KR20080087089A

KR20080087089A - Ｍｅｍｓ 빔 스캐너 시스템 및 방법

Info

Publication number: KR20080087089A
Application number: KR1020087014122A
Authority: KR
Inventors: 레나터스 에이치. 엠. 샌더스; 알렉산더 제이.에이.씨. 도런스타인
Original assignee: 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
Priority date: 2005-12-15
Filing date: 2006-12-08
Publication date: 2008-09-30
Also published as: WO2007069165A3; JP2009519494A; CN101331419A; US20080316562A1; WO2007069165A2; EP1963905A2

Abstract

MEMS 스캐너 시스템 및 방법로서, 입사하는 레이저 빔을 편향(deflect)시키기 위한 시스템은 입사 레이저 빔을 받아들여 반사된 레이저 빔을 생서하게 작동 가능한 MEMS 거울(26)과 애퍼처(30)를 가진 불투명한 플레이트(28)를 포함하며, 불투명한 플레이트(28)는 MEMS 거울(26)에 반대하여 위치한다. 애퍼처(30)는 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔이 애퍼처(30)를 통해서 지나가게 허용하도록 크기가 주어진다.

Description

ＭＥＭＳ 빔 스캐너 시스템 및 방법{MEMS BEAM SCANNER SYSTEM AND METHOD}

본 발명은 일반적으로 스캐너 시스템들, 그리고 보다 특정적으로 MEMS 스캐너 시스템과 방법에 관련한 것이다.

마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너들은 MEMS 거울 상에 입사하는 레이저 빔을 편향시키기 위해 MEMS 거울을 사용한다. MEMS 거울은, 입사 레이저 빔이 원하는 대로 편향되도록, 제어 시그널들에 대응하여 하나 또는 두 개의 축 상에서 피봇한다. 반사된 레이저 빔은 스크린 상에, 광 센서 상에, 또는 보는 이의 눈 안으로 투사될 수 있다. MEMS 스캐너들의 사용들의 예들은 헤드-업 디스플레이들, 핸드헬드 프로젝션 디바이스들, 레이저 기반의 프로젝션 디바이스들, 유연한 리쏘그래피(lithography)등을 포함한다. MEMS 스캐너들은, 입사 레이저 빔과 반사 레이저 빔을 프로세스하도록 요구되는 바에 따라, 거울, 2 색성(dichroic) 거울, 렌즈, 격자 등과 같은 광학적 엘리먼트들을 포함할 수 있다.

제 1 세대 디바이스들 만큼 깨지기 쉽지는 않다 하더라도, 현 세대의 MEMS 스캐너들은 깨지기 쉽다. MEMS 거울을 충격 손상으로부터 및/또는 그 작동에 영향을 끼칠 수 있는 외부의 힘들로부터 보호하기 위해 쉴딩이 요구된다. 현재, 유리 플레이트가 MEMS 거울의 전방에 이를 외부 물체들로부터 보호하기 위해 제공된다. 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔 모두는 유리 플레이트를 통과하여 지나간다. 보호를 제공한다 하더라도, 커버 플레이트는 추가적인 문제점을 만들어낸다. 유리 플레이트로부터 반사되거나 또는 이의 내부에서 반사된 산란(stray) 광은 스크린 또는 광 센서로의 반사된 레이저 빔을 수반한다. 산란 광은 1차원 MEMS 스캐너에 대해서 밝은 스팟으로서의 또는 2차원 MEMS 스캐너에 대해서 밝은 라인으로서 이미지안에 나타난다. 유리 플레이트에 반사 방지 코팅을 제공함으로써 이 문제를 해결하려는 시도들이 행하여 졌으나, 이 시도들은 성공적이지 못해 왔다.

