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KR20160002018A - Organic light emitting display apparatus - Google Patents

Organic light emitting display apparatus Download PDF

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Publication number
KR20160002018A
KR20160002018A KR1020140080685A KR20140080685A KR20160002018A KR 20160002018 A KR20160002018 A KR 20160002018A KR 1020140080685 A KR1020140080685 A KR 1020140080685A KR 20140080685 A KR20140080685 A KR 20140080685A KR 20160002018 A KR20160002018 A KR 20160002018A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
common voltage
voltage line
foreign material
region
Prior art date
Application number
KR1020140080685A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김병철
최원열
이명수
박희성
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020140080685A priority Critical patent/KR20160002018A/en
Publication of KR20160002018A publication Critical patent/KR20160002018A/en

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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
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    • H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, an organic light emitting display apparatus comprises a pixel area and a bezel area. The organic light emitting display apparatus includes: a common voltage line formed on the bezel area to supply common voltage to the pixel area; and a first encapsulation layer, a second encapsulation layer, and a foreign material compensation layer formed in the pixel area and the bezel area to protect the pixel area from moisture and oxygen. The first encapsulation layer is not formed in at least a part of the common voltage line. The foreign material compensation layer is formed along an area where the first encapsulation layer is not formed. The foreign material compensation layer is sealed by the first encapsulation layer and the second encapsulation layer.

Description

유기 발광 표시 장치{ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY APPARATUS}ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY APPARATUS [0001]

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이물보상층의 과도포 현상이 최소화된 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light emitting diode display, and more particularly, to an organic light emitting diode display in which overcoating of a foreign material compensation layer is minimized.

본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라, 전기적 정보신호를 시각적으로 표시하는 표시 장치 분야가 급속도로 발전하고 있다. 이에, 여러 가지 다양한 평판 표시 장치에 대해 박형화, 경량화 및 저소비 전력화 등의 성능을 개발시키기 위한 연구가 계속되고 있다. 이 같은 평판 표시 장치의 대표적인 예로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출 표시 장치(Field Emission Display device: FED), 전기습윤 표시 장치(Electro-Wetting Display device: EWD) 및 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display device: OLED) 등을 들 수 있다. As the era of informationization becomes full-scale, the field of display devices for visually displaying electrical information signals is rapidly developing. Accordingly, studies are being continued to develop performance such as thinning, lightening, and low power consumption for various types of flat panel display devices. Typical examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) An electro-wetting display device (EWD), and an organic light emitting display device (OLED).

특히, 유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 액정 표시 장치와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 저전압 구동에 따라 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 응답 속도, 시야각 및 명암비(Contrast Ratio)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다. 하지만 이러한 장점에도 불구하고, 유기 발광 표시 장치는 수분 및 산소에 특히 취약한 단점이 존재하기 때문에, 다른 평판 표시 장치들에 비해서 신뢰성 확보가 어려운 문제점이 존재했다.In particular, the organic light emitting display device is a self light emitting display device, and unlike a liquid crystal display device, a separate light source is not required, and thus it can be manufactured in a light and thin shape. Further, the organic light emitting display device is advantageous not only in power consumption in accordance with low voltage driving but also in response speed, viewing angle, and contrast ratio, and is being studied as a next generation display. However, in spite of this advantage, since the organic light emitting display device has a disadvantage that it is particularly vulnerable to moisture and oxygen, there is a problem that it is difficult to secure reliability compared with other flat panel display devices.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 소자인 유기 발광 소자를 이용하여, 영상을 표시한다. 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 소자로 구성된 복수의 화소를 포함한다. 유기 발광 소자는 서로 대향하는 제 1 전극 및 제 2 전극을 포함한다. 그리고 제 1 전극 및 제 2 전극 사이에 유기물로 형성되고, 제 1 전극 및 제 2 전극 사이의 인가되는 전기신호에 기초하여 일렉트로루미네선스(Electro Luminescence)를 발생시키는 발광층을 포함한다.The organic light emitting display uses an organic light emitting element, which is a self light emitting type element, to display an image. The organic light emitting display includes a plurality of pixels constituted by organic light emitting elements. The organic light emitting device includes first and second electrodes facing each other. And a light emitting layer formed of an organic material between the first electrode and the second electrode and generating electroluminescence based on an electrical signal applied between the first electrode and the second electrode.

유기 발광 표시 장치는 화소 영역의 양측면에 게이트 드라이버가 형성되어 게이트 라인을 스캔한다.In the organic light emitting display, gate drivers are formed on both sides of the pixel region to scan the gate lines.

탑 에미션(Top-Emission) 방식의 유기 발광 표시 장치의 경우, 유기 발광층에서 발광된 빛을 상부로 발광시키기 위해 제 1 전극이 투명 또는 반투명 특성을 가지고, 제 2 전극이 반사 특성을 갖는다. 또한, 유기 발광 표시 장치의 신뢰성을 확보하기 위해, 유기 발광 소자 상에는 산소 및 수분으로부터 유기 발광 소자를 보호하기 위한 투명한 봉지부가 형성된다. 종래의 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치에서, 봉지부는 유리 봉지부가 일반적으로 사용되었다.In the case of the top emission type organic light emitting display, the first electrode has a transparent or semi-transparent characteristic and the second electrode has a reflective characteristic in order to emit light emitted from the organic light emitting layer. Further, in order to ensure the reliability of the organic light emitting display, a transparent sealing portion for protecting the organic light emitting element from oxygen and moisture is formed on the organic light emitting element. In the conventional top emission type organic light emitting display, the glass encapsulation part is generally used as the encapsulation part.

[관련기술문헌][Related Technical Literature]

1. 유기전계발광소자의 제조방법 (특허출원번호 제 10-2009-0093171호)One. Method for manufacturing organic electroluminescent device (Patent Application No. 10-2009-0093171)

최근에는 휘지 않는 평판 표시 장치들을 대체할 플라스틱(Plastic)과 같은 연성재료의 플렉서블 기판(Flexible Substrate)을 이용하여, 종이처럼 휘어져도 표시 성능을 그대로 유지할 수 있는 플렉서블 유기 발광 표시 장치(Flexible Organic Light Emitting Display Device; F-OLED)가 개발되고 있다. In recent years, a flexible organic light emitting display device (Flexible Organic Light Emitting Display) capable of maintaining the display performance even if bent like paper is used by using a flexible substrate of a flexible material such as a plastic to replace flat display devices that do not bend, Display Device (F-OLED) are being developed.

이에, 본 발명의 발명자들은, 플렉서블 유기 발광 표시 장치를 상용화하기 위한 연구 및 개발을 계속하여 왔다. 그리고 본 발명의 발명자들은, 유리 기판은, 플렉서블 하지 않기 때문에 플렉서블 봉지부로 사용하기 어렵다고 판단하였다. 따라서, 본 발명의 발명자들은 대량 생산이 가능하면서, 상용화 가능한 새로운 투명 플렉서블 봉지층의 재료 및 구조를 연구하였다. Accordingly, the inventors of the present invention have continued to research and develop flexible organic light emitting display devices for commercialization. The inventors of the present invention have determined that the glass substrate is difficult to use as a flexible encapsulant because it is not flexible. Therefore, the inventors of the present invention have studied the material and structure of a new transparent flexible sealing layer that can be mass-produced and commercialized.

구체적으로 설명하면, 단일층의 무기물로 형성된 플렉서블 봉지층을 사용하여 얇은 두께로 플렉서블 유기 발광 표시 장치의 봉지부를 구현하는 시도를 하였다. 그러나, 이러한 플렉서블 봉지층은 흐름성이 부족하고, 얇은 두께를 가지므로, 이물에 의한 크랙(Crack)이 쉽게 발생하여, 수분 침투에 의한 플렉서블 유기 발광 표시 장치의 불량으로 이어지는 문제가 있었다. 특히 불량이 발생하면 수율이 낮아지기 때문에, 대량 생산의 걸림돌이 된다.Specifically, an attempt has been made to fabricate a sealing portion of a flexible organic light emitting display device with a thin thickness by using a flexible sealing layer formed of a single layer of inorganic material. However, such a flexible encapsulation layer is insufficient in flowability and has a thin thickness, so that cracks due to foreign matter are easily generated, leading to a problem in that the flexible organic light emitting display device is liable to be infiltrated by moisture penetration. In particular, when defects occur, the yield is lowered, which is an obstacle to mass production.

이에, 본 발명의 발명자들은, 이물을 보상하기 위해서 플렉서블 봉지층 상에 흐름성이 좋은 유기물로 이물보상층을 형성하여 이물을 덮어서 이물을 보상한 다음, 평탄화된 이물보상층 상에 또 하나의 단일층의 무기물로 형성된 플랙서블 봉지층을 구현하여, 이물에 대한 문제를 개선할 수 있는 플렉서블 봉지부를 개발하였다.Accordingly, the inventors of the present invention have found that, in order to compensate for foreign matter, a foreign matter compensation layer is formed of an organic material having good flowability on the flexible sealing layer to cover the foreign matter to compensate the foreign matter, Layer flexible layer formed of an inorganic material of the layer to improve the problem of foreign matter.

하지만 이물보상층의 흐름성이 좋을 경우, 이물보상층의 이물보상 능력은 우수하나, 이물보상층이 도포되는 영역을 제어하는 것이 어려워진다. 즉 이물보상층을 구성하는 유기물이 의도하지 않는 방향으로 쉽게 흘러가버리게 된다. 또한 내로우 베젤(Narrow Bezel) 등의 디자인 요구때문에 충분한 베젤 영역 확보가 어렵게 되어, 이물보상층의 도포 영역 제어 난이도가 가중된다. 따라서 이물보상층이 베젤 영역에서 설계치보다 더 넓게 도포되는 현상이 발생하였다. 이러한 현상을 “과도포 현상”이라고 부른다. 과도포 현상이 발생된 이물보상층은 육안상 얼룩으로 인지되며, 플렉서블 유기 발광 표시 장치의 외관 불량을 야기할 수 있다. 또한 이물보상층은 수분 침투 지연 성능이 나쁘기 때문에, 과도포된 영역을 통해서 수분 침투 문제가 발생하였다.However, when the flowability of the foreign material compensation layer is good, the foreign material compensation ability of the foreign material compensation layer is excellent, but it becomes difficult to control the region to which the foreign material compensation layer is applied. That is, the organic matter constituting the foreign material compensation layer easily flows in an unintended direction. Also, it is difficult to secure a sufficient bezel area due to the design requirement of the narrow bezel and the like, and the control difficulty of the coating area of the foreign matter compensation layer is increased. Therefore, the foreign material compensation layer is wider than the design value in the bezel area. This phenomenon is called " overspray phenomenon ". The foreign matter compensation layer in which the overspray phenomenon is generated is recognized as a naked eye stain, which may lead to defective appearance of the flexible organic light emitting display device. In addition, since the foreign material compensation layer has poor water permeation delay performance, moisture penetration problem occurred in the overflowed region.

부면 설명하면, 베젤이란 일반적으로 직사각형 형태의 표시 장치에 있어서, 게이트 라인과 전기적으로 연결된 게이트 드라이버가 형성된 화소 영역의 외곽 영역을 의미한다.In other words, the bezel generally refers to a peripheral region of a pixel region in which a gate driver electrically connected to a gate line is formed in a rectangular display device.

따라서 제 1 봉지층이 형성되고, 제 1 봉지층 상의 일부 영역에 이물보상층이 도포되고, 이물보상층 및 제 1 봉지층 상에 제 2 봉지층이 형성된, 플렉서블 봉지부를 포함하는 플렉서블 유기 발광 표시 장치에 있어서, 이물보상층의 과도포 현상은 대량 생산을 위해서 반드시 해결되어야 하는 중요한 이슈들 중 하나이다.A flexible organic light emitting display including a flexible encapsulation portion including a first encapsulation layer and a second encapsulation layer formed on a foreign matter compensation layer and a first encapsulation layer on a part of the first encapsulation layer, In the device, over-deposition of the foreign material compensation layer is one of the important issues that must be solved for mass production.

본 발명의 발명자들은, 이물보상층이 과도포되지 않도록, 베젤 영역에 유기물의 과도포를 막을 수 있는 저장 공간을 형성하면, 과도포 현상을 효과적으로 저감할 수 있다고 생각하였다. 또한 과도포 현상이 저감됨으로써, 이물보상층의 평탄화 정도를 향상할 수 있다고 생각하였다.The inventors of the present invention have thought that the overspray phenomenon can be effectively reduced by forming a storage space that can prevent overpoting of organic matter in the bezel region so that the foreign matter compensation layer is not oversprayed. Further, it was thought that the degree of planarization of the foreign material compensation layer can be improved by reducing the over-coating phenomenon.

