KR20050100492A - Large pelicle frame - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 장치를 제조할 때 리소크래피 공정에서 이물질 부착을 방지하는 페리클의 페리클막이 접착되는 프레임에 관한 것으로, 상세하게는 TFT형 LCD를 제조하기 위해 사용하는 대형 페리클막이 접착되는 페리클 프레임에 관한 것이다.The present invention relates to a frame to which a pellicle film of a pellicle is adhered to prevent foreign matter adhesion in a lithography process when manufacturing a semiconductor device. Specifically, a large pellicle film used for manufacturing a TFT-type LCD is bonded. It relates to a ferric frame.
본 발명의 대형 페리클 프레임은 면적이 1,000 ㎠ 이상의 페리클 막의 가장자리가 접착되어 상기 페리클 막을 평평하게 지지하기 위한 사각형상의 페리클 프레임에 있어서, 상기 페리클 프레임은 양단이 연결된 평행한 한쌍의 긴 사각봉과 짧은 사각봉으로 이루어 지고, 상기 각각의 사각봉은 높이가 실질적으로 동일하고, 상기 페리클 막이 부착되는 상기 각각의 사각봉의 상부면은 실질적으로 동일한 폭을 가지며, 상기 한쌍의 짧은 사각봉의 외측면에는 길이방향으로 일정한 깊이의 홈이 각각 형성되어 있고, 상기 한쌍의 긴 사각봉의 외측면에는 내측면과 관통하는 복수의 필터구멍이 각각 대응하는 위치에 일정한 간격으로 형성된 것을 특징으로 한다.In the large-sized pellicle frame according to the present invention, a rectangular pellicle frame is formed by which edges of a pellicle membrane having an area of 1,000 cm 2 or more are adhered to each other to flatly support the pellicle membrane. A rectangular bar and a short rectangular bar, each rectangular bar having substantially the same height, and an upper surface of each rectangular bar to which the pellicle film is attached has substantially the same width, and an outer surface of the pair of short rectangular bars Each of the grooves having a constant depth in the longitudinal direction is formed, and the outer surface of the pair of long rectangular bars is formed with a plurality of filter holes penetrating the inner surface at regular intervals at corresponding positions.
Description
본 발명은 반도체 장치를 제조할 때 리소크래피 공정에서 이물질 부착을 방지하는 페리클의 페리클막이 접착되는 프레임에 관한 것으로, 상세하게는 TFT형 LCD를 제조하기 위해 사용하는 대형 페리클막이 접착되는 페리클 프레임에 관한 것이다.The present invention relates to a frame to which a pellicle film of a pellicle is adhered to prevent foreign matter adhesion in a lithography process when manufacturing a semiconductor device. Specifically, a large pellicle film used for manufacturing a TFT-type LCD is bonded. It relates to a ferric frame.
반도체 제조공정에서 리소그래피(lithography) 공정은 미세회로 공정에 있어 가장 기본적인 기술로서 집적회로(IC : Intergrated Circuit)의 미세패턴을 형성하는 기술로 빛을 이용한 광 리소그래피, 전자빔(E-Beam)을 이용한 전자빔 리소그래피, X선(X-ray)을 이용한 X선 리소그래피로 분류된다. 상기 광 리소그래피 공정은 자외선을 노광원으로 이용하는 기술로서 표준적인 방법에서 패턴의 전사를 위해 선택적으로 빛을 투과시키는 포토마스크의 사용이 불가결하다. The lithography process in the semiconductor manufacturing process is the most basic technology in the microcircuit process and forms a fine pattern of an IC (intergrated circuit), which is an optical lithography using light and an electron beam using an electron beam (E-Beam). It is classified into lithography and X-ray lithography using X-rays. The photolithography process is a technique using ultraviolet light as an exposure source, and in a standard method, the use of a photomask that selectively transmits light for transferring patterns is indispensable.
