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KR20200140766A - Pellicle - Google Patents

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Publication number
KR20200140766A
KR20200140766A KR1020200165444A KR20200165444A KR20200140766A KR 20200140766 A KR20200140766 A KR 20200140766A KR 1020200165444 A KR1020200165444 A KR 1020200165444A KR 20200165444 A KR20200165444 A KR 20200165444A KR 20200140766 A KR20200140766 A KR 20200140766A
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KR
South Korea
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pellicle
adhesive layer
film
frame
adhesive
Prior art date
Application number
KR1020200165444A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102259620B1 (en
Inventor
준 호리코시
Original Assignee
신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 filed Critical 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Publication of KR20200140766A publication Critical patent/KR20200140766A/en
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Publication of KR102259620B1 publication Critical patent/KR102259620B1/en

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

An objective of the present invention is to provide a pellicle having a suitable sectional shape of an adhesive layer so as not to cause loosening over a long period of time and to achieve an excellent appearance. The present invention provides the pellicle in which a pellicle film is attached to one frame surface of a pellicle frame with an adhesive layer, which is applied to the one frame surface of the pellicle frame, interposed there between, wherein a sectional shape of the adhesive layer opposite to the pellicle film is configured as a convex curve having a radius of curvature of R10 or more and R1000 or less. In addition, according to the present invention, the convex curve preferably has an approximately arcuate shape.

Description

펠리클{PELLICLE}PELLICLE

본 발명은 반도체 디바이스, IC 패키지, 프린트 기판, 액정 디스플레이 또는 유기 EL 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지 막이로서 사용되는 리소그래피용 등의 펠리클에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle, such as for lithography, used as a dust film in manufacturing semiconductor devices, IC packages, printed circuit boards, liquid crystal displays, organic EL displays, and the like.

LSI, 초LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하지만, 이때에 이용하는 포토마스크 또는 레티클(이하, 간단히 포토마스크로 기술한다)에 먼지가 부착되어 있으면 에지가 울퉁불퉁한 것으로 되는 외에, 하지(下地)가 검게 오염되거나 하는 등 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다.In the manufacture of semiconductors such as LSI and ultra-LSI or liquid crystal displays, a pattern is produced by irradiating a semiconductor wafer or a liquid crystal original plate with light, but the photomask or reticle used at this time (hereinafter, simply described as a photomask) is used. If dust adheres, the edge becomes uneven, and there is a problem that dimensions, quality, appearance, etc. are damaged, such as black contamination of the base.

이 때문에, 이들 작업은 통상 클린룸에서 행해지고 있지만, 그래도 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것이 어려우므로 포토마스크 표면에 먼지 막이로서 펠리클을 부착한 후에 노광을 행하고 있다. 이 경우, 이물은 포토마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에 리소그래피 시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞춰 두면 펠리클 상의 이물은 전사에 관계없게 된다.For this reason, these operations are usually performed in a clean room. However, since it is difficult to always keep the photomask clean, exposure is performed after attaching a pellicle as a dust film on the surface of the photomask. In this case, since the foreign matter is not directly attached to the surface of the photomask but is attached to the pellicle, if the focus is placed on the pattern of the photomask during lithography, the foreign matter on the pellicle is irrelevant to the transfer.

일반적으로, 이와 같은 펠리클은 펠리클 프레임과 펠리클막으로 구성되어 있지만, 펠리클을 구성하는 펠리클 프레임의 하단에는 펠리클을 포토마스크에 접착시키기 위해서 폴리부텐 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착층 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층(세퍼레이터)이 형성되어 있다.In general, such a pellicle is composed of a pellicle frame and a pellicle film, but at the lower end of the pellicle frame constituting the pellicle, polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, etc. are used to adhere the pellicle to the photomask. The formed adhesive layer and the release layer (separator) for the purpose of protecting the adhesive layer are formed.

