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KR20190137805A - Optical laminated body, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Optical laminated body, polarizing plate, and image display device Download PDF

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KR20190137805A
KR20190137805A KR1020197029384A KR20197029384A KR20190137805A KR 20190137805 A KR20190137805 A KR 20190137805A KR 1020197029384 A KR1020197029384 A KR 1020197029384A KR 20197029384 A KR20197029384 A KR 20197029384A KR 20190137805 A KR20190137805 A KR 20190137805A
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KR
South Korea
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base film
surface treatment
layer
treatment layer
laminated body
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KR1020197029384A
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Korean (ko)
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신야 히라오카
아츠시 키시
토모노리 우에노
유스케 모테기
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

표면 처리층의 기능이 충분히 부여된 광학 적층체를 제공한다. 본 발명의 광학 적층체는 기재 필름과, 기재 필름의 편측에 형성된 표면 처리층을 포함하고, 기재 필름이 아크릴계 수지와, 아크릴계 수지에 분산된 코어쉘형 입자를 포함하고, 기재 필름의 탄성률이 4.0㎬ 이상이고, 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율이 20% 미만이다.The optical laminated body by which the function of the surface treatment layer was fully provided is provided. The optical laminated body of this invention contains a base film and the surface treatment layer formed in the one side of a base film, a base film contains acrylic resin and core-shell particles disperse | distributed to acrylic resin, and the elasticity modulus of a base film is 4.0 GPa As mentioned above, the ratio of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components which comprise a depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer from the base film side is less than 20%.

Description

광학 적층체, 편광판, 및 화상표시장치Optical laminated body, polarizing plate, and image display device

본 발명은 광학 적층체, 편광판, 및 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate, a polarizing plate, and an image display device.

최근, 아크릴계 수지로 이루어지는 기재 필름의 편측에, 하드 코트층, 방현층, 반사 방지층 등의 기능성 층(표면 처리층)을 형성한 광학 적층체가 알려져 있다(특허문헌1). 이러한 광학 적층체는, 예를 들면 편광자의 보호 필름, 또는 화상표시장치의 전면판으로서 사용될 수 있다.In recent years, the optical laminated body which provided functional layers (surface treatment layer), such as a hard-coat layer, an anti-glare layer, an antireflection layer, on one side of the base film which consists of acrylic resin is known (patent document 1). Such an optical laminate can be used, for example, as a protective film of a polarizer or as a front plate of an image display device.

일본 특허 공개 2016-218478호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2016-218478

그러나, 상기와 같은 종래의 광학 적층체는 표면 처리층의 기능이 충분히 부여되지 않는 경우가 있다.However, the above conventional optical laminated body may not fully provide the function of a surface treatment layer.

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이고, 그 주된 목적은 표면 처리층의 기능이 충분히 부여된 광학 적층체, 그러한 광학 적층체를 구비한 편광판, 및 그러한 편광판을 구비한 화상표시장치를 제공하는 것에 있다.This invention is made | formed in order to solve the said conventional subject, The main objective is the optical laminated body with which the function of the surface treatment layer was fully provided, the polarizing plate provided with such an optical laminated body, and the image display apparatus provided with such a polarizing plate. It is to offer.

본 발명의 광학 적층체는 기재 필름과, 상기 기재 필름의 편측에 형성된 표면 처리층을 포함하고, 상기 기재 필름이 아크릴계 수지와, 상기 아크릴계 수지에 분산된 코어쉘형 입자를 포함하고, 상기 기재 필름의 탄성률이 4.0㎬ 이상이고, 상기 기재 필름측으로부터 상기 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 상기 표면 처리층으로 용출된 상기 아크릴계 수지의 성분의 비율이 20% 미만이다.The optical laminated body of this invention contains a base film and the surface treatment layer formed in the one side of the said base film, The said base film contains acrylic resin and core-shell particles disperse | distributed to the said acrylic resin, An elasticity modulus is 4.0 GPa or more, and the ratio of the component of the said acrylic resin eluted to the said surface treatment layer among the components which comprise a depth position of 3.0 micrometers in the direction of the said surface treatment layer is less than 20%.

하나의 실시형태에 있어서는 상기 기재 필름의 굴절률을 R1이라고 하고, 상기 기재 필름측으로부터 상기 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치에 있어서의 굴절률을 R3이라고 했을 때, R3>0.2R1+0.8R2(단, R1<R2라고 함)를 만족한다.In one embodiment, when the refractive index of the said base film is called R1, and the refractive index in the depth position of 3.0 micrometers from the said base film side in the direction of the said surface treatment layer is called R3, it is R3> 0.2R1 + 0.8R2 (Where R1 < R2).

하나의 실시형태에 있어서는 상기 표면 처리층의 두께가 3㎛~20㎛이다.In one embodiment, the thickness of the said surface treatment layer is 3 micrometers-20 micrometers.

하나의 실시형태에 있어서는 상기 기재 필름이 상기 아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 상기 코어쉘형 입자를 5중량부~20중량부 함유한다.In one embodiment, the said base film contains 5 weight part-20 weight part of the said core-shell particles with respect to 100 weight part of said acrylic resins.

하나의 실시형태에 있어서는 상기 아크릴계 수지가 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는다.In one embodiment, the said acrylic resin has at least 1 chosen from the group which consists of a glutarimide unit, a lactone ring unit, a maleic anhydride unit, a maleimide unit, and a glutaric anhydride unit.

하나의 실시형태에 있어서는 상기 표면 처리층이 상기 기재 필름 상에 도포된 수지의 경화층이다.In one embodiment, the said surface treatment layer is a hardened layer of resin apply | coated on the said base film.

하나의 실시형태에 있어서는 상기 표면 처리층이 하드 코트층, 방현층 및 반사 방지층으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이다.In one embodiment, the said surface treatment layer is at least 1 chosen from the group which consists of a hard-coat layer, an anti-glare layer, and an antireflection layer.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 편광판이 제공된다. 이 편광판은 편광자와, 상기 편광자의 편측에 배치된 보호층을 포함하고, 상기 보호층이 상기 광학 적층체이다.According to another situation of this invention, a polarizing plate is provided. This polarizing plate contains a polarizer and the protective layer arrange | positioned at the one side of the said polarizer, and the said protective layer is the said optical laminated body.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상표시장치가 제공된다. 이 화상표시장치는 상기 편광판을 구비한다.According to another aspect of the present invention, an image display apparatus is provided. This image display apparatus is provided with the said polarizing plate.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 기재 필름의 탄성률이 4.0㎬ 이상이고, 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분이 20% 미만임으로써, 표면 처리층의 기능이 충분히 부여된 광학 적층체, 그러한 광학 적층체를 구비한 편광판, 및 그러한 편광판을 구비한 화상표시장치를 제공할 수 있다.According to this invention, the elasticity modulus of a base film is 4.0 GPa or more, and the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among components which comprise a depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer is less than 20%. Thus, the optical laminated body to which the function of a surface treatment layer is fully provided, the polarizing plate provided with such an optical laminated body, and the image display apparatus provided with such a polarizing plate can be provided.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 광학 적층체의 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시형태에는 한정되지 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.

A. 광학 적층체의 전체 구성A. Overall construction of the optical laminate

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 의한 광학 적층체의 개략 단면도이다. 광학 적층체(100)는 기재 필름(10)과, 기재 필름(10)의 편측에 형성된 표면 처리층(20)을 포함한다. 기재 필름(10)은 아크릴계 수지와, 아크릴계 수지에 분산된 코어쉘형 입자를 포함한다. 기재 필름(10)의 탄성률이 4.0㎬ 이상이다. 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율은 20% 미만이다. 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치란, 대표적으로는 기재 필름의 표면 처리층의 계면으로부터 표면 처리층측의 방향으로 3.0㎛ 떨어진 위치이다. 상기 「3㎛의 깊이 위치」의 아크릴계 수지의 성분의 비율은, 대표적으로는 하기 방법으로 도출된다.1 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention. The optical laminated body 100 contains the base film 10 and the surface treatment layer 20 formed in the one side of the base film 10. The base film 10 contains an acrylic resin and core-shell particles dispersed in the acrylic resin. The elasticity modulus of the base film 10 is 4.0 GPa or more. The ratio of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components which comprise a 3.0 micrometers depth position from the base film side in the direction of a surface treatment layer is less than 20%. The depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer from the base film side is a position typically 3.0 micrometers apart in the direction of the surface treatment layer side from the interface of the surface treatment layer of a base film. The ratio of the component of acrylic resin of the said "3 micrometer depth position" is typically derived by the following method.

아크릴계 수지 성분의 산출 위치(표면 처리측으로부터의 위치)=표면 처리층 두께(PET 기재 하드 코트 두께)-(3㎛)Calculation position (position from the surface treatment side) = surface treatment layer thickness (PET base material hard coat thickness)-(3 micrometers) of acrylic resin component

예를 들면, (PET 기재 하드 코트 두께)가 15㎛인 경우에는 표면 처리측으로부터 12㎛ 위치의 아크릴계 수지 성분의 비율을 측정한다. 표면 처리층 두께(하드 코트 두께)는, 대표적으로는 이하의 순서로 도출된다. 첫째로, 기재 필름으로서 PET 기재(Toray Industries, Inc.제, 상품명: U48-3, 굴절률: 1.60)를 사용하고, 도포층의 가열 온도를 70℃에서 건조시킴과 아울러 UV 경화시킴으로써, 하드 코트층이 형성된 광학 적층체를 얻는다. 얻어진 광학 적층체의 기재층 측에, 흑색 아크릴판(Mitsubishi Rayon Co., Ltd.제, 두께 2㎜)을 두께 20㎛의 아크릴계 점착제를 통해서 점착했다. 이어서, 하드 코트층의 반사 스펙트럼을, 순간 멀티 측광 시스템(Otsuka Electronics Co., Ltd.제, 상품명: MCPD3700)을 사용하여 이하의 조건으로 측정한다. 이들의 적층체에 사용되는 PET 기재에는 하드 코트층 형성용 조성물이 침투하지 않으므로, 적층체로부터 얻어지는 FFT 스펙트럼의 피크 위치로부터 하드 코트층만의 두께가 측정된다.For example, when (PET base material hard coat thickness) is 15 micrometers, the ratio of the acrylic resin component of a 12 micrometer position is measured from the surface treatment side. The surface treatment layer thickness (hard coat thickness) is typically derived in the following order. First, using a PET substrate (Toray Industries, Inc., trade name: U48-3, refractive index: 1.60) as the base film, by drying the heating temperature of the coating layer at 70 ℃ and UV curing, the hard coat layer This formed optical laminated body is obtained. The black acrylic plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. make, thickness 2mm) was stuck to the base material layer side of the obtained optical laminated body through the acrylic adhesive of thickness 20micrometer. Next, the reflection spectrum of a hard coat layer is measured on condition of the following using an instantaneous multi-metering system (made by Otsuka Electronics Co., Ltd., brand name: MCPD3700). Since the composition for hard-coat layer formation does not penetrate into the PET base material used for these laminated bodies, the thickness of only a hard-coat layer is measured from the peak position of the FFT spectrum obtained from a laminated body.

·반사 스펙트럼 측정 조건Reflective spectrum measurement conditions

레퍼런스: 미러Reference: Mirror

알고리즘: FFT법Algorithm: FFT Method

계산 파장: 450㎚~850㎚Calculation Wavelength: 450nm to 850nm

·검출 조건Detection condition

노광 시간: 20msExposure time: 20ms

램프 게인: 노멀Lamp Gain: Normal

적산 횟수: 10회Number of integrations: 10

·FFT법FFT method

막 두께값의 범위: 2~15㎛Range of film thickness values: 2 ~ 15㎛

막 두께 분해능: 24㎚Film thickness resolution: 24 nm

상기 비율이 20% 이상인 경우, 표면 처리층의 기능(표면 처리층이 하드 코트층인 경우, 대표적으로는 내찰상성)이 충분히 부여되지 않는 경우가 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성이 저하하는 경우가 있다. 기재 필름(10)측으로부터 표면 처리층(20)의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율은, 예를 들면 프리즘 커플러법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는, 기재 필름의 굴절률을 R1이라고 하고, 표면 처리층의 굴절률을 R2라고 하고, 프리즘 커플러법에 의해 측정되는 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치에 있어서의 굴절률을 R3이라고 했을 때, 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율 X(%)는 이하의 식으로 나타내어진다.When the said ratio is 20% or more, the function (surface resistance typically, when a surface treatment layer is a hard-coat layer typically) of a surface treatment layer may not be fully provided, and also the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer falls. There is a case. The ratio of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components constituting a depth position of 3.0 μm in the direction of the surface treatment layer 20 from the base film 10 side can be measured by, for example, the prism coupler method. Can be. Specifically, the refractive index of the base film is referred to as R1, the refractive index of the surface treatment layer is referred to as R2, and the refractive index at the depth position of 3.0 µm in the direction of the surface treatment layer from the substrate film side measured by the prism coupler method. When it is called R3, the ratio X (%) of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components which comprise a 3.0 micrometers depth position from the base film side in the direction of a surface treatment layer is represented by the following formula | equation.

