KR20100067973A - A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 상기 조성물로 형성된 화소를 포함하는 컬러필터, 상기 컬러필터를 구비한 액정표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter comprising a pixel formed of the composition, and a liquid crystal display device having the color filter.
컬러필터는 촬상소자, 액정표시장치(LCD) 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 컬러 액정표시장치 등에 사용되는 컬러필터는 통상 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅에 의해 균일하게 도포한 후, 가열 건조(이하, 예비 소성이라고 하는 경우도 있음)하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 가열 경화(이하, 후 소성이라고 하는 경우도 있음)하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조되고 있다. Color filters are widely used in imaging devices, liquid crystal displays (LCDs), and the like, and their application ranges are rapidly expanding. The color filter used for a color liquid crystal display device etc. is normally heated after uniformly applying the coloring photosensitive resin composition containing the pigment corresponding to each color of red, green, and blue on a board | substrate with a black matrix by spin coating, and then heating. The coating film formed by drying (hereinafter sometimes referred to as preliminary firing) is exposed and developed, and if necessary, heat-hardening (hereinafter sometimes referred to as postfiring) is repeated for each color to perform pixels of each color. It is manufactured by forming.
따라서, 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여, 컬러필터를 제조하고, 이를 액정표시장치에 적용하기 위해서는 많은 약품에 노출된다. 근래에는 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상 컬러필터를 형성하는 이외에 스위칭 소자가 형성되어 있는 박막트랜지스터소자(Thin Film Transistor: 이하 TFT라 칭함)가 형성된 기판(이하, TFT 기판으로 칭함)에 직접 컬러필터를 형성하는 등, 이전보다 가혹한 환경에 노출되는 경우가 빈번해졌다. 이와 같이, 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터는 내화학성이 요구된다. Therefore, in order to manufacture a color filter using a coloring photosensitive resin composition and apply it to a liquid crystal display device, it exposes to many chemical | medical agents. Recently, in addition to forming a color filter on a substrate on which a black matrix is patterned, a color filter is directly applied to a substrate (hereinafter referred to as a TFT substrate) on which a thin film transistor element (hereinafter referred to as TFT) on which a switching element is formed is formed. More often than ever before. Thus, the color filter manufactured from the coloring photosensitive resin composition requires chemical resistance.
종래에서, 내화학성의 향상을 위한 방법으로 한국등록특허 10-0359218에 에폭시화물을 포함하는 것이 기재되어 있다. 이러한 에폭시화물을 이용함으로써 내화학성은 개선되지만, 충분한 내화학성 효과를 위해 과량 사용시 황변 현상이 발생하고, 점진적인 경화반응에 의해 저장 안정성에 좋지 않은 문제가 있다. 또한, 현상성의 저하를 야기할 수도 있다. In the related art, Korean Patent No. 10-0359218 discloses the inclusion of an epoxide as a method for improving chemical resistance. Chemical resistance is improved by using such an epoxide, but a yellowing phenomenon occurs when used in excess for sufficient chemical resistance effect, and there is a problem in storage stability due to gradual curing reaction. It may also cause deterioration of developability.
본 발명은 저장 안정성 및 현상성이 우수하고, 컬러필터 형성시에 우수한 내화학성을 나타내는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of this invention is to provide the coloring photosensitive resin composition which is excellent in storage stability and developability, and shows the outstanding chemical resistance at the time of color filter formation.
또한 본 발명은, 상기 조성물로 형성된 고품질의 컬러필터를 제공하는데 다른 목적이 있다. It is another object of the present invention to provide a high quality color filter formed of the composition.
또한 본 발명은, 상기 컬러필터를 구비한 액정표시장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having the color filter.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, (A)바인더 수지; (B)광중합성 화합물; (C)광중합 개시제; (D)착색 재료; (E)용제; 및 (F)블록 이소시아네이트 화합물을 포함하며, 상기 (A)바인더 수지는 히드록실기를 포함하고, 상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물은 상기 바인더 수지의 히드록실기에 대한 이소시아네이트의 당량비(NCO/OH)로 0.5 내지 2.2의 범위로 포함되는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. The present invention to achieve the above object, (A) binder resin; (B) photopolymerizable compound; (C) photoinitiator; (D) coloring materials; (E) solvents; And (F) a block isocyanate compound, wherein the (A) binder resin includes a hydroxyl group, and the (F) block isocyanate compound has an equivalent ratio of isocyanate to a hydroxyl group of the binder resin (NCO / OH). It provides a colored photosensitive resin composition characterized in that it is included in the range of 0.5 to 2.2.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상기의 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 화소를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터를 제공한다.In order to achieve the another object of this invention, this invention provides the color filter characterized by including the pixel formed using the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention mentioned above.
본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상기 컬러필터를 구비한 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the another object of the present invention, the present invention provides a liquid crystal display device comprising the above-mentioned color filter.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 상온에서 안정하고, 현상 공정시 현상성에 영향을 주지 않으며, 황변이 없고, 후 소성시 바인더 수지와 블록 이소시아네이트 화합물의 우레탄 결합에 의해 우수한 내화학성을 나타내는 효과를 갖는다.The coloring photosensitive resin composition of this invention is stable at normal temperature, does not affect developability at the time of a developing process, has no yellowing, and has the effect which shows the outstanding chemical resistance by the urethane bond of binder resin and a block isocyanate compound at the time of post-firing.
또한, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성되는 화소를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 액정표시장치도 고품질을 나타내는 효과를 갖는다.In addition, a color filter including a pixel formed using the colored photosensitive resin composition of the present invention and a liquid crystal display including the same also have an effect of showing high quality.
본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은, (A)바인더 수지; (B)광중합성 화합물; (C)광중합 개시제; (D)착색 재료; (E)용제; 및 (F)블록 이소시아네이트 화합물을 포함한다. The coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention is (A) binder resin; (B) photopolymerizable compound; (C) photoinitiator; (D) coloring materials; (E) solvents; And (F) block isocyanate compounds.
(A)바인더 수지 (A) binder resin
바인더 수지는 통상 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색 재료의 분산매로서 작용한다. 본 발명에 따른 상기 바인더 수지는 히드록실기를 포함하며, 특히 1 분자 중에 불포화 2중 결합을 포함하는 중합체인 것이 바람직하다. The binder resin usually has reactivity and alkali solubility due to the action of light or heat and acts as a dispersion medium of the coloring material. The binder resin according to the present invention preferably contains a hydroxyl group, and particularly preferably a polymer containing an unsaturated double bond in one molecule.
더욱 바람직하게는 상기 바인더 수지가 히드록실기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a1), 카르복실산기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a2) 및 (a1) 및 (a2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(a3)을 공중합하여 얻어지는 공중합체, 또는 (a1) 내지 (a3)를 공중합하여 얻어지는 공중합체에 에폭시기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a4)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체로 함으로써, 바인더 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있다. 필요에 따라서는 상기 (a1) 내지 (a3)의 화합물 이외에 다른 단량체가 더 포함되어 공중합될 수도 있다. 상기 공중합체는 가교밀도 및 현상성이 우수해진다. More preferably, the binder resin has a compound (a1) having a hydroxyl group and an unsaturated bond, a compound having a carboxylic acid group and an unsaturated bond (a2) and a compound having an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a2) Binder by making the copolymer obtained by copolymerizing (a3) or the copolymer containing (a1)-the copolymer obtained by copolymerizing (a3) to the copolymer containing the unsaturated group obtained by making the compound (a4) which has an epoxy group and an unsaturated bond further react. Light / thermosetting can be provided to resin. If necessary, in addition to the compounds of (a1) to (a3), other monomers may be further included and copolymerized. The copolymer is excellent in crosslinking density and developability.
