KR20050009928A - Slideglass provided with fine marks and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 현미경을 통하여 미세입자를 관찰하기 위하여 상기 미세입자를 포함하는 시료를 올려놓는 슬라이드 글라스에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 본 발명은, 상면에 상기 미세입자의 개체수를 계수하거나, 그 크기를 측정하거나, 위치를 파악할 수 있도록 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 슬라이드 글라스에 관한 것이다.The present invention relates to a slide glass on which a sample containing the microparticles is placed in order to observe the microparticles through a microscope. More specifically, the present invention relates to a slide glass, characterized in that the grid is formed on the upper surface of the grid form having a fine interval to count the number of particles, measure the size, or grasp the position of the fine particles will be.
슬라이드 글라스는 현미경을 통하여 미세입자 예를 들어, 세포 등을 관찰할 때, 상기 세포를 포함하는 시료를 올려놓기 위하여 사용된다.The slide glass is used to place a sample containing the cells when observing microparticles such as cells through a microscope.
종래의 슬라이드 글라스에는 표면에 어떠한 패턴도 형성되어 있지 않기 때문에, 이러한 슬라이드 글라스 상의 세포를 관찰할 때, 상기 세포의 개수나 대략적인 크기를 추정하는 것이 곤란하다. 또한, 어느 특정의 세포를 관찰하고자 할 때 그 위치를 용이하게 파악하기가 곤란하다.Since no pattern is formed on the surface of the conventional slide glass, it is difficult to estimate the number and approximate size of the cells when observing the cells on the slide glass. In addition, when observing any particular cell, it is difficult to easily grasp its position.
본 발명은 상기 문제점들을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명에 따른 슬라이드 글라스는, 그 상면에 미세입자의 개수를 계수하거나, 그 크기를 측정하거나, 위치를 파악할 수 있도록 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 형성되어 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems, the slide glass according to the present invention, in the form of a lattice having a fine spacing to count the number of fine particles on the upper surface, to measure the size, or to grasp the position The scale is formed.
본 발명에 따른 슬라이드 글라스는 미세입자 관찰 시 기준으로 삼을 수 있는 패턴이 그 상면에 형성되어 있으므로, 상기 미세입자의 개수를 용이하게 계수할 수 있고, 그 크기를 용이하게 측정할 수 있으며, 특정 미세입자의 위치를 용이하게 파악할 수 있다. 따라서, 미세입자의 관찰이 용이하다. 또한, 상기 슬라이드 글라스의 제조 비용이 크게 감소되므로, 1회용으로 편리하게 사용할 수 있다.Since the slide glass according to the present invention has a pattern that can be used as a reference when observing microparticles, the number of the microparticles can be easily counted, and the size thereof can be easily measured. The location of the fine particles can be easily identified. Therefore, the observation of the fine particles is easy. In addition, since the manufacturing cost of the slide glass is greatly reduced, it can be conveniently used for single use.
따라서, 본 발명의 목적은 격자 형태의 미세 눈금이 형성되어 있는 슬라이드 글라스를 제공하는데 있다. 또한, 본 발명의 목적은 상기 슬라이드 글라스의 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a slide glass in which a fine scale in the form of a lattice is formed. It is also an object of the present invention to provide a method for producing the slide glass.
도 1은 본 발명에 따른 슬라이드 글라스의 사시도이고,1 is a perspective view of a slide glass according to the present invention,
도 2a 내지 도 2d는 각각 본 발명에 따른 슬라이드 글라스 상에 형성되는 눈금의 예들을 도시한 것이며,2a to 2d respectively show examples of the scale formed on the slide glass according to the present invention,
도 3a 내지 도 3d는 본 발명에 따른 슬라이드 글라스를 제조하는 공정의 일예를 설명하기 위한 단면도들이고,3A to 3D are cross-sectional views illustrating an example of a process of manufacturing a slide glass according to the present invention.
