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KR20150044364A - Strip grinder - Google Patents

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KR20150044364A
KR20150044364A KR20140063524A KR20140063524A KR20150044364A KR 20150044364 A KR20150044364 A KR 20150044364A KR 20140063524 A KR20140063524 A KR 20140063524A KR 20140063524 A KR20140063524 A KR 20140063524A KR 20150044364 A KR20150044364 A KR 20150044364A
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grinding
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semiconductor
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박상규
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정인호
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서우테크놀로지 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a semiconductor strip grinder to reduce the thickness of a semiconductor strip by grinding protective molding layer of semiconductor strip wherein a number of unit substrates on which at least one semiconductor chip is mounted on an upper surface of a base substrate for packaging are arranged in forward to backward and left to right directions, comprising: a base to mount each component at a certain height; a supporting frame installed at both sides of the top center of the base; a Z-axis robot unit arranged between supporting frames on both sides; a grinding unit arranged in a lower part of the Z-axis robot unit to grind the semiconductor strip; a X-axis robot unit which moves the grinding unit in a left, right, forward, and backward directions; a Y-axis robot unit arranged in an upper surface of the base; and a vacuum chuck unit arranged in an upper surface of the Y-axis robot unit to fix the semiconductor strip, whereby the thickness of the semiconductor strip can be reduced by grinding and removing the protective molding layer in an upper part of a unit substrate of the semiconductor strip.

Description

반도체 스트립 그라인더{STRIP GRINDER} Semiconductor strip grinder {STRIP GRINDER}

본 발명은 반도체 스트립 그라인더에 관한 것으로, 특히 베이스 기판의 상부면에 적어도 하나 이상의 반도체 칩이 실장되어 패키징된 다수의 단위기판이 좌우방향 및 전후방향으로 배열된 반도체 스트립의 보호 몰딩 층을 연삭하여 반도체 스트립의 두께를 감소시키는 반도체 스트립 그라인더에 관한 것이다.
The present invention relates to a semiconductor strip grinder, and more particularly, to a semiconductor strip grinder in which at least one semiconductor chip is mounted on an upper surface of a base substrate and a plurality of packaged unit substrates are ground in a protective molding layer of a semiconductor strip arranged in left- To a semiconductor strip grinder that reduces the thickness of the strip.

일반적으로 반도체 패키지는 실리콘으로 된 반도체 기판상에 트랜지스터 및 커패시터 등과 같은 고집적회로가 형성된 반도체칩을 제조한 후, 이를 리드 프레임이나 인쇄회로기판 등과 같은 스트립 자재에 부착하고, 상기 반도체칩과 스트립 자재가 서로 통전되도록 와이어 등으로 전기적으로 연결한 다음, 반도체칩을 외부 환경으로부터 보호하기 위하여 에폭시 수지로 몰딩하는 과정으로 제조된다.Generally, a semiconductor package is manufactured by manufacturing a semiconductor chip on which a highly integrated circuit such as a transistor and a capacitor is formed on a semiconductor substrate made of silicon, attaching the semiconductor chip to a strip material such as a lead frame or a printed circuit board, Electrically connected to each other by wires or the like so as to be energized with each other, and then molded by epoxy resin to protect the semiconductor chip from the external environment.

이러한 반도체 패키지는 스트립 자재에 매트릭스 타입으로 배열되는 형태로 패키징되며, 스트립 자재 내의 각 패키지들은 커팅되어 개별적으로 분리되고, 이렇게 낱개로 분리된 패키지들은 미리 설정된 품질 기준에 따라 선별된 후, 트레이 등에 적재되어 후속 공정으로 보내진다.These semiconductor packages are packaged in a matrix type arrangement on the strip material, and each package in the strip material is cut and individually separated, and the individually separated packages are sorted according to a preset quality standard, And sent to the next process.

몰딩 공정이 완성된 형태를 반도체 스트립 또는 반도체 자재라 하며, 반도체 스트립은 복수 개의 반도체 패키지들을 포함하게 된다. 반도체 스트립 또는 반도체 자재에서 각각의 반도체 패키지를 분리하기 위해서는 절단 공정이 수행된다.The completed form of the molding process is referred to as a semiconductor strip or a semiconductor material, and the semiconductor strip includes a plurality of semiconductor packages. A cutting process is performed to separate each semiconductor package from a semiconductor strip or semiconductor material.

먼저, 반도체 스트립이 상기 제조장치의 척테이블 또는 절단 테이블에 안착될 수 있다. 즉, 복수 개의 반도체 패키지들이 분리되기 전의 반도체 스트립을 스트립 픽커를 통해 안착시킬 수 있다.First, a semiconductor strip may be seated on a chuck table or a cutting table of the manufacturing apparatus. That is, the semiconductor strips before the plurality of semiconductor packages are separated can be seated through the strip picker.

상기 반도체 스트립은 절단장치를 통해서 단일 패키지, 즉 유닛 패키지로 절단된다. 구체적으로, 반도체 스트립은 척 테이블에 안착된 상태에서 절단장치와 상기 척 테이블 사이의 상대적인 이동을 통해서 반도체 패키지로 절단된다.The semiconductor strip is cut into a single package, i. E., A unit package, through a cutting device. Specifically, the semiconductor strip is cut into a semiconductor package through the relative movement between the chipping table and the chuck table while the semiconductor strip is seated on the chuck table.

절단 공정 후, 복수 개의 반도체 패키지는 유닛 픽커 또는 패키지 픽커를 통해서 세척과 건조와 같은 후속 공정을 위해 이동하게 된다.After the cutting process, a plurality of semiconductor packages are moved through the unit picker or package picker for subsequent processing such as cleaning and drying.

세척과 건조가 이루어진 복수 개의 반도체 패키지는 턴 테이블 픽커를 통해 턴 테이블로 이동된다. 상기 턴 테이블에서는 반도체 패키지의 비젼 검사가 수행될 수 있으며, 검사가 완료된 반도체 패키지는 소팅 픽커를 통해 분류되게 된다.
The plurality of semiconductor packages, which have been cleaned and dried, are moved to the turntable through the turntable picker. In the turn table, the vision inspection of the semiconductor package can be performed, and the semiconductor packages having been inspected are sorted through the sorting picker.

이러한 기술의 일 예가 하기 문헌 1 및 2 등에 개시되어 있다.Examples of such techniques are described in documents 1 and 2 below.

예를 들어, 하기 특허문헌 1에는 직사각형의 베이스 기판, 상기 베이스 기판을 구획하여 형성되는 복수의 단위기판, 상기 베이스 기판의 장변에 위치하는 상기 복수의 단위기판의 일부에 형성되는 몰드게이트 및 상기 베이스 기판을 구획하여 상기 베이스 기판의 서로 대향하는 양 단변에 형성되는 더미를 포함하는 기판 스트립에 대해 개시되어 있다.For example, the following Patent Document 1 discloses a semiconductor device having a rectangular base substrate, a plurality of unit substrates formed by partitioning the base substrate, a mold gate formed on a part of the plurality of unit substrates located on the long side of the base substrate, And a dummy formed on both short sides opposite to each other of the base substrate to partition the substrate.

또 하기 특허문헌 2에는 반도체 스트립 또는 복수 개의 반도체 패키지가 흡착되도록 마련된 흡착 패드와 상기 흡착 패드를 수용하기 위한 흡착 패드 수용부를 갖는 본체를 포함하는 반도체 제조용 흡착유닛에 있어서, 상기 흡착 패드는 상기 흡착 패드 수용부의 테두리 사이즈에 대응되도록 형성된 후 상기 흡착 패드 수용부에 부착되는 반도체 제조장치용 흡착유닛에 대해 개시되어 있다.
Patent Document 2 discloses a suction unit for semiconductor production, which comprises a semiconductor strip or a body having an adsorption pad for adsorbing a plurality of semiconductor packages and an adsorption pad containing portion for receiving the adsorption pad, And is adhered to the adsorption pad accommodating portion after being formed to correspond to the rim size of the accommodating portion.