(a1) 히드록실기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a1) a compound having a hydroxyl group and an unsaturated bond
히드록실기 및 불포화 결합을 갖는 화합물로는, 예를 들면, 분자 중에 히드록실기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 이러한 화합물로는, 예를 들면, 히드록시(메타)아크릴레이트, 이것의 카프로락톤 부가물 또는 산화 알킬렌 부가물, 글리세린 등의 다가의 알코올과 (메타)아크릴산과의 에스테르 화합물, 및 글리시딜(메타)아릴레이트아크릴산 부가물을 들 수 있으며, 이들 중에서 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다. 히드록시(메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들의 카프로락톤 부가물로서는, 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트ㆍ카프로락톤 부가물을 들 수 있고, 산화알킬렌 부가물로서는, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ산화알킬렌 부가물, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트ㆍ산화프로필렌 부가물, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ산화부틸렌 부가물을 들 수 있다. 에스테르 화합물로는, 예를 들면, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 메티롤프로판모노(메타)아크릴레이트, 디트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판의 산화에틸렌 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판의 산화프로필렌 부가물의 디(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.As a compound which has a hydroxyl group and an unsaturated bond, the compound which has a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group in a molecule | numerator is mentioned, for example. As such a compound, For example, ester compound of polyhydric alcohols, such as hydroxy (meth) acrylate, its caprolactone adduct or alkylene oxide adduct, and glycerin, and (meth) acrylic acid, and glycidyl (Meth) arylate acrylic acid adducts, and at least one selected from these can be used. As hydroxy (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate are mentioned, for example. As these caprolactone addition products, hydroxyethyl (meth) acrylate caprolactone addition product, hydroxypropyl (meth) acrylate caprolactone addition product, hydroxybutyl (meth) acrylate capro, for example And lactone adducts. Examples of the alkylene oxide adduct include hydroxyethyl (meth) acrylate and alkylene oxide adducts, hydroxypropyl (meth) acrylate and propylene oxide adducts, and hydroxyethyl (meth). And acrylate butylene oxide adducts. As an ester compound, For example, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, and methirol propane mono (meth) The di (meth) acrylate of the ethylene oxide addition product of an acrylate, a ditrimetholpropane tri (meth) acrylate, and a trimetholpropane, and the di (meth) acrylate of the propylene oxide addition product of a trimetholpropane are mentioned. have. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
(a2) 카르복실산기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a2) Compound having a carboxylic acid group and an unsaturated bond
카르복실산기 및 불포화 결합을 갖는 화합물은 특별히 제한되지 않으며, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 이의 구체적인 예로 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 및 상기 디카르복실산의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등과 같이 양 말단에 카르복실기와 히드록실기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 상기 화합물 중 아크릴산, 메타크릴산이 공중합 반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하므로 바람직하다.The compound having a carboxylic acid group and an unsaturated bond is not particularly limited, and may be used alone or in combination of two or more. Specific examples thereof include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid; Dicarboxylic acids such as fumaric acid, mesaconic acid and itaconic acid; And anhydrides of the dicarboxylic acids; and mono (meth) acrylates of polymers having carboxyl groups and hydroxyl groups at both ends thereof, such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Acrylic acid and methacrylic acid among the compounds are preferred because of their excellent copolymerization reactivity and solubility in a developing solution.
(a3) (a1) 및 (a2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물(a3) Compounds having unsaturated bonds copolymerizable with (a1) and (a2)
(a1) 및 (a2)와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물은, 상기 (a1) 및 (a2)화합물과 중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물이라면 제한되지 않는다. 이의 구체적인 예로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합 물; 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-2-메틸옥세탄, 3-((메타)아크릴로일옥시메틸)-2-트리플로로메틸옥세탄 등의 열경화 가능한 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 올리고에틸렌글리콜모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산 에스테르 화합물, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 스티렌, 비닐톨루엔 α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 감도 향상 및 아웃가스 감량을 위해서 방향족 비닐화합물이 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.The compound having an unsaturated bond copolymerizable with (a1) and (a2) is not limited as long as it is a compound having an unsaturated bond capable of polymerization with the compounds (a1) and (a2). Specific examples thereof include unsaturated carboxylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and aminoethyl (meth) acrylate. Unsubstituted or substituted alkyl ester compound of; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclophene Tenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylic Unsaturated carboxylic acid ester compound containing alicyclic substituents, such as late, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, and pineneyl (meth) acrylate ; 3-((meth) acryloyloxymethyl) oxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3-((meth) acryloyloxymethyl) -2-methyl Unsaturated carboxylic ester compounds containing thermosetting substituents such as oxetane and 3-((meth) acryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyloxetane; Unsaturated carboxyl containing substituents having aromatic rings, such as monosaturated carboxylic acid ester compounds of glycols, such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and phenoxy (meth) acrylate Acid ester compounds; Carboxylic acid vinyl esters, such as aromatic vinyl compounds, such as styrene and vinyltoluene (alpha) -methylstyrene, vinyl acetate, and a vinyl propionate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth) acrylonitrile and the (alpha)-chloro acrylonitrile, etc. are mentioned. Among these, aromatic vinyl compounds are preferred for improving sensitivity and reducing outgassing. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
(a4) 에폭시기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a4) Compound having an epoxy group and an unsaturated bond
(a1) 내지 (a3)를 공중합하여 얻어지는 공중합체에 추가로 반응시켜 바인더 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있는 에폭시기 및 불포화 결합을 갖는 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 광/열경화성을 부여하는 화합물(a4)의 구체적인 예로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.Compounds having an epoxy group and an unsaturated bond that can further react with a copolymer obtained by copolymerizing (a1) to (a3) to impart photo / thermosetting properties to the binder resin can be preferably used. Specific examples of the compound (a4) imparting the photo / thermosetting property include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate And methylglycidyl (meth) acrylate. Among these, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
본 명세서에서 (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 및(또는) 메타크릴레이트 를 의미한다.As used herein, (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.
본 발명에 따른 (A)바인더 수지가 전술한 바와 같이 공중합체가 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체, 또는 (a1) 내지 (a3)를 공중합하여 얻어지는 공중합체에 에폭시기 및 불포화 결합을 갖는 화합물(a4)을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체일 경우, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 단량체로 공중합하여 얻어지는 공중합체는, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물 각각으로부터 유도되는 구성 단위의 비율이 상기 공중합체를 구성하는 구성 단위들의 총 몰수에 대하여 몰 분율로 하기의 범위인 것이 바람직하다. 이때, 상기 공중합체에 상기 (a1) 내지 (a3)화합물 외에 다른 단량체가 더 포함되어 공중합될 수도 있다.As described above, the binder resin (A) according to the present invention has an epoxy group and a copolymer obtained by copolymerizing the above-mentioned compounds (a1) to (a3) or a copolymer obtained by copolymerizing (a1) to (a3). In the case of a copolymer containing an unsaturated group obtained by further reacting a compound (a4) having an unsaturated bond, the copolymer obtained by copolymerizing the compounds (a1) to (a3) with a monomer is the compound (a1) to (a3). It is preferable that the ratio of the structural unit derived from each is the following range in mole fraction with respect to the total mole of the structural units which comprise the said copolymer. In this case, in addition to the compounds (a1) to (a3), the copolymer may further include other monomers.
상기 (a1) 내지 (a3) 각각으로부터 유도되는 구성 성분의 비율이 상기 공중합체 구성 성분의 합계 몰수에 대하여, The ratio of the constituents derived from each of the above (a1) to (a3) is based on the total moles of the copolymer constituents,
상기 (a1)화합물로부터 유도되는 구성단위 2 내지 60몰%, 2 to 60 mol% of structural units derived from the compound (a1),
상기 (a2)화합물로부터 유도되는 구성단위 2 내지 70몰%, 2 to 70 mol% of structural units derived from the compound (a2),
상기 (a3)화합물로부터 유도되는 구성단위 2 내지 95몰%이고, 2 to 95 mol% of structural units derived from the compound (a3),
특히, 상기의 구성 단위의 비율이 이하의 범위인 것이 더 바람직하다.In particular, it is more preferable that the ratio of said structural unit is the following ranges.
상기 (a1)화합물로부터 유도되는 구성 단위 10 내지 50몰%, 10 to 50 mol% of structural units derived from the compound (a1),
상기 (a2)화합물로부터 유도되는 구성 단위 5 내지 65몰%, 5 to 65 mol% of structural units derived from the compound (a2),
상기 (a3)화합물로부터 유도되는 구성 단위 5 내지 80몰%5 to 80 mol% of structural units derived from the compound (a3)
상기의 구성 비율이 상기 범위를 만족하면 현상성, 가용성 및 내열성의 균형 이 양호하므로 보다 바람직한 공중합체를 얻을 수 있다.When the above-mentioned composition ratio satisfies the above range, the balance of developability, solubility and heat resistance is good, and thus a more preferable copolymer can be obtained.
상기 (a4)화합물은 상기 (a2)화합물로부터 유도되는 구성단위의 총 몰수에 대하여 5 내지 80몰%로 반응시키는 것이 바람직하며, 특히 10 내지 80몰%가 바람직하다. 상기 (a4)화합물이 상기 범위 내에 있으면 감도 및 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.The compound (a4) is preferably reacted at 5 to 80 mol%, particularly preferably 10 to 80 mol%, based on the total moles of the structural units derived from the compound (a2). When the said (a4) compound exists in the said range, since it is excellent in a sensitivity and developability, it is preferable.
상기 (A)바인더 수지가 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체, 또는 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 상기 (a4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체인 경우의 제조방법의 일례는 하기와 같다.Unsaturation obtained by further reacting the compound (a4) with the copolymer obtained by copolymerizing the compound (a) to (a3) or the copolymer (a1) to the compound (a3). An example of the manufacturing method in the case of the copolymer containing group is as follows.
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 상기 (a1) 내지 (a3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.5 내지 20배의 용매를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 치환한다. 그 후, 용매를 40 내지 140℃로 승온시킨 후, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물의 소정량, 상기 (a1) 내지 (a3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0 내지 20배의 용매, 및 아조비스이소부티로니트릴이나 벤조일퍼옥시드 등의 중합 개시제를 상기 (a1) 내지 (a3)화합물의 총 몰수에 대하여 0.1 내지 10몰% 첨가한 용액(실온 또는 가열하에 교반 용해)을 적하로트로부터 0.1 내지 8시간에 걸쳐 상기의 플라스크에 적하하고, 40 내지 140℃에서 1 내지 10시간 더 교반한다.To the flask equipped with the stirrer, the thermometer, the reflux cooling tube, the dropping lot and the nitrogen introduction tube, 0.5 to 20 times the solvent was introduced on a mass basis with respect to the total amount of (a1) to (a3), and the atmosphere in the flask was purged with nitrogen in air. Replace with. Then, after heating a solvent to 40-140 degreeC, the solvent of 0-20 times on a mass basis with respect to the predetermined amount of said (a1)-(a3) compound, the total amount of said (a1)-(a3), and A solution obtained by adding 0.1 to 10 mol% of a polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile or benzoyl peroxide with respect to the total number of moles of the compounds (a1) to (a3) (agitated and dissolved at room temperature or under heating) was added from the dropping lot. It is dripped at the said flask over 8 hours, and it stirred at 40-140 degreeC for 1 to 10 hours further.