도 4a 내지 도 4h는 본 발명에 따른 슬라이드 글라스를 제조하는 공정의 다른예를 설명하기 위한 단면도들이다.4A to 4H are cross-sectional views illustrating another example of a process of manufacturing a slide glass according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100 : 슬라이드 글라스 200 : 눈금100: slide glass 200: graduation
300 : 마스터용 플레이트 150, 400 : 몰드300: master plate 150, 400: mold
본 발명은 현미경을 통하여 미세입자를 관찰하기 위하여 상기 미세입자를 포함하는 시료를 올려놓는 슬라이드 글라스에 관한 것이다.The present invention relates to a slide glass on which a sample containing the microparticles is placed in order to observe the microparticles through a microscope.
더욱 구체적으로, 본 발명은 상면에 상기 미세입자의 개수를 계수하거나, 그 크기나 위치를 파악할 수 있도록 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 슬라이드 글라스에 관한 것이다.More specifically, the present invention relates to a slide glass, characterized in that the grid is formed on the upper surface of the grid form having a fine interval to count the number of the fine particles, or to grasp the size or location thereof.
본 발명에 있어서, 상기 눈금은 서로 교차하는 수직선 및 수평선의 형상이거나, 서로 격자 형태를 이루는 점 형상으로 형성시킬 수 있다.In the present invention, the scale may be formed in the shape of a vertical line and a horizontal line crossing each other, or may be formed in a dot shape of a grid form.
상기 눈금의 형상, 간격, 높이 및 폭 등은 필요에 따라 임의로 형성시킬 수 있다. 바람직하게는, 상기 눈금은 서로 약 5 내지 100㎛ 간격으로 형성시키고, 그 높이 및 폭은 약 0.5 내지 5 ㎛로 형성시킨다.The shape, spacing, height and width of the scale can be arbitrarily formed as necessary. Preferably, the scales are formed at intervals of about 5-100 μm from each other, and the height and width thereof are formed at about 0.5-5 μm.
상기 눈금을 소정 간격으로 일정하게 형성시키는 경우에는, 현미경을 통한 미세입자 관찰시 그 크기를 용이하게 측정할 수 있으며, 상기 격자 형태의 눈금이 좌표축 역할을 수행하므로, 특정 미세입자의 위치 파악이 용이하다.When the scale is formed at regular intervals, the size of the scale can be easily measured when observing the microparticles through a microscope, and the grid-shaped scale serves as a coordinate axis, and thus, it is easy to determine the location of specific microparticles. Do.
상기 슬라이드 글라스로는 투광성인 임의의 재질을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 몰딩 형성이 가능한 임의의 플라스틱, 예를 들어, 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET),또는 폴리스티롤(PS) 등을 사용한다.As the slide glass, any material that is light transmissive may be used, and preferably any plastic capable of forming molding, for example, polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene (PE), Polyethylene terephthalate (PET), polystyrene (PS), etc. are used.
또한, 본 발명은,In addition, the present invention,
미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 패터닝되어 있는 마스터를 형성하는 단계(a);(A) forming a master patterned grid having fine spacing;
상기 마스터를 이용하여 몰드를 형성하는 단계(b); 및(B) forming a mold using the master; And
상기 몰드를 이용하여 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 상면에 형성되어 있는 슬라이드 글라스를 몰딩하는 단계(c)를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬라이드 글라스 제조방법에 관한 것이다.It relates to a slide glass manufacturing method comprising the step (c) of molding a slide glass is formed on the upper surface of the grid having a fine interval with a mold using a mold.