대한민국 등록특허공보 제10-0872129호(2008.11.28 등록)Korean Registered Patent No. 10-0872129 (registered on November 28, 2008) 대한민국 공개특허공보 제2014-0024627호(2014.03.03 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 2014-0024627 (published on Mar. 03, 2013)

그러나, 상술한 바와 같은 종래의 기술에서 반도체 스트립은 베이스 기판에 설치된 각 단위기판을 보호하기 위하여 단위기판 외부 둘레에 보호 몰딩 층을 형성하고, 상기 보호 몰딩 층이 단위기판의 좌우, 전후뿐만 아니라 상부에도 형성되기 때문에 반도체 스트립의 전체 두께가 두꺼워지게 된다는 문제가 있었다.However, in the conventional technology as described above, in order to protect each unit substrate mounted on the base substrate, the semiconductor strip is formed with a protective molding layer around the outside of the unit substrate, and the protective molding layer covers not only the right, There is a problem that the entire thickness of the semiconductor strip becomes thick.

즉, 상기와 같은 종래의 기술에서는 반도체 스트립의 보호 몰딩 층을 연삭할 수 있도록 하는 반도체 스트립 그라인더가 없었기 때문에 보호 몰딩 층으로 인해 두께가 두꺼워진 반도체 스트립을 그대로 사용하여야 하는 문제가 있었다.That is, since there is no semiconductor strip grinder capable of grinding the protective molding layer of the semiconductor strip, there is a problem that the thickened semiconductor strip must be used as it is because of the protective molding layer.

또 종래의 반도체 스트립 또는 웨이퍼의 연마시, 웨이퍼 보유 지지 지그와 테이블을 회전시키고, 다음에 보유지지 지그 또는 테이블을 상하 이동시켜, 반도체 웨이퍼와 테이블의 연마면을 미끄럼 접촉시킴으로써 반도체 스트립 또는 웨이퍼의 연마를 실행하므로, 테이블의 회전을 위한 동력이 필요하고, 테이블의 회전에 따라 테이블에 장착된 반도체 스트립 또는 웨이퍼의 정밀한 연삭이 곤란하다는 문제도 있었다.Further, when polishing a conventional semiconductor strip or wafer, the wafer holding jig and the table are rotated, and then the holding jig or table is moved up and down so that the semiconductor wafer and the polishing surface of the table are brought into sliding contact with each other. There is a problem that it is difficult to precisely grind the semiconductor strip or wafer mounted on the table in accordance with the rotation of the table.

또한 종래의 반도체 스트립의 가공을 위해 진공 척을 사용하지만, 반도체 스트립이 진공 척에 의해 정밀하게 흡착이 안되는 경우, 가공 품질이 저하한다는 문제도 있었다.
Further, although a vacuum chuck is used for processing a conventional semiconductor strip, there is a problem that when the semiconductor strip is not sucked precisely by the vacuum chuck, the quality of the work is lowered.

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 반도체 스트립의 단위기판 상부의 몰딩층을 제거하여 반도체 스트립의 전체 두께를 얇게 할 수 있도록 하는 반도체 스트립 그라인더를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a semiconductor strip grinder capable of thinning the entire thickness of a semiconductor strip by removing a molding layer on a unit substrate of a semiconductor strip.

본 발명의 다른 목적은 반도체 스트립의 단위기판 상부의 몰딩층을 연삭하는 반도체 스트립 그라인더에서 반도체 단위기판을 견고하게 고정할 수 있는 반도체 스트립 그라인더를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a semiconductor strip grinder capable of firmly fixing a semiconductor unit substrate in a semiconductor strip grinder for grinding a molding layer on a unit substrate of a semiconductor strip.

본 발명의 다른 목적은 초정밀 연마기 방식을 적용하여 최적의 연마 정밀도를 유지할 수 있는 반도체 스트립 그라인더를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a semiconductor strip grinder capable of maintaining an optimum polishing precision by applying a super precision polishing machine.

본 발명의 다른 목적은 다양한 반도체 스트립 사이즈에 용이하게 적용할 수 있는 반도체 스트립 그라인더를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a semiconductor strip grinder which can be easily applied to various semiconductor strip sizes.

본 발명의 또 다른 목적은 다양한 반도체 스트립의 연삭 과정에서 반도체 스트립의 평탄도를 유지할 수 있는 반도체 스트립 그라인더를 제공하는 것이다.
It is still another object of the present invention to provide a semiconductor strip grinder capable of maintaining the flatness of the semiconductor strip in the grinding process of various semiconductor strips.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더는 일정 작업높이에 각 구성부품을 장착하기 위한 베이스, 상기 베이스의 상단 중앙 양측에 설치되는 지지프레임, 상기 양측의 지지프레임의 사이에 마련되어 Z축 로봇유닛, 상기 Z축 로봇유닛의 하부에 마련되어 반도체 스트립을 연삭하는 연삭 유닛, 상기 연삭 유닛을 좌우방향으로 이동시키는 X축 로봇유닛, 상기 베이스의 상부면에 마련된 Y축 로봇유닛, 상기 Y축 로봇유닛의 상부면에 마련되어 상기 반도체 스트립을 고정하는 진공 척 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a semiconductor strip grinder according to the present invention comprises a base for mounting respective components at a predetermined working height, a support frame provided on both sides of the upper center of the base, Axis robot unit, a Y-axis robot unit provided on an upper surface of the base, a Y-axis robot unit provided on a lower surface of the Z-axis robot unit, a grinding unit for grinding a semiconductor strip, And a vacuum chuck unit provided on an upper surface of the unit for fixing the semiconductor strip.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 베이스의 상부면에 마련되고 상기 반도체 스트립의 연삭 과정에서 비산되는 절삭유 및 연삭 분진을 차단하는 드레인 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor strip grinder according to the present invention may further include a drain cover provided on an upper surface of the base and cutting off cutting oil and grinding dust scattered in the grinding process of the semiconductor strip.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 연삭 유닛은 구동모터, 상기 구동모터에 접속되어 상기 반도체 스트립을 연삭하는 연삭 숫돌, 상기 연삭 숫돌을 보호하는 숫돌커버, 상기 연삭 숫돌과 반도체 스트립과의 거리를 감지하여 상기 Z축 로봇유닛의 높이를 제어하기 위한 터치 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor strip grinder according to the present invention is characterized in that the grinding unit includes a driving motor, a grindstone connected to the driving motor for grinding the semiconductor strip, a grindstone cover for protecting the grindstone, And a touch sensor for sensing the distance and controlling the height of the Z-axis robot unit.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 Y축 로봇유닛은 상기 베이스의 상부면에 전후방향으로 마련되는 이송레일, 상기 이송레일에 전후방향으로 이동이 자유롭게 설치되는 모션플레이트를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the semiconductor strip grinder according to the present invention, the Y-axis robot unit may include a transfer rail provided on the upper surface of the base in the forward and backward directions, and a motion plate movably installed in the forward and backward directions on the transfer rail. .

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 연삭 숫돌은 상기 구동모터에 연결된 구동축에 결합하여 회전하는 구동 휠과 상기 구동 휠의 외주 둘레에 일체로 장착되어 상기 반도체 스트립을 연삭하는 연삭부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the semiconductor strip grinder according to the present invention, the grinding wheel may include a driving wheel coupled to the driving shaft connected to the driving motor, and a grinding part integrally mounted on the outer periphery of the driving wheel to grind the semiconductor strip .