여기서, 상기의 공정에서 중합개시제의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있고, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물의 일부 또는 전량을 플라스크에 넣을 수도 있다. 또한, 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물을 연쇄 이동제로서 사용할 수도 있다. α-메틸스티렌 다이머 또는 머캅토 화합물의 사용량은 상기 (a1) 내지 (a3)의 합계량에 대하여 질량 기준으로 0.005 내지 5%이다. 또한, 상기의 중합 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.In this process, part or all of the polymerization initiator may be put in the flask, or part or all of the compounds (a1) to (a3) may be put in the flask. Moreover, in order to control molecular weight or molecular weight distribution, (alpha) -methylstyrene dimer or a mercapto compound can also be used as a chain transfer agent. The use amount of the α-methylstyrene dimer or mercapto compound is 0.005 to 5% by mass based on the total amount of the above (a1) to (a3). In addition, the said polymerization conditions can also adjust an input method and reaction temperature suitably in consideration of the amount of heat generation by a manufacturing facility, superposition | polymerization, etc ..
이와 같이 함으로써, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체를 제조한다.By doing in this way, the copolymer obtained by copolymerizing the said (a1)-(a3) compound is manufactured.
이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체 중의 (a2)화합물로부터 유도되는 구성 단위에 대하여 몰분율로 5 내지 80몰%의 (a4)화합물, 카르복실기와 에폭시기의 반응 촉매로서, 예를 들면 트리스디메틸아미노메틸페놀을 (a1) 내지 (a4)화합물의 총 질량에 대하여 0.01 내지 5% 및 중합금지제로서, 예를 들면 히드로퀴논을 (a1) 내지 (a4)화합물의 총 질량에 대하여 0.001 내지 5%를 플라스크 내에 넣고 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 반응시킨다.Subsequently, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen from air, and the molar fraction of the structural unit derived from the compound (a2) in the copolymer obtained by copolymerizing the compounds (a1) to (a3) was 5 to 80 mol% (a4). As a reaction catalyst of a compound, a carboxyl group and an epoxy group, for example, trisdimethylaminomethylphenol is 0.01 to 5% relative to the total mass of the compounds (a1) to (a4) and a polymerization inhibitor, for example, hydroquinone (a1). 0.001 to 5% of the total mass of the compound (a) to (a4) is placed in a flask and reacted at 60 to 130 ° C. for 1 to 10 hours.
이때, 중합 조건과 마찬가지로 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 투입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수도 있다.At this time, in the same manner as the polymerization conditions, the addition method and the reaction temperature may be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production equipment, polymerization, and the like.
이로써, 상기 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체, 또는 (a1) 내지 (a3)화합물을 공중합하여 얻어지는 공중합체에 상기 (a4)화합물을 더 반응시켜 얻어지는 불포화기를 포함하는 공중합체인 (A)바인더 수지를 제조한다. 상 기 (A)바인더 수지는 폴리스티렌으로 환산되어 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 중량평균분자량이 상술한 범위를 만족하면, 현상시에 막 감소가 생기기 어렵고, 현상시에 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.Thereby, it is a copolymer containing the unsaturated group obtained by making the said (a4) compound further react with the copolymer obtained by copolymerizing the said (a1)-(a3) compound, or the copolymer obtained by copolymerizing the (a1)-(a3) compound. (A) A binder resin is produced. The binder resin (A) preferably has a weight average molecular weight in the range of 3,000 to 100,000, more preferably in the range of 5,000 to 50,000, as converted into polystyrene and measured by gel permeation chromatography. When the weight average molecular weight satisfies the above-mentioned range, film reduction is unlikely to occur at the time of development, and it is preferable because the missing property of the non-pixel portion at the time of development tends to be good.
이때, 본 발명에 따르면 상기 본 발명에 따른 (A)바인더 수지의 산가는 고형분 기준으로 30 내지 150mgKOH/g의 범위가 바람직하다. 산가가 30mgKOH/g 미만일 경우 알칼리수에 대한 현상성이 낮아지고 기판에 잔사를 남길 우려가 있으며, 산가가 150mgKOH/g을 초과하는 경우에는 패턴의 탈착이 일어날 가능성이 높아진다.At this time, according to the present invention, the acid value of the binder resin (A) according to the present invention is preferably in the range of 30 to 150 mgKOH / g based on solid content. If the acid value is less than 30 mgKOH / g, there is a possibility that the developability to the alkaline water is lowered, leaving a residue on the substrate, and if the acid value exceeds 150 mgKOH / g, the possibility of desorption of the pattern is increased.
상기 (A)바인더 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/ 수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포가 1.5 내지 6.0 이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.It is preferable that it is 1.5-6.0, and, as for the molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of the said (A) binder resin, it is more preferable that it is 1.8-4.0. If the molecular weight distribution is 1.5 to 6.0, it is preferable because it is excellent in developability.
상기 (A)바인더 수지의 포함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 5 내지 85질량%, 바람직하게는 10 내지 70질량%의 범위이다. 상기 (A)바인더 수지의 포함량이 5 내지 85질량%이면 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.The content of the binder resin (A) is in the range of 5 to 85% by mass, preferably 10 to 70% by mass, with respect to the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content of the binder resin (A) is 5 to 85% by mass, the solubility in the developing solution is sufficient, and development residues are less likely to occur on the substrate of the non-pixel portion. It is preferable because the omission of the pixel portion tends to be good.
(B) 광중합성 화합물(B) photopolymerizable compound
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 (B)광중합성 화합물은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. The (B) photopolymerizable compound contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is a compound which can superpose | polymerize by the action | action of light and the photoinitiator mentioned later, A monofunctional monomer, a bifunctional monomer, another polyfunctional monomer, etc. are mentioned. have.
단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and N-vinylpyrroli Money, etc.
2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, etc. are mentioned.
그 밖의 다관능 단량체의 구체예로는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaeryte. Lithitol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.
이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. 특히 바람직하게는 5관능 이상의 다관능 단량체가 사용될 수 있다.Of these, bifunctional or higher polyfunctional monomers are preferably used. Particularly preferably polyfunctional monomers of at least 5 functional groups can be used.
상기 (B)광중합성 화합물은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 5 내지 50질량%이고, 바람직하게는 7 내지 45질량%의 범위에서 사용된다. (B)광중합성 화합물이 상기의 기준으로 5 내지 50질량%의 범위이면 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The said (B) photopolymerizable compound is 5-50 mass% in mass fraction with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is used in the range of 7-45 mass%. Since the intensity | strength and smoothness of a pixel part tend to become favorable when the (B) photopolymerizable compound is the range of 5-50 mass% on the said reference | standard, it is preferable.
(C) 광중합 개시제(C) photopolymerization initiator
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 (C)광중합 개시제는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 상기한 (C)광중합 개시제를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 막은 그 화소부의 강도나 표면 평활성이 양호해진다. Although the (C) photoinitiator contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is not restrict | limited, It is preferable to use at least 1 compound chosen from the group which consists of a triazine type compound, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, and an oxime compound. desirable. The colored photosensitive resin composition containing the above-mentioned (C) photoinitiator is high sensitivity, and the film | membrane formed using this composition becomes favorable the intensity | strength and surface smoothness of the pixel part.
트리아진계 화합물로는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. As a triazine type compound, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1, 3, 5- triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl)-, for example 6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2 -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-tri Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.
아세토페논계 화합물로는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. As an acetophenone type compound, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2 -Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1- On, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] And oligomers of propane-1-one.
또한, 상기 아세토페논계 화합물은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the said acetophenone type compound contains the compound represented by following formula (1).
상기 식에서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기를 나타낸다. Wherein R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or It represents the naphthyl group unsubstituted or substituted by the C1-C12 alkyl group.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 구체예로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모 르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the compound represented by Formula 1 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane- 1-one, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl- 2-amino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholin Nophenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propane-1 -One, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, etc. are mentioned. Can be.
비이미다졸 화합물로는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라 페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다.As a biimidazole compound, it is 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis (2,3-, for example). Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimi Dazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, and a phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is carbo The imidazole compound substituted with the alkoxy group etc. are mentioned. Among these, 2,2'bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra phenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.
옥심 화합물로는 하기의 화학식 2, 3, 4로 표현되는 화합물 등을 들 수 있다. As an oxime compound, the compound etc. which are represented by following General formula (2), 3, 4 are mentioned.
