KR20160045019A - 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 신규한 화합물에 관한 것으로, 특히 형광 및 인광용 유기발광소자에 적용시 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있는 신규한 화합물에 관한 것이다.
Description
본 발명은 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자에 관한 것으로, 특히 형광 및 인광용 유기발광소자에 적용시 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있는 신규한 화합물에 관한 것이다.
최근, 자체 발광형으로 저전압 구동이 가능한 유기발광소자는, 평판 표시소자의 주류인 액정디스플레이(LCD, liquid crystal display)에 비해, 시야각, 대조비 등이 우수하고 백라이트가 불필요하여 경량 및 박형이 가능하며 소비전력 측면에서도 유리하고 색 재현 범위가 넓어, 차세대 표시소자로서 주목을 받고 있다.
유기발광소자에서 유기물 층으로 사용되는 재료는 크게 기능에 따라, 발광 재료, 정공주입 재료, 정공수송 재료, 전자수송 재료, 전자주입 재료 등으로 분류될 수 있다. 상기 발광 재료는 분자량에 따라 고분자과 저분자로 분류될 수 있고, 발광 메커니즘에 따라 전자의 일중항 여기상태로부터 유래되는 형광 재료와 전자의 삼중항 여기상태로부터 유래되는 인광 재료로 분류될 수 있으며, 발광 재료는 발광 색에 따라 청색, 녹색, 적색 발광 재료와 보다 나은 천연색을 구현하기 위해 필요한 노란색 및 주황색 발광 재료로 구분될 수 있다. 또한, 색순도의 증가와 에너지 전이를 통한 발광 효율을 증가시키기 위하여, 발광 물질로서 호스트/도판트 계를 사용할 수 있다. 그 원리는 발광층을 주로 구성하는 호스트보다 에너지 대역 간극이 작고 발광 효율이 우수한 도판트를 발광층에 소량 혼합하면, 호스트에서 발생한 엑시톤이 도판트로 수송되어 효율이 높은 빛을 내는 것이다. 이때 호스트의 파장이 도판트의 파장대로 이동하므로, 이용하는 도판트와 호스트의 종류에 따라 원하는 파장의 빛을 얻을 수 있다.
특히 현재까지 이러한 유기발광소자에 사용되는 정공주입 및 정공수송 재료에는 카바졸 골격을 가지는 아민 유도체가 많이 연구되었으나 보다 높은 구동전압, 낮은 효율 및 짧은 수명으로 인해 실용화하는 데에 많은 어려움이 있었다. 따라서 우수한 특성을 갖는 물질을 이용하여 저전압 구동, 고휘도 및 장수명을 갖는 유기발광소자를 개발하려는 노력이 지속되어 왔다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 유기발광소자에 적용시 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있으며, 특히 청색 및 인광용 유기발광소자에 적합한 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한 상기 신규한 화합물을 포함하여 정공주입 및 정공수송 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 동시에 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있는 유기발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
상기 식에서,
l, m, n, o는 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며, Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R2, R3, R4, R5, 및 R6은 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이다.
또한, 본 발명은 제1전극, 제2전극 및 두 전극 사이에 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기발광소자를 제공한다.
본 발명의 화합물은 청색 및 인광용 유기발광소자에 적용시 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도면의 부호
10 : 기판
11 : 양극
12 : 정공주입층
13 : 정공전달층
14 : 발광층
15 : 전자전달층
16: 음극
도면의 부호
10 : 기판
11 : 양극
12 : 정공주입층
13 : 정공전달층
14 : 발광층
15 : 전자전달층
16: 음극
본 발명의 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
상기 식에서,
l, m, n, o는 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며, Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R2, R3, R4, R5, 및 R6은 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이다.
구체적으로 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-7으로 표시되는 화합물 중 하나인 것이 좋다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-6]
[화학식 1-7]
상기 화학식들에서 n, p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, 및 R13은 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이며,
R5, R6, R7, R8, R9, R10, Ar1, Ar2는 인접한 기 또는 서로 고리를 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 바람직한 구체적인 예는 다음과 같다:
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본 발명에 따른 화학식 1의 화합물은 유기발광소자에 적용시 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현할 수 있으며, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
특히, 상기 화학식 1-1 및 1-2로 표시되는 화합물은 형광 및 적색 인광 유기발광소자에서 더욱 우수한 소자 특성을 나타낼 수 있으며, 상기 화학식 1-7로 표시되는 화합물은 녹색 인광 유기발광소자에서 더욱 우수한 소자 특성을 나타낼 수 있다.
