KR20140014843A

KR20140014843A - Transparent electrode film of touch panel and manufacturing method for the same, and touch panel using the same

Info

Publication number: KR20140014843A
Application number: KR1020120081944A
Authority: KR
Inventors: 박재완; 안영수; 이재홍; 구찬규
Original assignee: 엘지이노텍 주식회사
Priority date: 2012-07-26
Filing date: 2012-07-26
Publication date: 2014-02-06

Abstract

The present invention relates to a transparent electrode film of a touch panel and a manufacturing method thereof and more specifically, to a transparent electrode film of a touch panel for minimizing manufacturing processes and manufacturing costs and a manufacturing method thereof. According to the present invention, a problem that reflective visible light increases due to the light reflection characteristics of a metal electrode pattern is eradicated by realizing a blackening pattern consisting of a blackening material layer between a substrate and an electrode pattern. Consequently, it is possible to minimize the reflection of light to improve the optical characteristics of a transparent electrode. [Reference numerals] (AA) Substrate; (BB) Form a blackening material layer; (CC) Form an electrode pattern; (DD) Selective etching(Blackening pattern); (EE) Complete a transparent electrode film; (FF) Sintering process

Description

TECHNICAL FIELD The touch panel comprising a transparent electrode film of a touch panel, a method of manufacturing the same, and a touch panel including a transparent electrode film of a touch panel.

본 발명은 터치 패널의 투명전극 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광학적 특성을 향상시킬 수 있고, 제조 공정과 제조 비용을 최소화한 터치 패널의 투명전극 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent electrode film of a touch panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a transparent electrode film of a touch panel capable of improving optical characteristics and minimizing a manufacturing process and manufacturing cost, and a method of manufacturing the same. .

터치 패널은 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube), 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(FED; Field Emission Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP; Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(ELD; Electro Luminescence Device) 등과 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되며, 사용자가 화상표시장치를 보면서 컴퓨터에 미리 정해진 정보를 입력하기 위한 장치로서, 최근에는 터치에 의한 명령이 필수적인 스마트 폰(Smart Phone) 또는 터치 폰(Touch Phone) 등의 통신 단말에 널리 사용되고 있다.The touch panel includes a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP) and an electroluminescent device. It is installed on the display surface of an image display device such as (ELD; Electro Luminescence Device), and is a device for a user to input predetermined information to a computer while looking at the image display device. It is widely used for communication terminals, such as a phone or a touch phone.

종래에는 일반적으로 터치 패널의 투명전극 필름은 ITO(Indium Tin Oxide)를 이용해 투명 센서전극층을 구현하고, 센서전극층들을 접합층으로 접합하여 터치 패널을 구성하였다.In the related art, a transparent electrode film of a touch panel generally implements a transparent sensor electrode layer using indium tin oxide (ITO), and forms a touch panel by bonding the sensor electrode layers to a bonding layer.

도 1은 종래 기술에 따른 터치 패널의 메탈 메시(Metal Mesh) 전극의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining a method of manufacturing a metal mesh (Metal Mesh) electrode of the touch panel according to the prior art.

상기와 같은 ITO로 이루어진 터치 패널의 투명전극 필름을 대체하기 위하여, 종래에는 도 1의 (a)에 도시된 바와 같이 은(Ag) 또는 은 나노와이어(nano wire)를 포함하는 물질(120)을 기판(110) 전면에 코팅하고, 도 1의 (b)에서와 같이 포토레지스트(Photoresist)를 형성하고, 도 1의 (c)에서와 같이 식각하는 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 이용해 은(Ag) 또는 은 나노와이어(nano wire)를 포함하는 물질(120)을 패터닝(patterning)하여, 도 1의 (d)에 도시된 바와 같이 기판(110) 상에 감지전극 패턴(125)을 형성하여 터치 패널의 투명전극 필름을 제조하였다.In order to replace the transparent electrode film of the touch panel made of ITO as described above, a material 120 including silver (Ag) or silver nanowire (nano wire) is conventionally used as shown in FIG. Coating on the entire surface of the substrate 110, forming a photoresist (Photoresist) as shown in (b) of Figure 1, using a photolithography process (etch) as shown in Figure 1 (c) (Ag) Alternatively, by patterning the material 120 including silver nanowires, the sensing electrode pattern 125 is formed on the substrate 110 as shown in FIG. A transparent electrode film was prepared.