상술한 광중합 개시제 이외에 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 그 밖의 광중합 개시제로는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. As long as it does not impair the effect of this invention other than the photoinitiator mentioned above, other photoinitiators etc. which are normally used in this field can also be used together. As another photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, an anthracene type compound etc. are mentioned, for example. These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.
벤조인계 화합물로는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. As a benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. are mentioned, for example.
벤조페논계 화합물로는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. As a benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl 0- benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, 4-benzoyl-4'- methyl diphenyl sulfide, 3, 3 ', 4, 4'- tetra ( tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned.
티오크산톤계 화합물로는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. As a thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro-4- propoxy thioxanthone, etc. are mentioned, for example. Can be mentioned.
안트라센계 화합물로는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10- 디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. Can be mentioned.
그 밖의 광중합 개시제로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. Other photopolymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone and camphorquinone. And methyl phenyloxyoxylate, titanocene compound, and the like.
본 발명에 따르면 상기 (C)광중합 개시제는 광중합 개시 보조제를 병용하여 사용할 수 있으며, 이들을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다. According to the present invention, the photopolymerization initiator (C) may be used in combination with a photopolymerization initiation aid, and the colored photosensitive resin composition containing these is more sensitive, and thus the productivity at the time of forming a color filter using the composition is preferable. Do.
상기 (C)광중합 개시제에 조합하여 사용할 수 있는 광중합 개시 보조제로는 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. As the photopolymerization initiation assistant that can be used in combination with the (C) photopolymerization initiator, one or more compounds selected from the group consisting of amine compounds and carboxylic acid compounds can be preferably used.
광중합 개시 보조제 중 아민 화합물의 구체예로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'- 비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 : 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다. Specific examples of the amine compound in the photopolymerization initiation aid include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine; 4-Dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4 Aromatic amine compounds, such as' -bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone) and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, are mentioned. As an amine compound, an aromatic amine compound is used preferably.
광중합 개시 보조제 중 카르복실산 화합물의 구체예로는 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. Specific examples of the carboxylic acid compound in the photopolymerization initiation aid include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chloro And aromatic heteroacetic acids such as phenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에서 (C)광중합 개시제의 함량은 고형분을 기준으로 (A)바인더 수지 및 (B)광중합성 화합물의 합계량에 대해서 질량분율로 0.1 내지 40질량%, 바람직하게는 1 내지 30질량%이다. 또한, 광중합 개시 보조제의 함량은 고형분을 기준으로 (A)바인더 수지 및 (B)광중합성 화합물의 합계량에 대해서 질량분율로 0.1 내지 50질량%, 바람직하게는 1 내지 40질량%이다. (C)광중합 개시제의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화 되어 이 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도나, 이 화소부의 표면에서의 평활성이 양호하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또한, 광중합 개시 보조제의 사용량이 상기의 범위에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.The content of the (C) photoinitiator in the colored photosensitive resin composition of the present invention is 0.1 to 40% by mass, preferably 1 to 1, based on the solids, based on the total amount of the (A) binder resin and (B) the photopolymerizable compound. 30 mass%. The content of the photopolymerization initiation aid is 0.1 to 50% by mass, preferably 1 to 40% by mass, based on the solids content, based on the total amount of the (A) binder resin and the (B) photopolymerizable compound. (C) When the usage-amount of a photoinitiator exists in the said range, since the coloring photosensitive resin composition becomes high sensitivity and the intensity | strength of the pixel part formed using this composition and the smoothness in the surface of this pixel part tend to become favorable, it is preferable. . Moreover, when the usage-amount of a photoinitiator is in the said range, since the sensitivity of a coloring photosensitive resin composition becomes higher and the productivity of the color filter formed using this composition tends to improve, it is preferable.
(D)착색 재료(D) coloring material
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 (D)착색 재료는 통상의 안료로서 안료 분산 레지스트에 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료인 것이 바람직하다. 필요에 따라 염료를 사용할 수도 있으며 이는 본 발명에 포함된다. It is preferable that the (D) coloring material used for the coloring photosensitive resin composition of this invention is an organic pigment or an inorganic pigment used for a pigment dispersion resist as a normal pigment. If desired, dyes may be used and are included in the present invention.
무기 안료로는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. Examples of the inorganic pigments include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specifically, oxides or composite metals of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony Oxides; and the like.
상기 유기 안료 및 무기 안료로는, 구체적으로 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다. Examples of the organic pigments and inorganic pigments include compounds classified as pigments in the color index (published by The society of Dyers and Colorists), and more specifically, pigments having the following color index (CI) numbers. Although these are mentioned, It is not necessarily limited to these.
C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185
C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71 C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71
C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264 C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264
C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38 C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38
C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76 C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64, and 76
C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58
C.I 피그먼트 브라운 28C.I Pigment Brown 28
C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등 C.I pigment black 1 and 7, etc.
상기한 (D)착색 재료는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. (D)착색 재료의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 3 내지 60질량%, 바람직하게는 5 내지 55질량%의 범위이다. (D)착색 재료의 함유량이 상기의 기준으로 3 내지 60질량%의 범위이면 박막을 형성하여도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려운 경향이 있으므로 바람직하다.Said coloring material (D) can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. (D) Content of a coloring material is 3 to 60 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it is the range of 5-55 mass%. (D) If the content of the coloring material is in the range of 3 to 60 mass% based on the above criteria, even if a thin film is formed, the color density of the pixel is sufficient, and residues are less likely to occur because the omission of the non-pixel portion during development is not lowered. It is preferable because it tends to.
(E)용제 (E) Solvent
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 (E)용제는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. The (E) solvent contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention is not specifically limited, Various organic solvents used in the field of a coloring photosensitive resin composition can be used.
그의 구체예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에 틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사논, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanone, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; Cyclic ester, such as (gamma) -butyrolactone, etc. are mentioned.
상기의 (E)용제 중, 도포성 및 건조성 면에서 바람직한 예로는 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다. Among the above-mentioned (E) solvents, preferred examples of coating properties and drying properties include organic solvents having a boiling point of 100 ° C. to 200 ° C., and more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, and 3-e. Ester, such as ethyl oxypropionate and methyl 3-methoxy propionate, is mentioned, More preferably, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, 3- Ethyl ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, and the like.
이들 (E)용제는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다. These (E) solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 (E)용제의 함량은 그것을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 전체량에 대하여 질량 분율로 통상 60 내지 90질량%, 바람직하게는 70 내지 85질량%이다. (E)용제의 함유량이 상기의 기준으로 60 내지 90질량%의 범위이면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호 해지는 경향이 있기 때문에 바람직하다. The content of the solvent (E) in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually 60 to 90% by mass, preferably 70 to 85% by mass, based on the mass fraction of the total amount of the colored photosensitive resin composition including the same. (E) When the content of the solvent is in the range of 60 to 90% by mass based on the above criteria, it is applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater), inkjet, etc. It is preferable because the coating property tends to be good at the time.
(F)블록 이소시아네이트 화합물(F) Block Isocyanate Compounds
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 (F)블록 이소시아네이트 화합물이 포함된다. 상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물은 이소시아네이트 화합물과 블록제를 반응시켜 얻어지는데, 반응시 중합 억제제를 첨가하여 반응시키는 것도 바람직하다. 여기서 중합 억제제는 자유 라디칼 중합으로 단량체로부터 생성된 자유 라디칼과 신속하게 반응하여, 자유 라디칼 중합반응이 진행되지 않도록 반응계를 안정화시킬 수 있다.The colored photosensitive resin composition of this invention contains the (F) block isocyanate compound. Although the said (F) block isocyanate compound is obtained by making an isocyanate compound and a blocking agent react, it is also preferable to make it react by adding a polymerization inhibitor at the time of reaction. Herein, the polymerization inhibitor may rapidly react with free radicals generated from the monomers by free radical polymerization, thereby stabilizing the reaction system so that free radical polymerization does not proceed.
상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물의 제조에 사용되는 이소시아네이트 화합물로는 알킬렌기 등의 2가의 지방족기를 갖는 지방족 디이소시아네이트 화합물, 시클로알킬렌 등의 2가의 지환식기를 갖는 지환식 디이소시아네이트 화합물, 및 방향족 디이소시아네이트 화합물, 및, 이들의 이소시아누레이트화 변성물, 카르보디이미드화 변성물, 및 뷰렛화 변성물을 들 수 있다. As an isocyanate compound used for manufacture of the said (F) block isocyanate compound, Aliphatic diisocyanate compound which has bivalent aliphatic groups, such as an alkylene group, Alicyclic diisocyanate compound which has bivalent alicyclic group, such as cycloalkylene, and aromatic di Isocyanate compounds, these isocyanurated modified compounds, carbodiimide-ized modified compounds, and biuret modified compounds are mentioned.
