KR20050032353A - 플라즈마 디스플레이 패널 구동의 구동 방법과 플라즈마디스플레이 패널의 계조 표시 방법 및 플라즈마 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 저계조 표현력을 향상시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 표현 방법에 관한 것이다. 최소 가중치를 가지는 서브필드의 어드레스 동작 수행 후, 주사 전극과 유지 전극에 교대로 전압을 인가하는 유지 기간을 두지 않고 바로 주사 전극에 유지 전압의 저전압(low level) 레벨로부터 다음 서브필더의 리셋 기간의 리셋 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가한다. 이때, 상기 완만하게 상승하는 파형의 앞부분에서는 최소 가중치를 가지는 서브필드의 어드레스 기간에서 선택된 방전셀만이 방전한다. 이를 통해, 최소 가중치를 나타내는 최소 단위광을 어드레스 광과 상기 완만하게 상승하는 파형의 앞부분에서 발생하는 광만을 이용해 표현하여 저계조 표현력을 향상시킬 수 있다.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 표현 방법에 관한 것으로서, 특히 저계조 표현력을 향상시킨 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 구현 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널은 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 평면 표시 장치로서, 그 크기에 따라 수십에서 수백 만개 이상의 화소가 매트릭스 형태로 배열되어 있다. 먼저 도 1 및 도 2를 참조하여 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조에 대하여 설명한다.
도 1은 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 사시도이며, 도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도를 나타낸다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 서로 마주보며 떨어져 있는 두 개의 유리 기판(1, 6)을 포함한다. 유리 기판(1) 위에는 주사 전극(4)과 유지 전극(5)이 쌍을 이루어 평행하게 형성되어 있으며, 주사 전극(4)과 유지 전극(5)은 유전체층(2) 및 보호막(3)으로 덮여 있다. 유리 기판(6) 위에는 복수의 어드레스 전극(8)이 형성되어 있으며, 어드레스 전극(8)은 절연체층(7)으로 덮여 있다. 어드레스 전극(8) 사이에 있는 절연체층(7) 위에는 어드레스 전극(8)과 격벽(9)이 형성되어 있다. 또한 절연체층(7)의 표면 및 격벽(9)의 양측면에 형광체(10)가 형성되어 있다. 유리 기판(1, 6)은 주사 전극(4)과 어드레스 전극(8) 및 유지 전극(5)과 어드레스 전극(8)이 직교하도록 방전 공간(11)을 사이에 두고 대향하여 배치되어 있다. 어드레스 전극(8)과, 쌍을 이루는 주사 전극(4)과 유지 전극(5)과의 교차부에 있는 방전 공간(11)이 방전 셀(12)을 형성한다.
그리고 도 2에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널의 전극은 n×m의 매트릭스 구조를 가지고 있다. 열 방향으로는 어드레스 전극(A1-Am)이 배열되어 있고 행 방향으로는 n행의 주사 전극(Y1-Yn) 및 유지 전극(X1-Xn
)이 쌍으로 배열되어 있다.
플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법은 일반적으로 각 서브필드(편의상 하나의 서브필드내에서 파형을 설명함)는 리셋 기간, 어드레스 기간, 유지 기간 및 소거 기간으로 이루어진다.
