KR20070024015A

KR20070024015A - 레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사방법

Info

Publication number: KR20070024015A
Application number: KR1020050078466A
Authority: KR
Inventors: 강태민; 이재호; 이성택
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2005-08-25
Filing date: 2005-08-25
Publication date: 2007-03-02
Anticipated expiration: 2025-08-25
Also published as: US20070048436A1; EP1757978A3; EP1757978B1; KR100712215B1; EP1757978A2; US7776493B2

Abstract

레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사 방법에 대한 것이다. 상기 레이저 열전사용 마스크는 빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들을 포함하고, 상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 것을 특징으로 한다.

레이저 열전사, 마스크, 보정

Description

레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사 방법{Mask for LITI and LITI method using the same}

도 1a는 마스크의 위치에 따른 기판 위치에 대한 패턴 특성을 나타낸 그래프,

도 1b는 기판 위치에 따른 레이저 빔 에너지 밀도를 나타낸 그래프,

도 2는 도 1a 및 도 1b에 대해 패터닝된 기판을 나타낸 평면도,

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치를 나타낸 사시도,

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 마스크 및 광학부를 나타낸 측면도,

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사장치의 마스크 제조방법을 나타낸 다이아그램도 및 좌표도,

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 방법을 나타낸 사시도들,

도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 패터닝된 기판에 대해 나타낸 평면도,

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 유기전계발광표시장치를 나타낸 단면도이다.

본 발명은 레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광학부의 균일도를 보정하는 레이저 열전사용 마스크와 그를 이용한 레이저 열전사 방법에 대한 것이다.

평판 표시 장치 중 유기전계발광표시장치는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로 시야각에 문제가 없어서, 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.

상기 유기전계발광표시장치는 유기전계발광소자로 사용하는 재료와 공정에 따라 습식공정을 사용하는 고분자형 소자와 증착공정을 사용하는 저분자형 소자로 크게 나눌 수 있다. 상기 고분자 또는 저분자 발광층의 패터닝 방법 중 잉크젯 프린팅 방법의 경우 발광층 이외의 유기층들의 재료가 제한적이고, 기판 상에 잉크젯 프린팅을 위한 구조를 형성해야하는 번거로움이 있다. 또한 증착 공정에 의한 발광층의 패터닝 경우 금속 마스크의 사용으로 인해 대형 소자의 제작에 어려움이 있다.

위와 같은 패터닝의 방법을 대체할 수 있는 기술로 레이저 열전사법(LITI : Laser Induced Thermal Imaging)이 최근 개발되고 있다.

레이저 열전사법이란 광원에서 나오는 레이저를 열에너지로 변환하고, 이 열 에너지에 의해 패턴 형성 물질을 대상 기판으로 전사시켜 패턴을 형성하는 방법으로, 이와 같은 방법을 위해서는 전사층이 형성된 도너 기판과 광원, 피사체인 기판이 필요하다. 상기 열전사법은 도너 기판이 리셉터인 상기 기판 전체를 덮고 있는 형태를 가지고, 상기 도너 기판과 기판은 스테이지 상에서 고정된다. 그리고, 상기 도너 기판 상에 레이저 전사를 수행하여 패터닝을 완성하게 된다.

마스크를 이용한 프로젝션 방식을 사용하여 상기 패터닝을 수행하는 경우, 직사각형과 같은 일정 형태의 패턴이 배열된 마스크를 사용할 수 있다.

도 1a는 마스크의 위치에 따른 기판 위치에 대한 패턴 특성을 나타낸 그래프,도 1b는 기판 위치에 따른 레이저 빔 에너지 밀도를 나타낸 그래프 및 도 2는 도 1a 및 도 1b에 대한 실제 패터닝된 기판에 대하여 나타낸 평면도이다.

먼저 도 1a를 참조하면, 기판 상에 패터닝된 이미지의 위치(x,y)는 마스크의 위치(u,y)에 대하여 일정한 비율로 비례관계(점선)를 보여야 한다. 즉, 마스크 패턴의 위치(u,y)에 대하여 기판 상의 패턴이 일정한 비율로 1:1 대응이 되어, 기판 상의 패턴이 동일 간격 동일 형태로 형성되어야 한다. 그러나, 실제 형성된 패턴은 상기 그래프(실선)와 같이, 프로젝션 렌즈에 의해 왜곡(distortion)이 될 수 있다.