또한 본 발명의 화합물은 하기 반응식 1을 통하여 제조될 수 있다:
[반응식 1]
상기 반응식 1에서 l, m, n, o, Ar, R1, R2, R3, R4, R5, 및 R6은 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 유기물층에 포함하는 유기발광소자를 제공한다. 구체적으로 정공주입물질, 정공수송물질, 발광보조물질로 포함하는 것이며, 이때, 본 발명의 화합물은 단독으로 사용되거나 공지의 유기발광 화합물과 함께 사용될 수 있다. 더욱 구체적으로는 상기 유기발광소자는 형광, 적색인광, 녹색인광 유기발광소자인 것이 좋다.
또한 본 발명의 유기발광소자는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 바, 상기 유기발광소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
상기 유기발광소자는 제1전극(애노드(anode))과 제2전극(캐소드(cathod)) 사이에 정공주입층(HIL), 정공수송층(HTL), 발광보조층, 발광층(EML), 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL) 등의 유기물층을 1 개 이상 포함할 수 있다.
먼저, 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 애노드 전극용 물질을 증착시켜 애노드를 형성한다. 이때, 상기 기판은 통상의 유기발광소자에서 사용되는 기판을 사용할 수 있으며, 특히 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면평활성, 취급용이성, 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용하는 것이 좋다. 또한, 애노드 전극용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등을 사용할 수 있다. 상기 애노드 전극용 물질은 통상의 애노드 형성방법에 의해 증착할 수 있으며, 구체적으로 증착법 또는 스퍼터링법에 의해 증착할 수 있다.
그 다음, 상기 애노드 전극 상부에 정공주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB(Langmuir-Blodgett)법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 상기 진공증착법에 의해 정공주입층을 형성하는 경우 그 증착조건은 정공주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 정공주입층의 구조 및 열적특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 50-500 ℃의 증착온도, 10-8 내지 10-3 torr의 진공도, 0.01 내지 100 Å/sec의 증착속도, 10 Å 내지 5 ㎛의 층 두께 범위에서 적절히 선택할 수 있다.
상기 정공주입층 물질은 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용할 수 있으며, 공지의 물질과 함께 사용할 수도 있다. 상기 공지의 물질은 특별히 제한되지 않으며, 미국특허 제4,356,429호에 개시된 구리 프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 스타버스트형 아민 유도체류인 TCTA(4,4',4"-트리(N-카바졸릴)트리페닐아민), m-MTDATA(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)트리페닐아민), m-MTDAPB(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)페녹시벤젠), HI-406(N1,N1'-(비페닐-4,4'-디일)비스(N1-(나프탈렌-1-일)-N4,N4-디페닐벤젠-1,4-디아민) 등을 정공주입층 물질로 사용할 수 있다.
다음으로 상기 정공주입층 상부에 정공수송층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 상기 진공증착법에 의해 정공수송층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다.
또한, 상기 정공수송층 물질은 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용할 수 있으며, 공지의 물질과 함께 사용할 수도 있다. 상기 공지의 물질은 특별히 제한되지는 않으며, 정공수송층에 사용되고 있는 통상의 공지 물질 중에서 임의로 선택하여 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 정공수송층 물질은 N-페닐카바졸, 폴리비닐카바졸 등의 카바졸 유도체, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD), N.N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐 벤지딘(α-NPD) 등의 방향족 축합환을 가지는 통상의 아민 유도체 등이 사용될 수 있다.
또한 상기 정공수송층 상부에 보조층을 더욱 포함할 수 있다. 상기 보조층은 정공수송층 상부에 보조층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 상기 보조층은 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물을 사용할 수 있으며, 이 경우 정공수송층은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 사용하는 것이 좋다.
[화학식 2]
상기 화학식에서,
l, m, n, o는 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며, Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이다.
상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 구체적인 예는 다음과 같다:
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상기와 같은 경우, 효율 상승 및 수명 개선 효과가 현저히 개선될 수 있다.
그 후, 상기 정공수송층 또는 보조층 상부에 발광층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 상기 진공증착법에 의해 발광층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다. 또한, 상기 발광층 재료는 공지의 화합물을 호스트 또는 도펀트로 사용할 수 있다.
일예로 형광 도펀트로는 이데미츠사(Idemitsu사)에서 구입 가능한 IDE102 또는 IDE105, 또는 BD142(N6,N12-비스(3,4-디메틸페닐)-N6,N12-디메시틸크리센-6,12-디아민)를 사용할 수 있으며, 인광 도펀트로는 녹색 인광 도펀트 Ir(ppy)3(트리스(2-페닐피리딘) 이리듐), 청색 인광 도펀트인 F2Irpic(이리듐(Ⅲ) 비스[4,6-다이플루오로페닐)-피리디나토-N,C2'] 피콜린산염), UDC사의 적색 인광 도펀트 RD61 등이 공동 진공증착(도핑)될 수 있다.
