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KR20090113091A - Method of Refining Silicon By Compression - Google Patents

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KR20090113091A
KR20090113091A KR1020080038972A KR20080038972A KR20090113091A KR 20090113091 A KR20090113091 A KR 20090113091A KR 1020080038972 A KR1020080038972 A KR 1020080038972A KR 20080038972 A KR20080038972 A KR 20080038972A KR 20090113091 A KR20090113091 A KR 20090113091A
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silicon
compressed
leached
melted
impurities
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KR1020080038972A
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한대희
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주식회사 이노베이션실리콘
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Abstract

PURPOSE: A method for purifying silicon through compression is provided to effectively remove impurity and reduce production cost. CONSTITUTION: A method for purifying silicon through compression comprises: a step of pulverizing silicon of metal level; a step of dipping the silicon with chemical; a step of compressing in pellet form; a step of coagulating the compressed silicon; a step of mixing the silicon with binder; and a step of drying the silicon.

Description

압착을 이용한 실리콘 정제 방법{Method of Refining Silicon By Compression}Method of Refining Silicon by Compression {Method of Refining Silicon By Compression}

본 발명은 실리콘을 정제하는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 태양광 발전 등에 사용되는 실리콘에 포함된 불순물을 제거하는 실리콘 정제 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of purifying silicone. More specifically, the present invention relates to a silicon purification method for removing impurities contained in silicon used for photovoltaic power generation and the like.

태양 전지 등에 사용되는 실리콘을 용이하게 제작하기 위하여, 금속(metallurgical) 등급(순도 95~99 %)의 실리콘을 정제(또는 정련)하는 것이 경제적이다. 2N 이하(순도 99% 이상)의 금속 등급의 실리콘을 정제함으로써, 태양전지에 적합한 등급의 실리콘을 제작하기 위해서는 Al(알루미늄), Fe(철), Ca(칼슘), Ti(티타늄) 등 여러 종류의 불순물을 제거하여야 한다. In order to easily manufacture silicon used for solar cells and the like, it is economical to purify (or refine) silicon of metallurgical grade (purity 95 to 99%). By refining metal grade silicon of 2N or less (more than 99% purity), in order to make silicon of grade suitable for solar cell, various kinds such as Al (aluminum), Fe (iron), Ca (calcium), Ti (titanium) Impurities must be removed.

금속 실리콘에서 불순물을 제거하여 고순도의 태양전지 등급의 실리콘을 제작하는 종래의 방법 중에 실리콘을 용융시켜서 슬래그(slag)로 처리하는 방법이 사용된다. 이렇게 슬래그 처리된 금속 등급의 실리콘을 용융시킨 후, 방향성 응 고(directional solidification)를 실시하면, 실리콘에서 액체와 고체 상태 사이의 분배계수에 의해서 대부분의 금속 불순물들이 제거된다.In the conventional method of removing impurities from metal silicon to produce high purity solar cell grade silicon, a method of melting silicon and treating it with slag is used. After melting the slag metal grade, the directional solidification removes most of the metal impurities by the partition coefficient between the liquid and the solid state in the silicon.

