케톤 퍼옥사이드, 하이드로퍼옥사이드(예컨대, tert-부틸 하이드로퍼옥사이드, 쿠멘 하이드로퍼옥사이드), 다이사이클로헥실 퍼옥시다이카르보네이트, 2,2-아조-비스(아이소부티로니트릴), t-부틸 퍼벤조에이트 등을 들 수 있고, 2,2'-아조비스-2-메틸프로피오니트릴 등을 들 수도 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 당업계에 널리 알려진 것이면 어느 것이든 사용할 수 있다.Examples of the thermal polymerization initiator include peroxide, specifically benzoyl peroxide, dibenzoyl peroxide, lauryl peroxide, dilauryl peroxide, di-tert-butyl peroxide, cyclohexane peroxide, methyl ethyl ketone peroxide Oxide, hydroperoxide (eg tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide), dicyclohexyl peroxydicarbonate, 2,2-azo-bis(isobutyronitrile), t-butyl perbenzo ate, and the like, and 2,2'-azobis-2-methylpropionitrile, but is not necessarily limited thereto, and any one widely known in the art may be used.
상기 중합 개시제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.5 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 노광 또는 열경화 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막아 양자점의 광특성 저하를 방지할 수 있다. The polymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 10 wt%, such as 0.5 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the curable composition. When the polymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure or thermal curing to obtain excellent reliability, and by preventing a decrease in transmittance due to an unreacted initiator, deterioration of optical properties of quantum dots can be prevented.
광확산제light diffuser
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 광확산제를 더 포함할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may further include a light diffusing agent.
예컨대, 상기 광확산제는 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘(CaCO3), 이산화티타늄(TiO2), 지르코니아(ZrO2) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.For example, the light diffusing agent may include barium sulfate (BaSO 4 ), calcium carbonate (CaCO 3 ), titanium dioxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), or a combination thereof.
상기 광확산제는 전술한 양자점에 흡수되지 않은 광을 반사시키고, 상기 반사된 광을 양자점이 다시 흡수할 수 있도록 한다. 즉, 상기 광확산제는 양자점에 흡수되는 광의 양을 증가시켜, 경화성 조성물의 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The light diffusing agent reflects the light not absorbed by the quantum dots, and allows the reflected light to be absorbed again by the quantum dots. That is, the light diffusing agent may increase the amount of light absorbed by the quantum dots, thereby increasing the light conversion efficiency of the curable composition.
상기 광확산제는 평균 입경(D50)이 150nm 내지 250nm 일 수 있으며, 구체적으로는 180nm 내지 230nm일 수 있다. 상기 광확산제의 평균 입경이 상기 범위 내일 경우, 보다 우수한 광확산 효과를 가질 수 있으며, 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.The light diffusing agent may have an average particle diameter (D 50 ) of 150 nm to 250 nm, specifically 180 nm to 230 nm. When the average particle diameter of the light diffusing agent is within the above range, a more excellent light diffusion effect may be obtained, and light conversion efficiency may be increased.
상기 광확산제는 경화성 조성물 상에서의 분산안정성을 위해 용매에 분산시킨 분산액 형태의 것을 사용할 수 있다.The light diffusing agent may be in the form of a dispersion dispersed in a solvent for dispersion stability on the curable composition.
상기 광확산제는 상기 경화성 조성물 총량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광확산제가 상기 함량 범위로 포함될 경우, 확산제를 사용함에 따른 광변환 효율 향상 효과를 기대할 수 있으며, 패턴특성 또한 우수해질 수 있다.The light diffusing agent may be included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt%, such as 1 wt% to 10 wt%, based on the total amount of the curable composition. When the light diffusing agent is included in the above content range, an effect of improving light conversion efficiency by using the diffusing agent can be expected, and pattern characteristics can also be improved.
바인더 수지binder resin
상기 경화성 조성물은 바인더 수지를 더 포함할 수 있다. The curable composition may further include a binder resin.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.
상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다. The acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin including one or more acrylic repeating units.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.
상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, such as 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the acrylic binder resin.
상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene or vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds, such as vinyl acetate and a vinyl benzoate; unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth)acrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.
상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl meth acrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and the like, but are not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more. have.
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 8로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.The cardo-based binder resin may include a repeating unit represented by the following Chemical Formula 8.
[화학식 8][Formula 8]
상기 화학식 8에서,In the formula (8),
R31 및 R32는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시 알킬기이고,R 31 and R 32 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth)acryloyloxy alkyl group,
R33 및 R34는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 33 and R 34 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR35R36, SiR37R38(여기서, R35 내지 R38은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 8-1 내지 화학식 8-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 35 R 36 , SiR 37 R 38 (wherein R 35 to R 38 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) or Any one of the linking groups represented by Formulas 8-1 to 8-11,
[화학식 8-1][Formula 8-1]
[화학식 8-2][Formula 8-2]
[화학식 8-3][Formula 8-3]
[화학식 8-4][Formula 8-4]
[화학식 8-5][Formula 8-5]
(상기 화학식 8-5에서,(In Formula 8-5,
Ra는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R a is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH=CH 2 or a phenyl group.)
