KR20160122306A

KR20160122306A - 터치 패널

Info

Publication number: KR20160122306A
Application number: KR1020150051694A
Authority: KR
Inventors: 강기녕; 최종현; 김정환
Original assignee: 삼성디스플레이 주식회사
Priority date: 2015-04-13
Filing date: 2015-04-13
Publication date: 2016-10-24
Also published as: US10139969B2; US20160299599A1; KR102325190B1

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판 위에 위치하는 복수의 터치 전극; 및 상기 복수의 터치 전극에 각각 연결되어 있으며, 팬아웃부 및 패드부를 각각 포함하는 복수의 터치 신호선;을 포함한다. 상기 팬아웃부 및 상기 패드부는 제1 도전체, 상기 제1 도전체 위의 제2 도전체, 그리고 상기 제2 도전체 위의 제3 도전체를 포함하고, 상기 제3 도전체 위에 보호막이 위치한다. 상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체의 측면을 감싸도록 형성되어 있다.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}

본 발명은 터치 센서를 포함하는 터치 패널, 그리고 터치 패널을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.

유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display, OLED), 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD), 전기영동 표시 장치(electrophoretic display, EPD) 등의 평판 표시 장치(flat panel display, FPD)는 전기장 생성 전극과 전기 광학 활성층(electro-optical active layer)이 형성되어 있는 표시 패널(display panel)을 포함한다. 전기 광학 활성층으로서, 유기 발광 표시 장치, 액정 표시 장치 및 전기 영동 표시 장치의 패널은 각각 유기 발광층, 액정층 및 전하를 띤 입자를 포함한다. 전기장 생성 전극은 박막 트랜지스터 등의 스위칭 소자에 연결되어 데이터 신호를 인가받을 수 있고, 전기 광학 활성층은 이러한 데이터 신호를 광학 신호로 변환함으로써 영상을 표시한다.

이러한 표시 장치는 표시 패널에 의한 영상을 표시하는 기능 이외에 사용자와의 상호 작용이 가능한 터치 감지 기능을 포함할 수 있다. 터치 감지 기능은 사용자가 화면 위에 손가락이나 터치 펜(touch pen) 등을 터치하면 표시 장치가 화면에 가한 압력, 전하, 빛 등의 변화를 감지함으로써 물체가 화면에 터치되었는지 여부 및 그 터치 위치 등의 터치 정보를 알아내는 것이다. 표시 장치는 이러한 터치 정보에 기초하여 영상 신호를 입력받을 수 있다.

터치 감지 기능은 터치 전극(touch electrodes)을 포함하는 정전 용량 방식의 터치 센서에 의해 구현될 수 있다. 정전 용량 방식의 터치 센서에서 터치 전극은 축전기를 형성하고, 터치 신호선을 통해 터치 전극과 연결된 터치 제어부는 터치 시 발생하는 축전기의 정전 용량(capacitance)의 변화를 감지한다. 터치 정보는 이러한 정정 용량의 변화에 기초하여 생성될 수 있다.

최근 플렉서블 디스플레이 등에 대응하여 터치 전극으로 나노 와이어를 사용하는 기술이 개발되고 있다. 터치 신호선에도 나노 와이어가 사용될 수 있지만 선 폭의 제약으로 인해 저항이 증가하거나 단선될 우려가 있으므로, 터치 신호선은 나노 와이어 위에 저저항 금속이 적층되어 있는 구조를 가질 수 있다.

한편, 터치 센서가 형성되어 있는 패널을 터치 패널(또는, 터치 센서 패널, 터치 스크린 패널 등으로도 불림)이라고 한다. 터치 센서 기능이 있는 표시 패널도 터치 패널이라고 부른다.

본 발명의 목적은 터치 센서의 신뢰성을 증가시킬 수 있는 터치 패널을 제공하는 것이다.

본 발명은 또한 터치 신호선의 부식 및 특성 저하를 방지할 수 있는 구조를 가진 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판 위에 위치하는 복수의 터치 전극; 및 상기 복수의 터치 전극에 각각 연결되어 있으며, 팬아웃부 및 패드부를 각각 포함하는 복수의 터치 신호선;을 포함한다. 상기 팬아웃부 및 상기 패드부는 제1 도전체, 상기 제1 도전체 위의 제2 도전체, 그리고 상기 제2 도전체 위의 제3 도전체를 포함하고, 상기 제3 도전체 위에 보호막이 위치한다.

상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체의 측면을 감쌀 수 있다.

상기 터치 전극 및 상기 제1 도전체는 나노 와이어로 형성되어 있을 수 있다.

상기 제2 도전체는 금속으로 형성되어 있을 수 있다.

상기 제3 도전체는 투명 도전성 산화물로 형성되어 있을 수 있다.

상기 보호막은 규소 산화물 또는 규소 질화물로 형성되어 있을 수 있다.

상기 제1 도전체와 상기 제2 도전체 사이에 제4 도전체를 더 포함할 수 있다.

상기 제4 도전체는 상기 제3 도전체와 동일한 물질로 형성되어 있을 수 있다.

상기 터치 전극은 나노 와이어로 형성된 제1 층, 상기 제1 층 위에 상기 제4 도전체와 동일한 물질로 형성된 제2 층, 그리고 상기 상기 제2 층 위에 상기 제3 도전체와 동일한 물질로 형성된 제3 층을 포함할 수 있다.

상기 제1 도전체는 상기 제3 도전체보다 넓은 폭을 가질 수 있고, 상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체보다 넓은 폭을 가질 수 있다.