하지만, 철 등의 일부 불순물의 경우 슬래그 처리에 의해서 제거하기가 매우 어렵다. 따라서, 실리콘에 포함된 불순물 중 철 성분을 효과적으로 제거하기 위하여 실리콘을 화학 약품을 처리하는 방법이 사용되고 있다. 즉, 금속 등급 실리콘을 분쇄한 후, 분쇄된 실리콘을 염산, 불산, 질산 등의 화학약품으로 처리하는 것을 침출(leaching)이라고 한다. 이렇게 침출 처리된 실리콘에서 추가로 불순물을 제거하기 위해서는 방향성 응고를 실시하여야 하고, 이런 방향성 응고를 실시하기 위해서는 침출 처리된 실리콘을 용융시켜야 한다. 그러나, 침출 처리를 위하여 분쇄된 실리콘은 그 표면적이 증가되어 통상의 실리콘이 용융되는 조건으로 용융이 어려워지는 단점이 있기 때문에, 분쇄된 상태에서 연속하여 불순물을 제거하는 것은 매우 어렵다.However, some impurities such as iron are very difficult to remove by slag treatment. Therefore, a method of treating silicon with chemicals is used to effectively remove iron components from impurities contained in silicon. In other words, after pulverizing metal grade silicon, treating the pulverized silicon with chemicals such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, and nitric acid is called leaching. In order to further remove impurities from the leached silicon, directional solidification must be performed, and the leached silicon must be melted to perform such directional solidification. However, since the silicon pulverized for the leaching treatment has a disadvantage in that the surface area thereof is increased and melting becomes difficult under the condition that ordinary silicon is melted, it is very difficult to continuously remove impurities in the pulverized state.

또한, 미국특허 제6,861,040호에는 2회의 방향성 응고가 사용되는 방법을 개시한다. 상기 특허는 먼저 일종의 방향성 응고를 이용하여 용융된 실리콘을 응고시킨 후, 금속 등급의 실리콘에서 그레인(grain)을 크게 성장시킨다. 이때, 실리콘에서 액체와 고체 상태 사이의 분배계수에 의하여, 철 등의 불순물이 그레인 경계면에 모이게 되고, 이를 분쇄한 후 화학약품으로 처리하는 침출 공정을 거치면, 철 등의 불순물이 제거된다. 나아가, 다시 한번 방향성 응고 및 침출 공정을 거침으로써 추가로 불순물을 제거한다.U. S. Patent No. 6,861, 040 also discloses a method in which two directional solidifications are used. The patent first solidifies molten silicon using a kind of directional solidification and then grows grain significantly in metal grade silicon. At this time, due to the distribution coefficient between the liquid and the solid state in the silicon, impurities such as iron are collected at the grain boundary surface, and after the leaching process, which is pulverized and treated with a chemical, impurities such as iron are removed. Furthermore, the impurities are further removed by going through the directional solidification and leaching process once again.

그러나, 실리콘을 결정 성장시키기 위한 방향성 응고는 매우 속도가 느린 공 정으로서 그 원가가 매우 비싼 단점이 있다. 따라서 이렇게 2회 이상의 방향성 응고를 실시하는 경우 효과적으로 철 등의 불순물을 제거할 수 있지만 필연적으로 원가가 증가되는 문제가 있다.However, directional solidification for crystal growth of silicon is a very slow process, and the cost is very expensive. Therefore, when the directional solidification is performed two or more times, impurities such as iron can be effectively removed, but there is a problem that the cost is inevitably increased.

본 발명의 목적은 반응 표면적을 감소시킴으로써, 다양한 종류의 불순물을 용이하고 효율적으로 제거하는 실리콘 정제 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method for purifying silicon which reduces and easily removes various kinds of impurities by reducing the reaction surface area.

본 발명의 다른 목적은 반응 시간을 단축함으로써 제조 비용을 절감하는 실리콘 정제 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for purifying silicon, which reduces the production cost by shortening the reaction time.

본 발명의 상기 및 기타 목적들은 상세히 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다. The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described in detail.

본 발명은 불순물이 포함된 실리콘을 정제하는 방법에 있어서, 금속 등급의 실리콘을 분쇄하는 단계, 상기 분쇄된 실리콘을 화학 약품으로 침출(leaching)시키는 단계, 상기 침출된 실리콘을 펠릿(pellet) 형태로 압착하는 단계, 및 상기 압착된 실리콘을 용융시킨 후 응고시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method for purifying silicon containing impurities, comprising the steps of pulverizing metal grade silicon, leaching the pulverized silicon with chemicals, and leaching the leached silicon into pellets. Compacting, and melting the compacted silicon and then solidifying the compacted silicon.