X(%)=(R3-R2)×100/(R1-R2)X (%) = (R3-R2) × 100 / (R1-R2)

따라서, 광학 적층체(100)는 기재 필름의 굴절률 R1, 표면 처리층의 굴절률 R2, 및 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치에 있어서의 굴절률 R3에 관해서, 바람직하게는 이하의 부등식을 만족시킨다.Therefore, as for the optical laminated body 100, regarding refractive index R1 of a base film, the refractive index R2 of a surface treatment layer, and the refractive index R3 in the depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer from the base film side, Preferably it is the following. Satisfies the inequality of

R3>0.2R1+0.8R2(R1<R2)R3> 0.2R1 + 0.8R2 (R1 <R2)

표면 처리층의 두께는, 바람직하게는 3㎛~20㎛이고, 보다 바람직하게는 5㎛~15㎛이다. 기재 필름(10)은, 바람직하게는 아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 코어쉘형 입자를 5중량부~20중량부 함유한다. 아크릴계 수지는, 바람직하게는 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는다. 표면 처리층(20)은, 대표적으로는 기재 필름(10) 상에 도포된 수지 조성물의 경화층이다. 표면 처리층(20)은, 바람직하게는 하드 코트층, 방현층 및 반사 방지층으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이다. 상기 광학 적층체(100)에 의하면, 기재 필름(10)에 포함되는 아크릴계 수지의, 표면 처리층(20)에의 용출량이 충분히 적다. 이에 따라, 아크릴계 수지가 표면 처리층(20)에 용출하는 것에 의한 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제할 수 있다. 구체적으로는, 표면 처리층이 하드 코트층인 경우에는 하드 코트층의 내찰상성의 저하를 억제할 수 있고, 표면 처리층이 방현층인 경우에는 방현층의 방현성의 저하를 억제할 수 있고, 표면 처리층이 반사 방지층인 경우에는 반사 방지층의 반사 방지성의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 기재 필름(10)과 표면 처리층(20)의 밀착성이 향상될 수 있다.The thickness of the surface treatment layer is preferably 3 µm to 20 µm, and more preferably 5 µm to 15 µm. The base film 10 preferably contains 5 parts by weight to 20 parts by weight of the core-shell particles with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin. The acrylic resin preferably has at least one selected from the group consisting of glutarimide units, lactone ring units, maleic anhydride units, maleimide units, and glutaric anhydride units. The surface treatment layer 20 is typically the cured layer of the resin composition applied on the base film 10. The surface treatment layer 20 is preferably at least one selected from the group consisting of a hard coat layer, an antiglare layer, and an antireflection layer. According to the said optical laminated body 100, the amount of elution to the surface treatment layer 20 of acrylic resin contained in the base film 10 is sufficiently small. Thereby, the fall of the functionality of the surface treatment layer by eluting acrylic resin to the surface treatment layer 20 can be suppressed. Specifically, when the surface treatment layer is a hard coat layer, a decrease in scratch resistance of the hard coat layer can be suppressed, and when the surface treatment layer is an antiglare layer, a decrease in the antiglare property of the antiglare layer can be suppressed, When the surface treatment layer is an antireflection layer, the antireflection of the antireflection layer can be suppressed. In addition, the adhesion between the base film 10 and the surface treatment layer 20 may be improved.

B. 기재 필름B. Base Film

B-1. 기재 필름의 특성B-1. Characteristics of the base film

기재 필름은 상기한 바와 같이, 아크릴계 수지와, 아크릴계 수지에 분산된 코어쉘형 입자를 포함한다. 기재 필름의 두께는, 바람직하게는 5㎛~150㎛이고, 보다 바람직하게는 10㎛~100㎛이다. 기재 필름의 탄성률은 상기한 바와 같이 4.0㎬ 이상이다. 기재 필름은 후술하는 표면 처리층을 형성했을 때에, 아크릴계 수지가 표면 처리층에 용출될 수 있다. 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 아크릴계 수지의 성분의 비율은 20% 미만이다.As mentioned above, the base film contains an acrylic resin and core-shell particles dispersed in the acrylic resin. The thickness of a base film becomes like this. Preferably it is 5 micrometers-150 micrometers, More preferably, it is 10 micrometers-100 micrometers. The elasticity modulus of a base film is 4.0 kPa or more as mentioned above. When the base film forms the surface treatment layer mentioned later, an acrylic resin can elute to a surface treatment layer. The ratio of the component of acrylic resin in the component which comprises a depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer from the base film side is less than 20%.

기재 필름은, 바람직하게는 실질적으로 광학적으로 등방성을 갖는다. 본 명세서에 있어서 「실질적으로 광학적으로 등방성을 갖는」이란 면내 위상차 Re(550)가 0㎚~10㎚이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10㎚~+10㎚인 것을 말한다. 면내 위상차 Re(550)는, 보다 바람직하게는 0㎚~5㎚이고, 더욱 바람직하게는 0㎚~3㎚이고, 특히 바람직하게는 0㎚~2㎚이다. 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 보다 바람직하게는 -5㎚~+5㎚이고, 더욱 바람직하게는 -3㎚~+3㎚이고, 특히 바람직하게는 -2㎚~+2㎚이다. 기재 필름의 Re(550) 및 Rth(550)가 이러한 범위이면, 광학 적층체를 화상표시장치에 적용했을 경우에 표시 특성에 대한 악영향을 방지할 수 있다. 또한, Re(550)는 23℃에 있어서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. Re(550)는 식: Re(550)=(nx-ny)×d에 의해 구해진다. Rth(550)는 23℃에 있어서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. Rth(550)는 식: Rth(550)=(nx-nz)×d에 의해 구해진다. 여기에서, nx는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, ny는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이고, nz는 두께 방향의 굴절률이고, d는 필름의 두께(㎚)이다.The base film is preferably substantially optically isotropic. In this specification, "it has substantially optically isotropy" means that in-plane phase difference Re (550) is 0 nm-10 nm, and phase difference Rth (550) of thickness direction is -10 nm-+10 nm. In-plane phase difference Re (550), More preferably, it is 0 nm-5 nm, More preferably, it is 0 nm-3 nm, Especially preferably, it is 0 nm-2 nm. The phase difference Rth 550 in the thickness direction is more preferably -5 nm to +5 nm, still more preferably -3 nm to +3 nm, and particularly preferably -2 nm to +2 nm. When Re (550) and Rth (550) of a base film are these ranges, the bad influence on a display characteristic can be prevented when an optical laminated body is applied to an image display apparatus. In addition, Re (550) is an in-plane phase difference of the film measured with the light of wavelength 550nm in 23 degreeC. Re (550) is obtained by the formula: Re (550) = (nx-ny) × d. Rth (550) is a phase difference of the thickness direction of the film measured with the light of wavelength 550nm in 23 degreeC. Rth (550) is obtained by the formula: Rth (550) = (nx-nz) x d. Where nx is the refractive index of the direction in which the in-plane refractive index is maximum (that is, the slow axis direction), ny is the refractive index of the direction orthogonal to the slow axis in the plane (ie, the fast axis direction), and nz is the thickness direction Refractive index, and d is the thickness of the film in nm.

기재 필름의 두께 40㎛에 있어서의 380㎚에서의 광선 투과율은 높으면 높을수록 바람직하다. 구체적으로는, 광선 투과율은 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다. 광선 투과율이 이러한 범위이면, 원하는 투명성을 확보할 수 있다. 광선 투과율은, 예를 들면 ASTM-D-1003에 준한 방법으로 측정될 수 있다.It is more preferable that the light transmittance at 380 nm in 40 micrometers in thickness of a base film is high. Specifically, the light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, even more preferably 90% or more. If light transmittance is this range, desired transparency can be ensured. Light transmittance can be measured, for example by the method according to ASTM-D-1003.

기재 필름의 헤이즈는 낮으면 낮을수록 바람직하다. 구체적으로는, 헤이즈는 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 1.5% 이하, 특히 바람직하게는 1% 이하이다. 헤이즈가 5% 이하이면, 필름에 양호한 클리어 느낌을 줄 수 있다. 또한, 광학 적층체를 화상표시장치의 시인측 편광판의 보호층으로서 사용하는 경우에도, 표시 내용이 양호하게 시인될 수 있다.The lower the haze of the base film, the lower the better. Specifically, the haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1.5% or less, particularly preferably 1% or less. If haze is 5% or less, a favorable clear feeling can be given to a film. Further, even when the optical laminate is used as a protective layer of the viewing side polarizing plate of the image display device, the display content can be visually recognized well.

기재 필름의 두께 40㎛에 있어서의 YI는, 바람직하게는 1.27 이하, 보다 바람직하게는 1.25 이하, 더욱 바람직하게는 1.23 이하, 특히 바람직하게는 1.20 이하이다. YI가 1.3을 초과하면, 광학적 투명성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 또한, YI는 예를 들면 고속 적분구식 분광 투과율 측정기(상품명 DOT-3C: MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY제)를 사용한 측정으로 얻어지는 색의 3자극치(X, Y, Z)로부터, 다음식에 의해 구할 수 있다.YI in 40 micrometers in thickness of a base film becomes like this. Preferably it is 1.27 or less, More preferably, it is 1.25 or less, More preferably, it is 1.23 or less, Especially preferably, it is 1.20 or less. When YI exceeds 1.3, optical transparency may become inadequate. In addition, YI can be calculated | required by the following formula from the tristimulus value (X, Y, Z) of the color obtained by the measurement using the high-speed integrated sphere spectrophotometer (brand name DOT-3C: MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY), for example. .

YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100YI = [(1.28X-1.06Z) / Y] × 100

기재 필름의 두께 40㎛에 있어서의 b값(헌터의 표색계에 준한 색상의 척도)은, 바람직하게는 1.5 미만, 보다 바람직하게는 1.0 이하이다. b값이 1.5 이상인 경우, 원하지 않는 색미가 나오는 경우가 있다. 또한, b값은 예를 들면 기재 필름 샘플을 3㎝×3㎝으로 재단하고, 고속 적분구식 분광 투과율측정기(상품명 DOT-3C: MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY제)를 이용하여 색상을 측정하고, 해당 색상을 헌터의 표색계에 준해서 평가함으로써 얻을 수 있다.The b value (measurement of the color according to the color system of Hunter) in the thickness of the substrate film is preferably less than 1.5, and more preferably 1.0 or less. When b value is 1.5 or more, unwanted color taste may come out. In addition, b value cut | disconnects a base film sample to 3 cm x 3 cm, for example, measures a color using a high-speed integrated sphere spectrophotometer (brand name DOT-3C: MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY), and measures the color Can be obtained by evaluation based on Hunter's color system.

기재 필름의 투습도는, 바람직하게는 300g/㎡·24hr 이하, 보다 바람직하게는 250g/㎡·24hr 이하, 더욱 바람직하게는 200g/㎡·24hr 이하, 특히 바람직하게는 150g/㎡·24hr 이하, 가장 바람직하게는 100g/㎡·24hr 이하이다. 기재 필름의 투습도가 이러한 범위이면, 편광자의 보호층으로서 사용했을 경우에 내구성 및 내습성이 우수한 편광판을 얻을 수 있다.The water vapor transmission rate of the base film is preferably 300 g / m 2 · 24 hr or less, more preferably 250 g / m 2 · 24 hr or less, more preferably 200 g / m 2 · 24 hr or less, particularly preferably 150 g / m 2 · 24 hr or less, most preferably Preferably it is 100 g / m <2> * 24hr or less. When the water vapor transmission rate of a base film is such a range, when using it as a protective layer of a polarizer, a polarizing plate excellent in durability and moisture resistance can be obtained.

기재 필름의 인장 강도는, 바람직하게는 10㎫ 이상 100㎫ 미만이고, 보다 바람직하게는 30㎫ 이상 100㎫ 미만이다. 10㎫ 미만의 경우에는 충분한 기계적 강도를 발현할 수 없는 경우가 있다. 100㎫를 초과하면, 가공성이 불충분하게 될 우려가 있다. 인장 강도는, 예를 들면 ASTM-D-882-61T에 준해서 측정될 수 있다.The tensile strength of the base film is preferably 10 MPa or more and less than 100 MPa, more preferably 30 MPa or more and less than 100 MPa. In the case of less than 10 MPa, sufficient mechanical strength may not be expressed. When it exceeds 100 MPa, there is a fear that workability is insufficient. Tensile strength can be measured according to ASTM-D-882-61T, for example.

기재 필름의 인장 신장은, 바람직하게는 1.0% 이상, 보다 바람직하게는 3.0% 이상, 더욱 바람직하게는 5.0% 이상이다. 인장 신장의 상한은, 예를 들면 100%이다. 인장 신장이 1% 미만인 경우에는 인성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 인장 신장은, 예를 들면 ASTM-D-882-61T에 준해서 측정될 수 있다.Tensile elongation of a base film becomes like this. Preferably it is 1.0% or more, More preferably, it is 3.0% or more, More preferably, it is 5.0% or more. The upper limit of tensile elongation is 100%, for example. If the tensile elongation is less than 1%, the toughness may be insufficient. Tensile elongation can be measured according to ASTM-D-882-61T, for example.

기재 필름의 인장 탄성률은 4㎬ 이상이고, 바람직하게는 4.5㎬ 이상이다. 인장 탄성률의 상한은, 예를 들면 20㎬이다. 인장 탄성률은, 예를 들면 ASTM-D-882-61T에 준해서 측정될 수 있다.The tensile elasticity modulus of a base film is 4 GPa or more, Preferably it is 4.5 GPa or more. The upper limit of the tensile elasticity modulus is 20 GPa, for example. Tensile modulus can be measured according to ASTM-D-882-61T, for example.

기재 필름은 목적에 따라서 임의의 적절한 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제의 구체예로서는 자외선흡수제; 힌다드 페놀계, 인계, 황계 등의 산화방지제; 내광안정제, 내후안정제, 열안정제 등의 안정제; 유리섬유, 탄소섬유 등의 보강재; 근적외선흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화안티몬 등의 난연제; 음이온계, 양이온계, 비이온계의 계면활성제 등의 대전 방지제; 무기안료, 유기안료, 염료 등의 착색제; 유기필러 또는 무기필러; 수지개질제; 유기충전제나 무기충전제; 가소제; 윤활제; 등을 들 수 있다. 첨가제는 아크릴계 수지의 중합시에 첨가되어도 좋고, 필름 형성시에 첨가되어도 좋다. 첨가제의 종류, 수, 조합, 첨가량 등은 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다.The base film may contain arbitrary appropriate additives according to the objective. Specific examples of the additives include ultraviolet absorbers; Antioxidants such as hindered phenol, phosphorus and sulfur; Stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; Reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; Near infrared absorbers; Flame retardants such as tris (dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; Antistatic agents such as anionic, cationic and nonionic surfactants; Coloring agents such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; Organic fillers or inorganic fillers; Resin modifiers; Organic fillers and inorganic fillers; Plasticizers; slush; Etc. can be mentioned. An additive may be added at the time of superposition | polymerization of acrylic resin, and may be added at the time of film formation. The kind, number, combination, addition amount, etc. of the additive may be appropriately set according to the purpose.

