KR20050116174A - Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same - Google Patents
Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050116174A KR20050116174A KR1020040041219A KR20040041219A KR20050116174A KR 20050116174 A KR20050116174 A KR 20050116174A KR 1020040041219 A KR1020040041219 A KR 1020040041219A KR 20040041219 A KR20040041219 A KR 20040041219A KR 20050116174 A KR20050116174 A KR 20050116174A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pixel
- switching element
- adjacent
- light
- pixel portion
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134345—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
Abstract
인접하는 화소 불량을 방지하는 반사-투과형 어레이 기판 및 이를 갖는 액정 표시 장치가 개시된다. 제1 화소부는 제2광을 투과하는 제1 투과부와, 제1광을 반사하는 제1 반사부를 갖는다. 제2 화소부는 제1 화소부에 인접하되, 제1 반사부와 인접하여 제2광을 투과하는 제2 투과부와, 자연광을 반사하는 제2 반사부를 갖는다. 이에 따라, 인접한 화소내의 반사판을 상호 어긋나게 형성함으로써 반사판 패턴 불량에 의한 인접 화소 불량을 방지할 수 있다.A reflection-transmissive array substrate for preventing adjacent pixel defects and a liquid crystal display device having the same are disclosed. The first pixel portion has a first transmission portion that transmits the second light and a first reflection portion that reflects the first light. The second pixel portion is adjacent to the first pixel portion, and has a second transmission portion that transmits second light adjacent to the first reflection portion and a second reflection portion that reflects natural light. Accordingly, by forming the reflecting plates in the adjacent pixels shifted from each other, the defective adjacent pixels due to the reflecting plate pattern defects can be prevented.
Description
본 발명은 반사-투과형 어레이 기판 및 이를 갖는 액정 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인접하는 화소 불량을 방지하는 반사-투과형 어레이 기판 및 이를 갖는 액정 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a reflective-transmissive array substrate and a liquid crystal display having the same, and more particularly, to a reflective-transmissive array substrate and a liquid crystal display having the same to prevent adjacent pixel defects.
일반적으로 반사형 액정 표시 장치(Reflection type LCD)는 외부로부터 입사되는 광을 사용하므로 어두운 장소에서는 광량의 감소에 따라서 표시가 어두워져 디스플레이되는 화상을 제대로 볼 수 없다는 단점이 있다.In general, since a reflection type LCD uses light incident from the outside, the display becomes dark due to a decrease in the amount of light in a dark place, so that the displayed image cannot be properly viewed.
또한, 투과형 액정 표시 장치(Penetration type LCD)는 백라이트 등의 장치 내부 광원을 사용하므로 밝은 장소든, 어두운 장소든 간에 관계없이 디스플레이되는 화상을 인식할 수 있으나, 광원의 분량만큼 전력 소비가 커지고, 특히 전지에 의해 동작시키는 휴대용 표시 장치 등에는 적합하지 않은 단점이 있다.In addition, since a transmission type LCD uses a light source inside a device such as a backlight, it is possible to recognize an image displayed regardless of a bright or dark place, but the power consumption is increased by the amount of the light source. There is a disadvantage that it is not suitable for a portable display device or the like operated by a battery.
이러한 단점들을 해결하기 위해 상기한 반사형 액정 표시 장치와 투과형 액정 표시 장치를 병용하는 반사-투과형 액정 표시 장치(Transflective Type LCD 또는 Reflection and Penetration type LCD)의 개발이 대두되고 있다.In order to solve these shortcomings, development of a reflective-transmissive liquid crystal display (Transflective Type LCD or Reflection and Penetration type LCD) using the above-described reflective liquid crystal display and a transmissive liquid crystal display is emerging.
도 1은 일반적으로 반사-투과형 액정 표시 장치에 사용되는 어레이 기판을 도시한 도면이다. 도시한 바와 같이, 스캔 라인(G1,G2,..)과 데이터 라인(D1,D2,..)에 의해 정의되는 다수의 화소를 갖으며, 상기 화소에는 액정표시장치내의 백라이트로부터 제공되는 광을 투과하는 투과부(115)와, 외부로부터 입사되는 광을 반사시키는 반사부(116)를 가지고 있다. (종래기술이므로, 제1광, 및 제2광으로 구분하지 않았습니다.)1 is a diagram illustrating an array substrate generally used in a reflection-transmissive liquid crystal display device. As shown, it has a plurality of pixels defined by the scan lines G1, G2,... And the data lines D1, D2, .. where the light from the backlight in the liquid crystal display is provided. It has a transmission part 115 which permeate | transmits, and the reflection part 116 which reflects the light incident from the exterior. (Since it is a conventional technology, it was not divided into the first light and the second light.)
도 2는 도 1에 도시된 어레이 기판을 절단선 A-A'으로 절단한 개략적인 단면도이다. 도 2를 참조하면, 기판(110)상에는 데이터 라인(D1,D2,D3)이 형성되고, 상기 데이터 라인(D1,D2,D3) 위에는 요철 패턴을 갖는 유기막(114)이 형성된다. 유기막(114)의 표면에는 요철 패턴이 형성되고 그 위에는 각각의 화소에 대응하여 투과부와 반사부에 대응하여 투명 전극(115) 및 반사판(116)이 형성된다. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the array substrate illustrated in FIG. 1 taken along a cutting line A-A '. Referring to FIG. 2, data lines D1, D2, and D3 are formed on the substrate 110, and an organic layer 114 having an uneven pattern is formed on the data lines D1, D2 and D3. Concave-convex patterns are formed on the surface of the organic layer 114, and transparent electrodes 115 and reflecting plates 116 are formed on the transmissive and reflecting portions corresponding to the respective pixels.