그러나, 종래 기술에 따르면 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 비용이 많이 소요되는 문제점이 있었다.However, according to the prior art, not only is the process complicated, but there is a problem that the cost is high.

나아가, 상술한 기술과 같은 방식으로 Ag를 전극으로 인쇄하는 경우, 소결 후, Ag의 빛 반사 특성으로 인하여 가시성이 증가하게 되어, 이로 인해 투명 전극으로 사용하는 경우 광학적 특성이 저하되는 문제가 발생하게 된다.Furthermore, in the case of printing Ag as an electrode in the same manner as described above, after sintering, visibility is increased due to the light reflection characteristic of Ag, which causes a problem that optical characteristics are degraded when used as a transparent electrode. do.

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 터치 패널의 투명전극 필름의 제조 시에 역 오프셋(reverse off set)방식을 사용하여 전극 패턴을 메시 형태로 직접 인쇄함으로써, 그 제조 공정과 제조 비용을 최소화하며, 특히, 기판과 전극패턴의 사이에 흑화물질층으로 구성되는 흑화패턴을 구현하여 금속 전극패턴의 빛 반사 특성으로 인해 반사 가시광이 증가하는 문제를 일소하여 빛의 반사를 최소화하여 투명 전극의 광학적 특성을 향상시킬 수 있는 터치 패널용 투명 전극필름을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and by directly printing the electrode pattern in the form of a mesh using a reverse off method in the manufacture of the transparent electrode film of the touch panel, the manufacturing process and manufacturing It minimizes the cost, and in particular, implements a blackening pattern composed of a blackening material layer between the substrate and the electrode pattern, thereby eliminating the problem of increasing reflected visible light due to the light reflection characteristic of the metal electrode pattern, thereby minimizing the reflection of light. It is to provide a transparent electrode film for a touch panel that can improve the optical characteristics of the electrode.

상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명은 기판; 및 상기 기판의 표면에 구현되는 흑화패턴으로 구성되는 흑화패턴부; 및 상기 흑화패턴 상에 직접 금속물질로 형성되는 전극패턴으로 구성되는 전극 패턴부;를 포함하는 터치 패널의 투명전극 필름을 제공할 수 있도록 한다. 특히 이 경우 상기 흑화패턴은, 흑색의 금속산화물, 이를 테면 CuO, CrO, FeO, Ni₂O₃ 중 선택되는 어느 하나로 구현될 수 있다.As a means for solving the above problems, the present invention is a substrate; And a blackening pattern portion formed of a blackening pattern implemented on the surface of the substrate. And an electrode pattern portion formed of an electrode pattern formed of a metal material directly on the blackening pattern. In particular, in this case, the blackening pattern may be implemented by any one selected from black metal oxides such as CuO, CrO, FeO, and Ni ₂ O ₃ .

상술한 터치패널용 투명전극 필름의 제조는 기판상에 흑화물질층을 형성하고, 상기 흑화물질층 상에 금속 전극패턴을 인쇄하고, 상기 금속전극패턴을 에칭배리어로 하여 투명기판을 노출시키는 공정을 통해 구현할 수 있다.The above-described manufacturing of a transparent electrode film for a touch panel includes forming a blackening material layer on a substrate, printing a metal electrode pattern on the blackening material layer, and exposing the transparent substrate using the metal electrode pattern as an etching barrier. Can be implemented.

본 발명에 따르면 터치 패널의 투명전극 필름의 제조 시에 역 오프셋(reverse off set)방식을 사용하여 전극 패턴을 메시 형태로 직접 인쇄함으로써, 그 제조 공정과 제조 비용을 최소화하여 터치 패널의 제품 원가를 줄일 수 있다.According to the present invention by directly printing the electrode pattern in the form of a mesh using a reverse off method in the manufacturing of the transparent electrode film of the touch panel, to minimize the manufacturing process and manufacturing cost to reduce the product cost of the touch panel Can be reduced.

특히, 기판과 전극패턴의 사이에 흑화물질층으로 구성되는 흑화패턴을 구현하여 금속 전극패턴의 빛 반사 특성으로 인해 반사 가시광이 증가하는 문제를 일소하여 빛의 반사를 최소화하여 투명 전극의 광학적 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 구현된다.In particular, by implementing a blackening pattern composed of a blackening material layer between the substrate and the electrode pattern, the problem of the reflected visible light increases due to the light reflection characteristic of the metal electrode pattern is minimized, thereby minimizing the reflection of light to improve the optical characteristics of the transparent electrode. Advantages that can be improved are implemented.