본 발명은 침출된 실리콘을 압착하기 전, 침출된 실리콘을 바인더(binder)와 혼합한 후, 혼합된 실리콘을 압착할 수도 있다. 또한, 슬래그(slag) 방식으로 불순물을 먼저 제거한 후, 응고를 시킬 수도 있다.The present invention may mix the leached silicon with a binder and then compress the mixed silicon before pressing the leached silicon. In addition, the impurities may be first removed by a slag method and then solidified.

본 발명에 따른 방법으로 정제된 실리콘은 그 순도가 99 % 이상이다.The silicon purified by the process according to the invention is at least 99% pure.

본 발명은 반응 표면적을 감소시킴으로써 다양한 종류의 불순물을 용이하고 효율적으로 제거하고, 반응 시간을 단축함으로써 제조 비용을 절감하는 효과가 있다.The present invention has the effect of reducing the production cost by reducing the reaction surface area to easily and efficiently remove various kinds of impurities, and shorten the reaction time.

본 발명은 불순물이 포함된 실리콘을 정제하는 방법에 있어서, 금속 등급의 실리콘을 분쇄하는 단계, 상기 분쇄된 실리콘을 화학 약품으로 침출시키는 단계, 상기 침출된 실리콘을 펠릿 형태로 압착하는 단계, 및 상기 압착된 실리콘을 용융시킨 후 응고시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method for purifying silicon containing impurities, comprising the steps of pulverizing a metal grade silicon, leaching the pulverized silicon with a chemical, compressing the leached silicon in pellet form, and And solidifying the melted compressed silicon.

상기 금속 등급의 실리콘을 분쇄하고, 그 분쇄된 실리콘을 염산, 불산, 질산, 산화제2철 등의 화학 약품으로 침출시킴으로써, 철 등의 불순물을 제거하는 단계 자체는 이미 공지된 기술이므로, 당업자가 용이하게 실시할 수 있다. 본 발명은 추가적으로 불순물을 제거할 때 실리콘의 접촉 표면적을 증대시킴으로써 반응 효율을 높이기 위하여, 이미 화학 약품으로 처리된 실리콘을 펠릿 형태로 압착하는 단계를 거치는 것에 기술적 특징이 있다.The step of removing impurities such as iron by grinding the metal grade silicon and leaching the pulverized silicon with chemicals such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, nitric acid, ferric oxide, etc. is already known, so it is easy for those skilled in the art. Can be done. The present invention has a technical feature in that the step of compressing silicon, which has already been treated with chemicals, into pellets, in order to increase the reaction efficiency by increasing the contact surface area of silicon when removing impurities.

또한, 일반적으로 실리콘을 분쇄시킨 후, 그 분쇄된 실리콘을 용융시키고 응고시키는 방법 자체는 공지된 기술이다. 따라서, 실리콘을 용융시킨 후 응고시키는 방법 자체는 당업자가 용이하게 실시할 수 있다. 하지만, 본 발명에서는 펠릿 형태로 압착된 실리콘을 종래의 용융 및 방향성 응고 방식으로 처리한다는 데 그 기술적 특징이 있다. 이때, 이미 공지의 기술인 슬래그(slag) 방식으로 Al, Ca 등의 불 순물을 먼저 제거한 후, 응고를 시킬 수도 있다.Also, in general, after the silicon is ground, the method itself of melting and solidifying the ground silicon is a known technique. Therefore, the method itself of melting and solidifying silicon can be easily carried out by those skilled in the art. However, the present invention is characterized in that the silicon compressed in the form of pellets is treated in a conventional melting and directional solidification method. At this time, the impurities such as Al, Ca, etc. may be first removed by a slag method that is already known, and then solidified.