지방족 디이소시아네이트 화합물의 구체적인 예로는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트를 들 수 있다. 지환식 디이소시아네이트 화합물로는, 이소포론디이소시아네이트, 메틸렌비스(시클로헥실)디이소시아네이트, 1,3- 혹은 1,4-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산을 들 수 있다. 방향족 디이소시아네이트 화합물로서는, 2,4-톨루엔디이소시아네이트, 2,6-톨루엔디이소시아네이트, 2,4-톨루엔디이소시아네이트 또는 2,6-톨루엔디이소시아네이트의 2량화 중 합체, (o, p 또는 m)-크실렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트를 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 2종류 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. Specific examples of the aliphatic diisocyanate compound include hexamethylene diisocyanate and trimethylhexamethylene diisocyanate. As an alicyclic diisocyanate compound, isophorone diisocyanate, methylenebis (cyclohexyl) diisocyanate, 1, 3- or 1, 4-bis (isocyanate methyl) cyclohexane is mentioned. As an aromatic diisocyanate compound, a dimerization polymer of 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate or 2,6-toluene diisocyanate, (o, p or m) -Xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and 1, 5- naphthalene diisocyanate are mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물의 제조에 사용되는 블록제로는 이소시아네이트 그룹과 반응하는 활성 수소를 1분자중에 1개만 갖는 화합물로 알코올류, 페놀류, 락탐류, 옥심류, 아세토아세트산 알킬에스테르류, 말론산 알킬에스테르류, 프탈이미드류, 이미다졸류, 염화수소, 시안화수소 또는 아황산수소나트륨 등을 포함한다. 이 중에서도 치환 페놀류, 옥심류, 아세토아세트산 알킬에스테르류, 말론산 알킬에스테르류, 프탈이미드류, 이미다졸류, 염화 수소, 시안화수소 또는 황산수소나트륨이 바람직하게 사용될 수 있다. As the blocking agent used in the preparation of the (F) block isocyanate compound, a compound having only one active hydrogen in one molecule reacting with an isocyanate group is used as alcohols, phenols, lactams, oximes, acetoacetic acid alkyl esters and malonic acid. Alkyl esters, phthalimides, imidazoles, hydrogen chloride, hydrogen cyanide, sodium hydrogen sulfite and the like. Among these, substituted phenols, oximes, acetoacetic acid alkyl esters, malonic acid alkyl esters, phthalimides, imidazoles, hydrogen chloride, hydrogen cyanide or sodium hydrogen sulfate can be preferably used.
구체적인 예로는 페놀, 2-피리디놀, 3-히드록시피리딘, 8-히드록시퀴놀린, 트리할로에틸알콜, n-부틸알콜, 2-에틸헥실알콜, 푸르푸릴알콜, 시클로헥실알콜, 2-에톡시헥실알콜, N-히드록시숙신이미드, N-모폴리노에탄올, 3-옥사졸리딘에탄올, 헥실메프캅탄, 메틸아세트아마이드, 아세타아닐리드, 티오페놀, 메르캅토피리딘, 2-에틸헥실히드록시벤조에이트, p-크레졸 포름알데히드, 2-[(디메틸아미노)메틸]페놀, 피라졸, 3-메틸피라졸, 1,2,4-트리아졸, 아미노카프로익애시드, 이미다졸린, 포르미에이트, 디세톤, 벤질메타크릴히드록사메이트, 2-벤조옥사졸론, 우렛디온, 카르보디이미드, 우렛토니민, β-카프로락탐, 디에틸말론네이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트옥심, 메틸에틸케톡심 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 또는 2종류 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. Specific examples include phenol, 2-pyridinol, 3-hydroxypyridine, 8-hydroxyquinoline, trihaloethyl alcohol, n-butyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, furfuryl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-e Toxyhexyl alcohol, N-hydroxysuccinimide, N-morpholinoethanol, 3-oxazolidineethanol, hexyl mecapcaptan, methyl acetamide, acetanilide, thiophenol, mercaptopyridine, 2-ethylhexylhydride Oxybenzoate, p-cresol formaldehyde, 2-[(dimethylamino) methyl] phenol, pyrazole, 3-methylpyrazole, 1,2,4-triazole, aminocaproic acid, imidazoline, formi Eight, dicetone, benzyl methacrylhydramate, 2-benzooxazolone, ureddione, carbodiimide, urettonimine, β-caprolactam, diethylmalonate, ethyl acetoacetate, acetoxime, methyl ethyl ketoxime Etc. can be mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
상술한 이소시아네이트와 블록제의 반응시 첨가될 수 있는 중합 억제제로는 페놀계 화합물, 포스파이트계 화합물이 있다. 이의 구체적인 예로 페놀계 화합물로는 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시톨루엔(BHT), 4,4'-티오-비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌-비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌-비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 및 2,2'-디히드록시-3,3'-디(α-메틸-시클로헥실)-5,5'-디메틸디페닐메탄이 있다. 포스파이트계 화합물로는 트리스(노닐화페닐)포스파이트가 있다. 상기 예시한 중합 억제제는 대한민국 특허10-0414478에서 경화성 수지의 투명성을 향상시킬 수 있는것으로 알려져 있다.Polymerization inhibitors that may be added during the reaction of the above-mentioned isocyanate and blocking agent include phenolic compounds and phosphite compounds. Specific examples of the phenolic compound include 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene (BHT), 4,4'-thio-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4, 4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), and 2,2'-dihydroxy-3,3'-di (?-Methyl-cyclohexyl) -5,5'-dimethyldiphenylmethane. The phosphite compound includes tris (nonylated phenyl) phosphite. The polymerization inhibitor exemplified above is known to be able to improve the transparency of the curable resin in the Republic of Korea Patent 10-0414478.
이때, 본 발명에 따르면 상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물은 (A)바인더 수지의 히드록실기에 대한 이소시아네이트의 당량비(NCO/OH)로 0.5내지 2.2당량비의 범위로 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.6내지 2.0이다. 상기 NCO/OH의 당량비가 0.5보다 작을 경우 내화학성에 효과가 없으며, 상기 NCO/OH 의 당량비가 2.2보다 높을 경우 반응성 이소시아네이트가 다량 남게 되어 내화학성에 악영향을 끼치고, 도막의 물성을 저하시키게 되는 문제점이 있다. At this time, according to the present invention, the (F) block isocyanate compound is preferably used in the range of 0.5 to 2.2 equivalent ratio in the equivalent ratio (NCO / OH) of the isocyanate to the hydroxyl group of the (A) binder resin. More preferably, it is 0.6-2.0. If the equivalent ratio of NCO / OH is less than 0.5, there is no effect on the chemical resistance, if the equivalent ratio of NCO / OH is higher than 2.2, a large amount of reactive isocyanate remains, which adversely affects the chemical resistance and deteriorates the physical properties of the coating film There is this.
상기 (F)블록 이소시아네이트 화합물은 컬러필터의 소성공정 중 약 130~250℃에서 블록제가 해리되고, 이때 생성된 반응성 이소시아네이트기는 (A)바인더 수지의 히드록실기와 우레탄 결합을 형성하여, 현상성 및 저장 안정성에 영향을 주지 않으면서 우수한 내화학성을 나타내게 된다.The (F) block isocyanate compound dissociates the blocking agent at about 130 to 250 ° C. during the firing process of the color filter, and the reactive isocyanate group formed at this time forms a urethane bond with the hydroxyl group of the binder resin (A), thereby developing and Excellent chemical resistance is achieved without affecting storage stability.
기타 첨가제 Other additives
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 필요에 따라, 충진제, 다른 고분자 화합물, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 기타 첨가제가 추가적으로 포함되는 것도 가능하다. The coloring photosensitive resin composition of this invention may further contain other additives, such as a filler, another high molecular compound, a pigment dispersing agent, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor, as needed.
상기 충진제로는 유리, 실리카, 알루미나 등이 예시된다. Examples of the filler include glass, silica, alumina, and the like.
상기 다른 고분자 화합물로는 구체적으로 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the other high molecular compound include thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, polyurethane, and the like.
상기 안료 분산제로는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기의 계면 활성제로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜 디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Commercially available surfactants may be used as the pigment dispersant, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic and amphoteric. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As said surfactant, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyethylene glycol diester, sorbitan fatty ester, fatty acid modified polyester, tertiary amine modified polyurethane, polyethylene Some of these products are KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by Tochem Products, Inc.), and Mega Pack. (MEGAFAC) (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M Inc.), Asahi guard, Suflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Solsperth (SOLSPERSE) (made by Genka Corporation), EFKA (made by EFKA Chemicals Corporation), PB 821 (made by Ajinomoto Co., Ltd.), etc. are mentioned.
이들 안료 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있 으며, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로, 통상 0.01 내지 15질량%로 포함될 수 있다.These pigment dispersants can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively, and can be normally contained in 0.01-15 mass% with respect to solid content in a coloring photosensitive resin composition.
상기 밀착 촉진제로는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- ( 2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxy Silane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like.
이들 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 질량분율로, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 2질량%를 포함할 수 있다. 상기 산화 방지제로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. These adhesion promoters can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. It is 0.01-10 mass% normally with respect to solid content in colored photosensitive resin composition, Preferably it can contain 0.05-2 mass%. Examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and the like.
상기 자외선 흡수제로는 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. As said ultraviolet absorber, 2- (3-tert- butyl- 2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxy benzophenone, etc. are mentioned.
응집 방지제로는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다. Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.