상기와 같은 반도체 제조공정에서의 리소그래피 공정을 도 5를 참조하여 간략하게 설명하면 다음과 같다.The lithography process in the semiconductor manufacturing process as described above is briefly described with reference to FIG.
반도체 웨이퍼(7)상에 패터닝할 때 미리 패터닝된 마스크(3)의 상부에서 자외선 광원(1)의 빛이 조준렌즈(2)를 통해 마스크(3)를 통과하여 하부의 가이드 렌즈(6)에 의해 가이드 되어 웨이퍼(7)상에 패터닝 되게 한다.When patterning on the semiconductor wafer 7, the light of the ultraviolet light source 1 passes over the mask 3 through the collimating lens 2 and passes through the aiming lens 2 to the lower guide lens 6. Guided to pattern on the wafer 7.
이때, 마스크(3)상에 파티클 등과 같은 이물질이 웨이퍼(7)상에 패터닝 되는 것을 방지하기 위해 페리클(4)이 부착 설치된다. 즉, 마스크(3)의 저면에 패터닝된 이미지(5)측으로 파티클 및 이물질의 침투를 방지하기 위하여 이미지(5)가 패터닝된 마스크(3)에 상기 페리클(4)을 부착시킨다.At this time, a particle 4 is attached to the mask 3 to prevent foreign substances such as particles from being patterned on the wafer 7. That is, in order to prevent particle and foreign matter from penetrating to the image 5 patterned on the bottom surface of the mask 3, the particle 4 is attached to the mask 3 on which the image 5 is patterned.
상기와 같은 리소그래피 공정에서 사용되는 페리클(4)은 최근에 TFT형 LCD의 대형화에 따라 대형 마스크를 커버할 수 있도록 대형화가 요구된다. 더불어 마스크 사이즈를 최소한으로 제한하기 위하여, 마스크상의 페리클을 부착하기 위한 필요한 면적도 최소한으로 제한하는 것이 요구되어, 페리클 막이 부착된 페리클 프레임의 간소화가 동시에 요구된다. The ferrule 4 used in the lithography process as described above is required to be enlarged so as to cover a large mask in accordance with the enlargement of the TFT type LCD in recent years. In addition, in order to limit the mask size to a minimum, it is also required to limit the required area for attaching the pellicle on the mask to a minimum, so that the simplification of the pellicle frame with the pellicle film is simultaneously required.
그러나, 대형 페리클의 프레임은 긴 사각봉과 짧은 사각봉을 갖는 직사각형의 프레임에 있어서, 프레임이 긴 사각봉이 휘는 현상이 발생하는 문제점이 있다. 즉, 대형 페리클의 페리클막에서는 막이 느슨해지거나 주름이 생기지 않도록 어느 정도의 장력이 필요로 하는바, 상기 장력 때문에 프레임 긴 사각봉이 내측으로 휘는 현상이 발생하고, 상기 프레임의 긴 사각봉이 휨으로써 마스크의 페리클 부착 정밀도가 떨어지는 문제가 발생하는 것이다. However, in the rectangular frame having a long rectangular bar and a short rectangular bar, the frame of the large ferrule has a problem in that the long rectangular bar bends. In other words, in the ferrule film of a large ferrule, a certain amount of tension is required so that the film does not loosen or wrinkle. The tension of the long rectangular bar occurs due to the tension, and the long rectangular bar of the frame bends to give a mask. The problem is that the precision of the ferric attachment is poor.
