KR20180006365A - Systems and devices for identifying and limiting nerve conduction - Google Patents
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Abstract
하나 이상의 신경들의 발견 및 이어서 표적 신경을 통한 신경 신호의 전달을 방해함에 있어서 정밀성을 향상시키기 위한 방법 및 디바이스들이 개시된다. 치료된 신경은 선택된 시간 동안 신경 신호들을 전달할 수 없으며, 그러한 기간은 일시적인 기초(예컨대, 몇 시간, 몇 일, 또는 몇 주)이거나 또는 긴 기간/영구적인 기초(예컨대, 몇 달 또는 수 년)일 수 있다. 장치의 일 실시예는 신경 파괴, 금지 및 정밀성을 가진 절제 영역을 형성할 수 있는 에너지 전달 소자를 특징으로 하는 정확한 에너지 소스 시스템을 포함한다.Methods and devices for improving precision in disrupting the discovery of one or more nerves and subsequently the transmission of neural signals through the target nerve are disclosed. The treated nerve can not transmit neural signals for a selected period of time, which can be a temporary basis (e.g., hours, days, or weeks) or a long period / permanent basis (e.g., months or years) . One embodiment of the device includes an accurate energy source system featuring an energy transfer element capable of forming ablation zones with nerve destruction, inhibition and precision.
Description
본 출원은 각각 2015년 1월 21일에 출원된, 미국 특허출원 제14/602,180호; 미국 특허출원 제14/602,187호(현재 2015년 8월 25일에 특허된 미국 특허 제9,113,912호); 및 미국 특허출원 제14/602,196호(현재 2015년 9월 1일 특허된 미국 특허 제9,119,628호)에 대해 우선권을 주장하고, 각각 여기 참조로서 포함된다.This application is related to U.S. Patent Application No. 14 / 602,180, filed January 21, 2015; U.S. Patent Application No. 14 / 602,187 (now U.S. Patent No. 9,113,912, issued August 25, 2015); And U.S. Patent Application No. 14 / 602,196 (now U.S. Patent No. 9,119,628, issued September 1, 2015), each of which is incorporated herein by reference.
본 발명은 하나 이상의 신경을 발견하고 그리고 표적 신경을 통한 신경 신호의 전달을 저해하는 정밀성을 향상시킨 방법 및 디바이스에 대한 것이다. 치료된 신경은 선택된 시간 동안 신경 신호를 전달할 수 없게 되며, 그러한 기간은 일시적인 기초(예컨대, 몇 시간, 몇 일, 또는 몇 주) 또는 더 긴 기간/영구적인 기간(예컨대, 몇 달, 수 년)을 기초로 할 수 있다. 상기 장치의 일 실시예는 신경 파괴 영역, 금지 및 정밀성을 가진 절제를 발생할 수 있는 에너지 전달 요소들을 특징으로 하는 정밀한 에너지 소스 시스템을 포함한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to methods and devices that improve the precision of detecting one or more nerves and inhibiting the transmission of nerve signals through the target nerve. The treated neurons become unable to transmit neural signals during a selected period of time, which may be on a temporary basis (e.g., hours, days, or weeks) or longer periods / permanent periods (e.g., As shown in FIG. One embodiment of the device includes a precise energy source system characterized by energy transfer elements capable of generating ablation with nerve breakdown regions, inhibition and precision.
인간 신경 시스템은 고통, 열, 냉기 및 촉감, 및 근육 운동을 제어하는 명령 신호와 같은 감지 정보를 모두 전달하기 위하여 신호들을 송수신한다. 신경 신호를 손상시키는 것은 개인들에게 예방적이고, 치료적이며, 및/또는 미용 이점들을 제공할 수 있는 경우들이 많이 있다. 예컨대, 외래적인, 바람직하지 않은, 또는 비정상 신호들이 신경 시스템 경로들을 따라 생성될 수 있다(또는 전달됨). 예컨대, 후방의 작은 신경을 꼬집으면 극도의 후방 통증을 유발할 수 있다. 유사하게, 특정 신경들의 압축이나 다른 활성화에 의하여 상당하거나 일정한 통증이 유발될 수 있다. 일정한 질병은 또한 신경의 선형화를 모색할 수 있으므로 신경 신호들이 자발적으로 발생한다. 이러한 자발적인 발생에 의하여 발작(seizures)에서 통증(극한 상태에서) 내지 사망에 이르는 다양한 만성 질병이 발생될 수 있다. 비정상적인 신호 활성화에 의하여 다른 많은 문제들이 초래될 수 있는 데, 이는 (제한되는 것이 아닌) 경련(twitching), 틱(tics), 발작, 염좌(distortions), 쥐가 나는 것(cramps), 장애(disabilities)(통증에 부가해서), 다른 바람직하지 않은 상태, 또는 다른 고통스럽고, 비정상적이며, 바람직하지 않은, 사회적으로 또는 실질적으로 해로운 고통(afflictions)을 포함한다.The human nervous system transmits and receives signals to convey both sensory information such as pain, heat, cold and tactile sensation, and command signals to control muscle movement. There are many cases in which impairing neural signals can provide preventative, therapeutic, and / or cosmetic benefits to individuals. For example, extraneous, undesired, or abnormal signals may be generated (or communicated) along neural system paths. For example, twisting small nerves in the posterior can cause extreme back pain. Similarly, compression or other activation of certain nerves may cause significant or constant pain. Certain diseases can also seek linearization of the nerves, so the neural signals are spontaneous. These spontaneous outbreaks can lead to a variety of chronic diseases ranging from seizures to pain (from extreme conditions) to death. Abnormal signal activation can cause many other problems, including (but not limited to) twitching, tics, seizures, distortions, cramps, disabilities (In addition to pain), other undesirable conditions, or other painful, abnormal, undesirable, socially or substantially deleterious afflictions.
일부 상황들에서, 신경 신호들의 정상적인 전도에 의하여 바람직하지 않은 근육이 눈썹(이마)의 영구적인 비틀림을 초래할 수 있는 안면 주름이 유발되며, 성숙한 노화의 외양을 부여한다. 추미근(corrugator)의 처짐(supercilli) 활성화 신경의 신경 신호를 차단하면 눈썹이나 이마의 비틀림을 완화할 수 있다. In some situations, the normal conduction of neural signals causes facial wrinkles, which may result in permanent twisting of the eyebrows (forehead), which undesirable muscles give rise to a mature aging appearance. Supercilli of the corrugator Blocking the neural signals of the activated nerves can alleviate eyebrows or forehead twist.
종래의 전기수술 공정은 에너지 소스에 연결된 단일 극성 또는 바이폴라 디바이스를 사용한다. 단극 전극 시스템은 작은 표면적의 전극과, 작은 표면적의 전극으로부터 분리된 이격 위치에서 본체와 접촉 배치된 복귀 전극을 포함한다. 복귀 전극은 일반적으로 크기가 크고, 본체에 저항으로 또는 용량적으로 결합된다. 동일한 양의 전류가 회로를 완성하기 위하여 각 전극을 통하여 흘러야 한다. 왜냐하면 복귀 전극은 통상적으로 표면적이 크므로 감소된 전류 밀도에 의하여 더 큰 표면적 위로 열이 소비될 수 있기 때문이다. 일부 경우들에서, 높은 혈류 흐름 영역(이두박근(biceps), 엉덩이(buttocks) 또는 다른 근육 또는 매우 혈관화된 지역)에 복귀 전극들을 위치시키는 것이 바람직하므로 생성된 열은 신속하게 소비될 수 있다. 단극 시스템의 하나의 이점은 필요 개소에 단극 프로브를 정확하게 배치하고 소정 개소에 전기수술 에너지를 적절하게 집중시킬 수 있는 능력이다. 저항식 복귀 전극은 통상적으로 전도성 페이스트 또는 젤리에 의하여 코팅될 수 있다. 환자와의 접촉이 감소되거나 또는 젤리가 건조되면, 고전류 밀도 영역이 발생할 수 있어서, 접촉 지점에서 연소 가능성을 증가시킨다.Conventional electrosurgical processes use a single polar or bipolar device connected to an energy source. The unipolar electrode system includes an electrode with a small surface area and a return electrode disposed in contact with the body at a spaced apart location from the electrode with a small surface area. The return electrode is generally large in size and is resistively or capacitively coupled to the body. The same amount of current must flow through each electrode to complete the circuit. Since the return electrode typically has a large surface area, so heat can be consumed over a larger surface area by the reduced current density. In some cases, it is desirable to place the return electrodes in a high blood flow area (biceps, buttocks or other muscles or very vascularized areas) so that the generated heat can be consumed quickly. One advantage of the unipolar system is the ability to accurately position the unipolar probe at the required site and properly center the electrosurgical energy at a given location. The resistive return electrode may typically be coated with a conductive paste or jelly. If contact with the patient is reduced or the jelly dries, a high current density region can occur, increasing the likelihood of combustion at the point of contact.
통상적인 바이폴라 전극 시스템들은 일반적으로 반대 극성의 전극들을 가지는 디바이스에 기초한다. 각 전극은 전기수술 발전기의 두 전극들의 하나에 연결된다. 전기수술 에너지가 인가될 때, 디바이스 영역의 반대 극성의 전극들 사이에 전류가 흐르도록 에너지가 집중된다. 도구가 적절하게 설계되고 사용된 것으로 상정하면, 발생되는 전류가 두 표면들 사이의 표적 조직 내에서 제한될 것이다. 미간 만입(glabellar furrowing)의 제거 치료가 코러게이터 슈퍼실리 머슬 리섹션 스루 블레파로플래스티 인시전(Corrugator Supercilli Muscle Resection Through Blepharoplasty Incision)의 플라스틱 리콘스트럭티브 서저리(Plastic Reconstructive Surgery) 95 691-696 (1995))의 구유론(Guyuron), 미셀로우(Michelow) 및 토머스에 의해 기술된 이마 리프트 수술, 추미근 처짐 근육 수술을 포함하였다. 또한, 추미근 처짐 운동 신경의 수술적인 분할은 코러게이터 슈퍼실리 머슬: 클리니컬 시그니피컨스 앤 디벨롭먼트 어브 어 뉴 서지컬 테크닉 포 프라우닝(Corrugator Supercilli Muscle: Clinical Significance and Development of a New Surgical Technique for Frowning)., 제이 오토라린골로지( J Otolaryngology) 27; 222-227 (1998)의 운동 뉴론 신경 분포의 해부학의 엘리스(Ellis)와 바칼라(Bakala)에 의해 사용되고 기술되었다. 시간에 걸쳐 신경이 재생하고 반복하거나 대체적인 수술이 필요하기 때문에 설명된 이들 기술들은 매우 공격적이고 때로 일시적이다.Conventional bipolar electrode systems are generally based on devices having electrodes of opposite polarity. Each electrode is connected to one of the two electrodes of the electrosurgical generator. When electrosurgical energy is applied, energy is concentrated so that current flows between the electrodes of opposite polarity in the device region. If the tool is assumed to be properly designed and used, the current generated will be limited in the target tissue between the two surfaces. Removal of glabellar furrowing was performed by the Plastic Reconstructive Surgery 95 691-696 of Corrugator Supercilli® Muscle Resection Through Blepharoplasty Incorporation 1995), the forehead lift surgery described by Guyuron, Michelow and Thomas, and myotonic muscle deflection muscle surgery. In addition, the surgical segmentation of the apical motor deflection motor nerve has been described by Corrugator Supercilli Muscle (Clinical Significance and Development of a New Surgical Technique for Frowning, J Otolaryngology 27; 222-227 (1998) by Ellis and Bakala of the anatomy of motor neuron distribution. These techniques are very aggressive and sometimes transient because the nerves regenerate over time and require repeated or alternative surgery.
미간 만입을 치료하기 위한 또 다른 덜 공격적인 수술은 근육 내에 직접 보툴리놈 독소(보톡스)를 주입하는 것을 포함한다. 이는 이완 마비(flaccid paralysis)를 발생하고 뉴질랜드 의약 저널(The New England Journal of Medicine), 324:1186-1194 (1991))에 가장 잘 기술되었다. 최소로 침입되면, 이러한 기술은 예측 가능하게 일시적이고; 그래서, 매 수개월마다 재실행되어야 한다.Another less aggressive procedure for the treatment of intracranial indwelling involves injecting a Botulism toxin (Botox) directly into the muscle. This was the best described in the New England Journal of Medicine, 324: 1186-1194 (1991), which results in flaccid paralysis. Once minimally invaded, this technique is predictably temporary; So, it has to be replayed every few months.
두 개의 니들 바이폴라 시스템을 통한 RF 에너지를 사용하기 위한 특별한 노력이 성형 수술에서의 상피적이고 선택적인 무선 신경절제(Percutaneous Selective Radio-Frequency Neuroablation in Plastic Surgery), 마취 성형 수술, 18:41 pp 41-48(1994)에서 에르난데스-젠디야스(Hernandez-Zendejas) 및 게레로-산토스 (Guerrero-Santos)에 의하여 설명되었다. 저작자들은 두 개의 평행인 니들형 전극들을 사용하는 바이폴라 시스템을 설명하였다. 어틀리와 구데(Goode)는, 미국 특허 제6,139, 545호 및 아치브 오브 페이셜 플라스틱 서저리(Archives of Facial Plastic Surgery), January-March, 99, VI P 46-48, 미간 만입 제거를 위한 추미근 근육으로의 신경의 무선 절제에서 유사 시스템을 설명하였다. 이들 시스템들은 명백히 두 개 니들의 바이폴라 구조에 고유한 한계로 인해 영구적인 결과를 발생할 수 없다. 이와 같이, 보톡스(Botox)의 경우, 평행 니들 전극 시스템들은 통상적으로 주기적인 반복 공정을 필요로 할 것이다.A special effort to use RF energy through the two needle bipolar systems has been shown to be an effective alternative to the use of percutaneous selective radio-frequency neuroablation in plastic surgery in plastic surgery, anesthetic plastic surgery, 18:41 pp 41-48 (1994) by Hernandez-Zendejas and Guerrero-Santos. The authors have described a bipolar system that uses two parallel needle-like electrodes. Utley and Goode, US Pat. Nos. 6,139, 545 and Archives of Facial Plastic Surgery, January-March, 99, VI P 46-48, Similar systems have been described in the radioactive ablation of the nerves. These systems obviously can not produce permanent results due to inherent limitations of the bipolar structures of the two needles. As such, in the case of Botox, parallel needle electrode systems will typically require periodic iterative processes.
표적 조직 근처에 활성 전극을 적절히 위치시키고 치료가 관심 영역으로 제한되도록 신경에 밀착 근접성 여부를 결정하는 많은 방법들이 있다. 많은 예들에서, 주위 조직들에 부수적인 손상을 최소화하면서 소정 효과를 발생하도록 신경이 위치되고 치료되는 것을 보장할 필요가 있다. 그것은 미용 용도의 경우 특히 그러하다.There are many ways to determine the proximity of the nerve to the nerve so that the active electrode is properly positioned near the target tissue and treatment is restricted to the area of interest. In many instances, there is a need to ensure that the nerves are located and treated so as to produce a certain effect while minimizing collateral damage to surrounding tissues. This is especially true for cosmetic applications.
다양한 자극 디바이스들이 개발되고 특허되었다. 두 개의 니들-시스템을 사용하는 하나의 자극 및 절제 공정이 미국 특허 제6,139, 545호에 개시된다. 자극은 또한 부정적으로 실행될 수 있으며, 자극에 반응하지 않는 조직은 미국 특허 제5,782,826호(1998년 7월 21일 특허)에 개시된 바와 같이 절제된다.A variety of stimulation devices have been developed and patented. One stimulation and ablation procedure using two needle-systems is disclosed in U. S. Patent No. 6,139, 545. Stimulation can also be performed negatively, and tissues that do not respond to stimulation are ablated as disclosed in U.S. Patent No. 5,782,826 (issued July 21, 1998).
본 발명은 신경에 인접해서 치료 디바이스를 배치하고, 신경을 자극하며 이어서 신경 신호를 전달하는 신경의 능력을 보수하기 위하여 치료 조치를 실행하기 위한 디바이스 및 방법들에 대한 것이다. 특히, 본 발명의 디바이스와 방법들은 머리 및 얼굴 영역에서 미용 용도로서 사용될 수 있다. 그러나, 이 디바이스와 방법들은 신체의 다른 어느 부분에도 사용될 수 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to devices and methods for deploying a treatment device adjacent to a nerve, stimulating the nerve and then performing a remedial action to repair the ability of the nerve to deliver the nerve signal. In particular, the devices and methods of the present invention can be used for cosmetic purposes in the head and face regions. However, these devices and methods can be used in any other part of the body.
본 발명은 조직 영역에서 신경을 치료하는 방법을 포함한다. 그러한 방법의 일 예는 자극 모드와 치료 모드를 포함하는 디바이스의 작동 단부를 조직 영역 내에 위치시키는 것을 포함하고, 상기 자극 모드는 작동 단부로부터 제1 거리에서 신경을 자극하는 적어도 제1 파라미터 설정과, 작동 단부로부터 제2 거리에서 신경을 자극하는 제2 파라미터 설정을 포함하고, 제1 거리는 제2 거리보다 더 크고, 디바이스가 자극 모드가 제1 파라미터 설정에 있을 때 치료 모드의 활성화를 방지하도록 구성되며; 신경 자극을 관찰하기 위하여 제1 파라미터 설정에서 디바이스를 자극 모드로 활성화하고; 신경에 더욱 근접하도록 작동 단부를 이동시키기 위하여 디바이스의 작동 단부를 조직 영역 내로 재배치하고; 신경 자극을 관찰하기 위하여 제2 파라미터 설정에서 자극 모드로 디바이스를 재활성화시키며 디바이스의 작동 단부를 신경에 더욱 근접하도록 재배치한 것을 확인하고; 및 정해진 치료 설정에서 신경에서 제1 치료 영역을 생성하기 위하여 치료 모드에서 디바이스를 활성화시키고, 치료 모드에서 디바이스를 활성화하면 디바이스는 제1 파라미터 설정을 재설정한다.The present invention includes a method of treating neurons in a tissue area. One example of such a method includes positioning an operative end of a device including a stimulation mode and a treatment mode within a tissue area, the stimulation mode comprising at least a first parameter setting to stimulate the nerve at a first distance from the working end, Wherein the first distance is greater than the second distance and the device is configured to prevent activation of the treatment mode when the stimulation mode is in the first parameter setting ; Activating the device in the stimulation mode at the first parameter setting to observe the nerve stimulation; Relocate the operative end of the device into the tissue region to move the operative end closer to the nerve; Reactivating the device in the stimulation mode in the second parameter setting to observe the nerve stimulation and confirming relocation of the working end of the device to be closer to the nerve; And activating the device in the treatment mode to create a first treatment area in the nerve at the predetermined treatment setting, and activating the device in the treatment mode, the device resets the first parameter setting.
이 방법은 추가로 신경을 따라 다수의 치료 영역을 생성하도록 작동 단부를 신경에 대해 일정한 방향으로 이동시키는 것을 포함한다. 일정한 변형에서, 신경에 대해 일정한 방향으로 디바이스의 작동 단부를 이동시키는 것은 신경을 따라 제1 치료 영역으로부터 멀어지는 전방 방향으로 디바이스의 작동 단부를 이동시키는 것을 포함하므로 신경과 연관된 근육은 신경 자극 동안 자극될 수 있다.The method further comprises moving the operative end in a predetermined direction relative to the nerve to produce a plurality of treatment zones along the nerve. In certain variations, moving the working end of the device in a constant direction relative to the nerve involves moving the working end of the device in a forward direction away from the first treatment area along the nerve, so that the muscle associated with the nerve is stimulated during nerve stimulation .
본 발명의 방법들의 변형은 디바이스의 작동 단부를 위치시키는 것을 포함하고 디바이스의 작동 단부의 재배치는 천자(puncture) 부위로부터 디바이스를 분리시키지 않고 발생한다. 디바이스를 이동시키는 것은 신경 자극을 관찰하기 위한 면적을 증가시키기 위하여 조직 영역으로부터 디바이스를 제거하지 않고 복수 방향들로 디바이스를 이동시키는 것을 포함한다.Modifications of the methods of the present invention include positioning the working end of the device and rearrangement of the working end of the device occurs without detaching the device from the puncture site. Moving the device includes moving the device in a plurality of directions without removing the device from the tissue region to increase the area for observing the nerve stimulus.
이 방법은 또한 치료 모드에서 디바이스를 작동시키기 전에 제1 치료 영역에서 또는 근처에서 마취제를 주입하는 것을 포함한다.The method also includes injecting an anesthetic in or near the first treatment zone prior to operating the device in the treatment mode.
이 방법들과 디바이스들은 또한 에너지를 인가하고 에너지 인가 동안 얼음을 유지하기 전에 치료 부위 위의 피부 표면 온도를 저하시키는 것을 포함할 수 있다.The methods and devices may also include applying energy and lowering the skin surface temperature above the treatment site prior to maintaining the ice during energy application.
추가적인 변형에서, 이 방법들은 추가로 디바이스를 삽입하고, 표적 치료 위치들을 확인하기 위하여 가이드로서 맵을 사용하기 전에, 피부에 신경 조직을 대응시키도록 외부 신경 자극기를 사용하는 것을 포함할 수 있다.In a further variation, the methods can further include using an external nerve stimulator to insert the device and align the nerve tissue to the skin prior to using the map as a guide to identify target treatment locations.
일정한 변형들에서, 제1 파라미터 설정은 제1 전류 설정을 포함하고 제2 파라미터 설정은 제 2 전류 설정을 포함하며, 제2 전류 설정은 제1 전류 설정보다 작다. 제1 파라미터 설정은 고정될 수 있거나 및/또는 제2 파라미터 설정은 조정할 수 있다.In certain variations, the first parameter setting includes a first current setting and the second parameter setting comprises a second current setting, wherein the second current setting is less than the first current setting. The first parameter setting can be fixed and / or the second parameter setting can be adjusted.
이 방법은 또한 조직 영역 표면의 운동을 관찰하는 것을 포함하는, 신경 자극을 관찰하기 위하여 제1 파라미터 설정에서 자극 모드로 디바이스를 활성화하는 것을 포함할 수 있다. 이 방법은 또한, 신경과 연관된 적어도 하나의 근육 위에 근전도검사를 시행하는 것을 포함하는, 신경 자극을 관찰하기 위하여 제1 파라미터 설정에서 자극 모드로 디바이스를 활성화하는 것을 포함할 수 있다. 추가로, 신경 자극을 관찰하기 위하여 제1 파라미터 설정에서 자극 모드로 디바이스를 활성화하는 것은 측정 전극을 사용하여 신경과 연관된 적어도 하나의 근육의 전기 임펄스를 측정하는 것을 포함한다.The method may also include activating the device in the stimulation mode at the first parameter setting to observe the nerve stimulation, including observing movement of the tissue area surface. The method may also include activating the device in the stimulation mode at the first parameter setting to observe the nerve stimulation, including performing an electromyography test on at least one muscle associated with the nerve. In addition, activating the device in the stimulation mode in the first parameter setting to observe the nerve stimulation comprises measuring the electrical impulse of the at least one muscle associated with the nerve using the measurement electrode.