산란 광의 문제에 대한 또 다른 시도된 해결책은 커버 플레이트를 제거하고 MEMS 거울을 보호되지 않은 채 놔두는 것이었다. 이는 산란 광이 커버 플레이트에 의해서 반사되는 문제를 해결하지만, 추가적인 문제들을 일으킨다. 다른 산란 광이 몇몇 소스들로부터 일어날 수 있다: 입사 레이저 빔을 프로세싱하는 광학 엘리먼트들이 산란 광을 생성할 수 있다; 반사된 레이저 빔을 프로세스하는, 이색성 거울들과 같은, 광학 엘리먼트들이 산란 광을 생성할 수 있다; 그리고 MEMS 스캐너 안으로의 광 누출(leakage)이 산란 광을 생성할 수 있다. 산란 광은 MEMS 거울로부터 또는, MEMS 거울 주위의 고 반사성 실리콘 표면들과 같은, 다른 내부 표면들로부터 반사하며, 스크린 또는 광 센서로의 반사된 레이저 빔을 수반한다. 집중된 산란 광은 이미지들 상에 스팟들 또는 라인들을 만들어낸다. 일반화된 산란 광은 반사된 레이저 빔과 백그라운드 사이의 광 차(light difference)를 감소시킴으로써 콘트래스트를 감소시킨다. 어떠한 산란 광도 이미지의 질과 MEMS 스캐너가 사용되는 디바이스의 바람직한 성능을 감소시킨다.

위의 단점들을 극복하는 MEMS 스캐너 시스템과 방법을 가지는 것이 바람직할 것이다.

본 발명의 한 양상은 입사 레이저 빔을 받아들이고 반사된 레이저 빔을 생성하도록 작동 가능한 MEMS 거울과, 애퍼처를 가진 불투명한 플레이트를 포함하는 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 MEMS 스캐너 시스템을 제공하며, 불투명한 플레이트는 MEMS 거울 반대편에 있게된다. 애퍼처는 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔이 애퍼처를 통과하게 허용하도록 크기가 주어진다.

본 발명의 또 다른 양상은 MEMS 거울을 제공하는 단계, 애퍼처를 가진 불투명한 플레이트를 MEMS 거울로부터 가로질러 장착시키는 단계, 그리고 애퍼처를 통해 MEMS 거울로부터 반사된 레이저 빔으로서 반사시키기 위해 MEMS 거울 상의 애퍼처를 통해 입사 레이저 빔을 인도하는(directing) 단계를 포함하는 MEMS 스캐너에서 산란 광을 감소시키기 위한 방법을 제공한다.

본 발명의 또 다른 양상은 MEMS 거울, MEMS 거울로부터 가로질러 애퍼처를 가진 불투명한 플레이트를 장착시키기 위한 수단, 그리고 애퍼처를 통해 MEMS 거울로부터 반사된 레이저 빔으로서 반사시키기 위해 MEMS 거울 상의 애퍼처를 통해 입사 레이저 빔을 인도하기 위한 수단을 포함하는 MEMS 스캐너에서 산란 광을 감소시키기 위한 시스템을 제공한다.

본 발명의 위의 그리고 다른 특성들과 장점들은, 수반하는 도면들과 함께 읽히는, 현재 바람직한 실시모드의 다음의 상세한 기술로부터 더 자명하게 될 것이다. 상세한 기술과 도면들은 한정적이기 보다는 본 발명의 예시적인 것이며, 발명의 범위는 첨부된 청구사항들과 이에 동등한 것에 의해서 정의된다.

도1 과 도 2는 본 발명에 따라 만들어진 MEMS 스캐너 시스템의, 각기, 정면도 및 측면도들;

도 3은 본 발명에 따라 만들어진 MEMS 스캐너 시스템의 단면도.

도 4는 본 발명에 따라 만들어진 또 다른 MEMS 스캐너의 단면도.

도 5는 본 발명에 따라 만들어진 또 다른 MEMS 스캐너 시스템의 단면도.