B-2. 아크릴계 수지B-2. Acrylic resin

B-2-1. 아크릴계 수지의 구성B-2-1. Composition of Acrylic Resin

아크릴계 수지로서는 임의의 적절한 아크릴계 수지가 채용될 수 있다. 아크릴계 수지는 대표적으로는 모노머 단위로서, 알킬(메타)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴」이란 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. 아크릴계 수지의 주 골격을 구성하는 알킬(메타)아크릴레이트로서는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기의 탄소수 1~18개의 것을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 조합시켜 사용할 수 있다. 또한, 아크릴계 수지에는 임의의 적절한 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입해도 좋다. 이러한 공중합 모노머의 종류, 수, 공중합비 등은 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 아크릴계 수지의 주 골격의 구성 성분(모노머 단위)에 대해서는 일반식(2)을 참조하면서 후술한다.Arbitrary suitable acrylic resin can be employ | adopted as acrylic resin. Acrylic resin typically contains an alkyl (meth) acrylate as a main component as a monomer unit. In this specification, "(meth) acryl" means an acryl and / or methacryl. As an alkyl (meth) acrylate which comprises the main skeleton of acrylic resin, the C1-C18 thing of a linear or branched alkyl group can be illustrated. These may be used alone or in combination. Moreover, you may introduce arbitrary appropriate copolymerization monomers into copolymerization by acrylic resin. The kind, number, copolymerization ratio, etc. of such a copolymerization monomer may be appropriately set according to the purpose. The structural component (monomer unit) of the main skeleton of acrylic resin is mentioned later, referring General formula (2).

아크릴계 수지는, 바람직하게는 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는다. 락톤환 단위를 갖는 아크릴계 수지는, 예를 들면 일본 특허 공개 2008-181078호 공보에 기재되어 있고, 상기 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다. 글루타르이미드 단위는, 바람직하게는 하기 일반식(1)으로 나타내어진다:The acrylic resin preferably has at least one selected from glutarimide units, lactone ring units, maleic anhydride units, maleimide units, and glutaric anhydride units. Acrylic resin which has a lactone ring unit is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-181078, The description of the said publication is integrated in this specification as a reference. The glutarimide unit is preferably represented by the following general formula (1):

Figure pct00001
Figure pct00001

일반식(1)에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1~8개의 알킬기를 나타내고, R3은 수소원자, 탄소수 1~18개의 알킬기, 탄소수 3~12개의 시클로알킬기, 또는 탄소수 6~10개의 아릴기를 나타낸다. 일반식(1)에 있어서, 바람직하게는 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기이고, R3은 수소원자, 메틸기, 부틸기 또는 시클로헥실기이다. 보다 바람직하게는, R1은 메틸기이고, R2는 수소원자이고, R3은 메틸기이다.In general formula (1), R <1> and R <2> represents a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group each independently, R <3> represents a hydrogen atom, a C1-C18 alkyl group, a C3-C12 cycloalkyl group, Or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. In General formula (1), Preferably, R <1> and R <2> are respectively independently a hydrogen atom or a methyl group, and R <3> is a hydrogen atom, a methyl group, a butyl group, or a cyclohexyl group. More preferably, R 1 is a methyl group, R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is a methyl group.

상기 알킬(메타)아크릴레이트는, 대표적으로는 하기 일반식(2)으로 나타내어진다:The alkyl (meth) acrylate is typically represented by the following general formula (2):

Figure pct00002
Figure pct00002

일반식(2)에 있어서, R4는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R5는 수소원자,또는 치환되어 있어도 좋은 탄소수 1~6개의 지방족 또는 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 치환기로서는, 예를 들면 할로겐, 수산기를 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트의 구체예로서는 (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 n-프로필, (메타)아크릴산 n-부틸, (메타)아크릴산 t-부틸, (메타)아크릴산 n-헥실, (메타)아크릴산 시클로헥실, (메타)아크릴산 클로로메틸, (메타)아크릴산 2-클로로에틸, (메타)아크릴산 2-히드록시에틸, (메타)아크릴산 3-히드록시프로필, (메타)아크릴산 2,3,4,5,6-펜타히드록시헥실 및 (메타)아크릴산 2,3,4,5-테트라히드록시펜틸을 들 수 있다. 일반식(2)에 있어서, R5는, 바람직하게는 수소원자 또는 메틸기이다. 따라서, 특히 바람직한 알킬(메타)아크릴레이트는 아크릴산 메틸 또는 메타크릴산 메틸이다.In general formula (2), R <4> represents a hydrogen atom or a methyl group, R <5> represents a hydrogen atom or the C1-C6 aliphatic or alicyclic hydrocarbon group which may be substituted. As a substituent, a halogen and a hydroxyl group are mentioned, for example. Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate -Hexyl, cyclohexyl (meth) acrylate, chloromethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl and (meth) acrylic acid 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl are mentioned. In General Formula (2), R 5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. Thus, particularly preferred alkyl (meth) acrylates are methyl acrylate or methyl methacrylate.

상기 아크릴계 수지는 단일의 글루타르이미드 단위만을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식(1)에 있어서의 R1, R2 및 R3이 다른 복수의 글루타르이미드 단위를 포함하고 있어도 좋다.The said acryl-type resin may contain only the single glutarimide unit, and R <1> , R <2> and R <3> in the said General formula (1) may contain the some glutarimide unit from another.

상기 아크릴계 수지에 있어서의 글루타르이미드 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 2mol%~50mol%, 보다 바람직하게는 2mol%~45mol%, 더욱 바람직하게는 2mol%~40mol%, 특히 바람직하게는 2mol%~35mol%, 가장 바람직하게는 3mol%~30mol%이다. 함유 비율이 2mol%보다 적으면, 글루타르이미드 단위로부터 유래해서 발현되는 효과(예를 들면, 높은 광학적 특성, 높은 기계적 강도, 편광자와의 우수한 접착성, 박형화)가 충분히 발휘되지 않을 우려가 있다. 함유 비율이 50mol%를 초과하면, 예를 들면 내열성, 투명성이 불충분하게 될 우려가 있다.The content rate of the glutarimide unit in the said acrylic resin becomes like this. Preferably it is 2 mol%-50 mol%, More preferably, 2 mol%-45 mol%, More preferably, 2 mol%-40 mol%, Especially preferably, 2 mol% 35 mol%, most preferably 3 mol%-30 mol%. When the content ratio is less than 2 mol%, there is a fear that the effects (for example, high optical properties, high mechanical strength, excellent adhesion to the polarizer, and thinning) derived from the glutarimide unit may not be sufficiently exhibited. If the content ratio exceeds 50 mol%, there is a fear that heat resistance and transparency are insufficient, for example.

상기 아크릴계 수지는 단일의 알킬(메타)아크릴레이트 단위만을 포함하고 있어도 좋고, 상기 일반식(2)에 있어서의 R4 및 R5가 다른 복수의 알킬(메타)아크릴레이트 단위를 포함하고 있어도 좋다.The said acrylic resin may contain only a single alkyl (meth) acrylate unit, and R <4> and R <5> in the said General formula (2) may contain the some some alkyl (meth) acrylate unit different.

상기 아크릴계 수지에 있어서의 알킬(메타)아크릴레이트 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 50mol%~98mol%, 보다 바람직하게는 55mol%~98mol%, 더욱 바람직하게는 60mol%~98mol%, 특히 바람직하게는 65mol%~98mol%, 가장 바람직하게는 70mol%~97mol%이다. 함유 비율이 50mol%보다 적으면, 알킬(메타)아크릴레이트 단위로부터 유래해서 발현되는 효과(예를 들면, 높은 내열성, 높은 투명성)가 충분히 발휘되지 않을 우려가 있다. 상기 함유 비율이 98mol%보다 많으면, 수지가 물러져서 파손되기 쉬워져, 높은 기계적 강도가 충분히 발휘할 수 없고, 생산성이 열악해질 우려가 있다.The content rate of the alkyl (meth) acrylate unit in the said acrylic resin becomes like this. Preferably it is 50 mol%-98 mol%, More preferably, 55 mol%-98 mol%, More preferably, 60 mol%-98 mol%, Especially preferably, Is 65 mol% to 98 mol%, most preferably 70 mol% to 97 mol%. When the content ratio is less than 50 mol%, there is a fear that the effect (for example, high heat resistance and high transparency) derived from the alkyl (meth) acrylate unit is not sufficiently exhibited. When the said content rate is more than 98 mol%, resin will fall back and it will be easy to be damaged, high mechanical strength cannot fully be exhibited and there exists a possibility that productivity may be inferior.

상기 아크릴계 수지는 글루타르이미드 단위 및 알킬(메타)아크릴레이트 단위 이외의 단위를 포함하고 있어도 좋다.The said acrylic resin may contain units other than a glutarimide unit and an alkyl (meth) acrylate unit.

하나의 실시형태에 있어서는, 아크릴계 수지는 후술하는 분자내 이미드화 반응에 관여하지 않는 불포화 카르복실산 단위를, 예를 들면 0~10중량% 함유할 수 있다. 불포화 카르복실산 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 0~5중량%이고, 보다 바람직하게는 0~1중량%이다. 함유량이 이러한 범위이면, 투명성, 체류 안정성 및 내습성을 유지할 수 있다.In one embodiment, acrylic resin can contain 0-10 weight% of unsaturated carboxylic acid units which do not participate in the intramolecular imidation reaction mentioned later, for example. The content rate of an unsaturated carboxylic acid unit becomes like this. Preferably it is 0 to 5 weight%, More preferably, it is 0 to 1 weight%. If content is such a range, transparency, retention stability, and moisture resistance can be maintained.

하나의 실시형태에 있어서는, 아크릴계 수지는 상기 이외의 공중합 가능한 비닐계 단량체 단위(다른 비닐계 단량체 단위)를 함유할 수 있다. 기타 비닐계 단량체로서는, 예를 들면 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 에타크릴로니트릴, 알릴글리시딜에테르, 무수 말레산, 무수 이타콘산, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, 아크릴산 아미노에틸, 아크릴산 프로필아미노에틸, 메타크릴산 디메틸아미노에틸, 메타크릴산 에틸아미노프로필, 메타크릴산 시클로헥실아미노에틸, N-비닐디에틸아민, N-아세틸비닐아민, 알릴아민, 메타알릴아민, N-메틸알릴아민, 2-이소프로페닐-옥사졸린, 2-비닐-옥사졸린, 2-아크릴로일-옥사졸린, N-페닐말레이미드, 메타크릴산 페닐아미노에틸, 스티렌, α-메틸스티렌, p-글리시딜스티렌, p-아미노스티렌, 2-스티릴-옥사졸린 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고 병용해도 좋다. 바람직하게는 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체이다. 다른 비닐계 단량체 단위의 함유 비율은, 바람직하게는 0~1중량%이고, 보다 바람직하게는 0~0.1중량%이다. 이러한 범위이면, 원하지 않는 위상차의 발현 및 투명성의 저하를 억제할 수 있다.In one embodiment, acrylic resin can contain the copolymerizable vinylic monomer unit (other vinylic monomeric unit) of that excepting the above. As other vinylic monomers, for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, allyl glycidyl ether, maleic anhydride, itaconic anhydride, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N Cyclohexylmaleimide, aminoethyl acrylate, propylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, ethylaminopropyl methacrylate, cyclohexylaminoethyl methacrylate, N-vinyldiethylamine, N-acetylvinylamine, Allylamine, methalylamine, N-methylallylamine, 2-isopropenyl-oxazoline, 2-vinyl-oxazoline, 2-acryloyl-oxazoline, N-phenylmaleimide, phenylaminoethyl methacrylate , Styrene, α-methylstyrene, p-glycidyl styrene, p-amino styrene, 2-styryl-oxazoline and the like. These may be used independently and may be used together. Preferably, they are styrene monomers, such as styrene and (alpha) -methylstyrene. The content rate of another vinylic monomer unit becomes like this. Preferably it is 0 to 1 weight%, More preferably, it is 0 to 0.1 weight%. If it is such range, the expression of unwanted phase difference and the fall of transparency can be suppressed.

상기 아크릴계 수지에 있어서의 이미드화율은, 바람직하게는 2.5%~20.0%이다. 이미드화율이 이러한 범위이면, 내열성, 투명성 및 성형 가공성이 우수한 수지가 얻어지고, 필름 성형시의 눌음의 발생이나 기계적 강도의 저하가 방지될 수 있다. 상기 아크릴계 수지에 있어서, 이미드화율은 글루타르이미드 단위와 알킬(메타)아크릴레이트 단위의 비로 나타내어진다. 이 비는, 예를 들면 아크릴계 수지의 NMR 스펙트럼, IR 스펙트럼 등으로부터 얻을 수 있다. 본 실시형태에 있어서는, 이미드화율은 1HNMR BRUKER Avance III(400MHz)을 이용하여, 수지의 1H-NMR 측정에 의해 구할 수 있다. 보다 구체적으로는 3.5 내지 3.8ppm 부근의 알킬(메타)아크릴레이트의 O-CH3 프로톤 유래의 피크 면적을 A라고 하고, 3.0 내지 3.3ppm 부근의 글루타르이미드의 N-CH3 프로톤 유래의 피크의 면적을 B라고 해서, 다음식에 의해 구해진다.The imidation ratio in the said acrylic resin becomes like this. Preferably it is 2.5%-20.0%. If the imidation ratio is within this range, a resin excellent in heat resistance, transparency and molding processability can be obtained, and generation of crushing during film molding and reduction of mechanical strength can be prevented. In the said acrylic resin, the imidation ratio is represented by the ratio of a glutarimide unit and an alkyl (meth) acrylate unit. This ratio can be obtained, for example, from an NMR spectrum, an IR spectrum, or the like of an acrylic resin. In this embodiment, the imidation ratio can be calculated | required by 1 H-NMR measurement of resin using 1 HNMR BRUKER Avance III (400 MHz). More specifically, the peak area derived from O-CH 3 protons of alkyl (meth) acrylate near 3.5 to 3.8 ppm is referred to as A, and the peak derived from N-CH 3 protons of glutarimide near 3.0 to 3.3 ppm is determined. Assuming that the area is B, it is obtained by the following equation.