도 2를 참조하면, 상기 마스크(3)의 중심축들(5)과 상기 기판(1)의 패턴들(7)과의 위치를 비교해 보면, 상기 마스크(3)의 가장자리에 해당되는 패턴으로 갈수록 이미지가 왜곡됨을 알 수 있다. 즉, 중심에서 가장자리로 갈수록, 상기 기판패턴(7)의 중심과 상기 마스크 패턴의 중심축(5) 사이의 간격이 점점 멀어짐을 알 수 있다. 따라서, 하나의 마스크로 인해 패터닝된 패턴들 중 가장자리에 위치한 발 광영역(9)은 패터닝이 완전히 되지 않을 수 있다.

다음으로 도 1b를 참조하면, 상기 패턴의 위치(x,y)에 대하여 레이저 빔의 에너지 밀도는 항상 동일한 값(점선)이어야 한다. 그러나 상기 레이저 빔의 에너지 밀도(power density)는 레이저 빔 자체의 분포와 상기 레이저 빔이 투과하는 상기 프로젝션 렌즈의 변형에 의한 불균일로 인해 그래프(실선)와 같이 특성이 나타날 수 있다. 이는 마스크의 가장자리에 위치한 패턴에 있어서, 중심부에 위치한 패턴에 비해 스캐닝 되는 레이저의 에너지량이 상대적으로 줄어들게 된다는 것을 의미한다. 이로 인해 기판 상에 전사된 패턴 중 상기 마스크의 가장자리 패턴에 해당되는 영역은 완전한 전사가 이루어지기 힘들어지고, 패턴이 끊어져 형태가 불명확해지므로 이미지가 왜곡될 수 있다.

상기의 예들과 같은 이미지의 왜곡(image distortion) 현상은 균일한 패턴 형성에 문제를 발생시켜, 제품의 품질을 저하시키고, 수율을 하락시켜 비용을 상승시키는 문제를 일으킬 수 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 패터닝된 이미지의 왜곡 현상을 방지하는 마스크를 제공하는 것에 목적이 있다.

또한, 본 발명이 이루고자하는 다른 기술적 과제는, 상기 마스크를 사용하는 레이저 열전사 방법을 제공하는 것에 목적이 있다.

또한, 본 발명이 이루고자하는 다른 기술적 과제는, 상기 레이저 열전사 방법을 이용하는 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공하는 것에 목적이 있다.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명은 빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들을 포함하고, 상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사용 마스크를 제공한다.

상기 레이저 열전사용 마스크는 상기 각 패턴의 폭을 b, 패턴의 길이를 d, 레이저 빔의 에너지 밀도를 h(x,y)라 할 때, 상기 빔 스캔방향을 y, 그에 수직인 방향을 x라 하고 상기 중심부의 패턴 중심점의 위치를 (0,0)이라 하면, x=a의 중심점을 갖는 패턴의 길이 p는 다음의 식을 만족하는 것일 수 있다.

나아가서, 상기 패턴들의 중심축들 사이의 간격들은 중심부에서 가장자리로 갈수록 좁아지는 것일 수 있다.

또한, 레이저 및 프로젝션렌즈를 구비하는 광학부, 상기 광학부 하부에 위치하는 스테이지를 구비하는 레이저 열전사장치를 제공하는 단계; 빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들을 포함하고, 상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 레이저 열전사용 마스크를 상기 레이저와 프로젝션 렌즈 사이에 위치시키는 단계; 및 상기 광학부 하부에 위치하는 스테이지 상에 기판을 위치시키는 단계를 포함하는 레이저 열전사 방법을 제공한다.

상기 레이저 열전사 방법은 상기 스테이지 상에 기판을 위치시킨 후, 상기 레이저에서 발생한 빔이 상기 마스크 패턴의 빔 스캔방향으로 상기 기판을 스캔하는 단계를 더욱 포함할 수 있다. 또한, 상기 스캔단계 후 상기 광학부는 상기 스캔방향과 수직인 방향으로 스텝을 옮기고, 다시 레이저 빔을 스캔하는 것을 포함할 수 있다.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치를 나타낸 사시도이다.