이를 해결하기 위한 대한민국 등록특허공보 제 385759호에 개시된 종래의 대형 페리클의 프레임을 도 6을 참조하여 간략하게 살펴보면 다음과 같다. 긴 사각봉(40)의 폭을 짧은 사각봉(50)의 폭보다 크게 하여 긴 사각봉의 강성을 확보하여 긴 사각봉의 프레임이 내측으로 휘는 것을 방지하도록 한다. 또한, 상기 긴 사각봉(40)과 짧은 사각봉(50)의 폭이 서로 다름을 감안하여 긴 사각봉(40)의 마스크(미도시)에 접착되는 면(41)에 경사면(42)을 형성하여 긴 사각봉(40)과 짧은 사각봉(50)의 접착되는 면(41,51)의 면적을 대략 동일하게 하여 접착제를 균일하게 도포할 수 있게 된다.Referring to FIG. 6, a frame of a conventional large ferrule disclosed in Korean Patent Publication No. 385759 to solve this problem is as follows. The width of the long rectangular bar 40 is greater than the width of the short rectangular bar 50 to secure the rigidity of the long rectangular bar to prevent the frame of the long rectangular bar from bending inside. In addition, in consideration of different widths of the long rectangular bar 40 and the short rectangular bar 50, the inclined surface 42 is formed on the surface 41 bonded to the mask (not shown) of the long rectangular bar 40. The area of the surfaces 41 and 51 to be adhered to the long rectangular bar 40 and the short rectangular bar 50 is approximately equal to each other so that the adhesive can be uniformly applied.
그러나, 상기와 같은 종래의 페리클 프레임은 제조를 위한 가공공정이 복잡한 단점이 있다. 즉, 상기 종래의 페리클 프레임은 긴 사각봉(40)과 짧은 사각봉(50)의 폭이 서로 다르기 때문에 상기 페리클 프레임의 마스크에 접착되는 면(41,51)에서 긴 사각봉(40)과 짧은 사각봉(50)의 접착면(41,51)의 폭이 대략 동일하도록 긴 사각봉(40)의 접착면(41)에 경사면(42)을 형성하기 위한 별도의 가공공정이 필요한 단점이 있다. However, the conventional ferrule frame as described above has a disadvantage in that the manufacturing process for manufacturing is complicated. That is, since the widths of the long rectangular bar 40 and the short rectangular bar 50 are different from each other, the conventional rectangular frame 40 has a long rectangular bar 40 on the surfaces 41 and 51 bonded to the mask of the peripheral frame. And a separate processing step for forming an inclined surface 42 on the adhesive surface 41 of the long rectangular bar 40 so that the width of the adhesive surface (41, 51) of the short rectangular bar 50 is approximately the same have.
또한, 상기 종래의 페리클 프레임은 모서리가 첨예한 사각형으로 형성되므로, 상기 모서리 부분에 정전기 발생이 쉽게 이루어져, 상기 정전기 발생으로 인한 대기중의 먼지등의 파티클을 유도하는 결과를 초래한다. 특히, 상기 페리클 프레임의 보관시 상기 모서리 부분과 보관함과의 마찰로 인해 정전기 및 파티클이 발생하여 상기 파티클이 정전기로 인해 프레임상에 달라 붙어 있으므로 상기 프레임의 보관해제하여 설치할 때 상기 파티클을 제거해야 하는 불편함이 있다.In addition, since the conventional ferrule frame is formed in a sharp corner, the static electricity is easily generated in the corner portion, resulting in the particle of the atmosphere, such as dust caused by the static electricity. In particular, when the particle frame is stored, static electricity and particles are generated due to friction between the corner portion and the storage box, and thus the particles are stuck to the frame due to static electricity. Therefore, the particles should be removed when the storage is installed by releasing the frame. There is discomfort.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 폭의 길이가 동일하고, 모서리 부분이 곡면으로 형성된 페리클 프레임을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and the object of the present invention is to provide a ferrule frame having the same length of the long rectangular bar and the short rectangular bar, the corner portion is formed in a curved surface.