이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 베젤 영역에 저장 공간을 형성하여 이물보상층을 구성하는 유기물의 과도포 현상을 저감할 수 있는 유기 발광 표시 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an OLED display capable of reducing the over-deposition of organic materials constituting a foreign material compensation layer by forming a storage space in a bezel region.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 바와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치는 화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치에 있어서, 화소 영역에 공통 전압을 공급하도록, 베젤 영역에 형성된 공통 전압 라인 및 화소 영역을 수분 및 산소로부터 보호하도록 화소 영역 및 베젤 영역에 형성된 제 1 봉지층, 제 2 봉지층 및 이물보상층을 포함하고, 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역에는 제 1 봉지층이 형성되지 않고, 이물보상층은 제 1 봉지층이 형성되지 않은 영역을 따라 형성되고, 이물보상층은 제 1 봉지층 및 제 2 봉지층에 의해 밀봉되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an OLED display including a pixel region and a bezel region, the OLED display including a pixel region and a bezel region, A second encapsulation layer and a foreign material compensation layer formed in the pixel region and the bezel region to protect the pixel region from moisture and oxygen so as to supply a common voltage line formed in the bezel region, The first seal layer is not formed in some regions, the foreign substance compensation layer is formed along the region where the first sealant layer is not formed, and the foreign matter compensation layer is sealed by the first sealant layer and the second sealant layer do.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 제 1 봉지층이 형성되지 않은 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역의 영역의 단면의 폭은 100μm 내지 800μm 인 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the width of a cross section of at least a partial region of a common voltage line where the first encapsulation layer is not formed is 100 mu m to 800 mu m.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 공통 전압 라인은 제 1 공통 전압 라인 및 제 2 공통 전압 라인으로 구성된 복층 구조인 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, the common voltage line is a multilayer structure including a first common voltage line and a second common voltage line.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제 1 공통 전압 라인은 화소 영역에 형성된 박막트랜지스터의 소스 전극과 동일한 재질로 형성된 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, the first common voltage line is formed of the same material as the source electrode of the thin film transistor formed in the pixel region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광 표시 장치는 제 1 공통 전압 라인 상에 형성된 적어도 두개의 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, an organic light emitting display further includes at least two structures formed on the first common voltage line.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제 2 공통 전압 라인은 화소 영역에 형성된 박막트랜지스터의 게이트 전극과 동일한 재질로 형성된 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, the second common voltage line is formed of the same material as the gate electrode of the thin film transistor formed in the pixel region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광 표시 장치는 제 2 공통 전압 라인 상에 형성된 적어도 두개의 구조물을 더 포함하고, 적어도 두개의 구조물 상에는 제 1 공통 전압 라인이 적어도 두개의 구조물에 대응되어 형성되고, 제 2 공통 전압 라인과 제 1 공통 전압 라인은 서로 전기적으로 연결된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, an OLED display further includes at least two structures formed on a second common voltage line, and on the at least two structures, a first common voltage line is formed corresponding to at least two structures And the second common voltage line and the first common voltage line are electrically connected to each other.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 유기 발광 표시 장치는 제 1 공통 전압 라인과 제 2 공통 전압 라인 사이에 형성된 절연층 및 화소 영역의 복수의 화소에 공통 전압을 공급하도록 제 1 공통 전압 라인과 화소 영역의 제 2 전극을 전기적으로 연결시키는 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, an organic light emitting diode display includes an insulating layer formed between a first common voltage line and a second common voltage line, a first common voltage line and a second common voltage line to supply a common voltage to a plurality of pixels in the pixel region, And a connection portion for electrically connecting the second electrode of the region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층은 화소 영역을 평탄화시키고, 화소 영역의 외곽에서 멀어질수록 두께가 점진적으로 얇아지도록 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the foreign material compensation layer is formed such that the pixel area is flattened and the thickness thereof gradually decreases as the distance from the periphery of the pixel area increases.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층은 비스페놀-A-에폭시(Bisphenol-A-Epoxy) 수지, 비스페놀-F-에폭시(Bisphenol-F-Epoxy) 수지 및 아크릴(Acryl) 수지 중 적어도 하나의 수지를 포함하고, 이물보상층은 화소 영역에서 15μm 내지 25μm의 두께로 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the foreign material compensation layer comprises at least one of a bisphenol-A-epoxy resin, a bisphenol-F-epoxy resin and an acrylic resin And the foreign material compensation layer is formed to have a thickness of 15 mu m to 25 mu m in the pixel region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층은 개시제, 습윤제, 레벨링제 및 소포제 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the foreign material compensation layer further comprises at least one of an initiator, a wetting agent, a leveling agent, and a defoaming agent.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층은 흐름성이 있는 실리콘옥시카본(SiOC)을 포함하고, 이물보상층은 화소 영역에서 2μm 내지 4μm의 두께로 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the foreign material compensation layer includes flowable silicon oxycarbide (SiOC), and the foreign material compensation layer is formed with a thickness of 2 mu m to 4 mu m in the pixel region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층의 C/Si 원자 비율이 1.0 이하인 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, the C / Si atomic ratio of the foreign material compensation layer is 1.0 or less.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 이물보상층의 점도는 500cp 내지 30000cp인 것을 특징으로 한다. According to still another aspect of the present invention, the foreign material compensation layer has a viscosity of 500 cp to 30,000 cp.

전술한 바와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치는 화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치에 있어서, 화소 영역에 공통 전압을 공급하도록, 베젤 영역에 형성된 공통 전압 라인 및 화소 영역을 수분 및 산소로부터 보호하도록 화소 영역 및 베젤 영역에 형성된 제 1 봉지층, 제 2 봉지층 및 이물보상층을 포함하는 플렉서블 봉지부를 포함하고, 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역에는 제 1 봉지층이 형성되지 않고, 제 1 봉지층이 형성되지 않은 영역을 따라 이물보상층이 저장되도록 적어도 두개의 구조물이 형성되고, 이물보상층은 제 1 봉지층 및 제 2 봉지층에 의해 밀봉되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an OLED display including a pixel region and a bezel region, the OLED display including a pixel region and a bezel region, And a flexible encapsulation portion including a first encapsulation layer, a second encapsulation layer, and a dummy compensation layer formed in the pixel region and the bezel region so as to protect the pixel region from moisture and oxygen so as to supply the common voltage line and the pixel region in the bezel region, At least two structures are formed so that the first encapsulation layer is not formed in at least a portion of the common voltage line and the impurity compensation layer is stored along the region where the first encapsulation layer is not formed, And the second sealing layer.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 유기 발광 표시 장치는 공통 전압 라인과 화소 영역의 복수의 화소의 제 2 전극을 전기적으로 연결하는 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, the organic light emitting display further includes a connection portion electrically connecting the common voltage line and the second electrode of the plurality of pixels in the pixel region.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 적어도 두개의 구조물은 제 1 봉지층과 동일한 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, at least two structures are formed of the same material as the first sealing layer.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 적어도 두개의 구조물은 층간절연막과 동일한 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, at least two structures are formed of the same material as the interlayer insulating film.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 적어도 두개의 구조물의 각각의 단면의 폭은 5μm 이상인 것을 특징으로 한다.According to another feature of the present invention, the width of each cross section of at least two structures is characterized by at least 5 탆.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 적어도 두개의 구조물 각각은 5μm 이상 이격되어 형성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, each of the at least two structures is formed to be separated by 5 m or more.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 추가 공정 없이 베젤 영역에 이물보상층의 과도포를 효과적으로 저감할 수 있는 저장 공간이 형성되어, 플렉서블 봉지부의 이물보상층의 과도포 현상을 개선할 수 있는 효과가 있다. The present invention provides a storage space for effectively reducing the overspray of the foreign material compensation layer in the bezel area without further processing, thereby improving the overspray phenomenon of the foreign material compensation layer of the flexible sealing part.

또한 본 발명은 화소 영역에 형성된 이물보상층의 평탄화 정도가 향상될 수 있는 효과가 있다.Further, the present invention has an effect that the degree of planarization of the foreign material compensation layer formed in the pixel region can be improved.

또한 본 발명은 이물보상층이 과도포될 경우, 베젤 영역에 형성된 공통 전압 라인 상에 형성된 저장 공간에 의해서 이물보상층의 유기물이 주변으로 분산되어, 유기 발광 표시 장치의 불량을 저감할 수 있고, 유기 발광 표시 장치의 육안 불량을 개선할 수 있는, 유기 발광 표시 장치를 제공할 수 있다.In addition, when the foreign material compensation layer is over-deposited, the organic material of the foreign material compensation layer is dispersed to the periphery by the storage space formed on the common voltage line formed in the bezel region, thereby reducing defects of the organic light emitting display device, It is possible to provide an organic light emitting display device capable of improving visual defects of the organic light emitting display device.

또한 본 발명은 공통 전압 라인 상의 저장 공간에 절연층으로 형성된 형성된 복수의 구조물에 의해 과도포 현상을 보다 효과적으로 저감할 수 있다.In addition, the present invention can more effectively reduce the over-deposition phenomenon by the plurality of structures formed as the insulating layer in the storage space on the common voltage line.

또한 본 발명은 제 1 봉지층이 공통 전압 라인 상에 일부 형성되지 않더라도, 공통 전압 라인에 의해서 플렉서블 봉지부의 성능이 저하되지 않는다. Further, even if the first encapsulation layer is not partially formed on the common voltage line, the performance of the flexible encapsulation portion is not lowered by the common voltage line.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 2은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 3는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of an OLED display according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of an OLED display according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. Where the terms "comprises", "having", "done", and the like are used in this specification, other portions may be added unless "only" is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 ‘직접’이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. An element or layer is referred to as being another element or layer "on ", including both intervening layers or other elements directly on or in between.

비록 제 1, 제 2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제 2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

명세서 전체에 걸쳐 구성 요소의 단면의 폭은 그 단면의 중간 높이의 단면의 폭을 의미한다.The width of the section of the component throughout the specification means the width of the section of the middle height of the section.

명세서 전체에 걸쳐 구성 요소의 각도는 평면을 기준으로 그 단면의 중간 높이 지점의 경사면의 각도를 의미한다.The angle of the component throughout the specification means the angle of the slope at the mid-height point of the section with respect to the plane.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The sizes and thicknesses of the individual components shown in the figures are shown for convenience of explanation and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the components shown.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하며, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other partially or wholly and technically various interlocking and driving are possible and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 베젤 영역의 단면도이다. 이하 도 1을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 베젤 영역의 이물보상층의 과도포 현상을 저감할 수 있는 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치를 간략히 설명한다. 1 is a cross-sectional view of a bezel region of an OLED display according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a top emission type OLED display capable of reducing the over-deposition of a foreign material compensation layer in a bezel region according to an embodiment of the present invention will be briefly described with reference to FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)는 플렉서블한 재료로 형성되는 기판(101), 기판(101) 상에 형성되는 박막트랜지스터(220), 박막트랜지스터(220)에 의해 구동되는 유기 발광 소자(240)로 구성된 화소 영역(Active Area; A/A), 베젤 영역(Bezel Area; B/A) 영역에 형성된 게이트 드라이버(Gate-In-Panel; GIP), 베젤 영역(B/A)에 형성되어 제 2 전극(243)에 공통 전압을 공급하는 공통 전압 라인(116), 제 2 전극(243)과 공통 전압 라인(116)을 연결하는 연결부(260), 공통 전압 라인(116) 상에 제 1 봉지증이 형성되지 않은 영역, 화소 영역(A/A)을 수분으로부터 보호하는 플렉서블 봉지부(130) 및 플렉서블 봉지부(130)를 덮는 배리어 필름(350)를 포함한다. The OLED display 100 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 101 formed of a flexible material, a thin film transistor 220 formed on the substrate 101, a thin film transistor A gate-in-panel (GIP) formed in a bezel area (B / A) region, a bezel area (B / A) formed of an organic light emitting diode 240, A common voltage line 116 formed in the second electrode 243 to supply a common voltage to the second electrode 243, a connecting portion 260 connecting the second electrode 243 and the common voltage line 116, A flexible sealing portion 130 for protecting the pixel region A / A from moisture, and a barrier film 350 covering the flexible sealing portion 130. The barrier sealing film 130 may be formed of a metal,

기판(101)은 폴리이미드(Polyimide) 계열의 재료로 이루어진 플렉서블 필름으로 형성될 수 있다. 그리고 기판(101)의 하면에는 유기 발광 표시 장치(100)가 너무 쉽게 휘지 않도록 유기 발광 표시 장치(100)를 지지하는 백플레이트(Back-plate)를 더 구성하는 것도 가능하다. 그리고 기판(101)과 박막트랜지스터(220) 사이에 질화실리콘(SiNx) 및 산화실리콘(SiOx)으로 형성된 멀티버퍼층을 더 구성하여 기판(101)을 통해 수분 및/또는 산소가 침투되는 것을 지연시키는 것도 가능하다.The substrate 101 may be formed of a flexible film made of a polyimide-based material. A back-plate supporting the organic light emitting display 100 may be further formed on the lower surface of the substrate 101 so that the organic light emitting display 100 is not bent easily. Further, a multi-buffer layer formed of silicon nitride (SiNx) and silicon oxide (SiOx) may be additionally provided between the substrate 101 and the thin film transistor 220 to delay the penetration of moisture and / or oxygen through the substrate 101 It is possible.