한편, 펠리클 프레임의 다른쪽 면에는 펠리클막이 접착되어 있지만, 이 펠리클막은 일반적으로 광을 잘 투과시키는 셀룰로오스에스테르 또는 불소 수지 등의 재료로 제조되어 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는 셀룰로오스에스테르를 유기 용매에 용해시키고, 이것을 평활한 유리판 상에 유연(流延)하여 균일한 박막을 형성한 후에 건조시켜서 펠리클막을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는 셀룰로오스아세테이트부틸레이트 박막의 성형 방법이 기재되고, 특허문헌 3에는 불소계 중합체를 용해시키고, 이것을 평활한 평판 상에 스핀 코터를 이용해서 도포해 균일한 펠리클막을 형성하는 방법이 기재되어 있다.On the other hand, although the pellicle film is adhered to the other side of the pellicle frame, the pellicle film is generally made of a material such as cellulose ester or fluororesin that transmits light well. For example, Patent Document 1 describes a method of dissolving a cellulose ester in an organic solvent, casting it on a smooth glass plate, forming a uniform thin film, and drying it to produce a pellicle film. In addition, Patent Document 2 describes a method of forming a cellulose acetate butyrate thin film, and Patent Document 3 describes a method of dissolving a fluorine-based polymer and coating it on a smooth flat plate using a spin coater to form a uniform pellicle film. Has been.

또한, 특허문헌 4에는 이 펠리클막을 디오르가노폴리실록산 조성물로 이루어지는 접착제로 펠리클 프레임에 고정하는 것이 기재되고, 특허문헌 5에는 실리콘계 점착제로 펠리클막을 펠리클 프레임에 접착시키는 것이 기재되어 있다.In addition, Patent Document 4 describes fixing this pellicle film to the pellicle frame with an adhesive made of a diorganopolysiloxane composition, and Patent Document 5 describes bonding the pellicle film to the pellicle frame with a silicone-based adhesive.

일본 특허 공개 소 58-219023 호 공보Japanese Patent Application Publication No. 58-219023 미국 특허 제 4861402 호 명세서US patent 4861402 specification 일본 특허 공고 소 63-27707 호 공보Japanese Patent Publication No. 63-27707 일본 특허 제 2945201 호Japanese Patent No. 2945201 일본 특허 제 4185232 호Japanese Patent No. 4185232

이와 같이, 펠리클막은 다양한 접착제에 의해 펠리클 프레임 상에 도포 부착되어 있지만, 이 부착 시에 지금까지 그 접착층 표면의 형상에 대해서 전혀 고려되고 있지 않고 불특정 형상 또는 불규칙 형상인 것이 통상이다.As described above, the pellicle film is applied and adhered to the pellicle frame by various adhesives, but at the time of this attachment, the shape of the surface of the adhesive layer has not been considered at all, and it is usually an unspecified shape or irregular shape.

그 때문에, 접착제를 도포한 펠리클막의 일부분이 접착되어 있지 않거나, 또는 일부분이 접촉되지 않는다는 문제가 발생하고 있다. 그리고, 이와 같은 접착 불량 또는 접촉 불량은 접착 면적의 저하를 초래하기 때문에 펠리클막과 펠리클 프레임 사이의 접착력의 저하를 일으키므로 펠리클막이 느슨해져 버리거나, 최악의 경우는 펠리클막이 펠리클 프레임으로부터 벗겨져 버린다는 문제가 발생하고 있다. 또한, 접착층의 형상이 불규칙해서 펠리클막과 펠리클 프레임의 접착 부분이 얼룩 형상, 물결 형상 등 불규칙한 형상으로 되면 기포를 사이에 두기 때문에 외관 불량으로 된다는 문제도 발생하고 있다.Therefore, there is a problem that a part of the pellicle film to which the adhesive has been applied is not adhered or that a part of the pellicle film is not in contact. In addition, since such poor adhesion or poor contact causes a decrease in the adhesion area, it causes a decrease in the adhesion between the pellicle film and the pellicle frame, so that the pellicle film becomes loose, or in the worst case, the pellicle film peels off from the pellicle frame. Is occurring. In addition, when the shape of the adhesive layer is irregular and the bonding portion between the pellicle film and the pellicle frame has an irregular shape such as a spot shape or a wave shape, there is also a problem that the appearance becomes poor because bubbles are interposed therebetween.