또한, 본 발명은 상기 페리클 프레임의 측방 외면에 고정수단에 삽입시켜 상기 페리클 프레임을 고정하기 위한 고정홈이 형성된 페리클 프레임을 제공함에 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a pellicle frame formed with a fixing groove for fixing the pellicle frame is inserted into the fixing means on the side outer surface of the pellicle frame.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 대형 페리클 프레임은 면적이 1,000 ㎠ 이상의 페리클 막의 가장자리가 접착되어 상기 페리클 막을 평평하게 지지하기 위한 사각형상의 페리클 프레임에 있어서, 상기 페리클 프레임은 양단이 연결된 평행한 한쌍의 긴 사각봉과 짧은 사각봉으로 이루어 지고, 상기 각각의 사각봉은 높이가 실질적으로 동일하고, 상기 페리클 막이 부착되는 상기 각각의 사각봉의 상부면은 실질적으로 동일한 폭을 가지며, 상기 한쌍의 짧은 사각봉의 외측면에는 길이방향으로 일정한 깊이의 홈이 각각 형성되어 있고, 상기 한쌍의 긴 사각봉의 외측면에는 내측면과 관통하는 복수의 필터구멍이 각각 대응하는 위치에 일정한 간격으로 형성된 것을 특징으로 한다.In the large-sized pellicle frame of the present invention for achieving the above object is a rectangular pellicle frame for bonding the edge of the pellicle film of more than 1,000 cm 2 area to support the pellicle film flat, the pellicle frame is It consists of a pair of parallel long and short rectangular bars connected to both ends, the respective rectangular bars are substantially the same height, the upper surface of each rectangular bar to which the pellicle film is attached has a substantially the same width, Grooves of constant depth in the longitudinal direction are formed on the outer surfaces of the pair of short square bars, respectively, and on the outer surfaces of the pair of long rectangular bars, a plurality of filter holes penetrating the inner surface are formed at regular intervals at corresponding positions. It is characterized by.
또한, 본 발명의 대형 페리클 프레임에서 상기 긴 사각봉의 길이는 짧은 사각봉의 길이의 두배 이내이고, 각각의 사각봉의 폭이 높이보다 더 큰 것을 특징으로 한다.In addition, in the large ferrule frame of the present invention, the length of the long rectangular bar is less than twice the length of the short rectangular bar, characterized in that the width of each rectangular bar is larger than the height.
또한, 본 발명의 대형 페리클 프레임에서 상기 각각의 사각봉의 재질은 알루미늄이고, 상기 필터구멍의 직경은 상기 긴 사각봉의 높이의 1/4 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, in the large ferrule frame of the present invention, the material of each square bar is aluminum, and the diameter of the filter hole is characterized in that less than 1/4 of the height of the long square bar.
또한, 본 발명의 대형 페리클 프레임에서 상기 각각의 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 연결부에는 라운드가 형성되어 있으며, 외측면의 라운드의 반경이 내측면의 라운드의 반경보다 큰 것을 특징으로 한다.In addition, in the large ferrule frame of the present invention, a round is formed at each of the connection portions of the long rectangular bars and the short rectangular bars, and the radius of the round of the outer surface is greater than the radius of the round of the inner surface.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 페리클 프레임의 사시도이고, 도 2는 도 1의 페리클 프레임의 정면도이며, 도 3의 (a)는 도 2의 A-A'선에서 바라본 단면도, (b)는 B-B'선에서 바라본 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 페리클 프레임의 사용상태를 보이는 개념도이다.1 is a perspective view of a pellicle frame according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a front view of the pellicle frame of Figure 1, Figure 3 (a) is a cross-sectional view seen from the line AA 'of FIG. (b) is a cross-sectional view seen from the line B-B ', Figure 4 is a conceptual diagram showing a state of use of the pellicle frame according to an embodiment of the present invention.