또한, 발광층에 인광 도펀트와 함께 사용할 경우에는 삼중항 여기자 또는 정공이 전자수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여 정공억제재료(HBL)를 추가로 진공증착법 또는 스핀코팅법에 의해 적층할 수 있다. 이때 사용할 수 있는 정공억제물질은 특별히 제한되지는 않으나, 정공억제재료로 사용되고 있는 공지의 것에서 임의의 것을 선택해서 이용할 수 있다. 예를 들면, 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 또는 일본특개평 11-329734(A1)에 기재되어 있는 정공억제재료 등을 들 수 있으며, 대표적으로 Balq(비스(8-하이드록시-2-메틸퀴놀리놀나토)-알루미늄 비페녹사이드), 페난트롤린(phenanthrolines)계 화합물(예: UDC사 BCP(바쏘쿠프로인)) 등을 사용할 수 있다.
상기와 같이 형성된 발광층 상부에는 전자수송층이 형성되는데, 이때 상기 전자수송층은 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성될 수 있다.
상기 전자수송층 재료는 전자주입전극으로부터 주입된 전자를 안정하게 수송하는 기능을 하는 것으로서 그 종류가 특별히 제한되지는 않으며, 예를 들어 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄(Alq3), 또는 ET4(6,6'-(3,4-디메시틸-1,1-디메틸-1H-실올-2,5-디일)디-2,2'-비피리딘)을 사용할 수 있다. 또한, 전자수송층 상부에 캐소드로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자주입층(EIL)이 적층될 수 있으며, 전자주입층 물질로는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등의 물질을 이용할 수 있다.
또한, 상기 전자수송층의 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택할 수 있다.
그 뒤, 상기 전자수송층 상부에 전자주입층 물질을 형성할 수 있으며, 이때 상기 전자수송층은 통상의 전자주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성되며, 특히 진공증착법에 의해 형성하는 것이 좋다.
마지막으로 전자주입층 상부에 캐소드 형성용 금속을 진공증착법이나 스퍼터링법 등의 방법에 의해 형성하고 캐소드로 사용한다. 여기서 캐소드 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물, 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등이 있다. 또한, 전면 발광소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투과형 캐소드를 사용할 수도 있다.
본 발명의 유기발광소자는 애노드, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 캐소드 구조의 유기발광소자 뿐만 아니라, 다양한 구조의 유기발광소자의 구조가 가능하며, 필요에 따라 발광보조층과 같은 1층 또는 2층의 중간층을 더 형성하는 것도 가능하다.
상기와 같이 본 발명에 따라 형성되는 각 유기물층의 두께는 요구되는 정도에 따라 조절할 수 있으며, 구체적으로는 1 내지 1,000 ㎚이며, 더욱 구체적으로는 5 내지 200 ㎚인 것이 좋다. 이 범위 내에서 고효율, 장수명, 고색순도의 효과가 더욱 우수하다.
또한 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기물층은 유기물층의 두께를 분자 단위로 조절할 수 있기 때문에 표면이 균일하며, 형태안정성이 뛰어난 장점이 있다.
본 발명의 유기발광소자는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하여 정공주입 및 정공전달 특성이 우수하고, 동시에 전자차단 특성이 우수하며, 높은 삼중항 에너지 및 높은 Tg를 구현하여, 낮은 구동전압, 저소비전력, 고효율 및 장수명을 가진다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
OP의 합성
목적 화합물 합성을 위해 OP의 준비는 상기 단계를 거쳐 합성하였다.
하기 OP1의 합성법은 다음과 같다.
둥근바닥플라스크에 N-phenylnaphthalen-1-amine 10 g, 1-bromo-4-iodobenzene 18.0 g, t-BuONa 6.5 g, Pd2(dba)3 1.7 g,(t-Bu)3P 2.6 ml를 톨루엔 100 ml에 녹인 후 50 ℃로 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 중간체 OP1 7.6 g (수율 45%)를 얻었다.
상기 OP1과 대등한 방법으로 출발물질을 달리하여 하기 OP2 내지 OP19를 합성하였다.
화학식 1의
합성예
화합물 1의 합성
둥근바닥플라스크에 1H-indole 3.0 g, OP1 10.54 g, t-BuONa 3.7 g, Pd2(dba)3 0.95 g,(t-Bu)3P 1.1 ml를 톨루엔 95 ml에 녹인 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 화합물1 3.63 g (수율 50%)를 얻었다.
