KR20140075589A - 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 75
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 193
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 49
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 49
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052710 silicon Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 10
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 abstract description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 42
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 36
- -1 trimethylsilylmethyl group Chemical group 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 12
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 0 CC(Cc1c2cccc1)N2c1c(C=C(C)C2*C(C(C)=C3)c4c3c(-c3cccc5ccccc35)ccc4)c2ccc1 Chemical compound CC(Cc1c2cccc1)N2c1c(C=C(C)C2*C(C(C)=C3)c4c3c(-c3cccc5ccccc35)ccc4)c2ccc1 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 5
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000000147 tetrahydroquinolinyl group Chemical group N1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 3
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBUJPTNKIBCYBY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydroquinoline Chemical compound C1=CC=C2CCCNC2=C1 LBUJPTNKIBCYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- BSWCHPOZHVCZIT-UHFFFAOYSA-N CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.OB(O)OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.CN(C)C1=CC=CC=C1.OB(O)OC(C(F)=C(C(F)=C1F)F)=C1F BSWCHPOZHVCZIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDVAVHFYWFJFRY-UHFFFAOYSA-N [4-(3,4-dihydro-2H-quinolin-1-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl]-dimethyl-(2-methyl-4-phenyl-1H-inden-1-yl)silane Chemical compound N1(CCCC2=CC=CC=C12)C1=C2C=C(C(C2=CC=C1)[Si](C)(C)C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC=C1)C)C JDVAVHFYWFJFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- CNPLRFQHOKGYCG-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(2-methyl-4-naphthalen-1-yl-1h-inden-1-yl)silane Chemical compound C1=CC=C2C(C3=CC=CC4=C3C=C(C4[Si](C)(C)Cl)C)=CC=CC2=C1 CNPLRFQHOKGYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCZFGQYXRKMVFG-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-dione Chemical compound O=C1CCC(=O)CC1 DCZFGQYXRKMVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 UKSZBOKPHAQOMP-SVLSSHOZSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASGNRCDZSRNHOP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenyl-1h-indene Chemical compound C1C(C)=CC2=C1C=CC=C2C1=CC=CC=C1 ASGNRCDZSRNHOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLKASFXMXUOUFQ-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-methyl-1h-indene Chemical compound C1=CC=C(Br)C2=C1CC(C)=C2 RLKASFXMXUOUFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYEUIQMURWMOBH-UHFFFAOYSA-N CC=1CC2=CC=CC(=C2C1)N1CCC2=CC=CC=C12 Chemical compound CC=1CC2=CC=CC(=C2C1)N1CCC2=CC=CC=C12 UYEUIQMURWMOBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical group Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- SFYNRBHCSJHKOA-UHFFFAOYSA-N [4-(3,4-dihydro-2H-quinolin-1-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl]-dimethyl-(2-methyl-4-naphthalen-1-yl-1H-inden-1-yl)silane Chemical compound N1(CCCC2=CC=CC=C12)C1=C2C=C(C(C2=CC=C1)[Si](C)(C)C1C(=CC2=C(C=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12)C)C SFYNRBHCSJHKOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOJPIUPTNORNW-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].CC1=Cc2c(cccc2-c2ccccc2)C1[Hf++] Chemical compound [Cl-].[Cl-].CC1=Cc2c(cccc2-c2ccccc2)C1[Hf++] DBOJPIUPTNORNW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KUNZSLJMPCDOGI-UHFFFAOYSA-L [Cl-].[Cl-].[Hf+2] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Hf+2] KUNZSLJMPCDOGI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- WRWRDMMUYXMATQ-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(2-methyl-4-phenyl-1h-inden-1-yl)silane Chemical compound C[Si](Cl)(C)C1C(C)=CC2=C1C=CC=C2C1=CC=CC=C1 WRWRDMMUYXMATQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- KAOQJKYNGQQOLD-UHFFFAOYSA-N dimethyl-(2-methyl-4-naphthalen-1-yl-1H-inden-1-yl)silane Chemical compound C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=C2C=C(C(C2=CC=C1)[SiH](C)C)C KAOQJKYNGQQOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- GXNDYZPMZKJDSS-UHFFFAOYSA-N hex-1-ene Chemical compound CCCCC=C.CCCCC=C GXNDYZPMZKJDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)(C)[O-] LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N palladium;tritert-butylphosphane Chemical compound [Pd].CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229920001384 propylene homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005653 propylene-ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003530 tetrahydroquinolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002306 tributylsilyl group Chemical group C(CCC)[Si](CCCC)(CCCC)* 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N tritert-butylphosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C BWHDROKFUHTORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- C08F4/74—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from metals not provided for in group C08F4/44 selected from refractory metals
- C08F4/76—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from metals not provided for in group C08F4/44 selected from refractory metals selected from titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium or tantalum
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- C08F2420/00—Metallocene catalysts
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- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
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- C08F4/659—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond
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- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
- C08F4/64—Titanium, zirconium, hafnium or compounds thereof
- C08F4/659—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond
- C08F4/65912—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond in combination with an organoaluminium compound
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Abstract
본 발명은 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 상기 리간드 화합물을 포함하는 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 신규한 구조의 리간드 화합물 및 이를 포함하는 전이금속 화합물은 올레핀계 중합체를 제조하는데 있어 중합 반응 촉매로 사용될 수 있다.
Description
본 발명은 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 상기 리간드 화합물을 포함하는 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
올레핀 중합용 메탈로센 촉매는 오랜 기간 발전해왔다. 메탈로센 화합물은 일반적으로 알루미녹산, 보레인, 보레이트 또는 다른 활성화제를 이용하여 활성화시켜 사용한다. 예를 들어, 사이클로펜타다이에닐기를 포함한 리간드와 두 개의 시그마 클로라이드 리간드를 갖는 메탈로센 화합물은 알루미녹산을 활성화제로 사용한다. 이러한 메탈로센 화합물의 클로라이드기를 다른 리간드로(예를 들어, 벤질 또는 트리메틸실릴메틸기(-CH2SiMe3)) 치환하는 경우 촉매 활성도 증가 등의 효과를 나타내는 예가 보고되었다.