나아가, 공정에서 금속 전극패턴을 에칭배리어(etching barrier)로 이용하여 흑화층의 패터닝 공정을 단순화시킴으로써, 제조원가를 절감할 수 있는 효과도 있다.Furthermore, by using a metal electrode pattern as an etching barrier in the process, the patterning process of the blackening layer is simplified, thereby reducing the manufacturing cost.

도 1은 종래의 종래 기술에 따른 터치 패널의 메탈 메시(Metal Mesh) 전극의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2 및 도 3는 본 발명에 따른 제조공정 순서도 및 공정개념도를 도시한 것이다.
도 4은 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 투명전극 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5은 본 발명의 일실시예에 따른 클리체를 도시한 도면이다.
도 6는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 상의 전극 패턴부를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 투명전극 필름의 전극 패턴부의 투과율을 설명하기 위한 그래프이다.FIG. 1 is a view for explaining a method of manufacturing a metal mesh electrode of a touch panel according to the related art.
2 and 3 illustrate a manufacturing process flow chart and process conceptual diagram according to the present invention.
4 is a view for explaining a method of manufacturing a transparent electrode film of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a cliché according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing an electrode pattern portion on a substrate according to an embodiment of the present invention.
7 is a graph illustrating the transmittance of the electrode pattern portion of the transparent electrode film according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation according to the present invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals denote the same elements regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 발명은 터치패널용 감지전극 패턴을 구현함에 있어서, 기존의 ITO 필름 등의 소재를 적용하는 방식에서 나아가 직접 프린팅(Direct printing) 방식을 이용한 금속 전극패턴을 구현하여 제조 공정과 제조 비용을 최소화하여 터치 패널의 제품 원가를 줄일 수 있도록 하는 것을 요지로 한다.In the present invention, in realizing the sensing electrode pattern for the touch panel, the metal electrode pattern using the direct printing method is further realized by minimizing the manufacturing process and manufacturing cost by going beyond the conventional method of applying a material such as ITO film. It is an object of the present invention to reduce a product cost of a touch panel.

도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 제조공정 순서도 및 공정개념도를 도시한 것이다.2 and 3 show a manufacturing process flow chart and process conceptual diagram according to the present invention.

도시된 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 터치 패널의 투명전극 필름의 제조공정은 기판상에 흑화물질층을 형성하고, 상기 흑화물질층 상에 금속 전극패턴을 인쇄하고, 상기 금속전극패턴을 에칭배리어로 하여 투명기판을 노출시키는 공정을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 3, in the process of manufacturing a transparent electrode film of a touch panel according to the present invention, a blackening material layer is formed on a substrate, a metal electrode pattern is printed on the blackening material layer, and the metal It can comprise a process of exposing a transparent substrate using an electrode pattern as an etching barrier.

구체적으로는, 우선 글라스(Glass), 투명 필름(film), 폴리에틸렌 수지(polyethylene terephtalete, PET), PC(polycarbonate), PES(polyether sulfone), PI(polyimide), PMMA(PolyMethly MethaAcrylate) 등의 재질의 필름 재 등이 상기 기판(110)으로 적용될 수 있다.Specifically, glass, transparent film, polyethylene terephtalete (PET), PC (polycarbonate), PES (polyether sulfone), PI (polyimide), PMMA (PolyMethly MethaAcrylate), etc. Film ash or the like may be applied to the substrate 110.