일반적으로 반사판(116)은 화소부(P)의 반사영역에 대응하여 투명 전극(115)상에 형성된다. 이때, 반사판(116)과 그 하부에 형성된 투명 전극(115)간의 서로 다른 물성 특성에 의해 도시된 'I'부분과 같이, 반사판(116)이 투명 전극(115)에 대해 이격되어 들뜨는 현상이 발생한다. 이와 같은 반사판(116) 패턴 불량으로 인해 인접한 화소내의 반사판(116')과 쇼트되는 현상이 발생함으로써 화질 열화 등의 문제점을 야기한다. In general, the reflective plate 116 is formed on the transparent electrode 115 to correspond to the reflective region of the pixel portion P. FIG. At this time, the reflective plate 116 is spaced apart from the transparent electrode 115, as shown by the 'I' portion shown by different physical properties between the reflective plate 116 and the transparent electrode 115 formed thereunder. do. Due to the defective pattern of the reflecting plate 116, a phenomenon occurs that is shorted with the reflecting plate 116 'in the adjacent pixel, causing problems such as deterioration of image quality.
이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 반사판 패턴 불량에 의한 인접 화소 불량을 방지하는 반사-투과형 어레이 기판을 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem of the present invention is to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a reflection-transmissive array substrate that prevents adjacent pixel defects caused by defective reflector patterns.
본 발명의 다른 목적은 상기한 반사-투과형 어레이 기판을 갖는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having the above-mentioned reflection-transmissive array substrate.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 실시예에 따른 반사-투과형 어레이 기판은 제1 화소부와, 상기 제1 화소부에 인접하는 제2 화소부를 포함한다. 상기 제1 화소부는 제1광을 투과하는 제1 투과부와, 제2광을 반사하는 제1 반사부를 갖는다. 상기 제2 화소부는 상기 제1 화소부에 인접하되, 상기 제1 반사부와 인접하여 상기 제2광을 투과하는 제2 투과부와, 상기 제1광을 반사하는 제2 반사부를 갖는다.A reflection-transmissive array substrate according to an embodiment for realizing the object of the present invention described above includes a first pixel portion and a second pixel portion adjacent to the first pixel portion. The first pixel portion includes a first transmission portion that transmits first light and a first reflection portion that reflects second light. The second pixel portion is adjacent to the first pixel portion, and has a second transmission portion that transmits the second light adjacent to the first reflection portion and a second reflection portion that reflects the first light.
상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 하나의 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 어레이 기판, 액정층 및 컬러 필터 기판을 포함한다. 상기 어레이 기판은 서로 인접하는 화소부에 구비되는 투과부들과, 상기 화소부 내에서 상기 투과부 각각으로부터 연장되되, 서로 인접하는 화소부끼리 교호로 배치된 반사부들을 갖는다. 상기 컬러 필터 기판은 상기 화소부 각각에 대응하는 색 필터를 구비하고, 상기 어레이 기판과의 합체를 통해 상기 액정층을 수용한다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment for realizing another object of the present invention includes an array substrate, a liquid crystal layer, and a color filter substrate. The array substrate includes transmissive portions provided in adjacent pixel portions, and reflective portions extending from each of the transmissive portions within the pixel portion, and alternately arranged pixel portions adjacent to each other. The color filter substrate includes a color filter corresponding to each of the pixel units, and accommodates the liquid crystal layer through coalescence with the array substrate.
이러한 반사-투과형 어레이 기판 및 이를 갖는 액정 표시 장치에 의하면, 인접한 화소내의 반사판을 상호 어긋나게 형성함으로써 반사판 패턴 불량에 의한 인접 화소 불량을 방지할 수 있다.According to such a reflection-transmissive array substrate and a liquid crystal display device having the same, adjacent pixel defects due to a defective reflection plate pattern can be prevented by displacing the reflection plates in adjacent pixels.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사-투과형 어레이 기판을 도시한 것이다. 상기 반사-투과형 어레이 기판은 n개의 데이터 라인과 m개의 스캔 라인을 통해 n x m개의 화소부를 구동하는 구조를 갖는다. 이하에서는 인접한 제1 화소부 및 제2 화소부를 예로 하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 3 illustrates a reflective-transmissive array substrate in accordance with one embodiment of the present invention. The reflection-transmissive array substrate has a structure for driving n x m pixel units through n data lines and m scan lines. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the adjacent first pixel portion and the second pixel portion.
제1 화소부는 어레이 기판상의 가로 방향으로 신장된 제1 스캔 라인(G1)을 통해서 스캔 신호를 입력받고, 세로 방향으로 신장된 제1 데이터 라인(D1)을 통해 데이터 신호를 입력받는 제1 스위칭 소자(310)를 갖는다. The first switching element receives a scan signal through a first scan line G1 extending in a horizontal direction on the array substrate and a data signal through a first data line D1 extending in a vertical direction. Has 310.
제1 스위칭 소자(310)는 상기 제1 스캔 라인(G1)으로부터 연장된 게이트 전극(312)과, 상기 제1 데이터 라인(D1)으로부터 연장된 소오스 전극(314)과, 상기 소오스 전극(314)으로부터 일정 간격 이격된 드레인 전극(316)을 가지며, 상기 드레인 전극(316)은 제1 화소 전극(317)과 전기적으로 연결된다. 여기서, 액티브층이나 상기 액티브층 위에 형성된 반도체층은 그 도시를 생략한다. The first switching element 310 may include a gate electrode 312 extending from the first scan line G1, a source electrode 314 extending from the first data line D1, and the source electrode 314. The drain electrode 316 is spaced apart from the predetermined distance from the drain electrode 316 and is electrically connected to the first pixel electrode 317. Here, the illustration of the active layer or the semiconductor layer formed on the active layer is omitted.