본 실시예에 따른 페리클 프레임(100)은 긴 사각봉(10)과 짧은 사각봉(20)을 갖는 중공의 사각형상의 프레임으로 형성된다. 상기 긴 사각봉(10)과 짧은 사각봉(20)은 동일한 폭(WL=Ws)과 높이로 형성되고, 짧은 사각봉(20)의 측방 외면에는 상기 페리클 프레임(100)을 적층 또는 포장하여 이동하기 위한 보관함(미도시)에 고정하기 위해 보관함의 리브(미도시)에 삽입되는 홈(21)이 형성되어 있으며, 상기 긴 사각봉(10)과 짧은 사각봉(20)이 만나는 연결부(11)는 곡면으로 형성되어 있다. 상기 각각의 긴 사각봉(10)의 외측면(14)에는 내측면(13)과 관통하는 복수의 필터구멍(12)이 각각 마주보는 위치에 일정한 간격으로 형성되어 있다.The ferrule frame 100 according to the present embodiment is formed of a hollow rectangular frame having a long rectangular bar 10 and a short rectangular bar 20. The long rectangular bar 10 and the short rectangular bar 20 are formed in the same width (W L = W s ) and the height, the side surface of the short rectangular bar 20 is laminated or the pericle frame 100 A groove 21 is inserted into a rib (not shown) of the storage box to be fixed to a storage box (not shown) for packaging and moving, and a connection portion where the long square bar 10 and the short square bar 20 meet each other. 11 is formed in a curved surface. On the outer surface 14 of each of the long rectangular bars 10, the inner surface 13 and the plurality of filter holes 12 penetrating are formed at regular intervals at positions facing each other.
상기 긴 사각봉(10)의 길이는 짧은 사각봉(20)의 길이보다 두배 미만, 1.15배 이상으로 형성함이 가장 바람직하고, 페리클막(30)의 부착시 페리클 프레임(100)의 내측으로 페리클막(30) 장력이 발생하기 때문에 상기 장력으로 각각의 사각봉(10,20), 특히 긴 사각봉(10)이 프레임(100)의 내측으로 휘어짐을 방지하기 위하여 각각의 사각봉(10,20)의 폭은 높이보다 더 크게 형성함이 바람직하다.The length of the long rectangular bar 10 is most preferably formed less than twice the length of the short rectangular bar 20, 1.15 times or more, and when the pellicle film 30 is attached to the inside of the pellicle frame 100 Since the tension of the pellicle film 30 occurs, the respective rectangular bars 10 and 20, in particular, the long rectangular bars 10 are prevented from bending toward the inside of the frame 100. The width of 20) is preferably formed larger than the height.
또한, 상기 복수의 필터구멍(12)의 직경은 긴 사각봉(10)의 강성을 고려하여 긴 사각봉(10) 높이의 1/4 이하로 형성함이 가장 바람직하다.In addition, the diameters of the plurality of filter holes 12 are most preferably formed to be 1/4 or less of the height of the long rectangular bar 10 in consideration of the rigidity of the long rectangular bar 10.
또한, 상기 각각의 긴 사각봉(10)과 짧은 사각봉(20)의 연결부(11)는 첨예한 부분이 정전기 발생을 유발함을 감안하여 라운딩 가공하여 곡면으로 형성되어 있다. In addition, the connecting portion 11 of each of the long rectangular bar 10 and the short rectangular bar 20 is formed in a curved surface by rounding processing in consideration of the sharp part causing the generation of static electricity.
상기 각각의 사각봉(10,20)의 재질은 알루미늄이나 이에 한정되는 것은 아니다. The material of each of the rectangular bars 10 and 20 is aluminum, but is not limited thereto.
상기와 같은 페리클 프레임(100)의 상면에 접착제(미도시)가 도포되고, 상기 접착제에 의해 페리클막(30)이 페리클 프레임(100)에 부착된다. 상기 페리클막(30)으로서는 셀룰로오스 유도체(니트로셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트 푸틸레이트등, 또는 이들 2종 이상의 혼합물), 불소폴리머 등이 사용된다. 페리클막(30)의 두께는 0.5~1.0㎛ 정도가 적합하고, 본 실시예의 큰 사이즈의 페리클에서는 페리클막의 강도와 균일한 막을 만들기 쉽기 때문에 2~8㎛ 가 바람직하다. An adhesive (not shown) is applied to the upper surface of the ferrule frame 100 as described above, and the pellicle film 30 is attached to the pellicle frame 100 by the adhesive. As the ferric film 30, a cellulose derivative (nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or a mixture of two or more thereof), a fluoropolymer, and the like are used. About 0.5-1.0 micrometer is suitable for the thickness of the pellicle film 30, and 2-8 micrometers is preferable for the large sized pellicle of this embodiment, since it is easy to make the strength of a pellicle film and a uniform film | membrane.