그래서, 본 발명은 이와 같은 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 적합한 접착층의 단면 형상으로 함으로써 장기간에 걸쳐서 느슨해짐을 발생시키지 않고, 또한 외관에도 뛰어난 리소그래피용 등에 이용하는 펠리클을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.Accordingly, the present invention has been made in view of such a problem, and it is an object of the present invention to provide a pellicle used for lithography or the like, which does not cause loosening over a long period of time by making it a cross-sectional shape of a suitable adhesive layer, and has excellent appearance.

그리고, 본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위하여 예의 검토를 행한 바, 접착층의 단면 형상의 차이에 의해 펠리클막과 펠리클 프레임 사이의 접착력이나 접착 후의 외관에 큰 차이가 발생하는 것을 알아내고 더욱 검토를 진행한 바, 접착제층의 단면 형상이 곡률 반경 R10㎜ 이상 R1000㎜(이하에서는 곡률 반경의 단위의 기재를 생략한다) 이하의 볼록 곡선으로 구성되어 있으면 접착 불량 등의 문제가 해결되는 것을 발견하고, 본 발명에 이른 것이다.In addition, the present inventors conducted a thorough study in order to achieve the above object, and found that a large difference in the adhesive force between the pellicle film and the pellicle frame or the appearance after bonding due to the difference in the cross-sectional shape of the adhesive layer, and proceeded further investigation. First, if the cross-sectional shape of the adhesive layer is composed of a convex curve with a radius of curvature of R10 mm or more and less than R1000 mm (hereinafter, the unit of curvature radius is omitted), it was found that problems such as poor adhesion were solved. It came to the invention.

즉, 본 발명은 펠리클 프레임의 한쪽 프레임면에 도포된 접착층을 개재해서 펠리클막이 부착되는 펠리클이며, 상기 접착층의 펠리클막과 대향하는 측의 단면 형상이 곡률 반경 R10 이상 R1000 이하의 볼록 곡선으로 구성되는 것을 특징으로 한다.That is, the present invention is a pellicle to which a pellicle film is attached via an adhesive layer applied to one frame surface of the pellicle frame, and the cross-sectional shape of the side opposite to the pellicle film of the adhesive layer is composed of a convex curve having a radius of curvature R10 or more and R1000 or less. It features.

또한, 본 발명의 상기 볼록 곡선은 대략 궁형(弓形)인 것이 바람직하고, 펠리클 프레임의 다른쪽 프레임면에는 펠리클을 기판에 부착하기 위한 점착제층과 상기 점착제층을 보호하기 위한 이형층을 형성할 수 있다.In addition, the convex curve of the present invention is preferably substantially arcuate, and on the other frame surface of the pellicle frame, an adhesive layer for attaching the pellicle to the substrate and a release layer for protecting the adhesive layer can be formed. have.

본 발명에 의하면, 접착 불량이나 접촉 불량이 없어 접착 면적이 넓기 때문에 펠리클막과 펠리클 프레임의 충분한 접착력이 얻어지므로, 펠리클 프레임 상에 부착한 펠리클막이 장기간에 걸쳐서 느슨해짐을 발생시키지 않고, 또한 외관에도 뛰어난 펠리클을 제공할 수 있다.According to the present invention, since there is no poor adhesion or poor contact, and since the adhesion area is large, sufficient adhesion between the pellicle film and the pellicle frame is obtained, the pellicle film adhered on the pellicle frame does not loosen over a long period of time, and is excellent in appearance. A pellicle can be provided.

도 1은 본 발명의 접착층의 단면 형상이 궁형인 펠리클의 종단면도이다.
도 2는 도 1의 펠리클의 평면도(상면도)이다.
도 3은 비교예의 접착층의 단면 형상이 곡률 반경이 작은 궁형인 펠리클의 종단면도이다.
도 4는 도 3의 펠리클의 평면도(상면도)이다.
도 5는 비교예의 접착층의 단면 형상이 평면인 펠리클의 종단면도이다.
도 6은 도 5의 펠리클의 평면도(상면도)이다.
1 is a longitudinal sectional view of a pellicle in which the cross-sectional shape of the adhesive layer of the present invention is arched.
2 is a plan view (top view) of the pellicle of FIG. 1.
3 is a longitudinal cross-sectional view of an arched pellicle in which the cross-sectional shape of the adhesive layer of the comparative example has a small radius of curvature.
4 is a plan view (top view) of the pellicle of FIG. 3.
5 is a longitudinal sectional view of a pellicle in which the cross-sectional shape of the adhesive layer of the comparative example is flat.
6 is a plan view (top view) of the pellicle of FIG. 5.