본 발명의 일 측면에 있어서, 복수의 터치 전극; 및 상기 복수의 터치 전극에 각각 연결되어 있으며, 팬아웃부 및 패드부를 각각 포함하는 복수의 터치 신호선;을 포함하는 터치 패널을 제조하는 방법이 제공된다. 상기 방법은, 기판 위에 제1 도전층을 형성하는 단계; 상기 제1 도전층 위에 제2 도전층을 형성하고 패터닝하여 상기 팬아웃부 및 패드부의 제2 도전체를 형성하는 단계; 상기 제2 도전체 위에 제3 도전층을 형성하고 패터닝하여 상기 제2 도전체 위에 상기 팬아웃부 및 패드부의 제3 도전체를 형성하는 단계; 상기 제1 도전층을 패터닝하여 상기 제2 도전체 아래에 상기 팬아웃부 및 패드부의 제1 도전체와 상기 터치 전극을 형성하는 단계; 및 상기 제3 도전체 및 상기 터치 전극 위에 보호막을 형성하는 단계;를 포함한다.

상기 제2 도전층은 상기 제3 도전층보다 좁은 폭을 가지도록 형성되고, 제3 도전층은 상기 제2 도전층의 측면을 감싸도록 형성될 수 있다.

상기 방법은 상기 제1 도전층의 형성 후 상기 제2 도전층의 형성 전에, 상기 제1 도전층 위에 식각 저지층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 방법은 상기 식각 저지층을 패터닝하여 상기 제1 도전층과 상기 제2 도전체 사이에 위치하는 상기 팬아웃부 및 상기 패드부의 제4 도전체를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 식각 저지층을 패터닝하는 단계는 상기 제3 도전층을 패터닝하는 단계와 동시에 수행될 수 있다.

상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체의 측면을 감싸면서 상기 제4 도전체와 접촉하도록 형성될 수 있다.

상기 제1 도전층은 나노 와이어로 형성될 수 있다.

상기 제2 도전층은 금속으로 형성될 수 있다.

상기 제3 도전층은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있다.

상기 보호막은 규소 산화물 또는 규소 질화물로 형성될 수 있다.

본 발명의 실시예에 의할 경우, 투명 도전성 산화물 배선에 의해 금속 배선의 부식을 막을 수 있다. 또한, 그러한 투명 도전성 산화물 배선이 보호막 하부에 보호막보다 먼저 형성되기 때문에, 투명 도전성 산화물의 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있고 보호막이 손상되거나 뜯기는 현상을 방지할 수 있다. 그 밖에 명세서 전반에 걸쳐 설명되거나 그로부터 이해될 수 있는 유리한 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1에서 II-II 선을 따라 취한 단면도이다.
도 3은 도 1에서 III-III을 따라 취한 단면도이다.
도 4는 도 1에서 IV-IV을 따라 취한 단면도이다.
도 5는 내지 도 7은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 8 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 제작하는 과정을 보여주는 공정 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 및 터치 신호 처리부의 회로도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 포함하는 표시 장치의 배치도이다.

첨부한 도면을 참고로 하여, 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 도시된 두께의 비율은 실제 비율을 반영하지는 않는다. 또한, 인접하는 구성요소 간의 간격, 각 구성요소의 폭 등이 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 명세서에서 특별한 언급이 없으면, "중첩"은 평면도에서 볼 때 중첩을 의미한다.

본 발명의 실시예에 따른 터치 센서를 포함하는 터치 패널, 그리고 표시 장치에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.

먼저, 도 1 내지 도 5를 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널에 대하여 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 개략적으로 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1에서 II-II 선을 따라 취한 단면도이고, 도 3은 도 1에서 III-III을 따라 취한 단면도이고, 도 4는 도 1에서 IV-IV을 따라 취한 단면도이다.

도 1에는 터치 패널(10)의 전체적인 모습이 도시된다. 도 1은 터치 패널(10)의 구성요소들의 예시적인 배치와 연결 관계를 개략적으로 나타내기 위한 것이지, 실제 형상이나 연결 관계, 각 구성요소의 비율, 간격, 개수 등을 그대로 반영하는 것은 아니며, 일부 구성요소는 도시되어 있지 않을 수 있다.

터치 패널(10)은 기판(210) 및 기판(210) 위에 형성되어 있는 복수의 터치 전극(411)을 포함한다. 이들 터치 전극(411)은 유기 발광 표시 장치, 액정 표시 장치 등의 영상을 표시하는 화소를 포함하는 표시 패널의 외면(outer surface)에 형성될 수 있고 (on-cell type), 표시 패널 내부에 형성될 수도 있다 (in-cell type). 또한, 터치 전극(411)은 유리, 플라스틱 등의 투명한 절연체로 이루어진 별도의 기판에 형성되어 표시 패널 위에 부착되어 있을 수 있다 (add-on type).

터치 패널(10)은 플렉서블(flexible)할 수 있고, 이 경우 기판(210)은 폴리에틸렌테레프탈레이드(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN), 폴리에틸렌에테르케톤(polyethylene ether ketone, PEEK) 등의 열가소성 세미 결정성 플라스틱(thermoplastic semicrystalline polymer), 폴리카보네이트(polycarbonate, PC), 폴리에틸렌설포네이트 (polyethylene sulfonate, PES) 등의 열가소성 무정정형 플라스틱(thermoplastic amorphous polymer), 상대적으로 높은 내열성을 가진 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리아릴레이트(polyarylate, PAR) 등의 플라스틱으로 이루어질 수 있다.

터치 전극(411)은 터치를 감지할 수 있는 터치 활성 영역(touch active area, TA)에 배치되어 있으며, 터치를 감지하는 터치 센서를 형성한다. 여기서 터치는 물체가 터치 패널에 접촉(contact)하는 경우(접촉 터치)뿐만 아니라, 근접하거나 접근한 상태에서 움직이는(hovering) 경우(비접촉 터치)를 포함할 수 있다.

터치 전극(411)은 매트릭스 형태로 배열되어 있으며, 서로 물리적으로 및 전기적으로 분리되어 있다. 터치 전극(411)은 위치에 따라 크기가 다를 수 있다. 터치 전극(411)은 대략 사각형, 삼각형, 원형 등 다양한 형상을 가질 수 있으며, 가장자리가 평탄하지 않게 형성될 수도 있다.