상기 기판(110) 상에 흑화물질층(B)을 형성하는 공정이 수행된다. 상기 흑화물질층(B)라 함은 흑색의 금속산화물의 물질을 의미한다. 이를 테면, CuO, CrO, FeO, Ni₂O₃ 중 선택되는 어느 하나를 적용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 후술하는 금속전극패턴의 반사성을 억제할 수 있는 흑색계통의 물질을 적용할 수 있다. 상기 흑화물질층(B)을 상기 기판(110) 상에 적층하는 기술은 다양한 코팅방식을 적용할 수 있으나, 본 발명에서는 스퍼터링, evaporation 등 다양한 박막 증착법을 적용하여 증착하여 형성하는 방식을 일 실시예로 제시한다.A process of forming the blackening material layer B on the substrate 110 is performed. The blackening material layer (B) means a material of black metal oxide. For example, any one selected from CuO, CrO, FeO, Ni ₂ O ₃ may be applied, but the present invention is not limited thereto, and a black-based material capable of suppressing the reflectivity of the metal electrode pattern described below may be applied. have. The technique of laminating the blackening material layer (B) on the substrate 110 may be applied in various coating methods, but in the present invention, a method of depositing and forming by applying various thin film deposition methods, such as sputtering and evaporation, may be formed. To present.

이후, 상기 흑화물질층(B) 상면에 금속 전극패턴(120)을 인쇄하는 공정이 수행될 수 있다. 상기 금속 전극패턴(120)은 은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중 어느 하나의 물질이 사용하여 구현될 수 있으며, 금속 전극패턴(120)은 설계에 따라 다양하게 형성될 수 있으나, 본 발명에서는 메시(mesh) 형태로 패턴을 구현할 수 있다.Thereafter, a process of printing the metal electrode pattern 120 on the upper surface of the blackening material layer B may be performed. The metal electrode pattern 120 may be implemented using any one of silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al), and the metal electrode pattern 120 may be formed in various ways according to a design. However, in the present invention, a pattern may be implemented in a mesh form.

상기 금속 전극패턴(120)의 형성방법은 마스크를 이용한 증착법, 인쇄법 등 다양한 패턴 인쇄방식이 적용될 수 있으나, 바람직하게 본 발명에서는 역 오프셋(reverse offset) 인쇄 방식을 이용하여 기판 상에 전극 패턴부를 직접 인쇄하여 투명전극 필름을 제조할 수 있도록 한다.As the method of forming the metal electrode pattern 120, various pattern printing methods such as a deposition method and a printing method using a mask may be applied. Preferably, in the present invention, an electrode pattern part is formed on a substrate using a reverse offset printing method. Direct printing allows a transparent electrode film to be manufactured.

이후, 인쇄된 전극패턴(120)에 대하여 고온 소결공정이 추가될 수 있다. 이 경우 소결 공정의 온도는 80~300℃의 범위에서 시행될 수 있다.Thereafter, a high temperature sintering process may be added to the printed electrode pattern 120. In this case, the temperature of the sintering process may be carried out in the range of 80 ~ 300 ℃.

상기 소결공정은 전극패턴을 경화시키는 동시에 전극패턴과 흑화물질층과의 밀착력을 향상시키는 기능을 한다. 이 경우 상기 기판(110)이 글라스 기판이 아니라 필름타입의 기판인 경우에는 소결공정은 80~140℃에서 소결공정이 구현되도록 해, 열로 인한 필름의 변성을 막을 수 있도록 함이 바람직하다. 상술한 범위를 벗어나는 경우에는 필름의 열변성으로 인해 파손되게 되며, 80℃ 이하에서는 소결의 효과를 구현하기 어려워진다.The sintering process functions to harden the electrode pattern and to improve adhesion between the electrode pattern and the blackening material layer. In this case, when the substrate 110 is not a glass substrate but a film type substrate, the sintering process is preferably implemented at 80 to 140 ° C. to prevent the film from being denatured due to heat. If it is out of the above range will be damaged due to the thermal modification of the film, it becomes difficult to implement the effect of sintering at 80 ℃ or less.

이후, 상기 흑화물질층(B) 상에 적층되는 전극패턴의 구조가 구현되도록, 상기 흑화물질층을 선택적으로 식각하여 상기 전극패턴이 형성된 이외의 영역의 기판 영역을 노출시키는 공정이 구현될 수 있도록 한다. 이 경우 상기 전극패턴(120)은 에칭배리어로 작용해, 하부면의 흑화물질층이 식각되지 않도록 한다.Thereafter, a process of selectively etching the blackening material layer to expose a substrate region in a region other than the electrode pattern is formed so that the structure of the electrode pattern stacked on the blackening material layer B is realized. do. In this case, the electrode pattern 120 serves as an etching barrier so that the blackening material layer on the lower surface is not etched.