본 발명에 따른 상기 제조방법에 있어서, 상기 마스터를 형성하는 단계(a)는,In the manufacturing method according to the invention, the step (a) of forming the master,
마스터로 사용하기 위한 유리, 실리콘 또는 세라믹 재질의 플레이트 상에 포토 레지스트 층을 적층하는 단계;Laminating a photoresist layer on a plate of glass, silicon or ceramic material for use as a master;
노광 및 현상 공정을 통하여 상기 포토 레지스트 층을 패터닝하는 단계;Patterning the photoresist layer through an exposure and development process;
상기 포토 레지스트층의 패턴을 식각 마스크로 사용하여 상기 플레이트를 식각하는 단계; 및Etching the plate using the pattern of the photoresist layer as an etching mask; And
스트립 공정으로 상기 마스크를 제거함으로써, 미세 눈금이 패터닝되어 있는 마스터를 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the stripping process includes removing the mask to form a master on which fine scales are patterned.
또한, 상기 몰드를 형성하는 단계 (b)는,In addition, the step (b) of forming the mold,
상기 형성된 마스터 상에 금속 층을 도금하는 단계; 및Plating a metal layer on the formed master; And
상기 마스터를 제거함으로써, 금속 몰드를 형성하는 단계를 포함하는 것이바람직하다.It is preferred to include forming the metal mold by removing the master.
상기 단계(a) 내지 단계(c)를 거쳐 본 발명에 따른 슬라이드 글라스를 제조한 후에, 추가로 산소플라즈마 처리법 또는 아민 처리법, 기타 다양한 화학적, 전기적 처리와 같은 통상의 표면 처리 공정을 통하여 상기 슬라이드 글라스를 친수성으로 만들거나, 특정 반응기를 도입할 수 있다.After preparing the slide glass according to the present invention through the steps (a) to (c), the slide glass is further subjected to conventional surface treatment processes such as oxygen plasma treatment, amine treatment, and various other chemical and electrical treatments. Can be made hydrophilic or a specific reactor can be introduced.
이하에서는, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 슬라이드 글라스의 실시예를 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명이 하기 실시예에 의하여 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described an embodiment of the slide glass according to the present invention in detail. However, the present invention is not limited by the following examples.
도 1은 본 발명에 따라 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금(200)이 상면에 형성되어 있는 슬라이드 글라스(100)의 일예를 도시한 것이다.1 illustrates an example of a slide glass 100 in which a grid 200 having a fine spacing according to the present invention is formed on an upper surface thereof.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명에 따른 상기 슬라이드 글라스의 상면에 형성될 수 있는 눈금의 예를 도시한 것이다. 상기 눈금은 필요에 따라 임의의 형상으로 형성시킬 수 있다.2A to 2D illustrate examples of graduations that may be formed on the upper surface of the slide glass according to the present invention. The scale can be formed in any shape as needed.
도 2a는 상기 눈금(200)의 첫 번째 예로서, 서로 교차하는 수직선 및 수평선으로 이루어진 눈금이다.2A is a first example of the scale 200, which is a scale composed of vertical lines and horizontal lines that cross each other.
도 2b는 상기 눈금(200)의 두 번째 예로서, 서로 격자 형태를 이루는 점으로 이루어진 눈금이다.FIG. 2B is a second example of the scale 200, which is a scale made up of dots forming a grid.
도 2c는 상기 눈금(200)의 세 번재 예로서, 노이바우어(Neubauer) 패턴을 도시한 것이다.2C shows a Neubauer pattern as a third example of the scale 200.
도 2d는 상기 눈금(200)의 네 번째 예로서, 다수의 측정 영역(45)을 구분하기 위한 브라이트 라인(40)이 형성되어 있다.2D shows a fourth example of the scale 200, in which a bright line 40 is formed to distinguish the plurality of measurement regions 45.
상기 눈금의 간격, 높이 및 폭 등은 필요에 따라 임의로 형성시킬 수 있다. 상기 눈금의 폭이 가늘수록, 보다 정밀하게 미세입자를 관찰할 수 있다. 바람직하게는, 상기 눈금의 간격이 약 1 내지 100㎛가 되도록 형성시키고, 그 높이 및 폭은 약 0.5 내지 5 ㎛가 되도록 형성시킨다.The intervals, heights and widths of the scales can be arbitrarily formed as necessary. The narrower the scale, the finer the particles can be observed. Preferably, the interval between the graduations is formed to be about 1 to 100㎛, the height and width is formed to be about 0.5 to 5㎛.