리셋 기간은 셀에 어드레싱 동작이 원활히 수행되도록 하기 위해 각 셀의 상태를 초기화시키는 기간이며, 어드레스 기간(또는 스캔 기간, 기록 기간)은 패널에서 켜지는 셀과 켜지지 않는 셀을 선택하여 켜지는 셀(어드레싱된 셀)에 벽전하를 쌓아두는 동작을 수행하는 기간이다. 유지 기간은 어드레싱된 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 방전을 수행하는 기간이며, 소거기간은 셀의 벽전하를 감소시켜 유지방전을 종료시키는 기간이다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법은 최소 단위광, 즉 서브필드 1(가중치1)의 광은 어드레스 기간에서 선택된 셀에서 발생되는 광과 유지기간에서 1회의 유지방전시에 발생되는 광 및 서브필드 2의 리셋 기간의 광(리셋기간 앞단의 일부분으로서 거의 무시됨)의 합으로서 표현된다. 다시 말하면, 서브필드 1의 구간에서, 어드레스 기간에서 어드레스 방전(어드레스 광)을 하여 스캔 전극에 양이온이 형성되고, 이 후 유지 기간에서 주사 전극(Y)이 유지 전극(X)보다 높게 설정되어 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 유지 방전 전압(Vs)이 인가됨으로써 1회의 유지 방전(유지(서스테인) 광)을 수행한다. 다음으로, 서브필드 2의 리셋 기간의 리셋 동작을 통하여 최소 단위광이 표현된다. 이때, 리셋 기간에서 발생되는 광은 다소 작으므로 거의 무시된다. 그리고, 서브필드 2(가중치 2)를 표현하는 광은 어드레스 방전(어드레스 광)과 유지 기간에서의 2회의 유지 방전(유지(서스테인) 광)을 통해 표현된다.
따라서, 종래의 구동 방법에서는 최소 단위광은 1회의 어드레스 방전(어드레스 광)과 유지 방전(유지(서스테인)광)으로 구성되어 더욱 낮은 휘도를 구현하는데 한계가 있다. 또한, 발광 효율을 높이기 위해 고 제논(High Xe)을 사용하는 현재에는 1회의 유지 방전에 의해 발생하는 단위광의 크기가 증가하는데, 이러한 상황에서 저계조 표현력을 높이기 위해서는 더 낮은 최소 단위광이 요구된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 최소 단위광을 저감시켜 저계조 표현력을 향상시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 표현 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법은
제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
1필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 서브필드의 구동 방법은
(a) 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하여 제1 광을 발생시키는 단계;
(b) 상기 단계(a) 후, 상기 제1 전극에 제3 전압에서 제4 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제2 광을 발생시키는 단계; 및
(c) 상기 단계(b) 후, 상기 제1 전극에 상기 제4 전압에서 제5 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 리셋 광을 발생시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법은
제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
1필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 서브필드의 구동 방법은
(a) 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하여 제1 광을 발생시키는 단계;
(b) 상기 단계(a) 후, 상기 제1 전극에 제3 전압에서 제4 전압까지 제1 기울기를 가지도록 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제2 광을 발생시키는 단계;
(c) 상기 단계(b) 후, 상기 제1 전극에 상기 제4 전압에서 제5 전압까지 상기 제1 기울기보다 작은 제2 기울기를 가지도록 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제3 광을 발생시키는 단계; 및
(d) 상기 단계(c) 후, 상기 제1 전극에 상기 제5 전압에서 제6 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 리셋 광을 발생시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 구현 방법은
제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 계조를 구현하는 방법에 있어서,
상기 복수의 서브필드 중 최소 가중치를 나타내는 제1 서브필드의 계조를 표시하는 발광을,
상기 제1 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가할 때 발생되는 발광만을 통해 최소 가중치를 나타내는 계조를 표현하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따른 플라즈마 표시 장치는
제1 기판,
상기 제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극,
상기 제1 기판과 마주보며 떨어져 있는 제2 기판,
상기 제1 및 제2 전극에 교차하는 방향으로 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극, 그리고
인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 방전시키기 위해 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 구동 전압을 공급하는 구동 회로를 포함하며,
상기 구동 회로는 어드레스 기간에서 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극과 상기 제3 전극에 각각 제1 전압과 제2 전압을 인가하고,
상기 제1 전압과 제2 전압의 차이에 의해 발생되는 발광만을 이용해 최소 가중치를 가지는 서브필드를 표현하는 것을 특징으로 한다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 구동 파형은 서브필드 1(가중치1의 서브필드)은 리셋기간(도 4에는 도시하지 않았음), 어드레스 기간, 휘도 조정 기간을 포함하며, 서브필드 2(가중치2의 서브필드)는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지기간을 포함한다. 그리고 플라즈마 디스플레이 패널에는 각 기간에서 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X)에 구동 전압을 인가하는 주사/유지 구동 회로(도시하지 않음)와 어드레스 전극(A)에 구동 전압을 인가하는 어드레스 구동 회로(도시하지 않음)가 연결된다. 이러한 구동 회로와 플라즈마 디스플레이 패널이 연결되어 하나의 플라즈마 표시 장치를 이룬다.