유사한 엘리먼트들이 유사한 참조 번호들을 공유하는, 도 1 및 도 2는, 각기, 본 발명에 따라서 만들어진 MEMS 스캐너 시스템의 정면도 및 측면도이다. MEMS 스캐너 시스템은 MEMS 거울에 도달하는 산란 광의 양을 감소시키기 위해 불투명한 플레이트의 애퍼처를 사용한다. 산란 광은 레이저 소스 및 입사 레이저 빔을 제공하는 광학적 엘리먼트들, 수용(receiving) 컴포넌트 및 반사된 레이저 빔을 받아들이는 광학적 엘리먼트들, 및/또는 다른 입사 광 소스들에 의해서 생성될 수 있다. 수용 컴포넌트들의 예들은 스크린들, 광 센서들, 보는 이(viewer)의 눈 등을 포함한다. 광학적 엘리먼트들의 예들은 거울들, 2색성 거울들, 렌즈들, 격자들 등을 포함한다.

도 1 및 도 2에 참조하여, MEMS 스캐너 시스템(20)은 MEMS 거울(26)과 MEMS 거울(26) 맞은편의 불투명 플레이트(28)를 포함한다. 불투명 플레이트(28)는 애퍼 처(30)를 가진다. MEMS 거울(26)은 MEMS 거울 평면(24)을 가지는 몸체(22) 상에 장착되며, 애퍼처(30)를 통해 들어오는 입사 레이저 빔(도시되지 않음)을 받아들여 애퍼처(30)를 통해 나가는 반사된 레이저 빔(도시되지 않음)을 생성하도록 작동 가능하다. 애퍼처(30)는 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔이 애퍼처(30)를 통과하도록 크기가 주어진다. 반사된 레이저 빔의 방향은 MEMS 거울(26)로의 제어 시그널(도시되지 않음)에 의해서 정해진다. 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔은 애퍼처(30) 내의 트래블(travel) 영역(32)을 정의한다. 트래블 영역(32)은 애퍼처(30)위의 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔의 트래블 영역이다. 불투명 플레이트(28)는 MEMS 거울 평면(24)에 대해 장착 각(α)로 장착된다.

MEMS 거울(26)은 레이저 빔을 편향시키기 위한 제어 시그널에 반응적인 어떠한 MEMS 거울도 될 수 있다. 한 실시모드에서, MEMS 거울(26)은 한 축을 따라서 레이저 빔을 편향시키는 일차원 MEMS 거울이다. 또 다른 실시모드에서, MEMS 거울(26)은 두 개의 축을 따라서 레이저 빔을 편향시키는 2차원 MEMS 거울이다. 예시적 MEMS 거울들은 독일 Itzehoe의 프라운호퍼 실리콘 테크놀러지 연구소{Fraunhofer Institute for Silicon Technology(ISIT)} 와, 독일, Dresden의 프라운호퍼 포토닉 마이크로 시스템 연구소{Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems(IPMS)}으로부터 구할 수 있다. MEMS 거울(26)은 몸체(22)의 MEMS 거울 평면(24)의 뒤쪽에, 또는 고르게(flush), 또는 이를 넘어서(proud) 장착될 수 있다.