터치 전극(411)은 각자의 터치 신호선(40)을 통해 터치 제어부(도시되지 않음)와 연결될 수도 있다. 이 경우 각 터치 전극(411)은 터치 센서로서 자기 축전기(self-capacitor)를 형성할 수 있다. 자기 축전기는 구동 신호를 입력 받아 소정 전하량으로 충전될 수 있고, 외부 물체의 접촉이 있으면 충전 전하량에 변화가 생겨 입력된 구동 신호와 다른 출력 신호를 출력할 수 있다.

실시예에 따라서, 이웃하는 터치 전극(411)은 터치 센서로서 기능하는 상호 축전기(mutual capacitor)를 형성할 수도 있다. 상호 감지 축전기는 이웃하는 터치 전극(411) 중 하나를 통해 구동 신호를 입력 받고 외부 물체의 접촉에 의한 전하량 변화를 출력 신호로서 나머지 터치 전극을 통해 출력할 수 있다. 복수의 터치 전극(411) 중 일부는 자기 축전기를 형성하고 일부는 상호 축전기를 형성할 수 있으며, 두 가지 종류의 축전기를 동시에 형성할 수도 있다.

터치 전극(411)은 은 나노 와이어(AgNW) 같은 나노 와이어로 형성될 수 있으며, 이하에서는 나노 와이어로 터치 전극(411)이 형성되는 경우를 예로 들어 설명한다. 나노 와이어로 터치 전극(411)을 형성하면 응력이 가해지더라도 단선될 위험이 적기 때문에, 나노 와이어는 플렉서블 터치 패널을 구현하는데 유리할 수 있다. 하지만, 터치 전극(411)은 메탈 메시(metal mesh) 같은 메시 패턴이나 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO) 같은 투명 도전성 산화물(TCO), 또는 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀(graphene) 등의 도전성 물질로 형성될 수도 있다.

도 2를 참고하면, 터치 전극(411) 위에는 보호막(passivation layer)(450)이 형성되어 있다. 보호막(450)은 규소 산화물(SiOx, SiON, SiONx)이나 규소 질화물(SiNx) 같은 무기 물질로 형성될 수 있다. 기판(210)이 플라스틱으로 이루어진 경우에는 재료의 특성상 열에 취약하므로 고온 공정으로 보호막(450)을 형성하는 것이 곤란할 수 있으며, 이 때는 보호막(450)이 저온 공정에서 가능한 규소 산화물로 형성될 수 있다.

다시 도 1을 참고하면, 각각의 터치 전극(411)에는 터치 신호선(40)이 연결되어 있다. 터치 신호선(40)은 터치 전극(411)과 마찬가지로 기판(210) 위에 형성되어 있으며, 나노 와이어로 이루어진 층을 포함할 수 있다.

터치 신호선(40)은 주로 터치 활성 영역(TA)에 위치하며 터치 전극(411)과 직접 연결되어 있는 연결부(connection portion)(40a)를 포함하고, 연결부(40a)로부터 터치 활성 영역(TA) 주변의 주변 영역(peripheral area, PA)으로 연장되어 형성된 팬아웃부(fanout portion)(40b) 및 패드부(pad portion)(40c)를 포함한다.

각각의 패드부(40c)는 터치 제어부(도시되지 않음) 등과의 연결을 위한 연성회로기판(도시되지 않음)이나 구동 IC(도시되지 않음)가 부착되는 패드에 해당할 수 있다. 팬아웃부(40b)는 그러한 패드를 형성하기 위해 복수의 연결부(40a)에서 연장되어 구부러지면서 예컨대 부채꼴과 같이 수렴하는 부분이다.

복수의 패드부(40c)를 형성하기 위해서 복수의 연결부(40a)가 사선 방향으로 수렴하므로, 팬아웃부(40b)는 서로 이격되게 배치되기 위해서는 연결부(40a)보다 폭이 좁게, 예컨대 수 십 나노미터 이하의 폭으로 형성될 수 있다. 더욱이, 표시 장치에서 베젤을 최소화하는 것이 요구되고 있고, 그러기 위해서는 터치 패널(10)에서 죽은 공간(dead space)을 줄이기 위해 주변 영역(PA)을 좁게 형성해야 한다. 따라서 팬아웃부(40b)를 형성하기 위한 공간을 충분히 확보하기가 어려우므로, 팬아웃부(40b)의 폭은 더욱 제한될 수 있다. 이로 인해, 터치 전극(411)이 나노 와이어로 형성되고, 이에 따라 터치 신호선(40) 또한 나노 와이어로 형성되는 경우, 팬아웃부(40b)에서 저항이 크게 증가하거나 나노 와이어의 구조적 특성상 단선될 수 있다. 나노 와이어로 터치 패널(10)을 형성 시 터치 신호선(40)의 팬아웃부(40b)에서 발생하는 위와 같은 문제를 개선하기 위해서, 본 발명의 실시예에 있어서 팬아웃부(40b)는 나노 와이어 위에 금속선이 적층된 구조를 가진다. 패드부(40c) 또한 유사한 문제가 발생할 수 있고, 팬아웃부(40b)와 같은 공정으로 형성될 수 있으므로, 패드부(40c)도 그러한 적층 구조를 가진다.

도 3 및 도 4를 참고하면, 하나의 터치 신호선(40)의 팬아웃부(40b) 및 패드부(40c)의 적층 구조가 각각 예시된다.

먼저 팬아웃부(40b)를 살펴보면, 기판(210) 위에 제1 도전체(412), 식각 저지체(etch stopper)(422), 제2 도전체(432) 및 제3 도전체(442)가 순차적으로 형성되어 있고, 그 위로 이들을 덮는 보호막(450)이 형성되어 있다.

제1 도전체(412)는 터치 전극(411)과 마찬가지로 AgNW 같은 나노 와이어로 형성되어 있다. 제1 도전체(412)의 폭은 수 십 마이크로미터, 예컨대 약 50 마이크로미터 이하의 폭을 가질 수 있으며, 약 10 마이크로미터 이하일 수도 있다. 따라서 제1 도전체(412) 만으로는 터치 신호를 전송 품질을 보증하기 어려울 수 있다.