도면을 참조하면, 레이저 열전사 장치는 광학부(10)와 광학부 하부에 위치하는 스테이지(30)를 포함한다. 상기 스테이지(30)는 베이스(33) 및 이송판(35)으로 구성되며, 상기 이송판(35) 상에는 척(37)이 위치할 수 있다. 상기 척(37)은 y축 방향으로 이동이 가능함으로써, 레이저 열전사 시 더욱 효율적으로 기판(20)이 위치하도록 한다.

또한, 상기 레이저 열전사 장치는 상기 척(37) 상에 위치하는 기판(20)을 포함할 수 있다. 나아가서, 상기 기판(20) 상에 위치하고, 전사층을 구비하는 도너기판(25)을 더욱 포함할 수 있으며, 상기 전사층은 유기전계발광표시장치의 발광층일 수 있다.

상기 광학부(10)는 지지대(15)에 의해 지지되고, 상기 광학부(10)는 상기 지지대(15)를 따라 x축 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 상기 광학부(10)는 레이저 및 프로젝션 렌즈를 구비한다.

그리고, 상기 프로젝션 렌즈와 상기 레이저 사이에는 마스크(40)가 배치된다. 상기 마스크(40)는 일정형태의 패턴(43)이 하나의 행으로 배열된 것일 수 있다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사장치의 마스크 및 광학부를 나타낸 측면도로써, 도 3의 광학부 및 마스크를 나타낸 것이다.

도면을 참조하면, 상기 광학부(도 3의 10)는 레이저(5) 및 프로젝션 렌즈(7)를 포함한다. 상기 레이저(5)에서 발생하는 빔(5a)은 1차적으로 상기 마스크(40) 상에 조사되고, 상기 마스크(40)를 통과한 레이저 빔은 상기 프로젝션 렌즈(7)를 거쳐, 상기 스테이지(도 3의 30) 상에 위치하는 기판(20)으로 도달하게 된다.

상세히 설명하면, 상기 레이저(5)는 레이저 빔(5a)을 방출한다. 즉, 상기 레이저(5)는 상기 마스크(40) 상부에 위치하여 상기 마스크(40)에 대해 수직으로 빔(5a)을 조사한다. 상기 레이저 빔(5a)은 상기 프로젝션 렌즈(7) 및 상기의 마스크(40)를 투과한다. 이로써 상기 레이저 빔(5a)은 패터닝될 수 있다.

상기 마스크(40)는 빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들(43)을 포함하고, 상기 각각의 패턴들(43)은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어진다. 즉, 상기 패턴들(43)은 중심부의 패턴의 길이(t1)와 가 장자리의 패턴의 길이(t2)가 서로 다르되, 각각의 패턴들(43)은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 각각의 패턴의 길이가 길어지는 형태인 것이다.

따라서, 스캐닝 과정 중 빔 프로파일이 변형되어 상기 마스크 패턴들(43)의 가장자리로 갈 수록 에너지량이 상대적으로 줄어드는 문제가 발생하더라도, 가장자리로 갈 수록 길이가 길어지는 상기 마스크 패턴들(43)로 인해 상대적으로 줄어든 에너지량을 보상받을 수 있다. 따라서, 상기 기판(20) 상에 전사된 패턴 중 상기 마스크(40)의 가장자리 패턴에 해당되는 영역에도 완전한 전사가 이루어질 수 있다.

또한, 상기 패턴들(43)의 중심축들, 즉, 중심점을 통과하고 패턴의 길이와 나란한 방향의 축들 사이의 간격들은 중심부에서 가장자리로 갈수록 좁아질 수 있다. 다시 말하면, 각각의 패턴들(43)에 있어서, 중심부의 패턴 사이의 간격(a1)보다 가장자리 패턴 사이의 간격(a2)이 더 작을 수 있다.

따라서, 상기 프로젝션 렌즈로 인해 중심에서 가장자리로 갈수록, 상기 기판의 패턴 중심축과 상기 마스크 패턴(43)의 중심축 사이의 간격이 점점 멀어지는 현상을 방지하여, 상기 기판(20)의 스캐닝하고자 하는 모든 영역에 일정한 간격을 가지는 패턴을 형성할 수 있다.

이로 인해, 상기 기판(20) 상에 형성된 패턴들은 패턴마다 균일한 에너지와 일정한 패턴 간격을 가질 수 있다. 따라서, 상기 마스크(40)를 구비하는 레이저 열전사 장치는 별도의 장치 없이, 패터닝 특성을 향상시킬 수 있게 된다.