유럽특허 EP 1462464는 클로라이드, 벤질, 트리메틸실릴메틸기를 갖는 하프늄 메탈로센 화합물을 이용한 중합 실시예가 개시되어 있다. 또한 중심 금속과 결합한 알킬 리간드에 따라 활성화 종의 생성 에너지 등이 달라지는 결과도 보고된 바 있다(J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 10358). 한국특허 제 820542호에는 퀴놀린계 리간드를 갖는 올레핀 중합용 촉매를 개시되어 있으며, 본 특허는 메틸기 외의 실리콘, 게르마늄 원자를 포함하는 리빙 그룹을 갖는 촉매에 관한 것이다.
Dow 사가 1990년대 초반 [Me2Si(Me4C5)NtBu]TiCl2 (Constrained-Geometry Catalyst, CGC)를 미국특허 제5,064,802호 등에서 개시하였는데, 에틸렌과 알파-올레핀의 공중합 반응에서 CGC가 기존까지 알려진 메탈로센 촉매들에 비해 우수한 측면을 크게 다음과 같이 두 가지로 요약할 수 있다: (1) 높은 중합 온도에서도 높은 활성도를 나타내면서 고분자량의 중합체를 생성하며, (2) 1-헥센 및 1-옥텐과 같은 입체적 장애가 큰 알파-올레핀의 공중합성도 매우 뛰어나다는 점이다. 그 외에도 중합 반응 시, CGC 의 여러 가지 특성들이 점차 알려지면서 이의 유도체를 합성하여 중합 촉매로 사용하고자 하는 노력이 학계 및 산업계에서 활발히 이루어졌다.
그 중 하나의 접근 방법으로 실리콘 브릿지 대신에 다른 다양한 브릿지 및 질소 치환체가 도입된 금속 화합물의 합성과 이를 이용한 중합이 시도되었다. 최근까지 알려진 대표적인 금속 화합물들은 CGC 구조의 실리콘 브릿지 대신에 포스포러스, 에틸렌 또는 프로필렌, 메틸리덴 및 메틸렌 브릿지가 각각 도입되어 있으나, 에틸렌 중합 또는 에틸렌과 알파올레핀의 공중합에의 적용시에 CGC 대비하여 중합 활성도나 공중합 성능 등의 측면에서 뛰어난 결과들을 나타내지 못하였다.
다른 접근 방법으로는 상기 CGC의 아미도 리간드 대신에 옥시도 리간드로 구성된 화합물들 많이 합성되었으며, 이를 이용한 중합도 일부 시도되었다.
그러나, 이러한 모든 시도들 중에서 실제로 상업 공장에 적용되고 있는 촉매들은 몇몇에 불과한 수준이다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 신규한 리간드 화합물, 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은 상기 리간드 화합물을 포함하는 전이금속 화합물 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이다.
또한 본 발명은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 또는 이의 리튬염을 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물의 제조방법을 제공한다:
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 1]
상기 화학식 1, 3 및 4에서,
R1 내지 R17, Q 및 n은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
또한, 본 발명은 하기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물을 제공한다:
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
R1 내지 R17, Q 및 n은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고;
M은 4족의 전이금속이며;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
또한, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물과, 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 9]
M(X1X2)2
[화학식 2]
상기 화학식 1, 2 및 9에서,
R1 내지 R17, Q 및 n은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고;
M은 4족의 전이금속이며;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
본 발명의 신규한 리간드 화합물 및 이를 포함하는 전이금속 화합물은 올레핀계 중합체의 제조에 있어 중합 반응의 촉매로 유용하게 사용될 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 예시적인 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도는 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 예시하고 하기에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이다.
본 발명의 화학식 1 내지 9에서 정의된 각 치환기에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기를 포함한다.
상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐기를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 아릴기는 탄소수 6 내지 20인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 피리딜, 디메틸아닐리닐, 아니솔릴 등이 있으나, 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
상기 알킬아릴기는 상기 알킬기에 의하여 치환된 아릴기를 의미한다.
상기 아릴알킬기는 상기 아릴기에 의하여 치환된 알킬기를 의미한다.
상기 할로겐기는 플루오린기, 염소기, 브롬기 또는 요오드기를 의미한다.
상기 실릴기는 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴, 트리부틸실릴, 트리헥실실릴, 트리이소프로필실릴, 트리이소부틸실릴, 트리에톡시실릴, 트리페닐실릴, 트리스(트리메틸실릴)실릴 등이 있으나, 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기는 탄소수 6 내지 20인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 피리딜, 디메틸아닐리닐, 아니솔릴 등이 있으나, 이들 예로만 한정되는 것은 아니다.
상기 헤테로고리기는 탄소수 5 내지 20개의 고리 원자를 가지며 1개 이상의 헤테로 원자를 포함하는 1가의 지방족 또는 방향족의 탄화수소기를 의미하며, 단일 고리 또는 2 이상의 고리의 축합 고리일 수 있다. 또한 상기 헤테로고리기는 알킬기로 치환되거나 치환되지 않을 수 있다. 이들의 예로는 인돌린, 테트라하이드로퀴놀린 등을 들 수 있나, 본 발명이 이들로만 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기일 수 있고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기일 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물은 비스인데닐기가 Q (탄소 또는 실리콘)에 의해 가교된 구조를 형성하며, 하나의 인데닐기에는 인돌린기 또는 테트라하이드로퀴놀린기가 연결되어 있어 C1-비대칭적인 가교 구조를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물은 하기 구조식들 중 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 구조식에서 Me는 메틸(methyl)기, Ph는 페닐(phenyl)기를 가리킨다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은, 금속과 킬레이트를 형성할 수 있는 리간드 화합물일 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 또는 이의 리튬염을 반응시키는 단계를 포함하는, 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 1]
상기 화학식 1, 3 및 4에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이다.
본 발명의 리간드 화합물의 제조방법에서, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물과, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 또는 이의 리튬염을 반응시켜 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조한다.
보다 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 n-BuLi와 같은 유기 리튬 화합물과 반응시켜 화학식 4의 화합물의 리튬염을 제조한다. 그리고 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 혼합한 후, ether, CuCN 하에 반응시켜 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물을 수득할 수 있다.