또 다른 예에서, 본 발명은 조직 영역에서의 신경 치료 방법을 포함한다. 일 변형에서, 이 방법은 제1 위치에서 디바이스를 조직 영역 내로 위치시키고; 디바이스의 작동 단부로부터 제1 거리 내에서 신경을 자극하도록 구성된 제1 설정을 이용하여 제1 위치에서 디바이스를 통해 조직 영역에 에너지를 인가하고; 신경 자극을 관찰하고; 제1 거리보다 작은, 디바이스의 작동 단부로부터의 제2 거리 내에서 신경을 자극하도록 구성된 제2 설정을 이용하여 제2 위치에서 디바이스를 통해 조직 영역 내로 에너지를 재인가하고; 제1 위치보다 제2 위치가 신경에 보다 근접한 여부를 결정하기 위하여 제2 설정에서 신경이 자극되는 여부를 재측정하고; 제2 설정을 이용하여 제2 위치가 신경에 보다 근접한지 신경의 자극을 관찰할 때 디바이스를 이용하여 신경 신호를 전달하기 위한 신경의 성능에 영향을 미치도록 에너지를 인가하는 것을 포함한다.In another example, the invention includes a neurotherapeutic method in a tissue area. In one variant, the method includes positioning the device in a tissue region at a first location; Applying energy to the tissue region through the device at a first location using a first configuration configured to stimulate the nerve within a first distance from the operative end of the device; Observe nerve stimulation; Re-applying energy into the tissue region through the device at a second location using a second configuration configured to stimulate the nerve within a second distance from the working end of the device, the first distance being less than the first distance; Re-measuring whether the nerve is stimulated in a second setting to determine whether the second position is closer to the nerve than the first position; And applying energy to affect the performance of the nerve to transmit the nerve signal using the device when observing the nerve stimulation that the second position is closer to the nerve using the second setting.
이 방법은 신경에 에너지를 인가 후에 디바이스가 제1 설정으로 재설정하는 것을 포함할 수 있으며, 이 방법은 디바이스를 제2 설정으로 재설정하는 것을 포함하고, 이 방법은 또한 디바이스를 제2 설정으로 재조정하고 이어서 디바이스의 작동 단부로부터의 제2 거리 내에서 신경을 자극하도록 구성된 제2 설정을 이용하여 후속 위치에서 디바이스를 통해 조직 영역에 에너지를 재인가하는 것을 포함한다.The method may include resetting the device to a first setting after application of energy to the nerve, the method comprising resetting the device to a second setting, the method further comprising re-adjusting the device to a second setting And then reapplying energy to the tissue region through the device at a subsequent location using a second configuration configured to stimulate the nerve within a second distance from the working end of the device.
이 방법은 또한 신경을 따라 다수의 치료 영역을 생성하도록 신경에 대해 일정한 방향으로 디바이스를 이동시키는 것을 포함할 수 있다. 신경에 대해 일정한 방향으로 디바이스를 이동시키는 것은 디바이스를 신경을 따라 제1 위치로부터 멀리 있는 전방 방향으로 이동시키는 것을 포함하므로 신경과 연관된 근육은 신경 자극 동안 자극될 수 있다. 추가적인 변형에서, 디바이스를 제1 위치와 제2 위치에 배치하는 것은 천자 부위로부터 디바이스를 제거하지 않고 발생한다.The method may also include moving the device in a predetermined direction relative to the nerve to create a plurality of treatment areas along the nerve. Moving the device in a certain direction relative to the nerve involves moving the device along the nerve in a forward direction away from the first position so that the muscle associated with the nerve can be stimulated during nerve stimulation. In a further variation, placing the device in the first position and the second position occurs without removing the device from the puncture site.
이 방법은 추가로 제2 위치에서 에너지를 재인가하기 전에 조직 영역으로부터 디바이스를 제거하지 않고 복수의 방향들로 디바이스를 이동시키는 것을 포함한다. 이 방법은 또한 조직 영역에 에너지를 인가하기 전에 제1 위치 부위에서 조직 영역에 또는 근처에 마취제를 주입하는 것을 포함할 수 있다.The method further includes moving the device in a plurality of directions without removing the device from the tissue region prior to reapplying energy at the second location. The method may also include injecting an anesthetic at or near the tissue region at a first location site prior to applying energy to the tissue site.
또 다른 변형에서, 일 방법은, 자극 에너지와 치료 에너지를 인가하도록 구성된 디바이스의 작동 단부를 제1 위치에서 조직 영역 내로 위치시키는 것을 포함하며; 자극 에너지를 공급할 때, 디바이스는 적어도 제1 설정과 제2 설정을 포함하는 복수의 설정들의 하나에 설정될 수 있으며, 디바이스의 자극 면적은 디바이스가 제1 설정에서 동작될 때 더 크며, 디바이스가 제1 설정에 있을 때 치료 에너지를 인가하는 것을 방지하도록 디바이스가 구성되며; 디바이스를 제2 설정으로 동작시키고; 신경 자극에 대해 조직 영역의 응답을 관찰하고; 응답을 관찰한 때, 치료 에너지를 조직 영역 내로 인가함으로써 신경이 신경 신호를 전달하는 것을 방지하기 위하여 신경의 적어도 일 부분에 치료 에너지를 인가하며, 치료 에너지 인가 후에 디바이스는 제1 설정으로 재설정되고; 후속 위치에서 디바이스의 작동 단부를 재배치하고; 제1 설정으로부터 제2 설정으로 디바이스를 조정하고; 신경 자극을 위하여 조직 영역에서 후속 응답을 관찰하고; 및 후속 응답을 관찰한 때 치료 에너지를 인가함으로써 후속 위치에서 신경의 적어도 제2 부분에 치료 에너지를 인가하는 것을 포함한다.In yet another variation, a method includes positioning an operative end of a device configured to apply stimulation energy and therapeutic energy into a tissue region at a first location; When supplying stimulus energy, the device can be set to one of a plurality of settings including at least a first setting and a second setting, wherein the stimulating area of the device is larger when the device is operated in the first setting, 1 < / RTI >setting; Operate the device with a second setting; Observe the responses of tissue regions to nerve stimulation; Upon observing the response, therapeutic energy is applied to at least a portion of the nerve to prevent the nerve from transmitting a nerve signal by applying therapeutic energy into the tissue region, and after application of the therapeutic energy, the device is reset to the first setting; Rearranging the working end of the device in a subsequent position; Adjusting the device from the first setting to the second setting; Observe subsequent responses in the tissue region for nerve stimulation; And applying therapeutic energy to at least a second portion of the nerve at a subsequent location by applying therapeutic energy when observing a subsequent response.
이 방법은 신경을 따라 다수의 치료 구간을 생성하기 위하여 신경에 대해 일정한 방향으로 디바이스를 이동시키는 것을 포함할 수 있다.The method may include moving the device in a predetermined direction relative to the nerve to create multiple treatment intervals along the nerve.
또 다른 변형에서, 신경의 치료 방법은, 임계 자극전류 설정에서 또는 그 위에서 프로브가 치료 에너지를 인가하는 것이 방지되는, 임계자극 전류 설정을 포함하는 단일 세로방향 프로브를 조직 영역 내로 삽입하고; 프로브 팁을 신경을 향하여 인도하고; 프로브를 통해 자극 전류를 공급하여 신경과 연관 근육의 운동을 시작하며; 프로브의 자극 면적이 감소하도록 임계 자극전류 설정 아래로 자극 전류 설정을 저하시키며; 신경을 향하여 조직 영역 내의 프로브를 이동시키며; 근육이 운동하도록 신경을 자극하여 신경 위치가 프로브의 감소된 자극 면적 내에 있는 것을 확인하는 것을 포함하고; 근육의 운동을 관찰할 때 신경을 가열하기 위하여 전류를 인가하고, 전류 인가 후에 자극전류 설정이 임계자극전류 설정 위로 재설정된다.In yet another variation, a method of treating a nerve includes inserting a single longitudinal probe into a tissue region that includes a critical stimulation current setting, wherein the probe is prevented from applying therapeutic energy at or above a threshold stimulation current setting; Directing the probe tip toward the nerve; Initiate the movement of the nerve-associated muscles by supplying a stimulating current through the probe; Decreasing the stimulation current setting below the threshold stimulation current setting such that the stimulation area of the probe is reduced; Move the probe within the tissue region towards the nerve; Stimulating the nerve to move the muscle so that the nerve position is within the reduced stimulation area of the probe; When observing the movement of the muscle, a current is applied to heat the nerve, and after application of the current, the stimulation current setting is reset to the critical stimulation current setting.
본 발명은 또한 조직 영역에서 신경을 치료하기 위한 시스템을 포함하는 데, 이 시스템은: 조직 영역에 배치하기 위한 작동 단부를 가지는 프로브; 치료 모드와 자극 모드에서 프로브를 작동시키기 위하여 전원을 공급하도록 구성된 콘트롤러를 포함하며; 상기 콘트롤러는 또한 적어도 제1 자극 설정과 제2 자극 설정을 포함하는 복수의 자극 설정들 사이에서 조정가능하도록 구성되고 제2 자극 설정으로 설정되지 않을 때 치료 모드에서 전원을 인가하는 것이 방지되도록 구성되며, 제2 자극 설정에서의 프로브의 유효 자극 면적은 제1 자극 설정에서의 프로브의 유효 자극 면적에 비교해서 감소되므로 프로브의 작동 단부는 신경을 자극하기 위하여 제1 자극 설정에서보다 제2 자극 설정에서 신경에 보다 근접하여야 하며; 및 콘트롤러는 치료 모드에서 전원을 인가 후에 제1 자극 설정으로 재설정되도록 구성된다.The present invention also encompasses a system for treating neurons in a tissue area comprising: a probe having an operative end for placement in a tissue region; A controller configured to supply power to operate the probe in a treatment mode and a stimulation mode; The controller is also configured to be adjustable between a plurality of stimulation settings that include at least a first stimulus setting and a second stimulation setting and to prevent powering in a treatment mode when the second stimulation setting is not set , The effective stimulation area of the probe in the second stimulation setting is reduced relative to the effective stimulation area of the probe in the first stimulation setting so that the working end of the probe is in the second stimulation setting rather than the first stimulation setting Closer to the nerve; And the controller is configured to be reset to a first stimulus setting after power is applied in the treatment mode.
시스템은 프로브의 작동 단부위의 구멍에 유체 연결되는 마취제 공급부를 포함할 수 있다. 일부 변형들에서, 제1 자극 설정은 고정된다. 대신해서, 또는 조합으로서, 제2 자극 설정은 조정할 수 있다.The system may include an anesthetic supply that is fluidly connected to an aperture in the operative end of the probe. In some variations, the first stimulus setting is fixed. Alternatively, or in combination, the second stimulation setting can be adjusted.
시스템은 작동 단부 위에 에너지 전달 섹션을 포함할 수 있으며, 이 에너지 전달 섹션은 적어도 프로브에 세로 방향으로 이격되는, 제 1전도 부분과 제 2 전도 부분을 포함한다. 제1 전도 부분과 제2 전도 부분은 전기 절연재에 의하여 분리된 다.The system may include an energy transfer section above the working end, the energy transfer section comprising a first conducting portion and a second conducting portion, at least longitudinally spaced apart from the probe. The first conducting portion and the second conducting portion are separated by an electrical insulating material.
이 시스템의 변형들은 작동 단부 위에 제1 전도 부분과 제2 전도 부분 사이에 위치된 유체 포트를 포함할 수 있다.Variations of this system may include a fluid port located between the first conducting portion and the second conducting portion on the working end.
일부 변형들에서, 온도감지 요소가 제1 전도 부분과 제2 전도 부분 사이에 위치된다.In some variations, a temperature sensing element is positioned between the first conducting portion and the second conducting portion.
이 시스템은 또한 작동 단부에 조명 소스를 포함할 수 있다. 조명 소스는 자극 에너지 양에 비례하는 변조 플래시 속도를 포함할 수 있다.The system may also include an illumination source at the working end. The illumination source may include a modulated flash rate that is proportional to the amount of stimulus energy.
디바이스는 또한 단일 축 프로브의 길이를 따라 작동하도록 배치되는 루멘을 포함할 수 있다.The device may also include a lumen arranged to operate along the length of the single axis probe.
본 발명은 또한 유동가능한 물질을 가지는 저장조와 함께 사용하고 피부 아래 조직을 자극하고 치료하기 위하여 자극 에너지 소스와 치료 에너지 소스와 함께 사용하기 위한 전기수술 디바이스를 포함할 수 있다. 예컨대, 이 디바이스는, 디바이스 본체; 상기 디바이스 본체의 일부로부터 연장하고, 상기 디바이스 본체의 조종에 의하여 조직 내에서 프로브가 이동할 수 있도록 구성된 단단한 프로브; 상기 프로브의 작동 단부에 위치된 말단 전극; 상기 말단 전극 및 근접 전극에 치료 에너지를 인가하면 상기 근접 및 말단 전극들 사이에 걸친 조직 영역에 손상을 발생하기 위하여 상기 말단 및 근접 전극들이 자극 에너지 및 치료 에너지 소스에 결합가능하도록 상기 말단 전극으로부터 근접하게 이격된 다일 프로브 위에 위치된 근접 전극; 유동성 물질이 조직 영역으로 향하도록 프로브 축에 직교하는 방향으로 유동성 물질을 공급하도록 적어도 하나의 유체 포트가 향해지는, 상기 말단 전극과 근접 전극 사이에 위치되고 하나 이상의 유체 포트들을 가지는 유체 공급 슬리브를 포함한다.The present invention may also include an electrosurgical device for use with a reservoir having flowable material and for use with a stimulating energy source and a therapeutic energy source to stimulate and treat subcutaneous tissue. For example, the device comprises: a device body; A rigid probe extending from a portion of the device body and configured to allow movement of the probe within the tissue by manipulation of the device body; A distal electrode positioned at an operative end of the probe; And applying a therapeutic energy to the distal electrode and the proximal electrode to cause damage to the tissue region across the proximal and distal electrodes, wherein the distal and proximal electrodes are proximate to the distal electrode A proximal electrode positioned on a dail probe spaced apart; And a fluid supply sleeve positioned between the distal electrode and the proximal electrode and having at least one fluid port for directing the at least one fluid port to supply the fluid material in a direction perpendicular to the probe axis such that the fluid material is directed to the tissue region do.
이 디바이스는 또한 프로브의 팁으로부터 조직 내로 공급되는 축방향으로 유동가능한 물질을 공급하는 유체 공급 루멘(lumen)을 포함할 수 있다.The device may also include a fluid supply lumen for supplying axially flowable material supplied into the tissue from the tip of the probe.
본 발명은 또한 여기 기술된 치료를 수행하거나 실행하기 위한 시스템들을 포함한다. 그러한 시스템은, 디바이스와 콘트롤러를 포함하며, 조직 영역에 신경을 치료하기 위한 시스템을 포함하는 데, 상기 콘트롤러는 작동 단부를 가지는 디바이스에 결합되고 자극 모드와 에너지 공급 모드를 포함하고, 자극 모드는 작동 단부로부터의 제1 거리에서 신경을 자극하는 적어도 제1 파라미터 설정과, 작동 단부로부터 제2 거리에서 신경을 자극하는 제2 파라미터 설정을 포함하고, 제1 거리는 제2 거리보다 크며, 디바이스는 자극 모드가 제1 파라미터 설정에 있을 때 에너지 공급 모드의 활성화를 방지하도록 구성되며; 디바이스의 작동 단부가 조직 영역에 있고 자극 모드에서 활성화된 때 콘트롤러는 신경을 자극할 수 있도록 제1 파라미터 설정에서 에너지를 제공하고; 및 디바이스의 작동 단부가 신경에 보다 근접하도록 작동 단부를 이동시키기 위하여 조직 영역에 재위치되고 제2 파라미터 설정에서 자극 모드로 재활성화된 때 콘트롤러는 에너지를 공급하여 신경을 자극할 수 있고 디바이스의 작동 단부를 신경에 보다 근접하도록 재위치한 것을 확인하며; 및 디바이스가 에너지 공급 모드에서 활성화된 때, 콘트롤러는 미리 정해진 치료 설정에서 신경에 제1 치료 구간을 생성하기 위하여 에너지를 공급하고, 에너지 공급 모드로 디바이스를 활성화시키면 콘트롤러는 제1 파라미터 설정을 재설정한다.The invention also includes systems for performing or implementing the treatment described herein. Such a system includes a device and a controller and includes a system for treating a nerve in a tissue area, wherein the controller is coupled to a device having an operating end and includes a stimulation mode and an energy delivery mode, At least a first parameter setting for stimulating the nerve at a first distance from the end, and a second parameter setting for stimulating the nerve at a second distance from the working end, wherein the first distance is greater than the second distance, Is configured to prevent activation of the energy supply mode when the first parameter setting is in the first parameter setting; When the working end of the device is in the tissue region and activated in the stimulation mode, the controller provides energy in the first parameter setting so as to stimulate the nerve; And when the operating end of the device is repositioned in the tissue region to move the working end closer to the nerve and reactivated to the stimulation mode in the second parameter setting, the controller can energize to stimulate the nerve, Confirming that the end is repositioned closer to the nerve; And when the device is activated in the energy supply mode, the controller supplies energy to generate the first treatment interval in the nerve at the predetermined treatment setting, and activates the device in the energy supply mode, and the controller resets the first parameter setting .
시스템의 또 다른 변형은 신경과 연관 근육의 신경을 치료하기 위한 시스템을 포함하는 데, 이 시스템은: 조직 영역 내에 삽입하도록 구성되고, 콘트롤러에 결합된, 단일의 세로방향 프로브와; 프로브가 임계 자극전류 설정에서 또는 위에서 치료 에너지를 인가하는 것이 방지되는 상기 콘트롤러 위의 임계 자극전류 설정을 포함하며; 콘트롤러는 추가로 신경에 연관된 근육의 운동을 작동시키도록 프로브를 통해 에너지를 공급할 수 있도록 하는 자극전류 설정을 포함하며; 콘트롤러는 프로브의 자극 면적이 감소하도록 임계 자극전류 설정 아래로 자극전류 설정을 감소시키도록 추가로 구성되고; 자극전류 설정이 임계자극전류 설정 이래인 때 프로브에 의해 신경을 자극하면 프로브의 감소된 자극 면적 내에 신경 위치가 있는 것을 확인하고; 자극전류 설정이 콘트롤러 상의 임계전류 설정 아래인 때 콘트롤러 상의 치료 설정이 적용되도록 구성되고, 치료 설정에 의하여 프로브는 신경을 가열하도록 전류를 인가할 수 있으며, 프로브가 치료 설정에서 전류를 인가 후, 콘트롤러는 임계 자극전류 위로 자극전류 설정을 재설정하도록 구성된다.Another variation of the system includes a system for treating the nerves and associated muscles of the nerves, the system comprising: a single longitudinal probe configured to be inserted into the tissue region and coupled to the controller; A threshold stimulation current setting on the controller wherein the probe is prevented from applying therapeutic energy in or above the threshold stimulation current setting; The controller further includes a stimulation current setting that allows the energy to be delivered through the probe to actuate motion of the muscles associated with the nerve; The controller is further configured to reduce the stimulation current setting below a threshold stimulation current setting such that the stimulation area of the probe is reduced; Confirming that the stimulation of the nerve by the probe when the stimulation current setting is since the threshold stimulation current setting has a nerve position within the reduced stimulation area of the probe; The therapy setting is configured such that the therapy setting on the controller is applied when the stimulation current setting is below the threshold current setting on the controller and the probe can apply an electric current to heat the nerve by applying the current in the treatment setting, Is configured to reset the stimulation current setting over the critical stimulation current.
여기 설명된 시스템들은 디바이스의 작동 단부에서의 적어도 하나의 주입 포트 및 마취제 또는 약품용 유체 공급을 포함할 수 있다.The systems described herein may include at least one infusion port at the operative end of the device and a fluid supply for anesthetic or medicament.
시스템은 표적 치료 위치를 확인하기 위하여 가이드로 사용하도록 디바이스를 삽입하기 전에 신경 조직을 피부에 대응시키도록 구성된 외부 신경 자극기를 포함할 수 있다.The system may include an external nerve stimulator configured to match the nerve tissue to the skin prior to inserting the device for use as a guide to identify the target treatment location.
시스템은 제1 파라미터 설정이 제1 전류 설정을 포함하고 제2 파라미터 설정이 제2 전류 설정을 포함하도록 시스템은 구성될 수 있으며, 제2 전류 설정은 제1 전류 설정보다 더 작다. 제1 및 제2 파라미터 설정들은 고정되거나 가변일 수 있다.The system may be configured such that the first parameter setting comprises a first current setting and the second parameter setting comprises a second current setting, wherein the second current setting is less than the first current setting. The first and second parameter settings may be fixed or variable.
시스템은 또한 측정 전극을 포함할 수 있으며, 신경 자극을 관찰하기 위하여 제1 파라미터 설정에서 자극 모드로 디바이스를 작동하는 것은 측정 전극을 이용하여 신경과 연관된 적어도 하나의 근육의 전기 임펄스를 측정하는 것을 포함한다. 정해진 치료 설정이 정해진 온도를 포함하도록 시스템은 구성될 수 있다.The system may also include a measuring electrode, and operating the device in the stimulation mode at the first parameter setting to observe the nerve impulse comprises measuring the electrical impulse of the at least one muscle associated with the nerve using the measuring electrode do. The system may be configured so that the prescribed treatment setting includes a predetermined temperature.
자극 모드가 제1 파리미터 설정에 있을 때 에너지 공급 모드를 적용할 수 있도록 디바이스 또는 콘트롤러가 수동 오버라이드를 포함하도록 소정의 시스템들은 구성될 수 있다.Certain systems can be configured such that the device or controller includes a manual override so that the energy supply mode can be applied when the stimulation mode is in the first parameter setting.
부품들의 조합과 다양한 구성의 상세한 내용을 포함하는 본 발명의 상기 및 다른 특징들, 그리고 다른 이점들은 첨부 도면들을 참조하여 보다 구체적으로 설명될 것이며 특허청구범위에 기재될 것이다. These and other features of the present invention, including combinations of parts and details of various configurations, and other advantages will be more fully described with reference to the accompanying drawings, and will be described in the claims.
본 발명을 실현하는 특별한 방법과 디바이스가 본 발명의 제한이 아닌 단지 예로서 도시되는 것이 이해될 것이다. 본 발명의 원리와 특징은 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 다양하고 많은 실시예들에 적용될 수 있다.It is to be understood that the specific methods and devices for implementing the invention are shown by way of example only and not as limitations of the invention. The principles and features of the present invention may be applied to various embodiments without departing from the scope of the present invention.
기재 없음Not listed
여기 설명된 방법, 디바이스, 및 시스템들의 상기 및 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 다른 도면들을 일관해서 같은 참조 번호들은 같은 부품들을 표시하는, 첨부 도면들을 관련하여 이하의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. 도면들은 반드시 크기를 표시하지 않으며, 본 발명의 원리를 예시하기 위하여 강조가 이루어진다.