불투명 플레이트(28)는 애퍼처(30)를 가진 어떠한 불투명 플레이트도 될 수 있다. 애퍼처(30)는, 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔이 애퍼처(30)을 통해 지나가나 최소의 산란 광이 통과하도록 가능한 한 작게 된다. 애퍼처(30)는 애퍼처(30)의 에지들과 간섭을 회피하기에 적당하게 클 수 있다. 한 실시모드에서, 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔은 애퍼처(30) 내의 트래블 지역(32)을 한정하며 애퍼처(30)는 트래블 지역(32)만을 수용하도록 크기가 주어진다. 또 다른 실시모드에서, 특정 응용에 적합한 미리 정해진 거리에 더해 애퍼처(30)는 트래블 지역(32)을 수용하도록 크기가 주어진다. 한 실시모드에서, 애퍼처(30)는 트래블 지역(32) 밖으로 약 1에서 5 밀리미터의 미리 정해진 거리만큼 연장한다. 한 예에서, 불투명 플레이트(28)는 불투명 물질로 만들어지며 애퍼처(30)는 불투명 물질에서의 구멍이다. 또 다른 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 플레이트를 불투명하게 만들기 위해 코팅이 적용된, 투명 또는 반투명 유리와 같은, 광 투과 물질로 된 플레이트로 만들어진다. 코팅이 안된 부분은 애퍼처를 형성한다. 애퍼처(30)는, 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔의 경로에 적합하게 된, 사각, 정사각, 끝이 둥근 사각, 스테이디엄 형태등과 같은, 특정 응용에 따른 형태를 가질 수 있다. 불투명 플레이트(28)는 애퍼처(30)의 에지로부터 반사를 피하기 위해 얇을 수 있으나, 특정 응용에 원하는 만큼 두꺼울 수 있다. 한 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 불투명 플레이트(28), MEMS 거울(26) 및 몸체(22) 사이의 반사를 감소시키기 위해, 카본 블랙 등과 같은, 흡수 레이어를 가진다. 당업자들은 불투명 플레이트(28)가 특정 응용에 적합한 상이한 형태, 물질, 그리고 애퍼처들을 가진다는 것을 주지할 것이다.

불투명 플레이트(28)는 MEMS 거울 평면(24)에 대해 장착 각(α)로 장착된다. 한 실시모드에서, 장착 각 (α)는 약 -10에서 +10 도 사이, 더 특정적으로 약 -5에서 +5 도 사이에 있을 수 있다. 장착 각 (α)의 0이 아닌 각들은 몸체(22)의 불투명 플레이트(28)와 MEMS 거울 평면(24) 사이에 산란 광의 다수의 반사들을 야기하는 이점을 가진다. 일부 산란 광이 각 반사에서 손실되므로, 다수의 반사들은 산란 광을 페이드 아웃(fade out)시켜, 산란 광이 불투명 플레이트(28)와 MEMS 거울 평면(24) 사이의 웨지 형태의 공간에 머무르게 하고, 애퍼처(30)를 나가지 못하게 한다. 장착 각 α의 비-제로 각들은 불투명 플레이트(28)와 MEMS 거울 평면(24) 사이의 웨지 형태 공간을 형성하는 어떠한 비-제로 각이 될 수 있다. 한 예시에서, 장착 각 α는 약 5도이다. 한 실시모드에서, 불투명 플레이트(28) 및/또는 MEMS 거울 평면(24)은 내부 반사를 더 감소시키기 위해, 카본 블랙 등과 같은, 흡수 레이어를 가질 수 있다. 한 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 애퍼처(30)와 MEMS 거울(26) 사이의 거리가 약 1에서 5 밀리미터들이 되게 장착될 수 있다. 당업자들은, 애퍼처(30)와 MEMS 거울(26) 사이의 거리가 특정 응용에 적합하게 약 1에서 5 밀리미터보다 더 크거나 더 작을 수 있다는 것을 주지할 것이다.

유사한 엘리먼트들이 도 1 및 도 2 와 유사한 참조 번호를 공유하는, 도 3은 본 발명에 따라서 만들어진 MEMS 스캐너 시스템의 단면도이다. 이 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 불투명 물질로 만들어지며 애퍼처(30)는 불투명 물질에서의 구멍이다. 레이저 소스(도시되지 않음)로부터의 입사 레이저 빔(40)은 애퍼처(30)의 트래블 지역(32)을 통해 MEMS 스캐너 시스템(120)으로 들어온다. 입사 레이저 빔(40)은 반사된 레이저 빔(42)으로서 MEMS 거울(26)로부터 반사한다. 반사된 레이저 빔(42)은 애퍼처(30)의 트래블 지역(32)을 통해 MEMS 스캐너 시스템(120)을 나간다. 반사된 레이저 빔(42)은 스크린 상에, 광 센서 상에, 또는 보는 이의 눈 안으로 투사될 수 있다. 스크린에 의해서 반사된 산란 광, 랜덤 산란 광 등과 같은, 산란 광(44)은 불투명 플레이트(28)의 불투명 물질 부분에 의해서 MEMS 거울(26)로부터 차단된다.