이하, 본 발명의 일실시형태에 대해서 상세히 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명에 의한 접착층 형상의 일실시형태를 나타내는 펠리클의 단면 개략도이며, 도 2는 그 평면도(상면도)이다. 이 펠리클에서는, 펠리클막(11)은 기판(포토마스크 또는 그 유리 기판 부분)의 형상에 대응한 통상 사각 프레임 형상(직사각형 프레임 형상 또는 정사각형 프레임 형상)의 펠리클 프레임(12)의 상단면에 접착층(15)을 개재해서 장설되고, 한편 펠리클 프레임(12)의 하단면에는 펠리클을 기판에 부착하기 위한 점착제층(13)이 형성되어 있고, 이 점착제층(13)의 하단면에는 점착제층(13)을 보호하기 위한 이형층(세퍼레이터)(14)이 박리 가능하게 부착되어 있다.1 is a schematic cross-sectional view of a pellicle showing an embodiment of an adhesive layer shape according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view (top view) thereof. In this pellicle, the pellicle film 11 has an adhesive layer on the top surface of the pellicle frame 12 of a normal square frame shape (rectangular frame shape or square frame shape) corresponding to the shape of the substrate (photomask or glass substrate portion thereof). 15), and on the other hand, an adhesive layer 13 for attaching the pellicle to the substrate is formed on the lower surface of the pellicle frame 12, and the adhesive layer 13 on the lower surface of the adhesive layer 13 A release layer (separator) 14 for protecting it is attached so as to be peelable.

또한, 펠리클막(11), 펠리클 프레임(12), 점착제, 접착제 및 세퍼레이터(14)의 재질에 대해서는 특별히 제한은 없고, 공지의 것을 사용할 수 있다.In addition, the material of the pellicle film 11, the pellicle frame 12, the pressure-sensitive adhesive, the adhesive, and the separator 14 is not particularly limited, and a known material may be used.

펠리클막(11)을 펠리클 프레임(12)에 접착층(15)을 개재하고 부착해서 접착할 때에 그 접착층(15)의 단면 형상의 차이에 의해 접착 후의 외관이나 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력에 큰 차이가 발생하므로, 본 발명에서는 접착층(15)의 단면 형상을 볼록 곡선으로 구성함과 아울러 그 볼록 곡선의 모든 부분의 곡률 반경이 R10 이상 R1000 이하의 범위 내에 있는 형상으로 하는 것이다. 또한, 이 곡률 반경은 R20 이상 R800 이하인 편이 보다 바람직하다.When the pellicle film 11 is adhered to the pellicle frame 12 through the adhesive layer 15, the appearance of the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 after adhesion due to the difference in cross-sectional shape of the adhesive layer 15 ), there is a large difference in the adhesive force, so in the present invention, the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 is configured as a convex curve, and the radius of curvature of all portions of the convex curve is in the range of R10 or more and R1000 or less. will be. Further, the radius of curvature is more preferably R20 or more and R800 or less.

이 곡률 반경이 R10 미만의 작은 경우에는 접착층(15)의 단면의 곡률이 심해져 펠리클막을 부착할 때에 펠리클막(11)을 펠리클 프레임(12)에 압박해도 접착면 전체면에 펠리클막(11)이 접촉되지 않아 접착 면적이 적어져서 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력이 저하되어버리기 때문이다.When this radius of curvature is less than R10, the curvature of the cross-section of the adhesive layer 15 becomes severe, and even if the pellicle film 11 is pressed against the pellicle frame 12 when attaching the pellicle film, the pellicle film 11 is formed on the entire adhesive surface. This is because the adhesion between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 decreases because the adhesion area is reduced due to the lack of contact.