상기 제1 화소 전극(317) 상에는 제1광을 반사하는 제1 반사판(319)이 형성된 제1 반사부(R1)와 제1 반사판(319)이 형성되지 않은 제1 투과부(T1)를 가지며 상기 제1 투과부(T1)에 의해 제2광이 투과된다. 여기서, 상기 제1광은 반사판에 입사되는 광으로, 예컨대 자연광 및 프론트 라이트로부터 발산되는 광이다. 또한, 상기 제2광은 투과부에 입사되는 광으로, 예컨대 백라이트로부터 발산되는 광이다. The first pixel electrode 317 has a first reflecting portion R1 having a first reflecting plate 319 reflecting first light and a first transmitting portion T1 having no first reflecting plate 319 formed thereon. The second light is transmitted by the first transmission portion T1. Here, the first light is light incident on the reflector, for example, light emitted from natural light and front lights. In addition, the second light is light incident on the transmission part, for example, light emitted from the backlight.
한편, 제1 화소부와 인접한 제2 화소부는 제1 스캔 라인(G1)을 통해서 스캔 신호를 입력받고, 제2 데이터 라인(D2)을 통해 데이터 신호를 입력받는 제2 스위칭 소자(330)를 갖는다. Meanwhile, the second pixel unit adjacent to the first pixel unit has a second switching element 330 that receives a scan signal through the first scan line G1 and receives a data signal through the second data line D2. .
제2 스위칭 소자(330)는 상기 제1 스캔 라인(G1)으로부터 연장된 게이트 전극(322)과, 상기 제2 데이터 라인(D2)으로부터 연장된 소오스 전극(334)과, 상기 소오스 전극(334)으로부터 일정 간격 이격된 드레인 전극(336)을 가지며, 상기 드레인 전극(336)은 제2 화소 전극(337)과 전기적으로 연결된다. 여기서, 액티브층이나 상기 액티브층 위에 형성된 반도체층은 그 도시를 생략한다.The second switching element 330 includes a gate electrode 322 extending from the first scan line G1, a source electrode 334 extending from the second data line D2, and the source electrode 334. The drain electrode 336 is spaced apart from the predetermined distance from the drain electrode 336 and is electrically connected to the second pixel electrode 337. Here, the illustration of the active layer or the semiconductor layer formed on the active layer is omitted.
상기 제2 화소 전극(337) 상에는 제1광을 반사하는 제2 반사판(339)이 형성된 제2 반사부(R2)와 제2 반사판(339)이 형성되지 않은 제2 투과부(T2)를 가지며 상기 제2 투과부(T2)에 의해 제2광이 투과된다. The second pixel electrode 337 has a second reflecting portion R2 having a second reflecting plate 339 reflecting the first light and a second transmitting portion T2 having no second reflecting plate 339 formed thereon. The second light is transmitted by the second transmission part T2.
여기서, 제2 화소부의 제2 화소 전극(337)상에 형성되는 제2 반사판(339)의 위치는 상기 제1 화소부내의 제2 반사판(319)의 위치와 인접하지 않도록 형성한다. Here, the position of the second reflecting plate 339 formed on the second pixel electrode 337 of the second pixel portion is formed so as not to be adjacent to the position of the second reflecting plate 319 in the first pixel portion.
다시 말해서, 다수개의 화소부내의 반사부들을 인접한 화소부내의 투과부와 상호 인접하도록 구현한다. 이에 의해 인접한 화소부 내의 반사판간의 패턴 불량에 의한 화소 불량을 최소화한다. In other words, the reflection parts in the plurality of pixel parts are implemented to be adjacent to each other with the transmission parts in the adjacent pixel parts. This minimizes pixel defects due to pattern defects between reflecting plates in adjacent pixel portions.
이상과 같이, 제1 및 제2 화소부의 제1 및 제2 스위칭 소자(310, 330)는 제1 스캔 라인(G1)을 기준으로 일 방향으로 형성된다. 이와 같은 구조에서 인접한 화소부내의 반사부를 어긋나게 배치하게 되면, 제1 화소부의 제1 반사부(T1)는 상기 제1 스위칭 소자(310)가 형성되지 않은 상부에 형성되며, 제2 화소부의 제2 반사부(T2)는 상기 제2 스위칭 소자(330)가 형성된 하부에 형성된다. 즉, 스위칭 소자가 화소부내의 투과부에 형성된다. As described above, the first and second switching elements 310 and 330 of the first and second pixel units are formed in one direction based on the first scan line G1. In such a structure, when the reflecting portions in the adjacent pixel portions are disposed to be offset, the first reflecting portion T1 of the first pixel portion is formed on the upper portion where the first switching element 310 is not formed, and the second reflecting portion of the second pixel portion is formed. The reflector T2 is formed at a lower portion of the second switching element 330. That is, a switching element is formed in the transmissive part in the pixel part.
이러한 점을 감안하여, 반사-투과형 어레이 기판의 개구율에 따른 휘도 특성을 향상시키기 위해서는 상기 반사-투과형 어레이 기판 상부에 배치되는 컬러 필터 기판의 컬러 필터층(R,G,B)를 조정할 수 있다. 즉, 빛의 삼원색 R, G, B 에 대하여 인간이 지각하는 수준은 그린(Green:G)이 가장 민감하며, 상기 그린은 액정 표시 장치에서 휘도를 좌우하는 가장 중요한 변수가 되므로 그린 영역의 개구율이 최대가 되도록 조정할 수 있다.In view of this, in order to improve the luminance characteristic according to the aperture ratio of the reflection-transmissive array substrate, the color filter layers R, G, and B of the color filter substrate disposed on the reflection-transmission array substrate may be adjusted. That is, green (G) is most sensitive to the three primary colors R, G, and B of the light, and green is the most important variable that influences luminance in the liquid crystal display device. It can be adjusted to the maximum.