[화학식 8-6][Formula 8-6]
[화학식 8-7][Formula 8-7]
[화학식 8-8][Formula 8-8]
[화학식 8-9][Formula 8-9]
[화학식 8-10][Formula 8-10]
[화학식 8-11][Formula 8-11]
Z2는 산무수물 잔기이고,Z 2 is an acid anhydride residue,
t1 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.t1 and t2 are each independently an integer of 0 to 4.
상기 카도계 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 9로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The cardo-based resin may include a functional group represented by the following Chemical Formula 9 at at least one of both terminals.
[화학식 9][Formula 9]
상기 화학식 9에서,In Formula 9,
Z3은 하기 화학식 9-1 내지 화학식 9-7로 표시될 수 있다.Z 3 may be represented by the following Chemical Formulas 9-1 to 9-7.
[화학식 9-1][Formula 9-1]
(상기 화학식 9-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(In Formula 9-1, R b and R c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group, or an ether group.)
[화학식 9-2][Formula 9-2]
[화학식 9-3][Formula 9-3]
[화학식 9-4][Formula 9-4]
[화학식 9-5][Formula 9-5]
(상기 화학식 9-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)(In Formula 9-5, R d is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, C1 to C20 alkylamine group, or C2 to C20 alkenylamine group.)
[화학식 9-6][Formula 9-6]
[화학식 9-7][Formula 9-7]
상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.The cardo-based binder resin may include, for example, a fluorene-containing compound such as 9,9-bis(4-oxiranylmethoxyphenyl)fluorene; Benzenetetracarboxylic acid dianhydride, naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, phenol anhydride compounds such as rylenetetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofurantetracarboxylic acid dianhydride, and tetrahydrophthalic acid anhydride; glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol and polyethylene glycol; alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; solvent compounds such as propylene glycol methyl ethyl acetate and N-methyl pyrrolidone; phosphorus compounds such as triphenylphosphine; and amine or ammonium salt compounds such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, and benzyltriethylammonium chloride.
상기 바인더 수지가 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 경우, 경화성 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 우수하며, 휘도 저하 방지에 매우 큰 효과가 있을 수 있다.When the binder resin includes an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof, the developability of the curable composition is excellent, the sensitivity during photocuring is good, so the fine pattern formation is excellent, and it is very effective in preventing the decrease in luminance. It may work.
상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 1,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 2,000 g/mol 내지 50,000 g/mol 일 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 일 구현예에 따른 경화성 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 기판과의 밀착성이 우수하다. The weight average molecular weight of the binder resin may be 1,000 g/mol to 150,000 g/mol, for example, 2,000 g/mol to 50,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, the physical and chemical properties of the curable composition according to the embodiment are excellent, the viscosity is appropriate, and the adhesion to the substrate is excellent.
상기 바인더 수지는 경화성 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대, 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 경화 수축율을 크게 낮출 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 30 wt%, for example, 1 wt% to 20 wt%, based on the total amount of the curable composition. When the binder resin is included within the above range, it is possible to significantly lower the cure shrinkage.
용매menstruum
일 구현예에 따른 경화성 조성물이 용매형 경화성 조성물일 경우, 용매를 더 포함할 수 있다. When the curable composition according to an embodiment is a solvent-type curable composition, it may further include a solvent.
상기 용매로는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, and propylene glycol methyl ether; cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; carbitols such as methylethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; hydroxyacetic acid alkyl esters such as methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, and butyl hydroxyacetate; acetic acid alkoxyalkyl esters such as methoxymethyl acetate, methoxyethyl acetate, methoxybutyl acetate, ethoxymethyl acetate, and ethoxyethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methylethyl propionate, hydroxyethyl acetate, and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; or ketonic acid esters such as ethyl pyruvate, and also N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide. , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid Ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, cyclohexyl acetate, and the like may be used, but are not limited thereto.
예컨대, 상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르아세테이트, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 디메틸아디페이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ부티로락톤, 아세톤 또는 이들의 조합을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.For example, the solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol butyl ether acetate, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl Acetamide, dimethyl adipate, cyclohexyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, 2-butoxyethanol, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, acetone or these It may be desirable to use a combination.
예컨대, 상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 디메틸아디페이트, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ부티로락톤 또는 이들의 조합을 포함하는 극성 용매일 수 있다.For example, the solvent may be propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide, dimethyl adipate. , 2-butoxyethanol, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, or a combination thereof.
상기 용매는 용매형 경화성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량으로 포함될 수 있으며, 예컨대 20 중량% 내지 70 중량%, 예컨대 30 중량% 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 용매형 경화성 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 스핀 코팅 및 슬릿을 이용한 대면적 코팅 시 우수한 코팅성을 가질 수 있다. The solvent may be included as a balance based on the total amount of the solvent-type curable resin composition, for example, 20 wt% to 70 wt%, for example 30 wt% to 60 wt%. When the solvent is included within the above range, since the solvent-type curable composition has an appropriate viscosity, it may have excellent coatability during spin coating and large-area coating using a slit.