상기와 같은 페리클막(30)은, 페리클 프레임(100)에 장력을 가설하여 접착제에 의해 접착된다. 상기 페리클 프레임(100)에 펼쳐져서 접착 지지된 페리클막(30)의 장력은 1×10-3 N/mm 내지 1 N/mm 로 형성됨이 바람직하나, 6×10-3 N/mm 내지 6×10-1 N/mm이 가장 이상적이다. 상기 페리클막(30)의 장력이 상기 범위에 있으면 그 자신의 중량이나 페리클막(30) 내외의 기압차에 의해 페리클막(30)이 막면의 수직방향으로 팽창되거나 움푹 패거나 하는 것을 제한시킬 수 있으며, 또한 페리클막(30)에 부착된 파티클과 같은 이물질을 송풍기(미도시)등과 같은 청소도구로 제거할 때 페리클막(30)이 상기 송풍기의 송풍압력에도 크게 진동하지 않아 상기 이물질이 쉽게 제거되는 장점이 있다.The pellicle film 30 as described above is temporarily bonded to the pellicle frame 100 and bonded by an adhesive. The tension of the pellicle film 30 that is unfolded and supported on the pellicle frame 100 is preferably formed by 1 × 10 −3 N / mm to 1 N / mm, but may be 6 × 10 −3 N / mm to 6 × 10 -1 N / mm is the most ideal. When the tension of the pellicle membrane 30 is in the above range, the pellicle membrane 30 may be limited to expand or dent in the vertical direction of the membrane surface due to its own weight or air pressure difference in and out of the pellicle membrane 30. In addition, when the foreign matter such as particles attached to the pellicle membrane 30 is removed with a cleaning tool such as a blower (not shown), the pellicle membrane 30 does not vibrate greatly in the blowing pressure of the blower, so the foreign matter is easily removed. It has the advantage of being.
상기 접착제는 페리클막(30)의 재질과 페리클 프레임(100)의 재질에 의해 적절하게 선택하는데, 에폭시계, 아크릴계, 실리콘계, 불소계등의 접착제가 사용된다. 또한, 상기 접착제의 경화방법으로는 각각의 접착제의 종류에 알맞은 열경화, 광경화, 혐기성경화등의 방법을 이용한다.The adhesive is appropriately selected depending on the material of the pellicle film 30 and the material of the pellicle frame 100, and an adhesive such as epoxy, acrylic, silicone, or fluorine is used. In addition, as a hardening method of the said adhesive agent, methods, such as thermosetting, photocuring, and anaerobic hardening suitable for each kind of adhesive, are used.
이하 상세예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.The present invention will be described in more detail with reference to the following detailed examples.
상세예 1Detailed example 1
본 상세예의 대형 페리클용 프레임은 긴 사각봉의 길이방향 길이가 427mm, 짧은 사각봉의 길이방향 길이가 294mm이고, 면적이 1255.38㎠ 인 페리클막을 평평하게 지지하기 위한 것이다.(약 21인치 TFT LCD 제조용) 상기 각각의 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 폭 길이는 5.5mm로 동일하며, 높이도 4.3mm로 동일하다. 상기 긴 사각봉에 형성된 필터구멍의 직경은 1mm로 상기 긴 사각봉 높이의 1/4 이하이다. 상기 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 연결부는 라운드가 형성되어 있고, 외측면의 라운드는 반경이 9mm, 내측면의 라운드는 반경이 2mm로 형성되어 있다.The large ferrule frame of this detailed example is for flatly supporting a pellicle film having a length of 427 mm in a long square bar and a length of 294 mm in a short square bar and having an area of 1255.38 cm 2 (for manufacturing about 21 inch TFT LCD). The width of each of the long square bar and the short square bar is the same as 5.5mm, the height is also equal to 4.3mm. The diameter of the filter hole formed in the long square bar is 1mm and less than 1/4 of the height of the long square bar. The connecting portion of the long rectangular bar and the short rectangular bar is formed in a round, the outer surface of the round is formed in a radius of 9mm, the inner surface of the round is formed in a radius of 2mm.