m/z: 486.21 (100.0%), 487.21 (39.7%), 488.22 (7.5%)
화합물 2의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP2를 사용하여 화합물 2를 합성하였다. (수율53%)
m/z: 512.23 (100.0%), 513.23 (41.4%), 514.23 (8.7%), 515.24 (1.1%)
화합물 3의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP3을 사용하여 화합물 3를 합성하였다. (수율48%)
m/z: 552.26 (100.0%), 553.26 (44.7%), 554.26 (9.9%), 555.27 (1.4%)
화합물 4의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP4를 사용하여 화합물 4를 합성하였다. (수율55%)
m/z: 588.26 (100.0%), 589.26 (48.0%), 590.26 (11.4%), 591.27 (1.7%)
화합물 5의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 5를 합성하였다. (수율48%)
m/z: 628.29 (100.0%), 629.29 (51.2%), 630.29 (13.0%), 631.30 (2.1%)
화합물 6의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP6을 사용하여 화합물 6을 합성하였다. (수율49%)
m/z: 588.26 (100.0%), 589.26 (48.0%), 590.26 (11.4%), 591.27 (1.7%)
화합물 7의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP7을 사용하여 화합물 7을 합성하였다. (수율48%)
m/z: 628.29 (100.0%), 629.29 (51.2%), 630.29 (13.0%), 631.30 (2.1%)
화합물 8의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP4를 사용하여 화합물 8을 합성하였다. (수율52%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 9의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 9을 합성하였다. (수율48%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 10의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP6을 사용하여 화합물 10을 합성하였다. (수율50%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 11의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP7을 사용하여 화합물 11을 합성하였다. (수율49%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 12의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP8을 사용하여 화합물 12을 합성하였다. (수율44%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 13의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP9를 사용하여 화합물 13을 합성하였다. (수율38%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 14의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP4를 사용하여 화합물 14를 합성하였다. (수율55%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 15의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 15를 합성하였다. (수율48%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 16의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP6을 사용하여 화합물 16을 합성하였다. (수율49%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 17의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP7을 사용하여 화합물 17을 합성하였다. (수율45%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 18의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP8을 사용하여 화합물 18을 합성하였다. (수율49%)
m/z: 664.29 (100.0%), 665.29 (54.5%), 666.29 (14.7%), 667.30 (2.5%)
화합물 19의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP9를 사용하여 화합물 19를 합성하였다. (수율40%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 20의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2,3-diphenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP4를 사용하여 화합물 20을 합성하였다. (수율42%)
m/z: 740.32 (100.0%), 741.32 (61.3%), 742.33 (18.3%), 743.33 (3.6%)
화합물 21의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 2,3-diphenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 21을 합성하였다. (수율42%)
m/z: 780.35 (100.0%), 781.35 (64.6%), 782.36 (20.3%), 783.36 (4.2%)
화합물 22의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP10을 사용하여 화합물 22를 합성하였다. (수율44%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 23의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 1H-indole 대신 3-phenyl-1H-indole로 OP1 대신 OP11을 사용하여 화합물 23을 합성하였다. (수율43%)
m/z: 744.35 (100.0%), 745.35 (61.3%), 746.36 (18.3%), 747.36 (3.6%)
화합물 24의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP13을 사용하여 화합물 24를 합성하였다. (수율55%)
m/z: 592.29 (100.0%), 593.29 (48.0%), 594.29 (11.4%), 595.30 (1.7%)
화합물 25의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP14를 사용하여 화합물 25를 합성하였다. (수율52%)
m/z: 716.32 (100.0%), 717.32 (59.1%), 718.33 (17.0%), 719.33 (3.2%)
화합물 26의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP15을 사용하여 화합물 26를 합성하였다. (수율50%)
m/z: 592.29 (100.0%), 593.29 (48.0%), 594.29 (11.4%), 595.30 (1.7%)
화합물 27의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP16을 사용하여 화합물 27를 합성하였다. (수율51%)
m/z: 716.32 (100.0%), 717.32 (59.1%), 718.33 (17.0%), 719.33 (3.2%)
화합물 28의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP17을 사용하여 화합물 28을 합성하였다. (수율45%)
m/z: 592.29 (100.0%), 593.29 (48.0%), 594.29 (11.4%), 595.30 (1.7%)
화합물 29의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP18을 사용하여 화합물 29를 합성하였다. (수율47%)
m/z: 716.32 (100.0%), 717.32 (59.1%), 718.33 (17.0%), 719.33 (3.2%)
화합물 30의 합성
화합물 1과 같은 방법으로 OP1 대신 OP19을 사용하여 화합물 30을 합성하였다. (수율47%)
m/z: 714.30 (100.0%), 715.31 (58.8%), 716.31 (17.0%), 717.31 (3.3%)
화학식 2의
합성예
화합물 31의 합성
둥근바닥플라스크에 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 2.2 g, OP3 4.0 g 1,4-dioxan 70 ml에 녹이고 K2CO3(2M) 12 ml와 Pd(PPh3)4 0.3 g을 넣은 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결시켰다. 유기층을 MC로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제 후 재결정하여 화합물 31 2.73 g (수율 56%)를 얻었다.