상술한 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다. (D)착색 재료를 미리 (E)용제와 혼합하여 착색 재료의 평 균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 또한 (A)바인더 수지의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀 베이스라고 하는 경우도 있음)에 (A)바인더 수지의 나머지, (B)광중합성 화합물, (C)광중합 개시제, (F)블록 이소시아네이트 화합물, 필요에 따라 기타 첨가제 및 추가의 (E)용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 착색 감광성 수지 조성물을 얻는다. 그러나 본 발명이 이러한 방법을 한정하는 것은 아니다. The coloring photosensitive resin composition of this invention mentioned above can be manufactured, for example by the following methods. (D) The coloring material is previously mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the coloring material is about 0.2 µm or less. At this time, a pigment dispersant is used as needed, and some or all of (A) binder resin may be mix | blended. In the resulting dispersion (hereinafter sometimes referred to as mill base), the remainder of the binder resin (A), (B) photopolymerizable compound, (C) photopolymerization initiator, (F) block isocyanate compound, other additives and additional (E) A solvent is further added so that it may become a predetermined | prescribed density | concentration, and a desired coloring photosensitive resin composition is obtained. However, the present invention does not limit this method.
이하에서는 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법을 설명한다. Hereinafter, the pattern formation method of the coloring photosensitive resin composition which concerns on this invention is demonstrated.
본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은, 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 기재상에 도포하는 단계, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 일부 영역을 선택적으로 노광하는 단계 및 상기 착색 감광성 수지 조성물의 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다. The pattern forming method of the colored photosensitive resin composition according to the present invention includes the steps of applying the above-described colored photosensitive resin composition on a substrate, selectively exposing a portion of the colored photosensitive resin composition and exposing the colored photosensitive resin composition Removing the area or the non-exposed area.
그 일례로서, 이하에 기재된 바와 같이 기재 상에 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고, 광 경화 및 현상을 하여 패턴을 형성하게 되고, 블랙 매트릭스 또는 착색 화소(착색 화상)로 사용할 수 있게 된다. 조성물을 도포하기 위해 사용되는 기재는 제한되지 않으며, 예를 들어 유리, 실리콘 웨이퍼, 플라스틱 혹은 먼저 형성된 착색 감광성 수지 조성물의 고형분을 포함하는 층 위에 도포하여 예비 소성함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻을 수 있다. 기재로서 사용되는 상기 플라스틱의 원재료로는 아모포러스 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리노르보넨, 폴리에테르술폰, 폴리에테르케톤 등을 들 수 있다. 이 때의 도막의 두께는 대개 1 내지 3㎛ 정도이다. As one example thereof, the colored photosensitive resin composition according to the present invention is applied onto a substrate as described below, and photocuring and development are performed to form a pattern, which can be used as a black matrix or a colored pixel (colored image). . The base material used for applying the composition is not limited, and is smoothed by removing volatile components such as solvents by applying a preliminary baking, for example, on a layer containing the solids of glass, silicon wafer, plastic or the previously formed colored photosensitive resin composition. One coat can be obtained. Amorphous polyolefin, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polynorbornene, polyether sulfone, polyether ketone, etc. are mentioned as a raw material of the said plastic used as a base material. The thickness of the coating film at this time is about 1-3 micrometers normally.
도막의 형성이 완료되면 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 도막의 특정 영역에 자외선을 조사한다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 이후, 경화가 종료된 도막을 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조할 수 있게 된다. 현상 후, 150℃ 이하에서 10 내지 120 분 정도의 후 소성을 실시할 수 있다. After the formation of the coating film, ultraviolet rays are irradiated to a specific area of the coating film through a mask to obtain a desired pattern. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that a parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and a mask and a board | substrate will be correctly aligned. In addition, a desired pattern can be produced by contacting the aqueous coating solution after completion of curing with an aqueous alkali solution to dissolve and develop the non-exposed areas. After image development, post-firing of about 10 to 120 minutes can be performed at 150 degrees C or less.
패턴화 노광 후의 현상에 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 포함하는 수용액이다. The developing solution used for image development after patterned exposure is the aqueous solution containing an alkaline compound and surfactant normally.
알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물 중 어느 것이어도 좋다. 무기 알칼리성 화합물의 구체예로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체예로는 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, hydrogen carbonate Sodium, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like. Specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.
알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 바람직한 농도는 0.01 내지 10질량%의 범위이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5질량%이다. The concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.03 to 5% by mass.
알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비 이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제 중 모두 사용할 수 있다. 비 이온계 계면 활성제의 구체예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 음이온계 계면 활성제의 구체예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르 염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산 염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산 염류 등을 들 수 있다. 양이온계 계면 활성제의 구체예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. Surfactant in alkaline developing solution can use all of a nonionic surfactant, anionic surfactant, or cationic surfactant. Specific examples of the non-ionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfate salts such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, Alkyl aryl sulfonic acid salts, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.
알칼리 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10질량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5질량%이다.The concentration of the surfactant in the alkaline developer is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.05 to 8% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.
이하에서는, 본 발명에 따른 컬러필터를 설명한다. Hereinafter, the color filter according to the present invention will be described.
본 발명에 따른 컬러필터는 전술한 착색 감광성 수지 조성물을 소정의 패턴으로 형성 후 노광, 현상하여 형성되는 화소를 포함하는 것을 특징으로 한다. The color filter according to the present invention is characterized in that it comprises a pixel formed by exposing and developing the above-described colored photosensitive resin composition in a predetermined pattern.
착색 감광성 수지 조성물의 패턴 형성방법은 전술한 바와 같으므로 자세한 설명은 생략한다. 전술한 바와 같이 착색 감광성 수지 조성물을 기재에 도포한 후 건조하여 얻어지는 건조 도막에 패턴화 노광 및 현상이라는 각 조작을 거쳐 감광성 수지 조성물 중의 착색 재료의 색에 상당하는 화소 또는 블랙 매트릭스를 얻고, 이러한 조작을 컬러필터에서 필요로 하는 색의 수만큼 반복함으로써 컬러필터를 얻을 수 있다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 관한 자세한 설명은 생략한다. Since the pattern formation method of a coloring photosensitive resin composition is as above-mentioned, detailed description is abbreviate | omitted. As described above, a pixel or a black matrix corresponding to the color of the coloring material in the photosensitive resin composition is obtained through the respective operations of patterning exposure and development in a dry coating film obtained by applying the coloring photosensitive resin composition to a substrate and then drying. Is repeated by the number of colors required by the color filter to obtain the color filter. Since the configuration and manufacturing method of the color filter are well known in the art, detailed description thereof will be omitted.
컬러필터는 통상 블랙 매트릭스 및 적색, 녹색 및 청색의 3원색 화소를 기판상에 배치한 것이지만, 특정 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 상기의 조작을 행함으로써 그 색의 블랙 매트릭스 또는 화소를 얻고, 다른 색에 대해서도 목적하는 색에 상당하는 착색 재료를 포함하는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 동일한 조작을 행하여 블랙 매트릭스 및 3원색 화소를 기판상에 배치할 수 있다. 물론, 블랙 매트릭스 및 3원색 중 어느 1색, 2색 또는 3색에만 본 발명의 감광성 수지 조성물을 적용할 수도 있다. The color filter is usually a black matrix and three primary color pixels of red, green, and blue arranged on a substrate, but by performing the above operation using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing a coloring material corresponding to a specific color. The black matrix and the three primary color pixels are disposed on a substrate by obtaining the black matrix or the pixel of the color and performing the same operation using the colored photosensitive resin composition of the present invention containing the coloring material corresponding to the desired color for other colors. can do. Of course, the photosensitive resin composition of this invention can also be apply | coated only to one color, two colors, or three colors of a black matrix and three primary colors.
또한, 차광층인 블랙 매트릭스는, 본 발명의 착색(흑색으로 착색됨) 감광성 수지를 사용할 수도 있으나, 예를 들면 크롬층 등으로 형성되어 있는 것도 있으므 로 이러한 경우 블랙 매트릭스의 형성에 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용할 필요는 없다. In addition, although the black matrix which is a light shielding layer can use the coloring (colored black) photosensitive resin of this invention, for example, it may be formed by the chromium layer etc., In this case, coloring of this invention is carried out in formation of a black matrix. It is not necessary to use the photosensitive resin composition.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터는 면내의 막 두께차가 적고, 예를 들면 1 내지 3㎛의 막 두께로 면내 막 두께차를 0.15㎛ 이하, 나아가 0.05㎛ 이하로 할 수 있다. The color filter manufactured using the coloring photosensitive resin composition of this invention has little in-plane film thickness difference, For example, it can make in-plane film thickness difference 0.15 micrometer or less and further 0.05 micrometer or less with the film thickness of 1-3 micrometers. .
따라서, 이렇게 해서 얻어지는 컬러필터는 평활성이 우수하고, 이것을 컬러 액정표시장치에 조립함으로써 우수한 품질의 액정표시장치를 높은 수율로 제조할 수 있다. 또한, 상기의 컬러필터를 사용하면 우수한 품질의 촬상소자를 제조할 수 있다. Therefore, the color filter obtained in this way is excellent in smoothness, and it can manufacture a liquid crystal display device of excellent quality by high yield by assembling this to a color liquid crystal display device. In addition, by using the above-described color filter, it is possible to manufacture an image pickup device of excellent quality.