박막트랜지스터(220)는 액티브층(221), 게이트전극(222), 소스전극(223) 및 드레인전극(224)을 포함한다. 액티브층(221)은 기판(101) 상의 전면에 형성되는 게이트절연막(225)으로 덮인다. 게이트전극(222)은 게이트 라인과 동일한 재료로, 게이트절연막(225) 상에 적어도 액티브층(221)의 일부 영역과 중첩하도록 형성된다. 이러한 게이트전극(222)은 게이트절연막(225) 상의 전면에 형성되는 층간절연막(226)으로 덮인다. 층간절연막(226)은 질화실리콘 및 산화실리콘으로 형성된 복층 구조로 형성될 수 있다. 그리고 질화실리콘의 두께는 0.2μm 내지 0.4μm이고, 산화실리콘의 두께는 0.15μm 내지 0.3μm인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 질화실리콘의 두께를 0.3μm 그리고 산화실리콘의 두께를 0.2μm로 형성하여, 층간절연막(226)의 두께가 0.5μm가 되도록 형성한다. 소스전극(223) 및 드레인전극(224)은 데이터 라인과 동일한 재료로, 층간절연막(226) 상에 상호 이격하여 형성된다. 이때, 소스전극(223)은 액티브층(221)의 일단과 연결되고, 게이트절연막(225)과 층간절연막(226)을 관통하는 제 1 콘택홀(228)을 통해 액티브층(221)과 연결된다. 그리고, 드레인전극(224)은 적어도 액티브층(221)의 타단과 중첩하고, 게이트절연막(225)과 층간절연막(226)을 관통하는 콘택홀을 통해 액티브층(221)과 연결된다. 이러한 액티브층(221)을 포함한 박막트랜지스터(220)는 층간절연막(226) 상의 전면에 형성되는 평탄화막(227)으로 덮인다. 그리고 층간절역만(226)과 평탄화막(227) 사이에는 박막트랜지스터(220)를 오염으로부터 보호하기 위한 질화실리콘으로 형성된 절연층이 추가적으로 형성될 수 있다. 박막트랜지스터(220)는 이 구조에 제한되지 않고 다양한 구조의 박막트랜지스터(220)가 사용될 수 있다. The thin film transistor 220 includes an active layer 221, a gate electrode 222, a source electrode 223 and a drain electrode 224. The active layer 221 is covered with a gate insulating film 225 formed on the entire surface of the substrate 101. The gate electrode 222 is formed of the same material as the gate line and overlaps at least a portion of the active layer 221 on the gate insulating film 225. The gate electrode 222 is covered with an interlayer insulating film 226 formed on the entire surface of the gate insulating film 225. The interlayer insulating film 226 may be formed in a multi-layer structure formed of silicon nitride and silicon oxide. It is preferable that the thickness of the silicon nitride is 0.2 mu m to 0.4 mu m and the thickness of the silicon oxide is 0.15 mu m to 0.3 mu m. More preferably, the thickness of silicon nitride is 0.3 mu m and the thickness of silicon oxide is 0.2 mu m, and the thickness of the interlayer insulating film 226 is 0.5 mu m. The source electrode 223 and the drain electrode 224 are formed of the same material as the data line and are spaced apart from each other on the interlayer insulating film 226. The source electrode 223 is connected to one end of the active layer 221 and is connected to the active layer 221 through a first contact hole 228 penetrating the gate insulating film 225 and the interlayer insulating film 226 . The drain electrode 224 overlaps at least the other end of the active layer 221 and is connected to the active layer 221 through a contact hole penetrating the gate insulating film 225 and the interlayer insulating film 226. The thin film transistor 220 including the active layer 221 is covered with a planarizing film 227 formed on the entire surface of the interlayer insulating film 226. An insulating layer formed of silicon nitride may be additionally formed between the interlayer insulating layer 226 and the planarization layer 227 to protect the thin film transistor 220 from contamination. The thin film transistor 220 is not limited to this structure and a thin film transistor 220 having various structures may be used.

유기 발광 소자(240)는 서로 대향하는 제 1 전극(241) 및 제 2 전극(243) 및 이들 사이에 개재되는 유기 발광층(242)를 포함한다. 유기 발광층(242)의 발광 영역은 뱅크(244)에 의해 정의될 수 있다.The organic light emitting diode 240 includes a first electrode 241 and a second electrode 243 facing each other and an organic light emitting layer 242 interposed therebetween. The light emitting region of the organic light emitting layer 242 may be defined by the bank 244. [

유기 발광 소자(240)는 적색, 녹색, 청색 (Red, Green, Blue; RGB)의 빛 중 어느 하나를 발광하도록 구성될 수도 있고, 백색(White)의 빛을 발광하도록 구성될 수도 있다. 유기 발광 소자가 백색의 빛을 발광하는 경우, 컬러 필터(Color Filter)가 추가적으로 형성될 수 있다.The organic light emitting diode 240 may be configured to emit light of any of red, green, and blue (RGB), or may be configured to emit white light. When the organic light emitting device emits white light, a color filter may be additionally formed.

제 1 전극(241)은 평탄화막(227) 상에 각 화소(111)의 발광 영역에 대응하도록 형성되고, 평탄화막(227)을 관통하는 제 2 콘택홀(229)을 통해 박막트랜지스터(220)의 드레인전극(224)과 연결된다. 평탄화막(227)은 유전율이 낮은 포토 아크릴(Photo Acryl)로 형성될 수 있다. 평탄화막(227)의 두께는 2μm 내지 3.5μm인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2.3μm로 형성된다. 평탄화막(227)의 재료 및 두께에 의해서 제 1 전극(241)은 박막트랜지스터(220), 게이트 라인 또는 데이터 라인에 의해 발생되는 기생정전용량(Parasitic-Capacitance)의 영향을 적게 받을수 있고, 제 1 전극(241)의 평탄도가 향상될 수 있다.The first electrode 241 is formed on the planarization film 227 to correspond to the emission region of each pixel 111 and is electrically connected to the thin film transistor 220 through the second contact hole 229 passing through the planarization film 227. [ The drain electrode 224 is connected to the drain electrode 224. The planarization layer 227 may be formed of a photoacid having a low dielectric constant. The thickness of the planarization film 227 is preferably 2 탆 to 3.5 탆, more preferably 2.3 탆. The first electrode 241 may be less influenced by the parasitic capacitance generated by the thin film transistor 220, the gate line, or the data line depending on the material and thickness of the planarization film 227, The flatness of the electrode 241 can be improved.

뱅크(244)는 평탄화막(227) 상에, 각 화소(111)의 비발광 영역에 대응하도록 형성되고, 테이퍼(Taper) 형상으로 형성되며, 제 1 전극(241)의 테두리에 적어도 일부를 오버랩하도록 형성된다. 뱅크(244)의 높이는 1μm 내지 2μm인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게 1.3μm로 형성한다. 뱅크(244) 상에는 스페이서(245)가 형성된다. 스페이서(245)는 뱅크(244)와 동일한 물질로 형성될 수 있다. 뱅크(244) 및 스페이서(245)는 폴리이미드로 형성될 수 있다. 스페이서(245)는 유기 발광층(242)을 패터닝할 때 사용되는 미세 금속 마스크(Fine Metal Mask; FMM)에 의해서 발생될 수 있는 유기 발광 소자(240)의 손상을 보호하는 기능을 수행한다. 스페이서(245)의 높이는 1.5μm 내지 2.5μm로 형성하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게 2μm로 형성한다. 이렇게 하면 마스크에 의한 손상을 효과적으로 보호할 수 있다. 미세 금속 마스크 패터닝을 사용하지 않고 스페이서(245)는 형성될 수 있다. The banks 244 are formed on the flattening film 227 so as to correspond to the non-emission regions of the respective pixels 111 and are formed in a tapered shape. The banks 244 overlap at least a part of the edges of the first electrodes 241, . The height of the bank 244 is preferably 1 占 퐉 to 2 占 퐉, and more preferably 1.3 占 퐉. On the bank 244, a spacer 245 is formed. The spacer 245 may be formed of the same material as the bank 244. The bank 244 and the spacers 245 may be formed of polyimide. The spacer 245 functions to protect the organic light emitting diode 240 from being damaged by a fine metal mask (FMM) used when patterning the organic light emitting layer 242. The height of the spacer 245 is preferably 1.5 to 2.5 탆, and more preferably 2 탆. This can effectively protect the mask from damage. The spacers 245 can be formed without using a fine metal mask patterning.

유기 발광층(242)은 제 1 전극(241) 상에 형성된다. 제 2 전극(243)은 유기 발광층(242)을 사이에 두고 제 1 전극(241)과 대향하도록 형성된다. 유기 발광층(242)은 인광 또는 형광물질로 구성될 수 있으며, 전자 수송층, 정공 수송층, 전하 생성층 등을 더 포함할 수 있다.An organic light emitting layer 242 is formed on the first electrode 241. The second electrode 243 is formed to face the first electrode 241 with the organic light emitting layer 242 therebetween. The organic light emitting layer 242 may be formed of a phosphorescent or fluorescent material, and may further include an electron transporting layer, a hole transporting layer, a charge generating layer, and the like.

제 1 전극(241)은 일함수가 높은 금속성 물질로 형성된다. 제 1 전극(241)이 반사 특성을 가지도록 제 1 전극(241)이 반사성 물질로 형성되거나 또는 제 1 전극(241) 하부에 반사판이 추가로 형성될 수도 있다. 제 1 전극(241)에는 영상 신호를 표시하기 위한 아날로그 영상 신호가 인가된다.The first electrode 241 is formed of a metallic material having a high work function. The first electrode 241 may be formed of a reflective material so that the first electrode 241 has a reflection characteristic or a reflection plate may be further formed below the first electrode 241. [ An analog video signal for displaying a video signal is applied to the first electrode 241.

제 2 전극(243)은 매우 얇은 두께의 일함수가 낮은 금속성 물질 또는 투명 도전성 산화물(Transparent Conductive Oxide; TCO)로 형성된다. 제 2 전극(243)이 금속성 물질로 형성되는 경우, 제 2 전극(243)은 400 Å 이하의 두께로 형성되며, 제 2 전극(243)이 이러한 두께로 형성된 경우, 제 2 전극(243)은 실질적으로 반투과층이 되어, 실질적으로 투명한 층이 된다. 제 2 전극(243)에는 공통 전압(Vss)이 인가된다. The second electrode 243 is formed of a very thin work function metal material or a transparent conductive oxide (TCO). When the second electrode 243 is formed of a metallic material, the second electrode 243 is formed to a thickness of 400 A or less. When the second electrode 243 is formed to have such a thickness, Becomes substantially a semi-transparent layer, and becomes a substantially transparent layer. A common voltage Vss is applied to the second electrode 243.