따라서, R 및 B 컬러 필터층은 스위칭 소자 상부에 투과부가 형성된 제1 화소부(P1)에 대응하여 배치하고, G 컬러 필터층은 스위칭 소자 상부에 반사부가 형성된 제2 화소부에 대응하여 배치함으로써 개구율에 따른 휘도 특성을 향상시킬 수 있다. Therefore, the R and B color filter layers are disposed corresponding to the first pixel portion P1 having the transmissive portion formed on the switching element, and the G color filter layer is disposed corresponding to the second pixel portion formed with the reflecting portion on the switching element, thereby reducing the aperture ratio. The luminance characteristic can be improved.
도 4는 도 3의 어레이 기판의 제1 화소부와 제2 화소부에 대해서 절단선 B-B'으로 절단한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view taken along the cutting line B-B ′ of the first pixel portion and the second pixel portion of the array substrate of FIG. 3.
도 4를 참조하면, 기판(301)상의 제1 화소부(P1)에는 제1 게이트 전극(312), 상기 제1 게이트 전극(312)상에 형성된 제1 게이트 절연막(313), 제1 액티브층(304), 제1 반도체층(305), 제1 소오스 전극(314) 및 제1 드레인 전극(316)을 포함하는 제1 스위칭 소자(TFT1)가 형성된다. 기판(301)상의 제2 화소부(P2)에는 제2 게이트 전극(332), 상기 제2 게이트 전극(332)상에 형성된 제2 게이트 절연막(333), 제2 액티브층(304), 제2 반도체층(305), 제2 소오스 전극(334) 및 제2 드레인 전극(336)을 포함하는 제2 스위칭 소자(TFT2)가 형성된다.Referring to FIG. 4, a first gate electrode 312, a first gate insulating layer 313 formed on the first gate electrode 312, and a first active layer may be formed in the first pixel portion P1 on the substrate 301. A first switching element TFT1 including a 304, a first semiconductor layer 305, a first source electrode 314, and a first drain electrode 316 is formed. A second gate electrode 332, a second gate insulating layer 333, a second active layer 304, and a second gate electrode 332 formed on the second gate electrode 332 are formed on the second pixel portion P2 on the substrate 301. The second switching element TFT2 including the semiconductor layer 305, the second source electrode 334, and the second drain electrode 336 is formed.
상기 제1 스위칭 소자(TFT1)와 제2 스위칭 소자(TFT2)를 덮으면서 제1 드레인 전극(316) 일부와, 제2 드레인 전극(336) 일부가 각각 제1 콘택홀(322)과 제2 콘택홀(324)을 통해 노출되도록 형성된 패시베이션막(321)과, 상기 패시베이션막(321)을 덮으면서 상기 제1 드레인 전극(316)의 일부 및 상기 제2 드레인 전극(336)의 일부를 노출시키는 유기막(325)이 형성된다. 유기막(325) 위에는 화소 전극이 형성되며, 일반적으로 화소 전극은 화소 영역 전반에 걸쳐 형성하거나, 혹은 투과부에 대응하는 영역에만 형성할 수 있다. A portion of the first drain electrode 316 and a portion of the second drain electrode 336 cover the first switching element TFT1 and the second switching element TFT2, respectively, and the first contact hole 322 and the second contact, respectively. An organic passivation layer 321 formed to be exposed through the hole 324, and an organic part exposing a portion of the first drain electrode 316 and a portion of the second drain electrode 336 while covering the passivation layer 321. A film 325 is formed. A pixel electrode is formed on the organic layer 325, and in general, the pixel electrode may be formed over the entire pixel area or only in an area corresponding to the transmissive part.
여기서는, 유기막(325) 위에는 제1 화소부(P1) 및 제2 화소부(P2)에 각각의 화소 영역에 대응하여 전반적으로 제1 화소 전극(317)과 제2 화소 전극(337)을 형성한다. Here, the first pixel electrode 317 and the second pixel electrode 337 are generally formed on the organic layer 325 in the first pixel portion P1 and the second pixel portion P2 corresponding to each pixel region. do.
제1 화소 전극(317)은 제1 스위칭 소자(TFT1)의 제1 드레인 전극(316)과 연결되어 제1 화소부(P1)의 제1 투과부(T1)를 형성한다. 제2 화소 전극(337)은 제2 스위칭 소자(TFT2)의 제2 드레인 전극(336)과 연결되어 형성되고, 상기 제2 화소 전극(337)의 상부에 반사판(339)을 형성하여 제2 화소부(P2)의 제2 반사부(R2)를 형성한다. 여기서, 제1 및 제2 화소 전극(317, 337)은 광을 투과시키는 투과 전극으로서, 산화 주석 인듐(Indium Tin Oxide;ITO), 산화 아연 인듐(Indium Zinc Oxide;IZO) 물질이 사용되고, 상기 반사판(283)은 광을 반사시키는 일종의 반사 전극으로 알루미늄이나 알루미늄-네오디뮴 합금 등을 이용하는 것이 바람직하다.The first pixel electrode 317 is connected to the first drain electrode 316 of the first switching element TFT1 to form the first transmission portion T1 of the first pixel portion P1. The second pixel electrode 337 is formed to be connected to the second drain electrode 336 of the second switching element TFT2, and the reflective plate 339 is formed on the second pixel electrode 337 to form a second pixel. The second reflecting portion R2 of the portion P2 is formed. Here, the first and second pixel electrodes 317 and 337 may be light transmissive electrodes, and indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) materials may be used, and the reflective plate may be used. Reference numeral 283 is a kind of reflective electrode that reflects light, and preferably aluminum, aluminum-neodymium alloy, or the like is used.