상기와 같은 대형 페리클용 프레임은 페리클막의 장착시 각각의 사각봉, 특히 긴 사각봉의 휨 현상이 발생하지 않는다. 또한, 상기 각각의 사각봉 상면, 즉 페리클막의 접착면의 폭이 동일하므로 한개의 접착제 도포수단으로 한번의 접착제 도포공정을 통해 긴 사각봉의 접착면과 짧은 사각봉의 접착면에 접착제를 도포하게 된다. 또한, 상기 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 연결부가 라운드 형성되어 있어 종래의 첨예하게 형성된 연결부에 비해 정전기 발생이 현저하게 줄어든다.As described above, the frame for the large ferrule does not cause warpage of each rectangular bar, in particular, a long rectangular bar, when the pericle film is mounted. In addition, since the width of each of the upper surface of the rectangular bar, that is, the adhesive surface of the pellicle film is the same, the adhesive is applied to the adhesive surface of the long rectangular bar and the adhesive surface of the short rectangular bar through one adhesive coating process by one adhesive applying means. . In addition, the connection between the long rectangular bar and the short rectangular bar is rounded, so that the generation of static electricity is significantly reduced compared to the conventional sharply formed connection.
상세예 2Detailed example 2
본 상세예의 대형 페리클용 프레임은 긴 사각봉의 길이방향 길이가 582mm, 짧은 사각봉의 길이방향 길이가 348mm이고, 면적이 2025.36㎠ 인 페리클막을 평평하게 지지하기 위한 것이다.(약 27인치 TFT LCD 제조용) 상기 각각의 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 폭 길이는 7.0mm로 동일하며, 높이도 4.3mm로 동일하다. 상기 긴 사각봉에 형성된 필터구멍의 직경은 1mm로 상기 긴 사각봉 높이의 1/4 이하이다. 상기 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 연결부는 라운드가 형성되어 있고, 외측면의 라운드는 반경이 9mm, 내측면의 라운드는 반경이 2mm로 형성되어 있다.The large ferrule frame of this detailed example is for supporting a flat film having a length of 582 mm in the length of a long square bar and a length of 348 mm in a short square bar and having an area of 2025.36 cm 2 (for manufacturing about 27 inches TFT LCD). The width length of each of the long and short rectangular bars is the same as 7.0mm, the height is also equal to 4.3mm. The diameter of the filter hole formed in the long square bar is 1mm and less than 1/4 of the height of the long square bar. The connecting portion of the long rectangular bar and the short rectangular bar is formed in a round, the outer surface of the round is formed in a radius of 9mm, the inner surface of the round is formed in a radius of 2mm.
본 상세예에서도 각각의 사각봉의 휨 현상이 발생하지 않고, 상기 긴 사각봉의 폭과 짧은 사각봉의 폭은 동일한 길이로 형성된다. Even in this detailed example, the bending phenomenon of each rectangular bar does not occur, and the width of the long rectangular bar and the width of the short rectangular bar are formed in the same length.
본 실시예에서는 상기에서와 같이 2개의 상세예를 참조하여 본 발명의 실시에 대해서 설명하였다. 그러나 상기 상세예 1과 상세예 2에 개시된 예에 한정되지 않고 더 큰 사이즈의 페리클 프레임이 제조될 수 있음은 당업자에게 자명할 것이다.In the present embodiment, the embodiment of the present invention has been described with reference to two detailed examples as described above. However, it will be apparent to those skilled in the art that a larger sized pellicle frame can be manufactured without being limited to the examples disclosed in Examples 1 and 2 above.