도 1은 신경의 치료 및 자극을 위해 구성된 디바이스의 예를 예시한다.
도 2는 저장조 공급 부재 및 콘트롤러/파워 서플라이에 결합된 치료 디바이스의 또 다른 변형을 예시한다.
도 3A는 센서들을 가진 적어도 하나의 에너지 전달 영역 및/또는 작동 단부에 위치된 유체 공급 포트를 가지는 단일 축 프로브의 작동 단부의 변형을 예시한다.
도 3B는 여기 설명된 디바이스의 작동 단부들의 또 다른 변형을 예시한다.
도 3C는 조직 내에서 에너지 전달 영역의 조직에 위치되고 및 조직 내에 생성된 병소를 생성하는 디바이스의 예를 도시한다.
도 4A 내지 4G는 환자 치료를 실행하기 위하여 사용된 때 여기 설명된 시스템 및 디바이스의 용도를 예시한다.
도 5는 디바이스의 치료 부분들 사이에 물질을 공급하는 디바이스에 유체 포트들이 위치된 이중 기능 디바이스의 또 다른 특징을 예시한다.
도 6A와 6B는 치료 이점을 발생하는 치료 장소를 생성하는 다양한 추가적인 예들을 예시한다.
도 6C는 여기 설명된 방식으로 경직된 신경에 생성된 또 다른 병소들의 예를 예시한다.
도 7은 바이-폴라 드라이버 시스템을 예시한다.
도 8A는 바이폴라 니들의 개략적인 도면이다.
도 8B는 분할된 바이폴라 니들의 개략적인 도면이다.
도 9A는 원추형 바이폴라 프로브의 확대된 측면도이다.
도 9B는 중공 치즐의 바이폴라 프로브의 확대 측면도이다.
도 9C는 테이퍼된 원추형 바이폴라 프로브의 확대된 측면도이다.
도 9D는 분할된 원추형 바이폴라 프로브의 확대된 측면도이다.
도 10은 바이폴라 드라이버 시스템의 개략적인 도면이다.
도 11A는 보조 프로브 없는 절제 수술이다.
도 11B는 보조 프로브를 구비한 절제 수술이다.
도 12A는 신경 절제용 하이브리드 바이폴라 니들의 측면도이다.
도 12B는 종양 절제용 하이브리드 바이폴라 니들의 측면도이다.
도 13A는 보조 신경 프로브의 측면도이다.
도 13B는 보조 이중-말단의 신경 프로브의 측면도이다.
도 14는 보조 신경 프로브(들)를 가진 안내된 절제 수술의 측면도이다.
도 15는 전기 수술 파형들의 예를 도시한다.
도 16A-B는 콘트롤러 및 프로브 데이터 베이스 구조이다.
도 17은 시각적으로 안내된 절제 수술의 측면도이다.
도 18은 균등한 표면적의 전극들을 가지는 단일축 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 19는 다른 표면적의 두 개의 전극들을 가진 단일 축 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 20은 다른 표면적의 두 개의 전극들을 가진 단일 축 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 21은 3개의 전극들을 가지는 단일축 전기 수술 프로브의 측면도이다.
도 22는 3개의 전극들과 굽은 핸들 부분을 가지는 단일 축 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 23은 신경을 가로지르는 다수의 전극들을 가지는 단일 축의 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 24는 신경에 평행인 다수의 전극들을 가지는 단일 축 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 25는 일정한 전극으로 신경을 가로지르는 다수의 전극들을 가지는 단일 축의 전기수술 프로브의 측면도이다.
도 26은 본 발명에 일치하는 치료 에너지 프로토콜의 표에 의한 표현이다.
도 27은 본 발명에 일치하는 치료 에너지 프로토콜의 그래프 표현이다.These and other objects, features, and advantages of the methods, devices, and systems described herein will become apparent from the following detailed description, taken in conjunction with the accompanying drawings, in which like reference numerals designate like parts and in which: FIG. The drawings are not necessarily to scale, emphasis is given to illustrate the principles of the invention.
Figure 1 illustrates an example of a device configured for treatment and stimulation of neurons.
Figure 2 illustrates another variation of a treatment device coupled to a reservoir supply member and a controller / power supply.
3A illustrates a variation of the working end of a single axis probe having at least one energy transfer region with sensors and / or a fluid supply port located at the working end.
Figure 3B illustrates another variation of the operating ends of the device described herein.
3C shows an example of a device that is located in the tissue of the energy transfer region in the tissue and produces a lesion created in the tissue.
Figures 4A-4G illustrate the use of the systems and devices described herein when used to perform patient care.
Figure 5 illustrates another feature of a dual function device in which fluid ports are located in a device that supplies material between the therapeutic portions of the device.
Figures 6A and 6B illustrate various additional examples of creating a treatment site that generates treatment benefits.
FIG. 6C illustrates an example of another lesion generated on a rigid nerve in the manner described herein.
Figure 7 illustrates a bi-polar driver system.
Figure 8A is a schematic illustration of a bipolar needle.
8B is a schematic illustration of a divided bipolar needle.
9A is an enlarged side view of a conical bipolar probe.
9B is an enlarged side view of the bipolar probe of the hollow chisel.
9C is an enlarged side view of a tapered conical bipolar probe.
9D is an enlarged side view of the divided conical bipolar probe.
10 is a schematic diagram of a bipolar driver system.
11A is an assisted probe-free resection procedure.
11B is a resection operation with an auxiliary probe.
12A is a side view of a hybrid bipolar needle for nerve ablation.
12B is a side view of a hybrid bipolar needle for tumor resection.
13A is a side view of an auxiliary nerve probe;
Figure 13B is a side view of the secondary dual-ended nerve probe.
Figure 14 is a side view of a guided ablation surgery with an auxiliary neuro probe (s).
15 shows an example of electrosurgical waveforms.
16A-B are a controller and probe database structure.
Fig. 17 is a side view of a visually guided ablation surgery.
18 is a side view of a single axis electrosurgical probe having electrodes of uniform surface area.
19 is a side view of a single axis electrosurgical probe having two electrodes of different surface area.
20 is a side view of a single axis electrosurgical probe having two electrodes of different surface area.
21 is a side view of a single axis electrosurgical probe having three electrodes.
22 is a side view of a single axis electrosurgical probe having three electrodes and a curved handle portion.
23 is a side view of a single axis electrosurgical probe having a plurality of electrodes across the nerve.
24 is a side view of a single axis electrosurgical probe having a plurality of electrodes parallel to the nerve.
25 is a side view of a single axis electrosurgical probe having a plurality of electrodes across the nerve with a constant electrode.
Figure 26 is a representation according to the table of therapeutic energy protocols consistent with the present invention.
Figure 27 is a graphical representation of a therapeutic energy protocol consistent with the present invention.
이하의 예시들은 여기 설명된 본 발명에 포함된 방법 및 디바이스들의 예들이다. 특수한 실시예들 자체의 조합 또는 특수한 실시예들의 측면들의 조합은 본 발명의 범위 내에 속하는 것으로 생각된다. 여기 설명된 방법들, 디바이스들, 및 시스템들은 신경 치료용, 특히 미용 목적을 위한 신경 치료에 사용되는 것으로 설명되고, 본 발명의 디바이스, 방법들 및 시스템들은 정밀한 절제 또는 에너지 적용이 필요한 신체의 다른 부분들에 사용될 수 있다.The following examples are examples of methods and devices included in the present invention described herein. It is contemplated that combinations of particular embodiments themselves or combinations of aspects of particular embodiments are within the scope of the present invention. The devices, methods, and systems described herein are described as being used for neurotherapeutic, particularly neurological treatment for cosmetic purposes, and the devices, methods, and systems of the present invention may be used to treat other Lt; / RTI >
본 발명은 여기 참조를 위하여 그 내용이 모두 포함된, 2004년 6월 7일에 출원된 공동으로 양도된 출원 제10/870,202호, 공개번호 US-2005-0283148-A1; 2015, 1월 12일 출원의 출원번호 14/594,935호, 공개 번호 US-2007-0060921-A1; 2015년 1월 12일 출원된 14/594,935호; 2009년 11월 04일 출원된 12/612,360호, 공개 번호 US-2010-0114095-A1; 2012년 8월8일 출원된 13/570,138호, 공개 번호 US-2013-0046292-A1호, 현재 특허 제8666498호; 2014년 1월 15일 출원된 제14/156,033호, 공개번호 US-2010-0114191-A1, 현재 특허 제8938302호; 및 2015년 1월 16일 출원된 출원 번호 14/599, 161호를 기초로 한다.This application claims the benefit of US Provisional Application No. 10 / 870,202, Pub. No. US-2005-0283148-A1, filed June 7, 2004, which is incorporated herein by reference in its entirety. Application Serial No. 14 / 594,935, Publication No. US-2007-0060921-A1, filed January 12, 2015; 14 / 594,935, filed January 12, 2015; 12 / 612,360, Pub. No. US-2010-0114095-A1, filed November 4, 2009; 13 / 570,138 filed on August 8, 2012, publication number US-2013-0046292-A1, present patent No. 8666498; No. 14 / 156,033 filed January 15, 2014, publication number US-2010-0114191-A1, present patent No. 8938302; And Application No. 14/599, filed on January 16, 2015, which are incorporated herein by reference.
도 1은 신경을 치료하고 위치시키도록 구성된 디바이스(100)의 일 예를 예시한다. 이하 설명되는 바와 같이, 디바이스(100)는 신경을 확인할 수 있으며 신호를 전송하기 위한 신경의 능력을 방해하기 위하여 또한 에너지를 공급할 수 있는 시스템의 일부이다. 많은 경우들에서, 에너지는 신경에 열적인 영향을 미친다. 그러나, 치료 양식이 신경 신호를 전달하기 위한 신경의 능력을 방해하도록 사용될 수 있다. 예시된 바와 같이, 디바이스(100)의 변형은 의사가 디바이스(100)를 파지하고 정밀한 자율 신경 기술을 이용하여 디바이스(100) 및/또는 작동 단부(104)를 위치시킬 수 있도록 인간공학적으로 설계될 수 있는 디바이스 본체(102)를 포함한다. 통상적으로, 그러한 배치는 손가락(4)과 엄지(6) 사이에 손(2)의 웹 또는 손(2)에서 디바이스 본체(102)를 균형을 이루어 달성할 수 있다. 그러나, 여기 설명된 디바이스와 방법들은 배치를 허용하는 많은 수의 구조들을 포함할 수 있다. 또한, 디바이스들의 변형에 의하여, 로봇 조종기 및/또는 포지셔너들과 같은 자동화된 기구를 이용하여 배치시킬 수 있다. 디바이스(100)의 변형은 좌우측 손에 의해 조작할 수 있는 특징들을 포함할 수 있다. 대신해서, 디바이스 본체(102)는 좌우측 손으로 조작할 수 있도록 대칭적일 수 있다.Figure 1 illustrates an example of a
도 1은 또한 디바이스 본체(102) 위에 설치되어 자극 모드 또는 치료 모드(therapeutic mode)에서 용이하고 안전하게 의사가 에너지를 공급할 수 있도록 허용하는 스위치(112)를 예시한다. 다시, 디바이스의 변형은 디바이스 본체(102), 예컨대, 발 페달, 들을 수 있는 명령, 또는 다른 시작 수단으로부터 외부에 있는 스위치를 포함할 수 있다. 그러나, 예시된 변형은 스위치(112)의 전방 114 및 후방 116 로킹 또는 트리거링 운동이 자극 신호의 강도를 증가시키거나 감소시킬 수 있는 로커 스위치(112)를 도시한다. 따라서, 도 1 도시의 시스템 및 여기 설명된 시스템들은 신경 자극모드 및 절제/치료 모드에서 동작할 수 있는 이중 목적 시스템을 포함한다.Figure 1 also illustrates a
이하 설명되는 바와 같이, 의사는 디바이스(100) 또는 디바이스로부터 손(2)을 이동시키지 않고, 유인 자극 및 자극의 정도(즉, 신경이 자극되는 디바이스로부터의 범위)을 조정할 수 있다. 디바이스 본체(102)는 일반적으로 3개의 동작 스위치(또는 3개의 위치들을 가진 단일 스위치)들을 포함할 수 있다. 예시된 도면들에서, 스위치(112)의 횡방향 작동/위치(114 및 116)들은 디바이스의 자극 전류(범위)를 증가시키거나 감소시킬 수 있다. 중심 작동/위치(118)는 자극 모드를 시작한다. 일단 의사가 허용가능한 치료 부위를 지정하면, 의사는 스위치의 스위치(예컨대, 152 또는 154)를 누름으로써 치료에너지 공급 모드를 시작할 수 있다. 많은 경우, 의사는 발 페달(152)을 눌러 치료 모드를 시작할 수 있다. 그러한 특징은 의도적이지 않은 치료 모드의 작동을 최소화한다. 그러나, 디바이스의 변형들은 디바이스(100)에 위치된 선택 스위치(154)의 사용을 포함한다. 추가적인 변형들에서, 치료 모드는 콘트롤러(150) 및/또는 연속 작동되는 스위치(112)로부터 작동될 수 있다. As described below, the physician can adjust the degree of attractiveness and stimulation (i. E., Range from the device from which the nerve is stimulated) without moving the
디바이스의 추가적인 변형들은 스위치의 어느 하나의 단부에 의한 에너지 공급 모드의 작동 및 도시와 같은 별개 페달 또는 스위치의 중심을 통한 자극 모드의 활성화를 포함할 수 있다. 대신해서, 또는 조합으로서, 별개의 스위치(예컨대, 154)가 디바이스 본체(102)의 어디에나 위치될 수 있다. 도 1은 디바이스 본체(102)의 전방 1/3에 위치된 밀봉된 로커 스위치(112)를 예시한다. 그러한 구조에 의하여 의사의 집게 손가락이나 엄지에 의한 용이한 작동 조작이 이루어질 수 있다. 다시, 도면은 로커 스위치를 예시하지만, 다른 단일 스위치, 복수의 스위치들, 및/또는 다중 기능을 갖는 스위치 유형들이 본 발명의 이 측면의 실시에 적합하다.Additional variations of the device may include activation of the energy supply mode by either end of the switch and activation of the stimulation mode through the center of the separate pedal or switch as shown. Alternatively, or in combination, a separate switch (e.g., 154) may be located anywhere in the
도 1은 또한 단일 축의 프로브를 포함하는 디바이스(100)의 작동 단부(104)를 도시한다. 이하 예시된 예들이 전기수술 에너지 양상을 포함하지만, 다른 에너지 양상들이 전기수술 양상에 대신해서 또는 조합으로 사용될 수 있다. 예컨대, 그러한 양상은: 냉각, 극저온(cryogenic), 열 RF, 열(저항 가열), 마이크로웨이브, 집중 또는 비집중 초음파, 열, 비열 DC, UV, 방사, 및 그의 소정의 조합이 신호를 전달하는 신경의 성능을 감축하거나 또는 달리 제어하기 위하여 채용될 수 있다.Figure 1 also shows the working
도 1은 치료를 실행하기 위하여 필요한 에너지 양상 및 신경을 위치시키기 위하여 사용된 자극 에너지를 제공할 수 있는, 파워 서플라이(150)에 결합된 디바이스(100)를 개략적으로 예시한다. 추가적인 변형들은 자극 에너지를 구동/제어하기 위하여 별도의 파워 서플라이(도시 없음)를 고려한다. 추가적인 변형들에서, 핸들(100)은 파워 서플라이를 포함할 수 있다. 파워 서플라이라는 용어는 콘트롤러가 파워 서플라이로부터 에너지 공급을 조정하는 유닛을 포함하기 위한 것이다. 따라서, 여기서 설명된 파워 서플라이(150)는 콘드롤러를 포함할 수 있다. 대안적으로, 콘트롤러는 별개의 물리 유닛을 포함한다.Figure 1 schematically illustrates a
여기 설명된 디바이스는 또한 의료 시술자에게 피드백을 제공하기 위하여 다양한 특징을 채용할 수 있다. 예컨대, 도 1은 의료 시술자에게 피드백을 제공할 수 있는 피드백 표시기를 예시한다. 피드백은 시각, 촉각, 진동, 음성, 또는 그 조합일 수 있다. 예시된 변형은 디바이스 본체(102)의 말단부를 향하는 피드백 표시기(120)를 도시한다. 디바이스의 변형들은 디바이스(100)의 소정 부분 및/또는 디바이스의 다수 위치들에 표시기들이 위치될 수 있게 허용한다. 피드백은, 디바이스가 표적 신경 또는 절제 부위의 허용가능한 범위 내에 있는 여부를 불문하고, 발전기 상태, 치료 수의 표시를 포함할 수 있다.The device described herein may also employ various features to provide feedback to a medical practitioner. For example, Figure 1 illustrates a feedback indicator that can provide feedback to a medical practitioner. Feedback can be visual, tactile, vibration, voice, or a combination thereof. The illustrated variation illustrates a
도 1은 또한 디바이스(100)의 예시적인 작동 단부(104)를 예시한다. 여기 설명된 바와 같이, 작동 단부는 통상적으로 말단부(106)를 가지는 단일 축의 프로브(105)를 포함한다. 소정의 변형들에서 말단부(106)는 작동 단부(104)를 조직 내로 삽입하기 위한 팁(tip)을 포함한다. 대신해서, 말단부(106)는 작동 단부(104)의 조직 내로의 침입을 허용하는 무딘 형상(blunt shape)을 포함할 수 있으나 조직에 대한 바람직하지 않은 부수적인 손상을 최소화한다. 작동 단부(104)는 또한 하나 이상의 에너지 공급 영역(106, 108, 110)을 포함할 것이다. 예컨대, 에너지 양상이 전기수술 디바이스를 포함하는 경우, 작동 단부(104)는 바이폴라 또는 단극 방식으로 전류를 통과시키도록 전기적으로 분리된 하나 이상의 전극(106, 108, 110)들을 포함할 수 있다.FIG. 1 also illustrates an exemplary working
여기 개시된 프로브들의 하나는 조직을 관통하여 피부 조직 위의 위치를 확인할 수 있도록 지원하기 위한 레이저 소스, 광섬유 조명, 발광 다이오드와 같은 조명 소스(107)를 포함할 수 있다. 조명 소스는 콘트롤러/파워 서플라이(150)를 통해 구동될 수 있거나 또는 디바이스 본체(102) 자체 내의 소스에 의하여 구동될 수 있다.One of the probes disclosed herein may include an
도 2는 저장조 공급 부재(170)에 연결된 치료 디바이스(100)의 또 다른 변형을 예시한다. 디바이스는 또한 디바이스(100)를 콘트롤러/파워 서플라이(150)에 연결하는 케이블(122) 또는 다른 커넥터를 포함할 수 있다. 예시된 변형에서, 커넥터는 허브(124)를 포함한다. 그러나, 대안적인 변형에 의하면, 콘트롤러(150)에 직접 배선되는 디바이스(100)가 가능하다.FIG. 2 illustrates another variation of the
도 2 도시 변형은 또한 별도의 주사기로서 저장조(170)를 도시한다. 그러나, 디바이스의 대안적인 변형들은 디바이스(100)의 케이블(122) 또는 허브(124)를 통해 작동 단부(104)에 유체로 연결되는 저장조를 포함한다. 그러한 경우, 저장조 내에서 물질의 흐름을 가압하거나 시작하는 수단이 존재할 것이다. 저장조(170)는 통상적으로 유체 소스이나 변형들은 주입가능한 미립자, 겔, 또는 다른 비유체 주입성 재료를 포함한다. 저장조(170)는 디바이스(100)의 작동 단부(104)에 소정 유형의 유체를 공급할 수 있다. 예시된 예에서, 저장조(170)는 플런저를 가진 주사기를 포함한다. 대안적인 변형들은 전기 또는 자동화된 디스펜서들에 연결된 저장조를 포함한다.The Fig. 2 variant also shows the
통상적으로, 저장조(170)의 물질은 마취 용액, 냉각액, 전도성 유체, 약, 미용제, 및/또는 다른 적절한 생물-활성제를 포함한다. 디바이스 및 방법의 변형들은 디바이스를 통해 또는 표적 위치로의 다수의 물질의 공급을 포함한다. 예컨대, 염수 용액이 조직의 임피던스를 조정하기 위하여 표적 위치로 공급될 수 있으며 마취제가 용수 유체의 공급 전, 그 동안, 또는 후에 공급될 수 있다. 이하 설명되는 바와 같이, 저장조(170)는 작동 단부에서 치료 부위에 또는 근처로 유체를 공급할 수 있도록 포트들에 유체 연통한다. 물질은, 조직의 침입 동안, 조직 내에서의 이동 동안, 및 자극 및/또는 에너지 공급 전/동안/후를 포함해서 언제나 공급될 수 있다. 물질은 매번 공급되는 제어된 분량 또는 의사가 선호하는 것을 기초로 공급되는 조정가능한 양일 수 있다. 더구나, 공급은 치료 전, 동안, 또는 후에 자동으로 발생할 수 있다.Typically, the material of
도 2는 또한 시각적인 디스플레이(150)를 가진 것으로서 콘트롤러/파워 서플라이(150)를 예시한다. 시각적인 디스플레이는 의사에 대한 치료 정보 및 디바이스 정보를 제공할 수 있다. 예컨대, 시스템은 적용된 치료의 수에 대한 정보를 제공할 수 있으며; 시스템은 치료가 성공된 여부(예컨대, 표적 부위가 미리 정해진 온도를 유지하는 여부 및 유지하는 시간)에 대한 정보를 제공할 수 있다. 시간은 또한 각 치료의 온도 및 시간 프로파일에 대한 정보를 제공할 수 있다. 예컨대, 일 변형에서 콘트롤러는 다수의 미리 정해진 선택가능한 치료 설정(예컨대, 80도, 70도 및 85°F)을 포함하고 이들 온도에서 정해진 시간(예컨대, 30초) 동안 치료 부위를 유지하려고 한다. 일부 변형들에서, 의사는 표적 부위의 위치를 기초로 사용할 설정을 결정할 수 있으며 또는 피부가 표적 부위에서 매우 얕거나 또는 얇은 여부를 결정한다. 콘트롤러는 또한 그 위에서 치료가 중단되는 중단 온도를 설정할 수 있다. 일 예에서, 중단 온도는 93°F이나 130°F로 높을 수 있다. 콘트롤러는 또한 치료 동안 온도를 감시할 수 있으며, 온도 상승이 검출되지 않으면, 콘트롤러는 치료를 중단하거나 낮은 전력양을 적용할 수 있다. 다수의 중간 온도(예컨대, 표적 온도에 도달하기까지 시간당 신체 온도 이상 x 온도)를 통해 표적 온도에 대한 단계적인 상승(step-up) 방안과 같은 추가적인 안전 수단이 채용될 수 있다. 또한, 시스템은 임피던스를 감시하고 치료가 정지되는 초대 임피던스를 설정할 수 있다. 일 예로서, 시스템은 약 2000옴(ohms)의 한계를 가진 100 내지 500옴 사이의 임피던스에 대해 감시할 수 있다.FIG. 2 also illustrates a controller /
도 2 도시 변형은 또한 위에 설명된 바와 같이, 엄지와 집게 손가락 사이에서 사용자의 손의 웹에서 균형을 이룬 디바이스 본체(102)를 가진 디바이스(100)의 한 손에 의한 작동에 적합한 인간공학적인 디바이스 본체(102)를 포함한다. 이러한 배치에 의하여, 사용자는 시스템의 자극 설정을 조정하기 위하여 전방(116) 및 후방(114) 방향으로 스위치(112)를 작동시키기 위하여 사용자가 스위치(112)에 한 손을 위치시킬 수 있다. 위에 설명된 바와 같이, 일정한 변형들에서, 전방(116) 및 후방(114) 운동에 의하여 디바이스(100)의 자극 강도를 조정할 수 있으며, 표적 위치를 적절하게 확인할 때, 사용자의 손은 신경을 자극하기 위하여 자극 에너지를 인가하기 위하여 트리거(118)를 선택할 수 있다. 의사가 일단 표적 부위를 확인하면, 의사는 소정 조직 영역의 치료를 시작하기 위하여 위에 설명된 조합으로 소정 수의 스위치(152, 154))들을 조작할 수 있다.The illustrated variant of Fig. 2 also illustrates an ergonomic device (not shown) suitable for operation by one hand of the
도 3A는 센서들에 의한 적어도 하나의 에너지 전달 영역 및/또는 작동 단부(104)에 위치된 유체공급 포트들을 가진 단일 축의 프로브(105)의 작동 단부(104)의 일 변형을 예시한다. 도 3A 도시의 변형은 제1의 또는 말단 에너지 전달 영역(122)과 근접 전달 영역(124)을 포함한다. 예컨대, 두 개의 에너지 전달 영역(122, 124)들은 RF 에너지 서플라이를 이용할 때 대향하는 극성의 전극들을 포함할 수 있다. 도시와 같이, 두 개의 전극(122, 124)들은 슬리브(130)를 관통하여 연장하는 공급 포트(132)들의 어느 측에 위치하거나 또는 저장조(도 2 도시와 같은)와 유체 연통하는 유체 공급 루멘을 형성하는 유사한 구조에 배치될 수 있다. 선택적으로, 센서(126)(온도검출소자와 같은)가 에너지 전달 영역(122 및 124)에 인접해서 위치될 수 있다.3A illustrates one variation of the working
도 3A 도시의 구조에 의해 중심 영역의 유체 및/또는 물질이 의도된 표적 영역으로 공급될 수 있다. 디바이스는 단일 유체 포트 내지 디바이스 둘레로 복수의 원주상으로 배치된 포트 또는 디바이스의 단일 측면으로 단순히 한정된 포트까지 소정 수의 유체 포트(132)들을 포함할 수 있다. 도 3A 도시의 변형은 단일 축 프로브(105)의 중심 축에 대해 반경 방향 외측으로 유체를 인도하도록 향해진 복수의 유체 포트(132)들을 도시한다. 에너지 전달 유닛들에 근접하여 포트(132)들을 위치시키는 하나의 효과는 수술 동안 목표로 되는 조직 영역으로 물질이 직접 전달될 수 있는 점이다.The structure of FIG. 3A allows fluid and / or material in the central region to be supplied to the intended target area. The device may include a predetermined number of
도 3B는 여기 설명된 디바이스의 작동 단부(104)의 또 다른 변형을 예시한다. 이 변형에서, 에너지 전달 영역(122, 124)들은 비에너지 전달 영역(130) 및 포르브(105) 내의 환형 통로로의 구멍인 유체공급 포트(132)에 의하여 분리된다. 도 3B는 또한 에너지 전달 영역(122, 124)들 사이에 하나 이상의 센서 소자(126)들이 설치될 수 있는 것을 예시한다. 일정한 변형들에서, 센서 소자(126)들은 포트(132)의 흐름 경로 외측에 배치될 것이므로 포트(132)에서 유출하는 물질은 센서(1126)의 판독에 영향을 미치지 않는다.3B illustrates another variation of the working
도 3C는 에너지 전달 영역(122, 124)들이 조직(10) 내에 병소(12)를 형성하는 조직(10)에 위치된 디바이스(100)의 예를 도시한다. 도면은 두 영역(122, 124)들 사이에 RF 전류(136)를 적용하는 것을 도시하나, 위에 설명된 바와 같이, 에너지 양상은 에너지 전달 영역(122 및 124)들 둘레에 형성되는 병소 또는 치료 지역(12)을 발생하도록 에너지 유형이 적용될 수 있다. 도시된 예는 의사가 적절한 치료 위치(예컨대, 자극 모드가 적절한 치료 위치를 확인 후)를 확인 후에 디바이스(100)의 상태를 예시한다. 도 3C는 또한 포트(132)를 통한 물질(134)의 공급을 도시한다. 예시된 변형에서, 포트(132)에 의하여 프로브 축(105)에 대해 수직이거나 반경방향으로 멀어지는 방향으로 물질을 공급할 수 있다. 위에 설명된 바와 같이, 추가적인 구조들은 동일한 장치 상에 다른 방향들로 물질을 공급하도록 향해진 포트들의 조합을 포함하는 본 발명의 범위 내에 있다. 그럼에도 불구하고, 물질은 치료 양상의 적용 전, 동안 또는 이어서 공급될 수 있다. 더욱이, 전달 영역(122 및 124)들 사이에 또는 인접해서 포트(132)를 배치하면 전달 영역으로의 물질의 표적 공급이 가능해진다.Figure 3C illustrates an example of a
예컨대, 미용 용도에서 영역에 마비제(numbing agent)를 공급하는 것이 바람직할 수 있다. 그러한 경우, 의사가 일단 디바이스의 작동 단부의 적절한 배치를 결정하면, 의사는 포트들을 통해 치료될 조직 영역으로 저장조로부터 마비제를 공급할 수 있다. 표적 지역으로의 포트의 밀접하게 근접시키면 공급되어야 할 물질 양을 최소화할 수 있다. 마비제의 양 및/또는 살포를 최소화하는 것은 마비제가 신경 자극에 반응하는 근육의 성질을 손상시킬 수 있으므로 바람직하다. For example, it may be desirable to provide a numbing agent to the area in cosmetic applications. In such a case, once the physician determines the proper placement of the operative end of the device, the physician may supply the paralysis agent from the reservoir to the tissue area to be treated through the ports. Close proximity of the ports to the target area can minimize the amount of material to be supplied. Minimizing the amount and / or application of a paralytic agent is desirable because the paralytic agent can impair the nature of the muscle responsive to nerve stimulation.