상기 유기막(325)의 표면을 요철 처리하므로써, 투과 영역에 대응하는 요철은 일종의 마이크로 투과 렌즈 역할을 하여 제2광을 산란시키고, 반사 영역에 대응하는 요철은 반사판(339)을 마이크로 반사 렌즈로 동작되도록 형성하므로써 제1광을 산란시키는 것을 도시하였다. 하지만, 당업자라면 상기한 유기막의 표면을 평탄화할 수도 있다.As the surface of the organic film 325 is uneven, the unevenness corresponding to the transmissive region acts as a kind of micro-transmissive lens to scatter the second light, and the unevenness corresponding to the reflective region causes the reflector 339 to be a micro-reflective lens. It is shown to scatter the first light by forming to operate. However, those skilled in the art may planarize the surface of the organic film described above.
이상의 도 3 및 도 4를 참조할 때, 제1 화소부(P1)의 제1 투과부(T1)와 제2 화소부(P2)의 제2 반사부(R2)는 인접하게 형성된다. 다시 말하면, 제1 화소부(P1)의 반사부(R1)와 제2 화소부(P2)의 반사부(R2)는 서로 어긋나게 형성된다. 이에 의해 인접한 화소간의 반사판의 패턴 불량에 의한 화소 불량을 방지할 수 있다. 3 and 4, the first transmission portion T1 of the first pixel portion P1 and the second reflection portion R2 of the second pixel portion P2 are adjacent to each other. In other words, the reflecting portion R1 of the first pixel portion P1 and the reflecting portion R2 of the second pixel portion P2 are formed to be offset from each other. Thereby, the pixel defect by the pattern defect of the reflecting plate between adjacent pixels can be prevented.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 설명하기 위한 도면이다.5 is a diagram for describing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 어레이 기판(300), 컬러 필터 기판(400) 및 액정층(490)을 포함한다. Referring to FIG. 5, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes an array substrate 300, a color filter substrate 400, and a liquid crystal layer 490.
어레이 기판(300)은 서로 인접하는 화소부에 구비되는 투과부들과, 상기 화소부 내에서 상기 투과부 각각으로부터 연장되되, 서로 인접하는 화소부끼리 교호로 배치된 반사부들을 갖는다. 상기 어레이 기판(300)에 대해서는 상기한 도 4에서 설명하였으므로 그 상세한 설명은 생략한다.The array substrate 300 includes transmissive portions provided in adjacent pixel portions, and reflective portions extending from each of the transmissive portions within the pixel portion and alternately arranged adjacent to each other. Since the array substrate 300 has been described with reference to FIG. 4, detailed description thereof will be omitted.
컬러 필터 기판(400)은 블랙 매트릭스층(410), 컬러 필터층(422, 424), 평탄화층(430) 및 공통 전극층(440)을 포함하고, 상기 어레이 기판(300)과의 합체를 통해 상기 액정층(490)을 수용한다.The color filter substrate 400 may include a black matrix layer 410, color filter layers 422 and 424, a planarization layer 430, and a common electrode layer 440. The liquid crystal may be integrated with the array substrate 300. Receives layer 490.
구체적으로, 상기 블랙 매트릭스층(410)은 투명 기판(401)에 형성되어, 각각의 화소 영역을 정의하면서 화소간의 광 누설을 방지한다. 상기 블랙 매트릭스층(410)은 데이터 라인에 대응하여 형성될 수도 있고, 게이트 라인에 대응하여 형성될 수도 있으며, 데이터 라인 및 게이트 라인에 대응하여 형성될 수도 있다. In detail, the black matrix layer 410 is formed on the transparent substrate 401 to prevent light leakage between pixels while defining each pixel area. The black matrix layer 410 may be formed to correspond to the data line, may be formed to correspond to the gate line, or may be formed to correspond to the data line and the gate line.
상기 컬러 필터층(422, 424)은 R(red), G(Green), B(Blue) 컬러 필터층을 포함하여, 블랙 메트릭스층(410)으로 정의되는 화소 영역에 대응하여 형성된다. 예컨대, 도시된 바와 같이, 제1 화소부(P1)에는 R 컬러 필터층(422)을 형성하고, 제2 화소부(P2)에는 G 컬러 필터층(424)을 형성한다.The color filter layers 422 and 424 may be formed to correspond to the pixel area defined as the black matrix layer 410, including R (red), G (Green), and B (Blue) color filter layers. For example, as illustrated, an R color filter layer 422 is formed in the first pixel portion P1, and a G color filter layer 424 is formed in the second pixel portion P2.
또한, 어레이 기판(300)의 반사부(R2)에 대응하는 컬러 필터층에는 일부분이 제거되어 라이트 홀(light hole)을 정의한다. 예컨대, 도시된 바와 같이, 제2 화소부(P2)의 반사부(R2)에 대응하는 G 컬러 필터층(424)의 일부분은 제거되어 하부로부터 제공되는 백색광을 그대로 투과시키는 라이트 홀(424)의 기능을 수행한다.In addition, a portion of the color filter layer corresponding to the reflective part R2 of the array substrate 300 is removed to define a light hole. For example, as shown in the drawing, a part of the G color filter layer 424 corresponding to the reflecting portion R2 of the second pixel portion P2 is removed, so that the function of the light hole 424 transmits the white light provided from the bottom as it is. Do this.
평탄화층(430)은 상기 컬러 필터층(420) 상부에 형성되어 라이트 홀(424)에 의한 컬러 필터층(420)의 단차를 제거하고, 공통 전극층(440)은 상기 평탄화층(430) 상부에 형성되어, 외부로부터 공급되는 일정 레벨의 전압을 액정층(490)에 공급한다.The planarization layer 430 is formed on the color filter layer 420 to remove the step of the color filter layer 420 by the light hole 424, and the common electrode layer 440 is formed on the planarization layer 430. The voltage of a predetermined level supplied from the outside is supplied to the liquid crystal layer 490.