m/z: 628.29 (100.0%), 629.29 (51.2%), 630.29 (13.0%), 631.30 (2.1%)
화합물 32의 합성
화합물 31과 같은 방법으로 OP3 대신 OP5를 사용하여 화합물 32를 합성하였다. (수율48%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 33의 합성
화합물 31과 같은 방법으로 OP3 대신 OP12를 사용하여 화합물 33을 합성하였다. (수율52%)
m/z: 744.35 (100.0%), 745.35 (61.3%), 746.36 (18.3%), 747.36 (3.6%)
화합물 34의 합성
화합물 31과 같은 방법으로 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 대신 (1-phenyl-1H-indol-3-yl)boronic acid로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 34를 합성하였다. (수율55%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 35의 합성
화합물 31과 같은 방법으로 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 대신 (1-phenyl-1H-indol-3-yl)boronic acid로 OP1 대신 OP7을 사용하여 화합물 35를 합성하였다. (수율55%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 36의 합성
화합물 35와 같은 방법으로 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 대신 (1,2-diphenyl-1H-indol-3-yl)boronic acid 로 OP1 대신 OP5를 사용하여 화합물 36을 합성하였다. (수율52%)
m/z: 780.35 (100.0%), 781.35 (64.6%), 782.36 (20.3%), 783.36 (4.2%)
화합물 37의 합성
화합물 31과 같은 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 대신 (1-phenyl-1H-indol-3-yl)boronic acid로 OP1 대신 OP10을 사용하여 화합물 37을 합성하였다. (수율59%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 38의 합성
화합물 31과 같은 방법으로 (1-phenyl-1H-indol-2-yl)boronic acid 대신 (1,2-diphenyl-1H-indol-3-yl)boronic acid 로 OP1 대신 OP10을 사용하여 화합물 38을 합성하였다. (수율49%)
m/z: 780.35 (100.0%), 781.35 (64.6%), 782.36 (20.3%), 783.36 (4.2%)
유기발광소자의 제조
도 1에 기재된 구조에 따라 유기발광소자를 제조하였다. 유기발광소자는 아래로부터 양극(정공주입전극(11))/정공주입층(12)/정공수송층(13)/발광층(14)/전자전달층(15)/음극(전자주입전극(16)) 순으로 적층되어 있다.
도 1에서 기판(10)은 유기발광소자 제작시 투명한 유리 기판 또는 플렉시블이 가능한 플라스틱 기판일 수 있다.
정공 주입 전극(11)은 유기발광소자의 정공 주입을 위한 양극으로 사용된다. 정공의 주입이 가능하도록 낮은 일함수를 갖는 물질을 이용하며, 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 그래핀(grapheme)과 같은 투명한 재질로 형성 될 수 있다.
실시예 및 비교예의 정공주입층(12), 정공전달층(13), 발광층(14), 전자전달층(15)은 아래와 같은 물질을 사용하였다.
전자주입층(15) 위에 전자 주입을 위한 음극(16)을 형성한다. 음극으로는 다양한 금속이 사용 될 수 있다. 구체적인 예로 알루미늄, 금, 은 등의 물질이 있다.
실시예
1
인듐틴옥사이드(ITO)가 1500 Å 두께가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정 한 후 ITO 기판 상부에 열 진공 증착기(thermal evaporator)를 이용하여 정공주입층 HT01 600 Å, 정공수송층으로 화합물 1로 250 Å를 제막하였다. 다음으로 상기 발광층으로 BH01:BD01 5%로 도핑하여 250 Å 제막하였다. 다음으로 전자전달층으로 ET01:Liq(1:1) 300 Å 제막한 후 LiF 10 Å, 알루미늄(Al) 1000 Å 제막하고, 이 소자를 글로브 박스에서 밀봉(Encapsulation)함으로써 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
2 내지
실시예
25
실시예 1과 같은 방법으로 정공수송층을 각각 화합물 2 내지 25를 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
비교예
1