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 구동 휠은 알루미늄으로 이루어지고, 상기 연삭부는 롤 형상으로서 레진 다이아몬드 또는 메탈 다이아몬드로 형성된 것을 특징으로 한다.In the semiconductor strip grinder according to the present invention, the driving wheel is made of aluminum, and the grinding portion is roll-shaped and formed of resin diamond or metal diamond.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 연삭부는 스핀들에 의해 순차 연마 방식으로 상기 반도체 스트립을 연삭하는 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor strip grinder according to the present invention, the grinding portion grinds the semiconductor strip in a sequential polishing manner by a spindle.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 진공 척 유닛은 상단에 요입공간부가 마련되고, 상기 요입공간부에 다수의 흡기구멍이 마련되며, 내부 하단에 상기 각 흡기구멍과 연결되는 다수의 흡기연결관이 설치된 하부 본체, 상단 중앙에 다수의 흡기소공이 좌우방향 및 전후방향으로 형성된 흡착고정부가 마련되고, 하단 중앙에 흡착고정부 및 상기 하부 본체의 요입공간부와 대응되는 흡착공간부가 마련되며, 상기 하부 본체의 상부에 분리 가능하게 설치되는 상부 본체를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor chip grinder according to the present invention, the vacuum chuck unit is provided with a recessed space at the upper end thereof, a plurality of suction holes provided at the recessed hollow portion, and a plurality of suction holes A suction unit having a plurality of suction pores formed in the left and right direction and a back and forth direction is provided at a center of an upper portion of the lower body and a suction space is formed at a center of the lower end to correspond to the suction holes and the lumens of the lower body, And an upper body detachably installed on the upper portion of the lower main body.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 하부 본체 상단의 요입공간 둘레에 흡기유로가 마련되고, 상기 하부 본체의 좌측 상부에 상기 흡기유로와 연결되는 흡착구멍이 마련되며, 상기 흡착구멍에 흡착연결관이 설치된 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor strip grinder according to the present invention, an intake passage is provided around the recessed space at the upper end of the lower main body, a suction hole connected to the intake passage at the upper left of the lower main body, And a connecting pipe is installed.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 하부 본체의 상단 전방 중앙과 상단 후방 중앙에 위치설정핀이 설치되고, 상기 상부 본체의 하단 중앙 전방과 하단 중앙 후방에 상기 하부 본체의 위치설정핀에 삽입되는 위치설정홈이 형성된 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor strip grinder according to the present invention, positioning pins are provided at the upper front center and the upper rear center of the lower main body, and at the lower central front and lower central rear of the upper main body, And a positioning groove to be inserted is formed.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 상부 본체의 흡착고정부의 양측에 요입홈이 형성되고, 상기 요입홈에 는 상부가 흡착고정부의 상단으로 돌출되는 실링 부재가 삽입 설치된 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor strip grinder according to the present invention, recessed grooves are formed on both sides of the suction fixing part of the upper body, and a sealing member protruding to the upper end of the suction fixing part is inserted into the recessed groove. do.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 있어서, 상기 상부 본체의 전면 또는 측면에 상부 본체의 설치 및 분리를 위한 손잡이가 설치된 것을 특징으로 한다.Further, in the semiconductor strip grinder according to the present invention, a handle for installing and separating the upper body is installed on the front surface or the side surface of the upper body.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 반도체 스트립의 단위기판 상부의 보호 몰딩 층을 연삭하여 제거함으로써 반도체 스트립의 두께를 얇게 할 수 있다는 효과가 얻어진다.As described above, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, it is possible to reduce the thickness of the semiconductor strip by grinding and removing the protective molding layer above the unit substrate of the semiconductor strip.

또, 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 반도체 스트립에 대한 연삭을 빠르고 정밀하게 진행할 수 있게 되므로 생산성 향상과 비용 절감을 도모할 수 있다는 효과도 얻어진다.Further, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, since the grinding on the semiconductor strip can be performed quickly and precisely, the productivity can be improved and the cost can be reduced.

또 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 상부 본체에 올려진 반도체 스트립을 진공흡입력으로 견고하게 고정할 수 있다는 효과도 얻어진다.Further, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, the semiconductor strip mounted on the upper body can be firmly fixed by the vacuum suction force.

따라서, 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 반도체 스트립의 보호 몰딩 층을 정밀하고 신속하게 연삭할 수 있게 되어 작업성, 생산성을 향상시킬 수 있게 되고, 연삭 불량을 저감할 수 있게 되며, 비용을 절감할 수 있게 된다.Therefore, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, it is possible to grind the protective molding layer of the semiconductor strip precisely and quickly, thereby improving workability and productivity, reducing grinding defects, .

또한 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 반도체 스트립의 다양한 사이즈에 용이하게 적용할 수 있고, 각각의 부품을 용이하게 변환할 수 있어 반도체 스트립의 제조 비용을 절감할 수 있다는 효과도 얻어진다.Further, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, it is possible to easily apply to various sizes of semiconductor strips, and to easily convert each of the components, thereby reducing the manufacturing cost of the semiconductor strip.

또한 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의하면, 마모되는 숫돌의 변화량을 연마에 반영하여 반도체 스트립의 정밀 연삭이 가능하다는 효과도 얻어진다.
Further, according to the semiconductor strip grinder of the present invention, the amount of change of the abraded grindstone is reflected in the grinding, and the effect of precision grinding of the semiconductor strip is also obtained.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 사시도,
도 2는 도 1에 도시된 반도체 스트립 그라인더의 평면도,
도 3은 도 1에 도시된 반도체 스트립 그라인더의 우측면도,
도 4는 반도체 스트립의 연삭 전의 평면도,
도 5는 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의해 반도체 스트립이 연삭된 후의 평면도,
도 6은 반도체 스트립의 연삭 전의 단면도,
도 7은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의해 반도체 스트립이 연삭된 후반도체 스트립의 연삭 후의 단면도.
도 8은 숫돌커버의 일부분을 제거하여 연삭 숫돌의 결합 상태를 나타내는 사시도,
도 9는 도 8에서의 연삭 숫돌의 정면도,
도 10은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 진공 척의 사시도,
도 11은 도 10에 도시된 진공 척의 평면도,
도 12는 도 10에 도시된 진공 척의 우측면도,
도 13은 도 10에 도시된 진공 척의 종단면도,
도 14는 도 13의 주요 부분의 확대도.1 is a perspective view of a semiconductor strip grinder according to the present invention,
Fig. 2 is a plan view of the semiconductor strip grinder shown in Fig. 1,
Fig. 3 is a right side view of the semiconductor strip grinder shown in Fig. 1,
4 is a plan view of the semiconductor strip before grinding,
5 is a plan view after the semiconductor strip is ground by the semiconductor strip grinder according to the present invention,
6 is a cross-sectional view of the semiconductor strip before grinding,
7 is a cross-sectional view of the semiconductor strip after grinding after the semiconductor strip is ground by the semiconductor strip grinder according to the present invention.
8 is a perspective view showing a state of engagement of the grindstone by removing a part of the grindstone cover,
Fig. 9 is a front view of the grindstone in Fig. 8,
10 is a perspective view of a vacuum chuck of a semiconductor strip grinder according to the present invention,
11 is a plan view of the vacuum chuck shown in Fig. 10,
Fig. 12 is a right side view of the vacuum chuck shown in Fig. 10,
13 is a longitudinal sectional view of the vacuum chuck shown in Fig. 10,
Fig. 14 is an enlarged view of a main part of Fig. 13; Fig.