또한, 곡률 반경이 R1000을 초과해서 큰 경우에는 접착층(15)의 단면은 거의 수평(펠리클 프레임의 접착면과 평행)인 평판 형상으로 되기 때문에 펠리클막(11)의 부착 방법에 따라서 펠리클막(11)과 접착층(15) 사이에 기포가 남게 되어 버리기 때문에 접착 면적의 감소에 의해 접착력이 저하되어버리기 때문이다.In addition, when the radius of curvature exceeds R1000, the cross section of the adhesive layer 15 becomes a flat plate shape that is substantially horizontal (parallel to the adhesive surface of the pellicle frame), and thus the pellicle film 11 is attached according to the method of attaching the pellicle film 11. ) And the adhesive layer 15 because bubbles remain between the adhesive layer 15, the adhesive strength is lowered by the reduction of the adhesive area.

본 발명의 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이 접착층(15)의 단면 형상이 대략 궁형이며, 그 곡률 반경이 R10 이상 R1000 이하의 형상으로 하고 있지만, 이와 같은 대략 궁형이면 펠리클막(11)을 접착제가 도포된 접착면 전체면에 접착시킬 수 있으므로 바람직하다.In the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 is substantially arcuate, and the radius of curvature is R10 or more and R1000 or less. However, if such a substantially arcuate shape, the pellicle film 11 is formed. It is preferable because the adhesive can be adhered to the entire surface of the adhesive surface.

[실시예][Example]

<실시예 1><Example 1>

이하, 실시예에 대해서 설명한다. 이 실시예 1에서는 접착제로서 실리콘 점착제 X-40-3122[신에쓰 가가꾸 고교(주)제: 제품명]를 톨루엔과 2,2,4-트리메틸펜탄으로 농도가 10%로 되도록 희석하고, 알루미늄제의 펠리클 프레임(12)의 상단에 접착층(15)의 단면 형상이 곡률 반경 R360으로 되도록 도포했다. 그 후, 펠리클 프레임(12)을 130℃로 가열하고, 톨루엔과 2,2,4-트리메틸펜탄을 휘발시켜서 접착제를 경화시켰다.Hereinafter, examples will be described. In Example 1, a silicone adhesive X-40-3122 [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product: product name] was diluted to a concentration of 10% with toluene and 2,2,4-trimethylpentane as an adhesive, and made of aluminum. The adhesive layer 15 was applied to the upper end of the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 became a radius of curvature R360. Then, the pellicle frame 12 was heated to 130° C., and toluene and 2,2,4-trimethylpentane were volatilized to cure the adhesive.

한편 펠리클막(11)을 제작할 경우, 재료로서 사이톱 CTX-S[아사히가라스(주)제: 제품명]를 이용하고, 이것을 용제 CTsolv.180[아사히가라스(주)제: 제품명]으로 농도가 5%로 되도록 희석했다. 그리고, 이 용액을 직경 200㎜, 두께 1.2㎜의 표면 연마한 실리콘 기판에 스핀 코터를 이용하여 막 두께 1㎛의 투명막으로서 형성시키고, 200℃로 15분간 건조해서 박막을 성막하고, 이 기판으로부터 이 박막을 박리해서 펠리클막(11)을 제작했다.On the other hand, in the case of manufacturing the pellicle film 11, Cytop CTX-S [manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.: product name] was used as a material, and the concentration was used as a solvent CTsolv.180 [manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.: product name]. Was diluted to 5%. Then, this solution was formed as a transparent film having a thickness of 1 µm on a surface-polished silicon substrate having a diameter of 200 mm and a thickness of 1.2 mm using a spin coater, and dried at 200°C for 15 minutes to form a thin film. This thin film was peeled off, and the pellicle film 11 was produced.