이때, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물은 하기 화학식 5로 표시되는 화합물 또는 이의 리튬염과 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 반응시켜 수득할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 n-BuLi와 같은 유기 리튬 화합물과 반응시켜 화학식 5의 화합물의 리튬염을 제조한다. 그리고 상기 화학식 6으로 표시되는 화합물과 혼합한 후, 혼합물을 교반하여 반응시킴으로써 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 수득할 수 있다.
[화학식 5]
[화학식 6]
또한, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 상기 화학식 7로 표시되는 인데닐의 할로겐 화합물과 하기 화학식 8로 표시되는 인돌린 또는 테트라하이드로퀴놀린 유도체 화합물을 염기 및 팔라듐 촉매의 존재 하에 커플링 반응시켜 C-N 결합을 형성함으로써 제조할 수 있다. 이때 사용하는 팔라듐 촉매는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 비스(트리(터셔리부틸)포스핀))팔라듐(((tert-Bu)3P)2Pd), 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(Pd(PPh3)4), 팔라듐클로라이드(PdCl2), 팔라듐아세테이트(Pd(OAc)2) 또는 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐(Pd(dba)2) 등을 사용할 수 있다.
[화학식 7]
[화학식 8]
상기 화학식 3 내지 8에서, R1 내지 R17, Q 및 n은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같으며, X3은 할로겐이다.
상기 본 발명의 제조방법에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물은 라세미체(racemic)와 메조(meso) 화합물의 2가지 형태 중 하나로 수득되거나, 또는 라세미체와 메조가 혼합된 형태로 수득될 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 하기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물을 제공한다. 본 발명의 전이금속 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 리간드로 하여 4족 전이금속이 배위 결합된 형태이며, 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이고;
M은 4족의 전이금속이고;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기일 수 있고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 M에 해당하는 4족의 전이금속으로는 Ti, Zr, Hf 등이 있을 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물은 하기 구조식들 중 하나로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 구조식에서, Me는 메틸기(methyl), Ph는 페닐기(phenyl)를 가리킨다.
또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 다른 일 측면에 따른 전이금속 화합물의 제조방법은 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물과, 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 반응시키는 단계를 포함한다.
[화학식 1]
[화학식 9]
M(X1X2)2
[화학식 2]
상기 화학식 1, 2 및 9에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이고;
M은 4족의 전이금속이고;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 M에 해당하는 4족의 전이금속으로는 Ti, Zr, Hf 등이 있을 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
보다 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물을 n-BuLi와 같은 유기 리튬 화합물과 반응시켜 리튬염을 제조한 다음, 상기 화학식 9로 표시되는 금속 소스와 혼합한 후, 혼합물을 교반하여 반응시킨다. 이후 반응물을 여과하여 생성된 침전물을 씻어주고 감압 하에서 건조함으로써 리간드 화합물에 금속 원자가 결합한 complex 형태로 화학식 2로 표시되는 유기 금속 화합물을 수득할 수 있다.
상기 본 발명의 제조방법에 따르면, 상기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물은 라세미체(racemic)와 메조(meso) 화합물의 2가지 형태로 각각 수득되거나, 또는 라세미체와 메조가 혼합된 형태로 수득될 수 있다. 라세미체와 메조가 혼합된 형태인 경우 재결정화 단계를 거쳐 최종적으로 라세미체만의 전이 금속 화합물을 수득할 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물 및 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물은 비스인데닐기가 탄소 또는 실리콘에 의해 가교된 구조를 형성하며, 인데닐기에 각각 인돌린기 또는 테트라하이드로퀴놀린기가 연결되어 있으며, C1 비대칭적인 가교 구조를 나타낸다. 상기와 같이, 본 발명의 전이금속 화합물은 전자적으로 풍부한 인돌린기 또는 테트라하이드로퀴놀린기를 포함함에 따라 중심 금속의 전자 밀도가 높아져 고온 안정성이 높고 고분자량의 폴리올레핀계 중합체, 특히, 이소태틱 폴리올레핀계 중합체, 예를 들어 이소태틱 폴리프로필렌(isotatic polypropylene)을 합성하는데 유용하게 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 신규한 구조의 리간드 화합물 및 이를 포함하는 전이금속 화합물은 올레핀계 중합체를 제조하는데 있어 중합 반응 촉매로 사용될 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 기재한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.
<
실시예
>
하기 실시예에서, 용어 "밤새" 또는 "하룻밤 동안"은 대략 12 내지 16시간을 의미하며 "상온"은 20 내지 30℃의 온도를 일컫는다. 사용한 유기 시약 및 용매는 알드리치(Aldrich)사와, 머크(Merck)사에서 구입하여 표준 방법으로 정제하여 사용하였다. 합성의 모든 단계에서 공기와 수분의 접촉을 차단하여 실험의 재현성을 높였다. 생성된 화합물의 구조를 입증하기 위하여 500MHz 핵자기 공명기(NMR)를 이용하여 스펙트럼을 얻었다.