여기 설명된 바와 같이, 디바이스들은 치료적인 처리를 제공하기 위하여 소정 수의 에너지 양상을 포함할 수 있다. 따라서, 도 3A 내지 3B에 도시된 에너지 전달 영역(122 및 124)들은 RF 에너지 전극들에 제한되지 않는다. 추가적인 변형들에서, 영역들은 냉각 영역, 극저운 유체, 열RF, 저항의 열적으로 가열된 영역, 마이크로웨이브 안테나, 집중되거나 비집중된 초음파 변조기, DC 전류에 의하여 가동된 열 표면, UV, 방사, 및 그들의 조합을 포함할 수 있다. 이들 변형들에서, 무선 에너지 공급을 기초로, 두 에너지 전달 영역(122 및 124)들은 대향 극성의 전극들을 포함할 수 있다. 사용된 에너지 유형에 상관 없이, 전달 영역(122 및 124)들 사이에 센서(126)(또는 다른 센서)를 배치하는 것이 바람직할 수 있다. 그러나, 대신해서, 또는 추가적으로, 하나 이상의 센서들이 프로브(105)를 따라 또는 디바이스의 다른 부분에 위치될 수 있다.As described herein, devices may include a predetermined number of energy aspects to provide therapeutic treatment. Thus, the
도 4A 내지 4G는 환자의 치료를 실행하기 위하여 사용될 때, 여기 설명된 시스템과 디바이스의 용도를 예시한다. 도시된 예는 얼굴 근육의 운동을 제어하는 임시 신경의 가지 및/또는 하나 이상의 영역을 절제하기 위한 디바이스(100)의 용도를 예시한다. 그러나, 여기 설명된 방법들, 특징, 및 측면들은 관찰가능한/측정가능한 신체 기능을 제어하는 신경 구조에 적용될 수 있다.Figures 4A-4G illustrate the use of the systems and devices described herein when used to perform treatment of a patient. The illustrated examples illustrate the use of
도 4A는 신경 자극 및 요법 치료를 제공하기 위하여 여기 설명된 치료 디바이스(100)이 이중 목적 모드로 작동될 수 있는 시스템에 유사한 시스템의 특징을 예시하기 위한 것이다. 일 변형에서, 자극 기능은 신경 자극 모드에서 작동하도록 프로브(105)의 작동 단부(104)의 에너지 전달 표면(122 및 124)들 사이에서 펄스 직류를 통과시킨다. 추가적인 변형에서, 신경 자극모드는 이 기술 분야의 통상의 전문가에 의해 알려져 있는 바와 같이 근육을 통해 신경을 확인하기 위하여 교류(또는 RF 생성 전류)를 제공할 수 있다. 상관 없이, 자극 모드에 사용될 때, 디바이스(105)의 작동 단부(104)는 신경이 제어하는 근육의 운동을 생성하는 신경을 자극하기 위하여 조직에 전류를 인가한다. 이러한 운동은 물리적으로 관찰될 수 있거나(예컨대, 근육 운동을 위한 필링에 의하여) 또는 시각적으로 관찰될 수 있다(예컨대, 얼굴의 어느 부분 또는 어느 근육이 운동을 가지는 지를 의사가 관찰하고 자극할 때). 더구나, 운동을 검출하기 위하여 소정 수의 속도조절 디바이스 또는 카메라 디바이스가 사용될 수 있다.FIG. 4A is intended to illustrate the features of a similar system to a system in which the
디바이스(100)는 신경을 자극하는 복수의 설정들에서 동작할 수 있다. 디바이스의 작동 단부가 충분히 신경에 근접하면, 거리는 인가된 전류 파라미터들에 의존한다(예컨대, 전류 양 또는 전류 진폭). 전류의 주기에 의하여 의사나 감지/확인 수단에 의하여 관찰될 수 있는 다른 근육의 이완이나 수축을 유발한다. 전류의 진폭은 프로브 본체로부터 또는 콘트롤러로부터 조정될 수 있다. 자극의 강도는 전류의 진폭과 모터 신경의 근접성에 직접 연관된다. 의사가 신경에 근접할수록 그/그녀는 자극 전류 양을 감축시킬 수 있고 여전히 근육 수축을 관찰할 수 있다. 자극 전류가 낮고(≪.7mA ) 근육 수축이 관찰될 때, 프로브 전극들은 표적 모터 신경에 근접하게 배치된다. 일 작동 예에서, 낮은 자극 전류(예컨대, .7 milliamps)가 디바이스의 작동 단부의 2mm 내에 신경 자극을 생성하였음을 발견하였다. 디바이스가 일정한 신경 범위 내에 있음을 알면, 시스템은 해당 범위 내에서 영향을 미치는 에너지를 인가할 수 있다.The
예컨대, 현재 예에서, 신경/근육이 임계 자극 에너지를 사용하여 자극되면(예컨대, 낮은 자극 전류), 이어서 의사 및/또는 감지 확인 수단은 디바이스의 작동 단부가 표적 조직의 유효 거리 내(예컨대, 신경)에 위치되는 것을 확인할 것이므로 표적 조직을 휠씬 지나서 조직을 에워싸거나 바람직하지 않은 병존 손상을 생성하지 않고 제어된 방식으로 치료 에너지를 인가할 수 있다. 일 변형에서, 임계 자극 에너지/전류를 사용한 자극에 의하여 시스템은 치료 에너지를 공급하고 정해진 시간 동안 정해진 표적 치료 온도를 유지하면서 자극 에너지를 적용할 수 있다. 의사 및/또는 감지 확인수단은 표적 조직(즉, 신경) 위의 유효 치료 종점이 도달되었음을 확인할 것이다. 전극 또는 치료 면적 또는 전극의 디자인은 또한 디바이스의 범위(병소 크기, 형상, 용적, 및 등온선)에 영향을 미칠 수 있음을 이해한다. 모터 신경을 위치시킨 후, 무선 에너지는 조직을 가열하고 신경 기능을 금지하기 위하여 동일한 전극들을 통해 인가된다. RF 병소가 두뇌와 근육 사이의 신경 통신 상에 위치되면 근육은 저해되고 환자는 더 이상 근육을 가동할 수 없다.For example, in the current example, if the nerve / muscle is stimulated using critical stimulation energy (e. G., Low stimulation current) then the physiological and / or sensory verification means is operative to determine that the working end of the device is within the effective distance of the target tissue ), The therapeutic energy can be applied in a controlled manner without significantly surrounding the tissue beyond the target tissue or creating undesirable co-existing damage. In one variant, by stimulation with critical stimulation energy / current, the system can apply the stimulation energy while supplying the therapy energy and maintaining the defined target treatment temperature for a set period of time. The physician and / or the detection confirmation means will confirm that the effective treatment endpoint on the target tissue (i.e., nerve) has been reached. It is understood that the design of electrodes or treatment area or electrodes may also affect the extent of the device (lesion size, shape, volume, and isotherm). After positioning the motor nerve, the radio energy is applied through the same electrodes to heat the tissue and inhibit nerve function. When the RF lesion is placed in the nerve communication between the brain and the muscle, the muscle is inhibited and the patient can no longer operate the muscle.
도 4A는 자극 모드에서의 두 가지 파라미터 설정들의 영향을 표시한다. 제1 파라미터 설정에서, 디바이스(100)는 제1 거리(142)에서 조직의 신경을 자극할 수 있다. 제2 파라미터 설정에서, 디바이스(100)는 제2 거리에서 신경을 자극한다. 도 4A 도시와 같이, 제1 거리는 제2 거리보다 더 크다. 그러한 정밀성에 의하여 의사는 일반적으로 표적 신경을 위치시키기 위하여 제1 파라미터 설정에서 시스템을 작동시킬 수 있다. 디바이스(100)의 작동 단부(104)를 위치시키기 위하여, 의사는 제2 파라미터 설정으로 변경하고 표적 신경에 의하여 통제되는 근육의 수추과 이완을 검사한다. 디바이스(100)의 자극 범위(140)가 제한되므로, 표적 근육의 자극에 의하여 작동 단부(104)가 신경 상의 표적 부위에 근접한 것이 확인된다. 의사가 제2 파라미터 설정에서 디바이스(100)를 동작시키고 근육 운동을 관찰하지 않으면, 의사는 작동 단부가 신경에 대해 최적으로 위치되지 않은 것을 알 것이다. 명확하게, 시스템은 소정 수의 파라미터 설정을 포함할 수 있다. 더구나, 범위(140 및 142)들은 단지 예시적인 목적을 위한 것이다. 일 작용 예에서, 제2 파라미터 설정은 대략 0.7밀리암페어이고 2mm보다 작은 범위(140)에 대응한다. 다시, 파라미터 레벨들과 범위들은 어플리케이션, 조직 면적, 필요 자극 정도, 등에 따라 조정될 수 있다. 디바이스와 시스템의 또 다른 변형에서, 콘트롤러/파워 서플라이(및/또는 디바이스(100) 자체의 특징)에 의하여 디바이스가 더 작은 자극 범위(140)에 대응하는 제2 파라미터 설정으로 복귀되지 않는 한, 디바이스는 치료 모드에서 작동하는 것이 금지된다.Figure 4A shows the effect of two parameter settings in the stimulation mode. In the first parameter setting, the
또 다른 변형에서, 치료를 적용하는 것이 금지되는 대신, 요법 치료를 적용하기 위한 바람직한 모드에 있지 않다는 경고를 의사에게 시스템이 제공할 수 있다. 따라서, 시스템은 이사가 목적 의식적으로 요법 치료를 실행할 수 있도록 의사에게 오버라이드를 요청할 수 있다.In yet another variation, the system may provide a warning to the physician that the application of treatment is not prohibited, but is not in a preferred mode for applying therapy. Thus, the system may request the physician to override the director so that he or she can perform the therapist therapy purposefully.
도 4B는 표적 신경에 인접해서 피부 아래 프로브를 위치시키기 위하여 디바이스(100)의 프로브(105)를 의사가 전진시키는 접근점(20)과 임시 신경 가지(14)를 예시한다. 여기 설명되는 바와 같이, 본 발명의 변형들은 진입 손상부(20)를 최소화하고 신경(14)을 따라 정확하게 추적하도록 단일 축 프로브를 사용할 수 있다. 대안적인 변형들에서, 다축 프로브가 여기 설명된 바와 같은 가변 파라미터의 정확성으로 사용될 수 있다.4B illustrates an
도 4C는 신경(14)을 향하는 접근 구멍(20)을 통해 전진되는 디바이스의 작동 단부(104)를 예시한다. 도시와 같이, 디바이스는 제1 파라미터 설정에서 동작할 수 있으므로 자극 거리(142)는 특별한 근육에 대해 책임 있는 신경을 의사가 위치시키기에 충분하다. 구멍(20)은 예시된 바와 같은 위치로 제한되지 않는다. 프로브는 필요한 대로 신체의 어느 부분에나 접근할 수 있다. 4C illustrates the working
프로브 배치 과정 동안, 자극 전류 레벨은 디바이스 위의 하나 이상의 스위치들을 연속으로 누름으로써(위의 도 1과 2 참조) 설명된 바와 같이 증가되거나 감소될 수 있다. 시스템과 결합된 스피커는 각각의 스위치의 닫음에 의하여 자극 전류의 진폭 설정에 실질적으로 비례하는 용적 또는 주파수 또는 다른 소리 및/또는 시각 성분을 가지는 톤을 방출할 수 있다. 이러한 특징에 의하여 시술자는 발전기와 결합된 어느 레벨 다이얼이나 스위치들을 조정할 필요 없이 자극 레벨을 조정할 수 있으므로, 시술자는 중요한 프로브 배치에 집중할 수 있다.During the probe placement process, the stimulation current level can be increased or decreased as described by pressing one or more switches on the device in succession (see FIGS. 1 and 2 above). The speaker coupled to the system may emit a tone having a volume or frequency or other sound and / or visual component that is substantially proportional to the amplitude setting of the stimulating current due to the closure of each switch. This feature allows the practitioner to adjust the stimulation level without having to adjust any level dials or switches associated with the generator, allowing the practitioner to focus on an important probe placement.