기타 첨가제other additives
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 포함하는 중합 억제제를 더 포함할 수 있다. 일 구현예에 따른 경화성 조성물이 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합을 더 포함함에 따라, 경화성 조성물을 인쇄(코팅) 후, 노광하는 동안 상온 가교를 방지할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may further include a polymerization inhibitor including a hydroquinone-based compound, a catechol-based compound, or a combination thereof. As the curable composition according to an embodiment further includes the hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof, it is possible to prevent crosslinking at room temperature during exposure after printing (coating) the curable composition.
예컨대, 상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 하이드로퀴논, 메틸 하이드로퀴논, 메톡시하이드로퀴논, t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-디-t-부틸 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1-디메틸부틸) 하이드로퀴논, 2,5-비스(1,1,3,3-테트라메틸부틸) 하이드로퀴논, 카테콜, t-부틸 카테콜, 4-메톡시페놀, 피로가롤, 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-나프톨, 트리스(N-하이드록시-N-니트로소페닐아미나토-O,O')알루미늄(Tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O')aluminium) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof is hydroquinone, methyl hydroquinone, methoxyhydroquinone, t-butyl hydroquinone, 2,5-di- t -butyl hydroquinone, 2,5- Bis(1,1-dimethylbutyl) hydroquinone, 2,5-bis(1,1,3,3-tetramethylbutyl) hydroquinone, catechol, t-butyl catechol, 4-methoxyphenol, pyroga Roll, 2,6-di- t -butyl-4-methylphenol, 2-naphthol, tris(N-hydroxy-N-nitrosophenylaminato-O,O')aluminum (Tris(N-hydroxy-N) -nitrosophenylaminato-O,O')aluminium) or a combination thereof, but is not necessarily limited thereto.
상기 하이드로퀴논계 화합물, 카테콜계 화합물 또는 이들의 조합은 분산액의 형태로 사용될 수 있으며, 상기 분산액 형태의 중합 억제제는 경화성 조성물 총량에 대하여 0.001 중량% 내지 1 중량%, 예컨대 0.01 중량% 내지 0.1 중량%로 포함될 수 있다. 안정제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 상온 경시 문제를 해결함과 동시에, 감도 저하 및 표면 박리 현상을 방지할 수 있다.The hydroquinone-based compound, the catechol-based compound, or a combination thereof may be used in the form of a dispersion, and the polymerization inhibitor in the form of the dispersion is 0.001 wt% to 1 wt%, such as 0.01 wt% to 0.1 wt%, based on the total amount of the curable composition may be included as When the stabilizer is included within the above range, it is possible to solve the problem over time at room temperature, and at the same time, to prevent a decrease in sensitivity and a surface peeling phenomenon.
일 구현예에 따른 경화성 조성물은 상기 중합 억제제 외에 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The curable composition according to an embodiment may include malonic acid in addition to the polymerization inhibitor; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or it may further include a combination thereof.
예컨대, 경화성 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.For example, the curable composition may further include a silane-based coupling agent having a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, and an epoxy group in order to improve adhesion to the substrate.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane-based coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, γ-glycan Cydoxy propyl trimethoxysilane, β-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. are mentioned, and these can be used individually or in mixture of 2 or more types.
상기 실란계 커플링제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane-based coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable composition. When the silane-based coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.
또한 상기 경화성 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, if necessary, the curable composition may further include a surfactant, such as a fluorine-based surfactant, to improve coating properties and prevent formation of defects.
상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 메카 팩 F 172®, 메카 팩 F 173®, 메카 팩 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 프로라드 FC-170C®, 프로라드 FC-430®, 프로라드 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 사프론 S-113®, 사프론 S-131®, 사프론 S-141®, 사프론 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, SH-190®, SH-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등; DIC(주)社의 F-482, F-484, F-478, F-554 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.As the fluorine-based surfactant, BM-1000 ® of BM Chemie, BM-1100 ® and the like; Mecha Pack F 142D ® , Mecha Pack F 172 ® , Mecha Pack F 173 ® , Mecha Pack F 183 ® and the like of Dai Nippon Inki Chemical High School Co., Ltd.; Sumitomo 3M Co., Ltd.'s Prorad FC-135 ® , Prorad FC-170C ® , Prorad FC-430 ® , Prorad FC-431 ® and the like; Asahi Grass Co., Ltd. Saffron S-112 ® , Saffron S-113 ® , Saffron S-131 ® , Saffron S-141 ® , Saffron S-145 ® and the like; SH-28PA ® , SH-190 ® , SH-193 ® , SZ-6032 ® , SF-8428 ® of Toray Silicone Co., Ltd.; F-482, F-484, F-478, F-554 commercially available fluorine-based surfactants of DIC Co., Ltd. may be used.
상기 불소계 계면활성제는 상기 경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 불소계 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The fluorine-based surfactant may be used in an amount of 0.001 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable composition. When the fluorine-based surfactant is included within the above range, coating uniformity is secured, stains do not occur, and wettability to a glass substrate is excellent.
또한 상기 경화성 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 더 첨가될 수도 있다.In addition, other additives such as antioxidants and stabilizers may be further added to the curable composition in a certain amount within a range that does not impair physical properties.