게이트 드라이버(GIP)는 복수의 쉬프트 레지스터(Shift Register)로 구성되며 각각의 쉬프트 레지스터는 각각의 게이트 라인에 연결된다. 게이트 라인은 박막트랜지스터(220)의 게이트 전극(222)에 연결되어, 액티브층(221)을 활성화한다. 게이트 드라이버(GIP)는 소스 드라이버로부터 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse; GSP) 및 복수의 클럭(Clock) 신호를 인가받고, 게이트 드라이버(GIP)의 쉬프트 레지스터가 순차적으로 게이트 스타트 펄스를 쉬프트 시키면서 각각의 게이트 라인(GIP)에 연결된 박막트랜지스터(220)를 활성화한다. 게이트 드라이버(GIP)의 쉬프트 레지스터는 복수의 박막트랜지스터로 형성된다. 쉬프트 레지스터의 박막트랜지스터는 화소 영역(A/A)의 박막트랜지스터(220)와 동일한 공정으로 형성된다. 따라서 게이트 드라이버(GIP)의 박막트랜지스터의 구조에 대한 설명은 생략한다. The gate driver (GIP) is composed of a plurality of shift registers, and each shift register is connected to each gate line. The gate line is connected to the gate electrode 222 of the thin film transistor 220 to activate the active layer 221. The gate driver GIP receives a gate start pulse GSP and a plurality of clock signals from a source driver and shifts the gate start pulse sequentially in the gate driver GIP, And activates the thin film transistor 220 connected to the gate line GIP. The shift register of the gate driver (GIP) is formed of a plurality of thin film transistors. The thin film transistor of the shift register is formed in the same process as the thin film transistor 220 of the pixel region A / A. Therefore, the description of the structure of the thin film transistor of the gate driver (GIP) is omitted.

공통 전압 라인(116)은 게이트 라인 및/또는 데이터 라인과 동일한 재료를 이용하여 단일층 또는 복층으로 형성될 수 있으며, 공통 전압 라인(116) 상에 무기물 재질의 절연층이 형성될 수 있다. 공통 전압 라인(116)은 화소 영역(A/A)의 제 2 전극(243)에 공통 전압을 공급한다. 공통 전압 라인(116)은 도 1에 도시된 것과 같이 화소 영역(A/A) 및 게이트 드라이버(GIP)의 외측에 형성된다. The common voltage line 116 may be formed in a single layer or a multilayer using the same material as the gate line and / or the data line, and an insulating layer made of an inorganic material may be formed on the common voltage line 116. The common voltage line 116 supplies a common voltage to the second electrode 243 of the pixel region A / A. The common voltage line 116 is formed outside the pixel region A / A and the gate driver GIP as shown in Fig.

연결부(260)는 게이트 드라이버(260) 상에 형성된다. 유기 발광 표시 장치(100)가 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치인 경우, 화소 영역(A/A)의 제 2 전극(243)의 두께가 얇게 설계되므로, 제2 전극(243)은 전기적으로 저항이 높고, 이에 따라 공통 전압 라인(116)으로부터 멀어질수록 제 2 전극(243)의 거리에 따른 저항 증가가 발생한다. 이러한 문제를 완화하기 위해서 공통 전압 라인(116)은 게이트 드라이버(GIP)의 상측에 제 1 전극(241)과 동일한 재료로 형성된 연결부(260)를 통해서 제 2 전극(243)에 연결된다. The connection portion 260 is formed on the gate driver 260. The second electrode 243 of the pixel region A / A is designed to have a small thickness so that the second electrode 243 is electrically connected to the organic light emitting diode As the resistance is higher, the resistance increases according to the distance of the second electrode 243 as the distance from the common voltage line 116 increases. In order to alleviate this problem, the common voltage line 116 is connected to the second electrode 243 via a connection portion 260 formed of the same material as the first electrode 241 above the gate driver GIP.

구체적으로 설명하면, 제 2 전극(243)은 유기 발광층(242) 상에 형성되어 공통 전압을 공급한다. 그리고 제 2 전극(243)은 뱅크(244) 및/또는 스페이서상(245)에 형성되어 베젤 영역(B/A)으로 연장된다. 제 2 전극(243)은 뱅크(244)가 형성되지 않은 베젤 영역(B/A)영역에서 연결부(260)와 연결된다. 연결부(260)는 게이트 드라이버(GIP)상에 형성된 평탄화막(227) 상에 제 1 전극(241)과 동일한 재료로 형성된다. 그리고 연결부(260)와 평탄화막(227) 사이에는 질화실리콘으로 형성된 절연층이 형성될 수 있다. 연결부(260) 상의 일부 영역에는 뱅크(244)가 형성된다. 연결부(260) 상의 뱅크(244)는 화소 영역(A/A)과의 높이 균형을 유지 하기 위해서 형성될 수 있으며, 이물보상층(132)의 평탄화 정도를 향상 시키는 기능을 수행할 수 있다. 베젤 영역(B/A)의 게이트 드라이버(GIP)의 외곽 영역에서 평탄화막(227) 및 층간절연막(226)이 형성되지 않는다. 그리고 연결부(260)는 층간절연막(226)이 형성되지 않은 영역의 경사면을 따라 형성되어 공통 전압 라인(116)과 연결된다. 그리고 베젤 영역(B/A)의 게이트 드라이버(GIP)의 외곽 영역 중 일부 영역은, 제 1 봉지층(131)도 형성되지 않기 때문에, 이물보상층(132)이 공통 전압 라인(116)이 직접 연결된다. 제 2 전극(243)은 연결부(260)와 연결을 위해서 게이트 드라이버(GIP) 상의 일부 영역까지 연장될 수 있다. 그리고 연결부(260)와 공통 전압 라인(116) 사이에 절연층이 존재할 경우 컨택홀에 의해서 서로 연결될 수 있다.Specifically, the second electrode 243 is formed on the organic light emitting layer 242 to supply a common voltage. And the second electrode 243 is formed in the bank 244 and / or the spacer phase 245 and extends into the bezel region B / A. The second electrode 243 is connected to the connection portion 260 in the bezel region B / A region where the bank 244 is not formed. The connecting portion 260 is formed of the same material as the first electrode 241 on the planarizing film 227 formed on the gate driver GIP. An insulating layer formed of silicon nitride may be formed between the connection portion 260 and the planarization layer 227. A bank 244 is formed in a part of the region on the connection portion 260. The bank 244 on the connection portion 260 may be formed to maintain a height balance with the pixel region A / A and may function to improve the degree of planarization of the foreign material compensation layer 132. The planarizing film 227 and the interlayer insulating film 226 are not formed in the outer region of the gate driver (GIP) of the bezel region B / A. The connection portion 260 is formed along the inclined surface of the region where the interlayer insulating layer 226 is not formed, and is connected to the common voltage line 116. Since the first encapsulation layer 131 is not formed in a partial region of the outer region of the gate driver GIP of the bezel region B / A, the parasitic compensation layer 132 is directly connected to the common voltage line 116 . The second electrode 243 may extend to a portion of the gate driver (GIP) for connection with the connection portion 260. If an insulating layer is present between the connection portion 260 and the common voltage line 116, they may be connected to each other by a contact hole.

정리하면, 박막트랜지스터(220)의 게이트 전극(222)은 게이트 드라이버(GIP)에서 생성된 구동 신호를 게이트 라인을 통하여 전달 받는다. 그리고, 게이트 전극(222)에 인가된 신호에 의해서 액티브층(221)의 도전성이 가변된다. 그리고 액티브층(221)을 통해서 소스전극(223)에 인가된 영상 신호가 제 1 전극(241)에 인된다. 그리고 제 2 전극(243)에 공통 전압(Vss)이 인가되어 유기 발광층(242)이 발광하여 영상을 표시할 수 있다.In summary, the gate electrode 222 of the thin film transistor 220 receives the driving signal generated by the gate driver (GIP) through the gate line. Then, the conductivity of the active layer 221 is varied by a signal applied to the gate electrode 222. A video signal applied to the source electrode 223 through the active layer 221 is applied to the first electrode 241. A common voltage Vss is applied to the second electrode 243, and the organic light emitting layer 242 emits light to display an image.

플렉서블 봉지부(130)는 제 1 봉지층(131), 이물보상층(132), 제 2 봉지층(133)를 포함한다. The flexible encapsulant 130 includes a first encapsulation layer 131, a foreign material compensation layer 132, and a second encapsulation layer 133.

제 1 봉지층(131)은 무기물 계열로 형성된다. 제 1 봉지층(131)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화알루미늄(AlyOz) 중 하나를 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD) 또는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition; ALD) 등의 진공성막법을 사용하여 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The first sealing layer 131 is formed of an inorganic material. The first encapsulation layer 131 may be formed using a vacuum deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or atomic layer deposition (ALD) using one of silicon nitride (SiNx) and aluminum oxide However, the present invention is not limited thereto.

제 1 봉지층(131)을 질화실리콘으로 형성할 경우, 제1 봉지층(310)의 두께를 5000Å 내지 15000Å으로 형성하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10000Å으로 형성한다. 측정 결과 10000Å 두께로 형성된 제 1 봉지층(131)의 수분 침투율(Water Vapor Transmission Rate; WVTR)은 5.0×10-2[g/m2-day]으로 측정되었다.When the first encapsulation layer 131 is formed of silicon nitride, the first encapsulation layer 310 is preferably formed to a thickness of 5000 ANGSTROM to 15000 ANGSTROM, more preferably 10,000 ANGSTROM. The water permeation rate (WVTR) of the first encapsulating layer 131 formed to a thickness of 10,000 Å was measured as 5.0 × 10 -2 [g / m 2 -day].

제 1 봉지층(131)을 산화알루미늄으로 형성할 경우, 제 1 봉지층(131)의 두께를 200Å 내지 1500Å으로 형성하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 500Å으로 형성한다. 측정 결과 500Å 두께로 형성된 제 1 봉지층(131)의 수분 침투율은 1.3×10-3[g/m2-day]으로 측정되었다.When the first encapsulation layer 131 is formed of aluminum oxide, the thickness of the first encapsulation layer 131 is preferably 200 Å to 1500 Å, more preferably 500 Å. As a result, the moisture permeability of the first encapsulation layer 131 formed to a thickness of 500 Å was measured to be 1.3 × 10 -3 [g / m 2 -day].

이물보상층(132)은 유기물 계열로 형성된다. 이물보상층(132)은 실리콘옥시카본(SiOCz)이 사용되거나, 아크릴(Acryl) 또는 에폭시(Epoxy) 계열의 레진(Resin)이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이물보상층(132)이 이물을 효과적으로 보상하기 위해서는 이물보상층(132)의 점도가 500(센티 프와즈; cp) 내지 30000cp 가 되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2000cp 내지 4000cp가 되게 한다.The foreign material compensation layer 132 is formed of an organic material. As the foreign material compensation layer 132, silicon oxy carbon (SiOCz) may be used, or acrylic resin or epoxy resin may be used, but the present invention is not limited thereto. In order for the foreign material compensation layer 132 to effectively compensate the foreign object, the viscosity of the foreign material compensation layer 132 is preferably from 500 (centipoise; cp) to 30000 cp, more preferably from 2000 cp to 4000 cp.

예를 들어, 이물보상층(132)이 SiOCz로 형성되는 경우, CVD 공정으로 이물보상층(132)이 형성될 수 있다. SiOCz는 무기물이나, 특정 조건하에서 유기물로 분류될 수 있다. 구체적으로 설명하면, SiOCz는 실리콘과 탄소의 원자 비율(C/Si) 비율에 따라 흐름성이 달라지게 된다. 예를 들어, SiOCz의 흐름성이 나빠지면 무기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 저하되고 흐름성이 좋아지면 유기물에 가까운 특성을 가지게 되므로 이물을 보상하는 성능이 향상된다. 원소 비율 측정 결과에 따르면, C/Si 비율이 대략 1.05 이상이면 흐름성이 나빠지고, C/Si비가 1.0 이하이면 흐름성이 좋아져서 이물을 용이하게 보상할 수 있다. 따라서 C/Si 비율이 1.0 이하인 것이 이물보상층(132)을 구현함에 있어서 바람직하다. 그리고 증착 공정 온도를 섭씨 60°C 이하로 제어함에 의해, 흐름성이 보다 향상되어, 이물보상층(132)의 평탄도가 좋아지고, 이물보상층(132)이 이물을 용이하게 덮을 수 있다. 따라서 이물보상층(132) 상면에 제 2 봉지층(133)이 평탄하게 형성될 수 있다. For example, when the foreign material compensation layer 132 is formed of SiOCz, the foreign material compensation layer 132 may be formed by a CVD process. SiOCz is an inorganic substance, but can be classified as organic under certain conditions. Specifically, the flowability of SiOCz varies depending on the atomic ratio (C / Si) ratio between silicon and carbon. For example, when the flowability of SiOCz is deteriorated, it has a property close to that of an inorganic substance. Therefore, when the performance of compensating foreign substances is deteriorated and the flowability is improved, the characteristics of organic substances are improved. According to the element ratio measurement result, the flowability is deteriorated when the C / Si ratio is about 1.05 or more, and the flowability is improved when the C / Si ratio is 1.0 or less, so that foreign matter can be easily compensated. Therefore, it is preferable that the C / Si ratio is 1.0 or less in realizing the foreign material compensation layer 132. By controlling the deposition process temperature to 60 ° C or lower, the flowability is further improved, the flatness of the foreign material compensation layer 132 is improved, and the foreign material compensation layer 132 can easily cover the foreign object. Therefore, the second encapsulation layer 133 may be formed flat on the upper surface of the foreign material compensation layer 132.