이후 완성되는 전극패턴은 상부에는 금속의 전극패턴이 형성되며, 그 하부에는 흑화물질층의 에칭된 패턴이 흑화패턴(B')이 적층되는 구조로 구현되게 된다.After the electrode pattern is completed, a metal electrode pattern is formed on the upper portion, and the etched pattern of the blackening material layer is implemented to have a structure in which the blackening pattern B 'is stacked.

이러한 구조의 전극패턴은 상술한 흑화패턴의 존재로 인해, 금속 전극패턴의 빛 반사 특성으로 인해 반사 가시광이 증가하는 문제를 일소하여 빛의 반사를 최소화하여 투명 전극의 광학적 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 구현된다.Due to the presence of the blackening pattern described above, the electrode pattern having the above-described blackening pattern eliminates the problem of increasing the reflected visible light due to the light reflection characteristic of the metal electrode pattern, thereby minimizing the reflection of light, thereby improving the optical characteristics of the transparent electrode. This is implemented.

나아가, 공정에서 금속 전극패턴을 에칭배리어(etching barrier)로 이용하여 흑화층의 패터닝 공정을 단순화시킴으로써, 제조원가를 절감할 수 있게 된다.
Further, by using a metal electrode pattern as an etching barrier in the process, by simplifying the patterning process of the blackening layer, it is possible to reduce the manufacturing cost.

이하에서는, 도 4를 참조하여 상술한 역 오프셋(reverse offset) 인쇄 방식을 설명하기로 한다.Hereinafter, the above-described reverse offset printing method will be described with reference to FIG. 4.

도 4를 참조하면, (a)에 도시된 것과 같이, 우선 블랭킷(Blanket: 210)에 잉크 형태의 금속 물질(220)을 코팅한다. 본 발명의 일실시예에 따르면 블랭킷(210)은 원통형의 블랭킷으로 구성되며, 기판(230) 상에 금속 물질로 이루어진 전극 패턴부(222)를 형성하기 위해 사용된다. 이때, 상기 잉크 형태의 금속 물질(220)로는 은(Ag), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al) 중 어느 하나의 물질이 사용된다.Referring to FIG. 4, as shown in (a), first, a blanket 210 is coated with a metal material 220 in an ink form. According to an embodiment of the present invention, the blanket 210 is formed of a cylindrical blanket and is used to form the electrode pattern portion 222 made of a metal material on the substrate 230. In this case, any one of silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al) may be used as the ink-like metal material 220.

이후, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 금속 물질(220)이 코팅된 블랭킷(210)을 클리체(200)에 회전하여 접촉하면 상기 블랭킷(210)의 표면에 금속 물질(222)이 남겨진다.Subsequently, as shown in FIG. 4B, when the blanket 210 coated with the metal material 220 contacts the cliché 200 by rotating the metal material 222 on the surface of the blanket 210. ) Is left.

보다 상세하게 설명하면, 블랭킷(210)을 회전하여 클리체(200)에 접촉하면, 상기 블랭킷(210)의 표면에 코팅되어 있던 금속 물질(222)이 클리체(200)의 표면에 옮겨져 부착되지만, 클리체(200)의 표면에는 음각 패턴(201)이 형성되어 있으므로, 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이 상기 블랭킷(210)의 표면에는 일부의 금속 물질(222)이 남겨진다.In more detail, when the blanket 210 is rotated to contact the cliché 200, the metal material 222 coated on the surface of the blanket 210 is transferred to and attached to the cliché 200. Since the intaglio pattern 201 is formed on the surface of the cliché 200, a portion of the metal material 222 is left on the surface of the blanket 210 as illustrated in FIG. 4C.

이때, 상기 클리체(200)의 표면의 음각 패턴(201)은 상면에서 바라보았을 때 메시(mesh)형태로 형성되며, 음각 패턴(201)의 선폭은 5㎛이하로 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the intaglio pattern 201 of the surface of the cliché 200 is formed in a mesh shape when viewed from the top, the line width of the intaglio pattern 201 is preferably formed to be 5㎛ or less.

이후, 도 4의 (d)에 도시된 바와 같이 블랭킷(210)을 기판(230) 상에서 회전하여 접촉되도록 하여, 블랭킷(210)의 표면에 존재하는 금속 물질(222)을 흑화물질층(B)가 형성된 상부면에 전사한다.Subsequently, as shown in FIG. 4D, the blanket 210 is rotated on the substrate 230 to be in contact with each other so that the metal material 222 existing on the surface of the blanket 210 is blackened. Is transferred to the upper surface formed.