이미드화율 Im(%)={B/(A+B)}×100Imidation ratio Im (%) = {B / (A + B)} × 100

상기 아크릴계 수지의 산가는, 바람직하게는 0.10mmol/g~0.50mmol/g이다. 산가가 이러한 범위이면, 내열성, 기계 물성 및 성형 가공성의 밸런스가 우수한 수지를 얻을 수 있다. 산가가 너무 작으면, 원하는 산가로 조정하기 위한 변성제의 사용에 의한 비용 상승, 변성제의 잔존에 의한 겔상물의 발생이라는 문제가 생기는 경우가 있다. 산가가 너무 크면, 필름 성형시(예를 들면, 용융 압출시)의 발포가 일어나기 쉬워져, 성형품의 생산성이 저하하는 경향이 있다. 상기 아크릴계 수지에 있어서, 산가는 상기 아크릴계 수지에 있어서의 카르복실산 단위 및 카르복실산 무수물 단위의 함유량이다. 본 실시형태에 있어서는, 산가는 예를 들면 WO2005/054311 또는 일본 특허 공개 2005-23272호 공보에 기재된 적정법에 의해 산출할 수 있다.The acid value of the said acrylic resin becomes like this. Preferably it is 0.10 mmol / g-0.50 mmol / g. If the acid value is in this range, a resin having excellent balance of heat resistance, mechanical properties and molding processability can be obtained. If the acid value is too small, problems may arise such as an increase in cost due to the use of a modifier for adjusting to a desired acid value and generation of gelled material due to the remaining of the modifier. If the acid value is too large, foaming at the time of film molding (for example, melt extrusion) tends to occur, and the productivity of the molded article tends to be lowered. In the said acrylic resin, an acid value is content of the carboxylic acid unit and carboxylic anhydride unit in the said acrylic resin. In this embodiment, an acid value can be computed by the titration method as described, for example in WO2005 / 054311 or Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-23272.

상기 아크릴계 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1000~2000000, 보다 바람직하게는 5000~1000000, 더욱 바람직하게는 10000~500000, 특히 바람직하게는 50000~500000, 가장 바람직하게는 60000~150000이다. 중량 평균 분자량은, 예를 들면 겔 침투 크로마토그래피(GPC 시스템, TOSOH CORPORATION제)를 이용하여, 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있다. 또한, 용제로서는 테트라히드로푸란을 사용할 수 있다.The weight average molecular weight of the said acrylic resin becomes like this. Preferably it is 1000-2 million, More preferably, it is 5000-1000000, More preferably, it is 10000-500000, Especially preferably, it is 50000-500000, Most preferably, it is 60000-150000. A weight average molecular weight can be calculated | required by polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC system, the TOSOH CORPORATION make), for example. In addition, tetrahydrofuran can be used as a solvent.

상기 아크릴계 수지는, Tg(유리전이온도)가 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 115℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상, 가장 바람직하게는 130℃ 이상이다. Tg가 110℃ 이상이면, 이러한 수지로부터 얻어진 기재 필름을 포함하는 편광판은 내구성이 우수한 것으로 되기 쉽다. Tg의 상한치는, 바람직하게는 300℃ 이하, 보다 바람직하게는 290℃ 이하, 더욱 바람직하게는 285℃ 이하, 특히 바람직하게는 200℃ 이하, 가장 바람직하게는 160℃ 이하이다. Tg가 이러한 범위이면, 성형성이 우수할 수 있다.The acrylic resin preferably has a Tg (glass transition temperature) of 110 ° C or more, more preferably 115 ° C or more, even more preferably 120 ° C or more, particularly preferably 125 ° C or more, and most preferably 130 ° C or more. to be. If Tg is 110 degreeC or more, the polarizing plate containing the base film obtained from such resin will become easy to be excellent in durability. Preferably the upper limit of Tg is 300 degrees C or less, More preferably, it is 290 degrees C or less, More preferably, it is 285 degrees C or less, Especially preferably, it is 200 degrees C or less, Most preferably, it is 160 degrees C or less. If Tg is such a range, moldability can be excellent.

B-2-2. 아크릴계 수지의 중합B-2-2. Polymerization of Acrylic Resin

상기 아크릴계 수지는, 예를 들면 이하의 방법으로 제조할 수 있다. 이 방법은 (I) 일반식(2)으로 나타내어지는 알킬(메타)아크릴레이트 단위에 대응하는 알킬(메타)아크릴레이트 단량체와, 불포화 카르복실산 단량체 및/또는 그 전구체 단량체를 공중합해서 공중합체(a)를 얻는 것; 및 (II) 상기 공중합체(a)를 이미드화제로 처리함으로써, 상기 공중합체(a) 중의 알킬(메타)아크릴레이트 단량체 단위와 불포화 카르복실산 단량체 및/또는 그 전구체 단량체 단위의 분자내 이미드화 반응을 행하여, 일반식(1)으로 나타내어지는 글루타르이미드 단위를 공중합체 중에 도입하는 것;을 포함한다.The said acrylic resin can be manufactured by the following method, for example. This method copolymerizes (I) an alkyl (meth) acrylate monomer corresponding to the alkyl (meth) acrylate unit represented by General formula (2), an unsaturated carboxylic acid monomer, and / or its precursor monomer, and copolymerizes a copolymer ( to obtain a); And (II) treating the copolymer (a) with an imidating agent to thereby obtain an intramolecular image of the alkyl (meth) acrylate monomer unit and the unsaturated carboxylic acid monomer and / or its precursor monomer unit in the copolymer (a). Conducting a deoxidation reaction and introducing a glutarimide unit represented by the general formula (1) into the copolymer;

불포화 카르복실산 단량체로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤 산, α-치환 아크릴산, α-치환 메타크릴산을 들 수 있다. 그 전구체 단량체로서는, 예를 들면 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고 병용해도 좋다. 바람직한 불포화 카르복실산 단량체는 아크릴산 또는 메타크릴산이고, 바람직한 전구체 단량체는 아크릴아미드이다.As an unsaturated carboxylic acid monomer, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, (alpha)-substituted acrylic acid, (alpha)-substituted methacrylic acid is mentioned, for example. As this precursor monomer, acrylamide, methacrylamide, etc. are mentioned, for example. These may be used independently and may be used together. Preferred unsaturated carboxylic acid monomers are acrylic acid or methacrylic acid and preferred precursor monomers are acrylamides.

공중합체(a)를 이미드화제에 의해 처리하는 방법으로서는 임의의 적절한 방법을 사용할 수 있다. 구체예로서는 압출기를 사용하는 방법, 배치식 반응조(압력 용기)를 사용하는 방법을 들 수 있다. 압출기를 사용하는 방법은 압출기를 사용하여 공중합체(a)를 가열 용융하고, 이것을 이미드화제로 처리하는 것을 포함한다. 이 경우, 압출기로서는 임의의 적절한 압출기를 사용할 수 있다. 구체예로서는 단축 압출기, 2축 압출기, 다축 압출기를 들 수 있다. 배치식 반응조(압력 용기)를 사용하는 방법에 있어서는 임의의 적절한 배치식 반응조(압력 용기)를 사용할 수 있다.Arbitrary suitable methods can be used as a method of processing a copolymer (a) with an imidating agent. As a specific example, the method of using an extruder and the method of using a batch reactor (pressure vessel) are mentioned. The method of using an extruder includes heat-melting copolymer (a) using an extruder and treating this with an imidating agent. In this case, any suitable extruder can be used as an extruder. As a specific example, a single screw extruder, a twin screw extruder, and a multi screw extruder are mentioned. In the method of using a batch reactor (pressure vessel), any suitable batch reactor (pressure vessel) can be used.

이미드화제로서는 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 글루타르이미드 단위를 생성할 수 있는 한에 있어서 임의의 적절한 화합물을 사용할 수 있다. 이미드화제의 구체예로서는 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, tert-부틸아민, n-헥실아민 등의 지방족 탄화수소기 함유 아민, 아닐린, 벤질아민, 톨루이딘, 트리클로로아닐린 등의 방향족 탄화수소기 함유 아민, 시클로헥실아민 등등의 지환식 탄화수소기 함유 아민을 들 수 있다. 또한, 예를 들면 가열에 의해 이러한 아민을 발생하는 요소계 화합물을 사용할 수도 있다. 요소 화합물로서는, 예를 들면 요소, 1,3-디메틸요소, 1,3-디에틸요소, 1,3-디프로필요소를 들 수 있다. 이미드화제는, 바람직하게는 메틸아민, 암모니아, 시클로헥실아민이고, 보다 바람직하게는 메틸아민이다.As an imidation agent, arbitrary appropriate compounds can be used as long as it can produce the glutarimide unit represented by the said General formula (1). Specific examples of the imidizing agent include aliphatic hydrocarbon group-containing amines such as methylamine, ethylamine, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, tert-butylamine and n-hexylamine, and aniline And alicyclic hydrocarbon group-containing amines such as aromatic hydrocarbon group-containing amines such as benzylamine, toluidine, trichloroaniline, and cyclohexylamine. In addition, for example, a urea compound which generates such an amine by heating may be used. Examples of the urea compound include urea, 1,3-dimethyl urea, 1,3-diethyl urea and 1,3-dipropyl urea. The imidating agent is preferably methylamine, ammonia, cyclohexylamine, and more preferably methylamine.

이미드화에 있어서는 상기 이미드화제에 추가해서, 필요에 따라서 폐환 촉진제를 첨가해도 좋다.In imidation, in addition to the said imidation agent, you may add a ring closure promoter as needed.

이미드화에 있어서의 이미드화제의 사용량은 공중합체(a) 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.5중량부~10중량부이고, 보다 바람직하게는 0.5중량부~6중량부다. 이미드화제의 사용량이 0.5중량부보다 적으면, 원하는 이미드화율이 달성되지 않는 경우가 많다. 그 결과, 얻어지는 수지의 내열성이 매우 불충분하게 되고, 성형 후의 눌음 등의 외관 결함을 유발하는 경우가 있다. 이미드화제의 사용량이 10중량부를 초과하면, 수지 중에 이미드화제가 잔존하고, 상기 이미드화제에 의해 성형 후의 눌음 등의 외관 결함이나 발포를 유발하는 경우가 있다.The usage-amount of the imidation agent in imidation becomes like this. Preferably it is 0.5 weight part-10 weight part with respect to 100 weight part of copolymers (a), More preferably, it is 0.5 weight part-6 weight part. When the usage-amount of an imidation agent is less than 0.5 weight part, a desired imidation ratio is not achieved in many cases. As a result, the heat resistance of resin obtained becomes very inadequate and may cause an external appearance defect, such as a press after shaping | molding. When the usage-amount of an imidation agent exceeds 10 weight part, the imidation agent will remain in resin, and the said imidation agent may cause appearance defects, such as pressing after molding, and foaming.

본 실시형태의 제조 방법은, 필요에 따라서 상기 이미드화에 추가해서, 에스테르화제에 의한 처리를 포함할 수 있다.The manufacturing method of this embodiment can include the process by an esterifying agent in addition to the said imidation as needed.

에스테르화제로서는, 예를 들면 디메틸카보네이트, 2,2-디메톡시프로판, 디메틸술폭시드, 트리에틸오르토포르메이트, 트리메틸오르토아세테이트, 트리메틸오르토포르메이트, 디페닐카보네이트, 디메틸술페이트, 메틸톨루엔술포네이트, 메틸트리플루오로메탄술포네이트, 메틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 메틸이소시아네이트, p-클로로페닐이소시아네이트, 디메틸카르보디이미드, 디메틸-t-부틸실릴클로라이드, 이소프로페닐아세테이트, 디메틸우레아, 테트라메틸암모늄 하이드로옥사이드, 디메틸디에톡시실란, 테트라-N-부톡시실란, 디메틸(트리메틸실란)포스파이트, 트리메틸포스파이트, 트리메틸포스페이트, 트리크레실포스페이트, 디아조메탄, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 시클로헥센옥사이드, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르를 들 수 있다. 이들 중에서도, 코스트 및 반응성 등의 관점에서, 디메틸카보네이트가 바람직하다.As esterification agent, For example, dimethyl carbonate, 2, 2- dimethoxy propane, dimethyl sulfoxide, triethyl orthoformate, trimethyl ortho acetate, trimethyl ortho formate, diphenyl carbonate, dimethyl sulfate, methyl toluene sulfonate, Methyltrifluoromethanesulfonate, methyl acetate, methanol, ethanol, methyl isocyanate, p-chlorophenyl isocyanate, dimethyl carbodiimide, dimethyl-t-butylsilyl chloride, isopropenyl acetate, dimethylurea, tetramethylammonium hydroxide , Dimethyl diethoxysilane, tetra-N-butoxysilane, dimethyl (trimethylsilane) phosphite, trimethyl phosphite, trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, diazomethane, ethylene oxide, propylene oxide, cyclohexene oxide, 2- Ethylhexylglycidyl ether, phenylglycidyl There may be mentioned a hotel, benzyl glycidyl ether. Among these, dimethyl carbonate is preferable from the viewpoint of cost and reactivity.

에스테르화제의 첨가량은 아크릴계 수지의 산가가 원하는 값이 되도록 설정될 수 있다.The addition amount of the esterifying agent can be set so that the acid value of the acrylic resin becomes a desired value.