이어서, 이 제작한 펠리클막(11)을 앞서 준비한 펠리클 프레임(12)의 접착층(15)에 부착했다. 이때, 최초 펠리클막(11)은 접착층(15)의 원호 형상의 정상에 접촉해서 접착되기 시작하고, 펠리클막(11)을 펠리클 프레임(12)에 압박해 감에 따라서[또는 펠리클 프레임(12)쪽을 펠리클막(11)에 압박해 감에 따라서] 펠리클막(11)과 접착층(15)의 접착 부분이 주위로 넓어지고, 최종적으로는 접착층(15)의 접착면 전체면에 있어서 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12)을 접착시킬 수 있었다.Next, the produced pellicle film 11 was attached to the adhesive layer 15 of the pellicle frame 12 prepared above. At this time, the first pellicle film 11 contacts the top of the arc shape of the adhesive layer 15 and starts to be bonded, and as the pellicle film 11 is pressed against the pellicle frame 12 (or the pellicle frame 12) As the side is pressed against the pellicle film 11] The bonding portion of the pellicle film 11 and the adhesive layer 15 widens around, and finally, the pellicle film ( 11) and the pellicle frame 12 could be bonded.

그리고, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 1.5kN/㎝의 값을 나타냈지만, 이 값의 정도에서 펠리클막(11)쪽이 파단되어 버렸으므로 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 실제 접착력은 1.5kN/㎝ 이상이라고 말할 수 있다.And, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 1.5 kN/cm was shown, but at this value, the pellicle film 11 side was broken, so the pellicle film 11 ) And the actual adhesion between the pellicle frame 12 can be said to be 1.5kN/cm or more.

<실시예 2><Example 2>

실시예 2에서는 접착제로서 사이톱 CTX-S[아사히가라스(주)제: 제품명]를 NOVEC7300[스미토모3M(주)제: 제품명]으로 농도가 6%로 되도록 희석하고, 알루미늄제의 펠리클 프레임(12)의 상단에 접착층(15)의 단면 형상이 곡률 반경 R100으로 되도록 도포했다. 그 후, 펠리클 프레임(12)을 130℃로 가열하고, NOVEC7300을 휘발시켜서 접착제를 경화시켰다. 이 이외는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.In Example 2, Cytop CTX-S [manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.: product name] as an adhesive was diluted with NOVEC7300 [manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.: product name] to a concentration of 6%, and a pellicle frame made of aluminum ( It applied so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 might become the radius of curvature R100 on the upper end of 12). Thereafter, the pellicle frame 12 was heated to 130° C., and NOVEC7300 was volatilized to cure the adhesive. Other than this, it produced similarly to Example 1.

그리고, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 1.5kN/㎝의 값을 나타냈지만, 실시예 1과 마찬가지로 이 값에서 펠리클막(11)쪽이 파단되어 버렸으므로 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 실제 접착력은 1.5kN/㎝ 이상이라고 말할 수 있다.And, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 1.5 kN/cm was shown, but as in Example 1, the pellicle film 11 side was broken at this value. It can be said that the actual adhesive force between the film 11 and the pellicle frame 12 is 1.5 kN/cm or more.

<실시예 3><Example 3>

실시예 3에서는 접착층(15)의 단면 형상이 곡률 반경 R10으로 되도록 실리콘 점착제를 펠리클 프레임(12)에 도포한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.In Example 3, it was produced in the same manner as in Example 1 except that a silicone adhesive was applied to the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 became a radius of curvature R10.

그리고, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 1.5kN/㎝의 값을 나타냈지만, 실시예 1과 마찬가지로 이 값에서 펠리클막(11)쪽이 파단되어 버렸으므로 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 실제 접착력은 1.5kN/㎝ 이상이라고 말할 수 있다.And, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 1.5 kN/cm was shown, but as in Example 1, the pellicle film 11 side was broken at this value. It can be said that the actual adhesive force between the film 11 and the pellicle frame 12 is 1.5 kN/cm or more.

<실시예 4><Example 4>

실시예 4에서는 접착층(15)의 단면 형상이 곡률 반경 R1000으로 되도록 실리콘 점착제를 펠리클 프레임(12)에 도포한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.In Example 4, it was produced in the same manner as in Example 1 except that a silicone adhesive was applied to the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 became a radius of curvature R1000.

그리고, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 1.5kN/㎝의 값을 나타냈지만, 실시예 1과 마찬가지로 이 값에서 펠리클막(11)쪽이 파단되어 버렸으므로 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 실제 접착력은 1.5kN/㎝ 이상이라고 말할 수 있다.And, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 1.5 kN/cm was shown, but as in Example 1, the pellicle film 11 side was broken at this value. It can be said that the actual adhesive force between the film 11 and the pellicle frame 12 is 1.5 kN/cm or more.