상기 실시예 1의 정공수송층으로 화합물 1을 NPB로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예
2
상기 실시예 1의 정공수송층으로 화합물 1을 Ref.1로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예
3
상기 실시예 1의 정공수송층으로 화합물 1을 Ref.2로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
유기발광소자의 성능평가
키슬리 2400 소스 메져먼트 유닛(Kiethley 2400 source measurement unit) 으로 전압을 인가하여 전자 및 정공을 주입하고 코니카 미놀타(Konica Minolta) 분광복사계(CS-2000)를 이용하여 빛이 방출될 때의 휘도를 측정함으로써, 실시예 및 비교예의 유기발광소자의 성능을 인가전압에 대한 전류 밀도 및 휘도를 대기압 조건하에 측정하여 평가하였으며, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
Op. V | mA/cm2 | Cd/A | lm/w | CIEx | CIEy | LT95 | |
실시예1 | 4.441 | 10 | 5.85 | 4.79 | 0.141 | 0.120 | 22 |
실시예2 | 4.352 | 10 | 5.85 | 4.71 | 0.141 | 0.117 | 27 |
실시예3 | 4.343 | 10 | 5.88 | 4.76 | 0.142 | 0.115 | 30 |
실시예4 | 4.221 | 10 | 5.97 | 4.94 | 0.139 | 0.112 | 32 |
실시예5 | 4.212 | 10 | 6.00 | 4.92 | 0.138 | 0.113 | 35 |
실시예6 | 4.203 | 10 | 6.04 | 4.94 | 0.140 | 0.113 | 35 |
실시예7 | 4.295 | 10 | 6.07 | 4.99 | 0.140 | 0.113 | 37 |
실시예8 | 4.157 | 10 | 6.70 | 5.69 | 0.140 | 0.111 | 50 |
실시예9 | 4.130 | 10 | 6.63 | 5.64 | 0.139 | 0.112 | 47 |
실시예10 | 4.104 | 10 | 6.70 | 5.64 | 0.141 | 0.112 | 49 |
실시예11 | 4.100 | 10 | 6.59 | 5.67 | 0.142 | 0.112 | 49 |
실시예12 | 4.110 | 10 | 6.60 | 5.69 | 0.141 | 0.113 | 48 |
실시예13 | 4.109 | 10 | 6.63 | 5.65 | 0.142 | 0.113 | 50 |
실시예14 | 4.241 | 10 | 6.11 | 4.97 | 0.141 | 0.114 | 32 |
실시예15 | 4.214 | 10 | 6.19 | 4.80 | 0.141 | 0.113 | 35 |
실시예16 | 4.244 | 10 | 6.11 | 4.90 | 0.141 | 0.113 | 32 |
실시예17 | 4.253 | 10 | 6.13 | 4.91 | 0.140 | 0.114 | 34 |
실시예18 | 4.265 | 10 | 6.11 | 4.87 | 0.140 | 0.115 | 35 |
실시예19 | 4.255 | 10 | 6.19 | 4.85 | 0.140 | 0.114 | 32 |
실시예20 | 4.245 | 10 | 6.11 | 4.91 | 0.138 | 0.115 | 31 |
실시예21 | 4.247 | 10 | 6.09 | 4.79 | 0.139 | 0.115 | 33 |
실시예22 | 4.151 | 10 | 6.65 | 5.68 | 0.140 | 0.113 | 47 |
실시예23 | 4.109 | 10 | 6.69 | 5.60 | 0.141 | 0.112 | 48 |
실시예24 | 4.009 | 10 | 6.63 | 5.59 | 0.140 | 0.111 | 45 |
실시예25 | 4.151 | 10 | 6.70 | 5.63 | 0.140 | 0.110 | 47 |
비교예1 | 4.932 | 10 | 4.97 | 3.86 | 0.143 | 0.118 | 10 |
비교예2 | 4.657 | 10 | 5.30 | 4.24 | 0.141 | 0.115 | 19 |
비교예3 | 4.650 | 10 | 5.45 | 4.50 | 0.142 | 0.115 | 18 |
상기 표 1에 나타나는 바와 같이 본 발명의 정공수송층으로 평가한 실시예들은 비교예 1 내지 비교예 3에 비하여 모든 면에서 물성이 우수함을 확인할 수 있다. 특히 화학식 1-1, 화학식 1-2와 같이 인돌 3번 위치로 아릴기가 치환된 구조는 인돌 2번 및 인돌 2,3번 동시 치환보다 분자의 평면성이 뛰어나고, 박막내 분자배열이 우수하여 전하 모빌리티 증가와 화학적 안정성이 뛰어나 효율 및 소자 수명이 현저히 개선됨을 알 수 있다. 또한 화학식 1-6과 인돌과 아릴아민의 연결기가 페닐부이며, 플루오렌기가 2개 이상 치환된 경우 플루오렌기의 평면성으로 박막이 배열이 우수해지고 모빌리티가 증가해 효율 및 수명이 현저히 향상되는 것을 알 수 있다.