상기와 같이 블랭킷(210)의 표면의 금속 물질(222)이 기판(230) 상의 흑화물질층(B)에 전사되면, 도 4의 (e)에 도시된 바와 같이 기판(230) 상에 전극 패턴부(222)가 형성되게 된다. 이후, 도 3에서 상술한 전극패턴을 에칭배리어로 하여 흑화물질층(B)을 선택적으로 에칭하여 본 발명에 따른 터치 패널의 투명전극 필름을 완성할 수 있게 된다.When the metal material 222 on the surface of the blanket 210 is transferred to the blackening material layer B on the substrate 230 as described above, the electrode pattern on the substrate 230 as shown in (e) of FIG. 4. The part 222 is formed. Thereafter, the blackening material layer B may be selectively etched using the electrode pattern described above in FIG. 3 as an etching barrier to complete the transparent electrode film of the touch panel according to the present invention.

도 5는 본 발명의 제조공정에 적용되는 클리체(인쇄판)를 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 상에 형성되는 전극 패턴부를 도시한 도면이다.5 is a view showing a cleavage (printing plate) applied to the manufacturing process of the present invention, Figure 6 is a view showing an electrode pattern portion formed on a substrate according to an embodiment of the present invention.

도 5 및 도 6을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 투명전극 필름의 구성을 보다 상세하게 설명하기로 한다.5 and 6 will be described in more detail the configuration of the transparent electrode film of the touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 3에서 상술한 본 발명에 따른 제조공정에 적용되는 전극패턴의 형성방법의 하나의 실시예에 역오프셋 공법에 적용되는 상기 클리체(200) 상에 음각 패턴(201)이 형성되며, 그에 따라 도 6에 도시된 바와 같이 기판(230) 상에 형성되는 전극 패턴부(222)는 상기 클리체(200)의 음각 패턴(201)에 대응되는 형태로 형성된다. 본 발명의 실시예를 들자면, 상술한 상기 클리체(200)의 표면의 음각 패턴(201)이 선폭은 5㎛의 메시 형태로 형성되면, 기판(230) 상에 형성되는 전극 패턴부(222)도 마찬가지로 선폭 5㎛의 메시 형태로 형성시킬 수 있다.An intaglio pattern 201 is formed on the cliché 200 which is applied to the reverse offset method in one embodiment of the method of forming an electrode pattern applied to the manufacturing process according to the present invention described above with reference to FIG. As shown in FIG. 6, the electrode pattern part 222 formed on the substrate 230 is formed in a shape corresponding to the intaglio pattern 201 of the cliché 200. For example, when the intaglio pattern 201 of the surface of the cliché 200 is formed in a mesh shape having a line width of 5 μm, the electrode pattern part 222 is formed on the substrate 230. Similarly, it can be formed in the form of a mesh having a line width of 5 μm.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 투명전극 필름의 전극 패턴부의 투과율을 설명하기 위한 그래프이다. 도 7에 도시된 투과율 그래프에서 가로축은 파장의 길이이며, 세로축은 투과율이다.7 is a graph illustrating the transmittance of the electrode pattern portion of the transparent electrode film according to an embodiment of the present invention. In the transmittance graph shown in FIG. 7, the horizontal axis represents the length of the wavelength and the vertical axis represents the transmittance.

도 7에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 전극 패턴부(222)가 은(Ag)을 재료로하여 메시 형태로 형성되는 경우에는, 380nm 내지 780nm 사이의 가시광 영역에서 약 90%의 투과율을 보이므로 투명전극 필름으로서 사용할 수 있음을 알 수 있다.As shown in FIG. 7, when the electrode pattern portion 222 according to the present invention is formed in a mesh form using silver (Ag), the transmittance of about 90% is shown in the visible light region between 380 nm and 780 nm. It can be seen that it can be used as a transparent electrode film.