제2 도전체(432)은 제1 도전체(412) 위에 이와 중첩하게 형성되어 있다. 제2 도전체(432)는 제1 도전체(412)보다 폭이 좁게 형성될 수 있다. 제2 도전체(432)는 터치 신호선(40)의 폭이 좁아짐으로써 발생할 수 있는, 저항 증가나 단선으로 인한 신호 품질 저하를 방지하기 위해, 신호 전송 능력이 우수한 물질로 형성되어 있다. 예컨대, 제2 도전체(432)는 저저항 금속 또는 합금으로 형성되어 있으며, 그러한 금속의 예로서 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al) 등을 포함할 수 있다.

제3 도전체(442)는 제2 도전체(432)의 산화 등으로 인한 손상을 방지하기 위해 제2 도전체(432) 위에 중첩하게 형성된다. 제3 도전체(442)는 제2 도전체(432)를 완전히 덮도록 형성될 수 있다. 따라서 제3 도전체(442)는 제2 도전체(432)의 상면은 물론 측면까지 감싸도록 형성될 수 있다. 제3 도전체(442)는 제1 도전체(412)보다 폭이 좁은 것으로 도시되어 있지만, 실질적으로 동일한 폭을 가질 수도 있다. 제3 도전체(442)는 제2 도전체(432)로 산소 등이 침투하는 것을 효과적으로 막을 수 있는 재료로 형성될 수 있지만, 터치 신호선(40)의 다른 부분인 패드부(40c)에서 연성회로기판이나 구동 IC 등과 전기적으로 연결되기 위해서 도전성 재료로 형성된다. 제3 도전체(442)는 예컨대 ITO, IZO 같은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있다.

한편, 제1 도전체(412)와 제2 도전체(432) 사이에는 식각 저지체(422)가 형성되어 있다. 식각 저지체(422)는 예컨대 패터닝 공정에 의해 제2 도전체(432)를 형성할 때 제1 도전체(412)를 형성하기 위한 층이 함께 식각되는 것을 방지하기 위해 사용될 수 있다. 식각 저지체(422)는 제3 도전체(442)와 실질적으로 동일한 폭을 가질 수 있다. 제2 도전체(432)는 제1 도전체(412)와 도통되어야 하기 때문에, 이들 사이에 위치하는 식각 저지체(422)는 도전성 재료로 형성된다. 예컨대, 제1 도전체(412)가 은 나노 와이어로 형성되고, 제2 도전체(432)가 몰리브덴이나 구리로 형성되는 경우, 식각 저지체(422)는 ITO, IZO 같은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있다. 하지만, 제1 도전체(412)에 대해 식각 선택비가 높은 에천트를 사용하여 제2 도전체(432)를 형성할 경우, 식각 저지체(422)는 생략될 수도 있다.

보호막(450)은 제3 도전체(443) 위에 위치하여 팬아웃부(40b)를 덮도록 형성되어 있으며, 터치 전극(411) 위에 형성된 보호막(450)과 같은 층으로 형성되어 있다. 보호막(450)은 전술한 바와 같이 규소 산화물, 규소 질화물 같은 무기 물질로 형성될 수 있다.

패드부(40c)를 살펴보면, 패드부(40c)는 전체적으로 팬아웃부(40b)와 동일한 적층 구조를 가진다. 즉, 패드부(40c)는 기판(210) 위에 제1 도전체(413), 식각 저지체(423), 제2 도전체(433) 및 제3 도전체(443)가 순차적으로 형성되어 있고, 제3 도전체(443) 위로 이들을 덮는 보호막(450)이 형성되어 있다. 패드부(40c)의 제1 도전체(413), 식각 저지체(423), 제2 도전체(433) 및 제3 도전체(443)는 팬아웃부(40b)의 제1 도전체(412), 식각 저지체(422), 제2 도전체(432) 및 제3 도전체(442)와 각각 같은 층에 같은 재료로 형성되어 있다. 또한, 제3 도전체(443)는 제2 도전체(433)의 상면은 물론 측면까지 감싸도록 형성될 수 있다. 제2 도전체(433)는 제1 도전체(413) 및 제3 도전체(433)보다 폭이 좁을 수 있고, 제3 도전체(443)는 제1 도전체(413)보다 폭이 좁거나 실질적으로 동일할 수 있다. 팬아웃부(40b)의 식각 저지체(422)가 생략되는 경우, 패드부(40c)의 식각 저지체(423)도 생략될 수 있다. 그 밖에도, 달리 설명하지 않는 한, 패드부(40c)는 팬아웃부(40b)와 구조적 재료적 특징을 공유할 수 있다.

보호막(50)은 패드부(40c)와 팬아웃부(40b)를 덮도록 형성되어 있다. 하지만, 팬아웃부(40b)와 달리, 패드부(40c)는 제3 도전체(443)를 덮고 있던 보호막(450)의 일부가 제거되어 제3 도전체(443)가 외부로 노출되어 있다. 패드에 부착되는 연성회로기판, 구동 IC과 전기적으로 연결될 수 있는 접촉 부위를 형성하기 위함이다.

통상적으로, 제3 도전체(443)는 제2 도전체(433) 위에 보호막(450)을 먼저 형성하고 보호막(450)의 일부를 제거하여 제2 도전체(433)를 노출시킨 후, 그 위에 형성된다. 이 경우 제3 도전체(443)는 보호막(450) 위로 완전히 노출되기 때문에 넓은 접촉 면적을 확보하는데 유리할 수도 있다. 하지만, 제3 도전체(443)를 형성하기 위한 층을 적층하고 패터닝하는 과정에서, 그보다 먼저 형성된 보호막(450)이 손상을 받아 보호막(450)의 기능이 저하되거나 보호막(450)의 뜯김 현상이 발생하는 문제가 있다. 특히, 기판(210)으로 플라스틱 기판을 사용할 때 고온 공정의 적용이 곤란하므로, 보호막(450)은 규소 산화물 같은 산화물 계열의 무기 재료로 형성될 수 있다. 산화물 계열의 무기 재료는 후속하는 패터닝 공정에서 손상되기 쉬울 뿐만 아니라 수분 침투에 취약할 수 있어 제2 도전체(433)를 수분 등으로부터 보호하는데 불충할 수도 있다. 이러한 현상은 팬아웃부(40b)에서도 또한 발생할 수 있다.