일 변형에서, 의사가 신경(14)을 위치시킴에 따라, 의사는 시스템을 제2 파라미터 설정으로 조정할 수 있으므로 자극 범위(140)를 저하시킬 수 있다. 예시와 같이, 제2 파라미터 설정에 있을 때 신경(14)의 자극은 의사에게 작동 단부의 에너지 전달 부분들이 충분히 근접하고, 소정의 표적 면적(30)에 바로 인접하거나 및/또는 접촉하는 것을 알려준다.In one variant, as the physician positions the
도 4D는 디바이스가 제2 파라미터 설정에서 동작함에 따라 감소된 자극 범위(140)를 나타낸다. 근육 운동을 관찰하면, 의사는 디바이스를 이동시키지 않고 치료 에너지/치료(위에 설명된 바와 같이)를 인가하는 스위치를 동작시킴으로써 시스템의 치료 모드를 진입할 수 있다. 일단 치료 모드에서는 의사는 표적 면적(30)을 절제하거나 또는 아니면 치료할 수 있다. 위에서 설명된 바와 같이, 임계 전류를 사용할 때 표적신경의 자극이 발생하므로 시스템은 조직에 대해 공지 효과를 가지는 정해진 양의 치료 에너지를 인가함으로써(위에 설명된 바와 같이 특정 온도 및/또는 시간 동안 제어함으로써) 시스템은 신경 치료를 실행할 수 있다. 소정의 변형들에서, 치료 효과가 디바이스의 임계 자극 범위(즉, 임계 에너지, 예컨대, 도 4A의 범위(140)를 사용할 때 디바이스의 범위)를 초과하여 발생하지 않도록 정해진 양의 에너지는 확실히 설정된다.4D shows the reduced
추가적인 변형에서, 시스템은 에너지의 치료 적용 동안 근육의 수축 또는 자극을 발생하는 설정을 이용하여 시스템은 표적 면적(30)을 치료할 수 있다. 따라서, 의사는 치료 동안 관련된 근육의 자극을 관찰할 수 있다. 그러한 변형에서, 의사는 관련된 근육이 운동을 중단할 때 치료를 확인할 수 있다. 근육에 에너지를 공급하는 신경이 비활성화될 때 근육의 경련이 발생하는 것으로 믿어진다. 주파수가 충분히 낮으면(예컨대, 60Hz), 신경은 직접 비활성화된다.In a further variation, the system can treat the
도 4E는 동일한 구멍(20)을 통해 신경(14)을 따라 작동 단부(104)를 의사가 전진시키는 것을 도시하고 또한 제2 파라미터 설정의 감소된 자극 범위(140)에 반대로 더 큰 자극 범위(142)에 대응하는 제1 파라미터 설정으로 디바이스 및/또는 콘트롤러/파워 서플라이가 자동으로 재조정하거나 전환하는 시스템의 또 다른 특징을 도시한다. 위에 설명되는 바와 같이, 소정 변형들에서, 시스템이 제1 파라미터 설정에 있을 때 시스템은 치료적인 조치를 실행하는 사용을 금지한다. 소정의 변형들에서, 시스템은 단지 제2 파라미터 설정에 있을 때 치료 조치를 적용할 수 있다. 이러한 특징의 하나의 이점은 제1 치료 부위(30)로부터 제2 치료 부위(32)를 향하여 디바이스를 이동시킨 의사가 의도된 신경 및/또는 표적 부위(32)에 작동 단부의 에너지 전달 표면이 충분히 근접한 것을 보장하도록 파라미터 설정들을 제1 파라미터 설정으로 확실히 재조정하는 것이다. 도 4F는 감소된 자극 범위(140)에 대응하는 제2 파라미터 설정을 의사가 재선택하는 디바이스(100)를 도시한다. 일단 의사가 관련된 근육 운동을 확인하는 것을 통해 디바이스를 위치시키면, 의사는 디바이스를 이동시키지 않고 치료 조치를 적용할 수 있다. 도시와 같이, 제2 위치(32)는 보다 근접의 위치(30)에서 멀리 있는 신경의 가상의 세로방향 축을 따른다. 신경의 세로방향 축을 따른 그러한 “근접에서 말단”방향으로의 절제는 치료 지속 효과를 증대시키는 것으로 믿어진다.4E shows the physician advancing the working
도 4G는 의사가 세 개 위치(30, 32, 34)들에서 치료를 확인하고 생성하는 치료 과정의 변형을 예시한다. 명확성을 위하여, 예시에 의하면 작동 단부(105)는 접근 지점(20)을 통해 후퇴된다. 예시에 의하면 또한 동일한 신경에 또는 치료를 필요로 하는 하나 이상의 근육을 제어하는 신경 영역 내에 다수의 병소(30, 32, 34)를 생성할 능력을 제공하는 이중-목적의 프로브의 현저한 특징을 도시한다. 예시된 예에서, 의사는 초기 병소(30)를 생성한다. 이러한 초기 병소는 신경으로의 통신을 방해하지만, 병소(30)로부터 근육으로의 신경 부분(영역(22)으로 표시)은 여전히 손상되지 않고 유지된다. 이러한 신경의 비손상 영역에 의하여 의사는 말단 방향으로(즉, 신경을 따라 근육 영역(22)에 더욱 근접한 방향으로) 프로브를 이동시킴으로써 근육 영역(22)의 운동을 더욱 자극하도록 프로브의 자극 기능을 계속 이용할 수 있다. 이와 같은 디바이스의 운동에 의하여 의사는 동일한 신경(또는 치료를 요하는 근육을 제어하는 다른 신경 분기부) 위에 디바이스를 정확하게 재배치할 수 있다. 프로브 팁이 신경을 따라 초기 병소로부터 멀리(근육을 향하여) 이동하는 동안, 의사는 위에 설명된 바와 같은 자극과 관찰을 통해 신경을 위치시킬 수 있다. 예시된 예에서, 병소들은 세 개의 연속적인 과정들에서 생성되고 초기 병소(30), 다음 병소(32), 및 최종 병소(34)들이 연속으로 형성된다. 자극 모드에 의하여 프로브가 최종 병소에 대해 멀수록 근육 수축이 발생한다.FIG. 4G illustrates a variation of the treatment process in which the physician identifies and generates treatment at three
신경을 재배치하고 단일 신경에 다수의 병소를 적용하는 것은 장시간의 치료 효과를 보장하기 위하여 적용될 수 있다. 같은 신경(또는 같은 신경 영역)을 따른 다수의 병소들은 신호를 중계할 수 있기 전에 3개 위치들에서 신경이 치료하여야 하므로 발생한 효과의 수명을 증가시킨다. 신경들은 근접 부위에서 말단 부위로 치료하는 것으로 믿어지므로 다수의 병소들이 치료 지속의 수명을 지원하는 것으로 믿어진다. 가장 근접한 신경 손상 부위(예컨대, 30)의 치료가 의미하는 것은 보다 먼 부위의 신경 손상 부위(32 또는 34)의 치료 이전에 신경을 따라 통신이 재구축될 수 있음을 의미한다.Relocating nerves and applying multiple lesions to a single nerve can be applied to ensure long-term therapeutic effects. Many lesions along the same nerve (or the same nerve area) increase the lifetime of the effect that occurs because the nerve must be treated at three positions before it can relay the signal. Because nerves are believed to be treated at the proximal to distal site, it is believed that multiple lesions support the duration of treatment continuity. Treatment of the nearest neuronal injury site (e. G., 30) implies that communications can be reconstructed along the nerve prior to treatment of the more distant site of
도 4A 내지 4G 도시와 같이, 또 다른 변형에서, 같은 신경 위의 다수의 병소들을 생성하는 방법은 신경 위치의 개략적인 표시를 얻기 위하여 외부 자극 디바이스와 맵(map) 신경 위치를 포함한다. 이어서 조직 내로 의사는 프로브 또는 디바이스 프로브를 삽입한다. 이어서 의사는 표적 신경을 위치시키기 위하여 자극 기능을 이용한다. 변형들에서, 자극 기능은 디바이스의 자극 범위를 증가시키지만 또한 디바이스가 치료/절제 조치를 연소시키는 것을 방지하는 파라미터 설정으로 자동으로 설정된다. 의사는 이어서 신경을 정확하게 위치시키고 근육 수축을 확인하기 위하여 자극 전류를 조정할 것이다. 자극 파라미터들이 디바이스의 자극 범위를 감소시키도록 설정되면 의사는 관찰을 통해 프로브의 배치를 확인하고, 의사는 이어서 디바이스의 치료 모드를 개시할 수 있다(예컨대, 신경 신호를 전달하기 위하여 신경/조직의 성능에 영향을 미치도록 에너지를 인가하거나, 또는 신경/조작을 절제함으로써). 일부 변형들에서, 시스템은 제1 파라미터 설정으로 자동으로 재설정할 것이며, 이는 디바이스의 자극 범위를 증가시키며 치료 모드에서 디바이스가 활성화되는 것을 방지한다. 다음에, 의사는 임의로 프로브를 초기 병소로부터 멀리 있는 새로운 위치로 전진시키며 자극 및 치료를 반복할 것이다. 의사는 소정 수의 병소들을 생성하기 위하여 필요한 대로 신경을 따라 후속의 치료를 반복할 수 있다.In another variation, as shown in Figures 4A-4G, a method of generating multiple lesions on the same nerve includes an external stimulation device and a map nerve position to obtain a schematic representation of the nerve location. The physician then inserts the probe or device probe into the tissue. The physician then uses the stimulus function to locate the target nerve. In variants, the stimulus function is automatically set to a parameter setting that increases the stimulus range of the device but also prevents the device from burning the treatment / ablation measure. The physician will then adjust the stimulation current to pinpoint the nerve and confirm muscle contraction. If the stimulation parameters are set to reduce the stimulus range of the device, the physician will observe the placement of the probe through observation, and the physician can then initiate the treatment mode of the device (e.g., Applying energy to affect performance, or ablating nerves / manipulations). In some variations, the system will automatically reset to the first parameter setting, which increases the stimulus range of the device and prevents the device from being activated in the treatment mode. Next, the physician will randomly advance the probe to a new location away from the initial lesion and repeat the stimulation and treatment. The physician may repeat the follow-up treatment along the nerve as needed to create the desired number of lesions.
디바이스의 변형들은 적어도 세 개의 파라미터 설정들을 포함하며 여기서 두 개의 파라미터 설정들은 제3 파라미터 설정보다 휠씬 더 작은 자극 범위에 대응한다. 그러한 경우, 두 개의 감소된 파라미터 설정은 제1 승인 범위 및 제2의 더 미세한 범위에 대응한다. 그러한 설정에 의하여 의사는 가변 정밀도를 가지고 신경에 대해 디바이스를 위치시킬 수 있다.Variations of the device include at least three parameter settings wherein the two parameter settings correspond to a much smaller stimulus range than the third parameter setting. In such a case, the two reduced parameter settings correspond to the first acknowledgment range and the second, smaller range. With such a setting, the physician can position the device with respect to the nerve with variable precision.
도 5는 이종 기능 디바이스(100)의 또 다른 특징을 예시한다. 이러한 변형에서, 디바이스에 위치된 유체 포트는 디바이스의 치료 부분(122 및 124)들 사이에 물질(134)를 공급한다. 이 예에서, 물질은 제한된 효과 구간(44)을 생성하기 위하여 마취제 또는 마비제를 포함한다(도 5의 어둔 부분에 의해 예시된 바와 같이). 이러한 구조의 하나의 이점은 더 넓은 영역에 걸쳐 마비제를 도포하면 신경의 근육 자극 기능을 저해할 수 있는 것이다. 따라서, 마비제가 신경에 영향을 미치므로 더 이상 근육 운동을 개시할 수 없거나, 또는 제1 치료 부위로부터 멀리 있는 신경 영역들이 자극될 수 없으면, 수술의 유효성이 저해되는 것이다. 공정의 변형은 마비제를 치료 적용 단계 전, 그 동안 및/또는 후에 공급하는 것을 포함한다. 일부 경우들에서, 의사가 환자에게 근육을 수축시키는 것을 요청할 수 있으므로 환자는 치료할 근육에 대한 자율신경 제어를 유지하는 것이 바람직할 것이다. 근육을 수축하면 의사는 치료의 진행을 결정할 수 있다. 그러한 경우, 환자는 그/그녀의 근육을 수축할 수 없으므로 마취제로 얼굴이나 근육을 덮는 것이 바람직하지 않을 수 있다. 마비제의 예들은 묽은 리도카인(lidocaine) 1 또는 2퍼센트, 에피네린을 가진 리도카인, 및 셉토카인을 포함한다. 그러나, 어떠한 마비제도 사용될 수 있다.5 illustrates yet another feature of the heterogeneous
도 6A와 6B는 치료 이점을 발생하기 위하여 치료 부위를 생성하기 위한 다양한 추가 예들을 예시한다. 도 6A는 신경(14)의 별개 분기부들 위의 제2(32), 제3(34) 및 제4 병소(36)를 가진 신경의 근접 또는 주 분기부 위의 제1 병소(30)를 예시한다. 위에 설명된 바와 같이, 절제 부위의 순서는 근접 방향에서 말단 방향에 기초한다(예컨대, 삽입 지점으로부터 멀리, 또는 근육을 향하여). 도 6B는 다수의 횡방향 신경 분기부들의 치료 예를 도시한다. 도 6B 도시와 같이, 공정의 변형은 근육에 근접한 주요 신경의 “횡방향(lateral)”분기부들에 병소를 적용하는 것을 포함한다. 신경 기능을 금지하는 소정의 효과는 따라서 근육 활성에 의하여 야기된 과역동적인 얼굴 라인(주름)들을 제거하는 것은, 임시 신경의 다수 신경분기부에 단일 병소를 적용함으로써 달성된다. 필요하지 않지만, 제1 병소(30)는 접근 지점(16)에 근접하여 표적 근육으로부터 가장 멀리 위치되고, 제2 병소(32)는 제1 병소(30)로부터 멀리 형성되고 제3 병소(32)는 제2 병소(32)로부터 멀리 형성되며 각각의 병소는 임시 신경(17)의 다른 분기부에 있다.6A and 6B illustrate various additional examples for generating a treatment site to generate treatment benefits. Figure 6A illustrates the proximity of a nerve having a second 32, third 34 and
도 6C는 여기 설명된 바와 같은 방식으로 경직 신경에 생성된 병소(30)의 또 다른 예들을 예시한다. 위에 설명된 바와 같이, 본 발명의 방법들과 디바이스는 신체의 소정 수의 영역들에서 많은 수의 신경을 따라 생성될 수 있다.6C illustrates still other examples of
도 7: 바이폴라 드라이버 시스템의 대체적인 변형(Alternate variations of Bi-Polar Driver System)Figure 7: Alternate variations of Bi-polar Driver System
도 7은 시스템의 두 개의 필요한 부품, 여러 모듈들, 및 임의적인 요소를 확인한다. 공정 동안 이용되는 두 부품들은 항상 에너지 생성기/콘트롤러/데이터 저장 디바이스(400)와 프로브(371)일 것이며 디바이스(400)는 적절히 지정된 프로브를 인식할 수 있으며, 이전에 사용된 프로브의 재사용을 방지하고, 이미 설명된 적절한 에너지를 생성하고, 안전 점검을 실행하고, 데이터를 저장하고, 설명된 바와 같은 다른 기능을 수행할 수 있는 향상된 전자 시스템을 포함한다. 디바이스(400)의 주 기능들은 제한되는 것이 아닌, 빛의 발생, 위치-자극 전류의 생성, 절제 에너지의 생성, 데이터 로깅, 저장, 통신 및 복귀, 및 MIS 공정에 필수적인 다른 기능들을 포함할 수 있다. 프로브(371) 및 그의 다양한 형태들은 절제, 변형 또는 파괴될 표적 조직(101)과 연관되어 그 팁(301)의 적절한 위치를 확인하기 위하여 사용될 수 있는 단일 천공 바이폴라 공구들이다. 프로브(371)와 그 다양한 파생물은 임의로 프로브(371)의 팁(301)을 위치시키고 적절히 배치하기 위하여 사용될 수 있다.Figure 7 identifies two required components of the system, several modules, and optional elements. The two components used during the process will always be the energy generator / controller /
도 8A와 8B: 바이폴라 프로브의 동일 축척 도면8A and 8B: Schematic Schematic of Bipolar Probes
바이폴라 프로브(310)는 프로브 위의 첨점의 형태를 제외하고 도 9A-9C에 도시된 프로브(371, 372, 373)들을 표시한다. 도 9D는 분할된 복귀 프로브를 가지므로 다른 것과 다르다. 바이폴라 프로브(310)(축척대로 도시되지 않음)는 테플론, PTFE 또는 다른 절연재와 같은 적절한 생물 비활성 재료로 제조된 절연 유전체(309)와, 복귀 전극으로서 노출된 부위를 제외하고 덮는 피복 전극(302)으로 구성된다. 전도성 복귀 전극(302) 튜브는 의료용 스테인레스강, 티타늄, 또는 다른 전도성 재료로 제조된다. 중공 또는 고체인 전도성 팁의 전극(301)이 둘러싸는 유전 애자(insulator)(305)로부터 돌출한다. 309, 302, 305, 및 301의 크기들과 그 내측의 루멘의 치수(직경, 길이, 두께, 등)는 다른 표면적이 가능하도록 조정될 수 있으며 특수한 치료 용도들에 필요한 바와 같은 비전류 밀도를 발생한다.The
중공 전극(301)은 국부 마취제와 같은 약품 공급용 주사기로 자주 사용되었다. 팁 전극(301)은 임피던스 정합 네트워크(418)(도 10)을 통해 전원 증폭기(416)에 연결된다. 복귀 전극(들)(302)은 임피던스 정합 네트워크(418)를 통해 전원 증폭기(416)에 복귀 전류를 공급한다. 개시된 실시예에서 유전체 애자는 광 파이프 또는 광섬유 케이블로서 기능하는 투명한 의료용 폴리카보네이트로 제조된다. 광원 LED 또는 레이저(408)(도 10)는 피부 아래의 프로브를 안내하기 위하여, 즉, 얕은 수술을 위하여 광섬유 케이블/투명 애자(305)를 통해 프로브의 먼 단부에서 조명을 제공한다. 대체적인 실시예에서, 유전체 애자는 도 12A 도시와 같이 조명 및 보이기를 위하여 복수의 광섬유들로 대체된다.The
절제 영역(306 및 140)은 전기장 라인을 일반적으로 따르는 전극(301) 둘레로 반경방향으로 연장한다. 시술을 위하여 피부(330)에 매우 근접해서 영역(306)에서 연소 가능성이 존재한다. 연소 가능성을 최소화하기 위하여, 도 9D 도시의 분할 복귀 프로브(374)가 제공된다. 따라서 전류를 영역(306)에서 영역(140)으로 멀리 집중시키거나 또는 역으로 집중시킨다. 도 8A에서, 애자(307)는 복귀 전극을 두 섹션(302 및 303)들로 분할하고, 복귀 전류비를 0-50%로 분할하며, 이는 또한 선택적으로 작동될 수 있다. 활성 전극들은 또한 두 섹션(301 및 311)들로 분할되므로 에너지가 소정 방향으로 인도될 수 있다. 이러한 전극 구조는 프로브의 근접 부분에서 확인되고 따라서 조작자는 이에 따라 니들과 전극을 위치시킬 수 있다. 도 12A는 보다 정밀한 에너지 공급을 위한 레이저 인도 절제를 교시한다.The
도 8A: 분할된 바이폴라 프로브의 동축 도면(Isometric View of Split Bi-Polar Probe)8A: Isometric View of Split Bi-Polar Probe < RTI ID = 0.0 >
바이폴라 프로브(380)(축척대로 도시되지 않음)는 테플론, PTFE 또는 분할된 복귀 전극(302 및 303)을 덮는 다른 전기 절연재와 같은 적절한 생물학적으로 불활성인 재료로 제조된 절연 유전체(309)로 구성된다. 개시된 전도성 복귀 전극(302 및 303)들은 의료용 스테인레스강, 티타늄, 또는 다른 전기 전도성 재료로 제조된다. 중공 또는 고체인 전도성 팁의 전극(301 및 311)들이 둘러싸는 유전 애자(305)로부터 돌출한다. 중공/분할된 전도성 팁의 작동은 도 9D 도시의 프로브 팁(310)에 유사하다. 절제 영역(1203(도 10) 및 140-144)은 일반적으로 전기장 라인을 따르는 전극(301) 둘레로 반경방향으로 연장한다. 시술을 위하여 피부(330)에 매우 근접하므로 영역(306)에서 연소 가능성이 있다. 연소 가능성을 최소화하기 위하여, 도 9D 도시의 분할 복귀 프로브(311)가 사용되므로, 전류를 영역(306)에서 영역(140)으로 멀리 집중시킨다. 인접 구조물(111)에 대한 위험이 존재하는 시술의 경우, 절제 영역(1203)은 반경방향이 아닌 절제 구간이어야 한다. 개시된 분할 전극(380)에 의하여 전극 쌍(301/302 및 311/303)들에 공급된 에너지를 구분하거나 분할할 수 있다.The bipolar probe 380 (not shown in scale) consists of an insulating
쌍들 사이의 개시된 구분 또는 비율은 0-100%이다. 전극 쌍들 사이에 위치된 이중 증폭기 또는 시간 다중화(multiplexing)/전환 주요 증폭기(416)가 구조물(111)을 피해서 표적(101)에 에너지를 인도한다. 이러한 간단한 스위치 네트워크는 인접 구조물에 손상을 최소화하면서 전기 에너지를 신뢰성 있게 분배한다.The disclosed breakdown or ratio between pairs is 0-100%. A dual amplifier or a multiplexing / switching
도 9A: 원추형 바이폴라 니들(Conical Bi-Polar Needle)9A: Conical Bi-Polar Needle