SiOCz의 C/Si 비율은 CVD 공정 중 산소(O2)와 헥사메틸다이실록산(Hexamethyldisiloxane; HMDSO)의 비율을 조절하여 제어될 수 있다. SiOCz로 형성된 이물보상층(132)의 두께는 2μm 내지 4μm의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게 3μm일 수 있다. 특히 SiOCz로 이물보상층(132)을 형성하면 플렉서블 봉지부(130)의 두께가 매우 얇게 구현될 수 있고, 유기 발광 표시 장치(100)의 두께가 저감될 수 있다. The C / Si ratio of SiOCz can be controlled by adjusting the ratio of oxygen (O 2) to hexamethyldisiloxane (HMDSO) during the CVD process. The thickness of the foreign material compensation layer 132 formed of SiOCz is preferably in the range of 2 탆 to 4 탆, more preferably 3 탆. In particular, when the foreign material compensation layer 132 is formed of SiOCz, the thickness of the flexible encapsulant 130 can be very thin and the thickness of the organic light emitting display 100 can be reduced.

예를 들어, 이물보상층(132)이 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진으로 형성되는 경우, 슬릿 코팅(Slit Coating) 또는 스크린 프린팅(Screen Printing) 공정으로 이물보상층(132)이 형성될 수 있다. 이 때, 에폭시 계열의 레진은 고점도의 비스페놀-A-에폭시(Bisphenol-A-Epoxy) 또는 저점도의 비스페놀-F-에폭시(Bisphenol-F-Epoxy) 등이 사용 가능하다. 이물보상층(132)은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 레진의 균일도를 개선하기 위해서 레진의 표면장력을 감소시키는 습윤제(Wetting agent), 레진의 표면 평탄성을 개선하기 위한 레벨링제(Leveling agent), 레진에 포함된 기포를 제거하기 위한 소포제(Defoaming agent)가 첨가제로서 더 추가될 수 있다. 이물보상층(132)은 개시제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 열에 의해서 연쇄 반응을 개시시킴에 의해 액상 레진을 경화시키는 안티몬(Antimony) 계열의 개시제 또는 무수물(Anhydride)계열의 개시제를 사용하는 것이 가능하다. For example, in the case where the foreign material compensation layer 132 is formed of acrylic or epoxy resin, the foreign material compensation layer 132 may be formed by a slit coating or a screen printing process. At this time, high-viscosity bisphenol-A-epoxy or low viscosity bisphenol-F-epoxy can be used as the epoxy resin. The foreign material compensation layer 132 may further include an additive. For example, in order to improve the uniformity of the resin, a wetting agent for reducing the surface tension of the resin, a leveling agent for improving the surface flatness of the resin, a defoaming agent for removing the bubbles contained in the resin ( Defoaming agent can be added as an additive. The foreign material compensation layer 132 may further include an initiator. For example, it is possible to use an antimony series initiator or an anhydride series initiator which cures the liquid resin by initiating a chain reaction by heat.

특히 레진을 열경화하는 경우, 공정 온도는 110°C 이하로 제어하는 것이 중요하다. 120°C 이상의 공정 온도에서 레진을 열경화하면, 이미 형성된 유기 발광층(242)이 손상될 수 있다. 따라서 110°C 이하에서 경화되는 특성을 갖는 레진이 사용된다.In particular, when the resin is thermoset, it is important to control the process temperature to 110 ° C or less. If the resin is thermally cured at a process temperature of 120 ° C or higher, the already formed organic light emitting layer 242 may be damaged. Therefore, a resin having properties of setting at 110 ° C or less is used.

추가적으로, 레진의 온도가 상승하면, 액상 레진의 점도가 급속도로 낮아지다가, 일정 시간이 지나면 경화가 시작되면서 점도가 급상승하여 경화가 완료된다. 하지만 점도가 낮아지는 일정 시간 동안에는 레진은 유동성이 높기 때문에, 이 때 과도포 현상이 발생할 가능성이 특히 증가하게 된다.In addition, when the temperature of the resin increases, the viscosity of the liquid resin rapidly decreases. After a certain period of time, the curing starts and the viscosity rises rapidly to complete the curing. However, since the resin has a high fluidity during a certain period of time when the viscosity is lowered, the possibility of over-deposition is particularly increased at this time.

레진으로 형성된 이물보상층(132)의 두께는 15μm 내지 25μm의 범위일 수 있으며 바람직하게 20μm일 수 있다. 측정 결과에 의하면, 레진의 두께가 20μm로 도포될 때, 설계치보다 과도포된 영역의 폭은 1mm 내지 3.5mm 범위인 것으로 측정되었다. 하지만 최근에 개발되는 유기 발광 표시 장치의 베젤의 폭은 2mm 이하의 수준을 달성하는 것이 필요하기 때문에, 과도포 영역을 적어도 1.5mm 이하로 제어해야 한다.The thickness of the foreign material compensation layer 132 formed of resin may be in the range of 15 mu m to 25 mu m and preferably 20 mu m. According to the measurement results, when the thickness of the resin was applied to 20 μm, the width of the overcorrected area was measured to be in the range of 1 mm to 3.5 mm. However, since the width of the bezel of a recently developed organic light emitting display device needs to achieve a level of 2 mm or less, the overcoated region should be controlled to at least 1.5 mm or less.

도 1에 도시된 것과 같이, 이물보상층(132)의 단면은 화소 영역(A/A)에서는 평탄하게 형성되고, 베젤 영역(B/A)에서는 점진적으로 얇아지는 형상을 가지게 된다. 이물보상층(132)이 점진적으로 얇아지는 부분은 슬로프(Slope)를 가지게 되고, 빛의 굴절을 발생시켜 영상의 품질이 저하될 수 있으므로, 베젤 영역(B/A)에 형성되는 것이 바람직하다.As shown in Fig. 1, the cross section of the foreign material compensation layer 132 is formed flat in the pixel area A / A, and has a shape gradually becoming thinner in the bezel area B / A. The portion where the foreign material compensation layer 132 gradually becomes thinner has a slope and may be refracted by light to reduce the quality of the image and is preferably formed in the bezel area B / A.

이물보상층(132)은 공정 상 발생할 수 있는 이물 또는 파티클(Particle)을 커버하도록 기능한다. 예를 들어, 제 1 봉지층(131)에는 이물 또는 파티클에 의해서 발생된 크랙에 의한 불량이 존재할 수 있다. 하지만 이물보상층(132)에 의해서 이러한 굴곡 및 이물이 덮힐 수 있고 이물보상층(132)의 상면은 평탄화 된다.The foreign material compensation layer 132 functions to cover foreign matter or particles that may occur in the process. For example, the first sealing layer 131 may have a defect due to a crack generated by foreign matter or particles. However, such curvature and foreign matter can be covered by the foreign material compensation layer 132 and the upper surface of the foreign material compensation layer 132 is planarized.

하지만 이물보상층(132)은 수분으로부터 유기 발광 소자(240)를 보호하기에 적합하지 않다. 그리고 흐름성이 우수하기 때문에 이물보상층(132)은 실제 설계치를 벗어나게 되는 경우가 자주 발생한다. However, the foreign material compensation layer 132 is not suitable for protecting the organic light emitting element 240 from moisture. Since the flowability is excellent, the foreign material compensation layer 132 often deviates from the actual design value.

도 1을 다시 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 베젤 영역(B/A)의 과도포 현상을 저감할 수 있는 유기 발광 표시 장치(100)의 베젤 영역(B/A)은 L1, L2 및 L3 영역으로 구분될 수 있다. 1, the bezel area B / A of the organic light emitting diode display 100 capable of reducing the overspray phenomenon of the bezel area B / A according to an embodiment of the present invention includes L1, L2 And L3 regions.

L3 영역은 화소 영역(A/A)의 외곽부터 제 2 전극(243)이 연결부(260)를 통해서 공통 전압 라인(116)에 연결되는 영역을 덮는 제 1 봉지층(131)이 형성된 영역을 지칭한다. The L3 region indicates a region in which the first encapsulation layer 131 covering the region connected to the common voltage line 116 from the outside of the pixel region A / A through the connection portion 260 of the second electrode 243 do.

그리고 제 1 봉지층(131) 상에는 이물보상층(132)이 도포되고, L3 영역의 이물보상층(132)은 평탄화막(227)의 경사면을 따라 형성된 연결부(260) 상에 형성된 제 1 봉지층(131)의 경사면을 따라서 흘러내리게 된다. 즉, 제 1 봉지층(131)의 경사면은 뱅크(244), 평탄화막(227) 및 층간 절연층(226)의 경사면을 따라서 형성된다. 제 1 봉지층(131)의 경사면의 각도(θ)는 기판(101)을 기준으로 30° 내지 80°로 형성될 수 있다. 제 1 봉지층(131)의 경사면의 각도(θ)에 따라 이물보상층(132)이 L2 영역으로 흘러들어가는 속도가 조절될 수 있다. 제 1 봉지층(131)의 경사면의 각도(θ)는 이물보상층(132)의 점도 및 L2 영역의 폭을 고려하여 최적화 되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 이물보상층(132)의 점도가 3000cp이고 L2 영역의 폭이 400μm 일 경우, 제 1 봉지층(131)의 경사면의 각도(θ)는 30˚ 내지 50˚가 바람직하다. 제 1 봉지층(131)의 경사면의 각도(θ)는 제 1 봉지층(131)의 경사면의 형상을 결정하는 뱅크(244), 평탄화막(227) 및 층간 절연층(226) 중 어느 하나의 경사면의 각도로 정의될 수도 있다. 뱅크(244), 평탄화막(227) 및 층간 절연층(226) 각각의 층의 경사면의 각도는 상이할 수 있다. The foreign substance compensating layer 132 of the L3 region is coated on the first encapsulating layer 131 and the first encapsulating layer 132 formed on the connecting portion 260 formed along the inclined surface of the planarizing film 227. [ (131). That is, the inclined surface of the first encapsulation layer 131 is formed along the inclined surfaces of the bank 244, the planarization film 227, and the interlayer insulating layer 226. The angle? Of the inclined surface of the first sealing layer 131 may be formed at 30 to 80 degrees with respect to the substrate 101. [ The speed at which the foreign material compensation layer 132 flows into the L2 region can be adjusted according to the angle [theta] of the inclined surface of the first sealing layer 131. [ The angle? Of the inclined plane of the first sealing layer 131 is preferably optimized in consideration of the viscosity of the foreign material compensation layer 132 and the width of the L2 region. For example, when the foreign material compensation layer 132 has a viscosity of 3000 cp and a width of the L2 region is 400 占 퐉, the angle? Of the inclined plane of the first encapsulation layer 131 is preferably 30 占 to 50 占. The angle? Of the inclined plane of the first encapsulation layer 131 is set to be equal to the angle? Of the inclined plane of the bank 244, the planarization film 227 and the interlayer insulation layer 226, which determine the shape of the inclined plane of the first encapsulation layer 131 It may be defined as the angle of the inclined plane. The angle of the inclined surface of the layer of each of the bank 244, the planarization film 227, and the interlayer insulating layer 226 may be different.

예를 들어, L3 영역의 폭은 200μm 내지 700μm 사이로 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 330μm로 형성된다.For example, the width of the L3 region may be between 200 mu m and 700 mu m, more preferably 330 mu m.