리간드
화합물 및 전이금속 화합물의 합성
실시예
1
실시예
1-1: 1-(2-
methyl
-1
H
-
inden
-4-
yl
)-1,2,3,4-
tetrahydroquinole
의 합성
500 mL 2-neck Schlenk flask에 4-bromo-2-methyl-1H-indene (10 g, 47.83 mmol)을 넣고 glove box에 들어가서 LiOtBu (11.49 g, 143.49 mmol)을 무게를 재고 나온 뒤, 이 flask에 tetrahydroquinone (6.244 mL, 49.74 mmol)을 투입하였다. 다른 100 mL schlenk flask에 glove box에서 팔라듐 촉매 Pd(P(tBu)3)2 (0.049 g, 0.096 mmol)을 무게를 재고 나왔다. 팔라듐 촉매를 tetrahydroquinone이 있는 flask로 옮긴 후, 110℃에서 4시간 30분 동안 반응시키고 work-up하였다. 물을 넣어 quenching하고, methylele chloride (MC)로 extraction한 후, Na2SO4로 물을 제거하고 vaccum drying하였다. 주황빛을 띠는 화합물(10.5 g, 84 % 수율)을 수득하였다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.41 ~ 7.36 (m, 3H in isomers), 7.27 ~ 7.16 (m, 8H in isomers), 6.98 (t, 3H in isomers), 6.74 (m, 3H in isomers), 6.61 (m, 2H in isomers), 6.44 (s, 1H in isomers). 6.43 (d, 1H in isomers), 6.38 (d, 1H in isomers), 3.74 ~ 3.72 (m, 6H in isomers), 3.46 (s, 3H in isomers), 3.24 (s, 3H in isomers), 3.04 ~ 3.02 (m, 6H in isomers), 2.32 ~ 2.22 (m, 15H in somers)
실시예
1-2:
chloro
(2-
methyl
-4-
phenyl
-1H-
inden
-1-
yl
)
dimethyl
silane
의 합성
2-methyl-4-phenylindene (4.4 g, 21.3 mmol), diethyl ether (100 mL)에 대해 -78 ?에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) (1.1 eq, 9.38 mL)를 천천히 적가한 후 상온에서 하룻밤 동안 반응시켰다. 반응 후 진공 건조하여 hexane으로 filter하여 lithium salt를 얻었다. 얻어진 lithium salt를 다시 hexane으로 dispersion시키고 -78℃에서 (CH3)2SiCl2 (dichlorodimethyl silane) (10 eq, 27.5 mL in hexane)을 적가한 후 상온에서 하룻밤 동안 반응시켰다. Line-filter후 진공 건조하여 light yellow solid 형태의 화합물을 93 %수율로 수득하였다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.28 (d, 2H), 7.22 ~ 7.21 (m, 3H), 7.13 (t, 1H), 7.06 (d, 1H), 6.96 (t, 1H), 6.56 (s, 1H), 3.43 (s, 1H), 2.04 (s, 3H), 0.205 (s, 3H), -0.033 (s, 3H)
실시예
1-3: (4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-
phenyl
-2-methyl-1H-inden-1-yl)
dimethyl
silane
의 합성
100 mL의 Schlenk flask에 1-(2-methyl-1H-inden-4-yl)-1,2,3,4-tetrahydroquinole (2.2 g, 8.42 mmol)을 넣고 dry diethyl ether 40 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) (3.7 mL)를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체를 진공 건조하여 흰색 고체의 lithiated product (2.2 g, 98 %의 수율)를 얻었다. Glove box안에서 상기 lithiated product (2.2 g, 8.03 mmol), chloro(2-methyl-4-phenyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane (2.40 g, 8.03 mmol), copper cyanide (0.026 g, 0.29 mmol)을 250 mL Schlenk flask에 넣은 후 -78℃에서 dry diethyl ether 80 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 완료 후 aqueous NH4Cl 100 mL, deionized water 100 mL를 가하여 반응을 종료시켰다.
유기층을 물층으로부터 분리하여 MgSO4로 drying하고 여과한 후 진공 건조하여 연한 노란색을 띠는 고체의 리간드 화합물 (4.20 g, lithiated product 대비 정량 수율, 출발 물질 대비 99 % 수율)을 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac:meso의 비율은 약 1:1이었다.
1H-NMR (CDCl3): δ7.55 ~ 7.12 (m, 22H in rac- and meso-isomers), 7.04 (dd, 2H in rac- and meso-isomers), 6.85 ~ 6.80 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 6.63 (td, 2H in rac- and meso-isomers), 6.47 (s, 2H in rac- and meso-isomers), 6.29 (d, 2H in rac- and meso-isomers), 3.81 (s, 2H in rac-isomer), 3.80 (s, 2H in meso-isomer), 3.70 ~ 3.59 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.94 (t, 4H in rac- and meso-isomers), 2.27 (d, 2H in rac- and meso-isomers), 2.20 (d, 6H in meso-isomer), 2.18 (d, 6H in rac-isomer), 2.13 ~ 2.08 (m, 8H in rac- and meso-isomers), -0.22 (s, 3H in meso-isomer), 0.23 (d, 6H in rac-isomer), -0.25 (s, 3H in meso-isomer)
실시예
1-4:
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-yl)(4-phenyl-2-methyl-1H-inden-1-yl)
zircoium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 (4-(3,4-dihydroquinolin-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-phenyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 1.4 g (2.67 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 30 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 2.4 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, ZrCl4 (0.69 g, 2.94 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry hexane 15 mL, diethyl ether 15 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit (G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM) 으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 붉은 색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 두 고체 모두 rac: meso=1:1의 Zr complex이었다. 이 crude product를 모아 dry toluene, hexane으로 -30℃ 냉동실에 3일간 보관하여 재결정시켰다. 생성된 붉은 색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry n-hexane 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 0.2 g (11 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.61 ~ 7.30 (m, 8H), 7.14 (d, 1H), 7.07 ~ 6.99 (m, 3H), 6.88 (s, 1H), 6.80 ~ 6.75 (m, 1H), 6.63 (t, 1H), 6.57 (s, 1H), 6.29 (d, 1H), 3.79 ~ 3.75 (m, 2H), 2.83 ~ 2.78 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.18 (s, 3H), 2.05 ~ 1.94 (m, 2H), 1.29 (s, 6H)
실시예
2
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-phenyl-2-methyl-1H-inden-1-yl)
hafnium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 상기 실시예 1-3에서 제조된 (4-(3,4-dihydroquinolin-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-phenyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 1.6 g (3.05 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 40 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 2.7 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, HfCl4 (1.1 g, 3.36 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry hexane 20mL, diethyl ether 20 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit (G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM) 으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 붉은 색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 두 고체 모두 rac: meso=1:1의 Hf complex이었다. 이 crude product를 모아 45℃ oil bath에 둔 후 교반하면서 dry toluene 30 mL를 가하여 녹였다. 이를 -30℃ 냉동실에 3일간 보관하여 재결정시켰다. 생성된 붉은 색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry n-hexane 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 0.4 g (17 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3): δ7.64 (td, 1H), 7.57 ~ 7.55 (m, 2H), 7.41 ~ 7.38 (m, 3H), 7.32 ~ 7.27 (m, 3H), 7.15 ~ 7.09 (m, 2H), 7.04 ~ 6.97 (m, 3H), 6.80 (t, 1H), 6.62 (td, 1H), 6.48 (s, 1H), 3.76 ~ 3.75 (m ,2H), 2.82 ~ 2.78 (m, 2H), 2.31 (s, 3H), 2.27 (s, 3H), 2.06 ~ 1.91 (m, 2H), 1.28 (s, 6H)
실시예
3
실시예
3-1: (4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-
naphthyl
-2-methyl-1H-inden-1-yl)
dimethyl
silane
의 합성
100mL의 Schlenk flask에 상기 실시예 1-1에서 제조된 1-(2-methyl-1H-inden-4-yl)-1,2,3,4-tetrahydroquinole (3.0 g, 11.5 mmol)을 넣고 dry diethyl ether 60 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) (5.1 mL)를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체를 진공 건조하여 흰색 고체의 lithiated product (3.0 g, 98%의 수율)를 얻었다. Glove box 안에서 상기 lithiated product (3.0 g, 11.2 mmol), chloro(2-methyl-4-naphthyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane (3.9 g, 11.2 mmol), copper cyanide (0.036 g, 0.40 mmol)을 250 mL Schlenk flask에 넣은 후 -78℃에서 dry diethyl ether 110 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 완료 후 aqueous NH4Cl 150 mL, deionized water 150 mL를 가하여 반응을 종료시켰다.
