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KR20060076551A - 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법 - Google Patents

기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법 Download PDF

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KR20060076551A
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South Korea
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substrate
exposure
shot
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defocus
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홍창영
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동부일렉트로닉스 주식회사
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법에 관한 것이다.
본 발명의 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법은 기판 가장자리샷의 패턴 불량을 방지하기 위한 노광방법에 있어서, 기판의 가장자리 지역을 레벨링 하는 단계; 상기 기판의 서브 박막의 표면높낮이 상태를 인지하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 정상일 경우 정상 순서의 스캔방향으로 노광을 실시하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 비정상일 경우 상기 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광을 실시하는 단계; 및 다음 샷으로 정상 스캔을 진행하는 단계를 포함하여 이루어짐에 기술적 특징이 있다.
따라서, 본 발명의 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법은 가장자리샷 노광시 레벨센서에서 서브 박막의 표면높낮이 이상유무에 따라 노광 스캔 방향을 달리함으로써 가장자리샷 디포커스를 방지하는 장점이 있고, 노광장비의 생산처리량 저하를 방지하는 효과가 있다.
노광, 디포커스, 포토레지스트, 포토리소그라피, 가장자리샷

Description

기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법{Method for exposure protecting defocus of edge shot in wafer}
도 1은 종래의 노광 스캔방향 및 노광 순서.
도 2는 종래의 기판의 가장자리 및 스캔 방향.
도 3은 본 발명의 가장자리샷 노광 순서도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10. 기판의 가장자리 20. 기판의 가장자리샷
본 발명은 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 가장자리샷 노광시 레벨센서에서 서브 박막의 표면높낮이 이상유무에 따라 노광 스캔 방향을 달리하여 가장자리샷 디포커스를 방지하며 노광장비의 생산처리량 저하를 방지하도록 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광 방법에 관한 것이다.
잘 알려진 바와 같이, 반도체 소자는 다양한 형태의 막(예를 들어, 실리콘막, 산화막, 필드 산화막, 폴리 실리콘막, 금속 배선막 등)이 다층 구조로 적층되는 형태를 갖는데, 이러한 다층 구조의 반도체를 제조하는 데 있어서는 증착공정, 산화 공정, 포토 리소그라피 공정(포토 레지스트막 도포, 노광, 현상 공정 등) 또는 패터닝 공정, 에칭 공정, 세정 공정, 린스 공정 등과 같은 여러 가지 공정들을 필요로 한다.
통상, 포토 리소그라피 공정은, 임의의 막 위에 스핀 코팅 등의 방법을 통해 포토 레지스트(감광막)를 도포하고, 이를 노광한 후 현상함으로써 패턴을 형성한다, 이때 서브 임의의 막의 막 균일도에 따라 기판의 가장자리 부분에 디포커스가 종종 발생하며, 그 이유는 노광장비에서 기판 노광시 샷별로 서브 박막의 평탄도를 레벨 센서(level sensor)을 통해 인지 후 평탄도에 따라 샷별로 노광 공정을 진행하게 되나, 이때 기판 가장자리 부분의 경우, 일정 수준 이상의 급격한 단차 발생시 레벨 센서(level sensor)에서 정확한 평탄도 정보를 인지하지 못함으로 인해 기판 가장자리 쪽의 패턴 불량이 발생하며 이로 인해 수율 저하를 가져온다.
도 1은 종래의 노광장비에서 기판에 노광할 때의 스캔방향 및 노광 순서를 표시한 그림이다. 도 1에서 숫자는 노광 샷의 순서를 표시한 것이며, +, - 부호 는 노광시 스캔 방향을 표시한 것이다.
도 2는 기판의 가장자리(10)를 도식적으로 나타낸 것으로, + 스캔과 - 스캔을 기판의 가장자리 기준으로 방향을 표시하여 나타냈다.
임의의 서브 막이 증착된 상태로 기판이 포토 리소그라피 공정으로 넘어 올 경우, 포토레지스트 도포후 노광장비에서 특정 마스크를 이용하여 패턴을 노광 시킨다. 이때 노광 장비에서는 기판에 한 샷 한샷을 노광 시킬때, 각각의 샷 영역을 레벨센서를 이용하여 서브 막의 평탄정도를 인식하고 그 평탄도 또는 레벨값에 따라 샷별 +스캔, -스캔을 번갈아 가면서 기판의 노치 기준으로 오른쪽에서 왼쪽으로, 왼쪽에서 오른쪽으로 움직이면서 노광을 한다.
현재는 위와 같은 문제로 인해, 기판의 가장자리 쪽에 걸리는 샷(shot)은 처음부터 패턴을 형성 시키지 않거나, 가장자리샷 패턴을 형성 시킬 경우에는 레벨 센서를 기판에서 밖으로 레벨링할 수 있게, 노광 스캔 방향을 고정하여 진행한다. 첫번째 경우 처럼 가장자리 쪽 샷의 패턴을 형성 시키지 않을 경우 한장의 기판에서 생산되는 칩수가 감소되고, 두번째 경우처럼 레벨 센서의 스캔 방향을 고정 시키면, 통상 + 스캔, - 스캔 순서대로 노광를 진행하나, 일부 가장자리 샷의 노광 방향이 고정됨으로 인해, 생산처리량(through-put) 저하를 야기시켜 생산성 저하를 가져온다.