도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사장치의 마스크 제조방법을 나타낸 다이아그램으로써, 상기 패턴들(43)의 형성과정을 나타낸 것이고, 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 장치의 마스크를 나타낸 좌표도이다.

도 5a 및 도 5b를 동시에 참조하면, 먼저, 상기 프로젝션 렌즈(7)로 인한 이미지 변형을 측정(ⅰ)한다. 상기 마스크(40)의 좌표계를 (u,v), 상기 기판 상에 형성할 이미지의 좌표계를 (x,y)라 하면, 상기 프로젝션 렌즈(7)에 의한 이미지의 변형을 상기 마스크 좌표의 함수로 나타내면 다음과 같다.

u=f(x,y), v=g(x,y)

이때 상기 마스크의 패턴들과 상기 이미지의 패턴들의 중심부에 위치한 패턴 각각의 중심점 (x=0,y=0)과 (u=0,v=0)이 일치해야 한다고 가정하면 0=f(0,0), 0=g(0,0)으로 정의할 수 있다.

다음으로, 상기 레이저 빔(5a)의 파워분포를 측정(ⅱ)한다. 즉, 상기 레이저 빔(5a) 자체의 분포와 광학부의 변형에 의한 에너지 밀도 분포의 중심치에 대한 비율로 표시하면, 에너지 밀도비 e=h(x,y)의 함수로 나타낼 수 있다. 이때, 상기 마스크 패턴들의 중심부에 위치한 패턴의 중심점 (x=0, y=0)에서의 에너지 밀도를 1이라 하면, 1=h(0,0)이라 할 수 있다.

그리고, 중심에서의 패턴크기(ⅲ) 및 패턴의 중심위치(ⅳ)를 결정하고, 상기 결정된 패턴크기로 인해 패턴의 폭을 계산(ⅴ)한다. 예를 들어, x=0, y=0의 기판 위치에 폭 b, 길이 d인 패턴을 형성하고자 하면, x=a에서 중심점을 갖는 패턴의 폭 은 x=a-b/2에서 x=a+b/2로 b가 된다.

그리고, 다음과 같은 순서로 패턴의 길이를 계산(ⅵ)한다.

y=0에서 중심점을 갖는 패턴 즉, x=0, y=0에서 중심점을 갖는 패턴들을 통과하는 레이저 빔의 총 에너지는 이고, x=a에서 중심점을 갖는 패턴들을 통과하는 레이저 빔의 총 에너지는 이므로, 다음의 수식을 만족하여야 한다.

상기의 식을 통하여 x=a에서의 중심점을 갖는 패턴의 길이 즉, 레이저 빔 스캔방향으로의 길이 p를 구할 수 있다.

상기와 같은 방법으로 중심에 대해 주변까지의 패턴들의 크기를 각각 계산(ⅶ)하여 마스크의 패턴들을 위치 및 크기를 정의함으로써 마스크가 완성된다.

따라서, 상기와 같은 과정으로 패턴이 형성된 마스크를 레이저 열전사 장치에 구비함으로써, 이미지의 왜곡(image distortion) 현상을 방지하여 제품의 품질을 개선시킬 수 있으며, 수율을 상승시켜 비용을 절감하는 효과가 있다.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 열전사 방법을 나타낸 사시도들이다.

도 6a를 참조하면, 먼저, 레이저 및 프로젝션렌즈를 구비하는 광학부(10), 상기 광학부 하부에 위치하는 스테이지(30)를 구비하는 레이저 열전사장치를 제공한다. 그리고, 상기 광학부(10)의 균일도를 보정하도록 형성된 마스크(40)를 상기 레이저와 프로젝션 렌즈 사이에 위치시킨다. 상기 마스크(40)는 빔 스캔 방향과 수직으로 정렬된 패턴들을 포함하고, 상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장 자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 것으로써, 상기 도 4a 내지 도 4c에서 설명한 바와 같다.

상기 스테이지(30) 상에 척(37)을 이동시켜 상기 광학부(10) 하부로 위치시킨다. 상기 척(37) 상에는 기판(20)이 위치하고, 상기 기판(20) 상에는 전사층이 형성된 도너기판(25)이 위치할 수 있다.