유기층을 물층으로부터 분리하여 MgSO4로 drying하고 여과한 후 진공 건조하여 연한 노란색을 띠는 고체의 리간드 화합물 (6.3 g, lithiated product 대비 정량 수율, 출발 물질 대비 98% 수율)을 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac:meso의 비율은 약 1:1이었다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.90 ~ 7.02 (m, 30H in rac- and meso-isomers), 6.86 ~ 6.83 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 6.60 (t, 2H in rac- and meso-isomers), 6.50 ~ 6.48 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 6.31 ~ 6.29 (s, 2H in rac- and meso-isomers), 3.88 ~ 3.80 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 3.67 ~ 3.58 (m ,4H in rac- and meso-isomers), 2.92 ~ 2.89 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.25 ~ 2.06 (m, 16H in rac- and meso-isomers), -0.18 ~ -0.23 (m, 12H in rac- and meso-isomers)
실시예
3-2:
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-yl)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl)
zircoium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 (4-(3,4-dihydroquinolin-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 2.9 g (5.05 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 50 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 4.5 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, ZrCl4 (1.3 g, 5.56 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry hexane 20 mL, diethyl ether 20 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit(G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM) 으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 붉은 색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac: meso=3:1의 Zr complex이었다. 이 crude product를 모아 dry toluene, pentane으로 -30℃ 냉동실에 재결정시켰다. 생성된 붉은 색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry n-pentane 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 1.07 g (29 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.86 ~ 6.77 (m, 17H), 6.59 (s, 1H), 6.40 (s, 1H), 3.81 ~ 3.72 (m, 2H), 2.85 ~ 2.82 (m, 2H), 2.23 (s, 3H), 2.15 (s, 3H), 2.10 ~ 1.95 (m, 2H), 1.32 (s, 3H), 1.29 (s, 3H)
실시예
4
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(3,4-
dihydroquinolin
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl)
zircoium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 상기 실시예 3-1에서 제조된 (4-(3,4-dihydroquinolin-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 2.7 g (4.70 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 25 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 4.14 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, HfCl4 (1.66 g, 5.18 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry hexane 25 mL, diethyl ether 350 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit(G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM) 으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 주황색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac: meso=4:1의 Hf complex이었다. 이 crude product를 모아 dry toluene, pentane으로 -30℃ 냉동실에 재결정시켰다. 생성된 노란색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry n-pentane 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 1.00 g (26 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.85 ~ 6.62 (m, 17H), 6.50 (s, 1H), 6.31 (s, 1H), 3.75 ~ 3.74 (m, 2H), 2.84 ~ 2.82 (m, 2H), 2.32 (s, 3H), 2.23 (s, 3H), 2.07 ~ 1.92 (m, 2H), 1.31 (s, 3H), 1.28 (s, 3H)
실시예
5
실시예
5-1: (4-(
indoline
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-
naphthyl
-2-
methyl
-1H-inden-1-yl)
dimethyl
silane
의 합성
100 mL의 Schlenk flask에 1-(2-methyl-1H-inden-4-yl)-indoline (0.43 g, 1.73 mmol)을 넣고 dry diethyl ether 8.7 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78 ℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) (0.76 mL)를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체를 진공 건조하여 흰색 고체의 lithiated product (0.42 g, 96 %의 수율)를 얻었다. Glove box안에서 상기 lithiated product (0.42 g, 1.66 mmol), chloro(2-methyl-4-naphthyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane (0.58 g, 1.66 mmol), copper cyanide (6.0 mg, 0.067 mmol)을 1000 mL Schlenk flask에 넣은 후 -78℃에서 dry diethyl ether 16 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 완료 후 deionized water 20 mL를 가하여 반응을 종료시켰다.
유기층을 물층으로부터 분리하여 MgSO4로 drying하고 여과한 후 진공 건조하여 연한 노란색을 띠는 고체의 리간드 화합물 (0.79 g, lithiated product 대비 정량 수율, 출발 물질 대비 85 % 수율)을 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac:meso의 비율은 약 1:1이었다.