B-2-3. 다른 수지의 병용B-2-3. Use of other resin

본 발명의 실시형태에 있어서는 상기 아크릴계 수지와 다른 수지를 병용해도 좋다. 즉, 아크릴계 수지를 구성하는 모노머 성분과 다른 수지를 구성하는 모노머 성분을 공중합하고, 상기 공중합체를 B-4 항에서 후술하는 필름 형성에 제공해도 좋고; 아크릴계 수지와 다른 수지의 블렌드를 필름 형성에 제공해도 좋다. 다른 수지로서는, 예를 들면 스티렌계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에스테르, 폴리술폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리아세탈, 폴리이미드, 폴리에테르이미드 등의 다른 열가소성 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 폴리에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지 등의 열경화성 수지를 들 수 있다. 병용하는 수지의 종류 및 배합량은 목적 및 얻어지는 필름에 소망되는 특성 등에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 예를 들면, 스티렌계 수지(바람직하게는 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체)는 위상차 제어제로서 병용될 수 있다.In embodiment of this invention, you may use together the said acrylic resin and another resin. That is, you may copolymerize the monomer component which comprises acrylic resin, and the monomer component which comprises another resin, and may provide the said copolymer for film formation mentioned later in B-4; Blends of acrylic resins and other resins may be used for film formation. As other resin, for example, styrene resin, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, polyetherimide, etc. And other thermosetting resins such as phenol resins, melamine resins, polyester resins, silicone resins, and epoxy resins. The kind and compounding quantity of resin used together can be suitably set according to the objective and the characteristic desired for the film obtained. For example, styrene resin (preferably acrylonitrile-styrene copolymer) can be used together as a phase difference controlling agent.

아크릴계 수지와 다른 수지를 병용하는 경우, 아크릴계 수지와 다른 수지의 블렌드에 있어서의 아크릴계 수지의 함유량은, 바람직하게는 50중량%~100중량%, 보다 바람직하게는 60중량%~100중량%, 더욱 바람직하게는 70중량%~100중량%, 특히 바람직하게는 80중량%~100중량%이다. 함유량이 50중량% 미만인 경우에는 아크릴계 수지가 본래 갖는 높은 내열성, 높은 투명성이 충분히 반영될 수 없을 우려가 있다.When using acrylic resin and another resin together, content of acrylic resin in the blend of acrylic resin and another resin becomes like this. Preferably it is 50 weight%-100 weight%, More preferably, 60 weight%-100 weight%, Furthermore, Preferably it is 70 to 100 weight%, Especially preferably, it is 80 to 100 weight%. When content is less than 50 weight%, there exists a possibility that the high heat resistance and high transparency which an acrylic resin originally has cannot fully be reflected.

B-3. 코어쉘형 입자B-3. Core Shell Type Particles

상기 기재 필름에 있어서, 코어쉘형 입자는 아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 바람직하게는 5중량부~20중량부, 보다 바람직하게는 5중량부~13중량부 배합된다. 이에 따라, 원하는 탄성률을 가짐과 아울러 아크릴계 수지의 표면 처리층에의 용출이 억제된 기재 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 기재 필름에 표면 처리층을 형성한 경우의 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제할 수 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.In the base film, the core-shell particles are preferably 5 parts by weight to 20 parts by weight, more preferably 5 parts by weight to 13 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin. Thereby, the base film which has a desired elastic modulus and suppressed the elution to the surface treatment layer of acrylic resin can be obtained. As a result, the fall of the functionality of the surface treatment layer at the time of forming a surface treatment layer in a base film can be suppressed, and the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be improved.

코어쉘형 입자는, 대표적으로는 고무상 중합체로 구성된 코어와, 유리상 중합체로 구성되어 상기 코어를 피복하는 피복층을 갖는다. 코어쉘형 입자는 최내층 또는 중간층으로서, 유리상 중합체로 구성된 층을 1층 이상 갖고 있어도 좋다.The core-shell particles typically have a core composed of a rubbery polymer and a coating layer composed of a glassy polymer to cover the core. The core-shell particles may have at least one layer composed of a glassy polymer as an innermost layer or an intermediate layer.

코어를 구성하는 고무상 중합체의 Tg는, 바람직하게는 20℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 -60℃~20℃이고, 더욱 바람직하게는 -60℃~10℃이다. 코어를 구성하는 고무상 중합체의 Tg가 20℃를 초과하면, 아크릴계 수지의 기계적 강도의 향상이 충분하지 않을 우려가 있다. 피복층을 구성하는 유리상 중합체(경질 중합체)의 Tg는, 바람직하게는 50℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 50℃~140℃이고, 더욱 바람직하게는 60℃~130℃이다. 피복층을 구성하는 유리상 중합체의 Tg가 50℃보다 낮으면, 아크릴계 수지의 내열성이 저하될 우려가 있다.Tg of the rubbery polymer constituting the core is preferably 20 ° C or lower, more preferably -60 ° C to 20 ° C, and still more preferably -60 ° C to 10 ° C. When Tg of the rubbery polymer which comprises a core exceeds 20 degreeC, there exists a possibility that the improvement of the mechanical strength of acrylic resin may not be enough. Tg of the glassy polymer (hard polymer) which comprises a coating layer becomes like this. Preferably it is 50 degreeC or more, More preferably, it is 50 degreeC-140 degreeC, More preferably, it is 60 degreeC-130 degreeC. When Tg of the glassy polymer which comprises a coating layer is lower than 50 degreeC, there exists a possibility that the heat resistance of acrylic resin may fall.

코어쉘형 입자에 있어서의 코어의 함유 비율은, 바람직하게는 30중량%~95중량%, 보다 바람직하게는 50중량%~90중량%이다. 코어에 있어서의 유리상 중합체층의 비율은 코어의 총량 100중량%에 대하여 0~60중량%, 바람직하게는 0~45중량%, 보다 바람직하게는 10중량%~40중량%이다. 코어쉘형 입자에 있어서의 피복층의 함유 비율은, 바람직하게는 5중량%~70중량%, 보다 바람직하게는 10중량%~50중량%이다.The content ratio of the core in the core-shell particles is preferably 30% by weight to 95% by weight, more preferably 50% by weight to 90% by weight. The proportion of the glassy polymer layer in the core is 0 to 60% by weight, preferably 0 to 45% by weight, more preferably 10 to 40% by weight relative to 100% by weight of the total amount of the core. The content rate of the coating layer in core-shell particle | grains becomes like this. Preferably it is 5 weight%-70 weight%, More preferably, it is 10 weight%-50 weight%.

하나의 실시형태에 있어서는 아크릴계 수지 중에 분산된 코어쉘형 입자는 편평 형상을 가질 수 있다. 코어쉘형 입자는 B-4 항에서 후술하는 연신에 의해 편평화될 수 있다. 편평화된 코어쉘형 입자의 길이/두께의 비는 7.0 이하이다. 길이/두께의 비는, 바람직하게는 6.5 이하이고, 보다 바람직하게는 6.3 이하이다. 한편, 길이/두께의 비는 바람직하게는 4.0 이상이고, 보다 바람직하게는 4.5 이상이고, 더욱 바람직하게는 5.0 이상이다. 본 명세서에 있어서 「길이/두께의 비」란, 코어쉘형 입자의 평면으로 볼 때의 형상의 대표 길이와 두께의 비를 의미한다. 여기에서 「대표 길이」란, 평면으로 볼 때의 형상이 원형인 경우에는 지름, 타원형인 경우에는 장경, 사각형 또는 다각형인 경우에는 대각선의 길이를 말한다. 상기 비는, 예를 들면 이하의 순서로 구해질 수 있다. 얻어진 필름 단면을 투과형 전자 현미경(예를 들면, 가속 전압 80㎸, RuO4 염색 초박 절편법)으로 촬영하고, 얻어진 사진에 존재하는 코어쉘형 입자 중 긴 것(대표 길이에 가까운 단면을 얻을 수 있는 것)으로부터 순서대로 30개를 추출하고, (길이의 평균치)/(두께의 평균치)를 산출함으로써 상기 비를 얻을 수 있다.In one embodiment, the core-shell particles dispersed in the acrylic resin may have a flat shape. The core-shell particles may be flattened by the stretching described later in section B-4. The length / thickness ratio of the flattened core-shell particles is 7.0 or less. The ratio of length / thickness becomes like this. Preferably it is 6.5 or less, More preferably, it is 6.3 or less. On the other hand, length / thickness ratio becomes like this. Preferably it is 4.0 or more, More preferably, it is 4.5 or more, More preferably, it is 5.0 or more. In this specification, the "ratio of length / thickness" means the ratio of the representative length and the thickness of the shape in the plan view of the core-shell particles. Here, the "representative length" means the diameter when the shape in a plane is circular, the length of the diagonal when it is a long diameter, the rectangle or the polygon when an ellipse is a shape. The said ratio can be calculated | required in the following order, for example. The obtained film cross section was photographed with a transmission electron microscope (for example, acceleration voltage of 80 kPa, RuO 4 dyeing ultra thin sectioning method), and the longest among the core-shell particles present in the obtained photograph (the cross section close to the representative length can be obtained). The ratio can be obtained by extracting 30 pieces in order from () and calculating (average value of length) / (average value of thickness).

코어쉘형 입자의 코어를 구성하는 고무상 중합체, 피복층을 구성하는 유리상 중합체(경질 중합체), 이들의 중합 방법, 및 기타 구성의 상세에 대해서는, 예를 들면 일본 특허 공개 2016-33552호 공보에 기재되어 있다. 이 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.The details of the rubbery polymer constituting the core of the core-shell particles, the glassy polymer (hard polymer) constituting the coating layer, the polymerization method thereof, and other constitutions are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-33552. have. The description of this publication is incorporated herein by reference.

B-4. 기재 필름의 형성B-4. Formation of Base Film

본 발명의 실시형태에 의한 기재 필름은, 대표적으로는 상기 아크릴계 수지(기타 수지를 병용하는 경우에는 상기 기타 수지와의 블렌드) 및 코어쉘형 입자를 포함하는 조성물을 필름 형성하는 것을 포함하는 방법에 의해 형성될 수 있다. 또한, 기재 필름을 형성하는 방법은 상기 필름을 연신하는 것을 포함할 수 있다.The base film by embodiment of this invention is typically by the method containing film forming the composition containing the said acrylic resin (when using other resin together with the said other resin) and core-shell particle | grains. Can be formed. In addition, the method of forming a base film may include extending | stretching the said film.

필름 형성에 사용되는 코어쉘형 입자의 평균 입자 지름은, 바람직하게는 1㎚~500㎚이다. 코어의 평균 입자 지름은, 바람직하게는 50㎚~300㎚이고, 보다 바람직하게는 70㎚~300㎚이다.The average particle diameter of the core-shell particles used for film formation is preferably 1 nm to 500 nm. The average particle diameter of a core becomes like this. Preferably it is 50 nm-300 nm, More preferably, it is 70 nm-300 nm.

필름을 형성하는 방법으로서는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체예로서는, 캐스트 도공법(예를 들면, 유연법), 압출 성형법, 사출 성형법, 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캘린더 성형법, 열 프레스법을 들 수 있다. 바람직하게는 압출 성형법 또는 캐스트 도공법이다. 얻어지는 필름의 평활성을 높이고, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있기 때문이다. 특히 바람직하게는 압출 성형법이다. 잔존 용매에 의한 문제를 고려할 필요가 없기 때문이다. 그 중에서도, T 다이를 사용한 압출 성형법이 필름의 생산성 및 이후의 연신 처리의 용이성의 관점에서 바람직하다. 성형 조건은 사용되는 수지의 조성이나 종류, 얻어지는 필름에 소망되는 특성 등에 따라 적당히 설정될 수 있다.Arbitrary appropriate methods can be employ | adopted as a method of forming a film. As a specific example, the cast coating method (for example, casting method), the extrusion molding method, the injection molding method, the compression molding method, the transfer molding method, the blow molding method, the powder molding method, the FRP molding method, the calender molding method, and the hot press method are mentioned. Preferably, it is an extrusion molding method or a cast coating method. It is because the smoothness of the film obtained can be raised and favorable optical uniformity can be obtained. Especially preferably, it is an extrusion molding method. It is because it is not necessary to consider the problem by the residual solvent. Especially, the extrusion method using a T die is preferable from a viewpoint of the productivity of a film and the ease of subsequent extending | stretching process. Molding conditions can be suitably set according to the composition and the kind of resin used, the characteristic desired for the film obtained, etc.

연신 방법으로서는 임의의 적절한 연신 방법, 연신 조건(예를 들면, 연신 온도, 연신 배율, 연신 속도, 연신 방향)이 채용될 수 있다. 연신 방법의 구체예로서는 자유단 연신, 고정단 연신, 자유단 수축, 고정단 수축을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 동시에 사용해도 좋고, 축차로 사용해도 좋다. 아크릴계 수지에 대한 코어쉘형 입자의 배합량이 적절하게 조정된 필름을 적절한 연신 조건에서 연신함으로써, 원하는 탄성률을 가짐과 아울러 아크릴계 수지의 표면 처리층에의 용출이 억제된 기재 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 기재 필름에 표면 처리층을 형성한 경우의 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제 할 수 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.As the stretching method, any suitable stretching method and stretching conditions (for example, stretching temperature, stretching ratio, stretching speed, stretching direction) may be adopted. Specific examples of the stretching method include free end stretching, fixed end stretching, free end contraction, and fixed end contraction. These may be used independently, may be used simultaneously, and may be used in sequence. By extending | stretching the film in which the compounding quantity of the core-shell particle | grains with respect to acrylic resin suitably was adjusted on suitable extending | stretching conditions, the base film which has desired elastic modulus and suppressed the elution of the acrylic resin to the surface treatment layer can be obtained. As a result, the fall of the functionality of the surface treatment layer at the time of forming a surface treatment layer in a base film can be suppressed, and the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be improved.