본 발명의 상기 및 그 밖의 목적과 새로운 특징은 본 명세서의 기술 및 첨부 도면에 의해 더욱 명확하게 될 것이다.
These and other objects and novel features of the present invention will become more apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

이하, 본 발명의 구성을 도면에 따라서 설명한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 사시도 이고, 도 2는 도 1에 도시된 반도체 스트립 그라인더의 평면도이며, 도 3은 도 1에 도시된 반도체 스트립 그라인더의 우측면도이고, 도 4는 반도체 스트립의 연삭 전의 평면도이다.Fig. 1 is a perspective view of a semiconductor strip grinder according to the present invention, Fig. 2 is a plan view of the semiconductor strip grinder shown in Fig. 1, Fig. 3 is a right side view of the semiconductor strip grinder shown in Fig. Fig.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 베이스(110), 지지프레임(120), X축 로봇유닛(130), Z축 로봇유닛(140), 연삭 유닛(150), Y축 로봇유닛(160), 진공 척 유닛(170), 드레인 커버(180)를 포함한다.1, a semiconductor strip grinder 100 according to the present invention includes a base 110, a support frame 120, an X-axis robot unit 130, a Z-axis robot unit 140, a grinding unit 150 A Y-axis robot unit 160, a vacuum chuck unit 170, and a drain cover 180. The Y-

상기 베이스(110)는 일정 작업높이에 각 구성부품을 장착하기 위한 것이다.The base 110 is for mounting each component at a predetermined working height.

상기 지지프레임(120)은 후술할 X축 로봇유닛(130)을 지지하기 위한 것으로, 상기 베이스(110)의 상단 중앙 양측에 설치된다.The support frame 120 supports the X-axis robot unit 130, which will be described later, and is installed on both sides of the upper center of the base 110.

상기 X축 로봇유닛(130)은 후술할 Z축 로봇유닛(140) 및 연삭 유닛(150)의 전후방향으로 이동시키기 위한 것으로, 양측의 지지프레임(120)의 사이에 마련된다. 상기 X축 로봇유닛(130)은 케이블 벨트(191)에 의해 X방향으로의 이동이 제어된다.The X-axis robot unit 130 is for moving the Z-axis robot unit 140 and the grinding unit 150 to be described later in the forward and backward directions and is provided between the support frames 120 on both sides. The movement of the X-axis robot unit 130 in the X direction is controlled by the cable belt 191.

상기 Z축 로봇유닛(140)은 연삭 유닛(150)을 상하방향으로 이동시키기 위한 것으로, 상기 X축 로봇유닛(130)의 측면에 마련된다.The Z-axis robot unit 140 is provided on the side of the X-axis robot unit 130 for moving the grinding unit 150 in the vertical direction.

상기 연삭 유닛(150)은 도 4에 도시된 반도체 스트립(200)의 상부면을 연삭하기 위한 것으로, 상기 Z축 로봇유닛(150)의 하부에 마련된다.The grinding unit 150 grinds the upper surface of the semiconductor strip 200 shown in FIG. 4 and is provided below the Z-axis robot unit 150.

상기 연삭 유닛(150)은 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 구동모터(151), 구동모터(151)에 접속되고 구동모터(151)의 회전에 의한 스핀들에 의해 반도체 스트립(200)을 연삭하는 연삭 숫돌(152), 상기 연삭 숫돌(152)을 보호하는 숫돌커버(153), 상기 숫돌커버(153)를 상기 Z축 로봇유닛(150)에 장착하기 위한 지지판(154), 상기 연삭 숫돌(152)과 반도체 스트립(200)과의 거리를 감지하여 상기 Z축 로봇유닛(150)의 높이를 제어하기 위한 터치 센서(155)를 포함한다. 1 and 3, the grinding unit 150 is connected to the driving motor 151 and the driving motor 151 and is connected to the semiconductor strip 200 by a spindle rotated by the driving motor 151 A grindstone cover 152 for grinding the grindstone 152, a grindstone cover 153 for protecting the grindstone 152, a support plate 154 for mounting the grindstone cover 153 on the Z-axis robot unit 150, And a touch sensor 155 for sensing a distance between the Z-axis robot unit 150 and the semiconductor strip 200 to control the height of the Z-axis robot unit 150.

상기 Y축 로봇유닛(160)은 진공 척 유닛(170) 및 그에 고정되는 반도체 스트립(200)을 전후방향으로 이동시키기 위한 것으로, 상기 베이스(110)의 상부면에 마련된다.The Y-axis robot unit 160 is provided on the upper surface of the base 110 for moving the vacuum chuck unit 170 and the semiconductor strip 200 fixed thereon in the forward and backward directions.

상기 Y축 로봇유닛(160)은 도 2에 도시된 바와 같이, 베이스(110)의 상부면에 전후방향으로 마련되는 이송레일(161), 이송레일(161)에 전후방향으로 이동이 자유롭게 설치되는 모션 플레이트(162)를 포함한다.2, the Y-axis robot unit 160 includes a feed rail 161 provided on the upper surface of the base 110 in the forward and backward directions, and a feed rail 161 installed on the feed rail 161 so as to be movable in the front- And a motion plate 162.

상기 진공 척 유닛(170)은 연삭할 반도체 스트립(200)을 고정하기 위한 것으로, 상기 Y축 로봇유닛(160)의 상부면에 마련된다. 도 1에서는 진공 척 유닛(170)이 Y축 로봇유닛(160)의 상부에 하나만 마련된 구조를 나타내었지만 이에 한정되는 것은 아니고, Y축 로봇유닛(160)에 한 쌍으로 마련될 수 있다.The vacuum chuck unit 170 is provided on the upper surface of the Y-axis robot unit 160 for fixing the semiconductor strip 200 to be ground. 1 shows a structure in which only one vacuum chuck unit 170 is provided on the upper part of the Y-axis robot unit 160. However, the vacuum chuck unit 170 is not limited thereto and may be provided in a pair in the Y-axis robot unit 160.

상기 진공 척 유닛(170)은 본체(171)의 상부면에 올려진 반도체 스트립(200)을 진공 흡입력으로 지지한다.The vacuum chuck unit 170 supports the semiconductor strip 200 mounted on the upper surface of the main body 171 by a vacuum suction force.

상기 드레인 커버(180)는 반도체 스트립 연삭 과정에서 비산되는 절삭유 및 연삭 분진을 차단하기 위한 것으로, 상기 베이스(110)의 상부의 둘레 부분에 마련된다.The drain cover 180 is provided at a peripheral portion of the upper portion of the base 110 to block cutting oil and grinding dust scattered during the semiconductor strip grinding process.

다음에 본 발명에 따른 반도체 스트립의 연삭 과정에 대해 도 5 내지 도 7에 따라 설명한다.Next, the grinding process of the semiconductor strip according to the present invention will be described with reference to Figs. 5 to 7. Fig.

도 5는 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의해 반도체 스트립이 연삭된 후의 평면도이고, 도 6은 반도체 스트립의 연삭 전의 단면도이며, 도 7은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더에 의해 반도체 스트립이 연삭된 후의 단면도이다.Fig. 5 is a plan view of the semiconductor strip after the semiconductor strip is ground by the semiconductor strip grinder according to the present invention, Fig. 6 is a sectional view of the semiconductor strip before grinding, and Fig. Sectional view.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더(100)는 별도에 스트립 공급장치를 통해 공급되어 진공 척 유닛(170)의 본체(171) 상부면에 흡착된 반도체 스트립(200)의 상부면을 연삭하는 것이다.The semiconductor strip grinder 100 according to the present invention grinds the upper surface of the semiconductor strip 200 adsorbed on the upper surface of the main body 171 of the vacuum chuck unit 170,

상기 스트립 공급장치를 통해 공급되는 반도체 스트립(200)은 단위기판(220)의 상부에 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 보호 몰딩 층(230)이 형성된 것이다.4 and 6, the semiconductor strip 200 supplied through the strip supply device is formed with a protective molding layer 230 on the unit substrate 220.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더(100)에 있어서 연삭 유닛(150)의 연삭 숫돌(152)의 높이는 터치 센서(155)에 의해 정밀하게 설정된다.In the semiconductor strip grinder 100 according to the present invention, the height of the grindstone 152 of the grinding unit 150 is precisely set by the touch sensor 155.