1H-NMR (CDCl3): δ 7.93 ~ 6.21 (m, 19H in rac- and meso-isomers), 3.75 ~ 3.54 (m, 4H in rac- and meso-isomers), 2.90 ~ 2.76 (m, 2H in rac- and meso-isomers), 2.01 ~ 1.75 (m, 6H in rac- and meso-isomers), -0.17 ~ -0.26 (m, 6H in rac- and meso-isomers)
실시예
5-2:
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(
indoline
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl)
zircoium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 (4-(indoline-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 0.772 g (1.39 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 13 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 1.16 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, ZrCl4 (0.354 g, 1.53 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry hexane 13 mL, diethyl ether 350 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit(G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM)으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 주황색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac: meso=3:1의 Zr complex이었다. 이 crude product를 모아 dry toluene으로 -30℃ 냉동실에 재결정시켰다. 생성된 주황색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry toluene 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 0.11 g (11 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (toluene-dδ): δ 8.20 ~ 8.18 (dd, 1H), 7.75 (d, 1H), 7.58 (d, 1H), 7.49 (d, 1H), 7.30 ~ 6.87 (m, 1H), 6.75 ~ 6.70 (m, 2H), 6.53 (s, 1H), 4.14 ~ 4.03 (m, 2H), 2.73 ~ 2.71 (m, 2H), 2.12 (s, 3H), 1.88 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 0.86 (s, 3H)
실시예
6
rac
-
dimethylsilylene
-(4-(
indoline
-1(2
H
)-
yl
)-2-
methyl
-1
H
-
inden
-1-
yl
)(4-
naphthyl
-2-methyl-1H-inden-1-yl)
hafnium
dichloride 의
합성
100 mL의 Schlenk flask에 상기 실시예 5-1에서 제조된 (4-(indoline-1(2H)-yl)-2-methyl-1H-inden-1-yl)(4-naphthyl-2-methyl-1H-inden-1-yl) dimethyl silane 2.0 g (3.57 mmol, rac:meso=1:1)을 넣고 dry diethyl ether 18 mL를 가하여 출발 물질을 녹인 후, -78℃에서 n-BuLi (2.5M in n-Hx) 3.14 mL를 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 이후 glass frit (G4)를 이용하여 여과하였다. Glass frit에 남아 있는 고체는 진공 건조하여 흰색의 고체의 lithiated product를 얻었다. Glove box 안에서 이 lithiated product, HfCl4 (1.26 g, 3.93 mmol)을 100 mL Schlenk flask에 넣은 후, -78℃에서 dry toluene 18 mL를 차례대로 가하고 상온에서 하룻밤 동안 교반하였다. 반응 종결 후 celite가 깔린 glass frit (G4)로 여과하였다. Glass frit에 남아있는 고체는 dichloromethane (DCM)으로 녹여내었다. DCM 여과액을 진공 건조하여 주황색의 고체를 얻었다. 1H-NMR 분석 결과 rac: meso=3:1의 Zr complex이었다. 이 crude product를 모아 dry toluene으로 -30℃ 냉동실에 재결정시켰다. 생성된 노란색 고체를 glass frit (G4)로 여과하고 dry toluene 10 mL로 두 번 씻어준 후 진공 건조하여 racemic형의 최종 결과물 0.3 g (10 % 수율)을 얻었다.
1H-NMR (toluene-dδ): δ8.12 (d, 1H), 7.76 (d, 1H), 7.62 (d, 1H), 7.55 (d, 1H), 7.51 (d, 1H), 7.27 ~ 6.85 (m, 10H), 6.70 ~ 6.67 (m, 2H), 6.42 (s, 1H), 4.07 ~ 3.98 (m, 2H), 2.70 ~ 2.67 (m, 2H), 2.19 (s, 3H), 1.95 (s, 3H), 0.88 (s, 3H), 0.84 (s, 3H)
비교예
1
rac
-1,1'-
dimethtylsilylene
-
bis
(
indenyl
)
hafnium
dichloride
rac-1,1-'dimethtylsilylene-bis(indenyl) hafnium dichloride 화합물은 미국특허 No. 5,905,162 의 Example 1에 따라 합성하여 사용하였다.
프로필렌 단독 중합체의 제조
실시예
7
250 mL 미니클레이브 반응기에 톨루엔 용매(0.2 L)를 가한 후, 반응기의 온도를 70℃로 예열하였다. 5 x 10-6 M의 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트 조촉매 0.2 mL를 syringe로 반응기에 투입한 후, 트리이소부틸알루미늄 화합물로 처리된 상기 실시예 1의 전이금속 화합물(1x10-6 M, 0.1 mL)를 반응기에 넣었다. 중합 반응은 10 분간 5 bar 프로필렌을 주입하면서 진행하였다. 중합 반응을 10 분간 진행한 후, 남은 가스를 빼내고 고분자 용액을 과량의 에탄올을 가하여 냉각시켜 침전을 유도하였다. 얻어진 고분자를 에탄올 및 아세톤으로 각각 2 내지 3회 세척한 후, 80℃ 진공 오븐에서 12 시간 이상 건조한 후 물성을 측정하였다.
실시예
8
상기 실시예 2의 전이금속 화합물을 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 7과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
실시예
9
상기 실시예 3의 전이금속 화합물을 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 7과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
실시예
10
상기 실시예 4의 전이금속 화합물을 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 7과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
비교예
2
5 x 10-6 M의 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트 조촉매를 1.0 mL로 사용하고, 트리이소부틸알루미늄 화합물로 처리된 상기 비교예 1의 전이금속 화합물(1x10-6 M, 0.5 mL)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 7과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
중합체의 녹는점(Tm)은 TA사의 Q100을 사용하여 측정하였다. 측정값은 중합체의 thermal history를 없애기 위해 분당 10 ?로 승온시킨 두 번째 melting을 통해 얻었다.
상기 실시예 7 내지 10 및 비교예 2에 대해 상기와 같은 방법으로 물성을 측정한 후 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
촉매 활성도 (단위: kg/mmol hr) |
중합체 중량 (단위: g) |
녹는점 (단위: ℃) |
|
실시예 7 | 474 | 7.9 | 147.8 |
실시예 8 | 432 | 7.2 | 148.4 |
실시예 9 | 156 | 7.8 | 149.5 |
실시예 10 | 134 | 6.7 | 155 |
비교예 2 | 151 | 12.6 | 122.5 |
상기 표 1을 참조하면, 실시예 7 내지 10에 의해 제조된 프로필렌 중합체는 비교예 2의 중합체에 비하여 높은 녹는점(Tm)을 나타내었다. 즉, 본 발명의 전이금속 화합물을 촉매로 이용할 때 높은 촉매 활성도를 보이며, isotacticity가 높은 올레핀계 중합체가 얻어짐을 확인하였다.