유기발광소자(형광)의
보조층
평가예
실시예
26
인듐틴옥사이드(ITO)가 1500 Å 두께가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정 한 후 ITO 기판 상부에 열 진공 증착기(thermal evaporator)를 이용하여 정공주입층 HT01 600 Å, 제1정공수송층으로 화합물 31로 400 Å를 제막하였다. 다음으로 보조층으로 화합물 8로 150 Å을 제막한 후 상기 발광층으로 BH01:BD01 5%로 도핑하여 250 Å 제막하였다. 다음으로 전자전달층으로 ET01:Liq(1:1) 300 Å 제막한 후 LiF 10 Å, 알루미늄(Al) 1000 Å 제막하고, 이 소자를 글로브 박스에서 밀봉(Encapsulation)함으로써 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
27
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 32를 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
28
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 33을 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
29
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 34를 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
30
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 35를 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
31
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 36을 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
32
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 37을 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
33
실시예 26과 같은 방법으로 정공수송층으로 화합물 38을 보조층으로 화합물 8을 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
비교예
4
상기 실시예 26의 정공수송층으로 화합물 24를 NPB로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예
5
상기 실시예 26의 정공수송층으로 화합물 24를 Ref.3로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예
6
상기 실시예 26의 정공수송층으로 화합물 24를 Ref.4로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
유기발광소자의 성능평가
키슬리 2400 소스 메져먼트 유닛(Kiethley 2400 source measurement unit) 으로 전압을 인가하여 전자 및 정공을 주입하고 코니카 미놀타(Konica Minolta) 분광복사계(CS-2000)를 이용하여 빛이 방출될 때의 휘도를 측정함으로써, 실시예 및 비교예의 유기발광소자의 성능을 인가전압에 대한 전류 밀도 및 휘도를 대기압 조건하에 측정하여 평가하였으며, 그 결과를 표 2에 나타내었다.
Op. V | mA/cm2 | Cd/A | lm/w | CIEx | CIEy | LT95 | |
실시예26 | 3.841 | 10 | 7.09 | 6.19 | 0.141 | 0.112 | 61 |
실시예27 | 3.852 | 10 | 7.00 | 6.11 | 0.141 | 0.111 | 60 |
실시예28 | 3.843 | 10 | 7.18 | 6.16 | 0.142 | 0.110 | 63 |
실시예29 | 3.821 | 10 | 7.05 | 6.14 | 0.139 | 0.112 | 69 |
실시예30 | 3.912 | 10 | 7.10 | 6.12 | 0.138 | 0.110 | 63 |
실시예31 | 3.903 | 10 | 7.04 | 6.24 | 0.140 | 0.113 | 61 |
실시예32 | 3.895 | 10 | 7.17 | 5.99 | 0.140 | 0.112 | 68 |
실시예33 | 3.897 | 10 | 7.10 | 6.09 | 0.140 | 0.110 | 66 |
비교예4 | 4.501 | 10 | 5.57 | 4.30 | 0.143 | 0.115 | 21 |
비교예5 | 4.272 | 10 | 5.98 | 4.90 | 0.141 | 0.115 | 31 |
비교예6 | 4.301 | 10 | 6.15 | 5.11 | 0.141 | 0.113 | 30 |
상기 표 2에 나타나는 바와 같이 본 발명의 실시예들은 비교예 4 내지 비교예 6에 비하여 모든 면에서 물성이 우수함을 확인할 수 있다. 특히 정공수송층으로 인돌 2,3번 위치 아릴아민 치환된 화합물과 보조층으로 인돌N 치환된 아릴아민 화합물을 함께 사용할 경우 구동전압을 현저히 낮추고 효율 및 수명이 상승하는 결과를 얻었다. 이는 인돌의 2,3번 아릴아민 치환에 따라 정공수송층에 용이한 호모 및 빠른 홀 모빌리티를 가질 수 있고, 또한 인돌N 치환의 경우 보조층에 용이한 깊은 호모를 형성할 수 있어, 효율 및 수명이 크게 개선됨을 알 수 있다.
유기발광소자(인광)의
보조층
평가예
실시예
34
인듐틴옥사이드(ITO)가 1500 Å 두께가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정 한 후 ITO 기판 상부에 열 진공 증착기(thermal evaporator)를 이용하여 정공주입층 HT01 600 Å, 정공수송층으로 화합물 37로 400 Å를 제막하였다. 다음으로 보조층으로 화합물 8로 250 Å을 제막한 후 상기 발광층으로 CzT:Ir(ppy)3 10%로 도핑하여 300 Å 제막하였다. 다음으로 전자전달층으로 ET01:Liq(1:1) 300 Å 제막한 후 LiF 10 Å, 알루미늄(Al) 1000 Å 제막하고, 이 소자를 글로브 박스에서 밀봉(Encapsulation)함으로써 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
35
실시예 34와 같은 방법으로 보조층을 화합물 26으로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
36
실시예 34와 같은 방법으로 보조층을 화합물 27로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
37
실시예 34와 같은 방법으로 보조층을 화합물 28로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
38
실시예 34와 같은 방법으로 보조층을 화합물 29로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
39
실시예 34와 같은 방법으로 보조층을 화합물 30으로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
실시예
40
실시예 34와 같은 방법으로 정공수송층을 NPB로 보조층을 화합물 30으로 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
비교예
7
상기 실시예 34와 같은 방법으로 정공수송층을 NPB로 보조층을 Ref.1를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예
8
상기 실시예 34와 같은 방법으로 정공수송층을 NPB로 보조층을 Ref.2를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
유기발광소자의 성능평가
키슬리 2400 소스 메져먼트 유닛(Kiethley 2400 source measurement unit) 으로 전압을 인가하여 전자 및 정공을 주입하고 코니카 미놀타(Konica Minolta) 분광복사계(CS-2000)를 이용하여 빛이 방출될 때의 휘도를 측정함으로써, 실시예 및 비교예의 유기발광소자의 성능을 인가전압에 대한 전류 밀도 및 휘도를 대기압 조건하에 측정하여 평가하였으며, 그 결과를 표 3에 나타내었다.