상기 연삭 숫돌(152)의 높이를 설정할 때에는 Z축 로봇유닛(140)을 통해 연삭 유닛(150)을 승하강시킨다.When setting the height of the grindstone 152, the grinding unit 150 is moved up and down through the Z-axis robot unit 140.

반도체 스트립(200)은 별도의 스트립 공급장치를 통해 베이스(110) 전방의 로딩위치로 이송된 진공 척 유닛(170)에 공급된다.The semiconductor strip 200 is supplied to a vacuum chuck unit 170 transferred to a loading position in front of the base 110 via a separate strip supply device.

상기 진공 척 유닛(170)의 본체(171) 상부면에 반도체 스트립(200)이 적재되면 진공 척 유닛(170)의 진공펌프가 작동되어 반도체 스트립(200)을 진공흡착하여 고정한다.When the semiconductor strip 200 is loaded on the upper surface of the body 171 of the vacuum chuck unit 170, the vacuum pump of the vacuum chuck unit 170 is operated to vacuum-adsorb the semiconductor strip 200.

상기 반도체 스트립(200)이 고정된 상태에서 Y축 로봇유닛(160)이 진공 척 유닛(170) 및 반도체 스트립(200)을 베이스(110) 후방의 작업위치로 이송한다.The Y-axis robot unit 160 transfers the vacuum chuck unit 170 and the semiconductor strip 200 to the working position behind the base 110 in a state where the semiconductor strip 200 is fixed.

상기 후방작업 위치로 이송된 진공 척 유닛(170)은 Y축 로봇유닛(160)에 의해 일정 스트로크만큼 전후방향으로 왕복이송되고, 그와 동시에 X축 로봇유닛(130)에 의해 Z축 로봇유닛(140)과 그 하부의 연삭 유닛(150)이 진공 척 유닛(170) 방향으로 일정거리만큼씩 이동하게 된다.The vacuum chuck unit 170 transferred to the rear work position is reciprocally moved forward and backward by a predetermined stroke by the Y axis robot unit 160 and is simultaneously reciprocated by the X axis robot unit 130 in the Z axis robot unit 140 and the lower grinding unit 150 move toward the vacuum chuck unit 170 by a certain distance.

상기에서 고속회전하는 연삭 유닛(150)의 연삭 숫돌(152)이 진공 척 유닛(170)에 고정된 반도체 스트립(200)을 지나면서 반도체 스트립(200)의 보호 몰딩 층(230)을 연삭하게 된다.The grinding grindstone 152 of the grinding unit 150 rotating at high speed passes the semiconductor strip 200 fixed to the vacuum chuck unit 170 and grinds the protective molding layer 230 of the semiconductor strip 200 .

상기 반도체 스트립(200)에 대한 연삭은 도 5 및 도 7에 도시된 바와 같이, 단위기판(220)의 상부면이 노출되는 정도까지 실시할 수 있으며, 이때에도 베이스 기판(210) 상부의 단위기판(220)의 양측과 전후에는 보호 몰딩 층(230)이 그대로 남아있게 되므로 단위기판(220)을 보호하는 데에는 아무런 지장이 없게 된다.The grinding of the semiconductor strip 200 may be performed until the upper surface of the unit substrate 220 is exposed as shown in FIGS. 5 and 7, Since the protective molding layer 230 is left on both sides and the front and rear sides of the unit substrate 220, there is no problem in protecting the unit substrate 220.

한편, 상기 반도체 스트립(200)에 대한 연삭이 끝나면 Y축 로봇유닛(160)을 통해 진공 척 유닛(170) 및 연삭 완료된 반도체 스트립(200)이 로딩위치로 이동되고, X축 로봇유닛(130)을 통해 Z축 로봇유닛(140)과 연삭 유닛(150)이 원위치로 복귀된다.When the semiconductor strip 200 is ground, the vacuum chuck unit 170 and the ground semiconductor strip 200 are moved to the loading position via the Y-axis robot unit 160, and the X-axis robot unit 130 is moved to the loading position. The Z-axis robot unit 140 and the grinding unit 150 are returned to their original positions.

상기에서 진공 척 유닛(170)과 함께 로딩위치로 이동된 반도체 스트립(200)은 별도의 하역장치를 통해 세척위치로 하역되어 세척되며, 진공 척 유닛(170)에는 새로운 반도체 스트립(200)이 적재되어 고정된다.The semiconductor strip 200 moved to the loading position together with the vacuum chuck unit 170 is unloaded and washed to the washing position through a separate loading device and the vacuum chuck unit 170 is loaded with a new semiconductor strip 200 And is fixed.

상기 반도체 스트립(200)의 하역과정에서는 진공 척 유닛(170)의 진공펌프의 작동이 정지되어 반도체 스트립(200)에 대한 고정이 해제됨은 물론이다.In the process of unloading the semiconductor strip 200, it is a matter of course that the operation of the vacuum pump of the vacuum chuck unit 170 is stopped and the fixing to the semiconductor strip 200 is released.

이처럼 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 반도체 스트립 그라인더(100)는 반도체 스트립(200)의 단위기판(220) 상부의 보호 몰딩 층(230)을 연삭하여 제거함으로써 반도체 스트립(200)의 두께를 얇게 할 수 있게 된다.As described above, the semiconductor strip grinder 100 according to the preferred embodiment of the present invention grinds and removes the protective molding layer 230 on the unit substrate 220 of the semiconductor strip 200, thereby reducing the thickness of the semiconductor strip 200 .

또한 본 발명에서는 진공 척 유닛(170)이 상기 Y축 로봇유닛(160)의 상부에 한 쌍으로 마련되는 것에 의해 반도체 스트립(200)의 연속 공정을 실행할 수 있다.In the present invention, the vacuum chuck units 170 are provided on the upper portion of the Y-axis robot unit 160 in a pair, so that the continuous process of the semiconductor strip 200 can be performed.

또한 상기 Y축 로봇유닛(160) 상에 레이저 센서를 마련하는 것에 의해 상기 진공 척 유닛(170)의 장착 상태를 감지할 수 있다.Also, the mounting state of the vacuum chuck unit 170 can be detected by providing a laser sensor on the Y-axis robot unit 160.

다음에 본 발명에 따른 연삭 유닛(150)의 구체적인 구조에 대해 도 8 및 도 9에 따라 설명한다.Next, a specific structure of the grinding unit 150 according to the present invention will be described with reference to Figs. 8 and 9. Fig.

도 8은 설명의 편의상 숫돌커버(153)의 일부분을 제거하여 연삭 숫돌(152)의 결합 상태를 나타내는 사시도 이고, 도 9는 도 8에서의 연삭 숫돌(152)의 정면도이다.8 is a perspective view showing a state of engagement of the grindstone 152 by removing a part of the grindstone cover 153 for convenience of explanation and FIG. 9 is a front view of the grindstone 152 in FIG.