그러므로, 본 발명에 따르면 터치 패널의 투명전극 필름의 제조 시에 역 오프셋(reverse off set)방식을 사용하여 전극 패턴을 메시 형태로 직접 인쇄함으로써, 그 제조 공정과 제조 비용을 최소화하여 터치 패널의 제품 원가를 줄일 수 있다. 특히, 전극패턴의 하부 면에는 본 발명에 따른 흑화물질층을 패터닝한 흑화패턴이 구현되는 경우에는 금속의 전극패턴의 반사특성으로 인해 가시성이 증가하게 되는 문제를 해소할 수 있게 된다.Therefore, according to the present invention, by directly printing the electrode pattern in the form of a mesh using a reverse off method in the manufacture of the transparent electrode film of the touch panel, the manufacturing process and manufacturing cost of the touch panel is minimized The cost can be reduced. In particular, when the blackening pattern in which the blackening material layer is patterned according to the present invention is implemented on the lower surface of the electrode pattern, it is possible to solve the problem of increased visibility due to the reflective characteristics of the electrode pattern of the metal.

전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.In the foregoing detailed description of the present invention, specific examples have been described. However, various modifications are possible within the scope of the present invention. The technical idea of the present invention should not be limited to the embodiments of the present invention but should be determined by the equivalents of the claims and the claims.

110: 기판
120: 전극패턴
B: 흑화물질층
B': 흑화패턴
200: 클리체
201: 음각 패턴
210: 블랭킷
220, 221: 금속 물질
222: 금속 물질, 전극 패턴부
230: 기판110: substrate
120: electrode pattern
B: blackening material layer
B ': Blackening pattern
200: Cliché
201: engraved pattern
210: Blanket
220, 221: metallic material
222: metal material, electrode pattern portion
230: substrate

Claims

Board; And
A blackening pattern portion formed of a blackening pattern implemented on the surface of the substrate; And
An electrode pattern portion formed of an electrode pattern formed of a metal material directly on the blackening pattern;
Transparent electrode film of the touch panel comprising a.

The method according to claim 1,
The blackening pattern is,
The transparent electrode film of the touch panel which is a pattern of the structure which forms the exposed surface of the said board | substrate of the part in which the blackening pattern is not formed.

The method according to claim 2,
The blackening pattern is,
Transparent electrode film of a touch panel implemented with a black metal oxide.

The method according to claim 3,
The metal oxide is,
Transparent electrode film of a touch panel which is any one selected from CuO, CrO, FeO, Ni ₂ O ₃ .

The method according to claim 1,
The metal material forming the electrode pattern portion,
The transparent electrode film of the touch panel which is any one of silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al).

The method according to claim 1,
The electrode pattern portion,
Transparent electrode film of a touch panel composed of a mesh (mesh) form.

A touch panel comprising the transparent electrode film of any one of claims 1 to 6.

Forming a blackening material layer on the substrate,
Printing a metal electrode pattern on the blackening material layer;
Exposing a transparent substrate using the metal electrode pattern as an etching barrier;
Method of manufacturing a transparent electrode film of the touch panel.

The method according to claim 8,
Forming the blackening material layer,
A method of manufacturing a transparent electrode film of a touch panel, which is a step of forming a black metal oxide layer on the substrate.

The method according to claim 8,
Forming the blackening material layer,
Method of manufacturing a transparent electrode film of a touch panel which is a process for depositing any one material selected from CuO, CrO, FeO, Ni ₂ O ₃ on the substrate.

The method according to claim 8,
Printing a metal electrode pattern on the blackening material layer,
Coating a metallic material on the surface of the blanket,
Contacting the blanket with a printing plate to leave an electrode pattern portion made of the metal material on a surface of the blanket,
The manufacturing method of the transparent electrode film of the touch panel implemented by the process of transferring the electrode pattern portion of the surface of the blanket on a substrate.

The method according to claim 8,
Printing a metal electrode pattern on the blackening material layer,
A method of manufacturing a transparent electrode film of a touch panel in which a high temperature sintering process is added to a printed electrode pattern.

The method according to claim 8,
Printing a metal electrode pattern on the blackening material layer,
The substrate is implemented as a film,
Sintering process is a method of manufacturing a transparent electrode film of the touch panel is a sintering process is implemented at 80 ℃ ~ 140 ℃.

The method according to claim 8,
The step of exposing the transparent substrate using the metal electrode pattern as an etching barrier,
In order to implement a structure of an electrode pattern stacked on the blackening material layer,
Selectively etching the blackening material layer to expose a substrate region in a region other than the electrode pattern on which the blackening material layer is formed.