본 발명의 실시예에 의할 경우, 제3 도전체(443)가 형성된 후 그 위로 보호막(450)이 형성되므로, 제3 도전체(443)의 형성으로 인한 보호막(450)의 손상이나 뜯김 현상이 발생하지 않는다. 또한, 제3 도전체(443)가 제2 도전체(433) 바로 위에 제2 도전체(433)의 측면까지 감싸는 구조로 형성되므로, 제2 도전체(433)로 산소, 수분 등이 침투하는 것을 막아주는 역할을 할 수 있다.

이제 도 5 내지 도 7을 참고하여 본 발명의 다른 실시예에 대해 설명한다.

도 5는 내지 도 7은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.

먼저 도 5를 참고하면, 터치 활성 영역(TA)의 터치 전극이 도시된다. 터치 전극이 하나의 도전층으로 이루어진 전술한 실시예와 달리, 터치 전극은 복수의 도전층으로 이루어져 있다. 예컨대, 터치 전극은 제1 도전체(411), 제2 도전체(421) 및 제3 도전체(441)의 3개의 층으로 형성될 수 있다. 여기서 제1 도전체(411)은 도 2의 터치 전극(411)과 동일한 층일 수 있고, 그 위로 제2 도전체(432) 및 제3 도전체(442)가 더 형성되어 있다. 제2 도전체(421)와 제3 도전체(441)는 각각 팬아웃부 및 패드부(40b, 40c)의 식각 저지체(422, 423) 및 제3 도전체(442, 443)의 형성을 위한 층들을 적층한 후 패터닝 시, 제1 도전체(411)와 중첩하는 부분을 제거하지 않음으로써 형성될 수 있다. 팬아웃부 및 패드부(40b, 40c)가 식각 저지체(422, 423)를 포함하지 않는 경우, 터치 전극은 제2 도전체(421)를 포함하지 않을 수 있다.

도 6 및 도 7을 참고하면, 도 3 및 도 4의 실시예와 달리, 팬아웃부(40b)와 패드부(40c)는 제1 도전체(412, 413)와 제2 도전체(432, 433) 사이에 식각 저지체가 위치하지 않고, 제1 도전체(412, 413)와 제2 도전체(432, 433)가 직접 접촉하는 구조를 가진다. 전술한 바와 같이, 제2 도전체(432, 433)를 형성할 때 제1 도전체(412, 413)를 식각하지 않는 에천트를 사용하면 이들 사이의 식각 저지체를 형성하지 않더라도 제1 도전체(412, 413)가 손상되지 않는다.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 제작하는 방법에 대해서 도 8 내지 도 13을 참고하여 설명한다. 특별한 언급이 없더라도 도 1 내지 도 4도 함께 참고할 수 있다.

도 8 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 제작하는 과정을 보여주는 공정 단면도이다.

도 8을 참고하면, 유리 또는 플라스틱 같은 절연 물질로 형성된 기판(210) 위에, 제1 도전층(41), 식각 저지층(42) 및 제2 도전층(43)을 순차적으로 적층한다. 제1 도전층(41)은 은 나노 와이어 같은 나노 와이어로 형성될 수 있지만, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 식각 저지층(42)은 도전성이 있으면서 제2 도전층(43)의 패터닝 시 식각되지 않는 물질로 형성될 수 있으며, 예컨대 ITO, IZO 같은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있다. 제2 도전층(43)은 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 은(Ag), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al) 등의 금속 물질로 형성될 수 있다.

도 9를 참고하면, 제2 도전층(43)을 마스크를 사용한 포토리소그래피(photolithography) 공정과 식각 공정으로 패터닝하여 팬아웃부(40b)의 제2 도전체(432)와 패드부(40c)의 제2 도전체(433)를 동시에 형성한다. 이 때, 터치 패널(10)의 터치 활성 영역(TA)에 위치하는 제2 도전층(43)은 제거된다. 제2 도전층(43)과 제1 도전층(41) 사이에는 식각 저지층(42)이 형성되어 있으므로, 선택비가 낮은 에천트 즉, 제1 도전층(41)도 함께 식각할 수 있는 에천트를 사용하더라도 제2 도전층(43)의 패터닝 시 제1 도전층(41)이 손상되지 않는다. 하지만, 제1 도전층(41)에 대해 선택비가 높은 에천트를 사용할 경우 식각 저지층(42)의 형성을 요하지 않는다.

도 10을 참고하면, 제2 도전체(432, 433) 및 식각 저지층(42) 위에 제3 도전층(44)을 형성한다. 제3 도전층(44)은 예컨대 ITO, IZO 같은 투명 도전성 산화물로 형성될 수 있고, 식각 저지층(42)과 동일한 재료로 형성될 수도 있다.

도 11을 참고하면, 제3 도전층(44)을 패터닝하여 제2 도전체(432, 433) 위로 제2 도전체(432, 433)을 감싸는 제3 도전체(442, 443)을 형성한다. 따라서 제3 도전체(442, 443)는 제2 도전체(432, 433)보다 넓은 폭으로 형성된다. 제3 도전층(44)의 패터닝 시, 식각 저지층(42)도 함께 패터닝되어 식각 저지체(422, 423)를 형성한다. 따라서 제3 도전층(44)과 식각 저지층(42)의 패터닝은 하나의 마스크를 사용하여 동시에 수행되고, 제3 도전체(442, 443)와 식각 저지체(422, 423)은 실질적으로 동일한 폭을 갖는다. 식각 저지층(42)이 제3 도전층(44)과 다른 재료로 형성될 경우, 이들 모두를 식각할 수 있는 에천트가 사용될 수 있다. 제3 도전층(44)의 패터닝 시, 터치 활성 영역(TA)에 있는 제3 도전층(44) 및 식각 저지층(42)은 제거되어, 터치 활성 영역(TA)에서는 제1 도전층(41)이 외부로 노출될 수 있다.