프로필렌-에틸렌 공중합체의 제조
실시예
11
2 L 오토클레이브 반응기에 톨루엔 용매 (0.8 L)와 프로필렌 (250 g), 에틸렌 (70 psi)을 가한 후, 고압 아르곤 압력으로 500 psi가 되도록 압력을 맞추고 반응기의 온도를 70℃로 예열하였다. 5 x 10-6 M의 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트 조촉매 0.2 mL를 고압 아르곤 압력을 가하여 반응기에 넣고, 트리이소부틸알루미늄 화합물로 처리된 상기 실시예 1의 전이금속 화합물(1x10-6 M, 0.1 mL)를 촉매 저장탱크에 넣은 후 고압의 아르곤 압력을 가하여 반응기에 넣었다. 중합 반응은 10 분간 진행하였다. 반응열은 반응기 내부의 냉각 코일을 통해 제거하여 중합 온도를 최대한 일정하게 유지하였다. 중합 반응을 10 분간 진행한 후, 남은 가스를 빼내고 고분자 용액을 반응기의 하부로 배출시키고 과량의 에탄올을 가하여 냉각시켜 침전을 유도하였다. 얻어진 고분자를 에탄올 및 아세톤으로 각각 2 내지 3회 세척한 후, 80℃ 진공 오븐에서 12 시간 이상 건조한 후 물성을 측정하였다.
실시예
12
상기 실시예 3의 전이금속 화합물을 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
실시예
13
상기 실시예 5의 전이금속 화합물을 이용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
비교예
3
5 x 10-6 M의 디메틸아닐리늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트 조촉매를 1.0 mL로 사용하고, 트리이소부틸알루미늄 화합물로 처리된 상기 비교예 1의 전이금속 화합물(1x10-6 M, 0.5 mL)를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 11과 동일한 방법으로 올레핀계 중합체를 제조하였다.
중합체의 용융지수(melt flow rate, MFR)는 ASTM D-1238 (조건 E, 230℃, 2.16 kg 하중)로 측정하였다. 녹는점(Tm)은 TA사의 Q100을 사용하여 측정하였다. 측정값은 중합체의 thermal history를 없애기 위해 분당 10℃로 승온시킨 두 번째 melting을 통해 얻었다.
상기 실시예 11 내지 13 및 비교예 3에 대해 상기와 같은 방법으로 물성을 측정한 후 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
촉매 활성도 (단위: kg/mmol hr) |
중합체 중량 (단위: g) |
밀도 (단위: g/cc) |
녹는점 (단위: ℃) |
용융지수 (단위: g/10min) |
|
실시예 11 | 5640 | 56.4 | 0.861 | 53.8 | 15.2 |
실시예 12 | 4860 | 81.0 | 0.865 | 53.1 | 10.2 |
실시예 13 | 8268 | 82.7 | 0.860 | 53.3 | 30.0 |
비교예 3 | 1040 | 86.6 | 0.856 | - | 13 |
상기 표 2를 참조하면, 실시예 11 내지 13에 의해 제조된 프로필렌-에틸렌 중합체는 비교예 3에 비하여 높은 촉매 활성도, 용융 지수 등 뛰어난 효과를 나타내었다.
Claims (12)
- 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물:
[화학식 1]
상기 화학식 1에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이다.
- 제1항에 있어서, 상기 R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기이고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기인 리간드 화합물.
- 하기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물:
[화학식 2]
상기 화학식 2에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이고;
M은 4족의 전이금속이고;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
- 제4항에 있어서, 상기 R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기이고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기인 전이금속 화합물.
- 제4항에 있어서, 상기 M은 Ti, Zr 및 Hf으로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속 화합물.
- 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 또는 이의 리튬염을 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물의 제조방법:
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 1]
상기 화학식 1, 3 및 4에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이다.
- 제8항에 있어서, 상기 R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기이고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기인 리간드 화합물의 제조방법.
- 하기 화학식 1로 표시되는 리간드 화합물과, 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 전이금속 화합물의 제조방법:
[화학식 1]
[화학식 9]
M(X1X2)2
[화학식 2]
상기 화학식 1, 2 및 9에서,
n은 1 내지 2의 정수이고,
R1 내지 R16은 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기, 또는 실릴기이며, R1 내지 R16 중 서로 인접하는 2개 이상은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기를 포함하는 알킬리딘기에 의해 서로 연결되어 고리를 형성할 수 있고;
R17은 수소, 할로겐기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기 또는 탄소수 1 내지 20의 알콕시이며;
Q는 탄소 또는 실리콘이고;
M은 4족의 전이금속이고;
X1 및 X2는 동일하거나 상이하고 각각 독립적으로 할로겐, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 20의 아릴아미노기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬리덴기이다.
- 제10항에 있어서, 상기 R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기, 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬기, 또는 탄소수 5 내지 20의 헤테로고리기이고, R17은 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기인 전이금속 화합물의 제조방법.