상기 연삭 유닛(150)은 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 구동모터(151)에서의 구동력을 전달하는 스핀들인 구동축(1511)을 포함하고, 상기 연삭 숫돌(152)은 상기 구동축(1511)에 결합하여 회전하는 구동 휠(1521)과 상기 구동 휠(1521)의 외주 둘레에 일체로 장착되어 상기 반도체 스트립(200)을 연삭하는 연삭부(1522)를 포함한다.8 and 9, the grinding unit 150 includes a driving shaft 1511 as a spindle for transmitting a driving force from the driving motor 151, and the grinding wheel 152 is connected to the driving shaft 1511 And a grinding part 1522 which is integrally mounted around the outer periphery of the driving wheel 1521 and grinds the semiconductor strip 200. The grinding part 1522 grinds the semiconductor strip 200,

상기 구동 휠(1521)은 비교적 가벼운 금속재로서, 예를 들어 알루미늄으로 형성되고, 상기 연삭부(1522)는 예를 들어 직경 150㎜이고 두께 20~30㎜로서 레진 다이아몬드 또는 메탈 다이아몬드로 형성되고, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 구동 휠(1521)의 외주둘레에 롤(roll) 형상으로 마련된다. 따라서, 상기 연삭부(1522)의 마모시 상기 구동 휠(1521)과 연삭부(1522)를 일체로 교환하던가 또는 연삭부(1522) 만을 교체하는 것에 의해 연삭의 정밀도를 높이면서 연삭 유닛(150)의 교체를 용이하게 실현할 수 있다.The driving wheel 1521 is made of a relatively light metal material, for example, aluminum, and the grinding portion 1522 is formed of resin diamond or metal diamond, for example, having a diameter of 150 mm and a thickness of 20 to 30 mm, 8, the driving wheel 1521 is provided in a roll shape around the outer periphery thereof. The grinding unit 150 may be replaced with the driving wheel 1521 and the grinding unit 1522 or the grinding unit 1522 may be replaced only by replacing the driving wheel 1521 and the grinding unit 1522, Can be easily realized.

상기 연삭 유닛(150)에서 구동 휠(1521)의 회전속도는 구동모터(151)의 구동력에 따라 변경 가능하지만, 본 발명에서의 회전속도는 평균 3,000rpm이고, 최대 9,000rpm까지 실행할 수 있는 구조가 바람직하다.The rotational speed of the driving wheel 1521 in the grinding unit 150 can be changed according to the driving force of the driving motor 151. However, the rotational speed in the present invention is 3,000 rpm, desirable.

또 상기 연삭 유닛(150)은 상기 반도체 스트립(200)의 폭 62㎜/74㎜/95㎜, 길이 220㎜/240㎜/250㎜의 스트립 사이즈에 전용하여 적용할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고 다양한 스트립 사이즈에도 적용 가능하다.The grinding unit 150 can be applied to the strip size of the semiconductor strip 200 having a width of 62 mm / 74 mm / 95 mm and a length of 220 mm / 240 mm / 250 mm. However, the present invention is not limited thereto It is also applicable to various strip sizes.

또 본 발명에서는 상기 연삭 숫돌(152)과 반도체 스트립(200)과의 거리를 감지하기 위해 지지판(154)에 터치 센서(155)가 마련되고, 이 터치 센서(155)에 의해 상기 연삭 유닛(150)에 의한 순차 연마 방식으로, 연삭의 정밀도는 Z축을 기준으로 ±0.01㎜로 유지되게 한다.In the present invention, a touch sensor 155 is provided on the support plate 154 to sense the distance between the grinding wheel 152 and the semiconductor strip 200, and the touch sensor 155 detects the distance between the grinding unit 150 ), And the precision of the grinding is maintained at ± 0.01 mm with respect to the Z axis.

이와 같은 터치 센서(155)는 예를 들어 장치의 최초 장착시, 터치 센서(155)의 분리시, 연삭 유닛(150)의 교체시, 척 테이블의 교체시 연삭 유닛(150)의 높이를 감지하여 제어부(미도시)로 전송하는 것에 의해 Z축 로봇유닛(140)의 위치를 제어하여 반도체 스트립의 보호 몰딩 층을 연삭하게 한다.
The touch sensor 155 senses the height of the grinding unit 150 when the chuck table is replaced, for example, when the apparatus is first installed, when the touch sensor 155 is detached, when the grinding unit 150 is replaced Axis robot unit 140 by controlling the position of the Z-axis robot unit 140 by grasping the protective molding layer of the semiconductor strip.

다음에 본 발명에 따른 진공 척(300)의 구체적인 구조에 대해 도 10 내지 도 14에 따라 설명한다.Next, a specific structure of the vacuum chuck 300 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 10 to 14. FIG.

도 10은 본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 진공 척의 사시도 이고, 도 11은 도 10에 도시된 진공 척의 평면도이고, 도 12는 도 10에 도시된 진공 척의 우측면도이고, 도 13은 도 10에 도시된 진공 척의 종단면도이며, 도 14는 도 13의 주요 부분의 확대도이다.FIG. 10 is a perspective view of a vacuum chuck of the semiconductor strip grinder according to the present invention, FIG. 11 is a plan view of the vacuum chuck shown in FIG. 10, FIG. 12 is a right side view of the vacuum chuck shown in FIG. 10, Fig. 14 is an enlarged view of a main part of Fig. 13. Fig.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 진공 척(300)은 도 10에 도시된 바와 같이, 하부 본체(310)와 상부 본체(320)를 포함한다.The vacuum chuck 300 of the semiconductor strip grinder according to the present invention includes a lower main body 310 and an upper main body 320, as shown in FIG.

상기 하부 본체(310)의 하단에는 각각 접속돌출부(311)가 마련되고, 상단에는 도 12에 도시된 바와 같이, 요입공간부(312)가 마련되며, 상단의 요입공간부(312) 둘레에는 도 11에 도시된 바와 같이, 흡기유로(313)가 마련된다.12, a lower end of the lower main body 310 is provided with a connection protrusion 311 and a lower end of the lower main body 310 is provided with a recessed hollow portion 312, 11, an intake passage 313 is provided.

상기 하부 본체(310)의 접속돌출부(311)는 전후방향으로 이동되는 Y 로봇 유닛(160)의 모션 플레이트(162)에 볼트 등에 의해 결합된다.The connection protrusion 311 of the lower main body 310 is coupled to the motion plate 162 of the Y robot unit 160 which is moved in the front and rear direction by bolts or the like.

상기 하부 본체(310)의 요입공간부(312)에는 다수의 흡기구멍(314)이 마련되고, 상기 하부 본체(310)의 내부 하단에는 상기 각 흡기구멍(314)과 연결되는 다수의 흡기연결관(315)이 설치된다.A plurality of intake holes 314 are formed in the recessed portion 312 of the lower main body 310 and a plurality of intake connection holes 314 are formed in the lower end of the lower main body 310, (315).

상기 하부 본체(310)의 상부에는 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 흡기유로(313)와 연결되는 흡착구멍(317)이 마련되고, 상기 흡착구멍(317)에는 흡착연결관(318)이 설치된다.13, an adsorption hole 317 connected to the intake passage 313 is provided at an upper portion of the lower main body 310, and an adsorption connection pipe 318 is installed in the adsorption hole 317 do.

상기 각 흡기연결관(315) 및 흡착연결관(318)은 연결호스를 통해 진공펌프(미도시)와 접속된다.Each of the intake connection pipe 315 and the absorption connection pipe 318 is connected to a vacuum pump (not shown) through a connection hose.

상기 하부 본체(310)의 중앙 부분에는 위치설정핀(316)이 설치된다.A positioning pin 316 is provided at a central portion of the lower main body 310.

상기 상부 본체(320)는 상기 하부 본체(310)의 상부에 분리 가능하게 설치된다.The upper body 320 is detachably installed on the upper portion of the lower body 310.

상기 상부 본체(320)의 상단 중앙 부분에는 도 11에 도시된 바와 같이, 반도체 스트립(200)의 크기 및 형태와 대응되고 다수의 흡기소공(321)이 좌우방향 및 전후방향으로 형성된 흡착고정부(322)가 마련되고, 하단 중앙 부분에는 도 14에 도시된 바와 같이, 흡착고정부(322) 및 상기 하부 본체(310)의 요입공간부(312)와 대응되는 흡착공간부(323)가 마련된다.11, a plurality of suction holes 321 corresponding to the size and shape of the semiconductor strip 200 are formed on the upper center portion of the upper body 320, And an adsorption space portion 323 corresponding to the adsorption fixing portion 322 and the hollow space 312 of the lower body 310 is provided at the lower center portion as shown in FIG. .