L2 영역은 L3 영역에서 흘러내리는 이물보상층(132)이 과도포될 경우, 흘러 내린 이물보상층(132)이 공통 전압 라인(116) 상에 저장 될 수 있는 공간을 지칭한다. L2 영역에는 평탄화막(227), 층간절연막(226) 및 제 1 봉지층(131)이 형성되지 않는다. L2 영역에는 공통 전압 라인(116)이 이물보상층(132)과 접촉한다. 특히 L2 영역에는 제 1 봉지층(131)이 형성되지 않기 때문에 더 많은 이물보상층(132)을 저장할 수 있다. 그리고 공통 전압 라인(116)은 금속 재질이기 때문에 수분 침투 지연 성능이 우수하여 제 1 봉지층(131)이 형성되지 않아도 플렉서블 봉지부(130) 성능을 저하시키지 않는다.The L2 region refers to a space in which the floating foreign material compensation layer 132 can be stored on the common voltage line 116 when the foreign material compensation layer 132 flowing in the L3 region is overflowed. The planarization film 227, the interlayer insulating film 226, and the first encapsulation layer 131 are not formed in the L2 region. In the region L2, the common voltage line 116 is in contact with the foreign material compensation layer 132. In particular, since the first encapsulation layer 131 is not formed in the L2 region, more foreign material compensation layer 132 can be stored. Since the common voltage line 116 is made of a metal material, the water encapsulation delay performance is excellent, so that the performance of the flexible sealing part 130 is not deteriorated even if the first sealing layer 131 is not formed.

추가적으로 금속 표면의 표면 에너지를 저감하도록 금속 표면을 처리하여 젖음성(Wettability)을 개선하면, 이물보상층(132)이 효과적으로 분산될 수 있다.Additionally, by improving the wettability by treating the metal surface to reduce the surface energy of the metal surface, the foreign material compensation layer 132 can be effectively dispersed.

예를 들어, L2 영역의 폭은 100μm 내지 800μm 사이로 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 400μm로 형성된다.For example, the width of the L2 region may be formed to be between 100 mu m and 800 mu m, more preferably 400 mu m.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 과도포되는 이물보상층(132)은 L2 영역 형성된 공통 전압 라인(116)을 따라서 공통 전압 라인(116)이 형성된 베젤의 양 방향으로 분산되어 과도포 현상이 저감될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the overlying foreign material compensation layer 132 is dispersed in both directions of the bezel along which the common voltage line 116 is formed along the common voltage line 116 formed with the L2 region, .

L1 영역은 이물보상층(132)이 베젤 영역(B/A)를 넘어서 과도포 되지 않도록 이물보상층(132)의 흐름을 제한할 수 있는 영역을 지칭한다. L1 영역에는 층간 절연막(226) 및 제 1 봉지층(131)이 형성된다.The L1 region refers to a region capable of limiting the flow of the foreign material compensation layer 132 so that the foreign material compensation layer 132 is not overlaid beyond the bezel region B / A. An interlayer insulating film 226 and a first encapsulation layer 131 are formed in the L1 region.

앞에서 설명하였듯이, 이물보상층(132)은 화소 영역(A/A)에서는 평탄하게 형성되고, 베젤 영역(B/A)에서는 점진적으로 얇아지는 형상을 가지도록 형성된다. 따라서 L1 영역에 형성된 제 1 봉지층(131) 및 층간절연막(226)의 두께는, 베젤 영역(B/A)에서 점진적으로 얇아지도록 형성된 이물보상층(132)이 L1 영역에 형성된 제 1 봉지층(131)과 접촉할 때의 두께에 대응되는 것이 바람직하다. 그리고 L2 영역의 폭을 가변함에 따라 제 1 봉지층(131)과 접촉할 때의 두께를 다르게 할 수 있다. As described above, the foreign material compensation layer 132 is formed so as to be flat in the pixel area A / A and to be gradually thinned in the bezel area B / A. The thickness of the first encapsulation layer 131 and the interlayer insulation film 226 formed in the L1 region is set such that the foreign material compensation layer 132 formed so as to be gradually thinner in the bezel region B / It is preferable that the thickness corresponds to the thickness when it comes into contact with the electrode 131. As the width of the L2 region is varied, the thickness of the first encapsulation layer 131 at the time of contact with the first encapsulation layer 131 can be made different.

최적의 L2 영역의 폭을 확보하면, L1 영역에 형성된 제 1 봉지층(131) 및 층간절연막(226)이 이물보상층(132)에 대응할 수 있는 수준의 높이가 된다. L2 영역의 최적의 폭은 제 1 봉지층(131) 및 층간절연막(226)의 높이, 이물보상층(132)의 두께, 점도 및 도포 영역 등 다양한 팩터에 따라 달라질 수 있다The first encapsulation layer 131 and the interlayer insulating film 226 formed in the L1 region are at a height that can correspond to the foreign material compensation layer 132. [ The optimum width of the L2 region may vary depending on various factors such as the height of the first encapsulation layer 131 and the interlayer insulating film 226, the thickness of the foreign material compensation layer 132, the viscosity,

또한 이물보상층(132)은 표면 장력을 가지고 있기 때문에 L1 영역의 제 1 봉지층(131) 및 층간절연막(226)의 높이가 L1 영역에 형성된 제 1 봉지층(131)과 접촉하는 영역의 이물보상층(132)의 두께보다 약간 낮아도 이물보상층(132)이 L1 영역에 형성된 제 1 봉지층(131)을 범람하지 않을 수 있다. Since the foreign material compensation layer 132 has a surface tension, the height of the first encapsulation layer 131 and the interlayer insulation film 226 in the L1 region is smaller than the height of the first encapsulation layer 131 formed in the L1 region The foreign material compensation layer 132 may not overflow the first encapsulation layer 131 formed in the L1 region even if it is slightly lower than the thickness of the compensation layer 132. [

예를 들어, L1 영역의 폭은 50μm 내지 500μm 사이로 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 300μm로 형성된다. . For example, the width of the L1 region may be formed to be between 50 mu m and 500 mu m, more preferably 300 mu m. .

제 2 봉지층(133)은 화소 영역(A/A) 및 베젤 영역(B/A)에 형성된 이물보상층(132) 및 제 1 봉지층(131)을 덮도록 형성된다. 그리고 제 1 봉지층(131)과 제 2 봉지층(133)은 L1 영역에서 서로 접촉하도록 형성된다. L1 영역에서 제 1 봉지층(131)과 제 2 봉지층(133)이 서로 접촉하는 부분의 폭은 50μm 내지 500 μm 사이로 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 300μm로 형성된다. 적어도 제 1 봉치증(131) 및 제 2 봉지층(133)이 50μm 이상 서로 접촉하게 되면, 이물보상층(132)이 L1 영역의 제 1 봉지층(131)을 일부 범람하더라도, 제 1 봉지층(131)과 제 2 봉지층(133)에 의해서 이물보상층(132)이 밀봉될 수 있다. 이러한 구조에 따르면 이물보상층(132)은 제 1 봉지층(131) 및 제 2 봉지층(133)에 의해서 밀봉되게 되어 이물보상층(132)을 통한 직접적인 수분 침투 경로가 차단된다. The second encapsulation layer 133 is formed to cover the foreign material compensation layer 132 and the first encapsulation layer 131 formed in the pixel area A / A and the bezel area B / A. The first encapsulation layer 131 and the second encapsulation layer 133 are formed to be in contact with each other in the L1 region. The width of the portion where the first encapsulation layer 131 and the second encapsulation layer 133 are in contact with each other in the L1 region may be between 50 탆 and 500 탆, and more preferably 300 탆. Even if the first wicking layer 131 and the second sealing layer 133 are in contact with each other by 50 m or more, even if the foreign material compensation layer 132 partially floats the first sealing layer 131 in the L1 region, The foreign substance compensation layer 132 can be sealed by the first sealant layer 131 and the second sealant layer 133. According to this structure, the foreign material compensation layer 132 is sealed by the first sealing layer 131 and the second sealing layer 133, and the direct moisture permeation path through the foreign material compensation layer 132 is blocked.

그리고 제 2 봉지층(133)은 평탄화된 이물보상층(132) 상에 형성되기 때문에, 이물 및 굴곡에 따른 크랙의 발생 가능성이 현저히 저감될 수 있다. 구체적으로 설명하면, 제 2 전극(243)은 뱅크(244) 및 스페이서(245)의 형상을 따라 형성된다. 따라서 제 2 전극(243)은 평탄하지 않게 형성된다. 제 1 봉지층(131)은 제 2 전극(243)의 굴곡을 따라 형성되므로, 제 1 봉지층(131)은 이러한 굴곡에 의해 발생된 크랙을 가지고 있을 수 있다. 하지만 제 2 봉지층(133)은 평평하게 형성된다. 따라서 제 2 봉지층(133)은 제 1 봉지층(131)보다 크랙 발생 정도가 더 적을 수 있다. Since the second encapsulation layer 133 is formed on the planarized foreign material compensation layer 132, the possibility of occurrence of cracks due to foreign matter and curvature can be remarkably reduced. More specifically, the second electrode 243 is formed along the shape of the bank 244 and the spacer 245. Therefore, the second electrode 243 is formed unevenly. Since the first encapsulation layer 131 is formed along the curvature of the second electrode 243, the first encapsulation layer 131 may have a crack generated by such curvature. However, the second encapsulation layer 133 is formed flat. Therefore, the degree of cracking of the second sealing layer 133 may be smaller than that of the first sealing layer 131.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 L1, L2 및 L3 영역을 가지는 유기 발광 표시 장치(100)의 베젤 영역(B/A)에 의하면 이물보상층(132)은 공통 전압 라인(116)을 따라서 이물보상층(132)이 분산되어, 과도포 현상을 저감할 수 있다.That is, according to the bezel region B / A of the OLED display 100 having the regions L1, L2, and L3 according to an embodiment of the present invention, the foreign material compensation layer 132 is formed along the common voltage line 116 The foreign material compensation layer 132 is dispersed, and the overspray phenomenon can be reduced.

도 1에 도시한 바와 같이, 배리어 필름(350)은 제 2 봉지층(133)이 형성된 후 접착된다. 배리어 필름(350)에 의해서 유기 발광 표시 장치(100)는 산소 및 수분의 침투를 더욱 지연시킬 수 있다. 특히 배리어 필름(350) 접착 공정은 CVD 공정 또는 ALD 공정처럼 까다로운 진공 상태에서 반드시 진행될 필요가 없기 때문에, 간단한 압착 공정으로 우수한 산소 및 수분 침투 지연 성능을 달성할 수 있으므로, 진공 상태에서 다수의 유기 절연층 및 무기 절연층을 반복적으로 증착해야 하는 공정 상의 번거로움이 개선되어, 공정 시간 단축 및 비용 절감이 획기적으로 달성될 수 있다. 그리고 무기물을 이용한 봉지층의 개수가 늘어날수록 봉지층에 쉽게 크랙이 발생할 수 있다. 하지만, 배리어 필름(350)을 이용하면 CVD로 증착한 무기물 층의 개수를 저감시키면서 우수한 수분 침투율을 달성할 수 있기 때문에, 우수한 플렉서블 봉지부(130)가 구현 가능하다As shown in Fig. 1, the barrier film 350 is bonded after the second sealing layer 133 is formed. The barrier film 350 allows the organic light emitting diode display 100 to further delay the penetration of oxygen and moisture. In particular, since the barrier film 350 bonding process does not necessarily have to proceed in severe vacuum conditions such as a CVD process or an ALD process, a simple compression process can achieve excellent oxygen and moisture permeation delay performance, Layer and the inorganic insulating layer are repeatedly deposited, the process time and cost can be remarkably achieved. As the number of sealing layers using inorganic materials increases, cracks may easily occur in the sealing layer. However, when the barrier film 350 is used, excellent moisture permeability can be achieved while reducing the number of inorganic layers deposited by CVD, so that an excellent flexible sealing part 130 can be realized

배리어 필름(350)은 배리어 필름 바디(351) 및 가압 접착층(352)으로 구성된다. 배리어 필름 바디(351)는 COP(Copolyester Thermoplastic Elastomer), COC(Cycoolefin Copolymer) 및 PC(Polycarbonate) 중 어느 하나의 재료로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 배리어 필름(350)은 화소 영역(A/A)의 영상을 투과시켜야 하기 때문에, 표시 영상의 품질을 유지하기 위해서 광학적으로 등방성인 특성을 가지는 것이 바람직하다. The barrier film 350 is composed of a barrier film body 351 and a pressure bonding layer 352. The barrier film body 351 may be formed of any one of COP (Copolyester Thermoplastic Elastomer), COC (Cycoolefin Copolymer), and PC (Polycarbonate), but is not limited thereto. Since the barrier film 350 must transmit an image of the pixel area A / A, it is preferable that the barrier film 350 has optically isotropic properties in order to maintain the quality of the display image.