도 12를 참고하면, 제1 도전층(41)을 패터닝하여 식각 저지체(422, 423) 아래로 팬아웃부(40b) 및 패드부(40c)의 제1 도전체(412, 413)을 형성한다. 제1 도전층(41)의 패터닝 시 제2 도전체(432, 433)의 상면과 측면이 모두 제3 도전체(442, 443)에 의해 덮여 있다. 따라서 제2 도전체(432, 433)는 제3 도전체(442, 443)에 의해 에천트로부터 보호되므로, 선택비가 낮은 에천트를 사용하더라도 손상되지 않는다. 한편, 제1 도전층(41)의 패터닝 시 터치 활성 영역(TA)의 제1 도전층(41)도 패터닝되어 도 1 및 도 2에 도시된 것과 같은 터치 전극(411)과 터치 신호선(40)의 연결부(40a)가 형성된다.

실시예에 따라서, 제1 도전층(41)은 제3 도전층(44) 및 식각 저지층(42)의 패터닝 시 함께 패터닝될 수 있다. 예컨대, 제3 도전층(44) 및 식각 저지층(42)이 ITO로 형성되고 제1 도전층(41)이 은 나노 와이어로 형성되고, ITO와 은 나노 와이어를 모두 식각할 수 있는 에천트를 사용할 경우, 하나의 마스크를 사용하여 세 층을 모두 패터닝할 수 있다. 그 결과로 형성되는 제3 도전체(442, 433), 식각 저지체(422, 423) 및 제1 도전체(412, 413)는 실질적으로 동일한 폭을 가질 수 있다.

도 13을 참고하면, 팬아웃부(40b) 및 패드부(40c)를 구성하는 모든 도전체를 형성한 후에, 이들을 덮는 보호막(450)을 규소 산화물, 규소 질화물 등으로 형성한다. 보호막(450)은 터치 활성 영역(TA)의 터치 전극(411)과 연결부(40a) 위에도 전면적으로 형성되어 도전체가 손상되지 않도록 보호한다. 보호막(450)은 제3 도전층(44)을 패터닝하여 제3 도전체(442, 433)를 형성한 후에 형성되므로, 터치 패널(10)의 제작 과정에서 손상되지 않는다. 또한, 제2 도전체(432, 433)를 제3 도전체(442, 443)가 완전히 덮고 있으므로, 보호막(450)을 통해 수분 등이 침투하더라도 제3 도전체(442, 443)가 버퍼층으로 기능할 수 있다.

보호막(450)을 형성한 후, 패드부(40c)에서만 제3 도전체(443)가 외부로 노출될 수 있도록 보호막(450)이 패터닝되어, 도 1 내지 도 4에 도시된 것과 같은 터치 패널(10)이 형성된다. 제3 도전체(443)는 그 위에 부착되는 연성회로기판 등에 제2 도전체(433)를 전기적으로 연결시키는 역할을 수행한다.

도 14를 참고하여 터치 감지의 원리 및 방법에 대해 좀더 상세하게 설명한다.

도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 센서 및 터치 신호 처리부의 회로도이다.

도 1과 함께 도 14를 참고하면, 자기 정전용량 방식의 경우, 각각의 터치 전극(411)은 예컨대 화소의 공통 전극과 형성될 수 있는 자기 축전기(Cs)를 형성하고, 따라서 자기 축전기(Cs)는 실질적으로 수직 방향으로 형성된다. 터치 전극(411)은 터치 신호선(Tp)을 통해 터치 제어부(700)로부터 구동 신호를 인가받고 출력 신호를 송신한다. 구동 신호는 다양한 파형 및 전압 레벨을 가질 수 있고, 예컨대 주기적으로 출력되는 펄스를 포함할 있고, 적어도 두 개의 서로 다른 전압 레벨을 포함할 수도 있다. 터치 전극(411)에 구동 신호가 인가되면, 자기 축전기(Cs)에 전하가 충전되고 터치 전극(411)은 출력 신호를 출력한다. 터치가 없으면, 자기 축전기(Cs)에 충전되어 있는 전하량이 변하지 않으므로, 터치 전극(411)은 구동 신호와 실질적으로 동일한 출력 신호를 출력하지만, 터치가 있으면, 전하량이 변하여 출력 신호가 변하게 된다. 터치 제어부(700)는 전술한 바와 같이 이러한 변화를 처리하여 감지 신호(Vout)를 생성하며, 터치 제어부(700)는 그러한 역할을 하는 신호 처리부를 포함할 수 있다.

터치 제어부(700)는 출력선(OL)로부터 출력 신호를 입력받아 처리하여, 터치 여부 및 터치 위치 등의 터치 정보를 생성할 수 있다. 이를 위해, 터치 제어부(700)는 출력선(OL)과 연결되어 있는 복수의 증폭기(AP)를 포함할 수 있다. 증폭기(AP)는 반전 단자(-)와 출력 단자 사이에 연결되어 있는 축전기(Cv)를 포함할 수 있다. 증폭기(AP)의 비반전 단자(+)는 접지 전압 등의 일정 전압과 연결되어 있고, 증폭기(AP)의 반전 단자(-)는 출력선(OL)에 연결되어 있다. 증폭기(AP)는 전류 적분기로서 출력선(OL)으로부터의 출력 신호를 소정 시간(예를 들어 한 프레임) 동안 적분하여 감지 신호(Vout)를 생성할 수 있다.