다른 일 구현예는 전술한 경화성 조성물을 이용하여 제조된 수지막을 제공한다. Another embodiment provides a resin film prepared using the above-described curable composition.
상기 수지막의 제조방법 중 하나는, 전술한 경화성 조성물을 기판 위에 잉크젯 분사 방법으로 도포하여 패턴을 형성하는 단계(S1); 및 상기 패턴을 경화하는 단계(S2)를 포함한다.One of the methods of manufacturing the resin film includes the steps of forming a pattern by applying the above-described curable composition on a substrate by an inkjet spraying method (S1); and curing the pattern (S2).
(S1) 패턴을 형성하는 단계(S1) forming a pattern
상기 경화성 조성물은 잉크젯 분산 방식으로 0.5 내지 20 ㎛의 두께로 기판 위에 도포하는 것이 바람직하다. 상기 잉크젯 분사는 각 노즐당 단일 컬러만 분사하여 필요한 색의 수에 따라 반복적으로 분사함으로써 패턴을 형성할 수 있으며, 공정을 줄이기 위하여 필요한 색의 수를 각 잉크젯 노즐을 통해 동시에 분사하는 방식으로 패턴을 형성할 수도 있다. The curable composition is preferably applied on the substrate in a thickness of 0.5 to 20 μm by an inkjet dispersion method. In the inkjet spraying, a pattern can be formed by spraying only a single color for each nozzle and repeatedly spraying according to the required number of colors. can also be formed.
(S2) 경화하는 단계(S2) curing step
상기 수득된 패턴을 경화시켜 화소를 얻을 수 있다. 이때 경화시키는 방법으로는 열경화 공정 또는 광경화 공정을 모두 적용할 수 있다. 상기 열경화 공정은 100℃ 이상의 온도로 가열하여 경화시키는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100℃내지 300℃로 가열하여 경화시킬 수 있으며, 조금 더 바람직하게는 160℃내지 250℃로 가열하여 경화시킬 수 있다. 상기 광경화 공정은 190nm 내지 450nm, 예컨대 200nm 내지 500nm의 UV 광선 등의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다. A pixel can be obtained by curing the obtained pattern. In this case, as a curing method, both a thermosetting process and a photocuring process may be applied. The thermosetting process is preferably cured by heating at a temperature of 100 ° C. or higher, more preferably by heating at 100 ° C. to 300 ° C. to cure, and more preferably by heating at 160 ° C. to 250 ° C. can In the photocuring process, actinic rays such as UV rays of 190 nm to 450 nm, for example 200 nm to 500 nm, are irradiated. As a light source used for irradiation, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, etc. may be used, and in some cases, an X-ray, an electron beam, etc. may be used.
상기 수지막의 제조방법 중 또 다른 하나는 전술한 경화성 조성물을 이용하여 리소그래피법을 이용하여 경화막을 제조하는 것으로, 제조방법은 다음과 같다.Another one of the methods for manufacturing the resin film is to prepare a cured film using a lithography method using the above-described curable composition, and the manufacturing method is as follows.
(1) 도포 및 도막 형성 단계(1) Application and coating film formation step
전술한 경화성 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 2㎛ 내지 10㎛의 두께로 도포한 후, 70℃내지 90℃의 온도에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성한다. The above-mentioned curable composition is applied to a desired thickness, for example, 2 µm to 10 µm, using a method such as spin or slit coat method, roll coat method, screen printing method, and applicator method on a substrate subjected to a predetermined pretreatment. After that, the coating film is formed by heating at a temperature of 70° C. to 90° C. for 1 minute to 10 minutes to remove the solvent.
(2) 노광 단계(2) exposure step
상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 190nm 내지 450nm, 예컨대 200nm 내지 500nm의 UV 광선 등의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다. After interposing a mask of a predetermined shape to form a pattern required for the obtained coating film, actinic rays such as UV rays of 190 nm to 450 nm, for example 200 nm to 500 nm, are irradiated. As a light source used for irradiation, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, etc. may be used, and in some cases, an X-ray, an electron beam, etc. may be used.
노광량은 상기 경화성 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 예를 들어 고압 수은등을 사용할 경우 500 mJ/cm2 이하(365 nm 센서에 의함)이다.The exposure amount varies depending on the type, compounding amount, and dry film thickness of each component of the curable composition, but is, for example, 500 mJ/cm 2 or less (by a 365 nm sensor) when a high-pressure mercury lamp is used.
(3) 현상 단계(3) development step
상기 노광 단계에 이어, 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 화상 패턴을 형성시킨다. 즉, 알칼리 현상액으로 현상하는 경우, 비노광부는 용해되고, 이미지 컬러필터 패턴이 형성되게 된다.Following the exposure step, an image pattern is formed by dissolving and removing unnecessary portions using an alkaline aqueous solution as a developer so that only the exposed portions remain. That is, when developing with an alkali developer, the unexposed portion is dissolved and an image color filter pattern is formed.
(4) 후처리 단계(4) post-processing step
상기 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도, 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위해, 다시 가열하거나 활성선 조사 등을 행하여 경화시킬 수 있다.In order to obtain an excellent pattern in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength, storage stability, and the like, the image pattern obtained by the above development can be cured by heating again or by irradiation with actinic rays or the like.