연신 방향은 목적에 따라서 적절한 방향이 채용될 수 있다. 구체적으로는 길이 방향, 폭 방향, 두께 방향, 경사 방향을 들 수 있다. 연신 방향은 1방향이어도 좋고(1축 연신), 2방향이어도 좋고(2축 연신), 3방향 이상이어도 좋다. 본 발명의 실시형태에 있어서는, 대표적으로는 길이 방향의 1축 연신, 길이 방향 및 폭 방향의 동시 2축 연신, 길이 방향 및 폭 방향의 축차 2축 연신이 채용될 수 있다. 바람직하게는 2축 연신(동시 또는 축차)이다. 면내 위상차의 제어가 용이하여, 광학적 등방성을 실현하기 쉽기 때문이다.As the stretching direction, an appropriate direction may be adopted depending on the purpose. Specifically, a longitudinal direction, a width direction, a thickness direction, and an inclination direction are mentioned. The stretching direction may be one direction (uniaxial stretching), two directions (biaxial stretching), or three or more directions. In embodiment of this invention, uniaxial stretching of the longitudinal direction, simultaneous biaxial stretching of the longitudinal direction and the width direction, and sequential biaxial stretching of the longitudinal direction and the width direction can be employ | adopted. Preferably it is biaxial stretching (simultaneous or sequential). This is because control of the in-plane retardation is easy and optical isotropy is easily realized.

연신 온도는 기재 필름에 소망되는 광학적 특성, 기계적 특성 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 방법(1축 연신 또는 2축 연신), 연신 배율, 연신 속도 등에 따라 변화될 수 있다. 구체적으로는, 연신 온도는 바람직하게는 Tg~Tg+50℃, 더욱 바람직하게는 Tg+15℃~Tg+50℃, 가장 바람직하게는 Tg+35℃~Tg+50℃이다. 이러한 온도에서 연신함으로써, 적절한 특성을 갖는 기재 필름을 얻을 수 있다. 구체적인 연신 온도는, 예를 들면 110℃~200℃이고, 바람직하게는 120℃~190℃이다. 연신 온도가 이러한 범위이면, 연신 배율 및 연신 속도를 적절하게 조정함으로써, 원하는 탄성률을 가짐과 아울러 아크릴계 수지의 표면 처리층에의 용출이 억제된 기재 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 기재 필름에 표면 처리층을 형성한 경우의 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제 할 수 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.The stretching temperature may vary depending on the optical properties, mechanical properties and thickness desired for the base film, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), the stretching ratio, the stretching speed, and the like. have. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg to Tg + 50 ° C, more preferably Tg + 15 ° C to Tg + 50 ° C, and most preferably Tg + 35 ° C to Tg + 50 ° C. By extending | stretching at such temperature, the base film which has a suitable characteristic can be obtained. Specific drawing temperature is 110 degreeC-200 degreeC, for example, Preferably it is 120 degreeC-190 degreeC. If extending | stretching temperature is such a range, by adjusting draw ratio and draw rate appropriately, the base film which has desired elastic modulus and the elution to the surface treatment layer of acrylic resin can be obtained. As a result, the fall of the functionality of the surface treatment layer at the time of forming a surface treatment layer in a base film can be suppressed, and the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be improved.

연신 배율도 또한, 연신 온도와 마찬가지로, 광학적 특성, 기계적 특성 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 방법(1축 연신 또는 2축 연신), 연신 온도, 연신 속도 등에 따라 변화될 수 있다. 2축 연신을 채용하는 경우, 폭 방향(TD)의 연신 배율과 길이 방향(MD)의 연신 배율의 비(TD/MD)는, 바람직하게는 1.0~1.5이고, 보다 바람직하게는 1.0~1.4이고, 더욱 바람직하게는 1.0~1.3이다. 또한, 2축 연신을 채용하는 경우의 면 배율(길이 방향의 연신 배율과 폭 방향의 연신 배율의 곱)은, 바람직하게는 2.0~6.0이고, 보다 바람직하게는 3.0~5.5이고, 더욱 바람직하게는 3.5~5.2이다. 연신 배율이 이러한 범위이면, 연신 온도 및 연신 속도를 적절하게 조정함으로써, 원하는 탄성률을 가짐과 아울러 아크릴계 수지의 표면 처리층에의 용출이 억제된 기재 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 기재 필름에 표면 처리층을 형성한 경우의 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제할 수 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.The draw ratio is also changed according to the optical properties, mechanical properties and thickness, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), the stretching temperature, the stretching speed, and the like as the stretching temperature. Can be. When adopting biaxial stretching, ratio (TD / MD) of the draw ratio of the width direction TD and the draw ratio of the longitudinal direction MD becomes like this. Preferably it is 1.0-1.5, More preferably, it is 1.0-1.4 More preferably, it is 1.0-1.3. In addition, the surface magnification (the product of the draw ratio in the longitudinal direction and the draw ratio in the width direction) in the case of employing biaxial stretching is preferably 2.0 to 6.0, more preferably 3.0 to 5.5, still more preferably 3.5 to 5.2. If the draw ratio is within this range, by appropriately adjusting the draw temperature and the draw speed, the base film having the desired elastic modulus and the elution of the acrylic resin to the surface treatment layer can be obtained. As a result, the fall of the functionality of the surface treatment layer at the time of forming a surface treatment layer in a base film can be suppressed, and the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be improved.

연신 속도도 또한, 연신 온도와 마찬가지로, 광학적 특성, 기계적 특성 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 방법(1축 연신 또는 2축 연신), 연신 온도, 연신 배율 등에 따라 변화될 수 있다. 연신 속도는, 바람직하게는 3%/초~20%/초이고, 보다 바람직하게는 3%/초~15%/초이고, 더욱 바람직하게는 3%/초~10%/초이다. 2축 연신을 채용하는 경우, 하나의 방향의 연신 속도와 또 하나의 방향의 연신 속도는 동일해도 좋고 달라도 좋다. 연신 속도가 이러한 범위이면, 연신 온도 및 연신 배율을 적절하게 조정함으로써, 원하는 탄성률을 가짐과 아울러 아크릴계 수지의 표면 처리층에의 용출이 억제된 기재 필름을 얻을 수 있다. 그 결과, 기재 필름에 표면 처리층을 형성한 경우의 표면 처리층의 기능성의 저하를 억제할 수 있고, 또한 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.Similar to the stretching temperature, the stretching speed also varies depending on the optical properties, mechanical properties and thickness, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching method (uniaxial stretching or biaxial stretching), the stretching temperature, the stretching ratio, and the like. Can be. The stretching speed is preferably 3% / second to 20% / second, more preferably 3% / second to 15% / second, and still more preferably 3% / second to 10% / second. When adopting biaxial stretching, the stretching speed in one direction and the stretching speed in another direction may be the same or different. If the extending | stretching speed is such a range, by adjusting draw temperature and a draw ratio suitably, the base film which has a desired elastic modulus and the elution to the surface treatment layer of acrylic resin can be obtained. As a result, the fall of the functionality of the surface treatment layer at the time of forming a surface treatment layer in a base film can be suppressed, and the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be improved.

이상과 같이 하여, 기재 필름이 형성될 수 있다.As described above, the base film can be formed.

C. 표면 처리층C. Surface Treatment Layer

표면 처리층은 광학 적층체에 요구되는 기능에 따라 기재 필름의 편측에 형성된 임의의 적절한 기능층이다. 표면 처리층의 구체예로서는 하드 코트층, 방현층, 및 반사 방지층 등을 들 수 있다. 표면 처리층의 두께는, 바람직하게는 3㎛~20㎛이고, 보다 바람직하게는 5㎛~15㎛이다.The surface treatment layer is any suitable functional layer formed on one side of the base film according to the function required for the optical laminate. Specific examples of the surface treatment layer include a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, and the like. The thickness of the surface treatment layer is preferably 3 µm to 20 µm, and more preferably 5 µm to 15 µm.

표면 처리층은, 대표적으로는 기재 필름 상에 형성된 수지 조성물의 경화층이다. 표면 처리층을 형성하는 공정은 기재 필름 상에 표면 처리층 형성용 수지 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 것과, 상기 도포층을 건조 및 경화하여 표면 처리층으로 하는 것을 포함할 수 있다. 상기 도포층을 건조 및 경화하는 것은 상기 도포층을 가열하는 것을 포함할 수 있다.The surface treatment layer is typically a cured layer of a resin composition formed on a base film. The step of forming the surface treatment layer may include applying a resin composition for forming a surface treatment layer on a base film to form an application layer, and drying and curing the application layer to form a surface treatment layer. Drying and curing the coating layer may include heating the coating layer.

수지 조성물의 도포 방법으로서는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 바 코트법, 롤 코트법, 그라비어 코트법, 로드 코트법, 슬롯 오리피스 코트법, 커튼 코트법, 파운틴 코트법, 콤마 코트법을 들 수 있다. 도포를 쉽게 하는 관점에서, 수지 조성물은 희석용 용제를 포함하는 것이 바람직하다.Arbitrary appropriate methods can be employ | adopted as a coating method of a resin composition. For example, the bar coat method, the roll coat method, the gravure coat method, the rod coat method, the slot orifice coat method, the curtain coat method, the fountain coat method, the comma coat method are mentioned. From a viewpoint of making application easy, it is preferable that a resin composition contains the dilution solvent.

도포층의 가열 온도는 수지 조성물의 조성에 따른 임의의 적절한 온도로 설정되고, 바람직하게는 기재 필름에 포함되는 아크릴계 수지의 유리전이온도 이하로 설정된다. 기재 필름에 포함되는 아크릴계 수지의 유리전이온도 이하의 온도로 가열하면, 가열에 의한 변형이 억제된 광학 적층체를 얻을 수 있다. 도포층의 가열 온도는, 예를 들면 50℃~140℃이고, 바람직하게는 60℃~100℃이다. 이러한 가열 온도로 가열함으로써, 기재 필름과 표면 처리층의 밀착성이 우수한 광학 적층체를 얻을 수 있다.The heating temperature of the coating layer is set to any appropriate temperature according to the composition of the resin composition, and preferably, is set below the glass transition temperature of the acrylic resin contained in the base film. When heated to the temperature below the glass transition temperature of acrylic resin contained in a base film, the optical laminated body by which the deformation | transformation by heating was suppressed can be obtained. The heating temperature of an application layer is 50 degreeC-140 degreeC, for example, Preferably it is 60 degreeC-100 degreeC. By heating at such a heating temperature, the optical laminated body excellent in the adhesiveness of a base film and a surface treatment layer can be obtained.

C-1. 하드 코트층C-1. Hard coat layer

하드 코트층은 기재 필름의 표면에 내찰상성 및 내약품성 등을 부여하는 층이다. 하드 코트층은 연필 경도 시험에서, 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 3H 이상의 경도를 갖는다. 연필 경도 시험은 JIS K 5400에 준해서 측정될 수 있다. 하드 코트층 형성용 수지 조성물은, 예를 들면 열, 광(자외선 등) 또는 전자선 등에 의해 경화될 수 있는 경화성 화합물을 포함할 수 있다. 하드 코트층 및 하드 코트층 형성용의 수지 조성물의 상세는, 예를 들면 일본 특허 공개 2014-240955호 공보에 기재되어 있다. 상기 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.A hard coat layer is a layer which provides scratch resistance, chemical resistance, etc. to the surface of a base film. The hard coat layer preferably has a hardness of at least H, more preferably at least 3H in a pencil hardness test. Pencil hardness test can be measured according to JIS K 5400. The resin composition for hard coat layer formation may contain the curable compound which can be hardened by heat, light (ultraviolet rays, etc.), an electron beam, etc., for example. The detail of the resin composition for hard-coat layer and hard-coat layer formation is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-240955. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

C-2. 방현층C-2. Antiglare layer

방현층은 광을 산란하여 반사시킴으로써 외광의 글레어를 방지하기 위한 층이다. 방현층 형성용 수지 조성물은, 예를 들면 열, 광(자외선 등) 또는 전자선 등에 의해 경화될 수 있는 경화성 화합물을 포함할 수 있다. 방현층은, 대표적으로는 표면에 미세 요철 형상을 갖는다. 이러한 미세 요철 형상을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 상기 경화성 화합물에 미립자를 함유시키는 방법을 들 수 있다. 방현층 및 방현층 형성용의 수지 조성물의 상세는, 예를 들면 일본 특허 공개 2017-32711호 공보에 기재되어 있다. 상기 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.An anti-glare layer is a layer for preventing glare of external light by scattering and reflecting light. The resin composition for forming an antiglare layer may include a curable compound that can be cured by heat, light (such as ultraviolet rays) or an electron beam, for example. The antiglare layer typically has a fine concavo-convex shape on its surface. As a method of forming such a fine uneven | corrugated shape, the method of containing microparticles | fine-particles in the said curable compound is mentioned, for example. The detail of the antiglare layer and the resin composition for antiglare layer formation is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-32711. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

C-3. 반사 방지층C-3. Antireflection layer

반사 방지층은 외광의 반사를 방지하기 위한 층이다. 반사 방지층 형성용의 수지 조성물은, 예를 들면 열, 광(자외선 등) 또는 전자선 등에 의해 경화될 수 있는 경화성 화합물을 포함할 수 있다. 반사 방지층은 1층만으로 이루어지는 단층이어도 좋고, 2층 이상으로 이루어지는 복수층이어도 좋다. 반사 방지층 및 반사 방지층 형성용의 수지 조성물의 상세는, 예를 들면 일본 특허 공개 2012-155050호 공보에 기재되어 있다. 상기 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.The antireflection layer is a layer for preventing reflection of external light. The resin composition for antireflection layer formation may contain, for example, a curable compound that can be cured by heat, light (such as ultraviolet rays) or an electron beam. The antireflection layer may be a single layer composed of only one layer or a plurality of layers composed of two or more layers. The detail of the resin composition for antireflection layer and antireflection layer formation is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-155050. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

D. 편광판D. Polarizer

상기 A 내지 C 항에 기재된 광학 적층체는 편광판에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 그러한 광학 적층체를 사용한 편광판도 포함한다. 대표적으로는 편광판은 편광자와, 편광자의 편측에 배치된 본 발명의 광학 적층체를 갖는다. 광학 적층체는 그 기재 필름측이 편광자와 서로 붙여져, 편광자의 보호층으로서 기능할 수 있다.The optical laminate according to the above A to C can be applied to the polarizing plate. Therefore, this invention also includes the polarizing plate which used such an optical laminated body. Typically, a polarizing plate has a polarizer and the optical laminated body of this invention arrange | positioned at the one side of a polarizer. The base film side of an optical laminated body sticks with a polarizer, and can function as a protective layer of a polarizer.