배리어 필름 바디(351)의 두께는 35μm 내지 60μm인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 50μm일 수 있다. 이러한 두께일 때 수분 침투율 측정 결과 배리어 필름(350)의 수분 침투율은 5×10-3[g/m2-day]으로 측정되었다. The thickness of the barrier film body 351 is preferably 35 to 60 占 퐉, and more preferably 50 占 퐉. At this thickness, the moisture permeation rate of the barrier film 350 was measured to be 5 × 10 -3 [g / m 2 -day].

유기 발광 표시 장치(100)의 수분 침투 지연 성능은 제 1 봉지층(131), 제 2 봉지층(133) 및 배리어 필름(350)의 수분 침투율을 복합적으로 고려한, 전체적인 수분 침투율에 의해서 결정된다. 따라서, 유기 발광 표시 장치(100)의 수분 침투율 성능을 향상시키기 위해 제 1 봉지층(131) 및 제 2 봉지층(133)뿐만 아니라 배리어 필름(350)의 유기적 관계가 중요하다.The water permeation delay performance of the organic light emitting diode display device 100 is determined by the overall moisture permeability ratio taking into account the moisture permeability of the first sealing layer 131, the second sealing layer 133 and the barrier film 350 in combination. Therefore, in order to improve the moisture permeability performance of the OLED display 100, the organic relationship of the barrier film 350 as well as the first encapsulation layer 131 and the second encapsulation layer 133 is important.

구체적으로 설명하면, 배리어 필름(350)의 두께는 제 1 봉지층(131) 및 제 2 봉지층(133)의 수분 침투율 성능을 고려하여 결정될 수도 있다. 예를 들어, 제 1 봉지층(131) 및 제 2 봉지층(133)의 수분 침투 지연 성능이 향상되면, 배리어 필름(350)의 두께는 더 얇아질 수 있다.More specifically, the thickness of the barrier film 350 may be determined in consideration of the water permeability performance of the first sealing layer 131 and the second sealing layer 133. [ For example, if the moisture permeation delay performance of the first sealing layer 131 and the second sealing layer 133 is improved, the thickness of the barrier film 350 may be thinner.

가압 접착층(352)은 투광성 및 양면 접착성을 띠는 필름 형태로 구성된다. 이러한 가압 접착층(352)은 올레핀(Olefin) 계열, 아크릴(Acrylic) 계열 및 실리콘(Silicon) 계열 중 어느 하나의 절연재료로 형성될 수 있다. 가압 접착층(352)은 8μm 내지 50μm의 두께로 형성된다. 특히, 가압 접착층(352)은 소수성을 띠는 올레핀 계열의 수분 침투 지연 재료로 형성될 수 있다. 가압 접착층(352)은 일정 압력으로 가압하면 접착력이 증가하는 특성이 있다. 그리고, 가압 접착층(352)이 소수성을 띠는 올레핀 계열의 절연재료로 형성되는 경우, 가압 접착층(352)은 10[g/㎡-day] 이하 범위의 수분 침투율을 갖는다. 이로써, 제 1 봉지층(131), 제 2 봉지층(133) 및 배리어 필름 바디(351)뿐만 아니라 가압 접착층(352)에 의해서도, 화소 영역(A/A)으로의 수분 및 산소의 침투가 더 지연될 수 있어, 유기 발광 표시 장치(100)의 수명 및 신뢰도가 향상될 수 있다. The pressure-sensitive adhesive layer 352 is composed of a film having light-transmitting property and double-sided adhesive property. The pressure-sensitive adhesive layer 352 may be formed of any one of an olefin series, an acrylic series, and a silicon series. The pressure-sensitive adhesive layer 352 is formed to a thickness of 8 占 퐉 to 50 占 퐉. In particular, the pressure-sensitive adhesive layer 352 can be formed of an olefin-based moisture permeation retarding material having hydrophobicity. The pressure-sensitive adhesive layer 352 has a characteristic that the adhesive force increases when the pressure is applied at a constant pressure. When the pressure-sensitive adhesive layer 352 is formed of an olefin-based insulating material having hydrophobicity, the pressure-sensitive adhesive layer 352 has a moisture permeability in a range of 10 [g / m 2 -day] or less. As a result, not only the first sealing layer 131, the second sealing layer 133, and the barrier film body 351 but also the pressure bonding layer 352 can prevent penetration of moisture and oxygen into the pixel region A / The lifetime and reliability of the OLED display 100 can be improved.

본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 본 발명의 일 실시예에서 설명한 유기 발광 표시 장치와 다른 구조의 L2 영역을 포함한다. The OLED display according to another embodiment of the present invention includes the L2 region having a different structure from the OLED display described in the embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 베젤 영역의 단면도이다. 이하 도 2를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 베젤 영역의 이물보상층의 과도포 현상을 저감할 수 있는 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치를 간략히 설명한다. 2 is a cross-sectional view of a bezel region of an OLED display according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a top emission type organic light emitting display capable of reducing overspray phenomenon of a foreign material compensation layer in a bezel region according to another embodiment of the present invention will be briefly described.

본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(200)는 L2 영역에 형성된 공통 전압 라인(116) 상에 제 1 봉지층(131)과 동일한 재질로 형성된 제 1 봉지층 구조물(131a)이 복수개 이격되어 형성된다. 이러한 제 1 봉지층 구조물(131a)에 의해서 이물보상층(132)이 L3 영역의 경사면을 타고 흘러내릴 때 양 옆으로 분산될 수 있다. 제 1 봉지층 구조물(131a)은 적어도 두개 이상 형성될 수 있으며 수백개까지도 형성 가능하다. 각각의 제 1 봉지층 구조물(131a)의 단면의 폭은 적어도 5μm이상으로 형성된다. 그리고 각각의 제 1 봉지층 구조물(131a)은 서로 적어도 5μm이상 이격되도록 형성된다. 이러한 구성에 따르면, L2 영역에 형성된 제 1 봉지층 구조물(131a)에 의해서 모세관 현상이 발생하여 이물보상층(132)의 분산 속도를 향상시킬 수 있다. 모세관 현상이란 비좁은 관 속의 액체가 중력과 무관하게 관을 따라 빨려 올라가는 현상을 말한다. The OLED display 200 according to another embodiment of the present invention includes a plurality of first encapsulation layer structures 131a formed of the same material as the first encapsulation layer 131 on the common voltage line 116 formed in the L2 region, Respectively. The first seal layer structure 131a can disperse the foreign material compensation layer 132 on both sides when flowing along the inclined surface of the L3 region. At least two or more first seal layer structures 131a may be formed, and several hundreds of first seal layer structures 131a may be formed. The width of the cross section of each first seal layer structure 131a is at least 5 탆 or more. Each of the first sealing layer structures 131a is formed to be spaced apart from each other by at least 5 mu m. According to this structure, the capillary phenomenon occurs by the first sealing layer structure 131a formed in the L2 region, and the dispersion speed of the foreign material compensation layer 132 can be improved. Capillary phenomenon is a phenomenon in which a liquid in a narrow tube is sucked up along a tube regardless of gravity.

또한, 이물보상층(132)의 점도를 낮게 할 수 있다. 이물보상층(132)의 점도가 낮아지면, 복수개 이격되어 형성된 제 1 봉지층(131) 통한 이물보상층(132)의 분산 속도를 향상시킬 수 있다. In addition, the viscosity of the foreign material compensation layer 132 can be lowered. When the viscosity of the foreign material compensation layer 132 is lowered, the dispersing speed of the foreign material compensation layer 132 through the plurality of spaced apart first sealing layers 131 can be improved.

또한, 이물보상층(132)에 습윤제를 첨가하여 표면 장력 변화에 따른 젖음성(Wettability)을 개선하면, 저장 공간(545)을 통한 이물보상층(132)의 분산 속도를 향상시킬 수 있다. The dispersion speed of the foreign material compensation layer 132 through the storage space 545 can be improved by adding a wetting agent to the foreign material compensation layer 132 to improve the wettability according to the surface tension change.

특히 복수개 이격되어 형성된 제 1 봉지층(131a) 구조는, 내로우 베젤의 디자인 요구 때문에 베젤 영역(B/A)의 폭을 줄여야 할 때 더 효과적일 수 있다.In particular, the first sealing layer 131a having a plurality of spaces formed may be more effective when the width of the bezel region B / A needs to be reduced due to the design requirement of the inner bezel.

앞서 설명한 부분을 제외하면 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(200)는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(100)와 동일하므로, 중복되는 내용에 대해서 설명을 생략한다.Except for the foregoing, the organic light emitting diode display 200 according to another embodiment of the present invention is the same as the organic light emitting diode display 100 according to an embodiment of the present invention, so that duplicate descriptions are omitted .

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 본 발명의 다른 실시예에서 설명한 유기 발광 표시 장치와 다른 구조의 L2 영역을 포함한다. The OLED display according to another embodiment of the present invention includes the L2 region having a different structure from the OLED display described in the other embodiments of the present invention.

도 3는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 베젤 영역의 단면도이다. 이하 도 3를 참조하여, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 베젤 영역의 이물보상층의 과도포 현상을 저감할 수 있는 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치를 간략히 설명한다. 3 is a cross-sectional view of a bezel region of an OLED display according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, a top emission type organic light emitting diode display capable of reducing over-coating of a foreign material compensation layer in a bezel region according to another embodiment of the present invention will be briefly described with reference to FIG.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(300)는 공통 전압 라인(116)이 복층으로 형성된다. 제 1 공통 전압 라인(116a)은 층간 절연막(226) 상에 소스전극(223) 및 드레인전극(224)과 동일한 재질로 형성된다. 제 1 공통 전압 라인(116a)상에는 복수의 제 1 봉지층 구조물(131a)이 형성된다. 제 2 공통 전압 라인(116b)은 층간 절연막(226) 밑에 게이트전극(222)과 동일한 재질로 형성된다. 연결부(260)는 제 1 공통 전압 라인(116a)과 연결된다. 제 1 공통 전압 라인(116a)과 제 2 공통 전압 라인(116b)는 도면에 도시되지 않았지만, 일부 영역에서 컨택홀에 의해서 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 구성에 의하면 공통 전압 라인(116)의 전기적 용량이 증가할 수 있기 때문에 이물보상층(132)의 과도포 현상을 저감하는 동시에 화소 영역(A/A)의 제 2 전극(243)에 더 안정적인 공통 전압을 공급할 수 있다. In the OLED display 300 according to another embodiment of the present invention, the common voltage line 116 is formed in a multi-layered structure. The first common voltage line 116a is formed of the same material as the source electrode 223 and the drain electrode 224 on the interlayer insulating film 226. [ A plurality of first sealing layer structures 131a are formed on the first common voltage line 116a. The second common voltage line 116b is formed of the same material as the gate electrode 222 under the interlayer insulating film 226. [ The connection portion 260 is connected to the first common voltage line 116a. Although the first common voltage line 116a and the second common voltage line 116b are not shown in the drawing, they may be electrically connected to each other by contact holes in some regions. According to this configuration, since the electric capacity of the common voltage line 116 can be increased, the over-deposition phenomenon of the foreign material compensation layer 132 can be reduced and the second electrode 243 of the pixel region A / A common voltage can be supplied.