바이폴라 프로브(371)는 최소로 침입하는 단일점 진입을 위한 원추 형상의 전극(301) 및 팁(351)을 개시한다. 프로브 직경(358)은 20-게이지 또는 다른 작은 게이지의 주사기 니들에 유사하고, 그러나 용도, 필요한 표면적 및 필요한 투과 깊이에 따라 더 크거나 더 작을 수 있다. 개시된 실시예에서, 전극 샤프트(302)는 대략 5mm가 절연되지 않은 30mm 길이이다. 양자의 길이와 표면적은 모두 미용 수술 또는 등 통증의 제거와 같은 다양한 용도를 충족하기 위하여 변형될 수 있다. 전도성 복귀 전극(302)은 의료용 스테인레스강, 티타늄, 또는 다른 전도성 재료로 제조된다. 개시된 실시예에서 유전 애자(305)는 폴리카보네이트와 같은 투명한 의료용 재료로 제조되는 데, 이는 광 파이프 또는 광섬유 케이블로서 이중 작용을 수행할 수 있다. 높은 조도의 광원(408) LED/레이저(도 10)가 프로브의 작동 단부에서 안내 조명(448)을 제공한다. 조명 소스 변조/플래시 속도는 도 8 교시와 같이 수용된 자극 전류(810)에 비례한다. 작은 직경의 전극에 의하여 국부 마취제와 함께 통상적으로 수행되는 최소 침입적 수술이 허용된다. 이러한 구조는 달리 설명된 바와 같은 제제의 공급을 위한 루멘들을 포함할 수 있다.The
도 9B: 중공 치즐(Chisel)9B: a hollow chisel (Chisel)
중공 치즐 전극(352)은 자주 국부 마취제, 의약품/추적 염색액과 같은 의약품을 공급하기 위한 주사기로서 사용된다. 중공 전극은 또한 샘플을 추출할 수 있다. 개시된 실시예에서 유전 애자(305)는 투명한 의료용 폴리카보네이트이며 광 파이프 또는 광섬유 케이블로서 기능한다. 신규의 이중 목적의 유전체에 의하여 프로브 직경이 감소되고 제조 비용이 절감된다. 광원(408), 통상적으로 LED 또는 레이저(도 10에 도시 없음)는 프로브의 작동 단부에서 조명(448)을 제공한다. 이는 피부 아래 프로브의 안내를 위한 조명 소스를 제공한다. 도 12A 교시와 같이, 제2 실시예에서 유전 절연재는 보이기/조명을 위하여 복수의 광섬유들로 교체/조합된다.The
도 9C: 테이퍼된 원추(Tapered Conical)9C: Tapered Conical < RTI ID = 0.0 >
바이폴라 프로브(373)는 최소한으로 침입적인 단일 점 진입을 위한 테이퍼된 원추형 프로브를 개시한다. 도 3A 교시와 같이 프로브(371)와 유사하게 구성된다. 프로브 팁은 팁 구조를 교시하기 위하여 축척으로 도시되지 않는다. 개시된 실시예에서, 전극(301)은 대략 5mm 길이이며 특정 용도와 표면적 요건들을 충족하도록 다양한 크기로 제조될 수 있다. 고체의 테이퍼된 전도성 팁의 전극(353)은 테이퍼된 유전 애자(305)로부터 돌출한다. 투명한 유전 애자(305)는 또한 조명(448)을 제공하는 높은 조도의 광원(408)(도 7)에 연결된 광 파이프 또는 광섬유 케이블로서 기능한다. 전극 조립체는 인간공학적인 핸들(388)(크기대로 도시되지 않음)에 장착된다. 핸들(388)은 절제 가동/중단 스위치(310), 절제/자극 모드 스위치(367), 확인 모듈(331) 및 케이블용 단자(1334)(도 7B)를 구비한다. 온도 센서(330)(팁에 근접 설치)는 조직 온도를 감시한다.The
도 9D: 분할된 원추형 바이폴라 프로브(Split Conical Bi-Polar Probe)9D: Split Conical Bi-Polar Probe < RTI ID = 0.0 >
도 8B와 9D 에는 이러한 프로브의 상세한 내용이 설명된다. 바이폴라 프로브(374)(축척대로 도시되지 않음)는 분할된 복귀 전극(302 및 303)들을 덮는 테플론과 같은 적절한 생물학적으로 비활성인 재료로 제조된 절연 유전체(309)로 구성된다. 전도성 복귀 전극(302)들은 의료용 스테인레스강, 티타늄 또는 다른 적절한 전도성 재료로 제조된다. 중공 또는 고체의 분할된 전도성 팁 전극(301 및 311)은 둘레의 유전 애자(305)로부터 돌출한다. 그들의 작동은 도 8A 교시와 같은 프로브 팁(380)과 유사하다. 고체인 테이퍼된 전도성 팁(311 및 301)은 투명 유전 애자(305)로부터 돌출한다. 유전 애자(305)는 또한 조명(448)을 제공하는 높은 조도의 광원(408)으로 연결된 광 파이프 또는 광섬유 케이블로서 기능한다.8B and 9D, the details of such a probe will be described. The bipolar probe 374 (not shown in scale) consists of an insulating
프로브 핸들(축척대로 도시되지 않음)은 메모리 모듈(331), 가동/중단 스위치(310) 및 모드 스위치(367)를 에워싼다. 온도 센서(330)(팁에 근접해서 위치)는 조직 온도를 감시한다. 분할 전극(380)(도 8A)에 의하여 전극 쌍(301/302) 및 (311/303)들에 공급된 에너지를 구분하고 분할할 수 있다. 이중 증폭기 또는 시간 다중화/전환 주 증폭기(416)가 전극 쌍들 사이에 위치되어 에너지를 표적(111)을 피하여 표적(101)으로 인도하고 비대칭적인 절제 용적을 생성한다. 작은 직경의 전극 니들이 단일 진입 점으로부터 주입되고 손상을 최소화하고 정확한 전극 배치를 단순화한다. A probe handle (not shown in scale) surrounds the
연결부들은 돌출된 스테인레스 전극 튜브(302)를 덮는 테이퍼된 유전 슬리브(309)로 구성된다. 절연 슬리브(309)는 적절한 생물학적으로 불활성인 재료로 제조되고, 이는 전극(302)을 덮는다. 유전 애자(305)는 원추형 팁의 전극(351 및 301)들을 절연시킨다.The connection portions consist of a tapered
도 11A: 절제 공정(보조 프로브 없음)11A: Ablation step (no auxiliary probe)
절제 프로브(371)가 삽입되고 절제될 표적 신경이 위치되는 영역(박스 531)에 자동으로 인도된다. 시험 전류(811)가 인가된다(박스 532). 프로브가 중간의 표적 신경에 근접해서 위치되면, 생리학적인 반응이 검출/관찰된다(예: 미간 만입의 제거 동안, 이마의 근육 자극이 관찰될 것임). 반응이 관찰되면, 이어서 신경 영역을 위치시키기 위하여 피부 표면에 임의적으로 표시가 부여될 수 있다. 동력이 신경을 절제하기 위한 시도로서 적용된다(박스 535). 생리학적인 반응이 관찰되지 않으면(박스 534), 프로브는 표적 신경에 더욱 근접하도록 다시 위치되고 자극 시험이 반복될 것이다(박스 536 및 537). 생리학적인 반응이 관찰되지 않으면, 시술은 종료될 수 있다(박스 544). 또한, 프로브는 위, 아래, 가까이, 멀리, 원으로, 패턴으로, 등 어느 방향으로나 이동될 수 있어서 보다 영구적인 결과를 위한 보다 넓은 절제 영역을 생성한다.The
박스(537)에서, 자극이 다시 관찰되면, 절제 전원은 더 높게 설정될 수 있고(박스 538), 대신해서, 설명된 바와 같이, 니들은 다양한 방향으로 이동될 수 있으며, 또는 신경을 통한 신호 전도의 보다 유효하거나 또는 더 영구적인 종료를 위해 큰 절제 면적을 형성하기 위하여, 더 많은 양의 에너지가 다시 인가될 수 있다. 전원 공급 후(박스 540), 자극 에너지가 다시 인가될 수 있다(박스 541). 자극이 없으면, 수술은 종료된다(박스 544). 신경을 통한 신호 흐름이 여전히 있으면(자극 또는 생리적인 반응) 이어서 프로브는 다시 위치되고(박스 542) 수술은 다시 시작된다(박스 533).At
도 11B: 프로브(771 및 772)와 같은 보조 프로브를 이용한 시각적으로 안내된 절제 수술의 흐름도Figure 11B: Flow chart of visually guided ablation surgery using ancillary probes such as
보조 프로브(771 및 772)(도 13A 및 13B)는 표적 구조물(101)을 신속하고 정확하게 위치시키고 이어서 표적 위치(755)를 표시하기 위한 방법을 제공한다. 보조 프로브들은 절제 프로브보다 더 작을 수 있다(침술용 니들과 같이). 구조물들은 통상적으로 잉크 또는 유사한 펜으로 표시되어 마크(755)로 조명된 절제 프로브(371) 또는 다른 절제 프로브가 신속하게 안내될 수 있다. 임의적으로, 비조명 프로브가 사용될 수 있으며 시술자로 하여금 프로브 팁을 단순히 느낄 수 있도록 한다. 깊은 구조물에 대해, 프로브(771)(도 8)는 전자 비컨으로 사용될 수 있다. 자극 전류와 유사하나, 더 작은 프로브 팁(702)으로부터의 작은 전류(811)는 절제 프로브(372)(도 8)를 안내하기 위하여 사용된다.The
작동(530)(도 11B)에 의하여 보조 프로브(771 또는 772)(도 13A 및 13B)를 신경(101) 근처의 근육층(들)(710)과 피부(330)를 관통하여 삽입한다. 표적(101)의 깊이(766)가 보조 프로브 마크(765)를 사용하여 측정된다(도 13A와 13B). 결정(533)은 조정이 실행되는 여부(534) 및 프로브가 제 위치에 있는 여부를 체크한다. 작동(532)에 의하여 신경자극 전류(811)가 활성화된다. 자극이 얻어지거나 생리학적인 작용이 얻어지면, 보조 프로브 팁이 제 위치에 있다. 깊이는 판독 마크(765)에 의하여 표시될 수 있고 위치 마크(755)는 작동(535)에서 제조될 수 있다. 작동(536 및 537)에서 마크 아래 프로브가 제 위치에 설치되면서, 작동(538)에서 전원 레벨(404)을 설정하고 절제 스위치(410)를 폐쇄한다. 대신해서, 자극이 달리 교시된 바와 같이 절제 프로브로부터 직접 적용될 수 있다. 작동(540)과 콘트롤러(401)는 발전기(411)(도 7)의 주파수들을 설정하고, 변조기(420) 덮개는 설정된 절제 에너지를 공급하기 위하여 전원 증폭기(416)를 작동시킨다. 영역(1203)(도 10)은 예컨대 원추형 팁(301)을 위한 절제 영역의 일반적인 형상을 도시한다.The
각각의 절제 사이에서, 박스(541)에서 수술(540)(도 11A)(신경 전도)이 시험되었다. 프로브 증폭기(416)는 전극(301) 또는 보조 프로브(771) 또는 양측으로부터 작은 신경자극 전류(811)를 공급한다. 신경전도 시험(541)을 기초로, 소정 레벨의 전도가 달성되면 수술은 종료된다. 작동(542)은 프로브를 다음 위치로 이동시키고 전도 시험(541)을 반복한다. 종료하면, 프로브(들)는 작동(544)에서 제거된다. 특수한 수술과 소정의 성능에 의하여 회수와 절제 세기/에너지가 설정된다. 시술자는 수술/전원 레벨(404)(도 7)을 선택하고 및 콘트롤러(401)는 선택된 수술과의 합치성에 대해 확인부(331)(도 7)를 통해 장착된 프로브를 비교한다. 장착된 프로브가 선택된 전원 범위(404)와 합치하지 않으면 시술자는 경보가 제공된다.Between each ablation, surgery 540 (Fig. 11A) (nerve conduction) was tested in
예로서 그리고 제한이 아니며, 5개의 절제 영역(140, 141, 142, 143, 및 144)들은 도 10에 도시된다. 절제는 영역(144)에서 시작하고, 이어서 프로브는 영역(143)으로 이동하고 등으로 영역(140)으로 이동한다. 대신해서, 이동은 삽입 동안일 수 있으며, 횡방향으로, 원형 방식으로, 또는 다른 방식으로 이동되어 표적 신경의 파괴 영역을 확대할 수 있다. 신경 응답은 각각의 절제 후에 시험될 수 있으며 이로써 시술자는 즉각 신경 전도 레벨을 검사할 수 있다. 프로브 위치와 전원 조정은 필요시 추가적인 절제를 적용하기 전에 이루어진다.By way of example, and not by way of limitation, five
여기 교시된 정확한 프로브 위치 도구 및 방법들에 의하여 최소 절제 에너지를 사용할 수 있으며 표적이 아닌 구조물의 손상을 최소화할 수 있다. 이로써 힐링 시간이 감소되고 환자의 불편이 최소화된다. 본 발명은 시술자에게 새로운 레벨의 신뢰로서 임시적이거나 영구적인 신경 전도 장애를 선택할 능력으로 수술을 제한하면서 최소 침입적인 신경 전도를 실행하기 위한 새로운 도구를 제공한다. 이러한 새로운 도구는 국부 마취제에 의하여 1시간 이하가 보통 소요되는 사무소나 외래 설정에서 통상적으로 실행되는 저가 수술을 제공한다. 외과적인 수술이 휴식을 필요로 하는 종래 기술과 비교해서 이러한 새로운 도구는 제한된 지속성의 제어(신경 재성장)를 가진 더 긴 치유 간격들을 가진다.The exact probe location tools and methods taught herein allow the use of minimal ablation energy and minimize damage to structures that are not targets. This reduces healing time and minimizes patient discomfort. The present invention provides a new tool for performing minimally invasive nerve conduction while limiting surgery with the ability to select temporary or permanent nerve conduction disorders as a new level of confidence to the practitioner. These new tools provide low-cost surgery routinely performed in offices or outpatient settings that typically require less than an hour by local anesthetics. Compared to the prior art where surgical surgery requires rest, this new tool has longer healing intervals with limited persistence control (nerve regrowth).
보조 프로브(771 및 772)(도 13A 및 13B)들은 정확하게 위치된 표적 구조물(101) 및 이어서 표시된 표적 위치(140 내지 144)을 가진다. 얕은 구조물은 잉크 펜(755)으로 표시되어 조명된 절제 프로브(371, 372) 또는 균등물이 해당 지점으로 신속하게 안내될 수 있다. 깊은 구조의 경우, 프로브(771)는 전자 비컨으로서 사용되고, 프로브 팁(702)으로부터의 작은 전류(811)가 도 14 교시와 같이 절제 프로브(372)를 안내하기 위하여 사용된다.The sub-probes 771 and 772 (Figs. 13A and 13B) have a precisely located
절제 프로브(372)는 신경(101) 근처에서 피부(330)와 근육층(710)을 관통해서 삽입되고, 조명 소스(408)에 의해서 시술자는 신속하고 정확하게 조명(448)된 절제 프로브(372)를 위치로 안내할 수 있다. 시술자(775)에 의해 보여진 절제 프로브로부터의 조명(448)은 깊이 평가에서의 추가적인 지원으로서 사용된다. 선택가능한 신경 자극 모사 전류(811)는 영역(1204) 내에서 신경(101)이 위치되는 것을 지원한다. 이러한 신규 프로브 설치 시스템은 시술자에게 신뢰를 부여하고 시스템은 시술자에게 정밀한 수술에 집중할 수 있도록 정확하게 작용한다. 정확한 프로브 위치에 의하여 절제 동안 최소 에너지를 사용할 수 있고, 표적이 아닌 구조에 손상을 초소화하고 치유 시간과 환자 불편을 감소시킬 수 있다.The
영역(1203)은 원추형 팁(301)에 대한 절제 영역의 일반적인 형상을 도시한다. 팁(301)은 표적 신경(101)에 밀착 근접해서 위치된다. 절제는 일반적으로 국부화된 일련의 절체를 필요로 한다. 절제 회수와 세기/에너지는 특정 수술과 필요한 성능에 의해 설정된다.
5개의 절제 영역(140, 141, 142, 143, 및 144)들이 예시되며; 그러나, 그 이상의 다소의 영역들이 존재한다. 절제는 영역(144)에서 시작하고, 이어서 프로브는 영역(143)으로 그리고 영역(140)으로 이동되며, 역으로, 절제는 영역(140)에서 시작하고 영역(144)으로 이동한다. 또한, 시술자는 회전 운동을 실행할 수 있으며, 이와 같이 절제 영역과 수술 성능을 증가시킬 수 있다. 각 절제 수술(540)(도 5C) 사이에서, 작은 신경자극 시험전류(811)가 전극(301)으로부터 방출된다. 신경 자극전류(811)의 대략 유효 범위는 1204로 표시된다. 각 절제 후의 신경 응답의 시험에 의하여 시술자는 즉시 신경 전도 레벨을 체크할 수 있다. 프로브(372)의 제거 없이, 시술자는 절제의 품질에 대해 즉각적인 피드백을 수용한다. 이어서 작은 프로브 위치 조정이 추가적인 절제의 실행(필요하면) 전에 이루어진다.Five
도 10은 여기 설명된 방법들과 공정과 같이 사용하기 위한 시스템의 또 다른 예를 예시한다. 우선, 프로브 전극(301)은 표적 신경(101)(도 10)에 대해 소정의 위치에 위치되고, 이어서 사용자는 선택된 전원 설정(404)(도 10)을 이용해서 스위치(410 및 310)를 통해 치료를 시작한다. 시술자는 진폭 주파수 및 변조 외피에 맞추도록 발전기(411(도 10) 및 412)를 구성하고, 5 내지 500 와트 및 50kHz - 2.5MHz의 가용 에너지를 공급한다. 합산 정합부(413)는 용도가 요구하는 대로 RF 출력을 조합하고 그들을 출력 전원 제어를 위하여 펄스-폭 변조기(415)에 이들을 조합하여 공급한다. 변조 발전기(420)의 출력은 무선 주파수(RF) 신호(422 및 423)를 가진 멀티플라이어(415)에 인가된다. 이로써 복잡한 에너지 프로파일이 시변 비직선 생물 부하에 공급된다. 이들 모든 설정은 장착된 프로브(371), 선택된 전원(403) 설정, 및 변조 발전기(420)(도 10) 설정에 의하여 발전기에 제공된 정보에 기초하고, 이들은 이어서 발전기(421)에 의하여 공급된다.Figure 10 illustrates another example of a system for use with the methods and processes described herein. First, the
예컨대, 절단에 사용된 높은 진폭의 사인파(910)(도 15)와, 응고에 사용된 펄스폭 변조된(PWM) 사인파(920)가, 전기 수술 기술 분야에 잘 알려져 있다. 정밀한 파워 속도와 평균 총 전원 한계가 얕은 수술용 피부에 근접한 연소 또는 근처 구조물의 손상을 최소화하는 누산기(integrator)(435)를 통해 제어된다. 근처 구조물(111)(도 8B)은 너무 근접해서 전극(371(도 9A)과 372(도 9B))들에 의해 피해질 수 없으며, 여기 교시된 바와 같은 추가적인 프로브 형상들이 에너지를 인도하고 더 작은 영역으로 절제를 제한하는 추가적인 방법들을 인도하여, 다른 구조들을 회피한다. 안전을 위하여, 전선 연결된 스위치(436)가 시스템 오작동의 경우 전원 증폭기를 중단하고, 프로브는 언플러그되거나 과부하 상태로 되어, 따라서 환자와 시술자를 모두 보호한다.For example, the high amplitude sinusoidal wave 910 (Fig. 15) used for cutting and the pulse width modulated (PWM)
변조기(415)의 출력은 전원 증폭기(416) 부분의 입력에 인가된다. 전원 증폭기(416)의 출력은 이어서 임피던스 정합 네트워크(418)에 공급되고, 이는 매우 가변적이고 비선형인 생물학적인 부하에 역동적인 제어된 출력을 제공하고, 전원 레벨 및 임피던스 정합 모두의 역동적인 제어를 요구한다. 정합 네트워크(418)의 전환이 프로브, 파워 레벨, 및 설정된 치료 주파수에 대해 최적의 전원 전달을 위하여 실행된다. 시스템의 피크 전원은 이러한 개시된 실시예에서 500와트이다. 정밀한 제어는 발전기 자체에 포함된 팁과 제어 루프들의 근접성에 의하여 형성된다. 최종 에너지 발전기(420)는 프로브 팁(301) 및 복귀 전극(302)에 공급된다.The output of the
지향된 절제(Directed Ablation) Directed Ablation
프로브(371(도 9A) 및 372)에서 교시된 바와 같은 프로브를 가진 실질적으로 반경방향으로-대칭인 절제 패턴들에 추가해서, 다수 전극(도 9D)들로의 전환 또는 분할 절제 전원은 비대칭 절제 구간을 발생할 수 있다. 프로브(610)를 가진 높은 조도의 소스(608)(도 12A와 12B)는 인접 구조물(111)에 대한 손상 또는 얕은 수술에서의 피부(330)의 연소를 을 최소화한다. 또한, 도 8B와 9D는 선택적이거나 비대칭적인 절제의 프로브 구조를 확인한다.In addition to the substantially radially-symmetric ablation patterns with probes as taught in probes 371 (Fig. 9A) and 372, the conversion or split resection power supply to multiple electrodes (Fig. 9D) Lt; / RTI > A high illuminance source 608 (FIGS. 12A and 12B) with
전원 피드백(Power Feedback) Power Feedback
전원 증폭기 출력(430)과 완충된 피드백 신호(437)들은 프로세서 분석 및 제어를 위하여 아날로그 디지털 컨버터(또는 ADC)에 연결될 수 있다. 상기 신호(437)들은 전원 변조 발전기(420) 설정을 제어하고 임피던스 정합 제어 신호(419)에 충격을 미친다. 이러한 통합된 전원 신호(437)는 이후 수술의 검토를 위하여 작동-조건 데이터베이스(도 16A)에 기록된다. 이러한 전원 레벨은 또한 공정 최대값에 비교해서 프로브(1492)(도 16B)로부터 취해진 판독에 비교되고, 초과되면, 이는 다시 증폭기 출력을 중단시켜, 환자를 오류 또는 설비 오작동으로부터 보호한다. 유사하게, 온도(330)와 같은 발전기 센서들과 프로브로부터의 제한은 임의적으로 변조된 전원 레벨 및 결국 수술을 종결시키거나 또는 실질적으로 감축하기 위하여 사용될 수 있다.The
여기 설명된 콘트롤러는 또한 장착된 프로브와 합치하는 여부에 대해 선택된 수술(1415)(도 16A)을 확인할 수 있다. 합치하지 않으면, 사용자는 또한 다른 전원 설정(404), 수술, 또는 프로브(371)를 선택하려고 시도한다. 프로브(371)가 전원 설정(404)과 합치하면, 시스템은 전원 증폭기(416), 가이드 광 소스(408), 및 저전압 신경 시물레이션(732)을 가동시킨다. 이들 수술들은 모두 의무적인 “손 흔듬(hand shake)" 프로토콜과 연속 정보에 의하여 실시되며, 이는 존재하고 구성되어야 하는 수술용 전기 회로에 의하여 적절하게 입증되어야 한다.The controller described herein may also identify a selected operation 1415 (FIG. 16A) as to whether it conforms to the mounted probe. If not, the user also tries to select a different power setting 404, surgery, or probe 371. When the
임상적인 수술 동안, 프로브 내에 포함된 내부 전자 기기에 의하여 정보가 전달되는 것이 필요하며, 이러한 보호를 실시하는 또 다른 방법을 이것이 제공하고, 다시 인증되지 않은 재사용을 방지한다. 최종 목표는 환자들 사이의 교차 오염을 방지하는 것이다. 프로브는 특수한, 연속의, 그리고 제공된 상기 수술에 의하여 이를 달성할 것이다.During clinical surgery, it is necessary for the information to be conveyed by the internal electronics contained within the probe, which provides another way of implementing such protection and prevents unauthorized reuse. The ultimate goal is to prevent cross-contamination between patients. The probe will achieve this by a special, continuous, and provided procedure.