상기 광학부(10)와 상기 기판(20)을 얼라인한 후 상기 광학부(10)는 고정시키고 레이저 빔(5a)을 조사함과 동시에 상기 척(37)을 이동시킴으로써, 상기 마스크의 패턴(43)에 따라 상기 기판(20)상에 전사층(23)의 패터닝을 수행한다. 상기 전사층은 유기전계발광표시장치의 발광층일 수 있다.

상기 레이저에서 발생한 빔(5a)은 상기 마스크 패턴(43)의 빔 스캔방향(y)으로 상기 기판(20)을 스캔함으로써 상기 전사층(23)을 패터닝한다. 상기 레이저 빔(5a)의 빔스캔 방향(y)은 상기 패턴(43)의 열방향일 수 있다. 즉, 상기 척(37)이 상기 빔 스캔방향(y)으로 일정속도로 이동하게 되고, 이때 상기 레이저에서 발생한 빔(5a)은 상기 마스크(40) 패턴(43)의 형태로 패터닝되고, 상기 패터닝된 레이저 빔(5a)이 상기 기판(20)을 스캔하게 됨으로써 패터닝이 수행된다.

도 6b를 참조하면, 상기 빔 스캔방향(y)의 스캐닝이 종료된 후, 상기 광학부(10)는 상기 빔 스캔방향(y)과 수직인 방향(x)으로 스텝을 옮긴다. 그리고, 상기 광학부(10)와 상기 기판(20)의 얼라인 후 다시 도 5a와 같은 방법으로 스캐닝을 수행한다.

도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따른 패터닝된 기판에 대해 나타낸 평면도로 써, 기판의 일부분을 나타낸 것이다.

도면을 참조하면, 상기 도 6a 및 도 6b의 방법으로 형성된 전사층 패턴(23)은 스트라이프형으로 단위화소 각각의 발광영역(9) 상에 형성된다. 상기 패턴(23)들은 모두 발광영역을 완전히 덮으며 중심위치의 변화없이 패터닝될 수 있다. 또한, 각 패턴(23)이 전사되기 시작하는 시점(i)과 종료되는 시점(e)에 각 패턴에 적용되는 레이저의 에너지는 각 패턴마다 균일하게 인가됨으로써, 각 단위화소마다 형성된 전사층의 특성도 균일하게 패터닝이 될 수 있다.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 유기전계발광표시장치를 나타낸 단면도로써, 도 6c의 Ⅰ-Ⅰ'에 따른 단면도를 나타낸 것이다.

도면을 참조하면, 기판(20) 상에 화소전극(145)을 형성한다. 상기 화소전극(145)를 형성하기 전에 상기 기판(20)은 각 단위화소마다 박막트랜지스터(Tr)가 형성되어 있다. 즉, 기판(20) 상에 반도체층(100), 게이트 전극(120), 소스 전극(130a) 및 드레인 전극(130b)을 형성하여 박막트랜지스터(Tr)를 형성한다.

상기 박막트랜지스터(Tr)가 형성된 기판(20) 상에 절연막(141)을 형성한다. 상기 절연막(141)은 무기막, 유기막 또는 그들의 이중층으로 형성할 수 있으며, 나아가서, 무기 보호층(135) 및 유기 평탄화층(140) 및 그들의 이중층으로 형성할 수 있다.

상기 절연막(141) 내에 상기 소스 전극(130a) 또는 상기 드레인 전극(130b)을 노출시키는 비아홀을 형성한다. 그리고, 상기 절연막(141) 상에 도전막을 적층 후 패터닝함으로써 상기 화소전극(145)을 형성한다. 상기 화소전극(145)이 형성된 기판 상에 절연막을 적층후 패터닝함으로써 상기 화소전극(145)을 부분적으로 노출하는 화소정의막(150)을 형성할 수도 있다.

다시 도 3을 참조하면, 상기 화소전극(145)이 형성된 기판(20)과 전사층이 형성된 도너 기판(25)을 대향한 후 라미네이션한다. 그리고, 상기 라미네이션된 기판(20)을 척(37) 상에 위치시킨다. 그리고, 도 6a 내지 도 6b를 참조하여 서술한 방법을 사용하여 상기 기판(20)상에 전사층을 패터닝한다.