또 다른 일 구현예는 상기 수지막을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the resin film.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.
(표면개질물질 합성)(Synthesis of surface modification material)
화학식 2 내지 화학식 6으로 표시되는 화합물 각각의 합성법은 도 4에 나타낸 바와 같다.Each of the compounds represented by Chemical Formulas 2 to 6 is synthesized as shown in FIG. 4 .
(표면개질된 양자점 분산용액 제조)(Preparation of surface-modified quantum dot dispersion solution)
제조예 1-1Preparation 1-1
Cyclohexane에 분산된 InP/ZeSe/ZnS-oleate ligand QD(양자점; 고형분 20%) solution 10g에 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 2g과 ZnCl2 10mg을 첨가하여 상온에서 1시간 교반, 그리고 온도를 70℃로 올린 후 3시간 교반 후 반응물을 상온으로 내린다. 상온에서 1시간 교반 후 원심분리기를 이용하여(7000rpm, 10min) 침전물을 잡은 후, 용액을 제거한다. Vacuum oven을 이용하여 상온에서 3시간 건조하여 표면개질된 양자점 파우더를 분리한 후 (2g), PGMEA 6g에 분산하여 고형분 25%의 양자점 분산용액을 만든다. To 10 g of InP/ZeSe/ZnS-oleate ligand QD (quantum dots; solid content 20%) solution dispersed in cyclohexane, 2 g of the compound represented by the following formula 2 and 10 mg of ZnCl 2 were added, stirred at room temperature for 1 hour, and the temperature was raised to 70°C. After stirring for 3 hours, the reaction mass was lowered to room temperature. After stirring at room temperature for 1 hour, use a centrifuge (7000 rpm, 10 min) to capture the precipitate, and then remove the solution. After separating the surface-modified quantum dot powder by drying it at room temperature for 3 hours using a vacuum oven (2g), it is dispersed in 6g of PGMEA to make a quantum dot dispersion solution with a solid content of 25%.
[화학식 2][Formula 2]
제조예 1-2Preparation 1-2
PGMEA 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using acetone instead of PGMEA, it was carried out in the same manner as in Preparation Example 1-1.
제조예 1-3Preparation 1-3
PGMEA 대신 DPMA(Di(propylene glycol) methyl ether acetate)을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate) instead of PGMEA, it was the same as in Preparation Example 1-1.
제조예 1-4Preparation Example 1-4
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 Triallyl cyanurate(TCI社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of Triallyl cyanurate (TCI), a polymerizable compound instead of PGMEA, to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 1-1.
제조예 1-5Preparation 1-5
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 DPHA(Nippon Kayaku社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound DPHA (Nippon Kayaku) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 1-1.
제조예 2-1Preparation 2-1
상기 화학식 2로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using the compound represented by the following formula (3) instead of the compound represented by the formula (2), it was carried out in the same manner as in Preparation Example 1-1.
[화학식 3][Formula 3]
제조예 2-2Preparation Example 2-2
PGMEA 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 2-1과 동일하게 하였다.Except for using acetone instead of PGMEA, it was carried out in the same manner as in Preparation Example 2-1.
제조예 2-3Preparation 2-3
PGMEA 대신 DPMA(Di(propylene glycol) methyl ether acetate)을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 2-1과 동일하게 하였다.Except for using DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate) instead of PGMEA, it was the same as in Preparation Example 2-1.
제조예 2-4Preparation 2-4
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 Triallyl cyanurate(TCI社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 2-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound Triallyl cyanurate (TCI) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 2-1.
제조예 2-5Preparation Example 2-5
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 DPHA(Nippon Kayaku社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 2-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound DPHA (Nippon Kayaku Co.) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 2-1.
제조예 3-1Production Example 3-1
상기 화학식 2로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using the compound represented by the following formula (4) instead of the compound represented by the formula (2), it was carried out in the same manner as in Preparation Example 1-1.
[화학식 4][Formula 4]
제조예 3-2Preparation 3-2
PGMEA 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 3-1과 동일하게 하였다.Except that acetone was used instead of PGMEA, it was carried out in the same manner as in Preparation Example 3-1.
제조예 3-3Production Example 3-3
PGMEA 대신 DPMA(Di(propylene glycol) methyl ether acetate)을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 3-1과 동일하게 하였다.Except for using DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate) instead of PGMEA, the same procedure as in Preparation Example 3-1 was used.
제조예 3-4Preparation 3-4
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 Triallyl cyanurate(TCI社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 3-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound Triallyl cyanurate (TCI) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 3-1.
제조예 3-5Preparation 3-5
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 DPHA(Nippon Kayaku社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 3-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound DPHA (Nippon Kayaku Co.) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 3-1.
제조예 4-1Preparation 4-1
상기 화학식 2로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using the compound represented by the following formula (5) instead of the compound represented by the formula (2), it was carried out in the same manner as in Preparation Example 1-1.