본 발명에서 압착된 실리콘을 용융시킨 후 응고시키는 단계는 석영(ultra quartz) 또는 카본 블랙(carbon black) 등의 재료를 이용하여 야금학적 방식(Metallurgical routes)으로 형성된 실리콘을 정제하는 것을 포괄적으로 뜻하는 것이며, 상세한 야금학적 방식은 A.F.B. Braga et al(A.F.B. Braga, S.P. Moreira, P.R. Zampieri, J.M.G. Bacchin, P.R. Mei, "New processes for the production of solar-grade polycrystalline silicon: A review," Solar Energy Materials & Solar Cells 92 (2008) 418-424) 등에 잘 나타나 있다. In the present invention, the step of melting and then solidifying the compressed silicon refers to purifying silicon formed by metallurgical routes using a material such as quartz or carbon black. The detailed metallurgical method is AFB Braga et al (AFB Braga, SP Moreira, PR Zampieri, JMG Bacchin, PR Mei, "New processes for the production of solar-grade polycrystalline silicon: A review," Solar Energy Materials & Solar Cells 92 (2008) 418-424) It is well shown on the back.

나아가, 침출된 실리콘을 압착하기 전, 침출된 실리콘을 바인더(binder)와 혼합한 후, 혼합된 실리콘을 압착할 수도 있다. 이때, 바인더는 PVA(Poly vynyl Alcohol), 전분, 셀룰로오스, HEC(Hydro Ethyl Celluose), 물유리 등이 있으며, 이들이 1 개 이상 조합되어 사용될 수도 있다. 본 발명의 혼합 반응은 상온에서 진행되는 것이 바람직하다. 또한, 반응 용매로는 물 등이 적절하게 사용될 수 있다.Further, before squeezing the leached silicon, the leached silicon may be mixed with a binder, and then the mixed silicon may be squeezed. In this case, the binder is PVA (Poly vynyl Alcohol), starch, cellulose, HEC (Hydro Ethyl Celluose), water glass and the like, these may be used in combination of one or more. It is preferable that the mixing reaction of the present invention proceeds at room temperature. In addition, water or the like may be appropriately used as the reaction solvent.

또한, 바인더 자체의 오염을 방지하기 위하여, 압착된 실리콘을 용융시키기 전, 압착된 실리콘을 건조할 수 있다. 이때, 건조는 30 ~ 1000 ℃에서 진행하는 것이 바람직하다. 이때, 건조 온도가 높아질수록 건조 시간은 짧아지며, 바인더 자체로 인한 오염을 더욱 더 방지할 수 있다. 예를 들어, 50 ℃ 정도의 온도로 4~5 시간 건조를 시킬 수 있으며, 400 ℃ 정도의 온도로 20~30 분 건조를 시킬 수 있다.In addition, in order to prevent contamination of the binder itself, the compressed silicon may be dried before melting the compressed silicon. At this time, it is preferable to advance drying at 30-1000 degreeC. At this time, the higher the drying temperature is shorter drying time, it is possible to further prevent contamination due to the binder itself. For example, it can be dried for 4 to 5 hours at a temperature of about 50 ℃, it can be dried for 20 to 30 minutes at a temperature of about 400 ℃.

본 발명에 따른 압착은 기존의 압착기를 사용하는데, 바인더를 혼합한 실리콘을 압착기에 넣을 수도 있고, 바인더를 혼합하지 않은 실리콘을 압착기에 넣을 수도 있다. 압착기 사용 방법 자체는 이미 공지된 기술이다. 하지만, 본 발명에서는 압착기의 압력은 0.5 ~ 150 ton·중/㎠로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 ~ 100 ton·중/㎠이다. 압착기를 통과할 경우, 펠릿 형태의 실리콘이 배출된다. The pressing according to the present invention uses a conventional pressing machine, the silicon mixed with the binder may be put in the press, or the silicon without the binder may be put in the press. The method of using the compactor itself is a known technique. However, in the present invention, the pressure of the compactor is preferably 0.5 to 150 ton · m 2 / cm 2, more preferably 1 to 100 ton · m 2 / cm 2. When passing through the compactor, pelleted silicon is discharged.