한편, 상호 정전용량 방식의 경우, 이웃하는 터치 전극 중 한 전극(입력 전극)에는 펄스파 같은 구동 신호가 입력되고, 다른 전극(출력 전극)에는 직류 전압이 인가될 수 있다. 출력 전극에 직류 전압이 인가될지라도, 스윙하는 구동 신호와 커플링에 의해 전압이 변동한다. 입력 전극과 출력 전극 사이에는 전위 차로 인한 전기장과 정전 용량이 형성되는데, 손가락, 터치펜 등의 접촉에 의해 정전 용량이 변하면 출력 전극(Rx)의 전압 변동의 폭이 변하므로, 이러한 변화에 기초하여 터치를 감지할 수 있다.

실시예에 띠라서, 터치 패널(10)은 자가 축전기 방식에 의한 터치 감지와 상호 축전기 방식에 의한 터치 감지가 모두 수행되도록 구동될 수도 있다. 예컨대, 매 프레임마다 제1 기간 동안에는 터치 전극(411)이 자가 축전기 방식으로 구동되고 제2 기간 동안에는 터치 전극(411)이 상호 축전기 방식으로 구동될 수 있다.

도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 포함하는 표시 장치의 배치도이다.

도 15를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널을 포함하는 표시 장치는 표시 패널(300), 이에 연결된 게이트 구동부(400)와 데이터 구동부(500), 그리고 게이트 구동부(400)와 데이터 구동부(500)를 제어하는 표시 제어부(600)를 포함한다. 표시 장치는 또한 터치 패널(10) 및 이를 제어하는 터치 제어부(700)를 포함한다. 터치 전극이 형성되어 있는 터치 패널(10)은 표시 패널(300)의 외면에 부착되어 있을 수 있지만, 터치 전극이 표시 패널(300)의 외면이나 내부에 직접 형성되어, 표시 패널(300)이 터치 패널(10)이 될 수도 있다.

표시 패널(300)은 복수의 게이트선(G1-Gn) 및 복수의 데이터선(D1-Dm), 그리고 이에 연결되어 있으며 대략 행렬의 형태로 배열된 복수의 화소(PX)를 포함한다. 터치 패널(10)은 복수의 터치 신호선(T1-Tp) 및 이에 연결되어 있으며 대략 행렬 형태로 배열된 복수의 터치 센서 유닛(TSU)을 포함한다. 터치 센서 유닛(TSU)는 전술한 터치 전극(411)에 의해 형성된다.

게이트선(G1-Gn)은 대략 가로 방향으로 연장되어 있으며, 각 화소(PX)에 연결되어 있는 박막 트랜지스터(TFT) 같은 스위칭 소자를 턴 온 시키는 게이트 온 전압과 턴 오프 시키는 게이트 오프 전압을 포함하는 게이트 신호를 전달한다. 데이터선(D1-Dm)은 대략 세로 방향으로 연장되어 있으며, 데이터 전압을 전달한다. 게이트 온 전압에 따라 스위칭 소자가 턴 온 되면, 데이터선에 인가되는 데이터 전압이 화소에 인가된다.

화소(PX)는 영상을 표시하는 최소 단위로서, 하나의 화소가 기본 색(primary color) 중 하나를 고유하게 표시하거나, 복수 개의 화소가 시간에 따라 번갈아 기본 색을 표시함으로써, 이들 기본 색의 공간적 또는 시간적 합으로 원하는 색상을 표시할 수 있다. 화소(PX)는 전체적으로 사각형일 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 각각의 화소(PX)에는 공통 전압과 데이터 전압이 인가된다.

터치 신호선(T1-SLp)은 터치 센서 유닛(TSU)에 연결되어 구동 신호와 출력 신호를 전달한다. 자기 축전기 방식의 경우, 터치 신호선(T1-SLp)는 터치 센서 유닛(TSU)에 구동 신호를 전달하는 입력선인 동시에 터치 센서 유닛(TSU)으로부터 출력 신호를 전달하는 출력선일 수 있다. 상호 축전기 방식의 경우, 터치 신호선(T1-SLp)의 일부는 터치 센서 유닛(TSU)에 구동 신호를 전달하는 입력선이고, 일부는 터치 센서 유닛(TSU)로부터 출력 신호를 전달하는 출력선일 수 있다.

터치 센서 유닛(TSU)은 자기 정전 용량 방식으로 터치에 따른 출력 신호를 생성할 수 있다. 터치 센서 유닛(TSU)은 터치 신호선(T1-Tp)으로부터 구동 신호를 수신하고 손가락, 펜 등의 외부 물체의 터치에 의한 정전 용량 변화에 기초한 출력 신호를 터치 신호선(T1-Tp)를 통해 출력할 수 있다. 터치 센서 유닛(TSU)은 상호 정전 용량 방식으로 동작할 수도 있다.

표시 제어부(600)는 외부의 그래픽 처리부(도시되지 않음)로부터 입력 영상 신호(R, G, B) 및 이의 제어 신호(CONT) 즉, 수평 동기 신호(Hsync), 수직 동기 신호(Vsync), 클록 신호(CLK), 데이터 인에이블 신호(DE) 등을 수신할 수 있다. 표시 제어부(600)는 영상 신호(R, G, B)와 제어 신호(CONT)를 기초로 영상 신호(R, G, B)를 표시 패널(300)의 동작 조건에 적합하게 처리한 후, 영상 데이터(DAT), 게이트 제어 신호(CONT1), 데이터 제어 신호(CONT2) 및 클록 신호를 생성하여 출력한다. 표시 제어부(600)는 또한 터치 제어부(700)에 동기 신호(Sync)를 출력할 수 있고, 터치 제어부(700)로부터 터치 정보를 수신할 수 있다.

게이트 제어 신호(CONT1)는 게이트 신호의 시작을 지시하는 수직 개시 신호(start pulse vertical signal, STV)와 게이트 온 전압의 생성의 기준이 되는 클록 신호(clock pulse vertical signal, CPV)를 포함한다. 수직 시작 신호(STV)의 출력 주기는 1 프레임(또는 리프레시 레이트(refresh rate))과 일치한다. 게이트 제어 신호(CONT1)는 또한 게이트 온 전압의 지속 시간을 한정하는 출력 인에이블 신호(output enable signal)(OE)를 더 포함할 수 있다.