다시 도 7을 참조하면, 상기 전사층은 발광층(23a)일 수 있다. 또한, 상기 발광층(23a)의 상부 또는 하부에는 전하주입층 또는 전하수송층을 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 발광층(23a)의 하부에는 정공주입층 또는 정공수송층(155a)을, 상기 발광층(23a)의 상부에는 전하주입층(155b) 또는 전하수송층을 형성할 수 있다. 즉, 상기 화소전극(145) 상에 상기 발광층(23a)을 포함하는 유기층(155)을 형성할 수 있다. 상기 발광층(23a)이 패터닝된 기판(20) 상에 대향전극(160)을 형성한 후 봉지함으로써 유기전계발광표시장치를 완성한다.

본 발명에 따른 레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사 방법은 각각의 패턴마다 적용되는 레이저의 에너지 밀도가 일정하도록 제조된 마스크를 사용함으로써, 전사층의 특성을 균일하게 패터닝할 수 있다. 따라서, 상기 레이저 열전사 장치는 별도의 장치 없이, 패터닝 특성을 개선시킬 수 있는 장점이 있다.

또한, 본 발명에 따른 레이저 열전사용 마스크 및 그를 이용한 레이저 열전사 방법은 프로젝션 렌즈의 균일도를 보정하도록 형성된 마스크를 사용함으로써, 기판 상에 형성된 패턴들의 이미지가 가장자리로 치우치는 현상을 개선시키는 효과가 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims

빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들을 포함하고,

상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사용 마스크.
제 1 항에 있어서,

상기 각 패턴의 폭을 b, 패턴의 길이를 d, 레이저 빔의 에너지 밀도를 h(x,y)라 할 때, 상기 빔 스캔방향을 y, 그에 수직인 방향을 x라 하고 상기 중심부의 패턴 중심점의 위치를 (0,0)이라 하면, x=a의 중심점을 갖는 패턴의 길이 p는 다음의 식을 만족하는 것인 레이저 열전사용 마스크.
제 1 항에 있어서,

상기 패턴은 유기전계발광표시장치의 발광층 패턴을 형성하기 위한 레이저 열전사용 마스크.
제 1 항에 있어서,

상기 패턴들의 중심축들 사이의 간격들은 중심부에서 가장자리로 갈수록 좁아지는 것인 레이저 열전사용 마스크.
레이저 및 프로젝션렌즈를 구비하는 광학부, 상기 광학부 하부에 위치하는 스테이지를 구비하는 레이저 열전사장치를 제공하는 단계;

빔 스캔 방향과 수직방향으로 배열된 패턴들을 포함하고, 상기 각각의 패턴들은 중심부의 패턴에서 가장자리의 패턴으로 향하는 방향으로 길이가 길어지는 레이저 열전사용 마스크를 상기 레이저와 프로젝션 렌즈 사이에 위치시키는 단계; 및

상기 광학부 하부에 위치하는 스테이지 상에 기판을 위치시키는 단계를 포함하는 레이저 열전사 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 스테이지 상에 기판을 위치시킨 후, 상기 레이저에서 발생한 빔이 상기 마스크 패턴의 빔 스캔방향으로 상기 기판을 스캔하는 단계를 더욱 포함하는 레이저 열전사 방법.
제 6 항에 있어서,

상기 스캔단계 후 상기 광학부는 상기 스캔방향과 수직인 방향으로 스텝을 옮기고, 다시 레이저 빔을 스캔하는 것을 포함하는 레이저 열전사 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 각 패턴의 폭을 b, 패턴의 길이를 d, 레이저 빔의 에너지 밀도를 h(x,y), 상기 빔 스캔방향을 y, 그에 수직인 방향을 x라 하면, 상기 마스크는 상기 중심부 패턴의 중심점 위치를 (0,0)이라 할 때, x=a의 중심점을 갖는 패턴의 길이 p는 다음의 식을 만족하도록 패턴들을 구비하는 것인 레이저 열전사방법.
제 5 항에 있어서,

상기 마스크의 패턴들의 중심축들 사이의 간격들은 중심부에서 가장자리로 갈수록 좁아지는 것인 레이저 열전사 방법.
제 5 항에 있어서,

상기 기판 상에 전사층을 구비하는 도너기판을 위치시키는 것을 더욱 포함하는 레이저 열전사 방법.
제 10 항에 있어서,

상기 전사층은 유기전계발광표시장치의 발광층인 레이저 열전사 방법.