본 발명에 따른 펠릿 형태의 압착된 실리콘은 용융된 후 응고시키는 단계를 거치는데, 이때 용융 방식은 저항 가열 방식, 인덕션(induction) 방식, 플라즈마(plasma) 방식, 전자빔(electron beam) 방식 등이 있으며, 특별히 이에 한정되지 않는다. 상술한 용융 방식 자체는 공지 기술이다. The compressed silicon of the pellet form according to the present invention is melted and then solidified, wherein the melting method is a resistance heating method, an induction method, a plasma method, an electron beam method, and the like. In particular, it is not limited to this. The above-mentioned melting method itself is a known technique.

따라서, 본 발명은 불순물 제거를 2회 하는 것으로서, 화학 약품을 사용하여 1 회 진행하고, 반응 표면적을 감소시키기 위하여 펠릿 형태로 만들어진 1회 정제된 실리콘을 본 발명에 따른 방향성 응고 방식에 의하여 다시 한번 불순물을 제거하는 것이다. 그 결과, 방향성 응고 방식을 1회만 사용함으로써 정제 공정 시간을 단축하면서도, 금속 등급의 실리콘을 99 % 이상의 순도를 가지도록 정제한 것이다.Therefore, the present invention is to remove impurities twice, and to proceed once with chemicals, and once again by using the directional solidification method according to the present invention once purified silicon made in pellet form to reduce the reaction surface area. It is to remove impurities. As a result, the use of the directional solidification method only once to reduce the purification process time, while purifying the metal grade silicon to have a purity of 99% or more.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention can be better understood by the following examples, which are intended for the purpose of illustration of the invention and are not intended to limit the scope of protection defined by the appended claims.

실시예Example

실시예Example 1 One

순도 99.0 % 이하인 실리콘을 분쇄기로 분쇄하고, 불산과 염산을 이용하여 침출시켰다. 압착기를 이용하여 침출된 실리콘을 20 ton·중/㎠의 압력으로 압착하여 펠릿형 실리콘을 만들었다. 저항 가열 방식을 이용하여 펠릿형 실리콘을 용융시킨 후, 방향성 응고시킴으로써, 태양 전지에 사용되는 실리콘을 제조하였다. 이때 실리콘의 순도는 99.9 %이상이었다.Silicon having a purity of 99.0% or less was pulverized with a grinder and leached with hydrofluoric acid and hydrochloric acid. The leached silicon was pressed using a compactor at a pressure of 20 ton · middle / cm 2 to produce pellet-type silicon. After the pellet-type silicon was melted using a resistance heating method, the silicon used for the solar cell was manufactured by directional solidification. At this time, the purity of silicon was more than 99.9%.

실시예Example 2 2

순도 99.0 % 이하인 실리콘을 분쇄기로 분쇄하고, 불산과 염산을 이용하여 침출시켰다. 침출된 실리콘에 PVA를 부가하여 상온에서 교반한 후, 압착기를 이용하여 교반된 실리콘을 20 ton·중/㎠의 압력으로 압착하여 펠릿형 실리콘을 만들었다. 이렇게 압착된 펠릿형 실리콘을 400 ℃에서 건조시킨 후, 저항 가열 방식을 이용하여 펠릿형 실리콘을 용융시킨 후, 방향성 응고시킴으로써, 태양 전지에 사용되는 실리콘을 제조하였다. 이때 실리콘의 순도는 99.9 % 이상이었다.Silicon having a purity of 99.0% or less was pulverized with a grinder and leached with hydrofluoric acid and hydrochloric acid. PVA was added to the leached silicon and stirred at room temperature, and then the stirred silicon was pressed at a pressure of 20 ton. After the thus-obtained pellet-type silicon was dried at 400 ° C, the pellet-type silicon was melted using a resistance heating method and then directionally solidified to prepare silicon used in the solar cell. At this time, the purity of silicon was more than 99.9%.