편광자로서는 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예를 들면, 편광자를 형성하는 수지 필름은 단층의 수지 필름이어도 좋고, 2층 이상의 적층체이어도 좋다.Arbitrary suitable polarizers can be employ | adopted as a polarizer. For example, the resin film which forms a polarizer may be a single-layered resin film, and may be a laminated body of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·아세트산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료 등의 2색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는 광학 특성이 우수함 점에서, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신해서 얻어진 편광자가 사용된다.As a specific example of the polarizer comprised from the single-layered resin film, Iodine, a dichroic dye, etc. are used for hydrophilic polymer films, such as a polyvinyl alcohol (PVA) type film, a partially formalized PVA type film, and the ethylene vinyl acetate copolymerization type partial saponification film. And polyene oriented films such as those subjected to dyeing treatment and stretching treatment with a dichroic substance, and dehydration treatment products of PVA and dehydrochlorination treatment products of polyvinyl chloride. Preferably, the polarizer obtained by dyeing a PVA system with iodine and extending | stretching uniaxially from the point which is excellent in an optical characteristic is used.

상기 요오드에 의한 염색은, 예를 들면 PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 행해진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3~7배이다. 연신은 염색 처리 후에 행해도 좋고, 염색하면서 행해도 좋다. 또한, 연신하고 나서 염색해도 좋다. 필요에 따라서, PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예를 들면, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지해서 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블록킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.Dyeing by the said iodine is performed by immersing a PVA system film in aqueous solution of iodine, for example. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending | stretching. As needed, a swelling process, a crosslinking process, a washing process, a drying process, etc. are given to a PVA system film. For example, by immersing the PVA-based film in water prior to dyeing and washing with water, not only the contamination of the surface of the PVA-based film and the blocking agent can be washed, but also the swelling of the PVA-based film can prevent dyeing unevenness.

적층체를 사용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는 수지 기재와 상기 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 또는 수지 기재와 상기 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 상기 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자는, 예를 들면 PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하여 건조시키고, 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하여 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 상기 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에 있어서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라서, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예를 들면, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 사용해도 좋고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 해도 좋고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 해당 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층해서 사용해도 좋다. 이러한 편광자의 제조 방법의 상세는, 예를 들면 일본 특허 공개 2012-73580호 공보에 기재되어 있다. 상기 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As a specific example of the polarizer obtained using a laminated body, the laminated body of a resin base material and the PVA system resin layer (PVA system resin film) laminated | stacked on the said resin base material, or the laminated body of the resin base material and the PVA system resin layer apply | coated and formed in the said resin base material. The polarizer obtained using is mentioned. The polarizer obtained using the laminated body of the resin base material and the PVA-type resin layer apply | coated to the said resin base material apply | coats a PVA-type resin solution to a resin base material, it dries, and forms a PVA-type resin layer on a resin base material, for example, Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer; The laminate may be stretched and dyed to produce a PVA resin layer as a polarizer. In this embodiment, extending | stretching typically includes extending | stretching and immersing a laminated body in boric-acid aqueous solution. In addition, extending | stretching may further include carrying out air extension of a laminated body at high temperature (for example, 95 degreeC or more) before extending | stretching in boric-acid aqueous solution as needed. The obtained laminate of the resin substrate / polarizer may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer of the polarizer), the resin substrate is peeled from the laminate of the resin substrate / polarizer, and any desired purpose is applied to the peeling surface. An appropriate protective layer of may be laminated. The detail of the manufacturing method of such a polarizer is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-73580. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

편광자의 두께는, 예를 들면 1㎛~80㎛이다. 하나의 실시형태에 있어서는, 편광자의 두께는 바람직하게는 2㎛~30㎛이고, 더욱 바람직하게는 3㎛~25㎛이다.The thickness of a polarizer is 1 micrometer-80 micrometers, for example. In one embodiment, the thickness of a polarizer becomes like this. Preferably it is 2 micrometers-30 micrometers, More preferably, it is 3 micrometers-25 micrometers.

E. 화상표시장치E. Image Display Device

상기 D 항에 기재된 편광판은 화상표시장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 그러한 편광판을 사용한 화상표시장치도 포함한다. 화상표시장치의 대표예로서는 액정 표시 장치, 유기 일렉트로루미네선스(EL) 표시 장치를 들 수 있다. 화상표시장치는 업계에서 주지의 구성이 채용되므로, 상세는 생략한다.The polarizing plate described in the above section D can be applied to an image display device. Therefore, the present invention also includes an image display device using such a polarizing plate. Representative examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescent (EL) display device. Since the image display apparatus employs a structure well known in the art, details are omitted.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. 또한, 특별히 명기하지 않는 한, 실시예에 있어서의 「부」 및 「%」는 중량 기준이다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. The measuring method of each characteristic is as follows. In addition, "part" and "%" in an Example are a basis of weight unless there is particular notice.

(1) 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율(1) The ratio of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer

삼차원 광 굴절률·막 두께 측정 장치 프리즘 커플러(Metricon제, Metricon 2010/M)를 사용하는 방법에 의해, 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율을 측정했다. 프리즘 커플러를 사용한 굴절률의 측정은 이하의 조건으로 실시했다.The ratio of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer was measured by the method of using the three-dimensional optical refractive index and film thickness measuring device prism coupler (Metricon, Metricon 2010 / M). The refractive index measurement using the prism coupler was performed on condition of the following.

·측정 조건·Measuring conditions

광원: 594㎚Light source: 594nm

모드: TEMode: TE

Scan: 300~-300Scan: 300 ~ -300

(1-1) 기재 필름의 굴절률 R1(1-1) Refractive Index R1 of the Base Film

Measurement type: Bulk/SubstrateMeasurement type: Bulk / Substrate

기재 필름의 측정에 의해 모드(Knee라고 함)를 검출했다. 측정에 의해 얻어진 굴절률을 R1로 했다.The mode (called "Knee") was detected by the measurement of a base film. The refractive index obtained by the measurement was set to R1.

(1-2) 표면 처리층의 굴절률 R2(1-2) Refractive Index R2 of the Surface Treatment Layer

Measurement type: Single Film(Prism Couple)Measurement type: Single Film (Prism Couple)

기재 필름으로서 PET 기재(Toray Industries, Inc.제, 상품명: U48-3, 굴절률: 1.60)를 사용하여 도포층의 가열 온도를 60℃로 한 것 이외에는, 각 실시예와 마찬가지로 하여 각 실시예와 동 두께의 적층체를 얻었다. 이 적층체를 Single Film 모드로 측정함으로써 복수의 모드를 검출했다. 측정에 의해 얻어진 굴절률을 R2로 했다.Except having made the heating temperature of an application layer into 60 degreeC using PET base material (made by Toray Industries, Inc., brand name: U48-3, refractive index: 1.60) as a base film, it carried out similarly to each Example similarly to each Example. The laminated body of thickness was obtained. The plurality of modes were detected by measuring this laminate in the Single Film mode. The refractive index obtained by the measurement was set to R2.

(1-3) 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치에 있어서의 굴절률 R3(1-3) Refractive index R3 in the depth position of 3.0 micrometers in the direction of a surface treatment layer from the base film side

Measurement type: Single Film(Prism Couple)Measurement type: Single Film (Prism Couple)

해석 방법: Index gradientAnalysis Method: Index gradient

광학 적층체 내에서 깊이 방향으로 굴절률이 변화되고 있는 경우에는 상기 프리즘 커플러를 사용하는 방법에 의해, 깊이 방향에 대한 굴절률 변화를 정량적으로 구할 수 있다.When the refractive index changes in the depth direction in the optical laminate, the change in the refractive index in the depth direction can be quantitatively obtained by the method using the prism coupler.

광학 적층체의 측정에 의해 복수의 모드를 검출하고, Index gradient 해석에 의해 깊이 방향에 대한 굴절률 변화를 산출했다. 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 「3.0㎛의 깊이 위치」를, 이하의 식에 의거하여 결정하고, 얻어진 굴절률을 R3으로 했다.The several modes were detected by the measurement of an optical laminated body, and the refractive index change with respect to the depth direction was computed by Index gradient analysis. From the base film side, in the direction of a surface treatment layer, the "3.0 micrometer depth position" was determined based on the following formula, and the refractive index obtained was made into R3.

「3.0㎛의 깊이 위치」(표면 처리측으로부터의 위치)=표면 처리층 두께(PET 기재 하드 코트 두께)-(3㎛)"Depth position of 3.0 micrometers" (position from the surface treatment side) = surface treatment layer thickness (PET base material hard coat thickness)-(3 micrometers)

(1-4) 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율 X(1-4) The ratio X of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components which comprise a depth position of 3.0 micrometers from the base film side in the direction of a surface treatment layer.

이하의 식으로부터, 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 아크릴계 수지의 성분의 비율 X(%)를 산출했다.From the following formula | equation, the ratio X (%) of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components which comprise a 3.0 micrometers depth position in the direction of a surface treatment layer from the base film side was computed.

X(%)=(R3-R2)×100/(R1-R2)X (%) = (R3-R2) × 100 / (R1-R2)

(2) 기재 필름의 탄성률(2) elastic modulus of the base film

기재 필름의 탄성률 측정에는 TI900 TriboIndenter(Hysitron제)를 사용했다. 기재 필름을 10㎜×10㎜의 사이즈로 재단해서 TriboIndenter 구비된 지지체에 고정하고, 나노 인덴테이션법에 의해 압축 탄성률의 측정을 행했다. 그 때, 사용 압자가 투명층의 중심부 부근을 압입하도록 위치를 조정했다. 측정 조건을 이하에 나타낸다.TI900 TriboIndenter (manufactured by Hysitron) was used for measuring the elastic modulus of the base film. The base film was cut into the size of 10 mm x 10 mm, and it fixed to the support body equipped with TriboIndenter, and the compressive elastic modulus was measured by the nano indentation method. At that time, the position was adjusted so as to press-in the vicinity of the center of the transparent layer. Measurement conditions are shown below.

사용 압자: Berkovich(삼각뿔형)Indenter: Berkovich

측정 방법: 단일 압입 측정Measurement Method: Single Indentation Measurement

측정 온도: 25℃Measuring temperature: 25 ℃

압입 깊이: 500㎚Indentation Depth: 500 nm

압입 속도: 100㎚/sIndentation Speed: 100nm / s

(3) 표면 처리층의 기능성 평가(3) Functional evaluation of the surface treatment layer

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 폭 11㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하고, 기재 필름을 아래로 해서 유리판에 놓았다. 이어서, 상기 광학 적층체의 표면 처리층(하드 코트층)측 표면 상에서, 지름 11㎜의 원기둥의 단면에 부착된 스틸 울 #0000을, 하중 800g 또는 600g, 100㎜/sec로 10 왕복시켰다. 그 후의 하드 코트층측 표면을 목시 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다.The optical laminated body obtained by the Example and the comparative example was cut | disconnected to the magnitude | size of width 11mm and length 100mm, and the base film was put down and placed on the glass plate. Subsequently, on the surface treatment layer (hard coat layer) side surface of the said optical laminated body, steel wool # 0000 affixed to the cross section of the cylinder of diameter 11mm was reciprocated 10 times by the load of 800g or 600g, 100mm / sec. The hard-coat layer side surface after that was visually observed, and the following references | standards evaluated.

○: 상처가 전혀 없다○: no scratch at all

△: 조금 상처가 있었다△: There was a little wound

×: 상처가 현저하다X: a wound is remarkable

(4) 밀착성 평가(4) adhesion evaluation

표면 처리층의 기재 필름에 대한 밀착성을, JIS K-5400의 바둑판 눈금 박리 시험(바둑판 눈금수: 100개)에 준해서 평가하고, 이하의 지표에 의해 판정했다.The adhesiveness with respect to the base film of a surface treatment layer was evaluated based on the checkerboard scale peeling test (checkerboard number: 100 pieces) of JISK-5400, and was determined by the following indicators.

○: 바둑판 눈금 박리수가 0개○: 0 checkerboard peelings

×: 바둑판 눈금 박리수가 1개 이상×: 1 or more checkerboard peeling number

<실시예 1><Example 1>

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

MS 수지(MS-200; 메타크릴산 메틸/스티렌(몰비)=80/20의 공중합체, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.제)를 모노메틸아민에서 이미드화(이미드화율: 5%)했다. 얻어진 이미드화 MS 수지는 일반식(1)으로 나타내어지는 글루타르이미드 단위(R1 및 R3은 메틸기, R2는 수소원자임), 일반식(2)으로 나타내어지는 (메타)아크릴산 에스테르 단위(R4 및 R5는 메틸기임), 및 스티렌 단위를 갖고 있었다. 또한, 상기 이미드화에는 구경 15㎜의 맞물림형 동 방향 회전식 2축 압출기를 사용했다. 압출기의 각 온도 조절존의 설정 온도를 230℃, 스크류 회전수 150rpm으로 해서 MS 수지를 2.0kg/hr로 공급하고, 모노메틸아민의 공급량은 MS 수지 100중량부에 대하여 2중량부로 했다. 호퍼로부터 MS 수지를 투입하고, 니딩 블록에 의해 수지를 용융 및 충만시킨 후, 노즐로부터 모노메틸아민을 주입했다. 반응존의 말단에는 시일링을 넣어서 수지를 충만시켰다. 반응 후의 부생성물 및 과잉의 메틸아민을, 벤트구의 압력을 -0.08㎫로 감압해서 탈휘(脫揮)했다. 압출기 출구에 설치된 다이스로부터 스트랜드로서 나온 수지는 수조에서 냉각한 후, 펠릿타이저로 펠릿화했다. 얻어진 이미드화 MS 수지의 이미드화율은 5.0%, 산가는 0.5mmol/g이었다.MS resin (MS-200; copolymer of methyl methacrylate / styrene (molar ratio) = 80/20, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was imidized (imidization rate: 5%) in monomethylamine. . The obtained imidized MS resin is a glutarimide unit represented by General Formula (1) (R 1 and R 3 are methyl groups, R 2 is a hydrogen atom), and a (meth) acrylic acid ester unit represented by General Formula (2) ( R 4 and R 5 are methyl groups) and styrene units. In addition, the said imidation used the interlocking coaxial rotary twin screw extruder of diameter 15mm. MS resin was supplied at 2.0 kg / hr by setting the set temperature of each temperature control zone of the extruder to 230 degreeC, and 150 rpm of screw rotations, and the supply amount of monomethylamine was 2 weight part with respect to 100 weight part of MS resin. MS resin was thrown in from the hopper, the resin was melted and filled with a kneading block, and then monomethylamine was injected from the nozzle. Sealing was put at the end of the reaction zone to fill the resin. The by-product after reaction and excess methylamine were devolatilized by reducing the pressure of the vent port to -0.08 MPa. The resin which came out as a strand from the dice | dies installed at the exit of the extruder was cooled in the water tank, and then pelletized with the pelletizer. The imidation ratio of the obtained imidation MS resin was 5.0%, and the acid value was 0.5 mmol / g.