[화학식 5][Formula 5]
제조예 4-2Preparation 4-2
PGMEA 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 4-1과 동일하게 하였다.Except for using acetone instead of PGMEA, it was carried out in the same manner as in Preparation Example 4-1.
제조예 4-3Preparation 4-3
PGMEA 대신 DPMA(Di(propylene glycol) methyl ether acetate)을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 4-1과 동일하게 하였다.Except for using DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate) instead of PGMEA, it was the same as in Preparation Example 4-1.
제조예 4-4Preparation 4-4
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 Triallyl cyanurate(TCI社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 4-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of Triallyl cyanurate (TCI), a polymerizable compound instead of PGMEA, to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 4-1.
제조예 4-5Preparation 4-5
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 DPHA(Nippon Kayaku社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 4-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound DPHA (Nippon Kayaku) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 4-1.
제조예 5-1Preparation 5-1
상기 화학식 2로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 1-1과 동일하게 하였다.Except for using the compound represented by the following formula (6) instead of the compound represented by the formula (2), it was carried out in the same manner as in Preparation Example 1-1.
[화학식 6][Formula 6]
제조예 5-2Preparation 5-2
PGMEA 대신 아세톤을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 5-1과 동일하게 하였다.Except for using acetone instead of PGMEA, it was carried out in the same manner as in Preparation Example 5-1.
제조예 5-3Preparation 5-3
PGMEA 대신 DPMA(Di(propylene glycol) methyl ether acetate)을 사용한 것을 제외하고는, 제조예 5-1과 동일하게 하였다.Except for using DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate) instead of PGMEA, it was the same as in Preparation Example 5-1.
제조예 5-4Preparation 5-4
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 Triallyl cyanurate(TCI社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 5-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound Triallyl cyanurate (TCI) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, but the same as in Preparation Example 5-1.
제조예 5-5Preparation 5-5
표면개질된 양자점 파우더 2g을 PGMEA 대신 중합성 화합물인 DPHA(Nippon Kayaku社) 2g에 분산하여 양자점 분산용액을 만든 것을 제외하고는, 제조예 5-1과 동일하게 하였다.2 g of the surface-modified quantum dot powder was dispersed in 2 g of a polymerizable compound DPHA (Nippon Kayaku Co.) instead of PGMEA to prepare a quantum dot dispersion solution, and the same as in Preparation Example 5-1.
(경화성 조성물 제조)(Preparation of curable composition)
실시예 1 내지 실시예 25 및 비교예 1 내지 비교예 4Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 4
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 1 내지 표 3에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 실시예 25 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 경화성 조성물을 제조하였다.Curable compositions according to Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared with the compositions shown in Tables 1 to 3 by using the components mentioned below.
(A) 양자점 분산용액(A) Quantum dot dispersion solution
(A-1) 제조예 1-1에 따른 양자점 분산용액(A-1) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 1-1
(A-2) 제조예 1-2에 따른 양자점 분산용액(A-2) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 1-2
(A-3) 제조예 1-3에 따른 양자점 분산용액(A-3) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 1-3
(A-4) 제조예 1-4에 따른 양자점 분산용액(A-4) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 1-4
(A-5) 제조예 1-5에 따른 양자점 분산용액(A-5) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 1-5
(A-6) 제조예 2-1에 따른 양자점 분산용액(A-6) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 2-1
(A-7) 제조예 2-2에 따른 양자점 분산용액(A-7) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 2-2
(A-8) 제조예 2-3에 따른 양자점 분산용액(A-8) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 2-3
(A-9) 제조예 2-4에 따른 양자점 분산용액(A-9) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 2-4
(A-10) 제조예 2-5에 따른 양자점 분산용액(A-10) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 2-5
(A-11) 제조예 3-1에 따른 양자점 분산용액(A-11) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 3-1
(A-12) 제조예 3-2에 따른 양자점 분산용액(A-12) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 3-2
(A-13) 제조예 3-3에 따른 양자점 분산용액(A-13) Quantum dot dispersion solution according to Preparation 3-3
(A-14) 제조예 3-4에 따른 양자점 분산용액(A-14) Quantum dot dispersion solution according to Preparation 3-4
(A-15) 제조예 3-5에 따른 양자점 분산용액(A-15) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 3-5
(A-16) 제조예 4-1에 따른 양자점 분산용액(A-16) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 4-1
(A-17) 제조예 4-2에 따른 양자점 분산용액(A-17) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 4-2
(A-18) 제조예 4-3에 따른 양자점 분산용액(A-18) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 4-3