Op. V | mA/cm2 | Cd/A | lm/w | CIEx | CIEy | LT95 | |
실시예34 | 4.341 | 10 | 51.40 | 39.19 | 0.338 | 0.622 | 108 |
실시예35 | 4.352 | 10 | 54.40 | 40.11 | 0.336 | 0.620 | 113 |
실시예36 | 4.343 | 10 | 54.29 | 40.16 | 0.335 | 0.621 | 115 |
실시예37 | 4.321 | 10 | 55.05 | 40.14 | 0.336 | 0.620 | 118 |
실시예38 | 4.312 | 10 | 56.00 | 41.12 | 0.338 | 0.621 | 127 |
실시예39 | 4.303 | 10 | 56.04 | 41.24 | 0.335 | 0.621 | 125 |
실시예40 | 4.303 | 10 | 45.54 | 34.24 | 0.337 | 0.622 | 83 |
비교예7 | 4.731 | 10 | 38.60 | 25.30 | 0.340 | 0.623 | 43 |
비교예8 | 4.722 | 10 | 39.34 | 27.90 | 0.340 | 0.623 | 48 |
상기 표 3에 나타나는 바와 같이 본 발명의 실시예들은 비교예 7 및 비교예 8에 비하여 모든 면에서 물성이 우수함을 확인할 수 있다. 특히 인광소자의 보조층으로 인돌N과 아릴아민사이 연결기가 페닐부 치환 및 meta, ortho 치환된 화합물의 실시예의 경우 짧은 공액길이로 깊은 호모를 형성할 수 있는 넓은 밴드갭을 가질 수 있고, 또한 높은 삼중항에너지로 인광발광으로부터 엑시톤 차단이 용이하여 효율 상승 및 수명 개선 효과가 현저히 개선됨을 알 수 있다.
Claims (9)
- 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 :
[화학식 1]
상기 식에서,
l, m, n, o는 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며, Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R2, R3, R4, R5, 및 R6은 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이다. - 제1항에 있어서,
하기 화학식 1-1 내지 1-7 중 어느 하나로 표시되는 화합물
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-6]
[화학식 1-7]
상기 화학식들에서 n, p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12, 및 R13은 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이며,
R5, R6, R7, R8, R9, R10, Ar1, Ar2는 인접한 기 또는 서로 고리를 형성할 수 있다. - 제1항에 있어서,
하기 화학식들 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
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- 제1전극, 제2전극 및 두 전극 사이에 제1항 기재의 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기발광소자.
- 제4항에 있어서,
제1전극과 제2전극 사이 적어도 발광층을 포함하는 일층 또는 복수층을 포함하는 유기 박막층이 협지되어 있는 유기발광소자이며, 제1전극과 발광층 사이에 적어도 1층이 제2항 내지 3항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 유기층으로 함유하는 유기발광소자. - 제5항에 있어서,
제1전극과 발광층 사이에 발광층에 접해있는 1층이, 제2항 기재의 화학식 1-1, 화학식 1-2, 화학식 1-7로 기재된 화합물을 유기층으로 함유하는 유기발광소자. - 제5항에 있어서,
제1전극과 발광층 사이에 적어도 1층의 정공수송층을 구비하고, 상기 정공수송층과 발광층 사이에 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 보조층을 구비한 유기발광소자. - 제7항에 있어서,
상기 정공수송층은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 유기발광소자.
[화학식 2]
상기 화학식에서,
l, m, n, o는 각각 독립적으로 1 내지 3으로부터 선택되는 정수이며, Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이고,
R1, R2, R3, R4, 및 R5는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 아미노기; 니트릴기; 니트로기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1 -30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6 -50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2 -50의 헤테로아릴기이다. - 제 8항에 있어서,
화학식 2로 표시되는 화합물은 하기 화학식들 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,, , , , , ,,,,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,,,,,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,,, , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , , ,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/KR2015/010829 WO2016060463A2 (ko) | 2014-10-14 | 2015-10-14 | 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
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