상기에서 얻어진 이미드화 MS 수지 100중량부와 코어쉘형 입자 5중량부를 단축 압출기에 투입해서 용융 혼합하고, T 다이를 통해서 필름 형성함으로써 압출 필름을 얻었다. 얻어진 압출 필름을 연신 온도 140℃에서 길이 방향 및 폭 방향으로 각각 2배로 동시 2축 연신했다. 연신 속도는 길이 방향 및 폭 방향 모두 10%/초이었다.100 parts by weight of the imidized MS resin and 5 parts by weight of the core-shell particles obtained above were introduced into a single screw extruder, melt mixed, and a film was formed through a T die to obtain an extruded film. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the longitudinal direction and the width direction at the stretching temperature of 140 ° C. The stretching speed was 10% / second in both the longitudinal direction and the width direction.

이와 같이 하여, 두께 30㎛의 기재 필름 A를 제작했다.Thus, the base film A of thickness 30micrometer was produced.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 A의 편측에, 경화 후의 두께가 6㎛이 되도록 UV 경화성 수지(4-HBA(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.제) 16중량부, NK 올리고 UA-53H-80BK(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.제) 32중량부, 비스 코트 #300(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.제) 48중량부, A-GLY-9E(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.제) 4중량부, IRGACURE 907(BASF제) 2.4중량부를 혼합하고, 각각 MIBK:PGM=50:50의 용매에서 고형분 농도 42.0%가 되도록 희석한 것)를 도포해서 도포층을 형성했다. 이어서, 상기 도포층을 70℃에서 건조시킴과 아울러 UV 경화시킴으로써, 기재 필름 A의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 1을 얻었다. 상기 광학 적층체 1을 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.On one side of the base film A, 16 parts by weight of a UV curable resin (4-HBA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)), NK oligo UA-53H-80BK (Shin-Nakamura Chemical Co. , Ltd.) 32 parts by weight, Bis coat # 300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Ltd.) 48 parts by weight, 4 parts by weight of A-GLY-9E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), IRGACURE 907 2.4 parts by weight of BASF) were mixed, and diluted with a solvent of MIBK: PGM = 50: 50, respectively, so as to have a solid content concentration of 42.0%). Subsequently, the said coating layer was dried at 70 degreeC, and also UV hardened | cured, and the optical laminated body 1 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film A was obtained. The said optical laminated body 1 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<실시예 2><Example 2>

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

코어쉘형 입자의 배합량을 10중량부로 한 것, 및 압출 필름의 연신 온도를 150℃로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 B를 제작했다.The base film B was produced like Example 1 except having set the compounding quantity of a core-shell particle into 10 weight part, and extending | stretching temperature of the extruded film into 150 degreeC.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 B를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 B의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 2를 얻었다. 상기 광학 적층체 2를 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film B, the optical laminated body 2 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film B similarly to Example 1 was obtained. The said optical laminated body 2 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<실시예 3><Example 3>

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

코어쉘형 입자의 배합량을 10중량부로 한 것, 및 압출 필름의 연신 온도를 160℃로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 C를 제작했다.The base film C was produced like Example 1 except having set the compounding quantity of a core-shell particle into 10 weight part, and extending | stretching temperature of the extruded film into 160 degreeC.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 C를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 C의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 3을 얻었다. 상기 광학 적층체 3을 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film C, the optical laminated body 3 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film C similarly to Example 1 was obtained. The said optical laminated body 3 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<실시예 4><Example 4>

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

코어쉘형 입자의 배합량을 13중량부와 한 것, 및 압출 필름의 연신 온도를 152℃로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 D를 제작했다.Substrate film D was produced in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of the core-shell particles was 13 parts by weight, and the stretching temperature of the extruded film was 152 ° C.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 D를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 D의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 4를 얻었다. 상기 광학 적층체 4를 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film D, it carried out similarly to Example 1, and obtained the optical laminated body 4 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film D. The said optical laminated body 4 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<비교예 1>Comparative Example 1

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

상기에서 얻어진 이미드화 MS 수지 100중량부와 코어쉘형 입자 15중량부를 단축 압출기에 투입해서 용융 혼합하고, T 다이를 통해서 필름 형성함으로써 압출 필름을 얻었다. 얻어진 압출 필름을 연신 온도 152℃에서 길이 방향 및 폭 방향으로 각각 2배로 동시 2축 연신했다. 연신 속도는 길이 방향 및 폭 방향 모두 10%/초이었다.100 parts by weight of the imidized MS resin and 15 parts by weight of the core-shell particles obtained above were introduced into a single screw extruder, melt mixed, and a film was formed through a T die to obtain an extruded film. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the longitudinal direction and the width direction at the stretching temperature of 152 ° C. The stretching speed was 10% / second in both the longitudinal direction and the width direction.

이와 같이 하여, 두께 40㎛의 기재 필름 E를 제작했다.Thus, the base film E of thickness 40micrometer was produced.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 E를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 E의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 5를 얻었다. 상기 광학 적층체 5를 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film E, the optical laminated body 5 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film E similarly to Example 1 was obtained. The said optical laminated body 5 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<비교예 2>Comparative Example 2

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

상기에서 얻어진 이미드화 MS 수지 100중량부와 코어쉘형 입자 23중량부를 단축 압출기에 투입해서 용융 혼합하고, T 다이를 통해서 필름 형성함으로써 압출 필름을 얻었다. 얻어진 압출 필름을 연신 온도 137℃에서 길이 방향 및 폭 방향으로 각각 2배로 동시 2축 연신했다. 연신 속도는 길이 방향 및 폭 방향 모두 10%/초이었다.100 parts by weight of the imidized MS resin and 23 parts by weight of the core-shell particles obtained above were introduced into a single screw extruder, melt-mixed, and a film was formed through a T die to obtain an extruded film. The obtained extruded film was simultaneously biaxially stretched twice in the longitudinal direction and the width direction at the stretching temperature of 137 ° C. The stretching speed was 10% / second in both the longitudinal direction and the width direction.

이와 같이 하여, 두께 40㎛의 기재 필름 F를 제작했다.Thus, the base film F of thickness 40micrometer was produced.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 F를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 F의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 6을 얻었다. 상기 광학 적층체 6을 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film F, the optical laminated body 6 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film F similarly to Example 1 was obtained. The said optical laminated body 6 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

<비교예 3>Comparative Example 3

1. 기재 필름의 제작1. Production of base film

코어쉘형 입자를 배합하지 않은 것, 및 압출 필름의 연신 온도를 130℃로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 G를 제작했다.The base film G was produced like Example 1 except not having mix | blended core shell type particle | grains, and extending | stretching temperature of the extruded film being 130 degreeC.

2. 광학 적층체의 제작2. Fabrication of Optical Laminates

상기 기재 필름 G를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 기재 필름 G의 편측에 하드 코트층이 형성된 광학 적층체 7을 얻었다. 상기 광학 적층체 7을 각 평가에 제공했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having used the said base film G, the optical laminated body 7 in which the hard-coat layer was formed in the one side of the base film G similarly to Example 1 was obtained. The said optical laminated body 7 was provided for each evaluation. The results are shown in Table 1.

Figure pct00003
Figure pct00003

표 1로부터 명백한 바와 같이, 탄성률이 4㎬ 이상이고, 기재 필름측으로부터 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 표면 처리층으로 용출된 상기 아크릴계 수지의 성분의 비율이 20% 미만인 기재 필름을 사용한 실시예 1~4의 광학 적층체는 내찰상성 및 밀착성이 우수하고 있었다.As is apparent from Table 1, the proportion of the component of the acrylic resin eluted to the surface treatment layer among the components constituting a depth position of 3.0 µm in the direction of the surface treatment layer having a modulus of elasticity of 4 GPa or more is 20%. The optical laminated bodies of Examples 1-4 using less than the base film were excellent in scratch resistance and adhesiveness.

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명의 광학 적층체는 편광자의 보호층으로서 적합하게 사용된다. 보호층으로서 본 발명의 광학 적층체를 갖는 편광판은 화상표시장치에 적합하게 사용된다. 상기와 같은 화상표시장치는 휴대 정보 단말(PDA), 스마트폰, 휴대전화, 시계, 디지털카메라, 휴대 게임기 등의 휴대 기기; PC 모니터, 노트북, 복사기 등의 OA 기기; 비디오카메라, 텔레비전, 전자레인지 등의 가정용 전기 기기; 백 모니터, 카 네비게이션 시스템용 모니터, 카 오디오 등의 차재용 기기; 디지털 사이니지, 상업점포용 인포메이션용 모니터 등의 전시 기기; 감시용 모니터 등의 경비 기기; 개호용 모니터, 의료용 모니터 등의 개호·의료 기기; 등의 각종 용도에 사용할 수 있다.The optical laminated body of this invention is used suitably as a protective layer of a polarizer. The polarizing plate which has the optical laminated body of this invention as a protective layer is used suitably for an image display apparatus. Such an image display apparatus includes a portable device such as a portable information terminal (PDA), a smartphone, a cellular phone, a clock, a digital camera, a portable game machine, and the like; OA devices such as PC monitors, notebooks, and copiers; Household electrical appliances such as video cameras, televisions, and microwave ovens; On-vehicle devices such as a back monitor, a car navigation system monitor, and car audio; Display devices such as digital signage and information monitors for commercial stores; Security devices such as monitoring monitors; Nursing care and medical devices such as nursing monitors and medical monitors; It can be used for various uses such as.

10 기재 필름
20 표면 처리층
100 광학 적층체
10 base film
20 surface treatment layer
100 optical stack

Claims (9)

기재 필름과, 상기 기재 필름의 편측에 형성된 표면 처리층을 포함하고,
상기 기재 필름이 아크릴계 수지와, 상기 아크릴계 수지에 분산된 코어쉘형 입자를 포함하고,
상기 기재 필름의 탄성률이 4.0㎬ 이상이고,
상기 기재 필름측으로부터 상기 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치를 구성하는 성분 중 상기 표면 처리층으로 용출된 상기 아크릴계 수지의 성분의 비율이 20% 미만인 광학 적층체.
A base film and a surface treatment layer formed on one side of the base film,
The base film includes an acrylic resin and core-shell particles dispersed in the acrylic resin,
The elasticity modulus of the said base film is 4.0 GPa or more,
The optical laminated body whose ratio of the component of the said acrylic resin eluted to the said surface treatment layer among the components which comprises a depth position of 3.0 micrometers in the direction of the said surface treatment layer from the said base film side is less than 20%.
제 1 항에 있어서,
상기 기재 필름의 굴절률을 R1이라고 하고, 상기 표면 처리층의 굴절률을 R2라고 하고, 상기 기재 필름측으로부터 상기 표면 처리층의 방향으로 3.0㎛의 깊이 위치에 있어서의 굴절률을 R3이라고 했을 때,
R3>0.2R1+0.8R2(단, R1<R2라고 함)를 만족하는 광학 적층체.
The method of claim 1,
When the refractive index of the said base film is called R1, the refractive index of the said surface treatment layer is called R2, and the refractive index in the depth position of 3.0 micrometers from the said base film side in the direction of the said surface treatment layer is set to R3,
Optical laminated body which satisfy | fills R3> 0.2R1 + 0.8R2 (it is called R1 <R2).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 표면 처리층의 두께가 3㎛~20㎛인 광학 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
The optical laminated body whose thickness of the said surface treatment layer is 3 micrometers-20 micrometers.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름이 상기 아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 상기 코어쉘형 입자를 5중량부~20중량부 함유하는 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The said base film contains 5 weight part-20 weight part of the said core-shell particles with respect to 100 weight part of said acrylic resins.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴계 수지가 글루타르이미드 단위, 락톤환 단위, 무수 말레산 단위, 말레이미드 단위 및 무수 글루타르산 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The optical laminated body which has at least 1 chosen from the group which the said acrylic resin consists of a glutarimide unit, a lactone ring unit, a maleic anhydride unit, a maleimide unit, and a glutaric anhydride unit.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 표면 처리층이 상기 기재 필름 상에 도포된 수지의 경화층인 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The optical laminated body whose said surface treatment layer is a hardened layer of resin apply | coated on the said base film.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 표면 처리층이 하드 코트층, 방현층 및 반사 방지층으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 광학 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The optical laminated body whose said surface treatment layer is at least 1 chosen from the group which consists of a hard-coat layer, an anti-glare layer, and an antireflection layer.
편광자와, 상기 편광자의 편측에 배치된 보호층을 포함하고,
상기 보호층이 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체인 편광판.
It includes a polarizer and a protective layer disposed on one side of the polarizer,
The polarizing plate whose said protective layer is the optical laminated body in any one of Claims 1-7.
제 8 항에 기재된 편광판을 구비하는 화상표시장치.An image display apparatus provided with the polarizing plate of Claim 8.
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