이하에서는, 도면을 참조하여 슬라이드 글라스 상에 미세 눈금을 형성시키는 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of forming a fine scale on a slide glass will be described with reference to the drawings.
도 3a 내지 도 3d는 상기 슬라이드 글라스 상에 미세 눈금을 형성시키는 공정의 일예를 도시한 것이다.3A to 3D illustrate an example of a process of forming a fine scale on the slide glass.
먼저, 도 3a에 도시되어 있는 바와 같이, 유리, 실리콘 또는 세라믹 등의 재질로 이루어진 플레이트(150)를 마련한 후, 상기 플레이트 상에 포토 레지스트층(310)을 스핀 코팅 등의 방법으로 적층한다. 상기 플레이트(150)는 슬라이드 글라스를 몰딩하기 위한 몰드로 사용된다.First, as shown in FIG. 3A, a plate 150 made of a material such as glass, silicon, or ceramic is provided, and then the photoresist layer 310 is laminated on the plate by spin coating or the like. The plate 150 is used as a mold for molding the slide glass.
이후, 노광 및 현상 공정을 통하여 상기 포토 레지스트층을 패터닝함으로써, 상기 플레이트 상에 눈금이 형성되어 있는 마스크 패턴(310)을 형성한다.Thereafter, the photoresist layer is patterned through an exposure and development process to form a mask pattern 310 having a scale formed on the plate.
이후, 상기 마스크 패턴(310)을 식각 마스크로 이용하여 상기 플레이트(150)를 식각한 후, 상기 마스크(310)를 스트립 공정 등으로 제거함으로써, 도 3b에 도시되어 있는 바와 같이 눈금이 형성된 몰드(150)를 완성한다.Thereafter, the plate 150 is etched using the mask pattern 310 as an etch mask, and then the mask 310 is removed by a strip process or the like. Complete 150).
이후 도 3c에 도시되어 있는 바와 같이, 소정의 온도로 가열된 용융 상태의플라스틱(100)을 상기 몰드(150) 상에 부은 후, 상기 용융된 플라스틱(100)을 상기 몰드(150) 상에서 냉각시키면서 경화시킨다.3C, the molten plastic 100 heated to a predetermined temperature is poured onto the mold 150, and then the molten plastic 100 is cooled on the mold 150. Harden.
상기 몰드(150) 상에서 플라스틱(100)이 경화된 후, 상기 경화된 플라스틱(100)으로부터 상기 몰드(150)를 분리함으로써, 눈금(200)이 형성된 슬라이드 글라스(200)를 도 3d에 도시한 바와 같이 제조할 수 있다.After the plastic 100 is cured on the mold 150, the mold 150 is separated from the cured plastic 100, so that the slide glass 200 having the scale 200 is formed as shown in FIG. 3D. It can be produced together.
상기 방법에서는 플레이트(150) 자체를 몰드로 사용하였으나, 이와는 달리 상기 플레이트(150) 상에 몰드 형성층으로서 산화물, 질화물 또는 금속층을 추가로 증착시킨 후, 상기 몰드 형성층에 눈금을 형성시켜 이를 몰드로 사용할 수도 있다.In the above method, the plate 150 itself is used as a mold. Alternatively, an oxide, nitride, or metal layer is further deposited on the plate 150 as a mold forming layer, and then a scale is formed on the mold forming layer to be used as a mold. It may be.
도 4a 내지 도 4h는 상기 슬라이드 글라스 상에 미세 눈금을 형성시키는 공정의 다른예를 설명하기 위한 단면도들이다. 여기에서는, 상기 도 3a 내지 도 3d에 도시되어 있는 공정과는 달리, 몰드를 형성하기 위한 마스터를 별도로 제조한다.4A to 4H are cross-sectional views illustrating another example of a process of forming a fine scale on the slide glass. Here, unlike the process shown in FIGS. 3A to 3D, a master for forming a mold is manufactured separately.