(A-19) 제조예 4-4에 따른 양자점 분산용액(A-19) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 4-4
(A-20) 제조예 4-5에 따른 양자점 분산용액(A-20) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 4-5
(A-21) 제조예 5-1에 따른 양자점 분산용액(A-21) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 5-1
(A-22) 제조예 5-2에 따른 양자점 분산용액(A-22) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 5-2
(A-23) 제조예 5-3에 따른 양자점 분산용액(A-23) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 5-3
(A-24) 제조예 5-4에 따른 양자점 분산용액(A-24) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 5-4
(A-25) 제조예 5-5에 따른 양자점 분산용액(A-25) Quantum dot dispersion solution according to Preparation Example 5-5
(A-26) InP/ZeSe/ZnS-oleate ligand QD 분산용액 (양자점; 고형분 20% in cyclohexane) (A-26) InP/ZeSe/ZnS-oleate ligand QD dispersion (quantum dots; solid content 20% in cyclohexane)
(B) 중합성 화합물(B) polymerizable compound
(B-1) 트리알릴 시아누레이트 (Triallyl cyanurate, TCI社)(B-1) Triallyl cyanurate (TCI)
(B-2) 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트(DPHA, Nippon Kayaku社)(B-2) Dipentaerythritol hexamethacrylate (DPHA, Nippon Kayaku)
(C) 중합 개시제(C) polymerization initiator
디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드(TPO, Sigma-Aldrich社)Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (TPO, Sigma-Aldrich)
(D) 바인더 수지(D) binder resin
아크릴계 바인더 수지 (SP-RY67-1, SHOWA DENKO社)Acrylic binder resin (SP-RY67-1, SHOWA DENKO)
(E) 용매(E) solvent
(E-1) PGMEA (Sigma-Aldrich社)(E-1) PGMEA (Sigma-Aldrich)
(E-2) 아세톤 (Sigma-Aldrich社)(E-2) Acetone (Sigma-Aldrich)
(E-3) DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate; Sigma-Aldrich社)(E-3) DPMA (Di(propylene glycol) methyl ether acetate; Sigma-Aldrich)
(E-4) CHA (cyclohexyl acetate; Sigma-Aldrich社)(E-4) CHA (cyclohexyl acetate; Sigma-Aldrich)
(F) 확산제(F) diffusion agent
이산화티탄 분산액 (TiO2 고형분 20 중량%, 평균입경: 200nm, 디토테크놀로지㈜)Titanium dioxide dispersion (TiO 2 solid content 20% by weight, average particle diameter: 200nm, Dito Technology Co., Ltd.)
(G) 기타 첨가제(G) other additives
불소계 계면활성제 (F-554, DIC社)Fluorine surfactant (F-554, DIC Corporation)
평가 1: 양자점 분산용액의 분산성 평가Evaluation 1: Evaluation of dispersibility of quantum dot dispersion solution
Particle size analyzer를 이용하여 실시예 1 내지 실시예 25 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 경화성 조성물에 사용된 각각의 양자점 분산용액(A-1 내지 A-26) 상 입도를 각각 3회씩 측정하여 평균을 구하였으며, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.Using a particle size analyzer to measure the particle size of each quantum dot dispersion solution (A-1 to A-26) used in the curable compositions according to Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 4 three times, respectively, The average was obtained, and the results are shown in Table 4 below.
상기 표 4로부터, 실시예 1 내지 실시예 25에 사용된 양자점 분산용액(A-1 내지 A-25)는 비교예 1 내지 비교예 4에 사용된 양자점 분산용액(A-26)과 비교하여, 입도의 차이가 거의 없어, 용매 및 중합성 화합물 내에서의 분산안정성이 우수한 것을 확인할 수 있다. From Table 4, the quantum dot dispersion solutions (A-1 to A-25) used in Examples 1 to 25 are compared with the quantum dot dispersion solutions (A-26) used in Comparative Examples 1 to 4, Since there is little difference in particle size, it can be confirmed that dispersion stability in a solvent and a polymerizable compound is excellent.
평가 2: 잉크젯 공정 후의 광변환율 평가Evaluation 2: Evaluation of light conversion rate after inkjet process
실시예 1 내지 실시예 25 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 경화성 조성물을 각각 15ml씩 취해, 유리 기판 위에 잉크-젯팅한 후, 열판(hot-plate)을 이용하여 200℃에서 1분 동안 열경화시켜 도막을 형성한 후, 각각의 도막에 대한 광변환율을 CAS 140 CT spectrometer 장비로 측정한 후, 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.15 ml of each of the curable compositions according to Examples 1 to 25 and Comparative Examples 1 to 4 were taken, ink-jetted on a glass substrate, and then heated at 200° C. for 1 minute using a hot-plate. After curing to form a coating film, the light conversion rate for each coating film was measured with a CAS 140 CT spectrometer, and the results are shown in Table 5 below.
(분산불가)NG
(non-dispersion)
(분산불가)NG
(non-dispersion)
(분산불가)NG
(non-dispersion)
상기 표 5에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 25의 경우, 비교예 1 내지 비교예 4와 비교하여 열경화 후 광변환율의 저하가 크지 않음을 확인할 수 있다. As shown in Table 5, in the case of Examples 1 to 25, compared with Comparative Examples 1 to 4, it can be confirmed that the decrease in the light conversion rate after thermal curing is not large.
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in various different forms, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can take other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be understood that it can be implemented as Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive.
Claims (18)
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
L1 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, *-C(=O)O-* 또는 하기 화학식 L-1로 표시되고,
[화학식 L-1]
상기 화학식 L-1에서,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
X는 산소 원자 또는 황 원자이고,
n은 1 내지 20의 정수이다.