서브필드 1(가중치1의 서브필드)의 어드레스 기간에서는 어드레스 전극(A)에는 양의 전압(Va)을 인가하고 주사 전극(Y)에는 로우 레벨로서 그라운드 레벨 전압(GND)을 인가하여 어드레스 방전을 수행한다. 이를 통해, 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에 방전(어드레스 광)이 일어나 주사 전극에 양의 벽전하 쌓이게 된다. 도 4에서는 어드레스 기간에서 어드레싱 동작이 한번만 일어나는 것을 나타내었지만, 실제는 방전 셀을 선택하기 위해 모든 주사 전극이 스캔될 때 선택할 셀의 어드레스 전극에 어드레스 전압(Va)을 인가한다.
서브필드 1(가중치1의 서브필드)의 어드레스 기간 후, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법은 유지 기간을 포함하지 않는다. 즉, 어드레스 기간에서 선택된 셀을 유지 방전시키기 위해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 교대로 유지 전압을 인가하지 않는다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 어드레스 기간 후, 주사 전극(Y)에 유지 방전 전압의 저 레벨(low level) 전압(도 4에서는 OV(ground))으로부터 다음 서브필드(서브필드 2(가중치 2의 서브필드))의 리셋 최종 전압(Vset)까지 완만하게 상승하는 램프 파형을 인가한다. 완만하게 상승하는 램프 파형을 인가함으로써 일정한 기간 이후부터 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 약한 방전(L1 + L2(리셋광))이 발생한다. 이러한 약한 방전 중에서 앞단에 발생하는 광(L1)은 어드레스 기간에서 선택된 셀에서만 방전이 발생한다. 따라서, 약한 방전 중에서 앞단에 발생하는 광(L1)은 선택된 셀에서만 발광하므로 서브필드 1(가중치1의 서브필드)을 표현하는 광으로 사용된다. 도 4에서는 완만하게 상승하는 기간부터 상기 앞단에 발생하는 광(L1)이 발생하는 기간을 휘도 조정기간으로 도시하였다.
상기 약한 방전 중에서 뒤단, 즉 모든 셀(어드레스싱 된 셀 및 어드레싱 되지 않는 셀)에서 약한 방전이 일어나는 전압 이후에는 모든 셀에서 약한 방전(L2)이 발생한다. 이러한, 모든 셀에서 약한 방전이 일어나는 기간이후에는 서브필드 2(가중치 2의 서브필드)가 시작된다. 서브필드 2부터는 종래의 파형과 동일하나 가중치 2를 표현하기 위해 유지 기간에서 유지 전압(Vs)을 주사 전극(Y)에 한번만 인가한다. 따라서, 서브필드 2의 광은 어드레스 광, 유지(서스테인) 광 및 리셋 기간(제3 서브필드의 리셋 기간을 의미함)의 앞단의 광으로 표현된다. 또한, 서브필드 3의 광은 서브필드 1의 광은 2배가 되도록 설정하는 것이 바람직하다. 이때, 서브필드 2의 광 중 리셋 기간(제3 서브필드의 리셋 기간을 의미함)의 앞단의 광은 어드레스 된 셀에서만 리셋기간에서 발광하는 광을 의미하는데, 이는 어드레스 광과 유지 광(서스테인광)에 비해 아주 작은 양이므로 무시 될 수 있다.
그리고, 서브필드 3(가중치3의 서브필드), 4, 5 등은 서브필드 2와 같은 방법으로 유지기간에서 유지 전압을 각각 3, 4, 5번을 인가함으로써 구현된다.