데이터 제어 신호(CONT2)는 한 행의 화소에 대한 영상 데이터(DAT)의 전송 시작을 지시하는 수평 시작 신호(start pulse horizontal signal)(STH)와 데이터선(D1-Dm)에 해당 데이터 전압을 인가하라는 로드 신호(TP) 등을 포함한다. 표시 패널(300)이 액정 표시 패널인 경우 데이터 제어 신호(CONT2)는 공통 전압에 대한 데이터 전압의 극성을 반전시키는 반전 신호(RVS)를 더 포함할 수 있다.

게이트 구동부(400)는 게이트 제어 신호(CONT1)에 따라서 게이트 온 전압과 게이트 오프 전압인 게이트 신호를 게이트선(G1-Gn)에 인가한다.

데이터 구동부(500)는 표시 제어부(600)로부터 데이터 제어 신호(CONT2) 및 영상 데이터(DAT)를 수신하고, 계조 전압 생성부(도시되지 않음)에서 생성된 계조 전압을 이용하여 영상 데이터(DAT)를 데이터 전압으로 변환하고 이를 데이터선(D1-Dm)에 인가한다.

터치 제어부(700)는 터치 센서 유닛(TSU)에 입력 신호를 전송하고 터치 센서 유닛(TSU)으로부터 출력 신호를 수신하여 터치 정보를 생성한다. 터치 제어부(700)는 터치 센서 유닛(TSU)으로부터의 출력 신호를 처리하는 신호 처리부를 포함할 수 있다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 통상의 기술자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.

10: 터치 패널 210: 기판
300: 표시 패널 40: 터치 신호선
40a: 연결부 40b: 팬아웃부
40c: 패드부 41: 제1 도전층
411: 터치 전극 412, 413: 제1 도전체
42: 식각 저지층 422, 423: 식각 저지체
43: 제2 도전층 432, 433: 제2 도전체
44: 제3 도전층 442, 443: 제3 도전체
450: 보호막

Claims

기판;
상기 기판 위에 위치하는 복수의 터치 전극; 및
상기 복수의 터치 전극에 각각 연결되어 있으며, 팬아웃부 및 패드부를 각각 포함하는 복수의 터치 신호선;
을 포함하며,
상기 팬아웃부 및 상기 패드부는 제1 도전체, 상기 제1 도전체 위의 제2 도전체, 그리고 상기 제2 도전체 위의 제3 도전체를 포함하고, 상기 제3 도전체 위에 보호막이 위치하는 터치 패널.
제1항에서,
상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체의 측면을 감싸는 터치 패널.
제2항에서,
상기 터치 전극 및 상기 제1 도전체는 나노 와이어로 형성되어 있는 터치 패널.
제3항에서,
상기 제2 도전체는 금속으로 형성되어 있는 터치 패널.
제4항에서,
상기 제3 도전체는 투명 도전성 산화물로 형성되어 있는 터치 패널.
제5항에서,
상기 보호막은 규소 산화물 또는 규소 질화물로 형성되어 있는 터치 패널.
제1항에서,
상기 제1 도전체와 상기 제2 도전체 사이에 제4 도전체를 더 포함하는 터치 패널.
제7항에서,
상기 제4 도전체는 상기 제3 도전체와 동일한 물질로 형성되어 있는 터치 패널.
제7항에서,
상기 터치 전극은 나노 와이어로 형성된 제1 층, 상기 제1 층 위에 상기 제4 도전체와 동일한 물질로 형성된 제2 층, 그리고 상기 제2 층 위에 상기 제3 도전체와 동일한 물질로 형성된 제3 층을 포함하는 터치 패널.
제1항에서,
상기 제1 도전체는 상기 제3 도전체보다 넓은 폭을 가지며, 상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체보다 넓은 폭을 가지는 터치 패널.
복수의 터치 전극; 및 상기 복수의 터치 전극에 각각 연결되어 있으며, 팬아웃부 및 패드부를 각각 포함하는 복수의 터치 신호선;을 포함하는 터치 패널을 제조하는 방법으로서,
기판 위에 제1 도전층을 형성하는 단계;
상기 제1 도전층 위에 제2 도전층을 형성하고 패터닝하여 상기 팬아웃부 및 패드부의 제2 도전체를 형성하는 단계;
상기 제2 도전체 위에 제3 도전층을 형성하고 패터닝하여 상기 제2 도전체 위에 상기 팬아웃부 및 패드부의 제3 도전체를 형성하는 단계;
상기 제1 도전층을 패터닝하여 상기 제2 도전체 아래에 상기 팬아웃부 및 패드부의 제1 도전체와 상기 터치 전극을 형성하는 단계; 및
상기 제3 도전체 및 상기 터치 전극 위에 보호막을 형성하는 단계;
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
제11항에서,
상기 제2 도전층은 상기 제3 도전층보다 좁은 폭을 가지도록 형성되고, 제3 도전층은 상기 제2 도전층의 측면을 감싸도록 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
제11항에서,
상기 제1 도전층의 형성 후 상기 제2 도전층의 형성 전에, 상기 제1 도전층 위에 식각 저지층을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
제13항에서,
상기 식각 저지층을 패터닝하여 상기 제1 도전층과 상기 제2 도전체 사이에 위치하는 상기 팬아웃부 및 상기 패드부의 제4 도전체를 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 식각 저지층을 패터닝하는 단계는 상기 제3 도전층을 패터닝하는 단계와 동시에 수행되는 터치 패널의 제조 방법.
제14항에서,
상기 제3 도전체는 상기 제2 도전체의 측면을 감싸면서 상기 제4 도전체와 접촉하도록 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
제11항에서,
상기 제1 도전층은 나노 와이어로 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
제16항에서,
상기 제2 도전층은 금속으로 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
제17항에서,
상기 제3 도전층은 투명 도전성 산화물로 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
제18항에서,
상기 보호막은 규소 산화물 또는 규소 질화물로 형성되는 터치 패널의 제조 방법.