먼저, 도 4a에 도시되어 있는 바와 같이, 마스터로 사용하기 위한 유리, 실리콘 또는 세라믹 재질의 플레이트(300) 상에 포토 레지스트층(310)을 스핀 코팅 등의 방법으로 적층한다.First, as shown in FIG. 4A, the photoresist layer 310 is laminated on a plate 300 of glass, silicon, or ceramic material for use as a master by spin coating or the like.
이후, 도 4b에 도시되어 있는 바와 같이, 노광 및 현상 공정을 통하여 상기 포토 레지스트 층을 패터닝(310)한다.Thereafter, as shown in FIG. 4B, the photoresist layer is patterned 310 through an exposure and development process.
이후, 도 4c에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 포토 레지스트의 패턴(310)을 식각 마스크로 사용하여 상기 플레이트(300)를 식각한다.Thereafter, as illustrated in FIG. 4C, the plate 300 is etched using the pattern 310 of the photoresist as an etch mask.
이후, 도 4d에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 마스크(310)를 스트립 공정등으로 제거함으로써, 미세 눈금이 형성된 마스터(300)를 완성한다.Thereafter, as shown in FIG. 4D, the mask 310 is removed by a strip process or the like, thereby completing the master 300 having a fine scale.
이후, 도 4e에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 마스터(300) 상에 무전해 도금 또는 전해 도금 등의 방법을 사용하여 Ni 층(400)을 형성한다. 이후, 상기 마스터(300)를 제거함으로써, 도 4f에 도시되어 있는 바와 같은 Ni 재질의 몰드(400)를 완성한다. 이 때, 상기 도금 공정 직전에, 상기 마스터(410)에 전기가 통할 수 있도록, 스퍼터링, 진공증착 또는 비전해 도금 등의 공정을 이용하여, 상기 마스터(410)를 표면처리하는 것이 바람직하다.Thereafter, as shown in FIG. 4E, the Ni layer 400 is formed on the master 300 using a method such as electroless plating or electrolytic plating. Thereafter, the master 300 is removed, thereby completing the mold 400 of Ni material as shown in FIG. 4F. At this time, immediately before the plating process, it is preferable to surface-treat the master 410 by using a process such as sputtering, vacuum deposition, or electroless plating so that electricity can flow through the master 410.
이후, 도 4g 및 도 4h에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 몰드(400)를 이용하여 몰딩 공정에 의하여, 미세한 눈금(200)이 형성된 슬라이드 글라스(100)를 제조할 수 있다.Thereafter, as illustrated in FIGS. 4G and 4H, a slide glass 100 having a fine scale 200 may be manufactured by a molding process using the mold 400.
전술한 바와 같이 제조된 슬라이드 글라스는 친수성 처리 또는 반응기 도입 등의 추가 공정을 거치는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 슬라이드 글라스가 친수성을 나타내도록, 산소 플라즈마 등을 이용하여 처리하는 경우, 혈액과 같은 수성 액체가 표면에서 잘 흐르고, 고르게 퍼질 수 있다. 또한, 원하는 반응기, 예를 들어, 아민기를 도입하기 위하여, 상기 아민 반응기의 플라즈마 또는 기타 화학적 방법 등으로 처리할 수 있다(표면개질). 이와 같이 본 발명에 따른 슬라이드 글라스의 표면을 처리하는 경우, 그 성능이 더욱 향상된다.The slide glass manufactured as described above is preferably subjected to additional processes such as hydrophilic treatment or reactor introduction. When the slide glass according to the present invention is treated with oxygen plasma or the like so as to exhibit hydrophilicity, an aqueous liquid such as blood flows well on the surface and can be spread evenly. Further, in order to introduce a desired reactor, for example, an amine group, it may be treated by plasma or other chemical method of the amine reactor or the like (surface modification). Thus, when processing the surface of the slide glass according to the present invention, the performance is further improved.