이처럼, 반사부에 대응하는 컬러 필터층에 라이트 홀을 형성하므로써, 투과광과 반사광의 휘도차이를 보상할 수 있다. 즉, 반사부(R2)에 입사되는 제1광은 G 컬러 필터층(424)을 두 번 통과하고, 상기 투과부(T1)에 입사되는 제2광은 R 컬러 필터층(422)을 한번 통과한다. 따라서, 제1광은 반사부(R2)에 의해 컬러 필터층을 여러 번 통과되며, 이에 의해 휘도 저하를 보상할 수 있다. As such, by forming the light holes in the color filter layers corresponding to the reflecting portions, the difference in luminance between the transmitted light and the reflected light can be compensated for. That is, the first light incident on the reflective part R2 passes through the G color filter layer 424 twice, and the second light incident on the transmissive part T1 passes through the R color filter layer 422 once. Accordingly, the first light passes through the color filter layer several times by the reflector R2, thereby compensating for the decrease in luminance.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 반사-투과형 어레이 기판을 도시한 것이다. Figure 6 illustrates a reflective-transmissive array substrate according to another embodiment of the present invention.
도 6을 참조할 때, 반사-투과형 어레이 기판은 n x m개의 화소를 구동하기 위해 n/2개의 데이터 라인과 2m개의 스캔 라인을 갖는 구조이다. 예를 들면, 제1 화소부는 제1 스캔 라인(G1)과 데이터 라인(D2)에 의해 구동되며, 제2 화소부는 제2 스캔 라인(G2)과 데이터 라인(D2)에 의해 구동된다. Referring to FIG. 6, the reflection-transmissive array substrate has a structure having n / 2 data lines and 2m scan lines to drive n × m pixels. For example, the first pixel portion is driven by the first scan line G1 and the data line D2, and the second pixel portion is driven by the second scan line G2 and the data line D2.
제1 화소부는 제1 스캔 라인(G1)을 통해서 스캔 신호가 입력되고, 데이터 라인(D2)을 통해서 데이터 신호가 입력되는 제1 스위칭 소자(510)를 갖는다. The first pixel unit has a first switching element 510 through which a scan signal is input through the first scan line G1 and a data signal is input through the data line D2.
제1 스위칭 소자(510)는 상기 제1 스캔 라인(G1)으로부터 연장된 제1 게이트 전극(512)과, 상기 데이터 라인(D2)으로부터 연장된 제1 소오스 전극(514)과, 상기 제1 소오스 전극(514)으로부터 일정 간격 이격된 제1 드레인 전극(516)을 가지며, 상기 제1 드레인 전극(516)은 제1 화소 전극(517)과 전기적으로 연결된다.The first switching element 510 includes a first gate electrode 512 extending from the first scan line G1, a first source electrode 514 extending from the data line D2, and the first source. The first drain electrode 516 is spaced apart from the electrode 514 by a predetermined distance, and the first drain electrode 516 is electrically connected to the first pixel electrode 517.
상기 제1 스위칭 소자(510)가 형성된 영역에 대응하는 상기 제1 화소 전극(517) 상에는 제1광을 반사하는 제1 반사판(519)을 형성하여 제1 반사부(R1)를 형성하고, 상기 제1 반사부(R1) 이외의 영역에는 제2광을 투과하는 제1 투과부(T1)를 형성한다.The first reflecting plate 519 is formed on the first pixel electrode 517 corresponding to the region where the first switching element 510 is formed to form a first reflecting unit R1. In the regions other than the first reflecting portion R1, the first transmitting portion T1 transmitting the second light is formed.
제2 화소부는 제2 스캔 라인(G2)을 통해서 스캔 신호가 입력되고, 상기 데이터 라인(D2)을 통해서 데이터 신호가 입력되는 제2 스위칭 소자(530)를 갖는다. The second pixel unit has a second switching element 530 through which a scan signal is input through a second scan line G2 and a data signal is input through the data line D2.
제2 스위칭 소자(530)는 상기 제2 스캔 라인(G2)으로부터 연장된 제2 게이트 전극(532)과, 상기 데이터 라인(D2)으로부터 연장된 제2 소오스 전극(534)과, 상기 제2 소오스 전극(534)으로부터 일정 간격 이격된 제2 드레인 전극(536)을 가지며, 상기 제2 드레인 전극(536)은 제2 화소 전극(537)과 전기적으로 연결된다.The second switching element 530 may include a second gate electrode 532 extending from the second scan line G2, a second source electrode 534 extending from the data line D2, and the second source. The second drain electrode 536 is spaced apart from the electrode 534 by a predetermined distance, and the second drain electrode 536 is electrically connected to the second pixel electrode 537.
상기 제2 스위칭 소자(530)가 형성된 영역에 대응하는 상기 제2 화소 전극(537) 상에는 제1광을 반사하는 제2 반사판(539)을 형성하여 제2 반사부(R2)를 형성하고, 상기 제2 반사부(R2) 이외의 영역에는 제2광을 투과하는 제2 투과부(T2)를 형성한다. A second reflector 539 is formed on the second pixel electrode 537 corresponding to the region where the second switching element 530 is formed to form a second reflector R2. In the regions other than the second reflecting portion R2, the second transmitting portion T2 transmitting the second light is formed.
도시된 바와 같이, 제1 스위칭 소자(510)는 제1 스캔 라인(G1)과 연결되며, 제2 스위칭 소자(530)는 제2 스캔 라인(G2)에 연결됨에 따라서, 인접한 제1 화소부 및 제2 화소부에 형성된 제1 및 제2 스위칭 소자(510, 530)는 상호 인접하지 않게 형성된다. 또한, 상기 제1 및 제2 스위칭 소자(510, 530)에 대응하여 제1 및 제2 반사부(R1, R2), 역시 인접하지 않게 형성된다. As illustrated, the first switching element 510 is connected to the first scan line G1, and the second switching element 530 is connected to the second scan line G2. The first and second switching elements 510 and 530 formed in the second pixel portion are not adjacent to each other. In addition, the first and second reflecting portions R1 and R2 are also not adjacent to the first and second switching elements 510 and 530.