상기와 같이, 서브필드 1(가중치1의 서브필드)의 광(즉, 최소 단위광을 의미함)은 어드레스 광과 완만하게 상승하는 파형의 앞단에 발생하는 광(L1)의 합으로 표현된다. 이때, 상기 L1의 광은 어드레스 광에 비해 작은 값이므로 무시될 수 있으므로 어드레스 광을 최소 단위광(즉, 최소 가중치를 표현하는 광)으로 사용할 수도 있다. 따라서, 최소 단위광의 휘도 레벨(level) 저감시킴으로써 저계조 표현력을 향상시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형은 도 4와 유사하나, 서브필드 1(가중치 1의 서브필드)의 어드레스 기간 후에 다음의 서브필드의 리셋 전압(Vset)까지 완만하게 상승하는 파형을 2개의 기울기(S1, S2)를 가지는 램프 파형으로 인가하는 점에서 차이가 있다. 이때, S1의 기울기가 S2의 기울기보다 더욱 크게 함으로써 보다 많은 양의 발광(L3 > L4)이 발생한다. 이는 다음 서브필드(서브필드 2(가중치2의 서브필드))에서 발생되는 광을 비교하여 비율을 조절할 필요가 있을 때 최소 단위광(즉, 서브필드1의 광)의 빛을 미세하게 조정하여 더 크게 만들기 위해서 이다. 도 5에서 S2의 기울기를 S1보다 작게 한 이유는 보다 완만하게 상승하여 서브필드 2의 리셋 과정이 원만하게 이루어지도록 하기 위함이다. 따라서, 본 발명의 제2 실시예에서 최소 단위광은 어드레스 광, S1의 기울기에 의한(L3) 및 S2의 기울기의 일부분에 의한 광(L4)의 합으로 표현된다.
본 발명의 제2 실시예에서도 서브필드 1과 서브필드 2의 경계가 되는 지점은 본 발명의 제1 실시예와 동일하게 서브필드 1의 어드레스 기간에서 선택된 셀뿐만 아니라 모든 셀이 상기 상승하는 곡선에 의해 방전하는 지점이다. 도 5에서는 S1을 가지는 기울기 파형 후, S2 기울기를 가지는 파형의 인가후 일정한 지점에서 모든 셀이 방전됨을 나타내었지만, 이 지점은 모든 셀이 방전하는 지점을 나타내는 지점으로서 도 5와 다소 다른 지점에서 서브필드 2의 리셋 기간이 시작될 수 있다.
이때, 상기 도 4 및 도 5에서는 서브필드 1의 어드레스 기간 후 리셋 전압까지 완만하게 상승하는 파형을 램프(ramp)파형으로 나타내었지만, 완만하게 상승하는 파형은 RC 파형, 일정한 전압이 변동하고 일정 기간 전압을 유지하는 계단 형태의 파형(즉, Step 파형), 일정한 전압이 변동하고 주사 전극(Y)을 플로팅 시키는 형태가 1회 이상 반복되는 플로팅 파형일 수도 있다. 이때, 도 5와 같이 기울기를 다르게 하는 것은 상기 계단 형태의 파형이나 플로팅 파형을 인가함에 있어 전압 변동을 크게 하거나 작게 하여 최소 단위광의 세기를 조절할 수 있다.
또한, 상기 도 4 및 도 5에서 각각 발광양의 도면을 직선 형태로 도시하였으나 이는 발광이 발생하는 것을 나타내기 위해서 도시한 것으로서 실제에 있어서는 그 형태가 다소 달라 질 수 있다. 그리고, 상기의 설명에서 서브필드1의 가중치를 가중치 1로 설명하였지만 이는 편의상 최소 가중치를 나타낸 것으로서 이는 0.5 또는 0.25 등 최소 가중치를 나타낸다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 최소 가중치의 서브필드의 어드레스 기간 후 다음 서브필드의 리셋 기간의 리셋 전압까지 완만하게 상승하는 파형을 인가하여 최소 단위광을 어드레스 광 및 완만하게 상승하는 파형의 앞단의 광으로 표현함으로써 최소단위광을 줄일 수 있다. 이를 통해, 저계조의 표현력을 향상시킬 수 있는 특유의 효과가 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 일부 사시도이다.
도 2는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광양을 나타내는 도면이다.