A curable composition comprising quantum dots surface-modified with a compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]
In Formula 1,
R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L 1 to L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, *-C(=O)O-*, or represented by the following formula L-1,
[Formula L-1]
In the formula L-1,
L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
X is an oxygen atom or a sulfur atom,
n is an integer from 1 to 20;
상기 L1은 상기 화학식 L-1로 표시되고,
상기 L2 내지 L4는 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-C(=O)O-*인 경화성 조성물.
According to claim 1,
Wherein L 1 is represented by the general formula L-1,
The L 2 To L 4 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-C (=O) O-* The curable composition.
상기 L1은 하기 화학식 L-1-1, 화학식 L-1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 경화성 조성물:
[화학식 L-1-1]
[화학식 L-1-2]
상기 화학식 L-1-1 및 화학식 L-1-2에서,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
According to claim 1,
Wherein L 1 is a curable composition represented by the following Chemical Formula L-1-1, Chemical Formula L-1-2, or a combination thereof:
[Formula L-1-1]
[Formula L-1-2]
In the above formulas L-1-1 and L-1-2,
L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 and n2 are each independently an integer from 1 to 10.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4 중 어느 하나로 표시되는 경화성 조성물:
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
상기 화학식 1-1 내지 화학식 1-4에서,
R1은 수소 원자, 히드록시기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
L2, L4 및 L5는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
n1 및 n2는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
4. The method of claim 3,
The compound represented by Formula 1 is a curable composition represented by any one of Formulas 1-1 to 1-4:
[Formula 1-1]
[Formula 1-2]
[Formula 1-3]
[Formula 1-4]
In Formulas 1-1 to 1-4,
R 1 is a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 an aryl group,
L 2 , L 4 and L 5 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
n1 and n2 are each independently an integer from 1 to 10.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시되는 경화성 조성물.
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
According to claim 1,
The compound represented by Formula 1 is a curable composition represented by any one of Formulas 2 to 6 below.
[Formula 2]
[Formula 3]
[Formula 4]
[Formula 5]
[Formula 6]
상기 경화성 조성물은 말단에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 중합성 화합물을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition further comprises a polymerizable compound having a carbon-carbon double bond at the terminal.
상기 중합성 화합물은 말단에 하기 화학식 7-1로 표시되는 관능기 또는 하기 화학식 7-2로 표시되는 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 중합성 단량체인 경화성 조성물:
[화학식 7-1]
[화학식 7-2]
상기 화학식 7-1 및 화학식 7-2에서,
L6은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
R2는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
7. The method of claim 6,
A curable composition wherein the polymerizable compound is a polymerizable monomer having at least one functional group represented by the following Chemical Formula 7-1 or a functional group represented by the following Chemical Formula 7-2 at the terminal thereof:
[Formula 7-1]
[Formula 7-2]
In Formulas 7-1 and 7-2,
L 6 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,
R 2 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.
상기 양자점은 코어-쉘 구조를 가지며,
상기 쉘은 Zn을 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The quantum dots have a core-shell structure,
The shell is a curable composition comprising Zn.
상기 양자점은 360 nm 내지 780nm의 광을 흡수해, 500nm 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점인 경화성 조성물.
According to claim 1,
The quantum dot is a curable composition that absorbs light of 360 nm to 780 nm, and emits fluorescence at 500 nm to 700 nm.
상기 양자점은 녹색 양자점 및 적색 양자점을 포함하는 경화성 조성물.
10. The method of claim 9,
The quantum dot is a curable composition comprising a green quantum dot and a red quantum dot.
상기 경화성 조성물은 중합 개시제, 광확산제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition further comprises a polymerization initiator, a light diffusing agent, or a combination thereof.
상기 광확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
12. The method of claim 11,
The light diffusing agent is a curable composition comprising barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia, or a combination thereof.
상기 경화성 조성물은 바인더 수지 및 용매로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition further comprises at least one selected from the group consisting of a binder resin and a solvent.
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
14. The method of claim 13,
The binder resin is a curable composition comprising an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.
상기 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 사이클로헥실 아세테이트, 에탄올, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르아세테이트, 에틸렌디글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디메틸아세트아미드, 디메틸아디페이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 하이드록시에틸아크릴레이트, 2-부톡시에탄올, N-메틸피롤리딘, N-에틸피롤리딘, 프로필렌 카보네이트, γ부티로락톤, 아세톤 또는 이들의 조합을 포함하는 경화성 조성물.
14. The method of claim 13,
The solvent is propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, cyclohexyl acetate, ethanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol butyl ether acetate, ethylene diglycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, dimethyl acetamide , dimethyl adipate, cyclohexyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, 2-butoxyethanol, N-methylpyrrolidine, N-ethylpyrrolidine, propylene carbonate, γ-butyrolactone, acetone or a combination thereof A curable composition comprising.
상기 경화성 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함하는 경화성 조성물.
According to claim 1,
The curable composition comprises malonic acid; 3-amino-1,2-propanediol; silane-based coupling agent; leveling agent; fluorine-based surfactants; Or a curable composition further comprising a combination thereof.
A resin film prepared by using the curable composition of any one of claims 1 to 16.
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