[비교예][Comparative Example]

<비교예 1><Comparative Example 1>

이어서 비교예에 대해서 설명한다. 이 비교예 1에서는 접착층(15)의 단면 형상이 도 3에 나타낸 바와 같이 곡률 반경 R5로 되도록 실리콘 점착제를 펠리클 프레임(12)에 도포한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.Next, a comparative example will be described. In this comparative example 1, it was produced in the same manner as in Example 1 except that a silicone pressure-sensitive adhesive was applied to the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 became a radius of curvature R5 as shown in FIG. 3.

그리고, 이 비교예 1의 펠리클막(11)과 접착층(15)의 접착면을 관찰한 바, 접착층(15)의 단면의 원호의 곡률이 지나치게 작기 때문인지 펠리클막(11)이 접착층(15)의 접착면 전체면에 접착되어 있지 않고, 도 4에 나타낸 바와 같이 비접착 부분(17)이 남아서 부착이 부족했다. 또한, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 0.6kN/㎝의 값을 나타냈지만, 이 경우도 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이에서 박리가 발생했다.In addition, as a result of observing the bonding surface between the pellicle film 11 and the adhesive layer 15 of Comparative Example 1, the pellicle film 11 was formed by the adhesive layer 15, whether the curvature of the arc of the cross-section of the adhesive layer 15 was too small. It was not adhered to the entire surface of the adhered surface, and as shown in FIG. 4, the non-adhesive portion 17 remained, and adhesion was insufficient. Further, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 0.6 kN/cm was shown, but also in this case, peeling occurred between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12. .

<비교예 2><Comparative Example 2>

이 비교예 2에서는 접착층(15)의 단면 형상이 도 5에 나타낸 바와 같이 펠리클 프레임(12)의 접착제의 도포면과 평행해지도록 실리콘 점착제를 펠리클 프레임(12)에 도포한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.In Comparative Example 2, as in Example 1, except that a silicone adhesive was applied to the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 was parallel to the application surface of the adhesive of the pellicle frame 12 as shown in FIG. Made.

그리고, 이 비교예 2의 펠리클막(11)과 접착층(15)의 접착면을 관찰한 바, 펠리클막(11)과 접착층(15) 사이에 기포가 남아있고, 도 6에 나타낸 바와 같이 비접착 부분(17)도 남아있었다. 또한, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 0.7kN/㎝의 값을 나타냈지만, 이 경우는 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이에서 박리가 발생했다.In addition, as a result of observing the adhesive surface of the pellicle film 11 and the adhesive layer 15 of Comparative Example 2, air bubbles remained between the pellicle film 11 and the adhesive layer 15, as shown in FIG. Part 17 was also left. In addition, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 0.7 kN/cm was shown, but in this case, peeling occurred between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12. .

<비교예 3><Comparative Example 3>

비교예 3에서는 접착층(15)의 단면 형상이 곡률 반경 R2000으로 되도록 실리콘 점착제를 펠리클 프레임(12)에 도포한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 제작했다.In Comparative Example 3, it was produced in the same manner as in Example 1 except that a silicone pressure-sensitive adhesive was applied to the pellicle frame 12 so that the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 became a radius of curvature R2000.

그리고, 이 비교예 3의 펠리클막(11)과 접착층(15)의 접착면을 관찰한 바, 펠리클막(11)과 접착층(15) 사이에 기포가 남아있었다. 또한, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이의 접착력을 측정한 바 0.7kN/㎝의 값을 나타냈지만, 이 경우도 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12) 사이에서 박리가 발생했다.In addition, when the bonding surface of the pellicle film 11 and the adhesive layer 15 of Comparative Example 3 was observed, air bubbles remained between the pellicle film 11 and the adhesive layer 15. In addition, when the adhesive force between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 was measured, a value of 0.7 kN/cm was shown, but also in this case, peeling occurred between the pellicle film 11 and the pellicle frame 12. .

이상의 상기 실시예 1~4 및 비교예 1~3의 결과를 정리하면 다음의 표 1과 같다.The results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 are summarized in Table 1 below.