앞서 설명한 부분을 제외하면 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(300)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(200)와 동일하므로, 중복되는 내용에 대해서 설명을 생략한다.Except for the foregoing, the OLED display 300 according to another embodiment of the present invention is the same as the OLED display 200 according to another embodiment of the present invention. do.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 본 발명의 다른 실시예에서 설명한 유기 발광 표시 장치와 다른 구조의 L2 영역을 포함한다. The OLED display according to another embodiment of the present invention includes the L2 region having a different structure from the OLED display described in the other embodiments of the present invention.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 베젤 영역의 단면도이다. 이하 도 4를 참조하여, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 베젤 영역의 이물보상층의 과도포 현상을 저감할 수 있는 탑 에미션 방식의 유기 발광 표시 장치를 간략히 설명한다. 4 is a cross-sectional view of a bezel region of an OLED display according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, a top emission type organic light emitting display capable of reducing the overspray phenomenon of a foreign material compensation layer in a bezel region according to another embodiment of the present invention will be briefly described.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(400)는 제 2 공통 전압 라인(116b) 상에 층간절연막 구조물(226a)이 복수개 형성된다. 층간절연막 구조물(226a)은 층간절연막(226)과 동일한 재질로 형성된다. 층간절연막 구조물(226a) 상에는 제 1 공통 전압 라인(116a)이 층간절연막 구조물(225a)의 형상을 따라서 형성된다. 연결부(260)는 제 1 공통 전압 라인(116a)과 연결된다. 이러한 구성에 의하면 공통 전압 라인(116)의 전기적 용량이 증가할 수 있기 때문에 이물보상층(132)의 과도포 현상을 저감하는 동시에 화소 영역(A/A)의 제 2 전극(243)에 더 안정적인 공통 전압을 공급할 수 있다. 그리고 본 발명의 또다른 실시예인 유기 발광 표시 장치(300)와 비교해도, 층간절연막(226)을 패터닝 하였기 때문에 상대적으로 더 많은 이물보상층(132)을 저장할 수 있다.In the OLED display 400 according to another embodiment of the present invention, a plurality of interlayer insulating film structures 226a are formed on the second common voltage line 116b. The interlayer insulating film structure 226a is formed of the same material as the interlayer insulating film 226. [ A first common voltage line 116a is formed along the shape of the interlayer insulating film structure 225a on the interlayer insulating film structure 226a. The connection portion 260 is connected to the first common voltage line 116a. According to this configuration, since the electric capacity of the common voltage line 116 can be increased, the over-deposition phenomenon of the foreign material compensation layer 132 can be reduced and the second electrode 243 of the pixel region A / A common voltage can be supplied. In addition, since the interlayer insulating layer 226 is patterned, it is possible to store a relatively large amount of the foreign material compensation layer 132, compared with the OLED display 300 according to another embodiment of the present invention.

앞서 설명한 부분을 제외하면 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(400)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치(200)와 동일하므로, 중복되는 내용에 대해서 설명을 생략한다.Except for the foregoing, the OLED display 400 according to another embodiment of the present invention is the same as the OLED display 200 according to another embodiment of the present invention. do.

본 발명의 몇몇 실시예에 의하면 L2 영역의 전면에 층간절연막(226) 및 제 1 봉지층(131)이 형성될 수 있다. 그리고 제 1 봉지층(131) 상에 뱅크(244) 및/또는 스페이서(245)로 구성된 구조물이 복수개 형성될 수 있다.According to some embodiments of the present invention, the interlayer insulating layer 226 and the first encapsulation layer 131 may be formed on the entire surface of the L2 region. A plurality of structures including the bank 244 and / or the spacer 245 may be formed on the first encapsulation layer 131.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to those embodiments and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

100, 200, 300, 400: 유기 발광 표시 장치
101: 기판
A/A: 화소 영역
GIP: 게이트 드라이버
116: 공통 전압 라인
116a: 제 1 공통 전압 라인
116b: 제 2 공통 전압 라인
130: 플렉서블 봉지부
131: 제 1 봉지층
131a: 제 1 봉지층 구조물
132: 이물보상층
133: 제 2 봉지층
220: 박막트랜지스터
221: 액티브층
222: 게이트전극
223: 소스전극
224: 드레인전극
225: 게이트절연막
226: 층간절연막
226a: 층간절연막 구조물
227: 평탄화막
228: 제 1 콘택홀
229: 제 2 콘택홀
240: 유기 발광 소자
241: 제 1 전극
242: 유기 발광층
243: 제 2 전극
244: 뱅크
245: 스페이서
260: 연결부
350: 배리어 필름
351: 배리어 필름 바디
352: 가압 접착층 100, 200, 300, 400: organic light emitting display
101: substrate
A / A: pixel area
GIP: gate driver
116: common voltage line
116a: first common voltage line
116b: second common voltage line
130: Flexible bag
131: first sealing layer
131a: first sealing layer structure
132: foreign matter compensation layer
133: second sealing layer
220: thin film transistor
221: active layer
222: gate electrode
223: source electrode
224: drain electrode
225: gate insulating film
226: Interlayer insulating film
226a: Interlayer insulating film structure
227: Planarizing film
228: first contact hole
229: second contact hole
240: organic light emitting element
241: first electrode
242: organic light emitting layer
243: Second electrode
244: Bank
245: Spacer
260: Connection
350: barrier film
351: Barrier film body
352: pressure-

Claims (20)

화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치에 있어서,
상기 화소 영역에 공통 전압을 공급하도록, 상기 베젤 영역에 형성된 공통 전압 라인; 및
상기 화소 영역을 수분 및 산소로부터 보호하도록 상기 화소 영역 및 상기 베젤 영역에 형성된 제 1 봉지층, 제 2 봉지층 및 이물보상층을 포함하고,
상기 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역에는 상기 제 1 봉지층이 형성되지 않고,
상기 이물보상층은 상기 제 1 봉지층이 형성되지 않은 영역을 따라 형성되고,
상기 이물보상층은 상기 제 1 봉지층 및 상기 제 2 봉지층에 의해 밀봉되는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.In an organic light emitting display including a pixel region and a bezel region,
A common voltage line formed in the bezel region to supply a common voltage to the pixel region; And
A first encapsulation layer, a second encapsulation layer, and a foreign material compensation layer formed in the pixel region and the bezel region to protect the pixel region from moisture and oxygen,
The first encapsulation layer is not formed in at least a part of the common voltage line,
Wherein the foreign material compensation layer is formed along a region where the first sealing layer is not formed,
Wherein the foreign material compensation layer is sealed by the first encapsulation layer and the second encapsulation layer. 제1항에 있어서,
상기 제 1 봉지층이 형성되지 않은 상기 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역의 영역의 단면의 폭은 100μm 내지 800μm 인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein a width of a cross section of at least a partial region of the common voltage line in which the first encapsulation layer is not formed is 100 占 퐉 to 800 占 퐉. 제2항에 있어서,
상기 공통 전압 라인은 제 1 공통 전압 라인 및 제 2 공통 전압 라인으로 구성된 복층 구조인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the common voltage line is a multi-layer structure composed of a first common voltage line and a second common voltage line. 제3항에 있어서,
상기 제 1 공통 전압 라인은 상기 화소 영역에 형성된 박막트랜지스터의 소스 전극과 동일한 재질로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. The method of claim 3,
Wherein the first common voltage line is formed of the same material as the source electrode of the thin film transistor formed in the pixel region. 제4항에 있어서,
상기 제 1 공통 전압 라인 상에 형성된 적어도 두개의 구조물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.5. The method of claim 4,
Further comprising at least two structures formed on the first common voltage line. 제3항에 있어서,
상기 제 2 공통 전압 라인은 상기 화소 영역에 형성된 박막트랜지스터의 게이트 전극과 동일한 재질로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. The method of claim 3,
Wherein the second common voltage line is formed of the same material as the gate electrode of the thin film transistor formed in the pixel region. 제6항에 있어서,
상기 제 2 공통 전압 라인 상에 형성된 적어도 두개의 구조물을 더 포함하고,
상기 적어도 두개의 구조물 상에는 상기 제 1 공통 전압 라인이 상기 적어도 두개의 구조물에 대응되어 형성되고,
상기 제 2 공통 전압 라인과 상기 제 1 공통 전압 라인은 서로 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 6,
Further comprising at least two structures formed on the second common voltage line,
Wherein the first common voltage line is formed on the at least two structures to correspond to the at least two structures,
Wherein the second common voltage line and the first common voltage line are electrically connected to each other. 제3항에 있어서,
상기 제 1 공통 전압 라인과 상기 제 2 공통 전압 라인 사이에 형성된 절연층; 및
상기 화소 영역의 복수의 화소에 공통 전압을 공급하도록 상기 제 1 공통 전압 라인과 상기 화소 영역의 제 2 전극을 전기적으로 연결시키는 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. The method of claim 3,
An insulating layer formed between the first common voltage line and the second common voltage line; And
Further comprising a connection unit electrically connecting the first common voltage line and the second electrode of the pixel region to supply a common voltage to the plurality of pixels of the pixel region. 제1항에 있어서,
상기 이물보상층은 상기 화소 영역을 평탄화시키고, 상기 화소 영역의 외곽에서 멀어질수록 두께가 점진적으로 얇아지도록 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein the foreign material compensation layer is formed to flatten the pixel region and to gradually decrease in thickness as the pixel region moves away from the pixel region. 제9항에 있어서,
상기 이물보상층은 비스페놀-A-에폭시(Bisphenol-A-Epoxy) 수지, 비스페놀-F-에폭시(Bisphenol-F-Epoxy) 수지 및 아크릴(Acryl) 수지 중 적어도 하나의 수지를 포함하고,
상기 이물보상층은 상기 화소 영역에서 15μm 내지 25μm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the foreign material compensation layer comprises at least one resin selected from the group consisting of Bisphenol-A-Epoxy resin, Bisphenol-F-Epoxy resin and Acryl resin,
Wherein the foreign material compensation layer is formed to a thickness of 15 to 25 mu m in the pixel region. 제10항에 있어서,
상기 이물보상층은 개시제, 습윤제, 레벨링제 및 소포제 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.11. The method of claim 10,
Wherein the foreign material compensation layer further comprises at least one of an initiator, a wetting agent, a leveling agent, and a defoaming agent. 제9항에 있어서,
상기 이물보상층은 흐름성이 있는 실리콘옥시카본(SiOC)을 포함하고,
상기 이물보상층은 상기 화소 영역에서 2μm 내지 4μm의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.10. The method of claim 9,
Wherein said foreign material compensation layer comprises flowable silicon oxycarbide (SiOC)
Wherein the foreign material compensation layer is formed to a thickness of 2 mu m to 4 mu m in the pixel region. 제12항에 있어서,
상기 이물보상층의 C/Si 원자 비율이 1.0 이하인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.13. The method of claim 12,
And the C / Si atomic ratio of the foreign material compensation layer is 1.0 or less. 제12항에 있어서,
상기 이물보상층의 점도는 500cp 내지 30000cp인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치. 13. The method of claim 12,
Wherein the foreign material compensation layer has a viscosity of 500 cp to 30,000 cp. 화소 영역 및 베젤 영역을 포함하는 유기 발광 표시 장치에 있어서,
상기 화소 영역에 공통 전압을 공급하도록, 상기 베젤 영역에 형성된 공통 전압 라인; 및
상기 화소 영역을 수분 및 산소로부터 보호하도록 상기 화소 영역 및 상기 베젤 영역에 형성된 제 1 봉지층, 제 2 봉지층 및 이물보상층을 포함하는 플렉서블 봉지부를 포함하고,
상기 공통 전압 라인의 적어도 일부 영역에는 상기 제 1 봉지층이 형성되지 않고,
상기 제 1 봉지층이 형성되지 않은 영역을 따라 상기 이물보상층이 저장되도록 적어도 두개의 구조물이 형성되고,
상기 이물보상층은 상기 제 1 봉지층 및 상기 제 2 봉지층에 의해 밀봉되는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.In an organic light emitting display including a pixel region and a bezel region,
A common voltage line formed in the bezel region to supply a common voltage to the pixel region; And
And a flexible encapsulant comprising a first encapsulation layer, a second encapsulation layer and a foreign material compensation layer formed in the pixel region and the bezel region to protect the pixel region from moisture and oxygen,
The first encapsulation layer is not formed in at least a part of the common voltage line,
At least two structures are formed so as to store the foreign material compensation layer along a region where the first encapsulation layer is not formed,
Wherein the foreign material compensation layer is sealed by the first encapsulation layer and the second encapsulation layer. 제15항에 있어서,
상기 공통 전압 라인과 상기 화소 영역의 복수의 화소의 제 2 전극을 전기적으로 연결하는 연결부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Further comprising a connection portion electrically connecting the common voltage line to a second electrode of a plurality of pixels of the pixel region. 제15항에 있어서,
상기 적어도 두개의 구조물은 상기 제 1 봉지층과 동일한 물질로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the at least two structures are formed of the same material as the first encapsulation layer. 제15항에 있어서,
상기 적어도 두개의 구조물은 층간절연막과 동일한 물질로 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the at least two structures are formed of the same material as the interlayer insulating film. 제15항에 있어서,
상기 적어도 두개의 구조물의 각각의 단면의 폭은 5μm 이상인 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Wherein a width of each cross section of the at least two structures is 5 占 퐉 or more. 제15항에 있어서,
상기 적어도 두개의 구조물 각각은 5μm 이상 이격되어 형성된 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치.16. The method of claim 15,
Wherein each of the at least two structures is formed at a distance of 5 占 퐉 or more.
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