전술한 본 발명에 따른 실시예는 상술한 것으로 한정되지 않고, 본 발명과 관련하여 통상의 지식을 가진자가 자명한 범위내에서 여러 가지 대안, 수정 및 변경하여 실시할 수 있다.The above-described embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various alternatives, modifications, and changes can be made without departing from the scope of the present invention.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 슬라이드 글라스의 상면에는 미세입자의 개수를 계수하거나, 그 크기를 측정하거나, 위치를 파악할 수 있도록 미세한 간격을 가지는 격자 형태의 눈금이 형성되어 있다.As described above, on the upper surface of the slide glass according to the present invention, a grid in the form of a lattice having fine intervals is formed so that the number of fine particles can be counted, the size of the fine particles can be measured, or the position can be determined.
따라서, 본 발명에 따른 슬라이드 글라스를 이용함으로써, 현미경 관찰시 미세입자의 개수를 용이하게 계수할 수 있고, 그 크기나 위치를 용이하게 파악할 수 있다. 따라서, 미세입자의 관찰이 용이하다. 또한, 상기 슬라이드 글라스의 제조 비용이 크게 감소되므로, 1회용으로 편리하게 사용할 수 있다.Therefore, by using the slide glass according to the present invention, the number of microparticles can be easily counted at the time of microscopic observation, and the size and position thereof can be easily grasped. Therefore, the observation of the fine particles is easy. In addition, since the manufacturing cost of the slide glass is greatly reduced, it can be conveniently used for single use.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020030049408A KR20050009928A (en) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | Slideglass provided with fine marks and method for manufacturing the same |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020030049408A KR20050009928A (en) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | Slideglass provided with fine marks and method for manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050009928A true KR20050009928A (en) | 2005-01-26 |
Family
ID=37222508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020030049408A KR20050009928A (en) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | Slideglass provided with fine marks and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20050009928A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100719238B1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-05-18 | 에스케이씨 주식회사 | Plastic microchip for microparticle analysis and method for manufacturing the same |
| WO2013002454A1 (en) | 2011-06-27 | 2013-01-03 | 주식회사 화인 | Drum type electro-osmosis dehydrator for reducing power consumption by means of a narrow distance between a positive electrode and a negative electrode |
| CN103676125A (en) * | 2013-12-02 | 2014-03-26 | 谢小军 | Device and method for rapidly finding objective image in microscope |
| JP2017045008A (en) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | キヤノン株式会社 | Slide for managing positional accuracy, and positional accuracy management device and method |
| KR20180119257A (en) * | 2017-04-25 | 2018-11-02 | 가톨릭대학교 산학협력단 | Medical inspection slide unit |
| KR20200080684A (en) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 신한대학교 산학협력단 | Urine analyzing slide |
-
2003
- 2003-07-18 KR KR1020030049408A patent/KR20050009928A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100719238B1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-05-18 | 에스케이씨 주식회사 | Plastic microchip for microparticle analysis and method for manufacturing the same |
| WO2013002454A1 (en) | 2011-06-27 | 2013-01-03 | 주식회사 화인 | Drum type electro-osmosis dehydrator for reducing power consumption by means of a narrow distance between a positive electrode and a negative electrode |
| CN103676125A (en) * | 2013-12-02 | 2014-03-26 | 谢小军 | Device and method for rapidly finding objective image in microscope |
| JP2017045008A (en) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | キヤノン株式会社 | Slide for managing positional accuracy, and positional accuracy management device and method |
| KR20180119257A (en) * | 2017-04-25 | 2018-11-02 | 가톨릭대학교 산학협력단 | Medical inspection slide unit |
| KR20200080684A (en) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 신한대학교 산학협력단 | Urine analyzing slide |
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