유사한 엘리먼트들이 도 3과 유사한 참조 번호들을 공유하는, 도 4는 본 발명에 따라서 만들어진 또 다른 MEMS 스캐너 시스템의 단면도이다. 이 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 코팅된 부분(46)과 코팅 안된 부분(48)을 가진다. 불투명 플레이트(28)는, 코팅(52)이 플레이트(50)의 코팅된 부분(46)을 불투명하게 만들어 주며, 투명 또는 반투명 유리와 같은, 광 투과 물질의 플레이트(50)로 만들어진다. 플레이트(50)의 코팅 안된 부분(48)은 애퍼처(30)를 형성한다. 코팅 물질들의 예는 알루미늄, 크롬, 은 등을 포함한다. 레이저 소스(도시되지 않음)로부터의 입사 레이저 빔(40)은 애퍼처(30)의 트래블 지역(32)을 통해 MEMS 스캐너 시스템(220)으로 들어온다. 입사 레이저 빔(40)은 반사된 레이저 빔(42)으로서 MEMS 거울(26)로부터 반사한다. 반사된 레이저 빔(42)은 애퍼처(30)의 트래블 지역(32)을 통해서 MEMS 스캐너 시스템(220)을 나간다. 반사된 레이저 빔(42)은 스크린 상에, 광 센서 상에, 또는 보는 이의 눈 안으로 투사될 수 있다. 스크린, 랜덤 산란 광 등에 의해서 반사되는 산란 광과 같은, 산란 광(44)은 불투명 플레이트(28)의 코팅된 부분(46)에 의해서 MEMS 거울(26)로부터 차단된다. 또 다른 실시모드에서, 코팅은 플레이트(50)의 양쪽 면에 적용될 수 있다.

유사한 엘리먼트들이 도 1 내지 도 3과 유사한 참조 번호들을 공유하는, 도 5는 본 발명에 따라서 만들어진 또 다른 MEMS 스캐너 시스템의 단면도이다. 이 실시모드에서, 불투명 플레이트(28)는 MEMS 스캐너 시스템(320)안의 MEMS 거울 평면에 대해서 장착 각(α)로 장착된다. 도 5는 장착 각(α)에 대한 비-제로(non-zero) 장착 각이 MEMS 거울(26)을 때리는 내부적으로 생성된 산란 광의 양이 감소된다는 것을 도시한다. MEMS 거울(26)에의 또는 이 근처로부터 기인하는 산란 광(60)은 불투명 플레이트(28)로부터 반사하여, 반사된 산란 광(62)이 MEMS 거울(26)을 빗나가게 된다. 산란 광은 불투명 플레이트(28) 및 MEMS 거울 평면(24) 사이에서 애퍼처(30)를 통해 MEMS 스캐너 시스템(320)을 떠나지 않으면서 여러 차례 반사될 수 있다.

이 명세서에 개시된 발명의 실시모드들이 바람직한 것으로 고려되는 한편, 다양한 변화들과 수정들이 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으며 만들어 질 수 있다. 발명의 범위는 첨부된 청구항들에 표시되며, 동등한 것들의 의미와 범위 내에 있게되는 모든 변화들은 그 안에 포함되는 것으로 의도된다.

일반적으로 스캐너 시스템들, 그리고 보다 특정적으로 MEMS 스캐너 시스템과 방법에 관련한 것으로서 산업상 이용 가능하다.