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 표 1의 결과가 나타내는 바와 같이, 접착층의 단면 형상이 대략 궁형이고, 이 대략 궁형의 모든 부분의 곡률 반경이 R10 이상 R1000 이하의 범위로 되는 형상이면, 펠리클막(11)과 펠리클 프레임(12)을 강력히 접착시킬 수 있음과 아울러 접착면의 외관도 매우 양호한 것이 확인되었다. 한편, 접착층(15)의 단면 형상이 궁형이 아니거나, 대략 궁형이어도 그 곡률 반경이 R10 이상 R1000 이하의 범위로부터 벗어나 있는 경우는 접착력이 낮고, 또한 접착면의 외관도 나쁜 것이 확인되었다.As shown in the results of Table 1, if the cross-sectional shape of the adhesive layer is substantially arcuate, and the radius of curvature of all portions of the substantially arcuate shape is in the range of R10 or more and R1000 or less, the pellicle film 11 and the pellicle frame 12 ) Can be strongly bonded and the appearance of the bonded surface is also very good. On the other hand, even if the cross-sectional shape of the adhesive layer 15 is not arcuate or substantially arcuate, when the radius of curvature is out of the range of R10 or more and R1000 or less, it was confirmed that the adhesive strength is low and the appearance of the adhesive surface is also poor.

11 : 펠리클막 12 : 펠리클 프레임
13 : 점착층 14 : 세퍼레이터
15 : 접착층 16 : 펠리클막과 접착제의 접착 부분
17 : 펠리클막과 접착제의 비접착 부분
11: pellicle film 12: pellicle frame
13: adhesive layer 14: separator
15: adhesive layer 16: bonding portion of the pellicle film and the adhesive
17: non-adhesive portion of the pellicle film and the adhesive

Claims (7)

펠리클 프레임의 한쪽의 프레임면에 접착층을 통해서 펠리클막이 부착된 펠리클로서,
상기 접착층의 펠리클막과 대향하는 측의 단면 형상이 곡률 반경 R20㎜ 이상 R1000㎜ 이하의 볼록 곡선으로 구성되고,
상기 펠리클막과 상기 접착층의 접착 부분의 단면 형상이 곡률 반경 R20㎜ 이상 R1000㎜ 이하의 볼록 곡선인 것을 특징으로 하는 펠리클.
A pellicle in which a pellicle film is attached to one frame surface of the pellicle frame through an adhesive layer,
The cross-sectional shape of the adhesive layer on the side opposite to the pellicle film is composed of a convex curve having a radius of curvature of R20 mm or more and R1000 mm or less,
A pellicle, wherein the cross-sectional shape of the bonding portion between the pellicle film and the adhesive layer is a convex curve having a radius of curvature of R20 mm or more and R1000 mm or less.
제 1 항에 있어서,
상기 볼록 곡선이 궁형인 것을 특징으로 하는 펠리클.
The method of claim 1,
A pellicle, characterized in that the convex curve is arcuate.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 펠리클 프레임의 다른쪽 프레임면에는 펠리클을 기판에 부착하기 위한 점착제층과 그 점착제층을 보호하기 위한 이형층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
The method according to claim 1 or 2,
A pellicle, characterized in that a pressure-sensitive adhesive layer for attaching the pellicle to a substrate and a release layer for protecting the pressure-sensitive adhesive layer are formed on the other frame surface of the pellicle frame.
포토 마스크에 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 펠리클이 부착된 펠리클 부착 포토 마스크.A photomask with a pellicle in which the pellicle according to claim 1 or 2 is attached to the photomask. 제 4 항에 기재된 펠리클 부착 포토 마스크를 사용해 노광하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.An exposure method characterized by performing exposure using the photomask with a pellicle according to claim 4. 제 4 항에 기재된 펠리클 부착 포토 마스크를 사용해 노광하는 것을 특징으로 하는 반도체의 제조 방법.A method for producing a semiconductor, characterized by performing exposure using the photomask with a pellicle according to claim 4. 제 4 항에 기재된 펠리클 부착 포토 마스크를 사용해 노광하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 제조 방법.A method for manufacturing a liquid crystal display, wherein exposure is performed using the photomask with a pellicle according to claim 4.
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