일단 접속되면, 프로브는 시리얼 버스(403)를 통해 데이터 로깅 시스템에 일련 번호를 기입하고 논리 회로는 이후 발생할 수 있는 프로브의 재사용 및 교차-오염을 방지할 것이다. 더욱이, 이 프로그램은 인증되지 않은 제3자의 프로브 사용을 방지할 것인 데, 프로브들은 가동되지 않아서, 품질이 열악할 수 있으며 인증되지 않은 프로브가 사용되고 환자에게 위험을 발생하는 것을 방지한다.Once connected, the probe will write serial numbers to the data logging system via the
광학 프로브의 가이드(Optical Probe Guidance)Optical Probe Guidance (Optical Probe Guidance)
개시된 발명은 자극 소스(732)를 보충하고 예비 가이드로서 작용함으로써 프로브 배치(도 17)를 지원하는 광학 소스(408)를 제공한다. 프로브(771)는 신경 자극기 또는 보조 프로브 팁(702)으로부터 또는 해당 부품으로의 전류(811) 측정 사이에서 선택가능하다. 절제 프로브 스위치(367)는 프로브(371, 372, 373, 및 374)로부터의 저-에너지 자극기/리시버 또는 고-에너지 절제를 선택한다. 이러한 모드에서, 의사인 조작자는 설명된 다양한 수단에 의하여 피부 표면에 마크(755)를 이미 표시하였을 것이다. 의사인 조작자(775)는 이어서 광학 조명이 가동된 여부를 확인하기 위하여 팁(448)을 감시한다. 팁(448)은 마크(755)에 관련해서 팁의 위치를 표시하는 피부 아래의 광점을 제공할 것이다. 의사(775)는 이어서 해당 표적 조직(101)을 절제하도록 이들 마크(755) 아래의 정확한 정렬로 프로브 팁(301)을 안내할 것이다.The disclosed invention provides an
대체적인 프로브 구조Alternative probe structure
도 19는 세로방향 프로브 축(2001)을 가지는 단일 축의 전기수술 프로브(2000)의 대체적인 실시예의 개략적인 도면으로, 위에 설명된 프로브와 유사하다. 그러나, 도 19의 프로브(2000)는 세로방향 축을 따라 위치된 실질적으로 균등한 표면적의 전도성 전극(2002 및 2004)을 특징으로 한다. 실질적으로 균등한 표면적의 전극(301 및 302)들을 가지는 프로브(371)가 또한 위에 도시된다. 19 is a schematic diagram of an alternative embodiment of a single
균등한 전극 표면적의 실시예에서, 전도성 전극(2002, 2004)들의 하나는 위에 설명된 바와 같은 자극전류 소스 또는 절제전류 소스에 선택적으로 연결될 수 있다. 다른 전극(2002, 2004)은 연결된 전류 소스의 접지 또는 복귀 경로로서 연결되거나 연결되지 않을 수 있다. 도 19 도시의 실시예에서, 전도성 전극(2002)은 활성 전극인 절제 소스 구성 전극(2002)에 연결되도록 구성된다. 이와 같이 전극(2004)은 이 실시예에서 복귀 전극이다. 적절한 스위치에 의하여 전극(2002, 2004)들은 전류 소스 또는 복귀 라인에 연결될 수 있다. In an embodiment of equal electrode surface area, one of the
전극(2002 및 2004)들이 실질적으로 균등한 표면적을 가지므로, 활성 전극(2002)에 RF 절제 에너지를 인가할 때 형성된 국부 가열은 실질적으로 대칭인 타원 형상을 가지는 가열 구간을 발생한다.Since
도 19의 단일 축 전기수술 프로브(2000)는 또한 전도성 전극(2002 및 2004)들 사이에서 프로브 축을 따라 위치된 유전 애자(2006)를 특징으로 한다. 유전 애자(2006)는 소정의 적절한 길이를 가지며, 대체적인 길이의 애자들을 가진 프로브들이 특수한 절제 수술을 위하여 제조될 수 있다. 유전 애자(2006)의 길이를 변화시키면 전극(2002 및 2004)들 사이의 갭 치수(2008)가 변화된다. 갭 치수(2008)의 변경은 절제 구간 내의 전류 밀도를 최적화시키며, 절제 구간의 길이를 변경하고 필요하면 더 높은 접압을 사용할 수 있도록 한다. 이와 같이, 갭 치수는 특별한 용도의 절제 부피와 조직 온도의 선택을 달성하기 위하여 전극 표면적과 절제 전류와 같은 다른 파라미터들과 관련해서 선택될 수 있다. The single
도 19의 프로브(2000)는 또한 여기 설명된 바와 같은 원추형 팁(351), 파내진 팁(352), 또는 다른 유형의 팁들보다 무딘 팁(2010)을 특징으로 한다. 도 19의 무딘 팁(2010)은 유연한 둥근 프로파일을 가지며 프로브가 용이하게 전진할 수 있고 인접 조직이나 골격 구조의 절단이나 천공의 위험을 최소화하면서 피부 아래에서 조종될 수 있도록 소정 예들에서 효과적이다.이와 같이, 무딘 팁(2010)은 수술 시 생기는 멍이나 다른 정신적 외상을 현저하게 감소 시킬 것이다.The
도 19의 프로브(2000)는 센서(2012)를 포함할 수 있다. 센서는 온도 센서일 수 있다. 온도 센서는 절제 구간 내에서 능동적인 온도 감시를 제공한다. 대신해서, 소정 구조의 단일 축의 전기 수술 프로브는 전체로서 참조를 위하여 여기 포함된 코놀리(Conolly)의 미국 특허 제6,384, 384호에 의하여 교시된 바와 같은 캘만(Kalman) 필터와 같이 실시될 수 있다. 캘먼 필터는 또한 절제 부피 내에서 조직 온도를 평가하기 위하여 사용된다. 캘먼 필터는 65도에서 콜라겐의 변성과 같은 포로테인 변성에 기인하여 특정 온도에서 잘-규정된 조직 상태가 변경하는 경우 사용하기에 적절하다. 캘먼 필터 온도 모니터링은 별개 온도 센서의 공간과 비용이 피해지므로 효과적이다.The
도 20은 세로방향 프로브 축(2015)을 또한 규정하는 비대칭 단일 축의 프로브(2014)의 개략적인 도면이다. 프로브(2014)는 다른 표면적들을 가지는 제1 전도성 전극(2016)과 제2 전도성 전극(2018)을 특징으로 한다. 도 20 도시의 실시예에서, 제1 전극(2016)은 활성 전극이고 더 큰 표면적을 가지는 제2 전극(2018)은 복귀 전극이다. 활성 전극과 복귀 전극 사이의 소정의 표면적 비율을 가지는 프로브는 특수한 절제 결과를 달성하기 위하여 제조되고 사용될 수 있다. 추가적으로, 일전한 프로브의 팁에 대한 활성 전극(2016)과 복귀 전극(2018)의 상대 위치들은 전환될 수 있다. 일 실시예에서, 복귀 전극(2018)의 표면적에 대한 활성 전극(2016)의 비율은 1:3이다. 1: 8을 포함하는 다른 비율들이 특수한 결과를 달성하기 위하여 실시될 수 있다. 표면적 비율은 전극들의 일부 또는 모두를 덮거나 차단하고 이로써 유전 절연재(2019)를 형성하는 갭의 길이를 증가시키거나 또는 감소시키기 위하여 슬리브 또는 다른 메카니즘을 이용하여 조정가능할 수 있다. 일반적으로, 비대칭 전극 표면적은 더 작은 표면적을 가지는 전극에서의 RF 절제 에너지의 더 높은 전류 밀도에 기인하여 비대칭의 가열 및 절제를 발생한다. 예컨대, 도 20의 실시예의 활성 전극에 RF 에너지를 인가할 때, 활성 전극(2016)에 인접한 조직 부피는 활성 전극(2016)의 비교적 작은 표면적으로부터 발생하는 더 큰 전류 밀도에 기인하여 비대칭적으로 가열될 수 있다. 여기 교시된 바와 같은 정밀한 RF 전원 통합과 결합된 비대칭 조직 가열과 다양한 프로브 형상에 의하여 선택된 반복가능하고 제어된 절제 용적을 형성할 수 있다.20 is a schematic diagram of an asymmetric single-
도 21은 대체적인 비대칭 프로브(2020)을 개략적으로 예시하는 데, 이는 많은 측면들에서 도 20의 비대칭 프로브(2014)에 유사하다. 그러나, 도 21의 비대칭 프로브(2020)는 복귀 전극(2024)의 표면적보다 더 큰 표면적을 가지는 활성 전극(2022)을 특징으로 한다. 도 21의 실시예에서, 전류 밀도는 비교적 작은 표면적의 전극(2024)에서 더 높으며, 따라서 절제 에너지는 전극(2024)에 더 근접하고 프로브 팁으로부터 멀리 있는 전극(2022 및 2024)들 사이의 유전 애자 갭(2025)에 집중된다.FIG. 21 schematically illustrates an alternative
도 22는 다수의 전극 프로브(2026)의 일 실시예의 개략적인 도면이다. 다수의 전극의 프로브(2026)는 세로방향 프로브 축(2029)을 형성하는 실질적으로 니들-형상의 프로브 본체(2028)를 포함한다. 둘 이상의 전극들이 프로브 본체에 연관되고 프로브 축을 따라 여러 위치들에 위치된다. 도 22의 실시예에서, 전극들은 활성 전극(2030), 복귀 전극(2032), 및 자극 전극(2034)을 포함한다. 이 실시예에서, 활성 전극은 다수 전극 프로브(2026)의 팁 근처에 위치되고, 복귀 전극(2032)은 팁으로부터 멀리 위치되고 작극 전극(2034)은 활성 전극(2030)과 복귀 전극(2032) 사이에 위치된다. 서로 및 팁에 대한 여러 전극들의 위치는 특수한 절제 및 프로브 배치 이점을 달성하기 위하여 변경될 수 있음이 분명하다. 더욱이, 활성 전극, 복귀 또는 자극 전극으로서의 일정한 물체적인 전극들의 연결은 사용자의 분별에 의하여 전극과 절제 또는 자극 에너지 소스 사이의 간단한 전환 메카니즘에 의하여 변경될 수 있다. 대신해서, 별개의 접지 또는 복귀 경로(2035)는 소정의 전극 구조들에 의하여 이용될 수 있다. 다수 전극 프로브(2026)의 여러 전극들은 제1의 유전 애자(2036) 및 제2의 유전 애자(2038)에 의하여 분리된다. 도 23은 전극들에 연관된 프로브 본체(2028)의 부분에 대향하는 굽은 섹션(2040)을 추가한 도 22의 멀티-폴라 프로브(2026)를 개략적으로 예시한다. 굽은 섹션(2040)에 의하여 다시 소정 경우들에서 시술자는 최소의 불필요한 조직 손상과 함께 최적의 프로브 배치를 달성할 수 있다. 복수 전극의 프로브(2026)는 모두 위에 설명된 바와같은, 소정의 절제 결과를 달성하기 위하여 다양한 치수의 유전 애자(2036, 2038), 다른 표면적의 센서들 또는 전극들과 함께 실행될 수 있다.FIG. 22 is a schematic diagram of one embodiment of a plurality of electrode probes 2026. FIG. The
도 23-25는 다수 전극의 프로브(2042)의 대체적인 실시예를 개략적으로 예시한다. 도 23-25의 다수 전극의 프로브(2042)는 세로방향 프로브 축(2045)을 형성하는 프로브 본체(2044)를 포함한다. 다수 전극(2046-2062)은 프로브 축을 따라 별개 위치들에서 프로브 본체(2044)에 결합된다. 도 23-25 도시 실시예에서, 전극들은 균일한 크기이고 이격된다. 그러나, 전극들의 다른 크기와 전극들의 균일하지 않은 간격은 특수한 절제 결과를 달성하기 위하여 실시될 수 있는 것이 주의할 만큼 중요하다. 바람직하게, 각각의 전극(2046-2062)들은 자극 전류 소스, 절제전류 소스, 자극전류 소스의 접지 및 절제에너지 소스 접지로 하나 이상의 스위치들에 의하여 선택적으로 연결될 수 있거나, 또는 연결되지 않고 남겨진다. 이하 보다 상세하게 설명되는 바와 같이, 각 전극의 전류 소스 또는 접지로의 전환된 연결에 의하여 제공된 가요성은 프로브 위치 및 절제에 있어서 소정의 이점을 제공한다. 더욱이, 다수 전극의 프로브(2042)는 통상적으로 절제 부위로부터 떨어진 조직과 접해서 배치된 별개의 복귀 전극(2064)과 연관해서 펼처질 수 있다.23-25 schematically illustrate an alternative embodiment of a
배치 방법(Placement Methods)Placement Methods
절제 에너지를 인가하기 위하여 선택된 신경에 인접해서 프로브를 적절하게 배치하는 여러 방법들이 위에서 설명되었다. 예컨대, 낮은 에너지의 신경 자극 전류를 사용하는 형광 마커 염료, 광학 프로브 안내 및 전자 프로브 안내를 특징으로 하는 프로브 배치 방법들은 보다 상세하게 설명된다. 도 19-25에 예시된 바와 같은 소정의 대체적인 프로브 구조들은 위에 설명된 바와 같은 기본적인 전기 자극 기술의 변형들을 이용한 세밀한 프로브 배치를 제공한다.Several methods of appropriately positioning the probe adjacent to selected neurons to apply ablation energy have been described above. For example, probe placement methods featuring fluorescent marker dyes, optical probe guidance and electronic probe guidance using low energy nerve stimulation currents are described in more detail. Certain alternative probe structures as illustrated in Figures 19-25 provide fine probe placement using variations of the basic electrical stimulation technique as described above.
도 18의 단일 축의 전기수술 프로브(2000) 또는 여기 설명된 비대칭 프로브(2014, 2020)들은 도 11A-C와 관련해서 위에 설명된 바와 같은 반복 기술을 이용하여 각각 적절하게 위치될 수 있다. 반복 배치 방법은 도 16-20에 도시된 바와 같은 다수 전극의 프로브와 같이 사용하도록 교정될 수 있다.The single
자극 전극이 절제 전극(2030, 2032)들 사이에 위치되는 프로브 실시예들에서, 상기 설명한 반복적인 방법에 의하여 RF 절제 에너지가 인가된 때 표적 신경이 활성 전극(2030)과 복귀 전극(2032)사이에 형성되는 타원형 절제 구간(2064)(도 17 참조) 내에 확실히 위치될 것이다.In the probe embodiments in which the stimulating electrodes are located between the
도 23-25는 표적 신경에 대해 여러 정위들에 배치된 다수 전극 프로브(2042)의 대체적인 실시예를 도시한다. 예컨대, 도 23에서, 다수 전극 프로브(2042)는 신경(2066)을 가로질러 배치되고, 도 24에서 다수 전극 프로브(2042)는 신경(2066)의 일부에 평행으로 배치되고 도 25는 일정 각도에서 표적 신경(2066)을 가로질러 배치된 다수 전극 프로브(2042)를 도시한다. 위에서 보다 상세하게 설명된 바와 같이, 각각의 전극(2046-2065)들은 바람직하게 자극전류 소스, 절제에너지 소스, 접지에 선택적으로 연결되거나, 연결되지 않고 남겨진다. 전극(2046-2062)들은 수동으로 또는 스위치로 전환되고 전기적으로 활성화된다. 23-25 illustrate an alternative embodiment of a
다수 전극 프로브(2042)의 도 23-25 실시예의 다수 전극들은 소정의 향상된 배치 및 절제 수술을 제공한다. 예컨대, 도 23은 프로브(2042)의 축방향 길이를 따라 일 지점에서 프로브를 실질적으로 가로질러 진행하는, 표적 신경(2066)에 에너지를 선택적으로 인가하고 배치하는 방법을 예시한다. 이러한 배치 방법은 시술자가 초기에 프로브를 표적 신경(2066)을 가로질러 위치시키는 것을 특징으로 한다. 이어서 전극(2046 내지 2062)들이 인접한 활성/접지 쌍들로(바이폴라 모드) 또는 외부 접지(2064)에 따라 개별적으로(모노폴라 모드)자극 전류에 의하여 연속으로 활성화된다. 이어서 시술자는 연속 전극(2046-2062)들에 자극 전류가 인가됨에 따라 표전 신경과 결합된 하나 이상의 근육들의 응답을 관찰할 수 있다.The multiple electrodes of Figures 23-25 embodiment of the
예컨대, 도 23을 참조하면, 자극 전류는 전극(2046 및 2048)들 사이에 인가될 수 있다. 시술자는 대응하는 근육 응답이 없는 것을 주목한다. 자극 전류는 다음에 전극(2048 및 2050)들 사이에 인가될 수 있다. 다시, 시술자에 의해 근육 응답이 관찰되지 않는다. 연속적으로, 자극 전류가 이어서 연속적인 전극 쌍들에 인가된다. 자극 전류가 전극(2054 및 2056)들 사이에 인가될 때, 유연한 근육 반응이 있을 수 있다. 자극 전류가 전극(2056 및 2058)들 사이에 인가될 때, 그러나, 강력한 근육 응답이 관찰될 것이다. 계속해서, 이어서 자극이 전극(2058 및 2060)들 사이에 인가된다. 여기서 신경이 전극(2056 및 2058)들을 가로지르는 것을 표시하는 크게 감소된 근육 응답이 관찰된다. 연속으로, 절제 에너지가 신경(2066)을 절제하기 위하여 지정된 전극(2056 및 2058)들 사이에 인가될 수 있다.For example, referring to FIG. 23, a stimulation current may be applied between
도 24는 신경(2066)이 전극(2048 내지 2056)들에 인접해서 프로브(2042)의 축방향 길이에 인접해서 그리고 실질적으로 평행인 유사한 신경 위치 및 절제 수술을 예시한다. 이러한 제2 예에서, 시술자는 우선 전극(2046 및 2048)들 사이에 자극 전류를 인가한다. 유연한 근육 응답 또는 근육 응답이 없는 것이 관찰될 수 있다. 자극 전류가 전극(2048 및 2050)들 사이에 인가되면, 강한 근육 응답이 시술자에 의하여 주목된다.24 illustrates a similar nerve location and resection operation in which the
연속으로, 이어서 자극 전류가 전극(2050 및 2052)들 사이에 인가되고 유사한 강한 근육 응답이 관찰된다. 이러한 연속적인 자극과 응답 과정은 전극(2056 및 2058)들의 사이의 활성화를 통해 관찰되고 여기서 근육 응답은 실질적으로 감소되거나 관찰되지 않을 수 있다. 이는 전극(2048 내지 2056)들이 신경(2042)과 모두 접촉하고 있음을 표시한다. 전극(2048 내지 2056)들은 이어서 절제 전류 소스로 전환될 수 있고 그리고 바이폴라 쌍으로 연속으로 또는 동시에 또는 신경(2042)을 절제하기 위하여 바이폴라 또는 모노폴라 모드에서 개별적으로 전환될 수 있다. 신경은 시술자가 가동시킨 많은 전극들에 의하여 규정된 선택된 길이를 따라 절제될 수 있다. 이 방법은 또한 모노폴라 모드로서 실행될 수 있으며 자극 또는 절제 에너지는 하나 이상의 전극(2046 내지 2062)들 과 별개의 복귀 전극 사이에 본체의 외측으로 인가된다.Continuously, a stimulation current is then applied between
도 25는 다수 전극의 프로브(2042)가 신경(2066)을 대각선으로 또는 경사 각도로서 프로브 축으로 가로지르는 실질적으로 유사한 신경 배치 및 절제 수술을 예시한다. 이와 같이, 도 25는 신경(2066)에 대해 프로브(2042)를 각도상으로 배치하는 방법을 예시한다. 이 예에서, 전극(2052 및 2054 및 2056)들에서 위에 설명된 바와 같이 인가된 자극 전류는 연관된 근육의 응답을 발생할 것이다. 많은 수의 전극들이 근육의 응답을 초래하면, 신경(2066)에 대한 프로브(2042)의 보다 평행인 접촉 배치로부터 더 넓은 신경/프로브 접촉 영역이 발생하는 표시이다. 그러한 각도상 배치의 결정은 주요 신경의 직경에 대해, 인접 전극들 사이의 비교적 더 짧은 거리를 가진 프로브를 제작함으로써 향상될 수 있다. 시술자는 또한 소망하는 바와 같이 다소의 전극들로부터 근육 응답을 얻기 위하여 프로브를 운전할 수 있으므로 프로브를 축방향으로 재배치하지 않고 신경의 다소간의 길이를 절제할 수 있는 기회를 제공한다.25 illustrates a substantially similar nerve placement and resection procedure in which the
상기 각도상 프로브 배치 및 연속적인 자극 방법은 위에서 설명된 바와 같은 반복 기술과 조합될 수 있다. 예컨대, 자극 전류 생성기는 초기에 비교적 높은 레벨에서 설정되고 소정 전극에 대한 신경의 일반적인 위치가 결정되면 감소될 수 있다.The angular probe placement and subsequent stimulation methods can be combined with the repetition techniques as described above. For example, the stimulation current generator may initially be set at a relatively high level and may be reduced if the general location of the nerve for a given electrode is determined.
예컨대, 도 25의 전극(2048 및 2050)들 사이의 임계 자극 전류(관찰가능한 응답을 유발하기 위하여)는 전극(2050 및 2053)들 사이의 임계전류보다 더 높을 것이다. 이러한 정보는 시술자가 신경(2606)에 대해 프로브(2042)를 보다 평행으로 또는 보다 횡단하여 배치하도록 하기 위하여 그래프로, 수치로서 또는 음향으로 표시될 수 있다.For example, the critical excitation current (to induce an observable response) between electrodes 2048 and 2050 in FIG. 25 will be higher than the threshold current between electrodes 2050 and 2053. This information may be displayed graphically, numerically, or acoustically to allow the practitioner to place the
위에 설명된 장치와 방법들은 시스템의 유효성 및 사용의 용이성, 안전을 향상시키는 여러 특징들을 가지고 실시될 수 있다. 예컨대, 프로브는 작동의 유효성을 향상시키며 안전 특성을 실행하기 위하여 제공되는 인간공학적이고 기능적인 핸들에 의하여 실시될 수 있다. 개별적인 프로브들은 신중하게 관리될 수 있으며, 바람직하게 시스템 소프트웨어로 관리되므로 선택된 프로브가 적절하게 작용하고, 효과가 없고 재사용되지 않으며, 적절한 프로브가 각각의 특수한 치료 수술에 대해 사용되는 것이 확실하다. 유사하게, 조작자가 선택된 특수한 치료 프로토콜에 대해 확실히 인증되고 훈련되도록 시스템에 의한 안전 장치가 포함될 수 있다. 다양한 치료 관리방법들과 특별한 치료요법들이 최선의 결과와 향상된 환자의 안전성을 위하여 선택될 수 있다. 일 실시예에서, 처치, 치료법, 및 안전 방법들이 이하 상세하게 설명되는 바와 같은 절제 장치와 시스템과 같이 연관된 프로세서에서 실행되는 소프트웨어에 의하여 활동적으로 제어되고 실행될 수 있다.The apparatus and methods described above may be implemented with various features that enhance the effectiveness and ease of use of the system, safety. For example, the probe may be implemented by an ergonomic and functional handle provided to enhance the effectiveness of operation and to implement safety characteristics. Individual probes can be carefully managed and preferably managed with system software, so that the selected probe will function properly, will not be effective and will not be reused, and the appropriate probe will be used for each particular treatment operation. Similarly, safety devices by the system may be included to ensure that the operator is authenticated and trained for a particular treatment protocol of choice. Various treatment modalities and special therapies may be selected for best results and improved patient safety. In one embodiment, treatment, treatment, and safety methods can be actively controlled and executed by software running on the associated processor, such as ablation devices and systems, as described in detail below.
시스템 관리방법How to manage your system
효과적인 시스템 관리 방법을 통하여 환자 안전, 수술 효율 및 치료 성공의 동시적인 목적이 향상될 수 있다. 여기 설명된 바와 같은 시스템 관리 방법은 여기 설명된 프로브 시스템과 제어 콘솔과 결합된 또는 내부에서 작동하는 메모리와 컴퓨터 프로세서들을 포함한 컴퓨터 소프트웨어 및 하드웨어를 통해 실행될 수 있다. 시술자, 제어 콘솔, 및 프로브 시스템 사이의 다양한 인터페이스들이 존재할 수 있다. 추가로, 프로브 자극전류 소스, 절제전류 소스, 및 프로브 시스템을 포함하는, 절제 시스템과 결합된 하드웨어는 시스템 프로세서와 통신하거나 피드백을 제공할 수 있다. 대신해서, 시스템 관리 방법의 단계들은 수동으로 실행될 수 있었다.Effective system management methods can improve patient safety, surgical efficiency, and the simultaneous goal of success. System management methods as described herein may be implemented through computer software and hardware, including computer processors and memory, coupled to or in conjunction with the probe system and control console described herein. There may be various interfaces between the practitioner, the control console, and the probe system. In addition, hardware coupled with ablation systems, including probe stimulus current sources, ablation current sources, and probe systems, can communicate with or provide feedback to the system processor. Alternatively, steps of the system management method could be performed manually.
소프트웨어 및 프로세서 기반 시스템 실시예에서, 전기수술 프로브 및 시스템을 관리하기 위한 아래 설명된 기술은 소프트웨어, 펌웨어, 하드웨어, 또는 다른 그들의 조합을 생산하기 위하여 표준 프로그래밍 및/또는 엔지니어링 기술을 이용한 제조 물품 또는 장치, 방법으로서 실행될 수 있다. 여기 사용된 바와 같은 “제조 물품(article of manaufacture)"은 매체 또는 디바이스(예컨대, 하디 디스크 드라이브, 플로피 디스크, 테이프와 같은 자기저장 매체), 광학 저장부(예컨대, CD-ROMs, 광학 디스크, 등), 휘발성 및 비휘발성 디바이스(예컨대, EEPROMs, ROMs, PROMs, RAMs, DRAMs, SRAMs, 펌웨어, 프로그래머블 로직, 등)에 저장되거나 함께 실행되는 로직 또는 코드를 지칭한다. 컴퓨터 판독가능한 매체의 코드는 프로세서에 의하여 접속 실행된다. 실행들이 이루어지는 코드는 추가적으로 전달 매체를 통해 또는 네트워크를 통한 파일 서버로부터 접근가능할 수 있다. 그러한 경우, 코드가 실행되는 제조 물품은 네트워크 전송 라인, 무선 전송 매체, 공간을 통한 신호 전파, 무선, 적외선, 광 신호, 등과 같은 전송 매체를 포함할 수 있다. 물론, 이 기술 분야의 통상의 전문가는 실시의 범위로부터 벗어나지 않고 이러한 구조에 대해 많은 수정들이 이루어질 수 있으며 제조 물품은 이 기술 분야에 공지된 매체에 관련하는 소정의 정보를 포함할 수 있다.In software and processor-based system embodiments, the techniques described below for managing electrosurgical probes and systems may be implemented in a manufacturing article or device using standard programming and / or engineering techniques to produce software, firmware, hardware, , Or as a method. As used herein, the term " article of manufacture "is intended to encompass all types of media or devices (e.g., hard disk drives, floppy disks, magnetic storage media such as tape), optical storage Refers to logic or code stored in or executed in a volatile and nonvolatile device (e.g., EEPROMs, ROMs, PROMs, RAMs, DRAMs, SRAMs, firmware, programmable logic, The code in which the executions are made may additionally be accessible from a file server via a network or from a file server via a network. In such a case, the article of manufacture for which the code is executed may be a network transmission line, a wireless transmission medium, And may include transmission media such as radio waves, wireless, infrared, optical signals, etc. Of course, The skilled artisan can make many modifications to this structure without departing from the scope of the practice, and the article of manufacture may comprise certain information relating to media known in the art.