상기 상부 본체(320)의 흡착고정부(322)의 양측에는 도 14에 도시된 바와 같이, 요입홈(324)이 형성되고, 각 요입홈(324)에는 상부가 흡착고정부(322)의 상단으로 돌출되는 실링 부재(325)가 삽입 설치된다.As shown in FIG. 14, recessed grooves 324 are formed on both sides of the suction fixing part 322 of the upper main body 320. Upper ends of the upper and lower recessed parts 324 are connected to the upper end of the suction fixing part 322 A sealing member 325 protruding from the sealing member 325 is inserted.

상기 실링 부재(325)는 반도체 스트립(200)의 양측 하단에 견고하게 밀착되어 상부 본체(320)의 흡착고정부(322) 쪽으로 외부공기가 유입되는 것을 방지함으로써 반도체 스트립(200)의 흡착 고정력을 좋게 하는 것으로, 실리콘이나 그 밖의 밀착성능이 좋은 재질로 형성된다.The sealing member 325 is tightly adhered to the lower ends of both sides of the semiconductor strip 200 to prevent external air from flowing into the adsorption fixing portion 322 of the upper body 320, It is formed of a material having good adhesion to silicon or the like.

상기 상부 본체(320)의 중앙 부분에는 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 하부 본체(310)의 위치설정핀(316)에 삽입되는 위치설정홈(326)이 형성된다.As shown in FIG. 12, a positioning groove 326 is formed in a central portion of the upper body 320 to be inserted into the positioning pin 316 of the lower body 310.

상기 상부 본체(320)의 전면 또는 측면에는 상부 본체(320)의 설치 및 분리를 위한 손잡이(327)가 설치된다.A handle 327 is provided on the front surface or the side surface of the upper body 320 for installing and separating the upper body 320.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더의 진공 척(300)은 반도체 스트립 그라인더(100)를 통해 반도체 스트립(200)을 연삭할 때에 반도체 스트립(200)을 견고하게 고정하는 역할을 한다.The vacuum chuck 300 of the semiconductor strip grinder according to the present invention serves to firmly fix the semiconductor strip 200 when grinding the semiconductor strip 200 through the semiconductor strip grinder 100.

반도체 스트립 그라인더(100)에서 연삭하고자 하는 반도체 스트립(200)은 별도의 스트립 공급장치를 통해 진공 척(300)으로 공급된다.The semiconductor strip 200 to be ground in the semiconductor strip grinder 100 is supplied to the vacuum chuck 300 through a separate strip supply device.

상기 스트립 공급장치를 통해 진공 척(300)의 상부 본체(320)의 흡착고정부(322)에 반도체 스트립(200)이 놓여지고 진공펌프가 작동하게 되면 연결호스 및 각 흡기연결관(315)을 통해 하부 본체(310)의 요입공간부(312), 상부 본체(320)의 흡착공간부(323), 상부 본체(320)의 흡착 고정부(322)와 반도체 스트립(200) 사이의 공간의 공기를 흡입하여 해당 공간을 진공상태로 만들게 된다.When the semiconductor strip 200 is placed on the suction fixing portion 322 of the upper main body 320 of the vacuum chuck 300 through the strip supply device and the vacuum pump is operated, the connection hose and each intake connection pipe 315 The adsorption space 323 of the upper main body 320 and the adsorption part 322 of the upper main body 320 and the semiconductor strip 200 through the air gap 312 of the lower main body 310, So that the corresponding space is evacuated.

따라서 진공펌프가 작동하는 동안 반도체 스트립(200)은 상부 본체(320)의 흡착고정부(322)에 흡착되어 견고하게 고정된다.Therefore, the semiconductor strip 200 is adsorbed and firmly fixed to the adsorption fixing portion 322 of the upper main body 320 while the vacuum pump is operating.

또한, 진공펌프가 작동하는 동안 연결호스 및 흡착연결관(318)을 통해 흡착구멍(317)의 공기와 상부 본체(320)의 하단으로 밀폐된 하부 본체(310)의 흡기유로(313)의 공기를 지속적으로 빨아들임으로써 상부 본체(320)가 하부 본체(310)에 더욱 견고하게 밀착된다.The air in the suction hole 317 and the air in the suction passage 313 of the lower main body 310 which is sealed by the lower end of the upper main body 320 through the connection hose and the suction connection pipe 318 during the operation of the vacuum pump, The upper main body 320 is more tightly adhered to the lower main body 310.

반도체 스트립(200)이 견고하게 고정된 진공 척(300)은 Y축 로봇유닛(160)을 통해 연삭 위치로 이동되고, 연삭 위치에서 반도체 스트립(200)의 상부면이 연삭된다.The vacuum chuck 300 with the semiconductor strip 200 firmly fixed is moved to the grinding position via the Y axis robot unit 160 and the upper surface of the semiconductor strip 200 is ground at the grinding position.

반도체 스트립(200)에 대한 연삭이 끝나면 진공 척(300)은 Y축 로봇유닛(160)을 통해 적재/하역위치로 이동된다.When the semiconductor strip 200 is ground, the vacuum chuck 300 is moved to the loading / unloading position via the Y-axis robot unit 160.

상기 연삭을 마친 반도체 스트립(200)이 탑재된 진공 척(300)이 적재/하역위치로 이동되면 진공펌프의 작동이 정지되어 반도체 스트립(200)에 대한 흡착고정력이 해제되고, 별도의 스트립 언로딩 장치를 통해 반도체 스트립(200)이 하역된다.When the vacuum chuck 300 on which the ground semiconductor strip 200 is mounted is moved to the loading / unloading position, the operation of the vacuum pump is stopped to release the attraction force for the semiconductor strip 200, The semiconductor strip 200 is unloaded through the apparatus.

한편, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 반도체 스트립 그라인더의 진공 척(300)에 있어서 상부 본체(320)는 자중으로 하부 본체(310)와 접속되는 형태이다.Meanwhile, in the vacuum chuck 300 of the semiconductor strip grinder according to the preferred embodiment of the present invention, the upper main body 320 is connected to the lower main body 310 by its own weight.

따라서 청소나 그 밖의 유지보수를 위하여 하부 본체(310)에서 상부 본체(320)를 분리할 필요가 있을 때는 상부 본체(320)의 전면 또는 측면에 마련된 손잡이(327)를 잡고 상부 본체(320)를 상부로 들어올리게 되면 간편하게 하부 본체(310)에서 상부 본체(320)를 분리할 수 있게 된다.Therefore, when it is necessary to separate the upper main body 320 from the lower main body 310 for the purpose of cleaning or other maintenance, it is necessary to grasp the upper main body 320 by holding the handle 327 provided on the front surface or the side surface of the upper main body 320 The upper body 320 can be easily separated from the lower body 310 by lifting the upper body 320 upward.

상기에서 정비를 마친 후 하부 본체(310)에 상부 본체(320)를 결합하고자 할 때는 하부 본체(310)의 상단 중앙 전방과 상단 중앙 후방에 마련된 위치설정핀(316)에 상부 본체(320)의 위치설정홈(326)이 삽입되도록 하부 본체(310)의 상부에 상부 본체(320)를 올려놓으면 된다.
When the upper main body 320 is to be coupled to the lower main body 310 after the maintenance is completed, the positioning pins 316 provided at the upper center front of the lower main body 310 and the upper center rear of the upper main body 320, The upper body 320 may be placed on the upper portion of the lower body 310 so that the positioning groove 326 is inserted.