따라서, 다수개의 화소들내의 반사부들은 인접한 화소내의 반사부들과 어긋나게 구현됨으로써 반사판의 패턴 불량에 의한 화소 불량을 해결할 수 있다. 또한, 제1 및 제2 스위칭 소자(510, 530)가 제1 및 제2 반사부(R1, R2)에 형성됨으로써 화소의 개구율에 대한 문제가 발생하지 않는다. Accordingly, the reflection parts in the plurality of pixels may be offset from the reflection parts in the adjacent pixels, thereby solving the pixel failure due to the pattern defect of the reflecting plate. In addition, since the first and second switching elements 510 and 530 are formed in the first and second reflectors R1 and R2, the problem of the aperture ratio of the pixel does not occur.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반사-투과형 어레이 기판을 도시한 것이다. Figure 7 shows a reflective-transmissive array substrate according to another embodiment of the present invention.
도 7을 참조할 때, 반사-투과형 어레이 기판은 n개의 데이터 라인과 m개의 스캔 라인을 통해 n x m개의 화소를 구동하되, 상기 m개의 스캔 라인은 상기 화소 내에 배선되는 구조를 갖는다.Referring to FIG. 7, the reflection-transmissive array substrate drives n x m pixels through n data lines and m scan lines, and the m scan lines are wired in the pixels.
제1 화소부 및 제2 화소부는 제1 스캔 라인(G1)을 기준으로 제1 데이터 라인(D1) 및 제2 데이터 라인(D2)에 의해 구동되며, 상기 제1 스캔 라인(G1)은 제1 및 제2 화소부를 각각 이분한다. The first pixel portion and the second pixel portion are driven by the first data line D1 and the second data line D2 based on the first scan line G1, and the first scan line G1 is driven by the first data line. And the second pixel portion respectively.
제1 화소부는 제1 스캔 라인(G1)을 통해서 스캔 신호가 입력되고, 제1 데이터 라인(D1)을 통해서 데이터 신호가 입력되는 제1 스위칭 소자(610)를 갖는다. The first pixel unit has a first switching element 610 through which a scan signal is input through the first scan line G1 and a data signal is input through the first data line D1.
제1 스위칭 소자(610)는 상기 제1 스캔 라인(G1)으로부터 연장된 제1 게이트 전극(612)과, 제1 데이터 라인(D1)으로부터 연장된 제1 소오스 전극(614)과, 상기 제1 소오스 전극(614)으로부터 일정 간격 이격된 제1 드레인 전극(616)을 가지며, 상기 제1 드레인 전극(616)은 제1 화소 전극(617)과 전기적으로 연결된다.The first switching element 610 includes a first gate electrode 612 extending from the first scan line G1, a first source electrode 614 extending from the first data line D1, and the first gate electrode 612. The first drain electrode 616 is spaced apart from the source electrode 614 by a predetermined distance, and the first drain electrode 616 is electrically connected to the first pixel electrode 617.
상기 제1 스위칭 소자(610)가 형성된 영역에 대응하는 상기 제1 화소 전극(617) 상에는 제1광을 반사하는 제1 반사판(619)을 형성하여 제1 반사부(R1)를 형성하고, 상기 제1 반사부(R1) 이외의 영역에는 제2광을 투과하는 제1 투과부(T1)를 형성한다.The first reflecting plate 619 is formed on the first pixel electrode 617 corresponding to the region where the first switching element 610 is formed to form a first reflecting unit R1. In the regions other than the first reflecting portion R1, the first transmitting portion T1 transmitting the second light is formed.
제2 화소부는 제1 스캔 라인(G1)을 통해서 스캔 신호가 입력되고, 제2 데이터 라인(D2)을 통해서 데이터 신호가 입력되는 제2 스위칭 소자(630)를 갖는다.The second pixel unit has a second switching element 630 through which a scan signal is input through the first scan line G1 and a data signal is input through the second data line D2.
제2 스위칭 소자(630)는 상기 제1 스캔 라인(G1)으로부터 연장된 제2 게이트 전극(632)과, 제2 데이터 라인(D2)으로부터 연장된 제2 소오스 전극(634)과, 상기 제2 소오스 전극(634)으로부터 일정 간격 이격된 제2 드레인 전극(636)을 가지며, 상기 제2 드레인 전극(636)은 제2 화소 전극(637)과 전기적으로 연결된다.The second switching element 630 may include a second gate electrode 632 extending from the first scan line G1, a second source electrode 634 extending from the second data line D2, and the second gate electrode 634. The second drain electrode 636 is spaced apart from the source electrode 634 by a predetermined distance, and the second drain electrode 636 is electrically connected to the second pixel electrode 637.
상기 제2 스위칭 소자(630)가 형성된 영역에 대응하는 상기 제2 화소 전극(637) 상에는 제1광을 반사하는 제2 반사판(639)을 형성하여 제2 반사부(R2)를 형성하고, 상기 제2 반사부(R2) 이외의 영역에는 제2광을 투과하는 제2 투과부(T2)를 형성한다.A second reflector 639 is formed on the second pixel electrode 637 corresponding to the region where the second switching element 630 is formed to form a second reflector R2. In the regions other than the second reflecting portion R2, the second transmitting portion T2 transmitting the second light is formed.