치료적인 조치 프로토콜(Therapeutic Treatment Protocols)Therapeutic Treatment Protocols < RTI ID = 0.0 >
여기 개시된 바와 같이 조직 절제 또는 신경 블록 또는 다른 최소 침습적인 전기수술 절차는 정확하게 인가된 RF 에너지에 의하여 실행될 수 있다. 치료법적인 RF 파형의 근본적인 요건은, 예컨대, 25초보다 작은 선택된 시간 프레임에 걸쳐 작은 면적에서 인간 조직을 가열하고 변성시키는 것이다. 실험실 실험에 의하면, 작은 자율신경을 적절히 절제하기 위하여 필요한 적절한 시간을 표시한다. 더 길거나 더 짧은 치료 시간이 다른 용도들에 요구될 수 있다. 선택된 조직, 우선적으로 프로테인과 지질의 미세 조직을 변성시키기 위하여 요구되는 온도는 대략 65℃ 이상이다. 적절한 절제, 신경 블록 또는 다른 치료 목적을 안전하게 달성하기 위하여, RF 파형이 생성될 수 있고 이하의 기준을 충족시키기 위하여 인가된다: 1. 프로브 온도는 부수적인 조직 영역에 대한 과도한 손상을 방지하기 위하여 160℃ 보다 작게 제한된다. 2. 프로브 온도들은 바람직하게 90℃ 내지 105℃ 사이로 유지될 것이다. 이 범위는 과도한 조직의 고착 및 적절한 절제 병소의 성장 지원을 방지할 것이다.As described herein, tissue ablation or neural blocks or other minimally invasive electrosurgical procedures can be performed by accurately applied RF energy. A fundamental requirement of therapeutic RF waveforms is to heat and denature human tissue in small areas over a selected time frame, e.g., less than 25 seconds. According to laboratory tests, adequate time is indicated to adequately ablate small autonomic nerves. Longer or shorter treatment times may be required for other applications. The temperature required to denature the microstructure of the selected tissue, primarily protein and lipid, is about 65 ° C or higher. To securely achieve adequate ablation, neural blocks or other therapeutic objectives, an RF waveform can be generated and applied to meet the following criteria: 1. The probe temperature is adjusted to 160 Lt; 0 > C. 2. The probe temperatures will preferably be maintained between 90 [deg.] C and 105 [deg.] C. This range will prevent the adherence of excessive tissue and support the growth of appropriate resection lesions.
초기의 RF 전원 인가는 프로브 팁의 온도를 제어된 방식으로 작동하는 치료 온도로 가열할 것이고, 이로써 용량 초과를 최소화할 것이다. 초기 가온 페이스의 시간 프레임은 0.2 내지 2.5 초일 수 있다.Initial RF power application will heat the temperature of the probe tip to a therapeutic temperature that operates in a controlled manner, thereby minimizing excess capacity. The time frame of the initial heating face may be 0.2 to 2.5 seconds.
상기 일반적인 목적을 달성하기 위하여, 특수한 치료 프로토콜이 개발될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 여기의 특수한 치료 프로토콜(“에너지 볼러스(bolus)"로 또한 설명되는 바와 같은)의 공급은 자동화되었다. 자동화는 시술자가 프로브 배치에 집중할 수 있고 시스템은 선택된 에너지 볼러스의 공급을 보장할 수 있으므로 안전성 및 치료 유효성을 증가시킬 수 있다.In order to achieve the above general purpose, a special treatment protocol may be developed. In one embodiment of the invention, the supply of a special treatment protocol herein (such as also described as " an energy bolus ") is automated. Automation can allow the practitioner to focus on probe placement, It is possible to increase the safety and therapeutic efficacy.
예컨대, 시스템 콘트롤러(401)는 시스템에 연결된 전기수술 프로브에 공급된 에너지 파형을 제어하도록 구성될 수 있다. 특히, 파형, 파형 변조 또는 맥동 시간이 제어될 수 있다. 또한, 전원이 인가될 수 있고 최대 전원 또는 전압 한계가 설정될 수 있는 전체 시간은 제어될 수 있다.For example, the
더욱이, 특수한 치료 프로토콜은 프로브 온도, 인접 조직 온도, 조직 임피던스 또는 치료 에너지의 공급 동안 측정될 수 있는 다른 물리적인 파라미터들과 같은 피드백에 따라 능동적으로 제어될 수 있다. 특수한 에너지 공급 처방 또는 에너지 볼러스가 특수한 치료 목적을 위하여 개발될 수 있다. 이들 에너지 처방은 허락된 치료 프로토콜로서 콘트롤러와 결합되어 메모리에 저장될 수 있다. 대표적인 치료 에너지 프로토콜(3250)이 도 26에 표 형태로 도시된다.Moreover, a particular treatment protocol can be actively controlled according to feedback, such as probe temperature, adjacent tissue temperature, tissue impedance, or other physical parameters that can be measured during the supply of therapeutic energy. Special energy supply prescriptions or energy boluses may be developed for specific therapeutic purposes. These energy prescriptions can be stored in memory in combination with the controller as an approved therapy protocol. A representative
도 27의 치료 프로토콜(3250)은 대략 1mm의 직경을 가지는 인간 신경의 치료적인 절제를 위하여 최적화된다. 도 27에 도시된 바와 같이, 치료 프로토콜(3250)은 일반적으로 초기 위상(3252) 동안 신속하게 조직을 가열하도록 설계된다. 초기 위상 동안의 신속한 가열은 지각된 통증을 최소화하고 후속의 펄스화된 RF 에너지의 인가로부터의 근육 자극을 감축시키는 것으로 도시된다. 제2 위상(3254)은 소정의 치료적인 조직/프로브 온도에 더 느리게 도달하는 일정한 전원 인가를 포함한다. 또한 도 27에 도시된 바와 같이, 제3 위상(3256)은 병소를 소망하는 크기로 성장시키고 감소된 전원에서 일정한 온도를 유지하는 것을 포함한다.The
도 26 및 27 예시의 치료요법적인 치료 프로토콜(3250)은 작은 자율신경의 절제에 적합한 것으로 발견된 단지 하나의 치료 프로토콜이다. 다른 치료 프로토콜들이 다른 또는 같은 치료 목적을 위하여 개발될 수 있다. 모든 경우들에서, 조직 절제의 레벨은 이 기술 분야에서 아레니우스 비율(Arrhenius rate)로서 잘 알려진 바와 같이 실질적으로 시간 및 40℃ 이상의 온도의 적에 기하급수적으로 관련된다. 표적 조직을 통한 열적인 열 운반은 유한 차이 알고리듬에 의하여 산출될 수 있다.26 and 27 The exemplary therapy
조직 특성은 2D 메시에 구체화될 수 있고 그러한 특성은 공간괴 시간의 임의 함수이다. 아레니우스 속도 방정식은 증가된 온도에 의하여 야기된 절제 영역에 대해 해결될 수 있다.The tissue characteristics can be embodied in a 2D mesh, and such a characteristic is a random function of spatial agglomeration time. The Arrhenius velocity equation can be solved for the ablation zone caused by the increased temperature.
또한, 절제된 조직의 특성들인 광학적이고 전기적인 특성이 조직학적인 연구를 통해 측정되고 결정될 수 있다. 이와 같이, 도 26 및 27에 예시된 바와 같은 다양한 치료 프로토콜들이 개발되고 소정의 치료 결과의 제어된 달성을 위하여 최적화될 수 있다. 바람직하게, 치료 프로토콜은 선택된 에너지 덩어리가 정밀하게 공급되도록 자동으로 공급된다.In addition, the optical and electrical properties of the ablated tissue can be measured and determined through histological studies. As such, various treatment protocols as illustrated in Figures 26 and 27 may be developed and optimized for controlled achievement of a given treatment outcome. Preferably, the treatment protocol is automatically supplied so that the selected energy mass is precisely supplied.
이하 설명되는 디바이스와 시스템들은 부품들의 구조와 배치의 상세 예들로서 제공된다. 본 발명은 다른 실시예들이 가능하고 다양한 방식으로 실시되고 수행되는 방법들, 시스템들, 디바이스의 수정들을 포함한다. 또한, 여기 사용된 문구와 용어들은 설명을 위한 것이며 제한하는 것으로 생각되어서는 안된다. “포함하는(including)", 포함하는(comprising)", "가지는(having)", "함유하는(containing)", "포함하는(involving)", 및 여기서 그 변형의 사용은 이후 열거되는 요소들과 그 균등물과 추가적인 요소들을 포함하는 것을 의미한다.The devices and systems described below are provided as detailed examples of the structure and arrangement of components. The present invention includes modifications of methods, systems, and devices that are capable of other embodiments and that are implemented and performed in various ways. Also, the phraseology and terminology used herein is for the purpose of description and should not be regarded as limiting. The terms "including", "having", "containing", "involving", and uses of the variations herein, And equivalents thereof, as well as additional elements.
100: 디바이스 102: 본체100: Device 102:
Claims (84)
자극 모드는 작동 단부로부터 제1 거리에서 신경을 자극하는 적어도 제1 파라미터 설정과, 작동 단부로부터 제2 거리에서 신경을 자극하는 제2 파라미터 설정을 포함하고, 제1 거리는 제2 거리보다 더 크며, 상기 디바이스는 자극 모드가 제1 파라미터 설정에 있을 때 에너지 공급모드의 활성화를 방지하도록 구성되고;
상기 디바이스의 작동 단부가 조직 영역에 위치되고 자극 모드에서 활성화될 때, 상기 콘트롤러는 신경을 자극할 수 있도록 제1 파라미터 설정에서 에너지를 제공하고;
상기 디바이스의 작동 단부가 조직 영역에 재배치되어 작동 단부를 신경에 보다 더 근접하게 이동시키고 제2 파라미터에서 자극 모드로 재활성화되고, 상기 콘트롤러는 신경을 자극할 수 있기 위하여 에너지를 공급하고 상기 디바이스의 작동 단부가 신경에 보다 더 근접하게 배치된 것을 확인하고; 및
상기 디바이스가 에너지 공급 모드에서 활성화될 때, 상기 콘트롤러는 정해진 치료 설정에서 신경에 제1 치료 구간을 생성하도록 에너지를 제공하고, 에너지 공급 모드에서 상기 디바이스를 활성화시킴으로써 상기 콘트롤러는 제1 파라미터 설정을 재설정하는 신경 치료 시스템.10. A system for treating a nerve in a tissue region comprising a device and a controller, the controller being coupled to the device having a stimulation mode and an energy delivery mode and having a working end,
The stimulation mode includes at least a first parameter setting to stimulate the nerve at a first distance from the working end and a second parameter setting to stimulate the nerve at a second distance from the working end, the first distance being greater than the second distance, Wherein the device is configured to prevent activation of the energy supply mode when the stimulation mode is in the first parameter setting;
When the working end of the device is located in the tissue region and activated in the stimulation mode, the controller provides energy in a first parameter setting so as to stimulate the nerve;
The working end of the device is relocated to the tissue area to move the working end more closely to the nerve and reactivated to the stimulation mode at the second parameter, the controller supplies energy to be able to stimulate the nerve, Confirming that the working end is disposed closer to the nerve than to the nerve; And
When the device is activated in the energy supply mode, the controller provides energy to generate a first treatment period in the neural network in a predetermined treatment setting, and by activating the device in the energy supply mode, the controller resets the first parameter setting A neurotherapeutic system.
조직 영역에 삽입하도록 구성되고, 콘트롤러에 결합된 단일 세로방향 프로브;
임계 자극전류 설정에서 또는 그 위에서 프로브가 치료 에너지를 인가하는 것이 방지되는, 상기 콘트롤러 위의 임계자극 전류 설정을 포함하며;
상기 콘트롤러는 신경과 결합된 근육의 운동을 작동시키기 위하여 프로브를 통해 에너지를 공급하도록 허용하는 자극 전류 설정을 포함하고;
상기 콘트롤러는 프로브의 자극 영역이 감소하도록 임계 자극전류 설정 아래로 자극전류 설정을 감소시키도록 추가로 구성되며;
자극전류 설정이 임계 자극전류 설정 아래인 때, 프로브에 의한 신경 자극에 의하여 신경 위치가 프로브의 감소된 자극 영역 내에 있음을 확인하고;
치료 설정이 프로브가 신경을 가열하기 위하여 전류를 인가하는 것을 허용하 도록 자극전류 설정이 콘트롤러의 임계전류 설정보다 아래인 때, 콘트롤러의 치료 설정이 인가되도록 구성되고,
프로브가 치료 설정으로 전류를 인가 후에, 콘트롤러는 임계 자극전류 위로 자극전류 설정을 재설정하도록 구성되는 근육의 신경치료 시스템.CLAIMS What is claimed is: 1. A neurological treatment system for muscles associated with neurons, said system comprising:
A single longitudinal probe configured to be inserted into the tissue region and coupled to the controller;
Wherein the threshold stimulation current setting on the controller is such that the probe is prevented from applying therapeutic energy at or above the threshold stimulation current setting;
The controller comprising a stimulation current setting that allows energy to be supplied through the probe to activate motion of the muscles associated with the nerve;
Wherein the controller is further configured to reduce the stimulation current setting below a threshold stimulation current setting such that the stimulation region of the probe decreases;
Confirming that the nerve position is within the reduced stimulation region of the probe by the nerve stimulation by the probe when the stimulation current setting is below the threshold stimulation current setting;
The therapy setting is configured such that when the stimulation current setting is below the threshold current setting of the controller to allow the probe to apply current to heat the nerve,
After the probe is energized with current to the therapy setting, the controller is configured to reset the stimulation current setting over the critical stimulation current.
조직 내에 위치시키도록 작동 단부를 가지는 프로브;
치료 모드 및 자극 모드에서 프로브에 전원을 공급하도록 구성되고, 적어도 제1 자극 설정과 제2 자극 설정을 포함하는 복수의 자극 설정들 사이에서 조정가능하도록 구성되며, 제2 자극 설정으로 설정되지 않으면 치료 모드에서 전원을 인가하는 것이 금지되도록 구성된 콘트롤러를 포함하며;
신경을 자극하기 위하여 프로브의 작동 단부가 제1 자극설정에서보다 제2 자극 설정에서 신경에 더욱 근접하도록 제1 자극설정의 프로브의 유효 자극 면적에 비교해서 제2 자극 설정에서 프로브의 유효자극 면적이 감소되고; 및
상기 콘트롤러는 치료 모드에서 전원을 인가후 제1 자극 설정으로 재설정되도록 추가로 구성되는 조직 영역의 신경치료 시스템.1. A neurothermal system in a tissue region, the system comprising:
A probe having an operative end for positioning within the tissue;
And configured to provide power to the probe in a treatment mode and a stimulation mode and configured to be adjustable between a plurality of stimulation settings including at least a first stimulation setting and a second stimulation setting, A controller configured to inhibit powering in a mode;
The effective stimulation area of the probe at the second stimulation setting is smaller than the effective stimulation area of the probe of the first stimulation setting such that the working end of the probe is closer to the nerve at the second stimulation setting than at the first stimulation setting ; And
Wherein the controller is further configured to be reset to a first stimulus setting after power is applied in a treatment mode.
디바이스 본체;
상기 디바이스 본체의 일부로부터 연장하고, 상기 디바이스 본체의 조종에 의하여 조직 내에서 프로브가 이동할 수 있도록 단단한 프로브;
상기 프로브의 작동 단부에 위치된 말단 전극;
상기 말단 전극 및 근접 전극에 치료 에너지를 인가하면 상기 근접 및 말단 전극들 사이에 걸친 조직 영역에 손상을 발생하기 위하여 상기 말단 및 근접 전극들이 자극 에너지 및 치료 에너지 소스에 결합가능하도록 상기 말단 전극으로부터 근접하게 이격된 단일 프로브 위에 위치된 근접 전극;
유동성 물질이 조직 영역으로 향하도록 프로브 축에 직교하는 방향으로 유동성 물질을 공급하도록 적어도 하나의 유체 포트가 향해지는, 상기 말단 전극과 근접 전극 사이에 위치되고 하나 이상의 유체 포트들을 가지는 유체 공급 슬리브를 포함하는 전기 수술 디바이스.An electrosurgical device for use with a reservoir having flowable material and for use with a stimulation energy source and a therapeutic energy source for stimulating and treating tissue under the skin, the device comprising:
Device body;
A rigid probe extending from a portion of the device body and allowing the probe to move within the tissue by manipulation of the device body;
A distal electrode positioned at an operative end of the probe;
And applying a therapeutic energy to the distal electrode and the proximal electrode to cause damage to the tissue region across the proximal and distal electrodes, wherein the distal and proximal electrodes are proximate to the distal electrode A proximate electrode positioned over a single probe spaced apart;
And a fluid supply sleeve positioned between the distal electrode and the proximal electrode and having at least one fluid port for directing the at least one fluid port to supply the fluid material in a direction perpendicular to the probe axis such that the fluid material is directed to the tissue region Lt; / RTI >
제1 위치에서 디바이스를 조직 영역으로 배치하고;
상기 디바이스의 작동 단부로부터 제1 거리 내에서 신경을 자극하도록 구성된 제1 설정을 이용하여 제1 위치에서 상기 디바이스를 통해 조직에 에너지를 인가하고;
신경을 자극하기 위하여 관찰하고;
상기 디바이스의 작동 단부로부터 제1 거리보다 작은 제2 거리 내에서 신경을 자극하도록 구성된 제2 설정을 사용하여 제2 위치에서 상기 디바이스를 통해 조직 영역으로 에너지를 재인가하고;
제1 위치보다 제2 위치가 신경에 더 근접한 여부를 결정하기 위하여 제2 설정에서 신경이 자극되는 여부를 재측정하고;
제2 위치가 신경에 더 근접하면 제2 설정을 이용하여 신경 자극을 관찰할 때 디바이스를 이용하여 신경 신호를 전달하도록 신경 기능에 영향을 미치도록 신경에 치료 에너지를 인가하고 정해진 치료 설정만큼 신경을 모니터링하는 것을 포함하는 조직 영역의 신경 치료방법. CLAIMS What is claimed is: 1. A neurothermal treatment of a tissue area comprising:
Disposing the device at the first location into the tissue region;
Applying energy to the tissue through the device at a first location using a first configuration configured to stimulate the nerve within a first distance from the operative end of the device;
Observe to stimulate nerves;
Re-applying energy from the operative end of the device through the device to the tissue region at a second location using a second configuration configured to stimulate the nerve within a second distance less than the first distance;
Re-measuring whether the nerve is stimulated in a second setting to determine whether the second position is closer to the nerve than the first position;
When the second position is closer to the nerve, the second setting is used to observe the nerve impulse, the device is used to deliver the nerve signal to the nerve so as to affect the nerve function and to apply the therapeutic energy to the nerve Lt; RTI ID = 0.0 > neuronal < / RTI >
디바이스의 작동 단부를 조직영역 내로 배치하고;
신경을 자극하고;
신경에 보다 더 근접하도록 작동 단부를 이동시키기 위하여 조직 영역에 디바이스의 작동 단부를 재배치하고;
신경 자극을 관찰하기 위하여 그리고 디바이스의 작동 단부를 신경에 보다 더 근접하도록 재배치하는 것을 확인하기 위하여 제2 파라미터에서 자극 모드에서 상기 디바이스를 재활성화시키며;
신경 위의 제1 치료 위치에서 신경 위에 제1 치료 영역을 생성하기 위하여 에너지 공급 모드에서 상기 디바이스를 활성화하고;
신경에 의하여 제어된 근육과 제1 치료 위치 사이의 신경 말단에 상기 디바이스의 작동 단부를 재배치하고; 및
신경 위의 제2 치료 위치에서 신경에 제2 치료 영역을 생성하기 위하여 에너지 공급 모드에서 상기 디바이스를 활성화하는 것을 포함하는 조직 영역의 신경 치료방법.CLAIMS What is claimed is: 1. A neurothermal treatment of a tissue area comprising:
Placing the working end of the device into the tissue region;
Stimulate the nerves;
Rearranging the working end of the device in the tissue region to move the working end closer to the nerve;
Reactivating the device in the stimulation mode in a second parameter to observe the nerve impulse and to confirm relocation of the working end of the device closer to the nerve;
Activating the device in an energy supply mode to create a first treatment area on the nerve at a first treatment location on the nerve;
Rearranging the working end of the device at the nerve end between the nerve-controlled muscle and the first treatment location; And
And activating the device in an energy supply mode to create a second treatment area in the nerve at a second treatment location above the nerve.
상기 디바이스는 자극 에너지와 치료 에너지를 인가하도록 구성된 제1 위치에서 조직 영역에 디바이스의 작동 단부를 배치하고;
자극 에너지를 공급할 때 디바이스는 적어도 제1 설정과 제2 설정을 포함하는 복수의 설정 중의 하나로 설정가능하고, 디바이스가 제1 설정에서 동작될 때 디바이스의 자극 면적이 더 넓고, 디바이스가 제1 설정에 있을 때 치료 에너지의 적용을 방지하도록 디바이스는 구성되며;
제2 설정에서 디바이스를 동작시키며;
신경 자극을 위하여 조직 영역에서 응답을 관찰하고;
응답을 관찰할 때, 조직 영역에 치료 에너지를 인가함으로써 신경이 신호를 전달하는 것을 방지하기 위하여 제1 위치에서 신경의 적어도 일 부분에 치료 에너지를 인가하고, 치료 에너지를 인가 후, 디바이스는 제1 설정으로 재설정되며;
정해진 치료 설정에 대해 신경의 적어도 일 부분을 감시하고;
제1 위치에서 멀리 있는 후속 위치에서 디바이스의 작동 단부를 재배치하고;
제1 설정으로부터 제2 설정으로 디바이스를 조정하고;
신경 자극을 위하여 조직 영역에서 후속 응답을 관찰하고; 및
후속 응답을 관찰한 때 치료 에너지를 인가함으로써 후속 위치에서 신경의 적어도 제2 부분에서 치료 에너지를 인가하는 것을 포함하는 조직 영역에서 신경 치료 방법.CLAIMS What is claimed is: 1. A neurothermal treatment of a tissue area comprising:
The device placing the working end of the device in a tissue region at a first location configured to apply stimulation energy and therapeutic energy;
The device may be set to one of a plurality of settings that include at least a first setting and a second setting and the stimulation area of the device is wider when the device is operated in the first setting, The device is configured to prevent application of therapeutic energy when present;
Operating the device in a second setting;
Observe the response in the tissue area for nerve stimulation;
Upon observing the response, the therapeutic energy is applied to at least a portion of the nerve at the first location to prevent the nerve from transmitting a signal by applying therapeutic energy to the tissue area, and after applying the therapeutic energy, Reset to the settings;
Monitoring at least a portion of the nerve for a predetermined treatment setting;
Rearranging the working end of the device at a subsequent location away from the first location;
Adjusting the device from the first setting to the second setting;
Observe subsequent responses in the tissue region for nerve stimulation; And
And applying therapeutic energy in at least a second portion of the nerve at a subsequent location by applying therapeutic energy when observing a subsequent response.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US14/602,180 | 2015-01-21 | ||
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