실시예Example 3 3

순도 99.0 % 이하인 실리콘을 분쇄기로 분쇄하고, 불산과 염산을 이용하여 침출시켰다. 침출된 실리콘에 PVA를 부가하여 상온에서 교반한 후, 압착기를 이용하여 교반된 실리콘을 20 ton·중/㎠의 압력으로 압착하여 펠릿형 실리콘을 만들었다. 이렇게 압착된 펠릿형 실리콘을 400 ℃에서 건조시킨 후, 저항 가열 방식을 이용하여 펠릿형 실리콘을 용융시키고, 슬래그 처리한 후, 방향성 응고시킴으로써, 태양 전지에 사용되는 실리콘을 제조하였다. 이때 실리콘의 순도는 99.9 % 이상이 었다.Silicon having a purity of 99.0% or less was pulverized with a grinder and leached with hydrofluoric acid and hydrochloric acid. PVA was added to the leached silicon and stirred at room temperature, and then the stirred silicon was pressed at a pressure of 20 ton. After the thus-obtained pellet-type silicon was dried at 400 ° C, the pellet-type silicon was melted using a resistance heating method, slag-treated, and then directionally solidified, thereby preparing silicon used in the solar cell. At this time, the purity of silicon was more than 99.9%.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications and variations of the present invention can be readily made by those skilled in the art, and such variations or modifications can be considered to be included within the scope of the present invention.

Claims (7)

불순물이 포함된 실리콘을 정제하는 방법에 있어서,In the method for purifying silicon containing impurities, 금속 등급의 실리콘을 분쇄하는 단계;Grinding the metal grade silicon; 상기 분쇄된 실리콘을 화학 약품으로 침출(leaching)시키는 단계;Leaching the pulverized silicon with a chemical; 상기 침출된 실리콘을 펠릿(pellet) 형태로 압착하는 단계; 및Pressing the leached silicon into pellets; And 상기 압착된 실리콘을 용융시킨 후 응고시키는 단계;Melting and then solidifying the compressed silicon; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법.Silicon purification method comprising a. 제1항에 있어서, 상기 침출된 실리콘을 바인더(binder)와 혼합한 후, 펠릿 형태로 압착하는 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법.The method of claim 1, wherein the leached silicon is mixed with a binder and then compressed into pellets. 제1항에 있어서, 상기 압착된 실리콘을 건조시킨 후, 용융시키는 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법.The method of claim 1, wherein the compressed silicon is dried and then melted. 제2항에 있어서, 상기 바인더는 PVA(Poly vynyl Alcohol), 전분, 셀룰로오스, HEC(Hydro Ethyl Celluose), 물유리, 또는 이들의 조합들인 것을 특징으로 하 는 실리콘 정제 방법.The method of claim 2, wherein the binder is polyvinyl alcohol (PVA), starch, cellulose, hydro ethyl cellulose (HEC), water glass, or combinations thereof. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 압착은 0.5 ~ 150 ton·중/㎠에서 수행되는 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법.5. The method of claim 1, wherein the pressing is performed at 0.5 to 150 ton · m 2 / cm 2. 6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 압착된 실리콘을 용융시키고, 슬래그(slag) 방식을 상기 용융된 실리콘에 적용한 후 응고시키는 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법.The method of claim 1, wherein the compacted silicon is melted and solidified after applying a slag method to the molten silicon. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 압착된 실리콘을 용융시키는 방식은 저항 가열 방식, 인덕션(induction) 방식, 플라즈마(plasma) 방식, 또는 전자빔(electron beam) 방식 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 실리콘 정제 방법. The method of claim 1, wherein the compressed silicon is melted by any one of a resistive heating method, an induction method, a plasma method, and an electron beam method. Silicon purification method, characterized in that.
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