- 제10항에 있어서, 상기 M은 Ti, Zr 및 Hf으로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속 화합물의 제조방법.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201380064900.6A CN104837849B (zh) | 2012-12-11 | 2013-11-19 | 新的配体化合物及其制备方法、过渡金属化合物及其制备方法 |
JP2015546373A JP5957616B2 (ja) | 2012-12-11 | 2013-11-19 | 新規なリガンド化合物、その製造方法、遷移金属化合物、およびその製造方法 |
EP13861676.8A EP2918591B1 (en) | 2012-12-11 | 2013-11-19 | Novel ligand compound, preparation method therefor, transition metal compound, and preparation method therefor |
PCT/KR2013/010512 WO2014092352A1 (ko) | 2012-12-11 | 2013-11-19 | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 |
US14/649,486 US9790240B2 (en) | 2012-12-11 | 2013-11-19 | Ligand compound, a preparation method thereof, a transition metal compound, and a preparation method thereof |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20120143806 | 2012-12-11 | ||
KR1020120143809 | 2012-12-11 | ||
KR1020120143806 | 2012-12-11 | ||
KR20120143809 | 2012-12-11 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140179498A Division KR101623487B1 (ko) | 2012-12-11 | 2014-12-12 | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140075589A true KR20140075589A (ko) | 2014-06-19 |
Family
ID=51128263
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130140006A KR20140075589A (ko) | 2012-12-11 | 2013-11-18 | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 |
KR1020140179498A KR101623487B1 (ko) | 2012-12-11 | 2014-12-12 | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140179498A KR101623487B1 (ko) | 2012-12-11 | 2014-12-12 | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9790240B2 (ko) |
EP (1) | EP2918591B1 (ko) |
JP (1) | JP5957616B2 (ko) |
KR (2) | KR20140075589A (ko) |
CN (1) | CN104837849B (ko) |
WO (1) | WO2014092352A1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105764931A (zh) * | 2014-11-06 | 2016-07-13 | 株式会社Lg化学 | 用于制备高分子量聚烯烃的茂金属催化剂及其制备方法 |
US9828450B2 (en) | 2014-06-10 | 2017-11-28 | Lg Chem, Ltd. | Propylene-based elastomer |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015190831A1 (ko) | 2014-06-10 | 2015-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 프로필렌계 엘라스토머 |
WO2024036052A1 (en) | 2022-08-09 | 2024-02-15 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Methods for preparing diphenylsilane bridged c1 symmetric catalysts and polymers made therefrom |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5064802A (en) | 1989-09-14 | 1991-11-12 | The Dow Chemical Company | Metal complex compounds |
EP0728773B1 (en) * | 1995-02-21 | 1998-11-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Catalysts for olefin polymerization and a process for preparing olefin polymers therewith |
US5905162A (en) | 1997-08-12 | 1999-05-18 | Albemarle Corporation | Enhanced production of bridged hafnocenes |
CA2283880A1 (en) | 1998-01-14 | 1999-07-22 | Montell Technology Company B.V. | Process for the preparation of metallocene compounds |
EP1131328B1 (en) | 1998-11-18 | 2003-05-07 | Basell Polyolefine GmbH | Methylene bridged metallocenes as olefin-polymerization-catalyst components |
WO2003091265A1 (en) | 2002-04-23 | 2003-11-06 | Dow Global Technologies Inc. | Alkaryl-substituted group 4 metal complexes, catalysts and olefin polymerization process |
US6841500B2 (en) | 2002-12-03 | 2005-01-11 | Equistar Chemicals, Lp | Bimetallic indenoindolyl catalysts |
EP1462464A1 (en) | 2003-03-25 | 2004-09-29 | Borealis Technology Oy | Metallocene catalysts and preparation of polyolefins therewith |
WO2007107448A1 (en) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Basell Polyolefine Gmbh | Metallocene compounds |
KR100820542B1 (ko) | 2006-03-24 | 2008-04-08 | 주식회사 엘지화학 | 전이금속 화합물, 이를 포함하는 촉매 조성물 및 이를이용한 올레핀 중합 |
JP2009533382A (ja) | 2006-04-12 | 2009-09-17 | バーゼル・ポリオレフィン・ゲーエムベーハー | メタロセン化合物 |
KR100976131B1 (ko) | 2007-01-10 | 2010-08-16 | 주식회사 엘지화학 | 전이금속 화합물의 제조 방법, 상기 방법으로 제조된전이금속 화합물 및 상기 전이금속 화합물을 포함하는 촉매조성물 |
KR100999592B1 (ko) | 2007-02-15 | 2010-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 새로운 시클로펜타디에닐 리간드를 갖는 4족 전이금속화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 올레핀계 중합체의제조방법 |
US7812104B2 (en) | 2008-01-18 | 2010-10-12 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Production of propylene-based polymers |
EP2103634A1 (en) * | 2008-03-20 | 2009-09-23 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | Production of propylene-based polymers |
KR101154507B1 (ko) | 2009-07-31 | 2012-06-13 | 주식회사 엘지화학 | 메탈로센 화합물, 이를 포함하는 촉매 조성물 및 이를 이용하여 제조된 올레핀계 중합체 |
KR100986301B1 (ko) | 2010-04-12 | 2010-10-07 | 아주대학교산학협력단 | 테트라하이드로퀴놀린 유도체로부터 유래한 티오펜-축합고리 싸이클로펜타디에닐 4족 금속 화합물 및 이를 이용한 올레핀 중합 |
KR20140007360A (ko) | 2010-12-22 | 2014-01-17 | 보레알리스 아게 | 가교된 메탈로센 촉매 |
-
2013
- 2013-11-18 KR KR1020130140006A patent/KR20140075589A/ko active Search and Examination
- 2013-11-19 US US14/649,486 patent/US9790240B2/en active Active
- 2013-11-19 CN CN201380064900.6A patent/CN104837849B/zh active Active
- 2013-11-19 WO PCT/KR2013/010512 patent/WO2014092352A1/ko active Application Filing
- 2013-11-19 EP EP13861676.8A patent/EP2918591B1/en active Active
- 2013-11-19 JP JP2015546373A patent/JP5957616B2/ja active Active
-
2014
- 2014-12-12 KR KR1020140179498A patent/KR101623487B1/ko active IP Right Grant
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---|---|---|---|---|
US9828450B2 (en) | 2014-06-10 | 2017-11-28 | Lg Chem, Ltd. | Propylene-based elastomer |
CN105764931A (zh) * | 2014-11-06 | 2016-07-13 | 株式会社Lg化学 | 用于制备高分子量聚烯烃的茂金属催化剂及其制备方法 |
US9884926B2 (en) | 2014-11-06 | 2018-02-06 | Lg Chem, Ltd. | Metallocene catalyst for preparing a high molecular weight polyolefin and a preparation method thereof |
CN105764931B (zh) * | 2014-11-06 | 2018-05-25 | 株式会社Lg化学 | 用于制备高分子量聚烯烃的茂金属催化剂及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104837849B (zh) | 2017-09-22 |
JP2016504989A (ja) | 2016-02-18 |
EP2918591B1 (en) | 2017-09-13 |
US20160215004A1 (en) | 2016-07-28 |
EP2918591A1 (en) | 2015-09-16 |
JP5957616B2 (ja) | 2016-07-27 |
KR20150003145A (ko) | 2015-01-08 |
US9790240B2 (en) | 2017-10-17 |
CN104837849A (zh) | 2015-08-12 |
EP2918591A4 (en) | 2016-07-27 |
KR101623487B1 (ko) | 2016-05-23 |
WO2014092352A1 (ko) | 2014-06-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
A107 | Divisional application of patent | ||
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