통상적인 경우 기판의 가장자리 또한 디포커스가 발생하지 않으나, 임의의 서브 막의 증착 상태가 안좋을 경우, 즉 가장자리쪽의 서브 막의 표면높낮이(topology)가 상태가 나쁠 경우, 도 1의 6-, 12-, 63+, 69+ 샷의 경우 기판의 밖에서 기판의 안쪽으로 레벨센서가 들어오면서 서브막의 단차 확인 시, 표면높낮이 단차가 비 정상적으로 크게 나타나고 이를 그대로 노광시 반영하여, 디포커스가 발생 되며, 이는 가장자리 샷의 칩 수율 감소로 이어진다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 가장자리샷 노광시 레벨 센서에서 서브 박막의 표면높낮이 이상유무에 따라 노광 스캔 방향을 달리하여 가장자리샷 디포커스를 방지하며 노광장비의 생산처리량 저하가 방지되도록 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법을 제공함에 본 발명의 목적이 있다.
본 발명의 상기 목적은 기판 가장자리샷의 패턴 불량을 방지하기 위한 노광방법에 있어서, 기판의 가장자리 지역을 레벨링 하는 단계; 상기 기판의 서브 박막의 표면높낮이 상태를 인지하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 정상일 경우 정상 순서의 스캔방향으로 노광을 실시하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 비정상일 경우 상기 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광을 실시하는 단계; 및 다음 샷으로 정상 스캔을 진행하는 단계를 포함하여 이루어진 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법에 의해 달성된다.
본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.
도 3은 본 발명의 가장자리샷 노광 순서도를 나타낸 것이다. 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 실행 순서는 기판의 가장자리 지역을 레벨링 하는 단계; 상기 기판의 서브 박막의 표면높낮이 상태를 인지하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 정상일 경우 정상 순서의 스캔방향으로 노광을 실시하는 단계; 상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 비정상일 경우 상기 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광을 실시하는 단계; 및 다음 샷으로 정상 스캔을 진행하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.
즉, 본 발명은 서브 막이 증착된 기판의 가장자리샷을 노광시 종래의 기술처럼 레벨센서에서 서브 박막의 표면높낮이 상태를 인지하고, 만약 일정 수준 이상의 표면높낮이 레벨값을 가질 경우 정상적인 스캔 방향에 상관없이 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광하도록 하며, 기판의 가장자리 레벨링시 일정 수준 이하의 표면높낮이 레벨값을 갖는 경우는 정상순서의 스캔 방향으로 노광을 실시한다.
통상 바깥쪽에서 기판의 안쪽으로 스캔을 할 경우 포폴러지 영향을 더 많이 받아 비 정상적으로 인지하기 때문에 디포커스가 발생하는데, 상기 서브 박막의 표면높낮이가 비정상적일 경우 안쪽에서 바깥쪽으로 스캔을 실시함으로써 상기 디포커스를 방지하는 작용을 하게 된다. 본 발명의 노광방법을 통해 상기와 같은 가장자리샷의 패턴 불량을 방지할 수 있으며, 노광장비의 생산처리량 저하를 방지하여 수율을 향상시킬 수 있다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양 한 변경과 수정이 가능할 것이다.
본 발명의 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법은 가장자리샷 노광시 레벨센서에서 서브 박막의 표면높낮이 이상유무에 따라 노광 스캔 방향을 달리함으로써 가장자리샷 디포커스를 방지하는 장점이 있고, 노광장비의 생산처리량 저하를 방지하는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 기판 가장자리샷의 패턴 불량을 방지하기 위한 노광방법에 있어서,
    기판의 가장자리 지역을 레벨링 하는 단계;
    상기 기판의 서브 박막의 표면높낮이 상태를 인지하는 단계;
    상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 정상일 경우 정상 순서의 스캔방향으로 노광을 실시하는 단계;
    상기 서브 박막의 표면높낮이 상태가 비정상일 경우 상기 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광을 실시하는 단계; 및
    다음 샷으로 정상 스캔을 진행하는 단계
    를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 표면높낮이의 상태가 정상인 경우는 소정 수준 이하의 레벨값을 갖는 경우인 것을 특징으로 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 표면높낮이의 상태가 비정상인 경우는 소정 수준 이상의 레벨값을 갖는 경우인 것을 특징으로 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 기판의 안쪽에서 바깥쪽으로 노광을 실시하는 단계는 표면높낮이 단차이의 비정상적인 인지 현상을 방지하는 것을 특징으로 하는 기판 가장자리샷의 디포커스를 방지하는 노광방법.
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