본 발명에 의하면, 대형 페리클 프레임의 긴 사각봉과 짧은 사각봉의 접착면의 폭이 동일하므로 페리클 막을 부착하기 위한 접착공정에서 하나의 접착수단, 예를 들면 한개의 노즐을 이용해 긴 사각봉 및 짧은 사각봉의 접착면에 접착제를 도포할 수 있어 접착공정이 신속하게 이루어 지는 장점이 있다.According to the present invention, since the widths of the bonding surfaces of the long rectangular bars and the short rectangular bars of the large ferrule frame are the same, the long rectangular bars and the short ones are used by using one adhesive means, for example, one nozzle, in the bonding process for attaching the ferrule film. Adhesive can be applied to the adhesive side of the square bar has the advantage that the bonding process is made quickly.
또한, 상기 긴 사각봉과 짧은 사각봉이 만나는 연결부가 곡면으로 형성되어 종래 연결부가 첨예하게 형성된 페리클 프레임에 비해 정전기 발생이 현저하게 줄어들어, 상기 정전기 발생으로 인한 파티클 및 먼지등이 달라붙지 않는 장점이 있다.In addition, since the connecting portion where the long rectangular bar and the short rectangular bar meet is formed in a curved surface, the generation of static electricity is significantly reduced compared to the conventional ferric frame formed with a sharp connection, there is an advantage that the particles and dust due to the static electricity does not stick. .
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.An embodiment of the present invention described above and illustrated in the drawings should not be construed as limiting the technical spirit of the present invention. The protection scope of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art can change and change the technical idea of the present invention in various forms. Therefore, such improvements and modifications will fall within the protection scope of the present invention, as will be apparent to those skilled in the art.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 페리클 프레임의 사시도1 is a perspective view of a pellicle frame according to an embodiment of the present invention
도 2는 도 1의 페리클 프레임의 정면도FIG. 2 is a front view of the pericle frame of FIG. 1. FIG.
도 3의 (a)는 도 2의 A-A'선에서 바라본 단면도, (b)는 B-B'선에서 바라본 단면도(A) is sectional drawing seen from the line A-A 'of FIG. 2, (b) is sectional drawing seen from the line B-B'.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 페리클 프레임의 사용상태를 보이는 개념도4 is a conceptual diagram showing a state of use of the pellicle frame according to an embodiment of the present invention
도 5는 일반적인 반도체 제조공정에서의 리소그래피 공정을 설명하기 위한 개념도5 is a conceptual diagram illustrating a lithography process in a general semiconductor manufacturing process
도 6은 종래의 페리클 프레임을 보이는 사시도Figure 6 is a perspective view of a conventional pericle frame
<부호의 간단한 설명><Short description of symbols>
10 긴 사각봉 11 연결부10 Long square rod 11 Connection
12 필터구멍 20 짧은 사각봉12 filter hole 20 short square rod
21 홈 30 페리클 막21 home 30 pellicle membrane
100 페리클 프레임100 Pericle Frame
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040025746A KR20050100492A (en) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | Large pelicle frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050100492A true KR20050100492A (en) | 2005-10-19 |
Family
ID=37279296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040025746A KR20050100492A (en) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | Large pelicle frame |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20050100492A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170080582A (en) * | 2014-11-04 | 2017-07-10 | 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤 | Pellicle support frame and production method |
| KR20220056609A (en) * | 2020-10-28 | 2022-05-06 | 주식회사 에프에스티 | Pellicle frame for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same |
-
2004
- 2004-04-14 KR KR1020040025746A patent/KR20050100492A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR20220056609A (en) * | 2020-10-28 | 2022-05-06 | 주식회사 에프에스티 | Pellicle frame for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same |
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