따라서 본 발명은 전술한 칼라필터를 구비한 액정 표시 장치도 권리에 포함된다. 본 발명의 액정 표시 장치는 전술한 칼라필터를 구비한 것을 제외하고는 본 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다. 즉, 본 발명의 칼라필터를 적용할 수 있는 액정표시장치는 모두 본 발명에 포함된다. Therefore, the present invention also includes a liquid crystal display device having the color filter described above. The liquid crystal display of the present invention includes a configuration known in the art, except that the above-described color filter is provided. That is, all of the liquid crystal display devices to which the color filter of the present invention can be applied are included in the present invention.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 물론 아니다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by an Example. In addition, "%" and "part" which show content in a following example and a comparative example are a mass reference | standard unless there is particular notice.
<제조예 1> 바인더 수지 합성(A1) Production Example 1 Binder Resin Synthesis (A1)
교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 40질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에 테르 140질량부를 도입하여, 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100℃로 승온 후 시클로헥실메타아크릴레이트 7.47질량부(7.1몰%), 벤질메타아크릴레이트 30질량부(27.1몰%), 이소보닐메타아크릴레이트 7.45질량부(5.3몰%), 메틸메타아크릴레이트 9.5질량부(15.1몰%), 메타크릴산 19.58질량부(34.4몰%), 4-히드록시부틸아크릴레이트 10질량부(11.0몰%) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 136질량부를 포함하는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴 4질량부를 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 80℃에서 5시간 더 교반을 계속하였다. 이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜(메타)아크릴레이트 15질량부(메타크릴산의 32.8몰%), 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.5질량부 및 히드로퀴논 0.1질량부를 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하여, 고형분 산가가 81㎎KOH/g인 (A1)바인더 수지를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 28,257이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.4이었다. 또한 OH당량은 3,596g/당량(고형성분)이었으며, 고형분은 39질량%였다. 40 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 140 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether were introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube, and the atmosphere in the flask was nitrogen from air. After heating up at 100 degreeC, 7.47 mass parts (7.1 mol%) of cyclohexyl methacrylate, 30 mass parts (27.1 mol%) of benzyl methacrylate, 7.45 mass parts (5.3 mol%) of isobornyl methacrylate, and methyl methacryl A mixture containing 9.5 parts by mass (15.1 mole%), 19.58 parts by mass methacrylic acid (34.4 mole%), 10 parts by mass (4-1.0 mole%) 4-hydroxybutyl acrylate and 136 parts by mass propylene glycol monomethyl ether acetate The solution to which 4 mass parts of azobisisobutyronitrile was added was dripped at the flask over 2 hours from the dropping lot, and stirring was continued at 80 degreeC for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, 15 parts by mass of glycidyl (meth) acrylate (32.8 mol% of methacrylic acid), 0.5 parts by mass of trisdimethylaminomethylphenol, and 0.1 parts by mass of hydroquinone were introduced into the flask. The reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours to obtain a (A1) binder resin having a solid acid value of 81 mg KOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 28,257, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.4. In addition, OH equivalent was 3,596 g / equivalent (solid component), and solid content was 39 mass%.
이때, 상기의 바인더 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정은 HLC-8120GPC(도소㈜ 제조) 장치를 사용하였으며, 칼럼은 TSK-GELG4000HXL와 TSK-GELG2000HXL를 직렬 접속하여 사용하였고, 칼럼 온도는 40℃, 이동상 용매는 테트라히드로퓨란, 유속은 1.0 ㎖/분, 주입량은 50 ㎕, 검출기 RI를 사용하였으며, 측정 시료 농도는 0.6 질량%(용매 = 테트라히드로퓨란), 교정용 표준 물질은 TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조)을 사용하였다. In this case, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the binder resin were measured by using an HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation) apparatus, and the column was used by serially connecting TSK-GELG4000HXL and TSK-GELG2000HXL. The column temperature was 40 ° C, the mobile phase solvent was tetrahydrofuran, the flow rate was 1.0 ml / min, the injection amount was 50 µl, the detector RI was used, and the measurement sample concentration was 0.6 mass% (solvent = tetrahydrofuran), for calibration. TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation) was used as a standard material.
<< 제조예Production Example 2> 바인더 수지 합성(A2) 2> Binder Resin Synthesis (A2)
상기 바인더 수지 제조예 1에서 4-히드록시부틸아크릴레이트 10질량부를 메틸메타아크릴레이트로 전량 대체하고, 글리시딜(메타) 아크릴레이트를 부가하는 2차 반응을 제외한 것 외에는 동일한 방법으로 실시하여 (A2)바인더 수지를 제조하였다. 제조된 (A2)바인더 수지는 고형분 산가가 82㎎KOH/g, GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 23,330, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.4 이었으며, 고형분은 40질량%였다.In the same manner as in Binder Resin Production Example 1, except that the secondary reaction of replacing 10 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate with methyl methacrylate and adding glycidyl (meth) acrylate ( A2) A binder resin was prepared. As for the manufactured (A2) binder resin, the weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by solid acid value of 82 mgKOH / g and GPC was 23,330, molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.4, and solid content was 40 mass%.
<< 제조예Production Example 3> 블록 이소시아네이트 화합물 합성(F1) 3> Block Isocyanate Compound Synthesis (F1)
교반기, 온도계, 적하 깔때기, 및 환류 냉각기를 구비한 100 ㎖ 사구 플라스크에, 질소 분위기 하에서 에틸렌글리콜아세테이트 250 질량부에 메틸에틸케톡심(ICCCHEM사제) 224 질량부 및 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시톨루엔(도꾜가세이 고교사제) 0.1 질량부를 넣고 균일하게 용해시킨다. 균일하게 되면 70℃로 승온시켜 다시 교반하면서, 헥사메틸렌디이소시아네이트(RHODIA사제) 357 질량부를 2시간에 걸쳐 적하한 다음, 동일온도에서 1시간 동안 유지하였다. 반응계 내로부터 소량의 샘플을 채취하여 IR 스펙트럼을 측정하였다. 그 결과, NCO기에 기초하는 2270 cm-1 부근의 흡수가 검출 한계 미만이 되는 것을 확인하고 반응을 종료하였다.In a 100 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 224 parts by mass of methyl ethyl ketoxime (manufactured by ICCCHEM) and 3,5-di-tert-butyl in 250 parts by mass of ethylene glycol acetate under a nitrogen atmosphere. 0.1 parts by mass of -4-hydroxytoluene (manufactured by Tohsei Chemical Co., Ltd.) was added and dissolved uniformly. When it became uniform, it heated up at 70 degreeC and stirred again, 357 mass parts of hexamethylene diisocyanate (made by RHODIA) was dripped over 2 hours, and it maintained at the same temperature for 1 hour. A small amount of sample was taken from the reaction system to measure the IR spectrum. As a result, it was confirmed that the absorption near 2270 cm −1 based on the NCO group was below the detection limit, and the reaction was terminated.
제조된 블록 이소시아네이트 화합물의 NCO당량은 408g/당량(고형성분) 이었으며, 고형분은 71.37질량%였다.NCO equivalent weight of the prepared block isocyanate compound was 408g / equivalent (solid component), and solid content was 71.37 mass%.
<< 제조예Production Example 4> 블록 이소시아네이트 화합물 합성(F2) 4> Block Isocyanate Compound Synthesis (F2)
제조예 3에서 이소시아네이트 화합물을 2,4-톨루엔디이소시아네이트 (BASF사 제)370 질량부로 변경한 것 외에는 동일하게 진행하였다. 제조된 블록 이소시아네이트 화합물의 NCO당량은 583g/당량(고형성분) 이었으며, 고형분은 68.3질량%였다.It progressed similarly except having changed the isocyanate compound into 370 mass parts of 2, 4- toluene diisocyanate (made by BASF) in manufacture example 3. The NCO equivalent of the prepared block isocyanate compound was 583 g / equivalent (solid component), and solid content was 68.3 mass%.
<< 실시예Example 1∼5 및 1 to 5 and 비교예Comparative example 1∼6> 착색 감광성 수지 조성물의 제조 1-6> Preparation of colored photosensitive resin composition
하기 표 1 및 표 2에 기재된 각 성분 중, 미리 (D)착색 재료인 안료 및 기타 첨가제인 안료 분산제의 합계량이 안료, 안료 분산제 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 혼합물에 대하여 20질량%가 되도록 혼합하여, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 후 비드 밀을 분리하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 잔량을 포함하는 나머지 성분을 더 첨가하고 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. In each component shown in following Table 1 and Table 2, it mixes previously so that the total amount of the pigment dispersant which is a pigment and other additives (D) coloring material may be 20 mass% with respect to the mixture of a pigment, a pigment dispersant, and a propylene glycol monomethyl ether acetate. After the pigment was sufficiently dispersed using the bead mill, the bead mill was separated, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were further added and mixed to obtain a colored photosensitive resin composition.
* 상기 표 1 및 표 2에서의 수치는 질량부를 의미함.* Numerical values in Table 1 and Table 2 refer to parts by mass.