Claims

입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템으로서,

입사 레이저 빔을 받아들이고 반사된 레이저 빔을 생성하도록 작동 가능한, MEMS 거울(26)과;

애퍼처(30)를 가지며 MEMS 거울(26)의 반대편에 있는, 불투명 플레이트(28)를 포함하며,

여기서 애퍼처(30)는 입사 레이저 빔과 반사된 레이저 빔이 애퍼처(30)를 통과하도록 허용하는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, MEMS 거울(26)이 MEMS 거울 평면(24)에 장착되며 불투명 플레이트(28)가 MEMS 거울 평면(24)에 대해 각을 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 불투명 플레이트(28)가 MEMS 거울 평면(24)에 대해서 약 -10에서 +10도 사이의 장착 각을 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, MEMS 거울 평면(24)이 흡수 레이어를 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 불투명 플레이트(28)가 불투명 물질로 만들어 지며, 애퍼처(30)가 구멍인, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 불투명 플레이트(28)가 코팅된 부분(46)과 코팅 안된 부분(48)을 가지는 광 투과 플레이트를 포함하며, 코팅 안된 부분(48)은 애퍼처(30)를 형성하는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 불투명 플레이트(28)가 흡수 레이어를 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 6항에 있어서, 흡수 레이어가 카본 블랙(carbon black)인, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 애퍼처(30)가 사각, 정사각, 끝이 둥근 사각, 그리고 스테이디엄(stadium) 형태로 구성된 그룹으로부터 선택되는 형태를 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 애퍼처(30)가 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔이 간섭없이 애퍼처(30)를 통과하도록 허용해 주도록 크기가 주어지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔이 애퍼처(32) 내부의 트래블 지역(32)을 한정하며, 애퍼처(30)가 트래블(travel) 지역(32)의 크기를 가지는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 1항에 있어서, 입사 레이저 빔 및 반사된 레이저 빔이 애퍼처(30) 내에서 트래블 지역(32)을 한정하며, 애퍼처(30)가 트래블 지역(32) 밖으로 약 1에서 5 밀리미터 가량 연장하는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 방법로서,

MEMS 거울을 제공하는 단계와;

MEMS 거울로부터 가로질러 애퍼처를 가지는 불투명 플레이트를 장착하는 단계와;

애퍼처를 통한 MEMS 거울 상의 입사 레이저 빔을 반사된 레이저 빔으로서 MEMS 거울로부터 애퍼처를 통해 반사하도록 인도하는 단계를 포함하는,

마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 방법.
제 13항에 있어서, 장착 단계가 MEMS 거울의 MEMS 거울 평면에 대해서 비-제로(non-zero) 장착 각으로 불투명 플레이트를 장착하는 단계를 포함하는, 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 방법.
제 13항에 있어서, MEMS 거울로부터 표류 광을 차단하는 단계를 더 포함하는, 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 방법.
제 12항에 있어서, 불투명 플레이트로부터 반사를 감소시키는 단계를 더 포 함하는, 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 방법.
마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 표류 광을 감소시키기 위한 시스템으로서,

MEMS 거울과;

MEMS 거울로부터 가로질러 애퍼처를 가지는 불투명 플레이트를 장착하기 위한 수단과;

애퍼처를 통한 MEMS 거울 상의 입사 레이저 빔을 반사된 레이저 빔으로서 MEMS 거울로부터 애퍼처를 통해 반사시키기 위해 인도하기 위한 수단을 포함하는, 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 산란 광을 감소시키기 위한 시스템.
제 17항에 있어서, 장착을 위한 수단이 MEMS 거울의 MEMS 거울 평면에 대해서 장착 각으로 불투명 플레이트를 장착하기 위한 수단을 포함하는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 17항에 있어서, MEMS 거울로부터 표류 광을 차단하기 위한 수단을 더 포함하는, 입사 레이저 빔을 편향시키기 위한 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스 템(MEMS) 스캐너 시스템.
제 17항에 있어서, 불투명 플레이트로부터 반사를 감소시키기 위한 수단을 더 포함하는, 마이크로-기계가공된 전기 기계적 시스템(MEMS) 스캐너에서 산란 광을 감소시키기 위한 시스템.