이상 본 발명자에 의해서 이루어진 발명을 상기 실시 예에 따라 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 예에 한정되는 것은 아니고 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변경 가능한 것은 물론이다.
Although the present invention has been described in detail with reference to the above embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명에 따른 반도체 스트립 그라인더를 사용하는 것에 의해 반도체 스트립의 단위기판 상부의 보호 몰딩 층을 연삭하여 제거함으로써 반도체 스트립의 두께를 얇게 할 수 있다.
By using the semiconductor strip grinder according to the present invention, the thickness of the semiconductor strip can be reduced by grinding and removing the protective molding layer above the unit substrate of the semiconductor strip.

100 : 반도체 스트립 그라인더
110 : 베이스
120 : 지지프레임
130 : X축 로봇유닛
140 : Z축 로봇유닛
150 : 연삭 유닛
160 : Y축 로봇유닛
170 : 진공 척 유닛
180 : 드레인 커버 100: semiconductor strip grinder
110: Base
120: Support frame
130: X-axis robot unit
140: Z-axis robot unit
150: Grinding unit
160: Y-axis robot unit
170: vacuum chuck unit
180: drain cover

Claims (12)

일정 작업높이에 각 구성부품을 장착하기 위한 베이스,
상기 베이스의 상단 중앙 양측에 설치되는 지지프레임,
상기 양측의 지지프레임의 사이에 마련되어 Z축 로봇유닛,
상기 Z축 로봇유닛의 하부에 마련되어 반도체 스트립을 연삭하는 연삭 유닛,
상기 연삭 유닛을 좌우방향으로 이동시키는 X축 로봇유닛,
상기 베이스의 상부면에 마련된 Y축 로봇유닛,
상기 Y축 로봇유닛의 상부면에 마련되어 상기 반도체 스트립을 고정하는 진공 척 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.A base for mounting each component at a constant work height,
A support frame installed on both sides of the upper center of the base,
A Z-axis robot unit provided between the two support frames,
A grinding unit provided under the Z-axis robot unit for grinding a semiconductor strip,
An X-axis robot unit for moving the grinding unit in the lateral direction,
A Y-axis robot unit provided on an upper surface of the base,
And a vacuum chuck unit provided on an upper surface of the Y-axis robot unit to fix the semiconductor strip. 제1항에 있어서,
상기 베이스의 상부면에 마련되고 상기 반도체 스트립의 연삭 과정에서 비산되는 절삭유 및 연삭 분진을 차단하는 드레인 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.The method according to claim 1,
Further comprising a drain cover provided on an upper surface of the base to cut off cutting oil and grinding dust scattered in the grinding process of the semiconductor strip. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 연삭 유닛은 구동모터, 상기 구동모터에 접속되어 상기 반도체 스트립을 연삭하는 연삭 숫돌, 상기 연삭 숫돌을 보호하는 숫돌커버, 상기 연삭 숫돌과 반도체 스트립과의 거리를 감지하여 상기 Z축 로봇유닛의 높이를 제어하기 위한 터치 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.3. The method according to claim 1 or 2,
The grinding unit includes a driving motor, a grindstone connected to the driving motor for grinding the semiconductor strip, a grindstone cover for protecting the grindstone, a distance between the grindstone and the semiconductor strip, And a touch sensor for controlling the semiconductor strip grinder. 제3항에 있어서,
상기 Y축 로봇유닛은 상기 베이스의 상부면에 전후방향으로 마련되는 이송레일, 상기 이송레일에 전후방향으로 이동이 자유롭게 설치되는 모션플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.The method of claim 3,
Wherein the Y-axis robot unit includes a transfer rail provided on the upper surface of the base in the forward and backward directions, and a motion plate movably installed in the forward and backward directions on the transfer rail. 제3항에 있어서,
상기 연삭 숫돌은 상기 구동모터에 연결된 구동축에 결합하여 회전하는 구동 휠과 상기 구동 휠의 외주 둘레에 일체로 장착되어 상기 반도체 스트립을 연삭하는 연삭부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.The method of claim 3,
Wherein the grinding wheel comprises a driving wheel coupled to a driving shaft connected to the driving motor, and a grinding part integrally mounted on an outer periphery of the driving wheel to grind the semiconductor strip. 제5항에 있어서,
상기 구동 휠은 알루미늄으로 이루어지고, 상기 연삭부는 롤 형상으로서 레진 다이아몬드 또는 메탈 다이아몬드로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.6. The method of claim 5,
Wherein the driving wheel is made of aluminum, and the grinding portion is roll-shaped and formed of resin diamond or metal diamond. 제6항에 있어서,
상기 연삭부는 스핀들에 의해 순차 연마 방식으로 상기 반도체 스트립을 연삭하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.The method according to claim 6,
Wherein the grinding portion grinds the semiconductor strip in a sequential polishing manner by a spindle. 제1항에 있어서,
상기 진공 척 유닛은
상단에 요입공간부가 마련되고, 상기 요입공간부에 다수의 흡기구멍이 마련되며, 내부 하단에 상기 각 흡기구멍과 연결되는 다수의 흡기연결관이 설치된 하부 본체,
상단 중앙에 다수의 흡기소공이 좌우방향 및 전후방향으로 형성된 흡착고정부가 마련되고, 하단 중앙에 흡착고정부 및 상기 하부 본체의 요입공간부와 대응되는 흡착공간부가 마련되며, 상기 하부 본체의 상부에 분리 가능하게 설치되는 상부 본체를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.The method according to claim 1,
The vacuum chuck unit
A lower main body provided with a recessed space at an upper end thereof, a plurality of intake holes formed in the recessed and hollowed portions, and a plurality of intake connection tubes connected to the respective intake holes at an inner lower end thereof,
And a suction space corresponding to the lumen of the lower body is provided at the center of the lower end, and a suction space corresponding to the lumen of the lower body is provided at an upper portion of the lower body, And an upper body that is removably installed. 제8항에 있어서,
상기 하부 본체 상단의 요입공간 둘레에 흡기유로가 마련되고, 상기 하부 본체의 좌측 상부에 상기 흡기유로와 연결되는 흡착구멍이 마련되며, 상기 흡착구멍에 흡착연결관이 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.9. The method of claim 8,
Wherein an intake passage is provided around the recessed space at the upper end of the lower main body and a suction hole connected to the intake passage is provided at a left upper portion of the lower main body and a suction connection pipe is provided in the suction hole. . 제9항에 있어서,
상기 하부 본체의 상단 전방 중앙과 상단 후방 중앙에 위치설정핀이 설치되고, 상기 상부 본체의 하단 중앙 전방과 하단 중앙 후방에 상기 하부 본체의 위치설정핀에 삽입되는 위치설정홈이 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.10. The method of claim 9,
A positioning pin is provided at an upper front center and an upper rear center of the lower main body and a positioning groove is formed at a lower center front and a lower central rear of the upper main body to be inserted into positioning pins of the lower main body, Semiconductor strip grinder. 제9항에 있어서,
상기 상부 본체의 흡착고정부의 양측에 요입홈이 형성되고, 상기 요입홈에 는 상부가 흡착고정부의 상단으로 돌출되는 실링 부재가 삽입 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.10. The method of claim 9,
Wherein a recessed groove is formed on both sides of the suction fixing portion of the upper body and a sealing member protruding to the upper end of the suction fixing portion is inserted into the recessed groove. 제9항에 있어서,
상기 상부 본체의 전면 또는 측면에 상부 본체의 설치 및 분리를 위한 손잡이가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 스트립 그라인더.
10. The method of claim 9,
Wherein a handle for installing and separating the upper body is installed on a front surface or a side surface of the upper body.
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