Claims (13)
- 제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,1필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 서브필드의 구동 방법은(a) 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하여 제1 광을 발생시키는 단계;(b) 상기 단계(a) 후, 상기 제1 전극에 제3 전압에서 제4 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제2 광을 발생시키는 단계; 및(c) 상기 단계(b) 후, 상기 제1 전극에 상기 제4 전압에서 제5 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 리셋 광을 발생시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,1필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 서브필드의 구동 방법은(a) 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하여 제1 광을 발생시키는 단계;(b) 상기 단계(a) 후, 상기 제1 전극에 제3 전압에서 제4 전압까지 제1 기울기를 가지도록 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제2 광을 발생시키는 단계;(c) 상기 단계(b) 후, 상기 제1 전극에 상기 제4 전압에서 제5 전압까지 상기 제1 기울기보다 작은 제2 기울기를 가지도록 상승하는 전압을 인가하여 상기 단계(a)에서 선택된 방전셀에만 제3 광을 발생시키는 단계; 및(d) 상기 단계(c) 후, 상기 제1 전극에 상기 제5 전압에서 제6 전압까지 완만하게 상승하는 전압을 인가하여 리셋 광을 발생시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1항에 있어서,상기 복수의 서브필드 중 최소 가중치를 가지는 서브필드는 상기 제1 광과 제2 광의 합으로 표현되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제2항에 있어서,상기 복수의 서브필드 중 최소 가중치를 가지는 서브필드는 상기 제1 광과 제2 광 및 제3 광의 합으로 표현되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 단계(a) 후, 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 교대로 전압을 인가하여 유지 발광시키는 단계를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1항에 있어서,상기 (b)단계에서, 완만하게 상승하는 전압은 램프전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제2항에 있어서,상기 제1 기울기를 가지도록 상승하는 전압 및 제2 기울기를 가지도록 상승하는 전압은 램프전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1항에 있어서,상기 단계(b)에서, 완만하게 상승하는 전압은 완만하게 상승하고 특정 전압 레벨을 유지하는 기간을 두 번 이상 반복하여 계단 형태로 상승하는 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1항에 있어서,상기 단계(b)에서, 완만하게 상승하는 전압은, 완만하게 상승하고 상기 제1 전극을 플로팅시키는 동작을 여러번 반복하여 이루어지는 플로팅 파형 모양의 전압인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
- 제2항에 있어서,상기 제1 기울기 및 제2 기울기를 조절하여 광량을 조절하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 다스플레이 패널의 구동 방법.
- 제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 그리고 상기 제1 및 제2 전극에 교차하며 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 계조를 구현하는 방법에 있어서,상기 복수의 서브필드 중 최소 가중치를 나타내는 제1 서브필드의 계조를 표시하는 발광을,상기 제1 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가할 때 발생되는 발광만을 통해 최소 가중치를 나타내는 계조를 표현하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 구현 방법.
- 제11항에 있어서,상기 제1 서브필드의 어드레스 기간 후 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 교대로 전압을 인가하는 유지 기간을 포함하지 않고 바로 상기 제1 서브필드와 연속하는 제2 서브필드의 리셋 기간이 위치하여 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 중 앞단에서 상기 제1 서브필드의 어드레스 기간에서 선택된 셀에서만 발생되는 광을 더 포함하여, 상기 최소 가중치를 나타내는 계조를 표현하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 계조 구현 방법.
- 제1 기판,상기 제1 기판 위에 각각 나란히 형성되는 복수의 제1 전극 및 제2 전극,상기 제1 기판과 마주보며 떨어져 있는 제2 기판,상기 제1 및 제2 전극에 교차하는 방향으로 제2 기판 위에 형성되는 복수의 제3 전극, 그리고인접한 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 방전시키기 위해 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 구동 전압을 공급하는 구동 회로를 포함하며,상기 구동 회로는 어드레스 기간에서 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 제1 전극과 상기 제3 전극에 각각 제1 전압과 제2 전압을 인가하고,상기 제1 전압과 제2 전압의 차이에 의해 발생되는 발광만을 이용해 최소 가중치를 가지는 서브필드를 표현하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 장치.
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