(A1) 및 (A2)바인더 수지: 제조예 1 및 2에서 합성된 바인더 수지 (A1) and (A2) Binder Resin: Binder Resin Synthesized in Preparation Examples 1 and 2
(B)광중합성 화합물: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA, 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)(B) photopolymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
(C1)광중합 개시제: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온(Irgacure 369; Ciba Specialty Chemical 사 제조)(C1) photoinitiator: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemical)
(C2)광중합 개시제: 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 (EAB-F; 호도가야 카가꾸 ㈜ 제조)(C2) photoinitiator: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (EAB-F; product made by Hodogaya Kagaku Co., Ltd.)
(C3)광중합 개시제: 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(Irgacure OXE02; Ciba Specialty Chemical사 제조)(C3) photoinitiator: ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; manufactured by Ciba Specialty Chemical)
(D1)착색 재료: C.I.피그먼트 레드 254(D1) Coloring material: C.I. pigment red 254
(D2)착색 재료: C.I.피그먼트 옐로우 138(D2) Coloring material: C.I. pigment yellow 138
(E)용제: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E) Solvent: Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate
(F1)제조예 3에서 제조된 블록 이소시아네이트 화합물(F1) Block isocyanate compound prepared in Production Example 3
(F2)제조예 4에서 제조된 블록 이소시아네이트 화합물(F2) Block isocyanate compound prepared in Production Example 4
기타 첨가제 : 안료 분산제(폴리에스테르계)Other additives: pigment dispersant (polyester type)
에폭시 열가교제 : 노블락 에폭시 수지(SUMI-EPOXY ESCN-195XL; 스미또모 카가꾸 고교㈜ 제조)Epoxy thermal crosslinking agent: NOBLOCK epoxy resin (SUMI-EPOXY ESCN-195XL; manufactured by Sumitomo Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
<시험예><Test Example>
2평방인치의 유리 기판(코닝사 제조, #1737)을 중성 세제, 물 및 알코올로 차례로 세정하고 나서 건조하였다. 이 유리 기판상에 상기의 착색 감광성 수지 조성물(표 1)을 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 노광하여 현상 공정을 생략했을 때의 후 소성 후의 막 두께가 1.9㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 이어서 크린 오븐 중, 100℃에서 3분간 예비 건조(예비 소성)하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크(투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛에서 50㎛까지의 라인/스페이스 패턴을 가짐)의 간격을 100㎛로 하고, 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 100mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광 조사하였다. 그 후, 비 이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.06%를 포함하는 수계 현상액에 상기 도막을 26℃에서 소정 시간 담가두어 현상한 뒤, 수세 후 220℃에서 30분간 후 소성하였으며, 이때의 현상속도, 감도, 내화학성, 저장 안정성 및 표면 이상을 검사한 결과를 표3, 표4에 나타내었다. A 2 square inch glass substrate (# 1737, manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol, and then dried. The coated photosensitive resin composition (Table 1) was exposed on the glass substrate at an exposure amount (365 nm) of 100 mJ / cm 2 and spin-coated so that the film thickness after post-firing when the developing step was omitted was 1.9 µm. Preliminary drying (preliminary baking) was performed at 100 degreeC for 3 minutes in the clean oven. After cooling, the gap between the substrate coated with the colored photosensitive resin composition and a quartz glass photomask (having a pattern for changing the transmittance stepwise in the range of 1 to 100% and a line / space pattern from 1 µm to 50 µm) It was made into 100 micrometers, and it irradiated at 100 mJ / cm <2> exposure amount (365 nm) in air | atmosphere using the ultrahigh pressure mercury lamp (brand name USH-250D) by Ushio Denki Corporation. Thereafter, the coating film was immersed in a water-based developing solution containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.06% of potassium hydroxide at 26 ° C. for a predetermined time, and then fired after washing at 220 ° C. for 30 minutes after washing with water. , Table 3 and Table 4 show the results of sensitivity, chemical resistance, storage stability and surface abnormalities.
<현상속도(sec)>Development speed (sec)
현상시 비노광부가 현상액에 완전히 용해되는데 걸리는 시간을 나타낸다. ○: 10초 이상 15초 이하, △: 15초 초과 20초 이하, X: 20초 초과 25초 이하It represents the time taken for a non-exposed part to melt completely in a developing solution at the time of image development. ○: 10 seconds or more and 15 seconds or less, △: more than 15 seconds and 20 seconds or less, X: more than 20 seconds and 25 seconds or less
<감도(mJ/㎠)><Sensitivity (mJ / cm 2)>
현상하여도 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량을 나타낸다. (80 mJ/㎠ 이하 양호)Even if it develops, the minimum required exposure amount required in order to form the pattern without surface roughness is shown. (80 mJ / ㎠ or less good)
<내화학성><Chemical Resistance>
내화학성은 NMP 하에서 23℃/40분 동안 침전 전후의 색 변화값(△Eab) 측정으로 평가한다. ○: △Eab = 1 미만, △: △Eab = 1 ~ 3, X: △Eab = 3 초과Chemical resistance is evaluated by measuring color change (ΔEab) before and after precipitation for 23 ° C./40 minutes under NMP. ○: ΔEab = less than 1, △: ΔEab = 1 to 3, X: ΔEab = 3
<저장 안정성><Storage stability>
저장 안정성은 40℃ 저장고에 실시예 1~5, 비교예 1~6의 착색 감광성 수지 조성물을 2주간 보관한 후 보관전과 보관후의 점도변화를 나타낸다. ○: 10% 미만 증가, △: 10 ~ 20% 증가, X: 20% 초과 증가Storage stability shows the viscosity change before and after storage after storing the coloring photosensitive resin composition of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-6 for 2 weeks in 40 degreeC storage. ○: less than 10%, △: 10 to 20%, X: more than 20%
<표면 이상><Over surface>
표면 이상은 220℃에서 30분 소성후의 500배율 현미경 관찰시 표면 이상 유무를 나타낸다. ○: 이상없음, X: 흑점, 분화구 발생Surface abnormalities indicate the presence or absence of surface abnormalities when observed under a 500x magnification microscope after baking for 30 minutes at 220 ° C. ○: no abnormality, X: sunspot, crater occurrence
<황변><Yellowing>
황변은 230℃에서 120분 소성 후, 소성전후의 색 변화값(△Eab) 측정으로 평가한다. ○: △Eab = 1 미만, △: △Eab = 1 ~ 3, X: △Eab = 3 초과Yellowing is evaluated by color change value (ΔEab) measurement before and after baking at 230 ° C. for 120 minutes. ○: ΔEab = less than 1, △: ΔEab = 1 to 3, X: ΔEab = 3
상기 시험결과 비교예 1에서 바인더 수지에 히드록실기가 없는 A2바인더의 사용시에는 내화학성 및 현상성이 불량하였다. 또한, 비교예 2는 NCO/OH당량비가 0.5미만으로 NCO의 충분한 활성이 이루어지지 않아 내화학성이 좋지 않았으며, 비교예 3은 과량의 블록 이소시아네이트 화합물을 함유하고 있어, 내화학성도 불량하고, 후 소성 공정시 블록제의 휘발에 의한 표면 이상이 발생하였다. 비교예 4 내지 6은 에폭시 열가교제를 포함함으로써 내화학성이 향상될 수 있지만, 함량의 증가에 따라서, 저장 안정성의 불량 및 황변에 의해, 본 발명의 과제를 달성할 수 없었다.As a result of the test, in Comparative Example 1, when the A2 binder without a hydroxyl group was used in the binder resin, chemical resistance and developability were poor. In addition, Comparative Example 2 had a poor NCO / OH equivalent ratio of less than 0.5, the sufficient activity of the NCO did not achieve a good chemical resistance, Comparative Example 3 contains an excess of block isocyanate compound, poor chemical resistance, The surface abnormality by volatilization of the block agent generate | occur | produced in the baking process. Comparative Examples 4 to 6 can be improved in chemical resistance by including an epoxy heat crosslinking agent, but due to the increase in the content, due to poor storage stability and yellowing, the problem of the present invention could not be achieved.
실시예 1 내지 5의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 저장 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 이를 사용하여 얻어진 화소는 현상성 저하의 문제가 없고, 내화학성이 우수하며, 현상후 표면 거칠음이 없는 패턴을 형성하기 위해 필요한 최저 필요 노광량은 60~80mJ/㎠로 우수하였으며, 후 소성 후 표면 이상이 없는 우수한 화소를 얻을 수 있었다. 따라서, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 컬러필터는 착색 감광성 수지 조성물의 우수한 물성을 향유하고, 이를 포함하는 액정표시장치는 고품질의 효과를 갖게 된다.As can be seen from the results of Examples 1 to 5, the colored photosensitive resin composition according to the present invention not only has excellent storage stability, but the pixels obtained by using the same have no problem of deterioration of developability, and have excellent chemical resistance, The minimum required exposure amount needed to form a pattern without surface roughness after development was excellent at 60 to 80 mJ / cm 2, and an excellent pixel without surface abnormality after post-firing was obtained. Therefore, the color filter obtained using the coloring photosensitive resin composition of this invention enjoys the outstanding physical property of a coloring photosensitive resin composition, and the liquid crystal display device containing this has a high quality effect.
Claims (7)
Priority Applications (1)
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