도시된 바와 같이, 제1 스위칭 소자(610)는 제1 스캔 라인(G1)의 상부에 형성되고, 제2 스위칭 소자(630)는 제1 스캔 라인(G2)의 하부에 형성됨에 따라서, 인접한 제1 화소부 및 제2 화소부에 형성된 제1 및 제2 스위칭 소자(610, 630)는 상호 인접하지 않게 형성된다. 또한, 상기 제1 및 제2 스위칭 소자(610, 630)에 대응하여 제1 및 제2 반사부(R1, R2), 역시 인접하지 않게 형성된다. As illustrated, the first switching element 610 is formed above the first scan line G1, and the second switching element 630 is formed below the first scan line G2. The first and second switching elements 610 and 630 formed in the first pixel portion and the second pixel portion are not adjacent to each other. In addition, the first and second reflecting portions R1 and R2 are also not adjacent to the first and second switching elements 610 and 630.
따라서, 다수개의 화소들내의 반사부들은 인접한 화소내의 반사부들과 어긋나게 구현됨으로써 반사판의 패턴 불량에 의한 화소 불량을 해결할 수 있다. 또한. 제1 스위칭 소자(510) 및 제2 스위칭 소자(530)가 제1 반사부(R1) 및 제2 반사부(R2)에 형성됨으로써 화소의 개구율에 대한 문제가 발생하지 않는다. Accordingly, the reflection parts in the plurality of pixels may be offset from the reflection parts in the adjacent pixels, thereby solving the pixel failure due to the pattern defect of the reflecting plate. Also. Since the first switching element 510 and the second switching element 530 are formed in the first reflecting portion R1 and the second reflecting portion R2, the problem of the aperture ratio of the pixel does not occur.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 본 발명에 따르면 인접한 화소 내의 반사부를 서로 인접하지 않도록 형성함으로써, 반사판 패턴 불량에 의한 인접 화소 불량을 최소화 할 수 있다. As described above in detail, according to the present invention, by forming the reflection parts in the adjacent pixels so as not to be adjacent to each other, it is possible to minimize the adjacent pixel defects caused by the reflection plate pattern defects.
이상에서는 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the embodiments, those skilled in the art can be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand.
도 1은 일반적인 반사-투과형 어레이 기판에 대한 개략적인 도면이다. 1 is a schematic diagram of a typical reflective-transmissive array substrate.
도 2는 도 1에 도시된 어레이 기판을 절단선 A-A'으로 절단한 개략적인 단면도이다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the array substrate illustrated in FIG. 1 taken along a cutting line A-A '.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사-투과형 어레이 기판에 대한 개략적인 도면이다.3 is a schematic diagram of a reflective-transmissive array substrate in accordance with one embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 반사-투과형 어레이 기판을 절단선 B-B'으로 절단한 단면도이다. FIG. 4 is a cross-sectional view of the reflection-transmissive array substrate of FIG. 3 taken along a cutting line B-B '.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치를 설명하기 위한 도면이다.5 is a diagram for describing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사-투과형 어레이 기판에 대한 개략적인 도면이다.6 is a schematic diagram of a reflective-transmissive array substrate in accordance with another embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사-투과형 어레이 기판에 대한 개략적인 도면이다. 7 is a schematic diagram of a reflective-transmissive array substrate according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
G1, G2 : 스캔 라인 D1, D2, D3 : 데이터 라인G1, G2: scan line D1, D2, D3: data line
P1, P2 : 화소부 310, 330 : 스위칭 소자 P1, P2: pixel portion 310, 330: switching element
317, 337 : 화소 전극 319, 339 : 반사판317 and 337 pixel electrodes 319 and 339 reflector
T1, T2 : 투과부 R1, R2 : 반사부T1, T2: transmissive portion R1, R2: reflective portion
Claims (12)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040041219A KR20050116174A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040041219A KR20050116174A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050116174A true KR20050116174A (en) | 2005-12-12 |
Family
ID=37289860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040041219A KR20050116174A (en) | 2004-06-07 | 2004-06-07 | Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20050116174A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8345343B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-01-01 | Samsung Electronics Co., Lid. | Reflective display device |
-
2004
- 2004-06-07 KR KR1020040041219A patent/KR20050116174A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8345343B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-01-01 | Samsung Electronics Co., Lid. | Reflective display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100426963B1 (en) | transflective liquid crystal display devices | |
US8305526B2 (en) | Method for providing light to liquid crystal panel | |
JP5271482B2 (en) | Liquid crystal display | |
KR100763271B1 (en) | Liquid crystal display device and driving method used for the same | |
JP5507805B2 (en) | Transflective LCD | |
CN1210605C (en) | Semi-transmittance and semi-reflection photoelectric devices and electronic devices | |
US20070109474A1 (en) | Color filter substrate and liquid crystal display apparatus having the same | |
JP2008040496A (en) | Liquid crystal display panel | |
KR20040061672A (en) | Color filter substrate and liquid crystal display having the same | |
JP2004240268A (en) | Liquid crystal display | |
JP4075876B2 (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
JP4107047B2 (en) | Transflective liquid crystal display device | |
JP4600036B2 (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
KR100613437B1 (en) | transflective liquid crystal display device | |
US8780025B2 (en) | Display device | |
KR20050116174A (en) | Transflective type array substrate, and liquid crystal display having the same | |
KR102121321B1 (en) | Liquid crystal display device and method of fabricating the same | |
KR20090113516A (en) | Transflective type liquid crystal display device | |
JP2006071865A (en) | Electrooptic device, electronic appliance and driving method of electrooptic device | |
KR101578213B1 (en) | Liquid crystal display device | |
KR100975132B1 (en) | Liquid crystal display device | |
KR100995581B1 (en) | Color filter substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method for manufacturing the same | |
JP3873496B2 (en) | Liquid crystal display | |
KR100783606B1 (en) | Liquid crystal display device | |
KR101211249B1 (en) | Transflective type Liquid Crystal Display device and the fabricating method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |