KR200497235Y1

KR200497235Y1 - Hera for silicone work

Info

Publication number: KR200497235Y1
Application number: KR2020220000329U
Authority: KR
Inventors: 김재철
Original assignee: 김재철
Priority date: 2022-01-27
Filing date: 2022-01-27
Publication date: 2023-09-06
Also published as: KR20230001618U

Abstract

본 고안은 실리콘 작업용 헤라에 관한 것으로, 보다 상세하게는 헤라 작업부를 개선하여 실리콘 가압 평탄 작업의 편의성을 높이고 작업 효율을 높이며, 작업시 빈번한 헤라 교체가 용이하게 자성체를 이용할 수 있도록, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 구비되는 베이스부(100); 및 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘 작업용으로 구비되는 실리콘 작업부(200);를 포함하는 실리콘 작업용 헤라를 제공하는 것에 관한 것이다.The present invention relates to a hera for silicon work, and more particularly, improves the hera work part to increase the convenience of silicon pressurization and flat work and increases work efficiency, and to facilitate frequent replacement of a hera during work, so that a magnetic material can be easily used, from the rear to the front. Along the longitudinal direction, the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are tapered so that the front end is narrower than the rear end, and an elastic neck 130 is disposed in the front end direction, and the upper surface is flat and the lower surface is the elastic When the width gradually narrows in the direction of the neck 130, the base portion 100 is provided with an inclined line 140; and a silicon work part 200 disposed at the front end of the elastic neck 130, which is the front of the base part 100, and provided for silicon work.

Description

Hera for silicone work { HERA FOR SILICONE WORK }

본 고안은 실리콘 작업용 헤라에 관한 것으로, 보다 상세하게는 헤라 작업부를 개선하여 실리콘 가압 평탄 작업의 편의성을 높이고 작업 효율을 높이며, 작업시 빈번한 헤라 교체가 용이하게 자성체를 이용할 수 있도록 베이스부와 베이스부에 결합되는 실리콘 작업부가 포함되는 실리콘 작업용 헤라를 제공하는 것에 관한 것이다.The present invention relates to a spatula for silicon work, and more particularly, improves the spatula work area to increase the convenience of silicon pressurization and flat work and increases work efficiency, and to facilitate frequent replacement of the spatula during work by using a magnetic material. It relates to providing a hera for silicone work that includes a silicone work unit coupled to.

일반적으로 각종 건축 자재 간의 마무리 접합을 위한 수단으로서 실리콘을 이용한 접착 작업이 널리 사용되고 있는데, 실리콘 작업은 건축 자재인 대리석 표면으로 테이프를 부착하고, 대리석과 대리석 사이로 실리콘을 주입하여 채우게 된다. 이때, 실리콘 주입은 실리콘이 충진된 튜브를 실리콘 건에 장치한 다음 손잡이를 당겨 튜브 내에 충진된 실리콘이 배출구를 통하여 압출되어 대리석 사이로 실리콘이 채워지면서 접합이 이루어진다.In general, bonding work using silicone is widely used as a means for finishing bonding between various building materials. In the silicone work, a tape is attached to the surface of marble, which is a building material, and silicone is injected and filled between marbles. At this time, silicone injection is performed by attaching a tube filled with silicone to a silicone gun and then pulling a handle to extrude the silicone filled in the tube through the outlet, filling the gap between the marbles with silicone.

현장에서는 이후에 1회용 비닐장갑 등을 착용하여 손가락으로 주입된 실리콘 면을 다듬어 주고, 실리콘이 경화되면 잘 드는 면도날 및 칼등으로 마스킹테이프를 제거하는 실정이다.In the field, after that, disposable vinyl gloves are worn to trim the injected silicone surface with fingers, and when the silicone is cured, the masking tape is removed with a sharp razor blade or a knife.

이렇게 실리콘 마감처리작업은 실리콘을 주입한 후에는 별도의 도구 없이 작업자가 손수 손으로 실리콘을 다듬기 위한 시간이 많이 소요되고, 다듬은 면이 미관상 좋지 못한 단점이 있기 때문에 최근에는 실리콘 마감처리를 위한 생고무 또는 우레탄, 연질의 합성수지소재로 제작된 헤라(Hera)를 이용하여 마무리 작업을 실시하여 실리콘 마감 작업을 진행한다.In this way, the silicone finishing work takes a lot of time for the worker to manually trim the silicone without a separate tool after the silicone is injected, and the trimmed surface has the disadvantage of not being aesthetically pleasing. Perform finishing work using Hera, which is made of urethane and soft synthetic resin material, and perform silicone finishing work.

실리콘 작업을 위한 헤라 관련 선원기술을 살피면, 대한민국 등록특허 제10-1041007호(명칭: 실리콘 작업용 헤라, 공고일자: 2011년 06 16일, 이하 '선원고안'이라 칭함)이 개시되어 있다.Looking at Hera-related source technology for silicon work, Korean Patent Registration No. 10-1041007 (name: Hera for silicon work, date of publication: June 16, 2011, hereinafter referred to as 'source design') is disclosed.

상기 선원고안은, 손잡이(110)와, 손잡이의 일측에 탈착가능하게 구비되며, 양측에 상호 크기가 다른 호형의 경사진 주걱부(121)(122)가 일체로 형성되어 실리콘의 도포면을 다듬기 위한 다듬부재(120)와, 상기 손잡이를 통한 다듬부재를 탈착가능하게 체결 고정하는 체결부재(130)로 구성된 실리콘 작업용 헤라(100)로, 손잡이(110)의 일단에 회전식 연결구(140)가 구비되고, 상기 회전식 연결구(140)로부터 회전가능하게 연결 설치되어 상기 다듬부재(120)의 탈부착과 함께 방향을 전환시키는 회전대(150)를 포함하고 있는데 선원고안은 두가지 타입의 크기 별로 사용이 가능함과 동시에, 간편하게 전환하여 효율적으로 사용할 수 있도록 한 실리콘 작업용 헤라를 제공하는 것이다.In the design of the sailor, a handle 110 and detachably provided on one side of the handle, and arc-shaped inclined spatulas 121 and 122 having different sizes on both sides are integrally formed to trim the coated surface of silicon. A silicon working Hera 100 composed of a trimming member 120 and a fastening member 130 for detachably fastening and fixing the trimming member through the handle, and a rotary connector 140 is provided at one end of the handle 110 , It is rotatably connected and installed from the rotary connector 140 and includes a rotating table 150 for changing the direction along with the attachment and detachment of the trim member 120. It is to provide a Hera for silicone work that can be easily converted and used efficiently.

그러나, 상기와 같은 헤라를 구성함에 있어, 방향전환에 따른 회전대(150)는 별도로 판스프링(153)을 적용하기 위한 몸체(151), 덮개(152), 덮개를 고정할 수 있는 체결부재(130)의 부품 및 조립이 별도로 필요하고, 더불어 회전식 연결구(140)에 적용되기 위해 요홈부(141a)를 갖는 연결축부(141), 결합턱(142a)을 갖는 결합축부(142)를 별도 가공하여야 하며, 상기 회전대의 조립시 반드시 회전대를 관통하고 있는 연결축부(141)의 요홈부(141a)에 이탈방지용 스냅링(R)을 체결한 다음 다듬부재(120)에 형성된 체결홈에 상기 체결부재를 결합하는 조립으로 완성되기 때문에 조립 생산성이 현저히 떨어지는 단점이 있다.However, in constructing the Hera as described above, the rotation table 150 according to the change of direction includes a body 151 for applying the leaf spring 153 separately, a cover 152, and a fastening member 130 capable of fixing the cover. ) Parts and assembly are separately required, and in addition, to be applied to the rotary connector 140, the connecting shaft portion 141 having a groove portion 141a and the coupling shaft portion 142 having a coupling jaw 142a must be separately processed. , When assembling the rotating table, the separation prevention snap ring R is fastened to the concave portion 141a of the connecting shaft portion 141 passing through the rotating table, and then the fastening member is coupled to the fastening groove formed in the trim member 120. Since it is completed by assembly, there is a disadvantage in that assembly productivity is significantly reduced.

이에 따라 실제 현장에서는 회전 없이 실리콘 작업 대상면에 적합한 헤라를 작업자가 교체해가며 작업을 진행하고 있는 실정이다.Accordingly, in the actual field, the worker replaces the Hera suitable for the silicon work surface without rotation.

그러나 다수의 헤라, 특히 실리콘이 묻어있는 헤라를 고소 위치에서 작업자가 편리하게 교체하며 작업하기가 매우 불편한 실정이다.However, it is very inconvenient for a worker to conveniently replace a large number of Hera, especially Hera with silicon, at a high position.

한국등록특허 제10-1041007호, 고안의명칭: 실리콘 작업용 헤라)Korean Patent Registration No. 10-1041007, Designation: Hera for silicone work)

본 고안이 이루고자 하는 기술적 과제는, 전술한 바와 같은 문제점 내지는 필요성을 해결하기 위한 것으로, 실리콘 가압 평탄 작업의 편의성을 높이고 작업 효율을 높이며, 작업시 빈번한 헤라 교체가 용이하게 자성체를 이용할 수 있도록 베이스부와 베이스부에 결합되는 실리콘 작업부가 포함되는 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problems or needs as described above, to increase the convenience of silicon pressurized flat work, increase work efficiency, and the base part so that frequent hair replacement can be easily used during work. It is intended to provide a hera for silicone work that includes a silicone work part coupled to the base part.

본 고안의 다른 목적은, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 구비되는 베이스부(100)와 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘 작업용으로 구비되는 실리콘 작업부(200)로 실리콘이 섬세하게 탄성 가압할 수 있는 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are tapered so that the front end is narrower than the rear end along the longitudinal direction from the rear to the front, and an elastic neck 130 is disposed in the front end direction And if the upper surface is flat and the lower surface is gradually narrowed in the direction of the elastic neck 130 from the rear end, the base part 100 provided with the inclined line 140 and the elastic neck in front of the base part 100 It is intended to provide a hera for silicon work that can delicately elastically press the silicon to the silicon work unit 200 disposed at the front end of the 130 and provided for the silicon work.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 베이스부(100)는 상면 또는 하면 중 어느 일면에 수용통공(150)이 구비되어 상기 수용통공(150)에 자성재(160)가 내입되도록 구비되고, 상기 좌측 경사선(110)과 상기 우측 경사선(120)에는 사용자의 파지가 용이하도록 상기 베이스부(100)의 중심 방향으로 오목하게 다수의 좌우 파지 홈(111,121)이 구비되어 파지 및 교체가 용이한 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the base part 100 is provided with an accommodation through hole 150 on either the upper or lower surface so that the magnetic material 160 is inserted into the accommodation through hole 150, and the left side The slanted line 110 and the right slanted line 120 are provided with a plurality of left and right gripping grooves 111 and 121 concave in the direction of the center of the base part 100 so that the user can easily grip them, making them easy to grip and replace. It is to provide Hera for work.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되어 중심에서 외측으로 부드럽게 작업 가압력이 가해지는 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at an upper portion and extends outward from the base coupling surface 210 in the paper direction It is intended to provide a hera for silicone work that is provided with a round extension surface 220 in a curved and round shape and applies a working pressure gently from the center to the outside.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 실리콘 작업부(200)는 상기 베이스 결합면(210)과 상기 라운드 확장면(220)의 대향 위치에 실리콘 접면용도인 실리콘 작업면(230)이 구비되되, 상기 실리콘 작업면(230)의 전단은 유선부(231)를 형성하고 상기 유선부(231)의 후단 방향으로 외측으로 라운드는 확장부(232)를 이루며 상기 확장부(232)의 종단은 상기 탄성 넥(130)의 전단에 일자형을 갖는 마감부(233)로 구비되어 작업 대상 실리콘 쓸림 현상이 적어져서 평탄 작업이 유리한 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the silicon work part 200 is provided with a silicon work surface 230 for silicon contact at an opposite position of the base coupling surface 210 and the round extension surface 220, The front end of the silicone work surface 230 forms a streamlined portion 231, and an extension 232 that is rounded outward toward the rear end of the streamlined portion 231 is formed, and the end of the extension portion 232 is the elastic neck. It is provided as a finishing portion 233 having a straight line at the front end of 130 to reduce the chafing of the silicon to be worked, and to provide a hera for silicon work that is advantageous for flat work.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 마감부(233)는 상기 탄성 넥(130)의 최저 위치에서 상기 실리콘 작업면(230)의 높이까지 경사를 이루는 탄성 경사(233a)를 이루어 탄성 넥(130)의 탄성력이 부드럽게 실리콘에 가해지는 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the closing part 233 forms an elastic inclination 233a inclined from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicone working surface 230 to form an elastic neck 130 It is intended to provide a Hera for silicone work in which the elastic force of the softly applied to the silicone.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 유선부(231)에서 상기 라운드 확장면(220)까지의 외측 테두리에는 상부로 돌출되어 상기 마감부(233)까지 이어지는 확장 측벽부(232a)가 구비되며, 상기 확장 측벽부(232a)는 상기 라운드 확장면(220)의 외측 위치에서 상기 확장 측벽부(232a)의 외측에서 상기 라운드 확장면(220) 방향으로 만곡지게 기울어지는 실리콘넘김면(232b)이 구비되어 넘치는 작업 실리콘이 임시로 수용되어 평탄면 형성이 유리한 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the outer edge from the streamline part 231 to the round extension surface 220 is provided with an extended side wall part 232a protruding upward and extending to the finishing part 233, The expansion sidewall portion 232a is provided with a silicon turning surface 232b that is curved and inclined toward the round expansion surface 220 from the outside of the expansion sidewall portion 232a at a position outside the round expansion surface 220. It is intended to provide a silicon working hera that is advantageous in forming a flat surface by temporarily accommodating the overflowing working silicon.

본 고안의 또 다른 목적은, 상기 확장 측벽부(232a)의 후방 종단에는 중간 단면이 상기 유선부(231) 방향으로 화살촉 모양으로 공간을 형성하는 실리콘모임면(232c)이 구비되거, 상기 자성재(160)는 상기 탄성 넥(130)에서 후방으로 진행하며 상기 베이스부(100)의 어느 일면에 복수개가 소정 간격을 이루며 배치되고 복수의 상기 자성재(160)의 이면에는 상기 자성재(160)의 직경보다 더 큰 직경을 갖는 금속막(170)이 상기 베이스부(100)에 형성되는 금속 수용공(180)에 내입되도록 구비되며, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되며 상기 베이스 결합면(210)은 단면이 외측에서 중앙 방향으로 상향 돌출되게 반달형상의 심재면(211)로 구비되고 상기 베이스 결합면(210) 위치에 대응되는 상기 베이스부(100)에는 상기 심재면(211)에 대응되도록 외측에서 중앙 방향으로 오목하게 심재수용홈(190)이 구비되어 실리콘 가압에 저항성이 높은 실리콘 작업용 헤라를 제공하려는 것이다.Another object of the present invention is that the rear end of the extended side wall portion 232a is provided with a silicon gathering surface 232c having an intermediate cross section forming a space in an arrowhead shape in the direction of the streamline portion 231, the magnetic material 160 proceeds backward from the elastic neck 130, and a plurality of them are arranged at predetermined intervals on any one surface of the base part 100, and the magnetic material 160 is formed on the back surface of the plurality of magnetic materials 160. A metal film 170 having a diameter greater than the diameter of is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base part 100, and the silicon work part 200 is formed on the base part 100. ) Is provided with a base coupling surface 210 coupled to and extends outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground and is provided with a round extension surface 220 in a shape that is curved and unfolds round, and the base coupling surface ( 210) is provided with a half-moon-shaped core surface 211 so that its cross section protrudes upward from the outside to the center, and the base portion 100 corresponding to the position of the base coupling surface 210 corresponds to the core material surface 211. It is intended to provide a silicon working hera with a core receiving groove 190 concave from the outside toward the center and having high resistance to silicon pressure.

한편, 본 고안에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.On the other hand, the technical problems to be achieved in the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned are clearly made clear to those skilled in the art from the description below. You will be able to understand.

상술한 과제를 실현하기 위한 본 고안의 일예와 관련된 실리콘 작업용 헤라는 먼저, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 구비되는 베이스부(100);를 포함할 수 있다.Hera for silicon work related to an example of the present invention for realizing the above-mentioned problems is first tapered so that the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are narrower at the front end than at the rear end along the lengthwise direction from the rear to the front. A base portion 100 having an inclined line 140 provided with an elastic neck 130 disposed in the front end direction, an upper surface flat and a lower surface gradually narrowing in the direction of the elastic neck 130 from the rear end; can include

또한, 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘 작업용으로 구비되는 실리콘 작업부(200);를 포함할 수 있다.In addition, it may include; a silicon work part 200 disposed at the front end of the elastic neck 130, which is the front of the base part 100, and provided for silicon work.

이때, 상기 베이스부(100)는 상면 또는 하면 중 어느 일면에 수용통공(150)이 구비되어 상기 수용통공(150)에 자성재(160)가 내입되도록 구비되고 상기 좌측 경사선(110)과 상기 우측 경사선(120)에는 사용자의 파지가 용이하도록 상기 베이스부(100)의 중심 방향으로 오목하게 다수의 좌우 파지 홈(111,121)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.At this time, the base part 100 is provided with an accommodation through hole 150 on either the upper surface or the lower surface so that the magnetic material 160 is inserted into the accommodation through hole 150, and the left inclined line 110 and the above It may be characterized in that a plurality of left and right gripping grooves 111 and 121 are provided on the right inclined line 120 concavely toward the center of the base part 100 so that the user can easily grip it.

한편, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.On the other hand, the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and unfolding in a curved round shape It may be characterized in that the round extension surface 220 is provided in a shape.

이때, 상기 실리콘 작업부(200)는 상기 베이스 결합면(210)과 상기 라운드 확장면(220)의 대향 위치에 실리콘 접면용도인 실리콘 작업면(230)이 구비되되, 상기 실리콘 작업면(230)의 전단은 유선부(231)를 형성하고 상기 유선부(231)의 후단 방향으로 외측으로 라운드는 확장부(232)를 이루며 상기 확장부(232)의 종단은 상기 탄성 넥(130)의 전단에 일자형을 갖는 마감부(233)로 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.At this time, the silicon work part 200 is provided with a silicon work surface 230 for silicon contact at a position opposite to the base coupling surface 210 and the round extension surface 220, and the silicon work surface 230 The front end of the streamline portion 231 is formed, and the extension portion 232 is rounded outward toward the rear end of the streamline portion 231, and the end of the extension portion 232 is at the front end of the elastic neck 130. It may be characterized in that it is provided with a finishing portion 233 having a straight line.

또한, 상기 마감부(233)는 상기 탄성 넥(130)의 최저 위치에서 상기 실리콘 작업면(230)의 높이까지 경사를 이루는 탄성 경사(233a)를 이루도록 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the closing part 233 may be characterized in that it is provided to form an elastic inclination 233a forming an inclination from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicon working surface 230 .

한편, 상기 유선부(231)에서 상기 라운드 확장면(220)까지의 외측 테두리에는 상부로 돌출되어 상기 마감부(233)까지 이어지는 확장 측벽부(232a)가 구비되며, 상기 확장 측벽부(232a)는 상기 라운드 확장면(220)의 외측 위치에서 상기 확장 측벽부(232a)의 외측에서 상기 라운드 확장면(220) 방향으로 만곡지게 기울어지는 실리콘넘김면(232b)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.On the other hand, the outer edge from the streamlined part 231 to the round expansion surface 220 is provided with an extended side wall part 232a protruding upward and extending to the finishing part 233, and the extended side wall part 232a may be characterized in that a silicon turning surface 232b curvedly inclined toward the round expansion surface 220 is provided from the outside of the expansion side wall portion 232a at an outer position of the round expansion surface 220. .

이때, 상기 확장 측벽부(232a)의 후방 종단에는 중간 단면이 상기 유선부(231) 방향으로 화살촉 모양으로 공간을 형성하는 실리콘모임면(232c)이 구비되며, 상기 자성재(160)는 상기 탄성 넥(130)에서 후방으로 진행하며 상기 베이스부(100)의 어느 일면에 복수개가 소정 간격을 이루며 배치되고 복수의 상기 자성재(160)의 이면에는 상기 자성재(160)의 직경보다 더 큰 직경을 갖는 금속막(170)이 상기 베이스부(100)에 형성되는 금속 수용공(180)에 내입되도록 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.At this time, the rear end of the extended sidewall portion 232a is provided with a silicon gathering surface 232c having an intermediate cross section forming a space in an arrowhead shape in the direction of the streamline portion 231, and the magnetic material 160 is elastic. It proceeds backward from the neck 130, and a plurality of them are arranged at predetermined intervals on one side of the base part 100, and on the back side of the plurality of magnetic materials 160, a diameter larger than that of the magnetic material 160 It may be characterized in that the metal film 170 having a is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base portion 100.

또한, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and unfolding in a curved round shape It may be characterized in that the round extension surface 220 is provided in a shape.

또한, 상기 베이스 결합면(210)은 단면이 외측에서 중앙 방향으로 상향 돌출되게 반달형상의 심재면(211)로 구비되고 상기 베이스 결합면(210) 위치에 대응되는 상기 베이스부(100)에는 상기 심재면(211)에 대응되도록 외측에서 중앙 방향으로 오목하게 심재수용홈(190)이 구비되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the base coupling surface 210 is provided with a half-moon shaped core surface 211 so that the cross section protrudes upward from the outside to the center, and the base portion 100 corresponding to the position of the base coupling surface 210 has the core material It may be characterized in that the core material receiving groove 190 is provided concavely from the outside to the center so as to correspond to the surface 211.

이에 본 고안은 실리콘 작업용 헤라를 제공하여,Accordingly, the present invention provides a hera for silicone work,

첫째, 실리콘 가압 평탄 작업의 편의성을 높이고 작업 효율을 높이며, 작업시 빈번한 헤라 교체가 용이하게 자성체를 이용할 수 있도록, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 구비되는 베이스부(100)와 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘 작업용으로 구비되는 실리콘 작업부(200)로 실리콘이 섬세하게 탄성 가압하는 효과가 있다.First, the left inclined line 110 and the right inclined line 120 along the lengthwise direction from the rear to the front to increase the convenience of silicon pressurized flat work, increase work efficiency, and to use magnetic materials to facilitate frequent hair replacement during work. ) is provided tapered so that the front end is narrower than the rear end, the elastic neck 130 is disposed in the front direction, the upper surface is flat, and the lower surface is gradually narrowed in the direction of the elastic neck 130 from the rear end, the inclined line 140 ) is provided, and the silicone work part 200 disposed at the front end of the elastic neck 130, which is the front of the base part 100, is provided for silicon work, and the effect of delicately elastically pressing the silicon there is

둘째, 상기 베이스부(100)는 상면 또는 하면 중 어느 일면에 수용통공(150)이 구비되어 상기 수용통공(150)에 자성재(160)가 내입되도록 구비되고, 상기 좌측 경사선(110)과 상기 우측 경사선(120)에는 사용자의 파지가 용이하도록 상기 베이스부(100)의 중심 방향으로 오목하게 다수의 좌우 파지 홈(111,121)이 구비되어 파지 및 교체가 용이한 효과가 있다.Second, the base part 100 is provided with an accommodating through hole 150 on either the upper surface or the lower surface so that the magnetic material 160 is inserted into the accommodating through hole 150, and the left inclined line 110 and The right slanted line 120 is provided with a plurality of left and right gripping grooves 111 and 121 concave in the direction of the center of the base part 100 so that the user can easily grip it, so that gripping and replacement are easy.

셋째, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되어 중심에서 외측으로 부드럽게 가압할 수 있다.Third, the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and unfolding in a curved round shape. Is provided with a round extension surface 220 in the shape can be gently pressed outward from the center.

넷째, 상기 실리콘 작업부(200)는 상기 베이스 결합면(210)과 상기 라운드 확장면(220)의 대향 위치에 실리콘 접면용도인 실리콘 작업면(230)이 구비되되, 상기 실리콘 작업면(230)의 전단은 유선부(231)를 형성하고 상기 유선부(231)의 후단 방향으로 외측으로 라운드는 확장부(232)를 이루며 상기 확장부(232)의 종단은 상기 탄성 넥(130)의 전단에 일자형을 갖는 마감부(233)로 구비되어 작업 대상 실리콘 쓸림 현상이 적어져서 평탄 작업이 유리하다.Fourth, the silicon work part 200 is provided with a silicon work surface 230 for silicon contact at a position opposite to the base coupling surface 210 and the round extension surface 220, and the silicon work surface 230 The front end of the streamline portion 231 is formed, and the extension portion 232 is rounded outward toward the rear end of the streamline portion 231, and the end of the extension portion 232 is at the front end of the elastic neck 130. It is provided with a straight end 233, so that the rubbing of the silicon to be worked is reduced, and flat work is advantageous.

다섯째, 상기 마감부(233)는 상기 탄성 넥(130)의 최저 위치에서 상기 실리콘 작업면(230)의 높이까지 경사를 이루는 탄성 경사(233a)를 이루어 탄성 넥(130)의 탄성력이 부드럽게 실리콘에 가해지는 효과가 있다.Fifth, the closing part 233 forms an elastic inclination 233a that slopes from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicone working surface 230 so that the elastic force of the elastic neck 130 is gently applied to the silicone. There is an applied effect.

여섯째, 상기 유선부(231)에서 상기 라운드 확장면(220)까지의 외측 테두리에는 상부로 돌출되어 상기 마감부(233)까지 이어지는 확장 측벽부(232a)가 구비되며, 상기 확장 측벽부(232a)는 상기 라운드 확장면(220)의 외측 위치에서 상기 확장 측벽부(232a)의 외측에서 상기 라운드 확장면(220) 방향으로 만곡지게 기울어지는 실리콘넘김면(232b)이 구비되어 넘치는 작업 실리콘이 임시로 수용되어 평탄면 형성이 유리하다.Sixth, the outer edge from the streamlined part 231 to the round expansion surface 220 is provided with an extended side wall part 232a protruding upward and extending to the finishing part 233, and the extended side wall part 232a In the outer position of the round extension surface 220, a silicon turning surface 232b curved and inclined toward the round extension surface 220 is provided on the outside of the extension sidewall portion 232a, so that the overflowing working silicon is temporarily It is accepted and it is advantageous to form a flat surface.

일곱째, 상기 확장 측벽부(232a)의 후방 종단에는 중간 단면이 상기 유선부(231) 방향으로 화살촉 모양으로 공간을 형성하는 실리콘모임면(232c)이 구비되거, 상기 자성재(160)는 상기 탄성 넥(130)에서 후방으로 진행하며 상기 베이스부(100)의 어느 일면에 복수개가 소정 간격을 이루며 배치되고 복수의 상기 자성재(160)의 이면에는 상기 자성재(160)의 직경보다 더 큰 직경을 갖는 금속막(170)이 상기 베이스부(100)에 형성되는 금속 수용공(180)에 내입되도록 구비되며, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되며 상기 베이스 결합면(210)은 단면이 외측에서 중앙 방향으로 상향 돌출되게 반달형상의 심재면(211)로 구비되고 상기 베이스 결합면(210) 위치에 대응되는 상기 베이스부(100)에는 상기 심재면(211)에 대응되도록 외측에서 중앙 방향으로 오목하게 심재수용홈(190)이 구비되어 실리콘 가압에 저항성이 높은 효과가 있다.Seventh, the rear end of the extended sidewall portion 232a is provided with a silicon gathering surface 232c having an intermediate cross section forming a space in an arrowhead shape in the direction of the streamline portion 231, and the magnetic material 160 is elastic. It proceeds backward from the neck 130, and a plurality of them are arranged at predetermined intervals on one side of the base part 100, and on the back side of the plurality of magnetic materials 160, a diameter larger than that of the magnetic material 160 A metal film 170 having is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base part 100, and the silicon work part 200 is bonded to the base part 100 at the top. The surface 210 is provided and extends outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground and is provided with a round expansion surface 220 in a shape that is curved and unfolded round, and the base coupling surface 210 has an outer cross section The base portion 100 is provided with a half-moon-shaped core material surface 211 protruding upward in the center direction and is concave from the outside to the center direction so as to correspond to the core material surface 211 corresponding to the position of the base coupling surface 210. The core material receiving groove 190 is provided to have a high resistance to silicon pressure.

한편, 본 고안에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.On the other hand, the effects obtainable in the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below. You will be able to.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 고안의 바람직한 일실시예를 예시하는 것이며, 고안의 상세한 설명과 함께 본 고안의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 고안은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1 및 2 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 전체적인 구성을 설명하기 위한 3D도면이다.
도 3 및 4 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 베이스부를 설명하기 위한 3D도면이다.
도 5 내지 7 은 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 베이스부를 더 자세히 설명하기 위한 3D도면이다.
도 8 내지 10 은 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 실리콘 작업부를 설명하기 위한 3D도면이다.
도 11 내지 15 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 실리콘 작업부를 더 자세히 설명하기 위한 3D도면이다.The following drawings attached to this specification illustrate a preferred embodiment of the present invention, and together with the detailed description of the present invention serve to further understand the technical idea of the present invention, the present invention is limited to those described in the drawings. It should not be construed as limiting.
1 and 2 are 3D views for explaining the overall configuration of a Hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention.
3 and 4 are 3D views for explaining the base part of the Hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention.
5 to 7 are 3D views for explaining in more detail the base part of the Hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention.
8 to 10 are 3D views for explaining the silicon work part of Hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention.
11 to 15 are 3D views for explaining in detail the silicon working part of Hera for silicon working according to a preferred embodiment of the present invention.

본 명세서에 개시되어 있는 본 고안의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 고안의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 고안의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.Specific structural or functional descriptions of the embodiments according to the concept of the present invention disclosed in this specification are only illustrated for the purpose of explaining the embodiments according to the concept of the present invention, the embodiments according to the concept of the present invention It can be embodied in various forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 고안의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 고안의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 고안의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.Embodiments according to the concept of the present invention can apply various changes and can have various forms, so the embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in this specification. However, this is not intended to limit the embodiments according to the concept of the present invention to specific disclosed forms, and includes all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

도 1 및 2 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 전체적인 구성을 설명하기 위한 3D도면이며, 도 3 및 4 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 베이스부를 설명하기 위한 3D도면이며, 도 5 내지 7 은 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 베이스부를 더 자세히 설명하기 위한 3D도면이며, 도 8 내지 10 은 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 실리콘 작업부를 설명하기 위한 3D도면이며, 도 11 내지 15 는 본 고안의 바람직한 일 실시 예에 따른 실리콘 작업용 헤라의 실리콘 작업부를 더 자세히 설명하기 위한 3D도면이다.1 and 2 are 3D drawings for explaining the overall configuration of a hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention, and FIGS. 5 to 7 are 3D drawings for explaining in more detail the base part of the Hera for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention, and FIGS. 8 to 10 are for silicon work according to a preferred embodiment of the present invention 11 to 15 are 3D drawings for explaining the silicon working part of Hera according to a preferred embodiment of the present invention in more detail.

본 고안의 일 실시 예와 관련된 실리콘 작업용 헤라는 먼저, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 형성되는 베이스부(100)가 구성된다First, the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are tapered so that the front end is narrower than the rear end along the longitudinal direction from the rear to the front, and in the front direction The elastic neck 130 is disposed, and the upper surface is flat and the lower surface gradually narrows in the direction of the elastic neck 130 from the rear end, and the base portion 100 in which the inclined line 140 is formed is configured.

또한, 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘을 가압 및 평탄 작업하도록 실리콘 작업부(200)가 구성된다.In addition, the silicon work unit 200 is disposed at the front end of the elastic neck 130 in front of the base unit 100 to press and flatten the silicon.

이때, 상기 베이스부(100)는 상면 또는 하면 중 어느 일면에 수용통공(150)이 구비되어 상기 수용통공(150)에 자성재(160)가 내입되도록 구비되어 상기 자성재(160)을 이용하여 헤라를 작업자 근처에 부착하여 교체가 용이하도록 하며, 상기 좌측 경사선(110)과 상기 우측 경사선(120)에는 사용자의 파지가 용이하도록 상기 베이스부(100)의 중심 방향으로 오목하게 다수의 좌우 파지 홈(111,121)이 구성되어 파지 가압력이 효율적으로 상기 베이스부(100)과 상기 실리콘 작업부(200)에 미끄러짐이나 비틀림없이 전달되도록 구비되는 것이다.At this time, the base part 100 is provided with a receiving through hole 150 on either the upper surface or the lower surface so that the magnetic material 160 is inserted into the receiving through hole 150, and the magnetic material 160 is used to The hera is attached near the operator to facilitate replacement, and the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are recessed toward the center of the base part 100 so that the user can easily grip them. The gripping grooves 111 and 121 are formed so that the gripping pressure is efficiently transmitted to the base part 100 and the silicon work part 200 without slipping or twisting.

즉, 좌우측 경사선(110,120)을 통해 파지 가압력이 전단 방향으로 효율적으로 모으고, 좌우 파지 홈(111,121)을 통해 부드럽고 섬세한 작업이 가능해지도록 하는 것이다.That is, the gripping pressing force is efficiently collected in the shear direction through the left and right slanted lines 110 and 120, and smooth and delicate work is made possible through the left and right gripping grooves 111 and 121.

한편, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비된다.On the other hand, the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and unfolding in a curved round shape Is provided with a round extension surface 220 in the shape.

이때, 상기 실리콘 작업부(200)는 상기 베이스 결합면(210)과 상기 라운드 확장면(220)의 대향 위치에 실리콘 접면 용도인 실리콘 작업면(230)이 구비되는데 이때 실리콘 작업면(230)은 평탄면으로 구비되는 것이 바람직한 것이다.At this time, the silicon work part 200 is provided with a silicon work surface 230 for use as a silicon contact surface at opposite positions of the base coupling surface 210 and the round extension surface 220. At this time, the silicon work surface 230 is It is preferable to be provided with a flat surface.

또한, 상기 실리콘 작업면(230)의 전단은 유선부(231)를 형성하고 상기 유선부(231)의 후단 방향으로 외측으로 라운드는 확장부(232)를 이루며 상기 확장부(232)의 종단은 상기 탄성 넥(130)의 전단에 일자형을 갖는 마감부(233)로 구비되어 가압과 평탄에 유리하도록 구비되는 것이다.In addition, the front end of the silicon work surface 230 forms a streamlined portion 231 and forms an extension 232 that is rounded outward toward the rear end of the streamlined portion 231, and the end of the extension portion 232 is It is provided as a finishing portion 233 having a straight line at the front end of the elastic neck 130 to be advantageous in pressurization and flatness.

또한, 상기 마감부(233)는 상기 탄성 넥(130)의 최저 위치에서 상기 실리콘 작업면(230)의 높이까지 경사를 이루는 탄성 경사(233a)를 이루어 상기 베이스부(100)d에서 전달되는 파지 가압력이 상기 탄성 넥(130)과 상기 탄성 경사(233a)를 통해 상기 실리콘 작업부(200)의 전단 방향으로 섬세하게 모이도록 하는 것이다.In addition, the closing part 233 forms an elastic inclination 233a inclined from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicone working surface 230 to hold the grip transmitted from the base part 100d. The pressing force is delicately gathered in the shear direction of the silicon work part 200 through the elastic neck 130 and the elastic slope 233a.

한편, 상기 유선부(231)에서 상기 라운드 확장면(220)까지의 외측 테두리에는 상부로 돌출되어 상기 마감부(233)까지 이어지는 확장 측벽부(232a)가 구비되며, 상기 확장 측벽부(232a)는 상기 라운드 확장면(220)의 외측 위치에서 상기 확장 측벽부(232a)의 외측에서 상기 라운드 확장면(220) 방향으로 만곡지게 기울어지는 실리콘넘김면(232b)이 구비되어 작업시 찌꺼기로 남는 실리콘을 임시 보관할 수 있도록 하며, 상기 확장 측벽부(232a)의 후방 종단에는 중간 단면이 상기 유선부(231) 방향으로 화살촉 모양으로 공간을 형성하는 실리콘모임면(232c)이 구비되는 것이 더욱 바람직한 것이다.On the other hand, the outer edge from the streamlined part 231 to the round expansion surface 220 is provided with an extended side wall part 232a protruding upward and extending to the finishing part 233, and the extended side wall part 232a Is provided with a silicon turning surface 232b that is curved and inclined toward the round extension surface 220 from the outside of the expansion side wall portion 232a at an outer position of the round expansion surface 220, and the silicon remaining as residue during operation It is more preferable that a silicon gathering surface 232c is provided at the rear end of the extended side wall portion 232a to form a space in an arrowhead shape in the direction of the streamline portion 231 in the middle section.

또 한편, 상기 자성재(160)는 상기 탄성 넥(130)에서 후방으로 진행하며 상기 베이스부(100)의 어느 일면에 복수개가 소정 간격을 이루며 배치되고 복수의 상기 자성재(160)의 이면에는 상기 자성재(160)의 직경보다 더 큰 직경을 갖는 금속막(170)이 상기 베이스부(100)에 형성되는 금속 수용공(180)에 내입되도록 구비되어 헤라와 헤라가 서로 부착 가능하게 구비되는 것이다.On the other hand, the magnetic material 160 proceeds backward from the elastic neck 130, and a plurality of them are arranged at predetermined intervals on any one surface of the base part 100, and on the back surface of the plurality of magnetic materials 160 A metal film 170 having a larger diameter than the magnetic material 160 is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base portion 100 so that the hera and the hera are attached to each other will be.

또한, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되고, 상기 베이스 결합면(210)은 단면이 외측에서 중앙 방향으로 상향 돌출되게 반달형상의 심재면(211)으로 구비되어 고 상기 베이스 결합면(210) 위치에 대응되는 상기 베이스부(100)에는 상기 심재면(211)에 대응되도록 외측에서 중앙 방향으로 오목하게 심재수용홈(190)이 구비되어 후단 보다 비교적 좁고 얇은 전단부를 보강하도록 하는 것이다.In addition, the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and unfolding in a curved round shape A round expansion surface 220 is provided in a shape, and the base coupling surface 210 is provided with a half-moon-shaped core material surface 211 so that the cross section protrudes upward from the outside toward the center, and the base coupling surface 210 position is high. The base portion 100 corresponding to is provided with a core receiving groove 190 concave from the outside to the center so as to correspond to the core surface 211 to reinforce the front end that is relatively narrower and thinner than the rear end.

이상에서 일 실시 예를 통해 설명된 본원 고안의 실리콘 작업용 헤라를 이용하면, 실리콘 가압 평탄 작업의 편의성을 높이고 작업 효율을 높이며, 작업시 빈번한 헤라 교체가 용이하게 자성체를 이용할 수 있도록, 후방에서 전방으로 길이 진행 방향을 따라 좌측 경사선(110)과 우측 경사선(120)이 후단 보다 전단이 협소하도록 테이퍼지게 구비되고 전단 방향에는 탄성 넥(130)이 배치되며 상면은 평탄하고 하면은 후단에서 상기 탄성 넥(130) 방향으로 점진적으로 폭이 좁아지도록 하면 경사선(140)이 구비되는 베이스부(100)와 상기 베이스부(100)의 전방인 상기 탄성 넥(130)의 전단에 배치되어 실리콘 작업용으로 구비되는 실리콘 작업부(200)로 실리콘이 섬세하게 탄성 가압하는 효과가 있으며, 상기 베이스부(100)는 상면 또는 하면 중 어느 일면에 수용통공(150)이 구비되어 상기 수용통공(150)에 자성재(160)가 내입되도록 구비되고, 상기 좌측 경사선(110)과 상기 우측 경사선(120)에는 사용자의 파지가 용이하도록 상기 베이스부(100)의 중심 방향으로 오목하게 다수의 좌우 파지 홈(111,121)이 구비되어 파지 및 교체가 용이하며, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되어 중심에서 외측으로 부드럽게 가압할 수 있으며, 상기 실리콘 작업부(200)는 상기 베이스 결합면(210)과 상기 라운드 확장면(220)의 대향 위치에 실리콘 접면용도인 실리콘 작업면(230)이 구비되되, 상기 실리콘 작업면(230)의 전단은 유선부(231)를 형성하고 상기 유선부(231)의 후단 방향으로 외측으로 라운드는 확장부(232)를 이루며 상기 확장부(232)의 종단은 상기 탄성 넥(130)의 전단에 일자형을 갖는 마감부(233)로 구비되어 작업 대상 실리콘 쓸림 현상이 적어져서 평탄 작업이 유리하며, 상기 마감부(233)는 상기 탄성 넥(130)의 최저 위치에서 상기 실리콘 작업면(230)의 높이까지 경사를 이루는 탄성 경사(233a)를 이루어 탄성 넥(130)의 탄성력이 부드럽게 실리콘에 가해지는 효과가 있으며, 상기 유선부(231)에서 상기 라운드 확장면(220)까지의 외측 테두리에는 상부로 돌출되어 상기 마감부(233)까지 이어지는 확장 측벽부(232a)가 구비되며, 상기 확장 측벽부(232a)는 상기 라운드 확장면(220)의 외측 위치에서 상기 확장 측벽부(232a)의 외측에서 상기 라운드 확장면(220) 방향으로 만곡지게 기울어지는 실리콘넘김면(232b)이 구비되어 넘치는 작업 실리콘이 임시로 수용되어 평탄면 형성이 유리하며, 상기 확장 측벽부(232a)의 후방 종단에는 중간 단면이 상기 유선부(231) 방향으로 화살촉 모양으로 공간을 형성하는 실리콘모임면(232c)이 구비되거, 상기 자성재(160)는 상기 탄성 넥(130)에서 후방으로 진행하며 상기 베이스부(100)의 어느 일면에 복수개가 소정 간격을 이루며 배치되고 복수의 상기 자성재(160)의 이면에는 상기 자성재(160)의 직경보다 더 큰 직경을 갖는 금속막(170)이 상기 베이스부(100)에 형성되는 금속 수용공(180)에 내입되도록 구비되며, 상기 실리콘 작업부(200)는 상부에는 상기 베이스부(100)에 결합되는 베이스 결합면(210)이 구비되고 상기 베이스 결합면(210)에서 지면 방향으로 외측으로 확장하며 만곡지게 라운드되게 펼쳐지는 형상으로 라운드 확장면(220)이 구비되며 상기 베이스 결합면(210)은 단면이 외측에서 중앙 방향으로 상향 돌출되게 반달형상의 심재면(211)로 구비되고 상기 베이스 결합면(210) 위치에 대응되는 상기 베이스부(100)에는 상기 심재면(211)에 대응되도록 외측에서 중앙 방향으로 오목하게 심재수용홈(190)이 구비되어 실리콘 가압에 저항성이 높은 효과가 있다.Using the hera for silicone work of the present invention described through an embodiment above, the convenience of silicon pressurization and flat work is increased, the work efficiency is increased, and the magnetic material can be easily used for frequent replacement of the hera during work, from the rear to the front. Along the longitudinal direction, the left slanting line 110 and the right slanting line 120 are tapered so that the front end is narrower than the rear end, and an elastic neck 130 is disposed in the front end direction, and the upper surface is flat and the lower surface is the elastic When the width gradually narrows in the direction of the neck 130, it is disposed at the front end of the elastic neck 130, which is the front of the base part 100 provided with the slanting line 140 and the base part 100, so that it can be used for silicon work. The provided silicon working part 200 has the effect of delicately elastically pressing the silicone, and the base part 100 has an accommodation through hole 150 on either the upper or lower surface, so that the accommodation through hole 150 is self-contained. The Sungjae 160 is provided so as to be inserted, and the left and right slanting lines 110 and the right slanting line 120 have a plurality of left and right gripping grooves concave in the center direction of the base part 100 so that the user can easily grip them ( 111 and 121) are provided to facilitate gripping and replacement, and the silicon work part 200 is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, and the base coupling surface 210 is directed toward the ground. It is provided with a round extension surface 220 in a shape that expands outward and unfolds in a curved round shape so that it can be gently pressed outward from the center, and the silicon work part 200 is connected to the base coupling surface 210 and the round A silicone working surface 230 for contacting silicon is provided at a position opposite to the extension surface 220, and the front end of the silicone working surface 230 forms a streamlined portion 231, and a rear end of the streamlined portion 231 is provided. The outer round forms an extension 232, and the end of the extension 232 is provided with a straight end 233 at the front end of the elastic neck 130, so that the silicone chafing phenomenon of the work target is reduced and flat. The work is advantageous, and the finishing part 233 forms an elastic inclination 233a inclined from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicone working surface 230 so that the elastic force of the elastic neck 130 It has the effect of being applied to the silicon gently, and the outer rim from the streamline part 231 to the round expansion surface 220 is provided with an extended side wall part 232a protruding upward and extending to the finishing part 233, The expanded sidewall portion 232a is provided with a silicon turning surface 232b that is curved and inclined toward the round expanded surface 220 from the outside of the expanded sidewall portion 232a at a position outside the round expanded surface 220. The overflowing working silicon is temporarily accommodated and it is advantageous to form a flat surface, and at the rear end of the extended side wall part 232a, the middle section forms a space in the direction of the streamline part 231 in the shape of an arrowhead (silicon gathering surface 232c). ) Is provided, the magnetic material 160 proceeds backward from the elastic neck 130, and a plurality of them are arranged on one side of the base part 100 at predetermined intervals, and a plurality of the magnetic material 160 On the back surface, a metal film 170 having a diameter larger than that of the magnetic material 160 is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base part 100, and the silicon work part 200 Is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100 at the top, extending outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground, and a round extension surface 220 in a curved shape that unfolds The base coupling surface 210 is provided with a half-moon-shaped core surface 211 so that the cross section protrudes upward from the outside to the center, and the base portion 100 corresponding to the position of the base coupling surface 210 has the above The core material accommodating groove 190 is provided concavely from the outside to the center to correspond to the core material surface 211, so that there is an effect of high resistance to silicon pressure.

이상 본 고안은 바람직한 일실시 예를 통하여 설명하였는데, 상술한 실시 예는 본 고안의 기술적 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 고안의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화가 가능함은 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 고안은 보호범위는 특정 실시예가 아니라 특허 청구 범위에 기재된 사항에 의해 해석되어야 하며, 그와 도응한 범위 내에 있는 모든 기술적 사상도 본 고안의 권리범위에 포함되는 것으로 해석 되어야 될 것이다.The present invention has been described through a preferred embodiment, but the above-described embodiment is only an illustrative explanation of the technical idea of the present invention, and various changes are possible within the scope of not departing from the technical idea of the present invention. Those with ordinary knowledge will be able to understand. Therefore, the protection scope of the present invention should be interpreted by the matters described in the claims, not by the specific embodiments, and all technical ideas within the corresponding scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100 ... 베이스부
110 ... 좌측 경사선
111 ... 좌 파지 홈
120 ... 우측 경사선
121 ... 우 파지 홈
130 ... 탄성 넥
140 ... 하면 경사선
150 ... 수용통공
160 ... 자성재
170 ... 금속막
180 ... 금속 수용공
190 ... 심재수용홈
200 ... 실리콘 작업부
210 ... 베이스 결합면
211 ... 심재면
220 ... 라운드 확장면
230 ... 실리콘 작업면
231 ... 유선부
232 ... 확장부
232a ... 확장 측벽부
232b ... 실리콘넘김면
232c ... 실리콘모임면
233 ... 마감부
233a ... 탄성 경사100 ... base part
110 ... Left inclined line
111 ... left gripping groove
120 ... Right inclined line
121 ... Woo Page Home
130 ... elastic neck
140 ... lower slope
150 ... acceptance through hole
160 ... magnetic material
170 ... metal film
180 ... metal receiving hole
190 ... heartwood receiving groove
200 ... Silicon working part
210 ... base mating surface
211 ... Simjaemyeon
220 ... round extension face
230 ... silicone working surface
231 ... wire part
232 ... extension
232a ... extended side wall part
232b ... silicon flip side
232c ... silicone meeting surface
233 ... finish
233a ... elastic slope

Claims

Along the lengthwise direction from the rear to the front, the left inclined line 110 and the right inclined line 120 are tapered so that the front end is narrower than the rear end, and an elastic neck 130 is disposed in the front direction, and the upper surface is flat and the lower surface is Base portion 100 having an inclined line 140 when the width gradually narrows in the direction of the elastic neck 130 at the rear end; and
A silicon work part 200 disposed at the front end of the elastic neck 130 in front of the base part 100 and provided for silicon work; including,
The base part 100,
An accommodating through hole 150 is provided on one of the upper or lower surfaces so that the magnetic material 160 is inserted into the accommodating through hole 150,
The left and right slanting lines 110 and 120 are provided with a plurality of left and right gripping grooves 111 and 121 concave in the center direction of the base part 100 so that the user can easily grip,
The silicon work unit 200,
The upper portion is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100
A round extension surface 220 is provided in a shape that extends outward from the base coupling surface 210 in the direction of the ground and unfolds in a curved round shape,
The silicon work unit 200,
A silicon working surface 230 for contacting silicon is provided at the opposite position of the base coupling surface 210 and the round extension surface 220,
The front end of the silicone work surface 230 forms a streamlined portion 231 and forms an extension 232 that is rounded outward toward the rear end of the streamlined portion 231, and the end of the extension portion 232 is elastic. It is provided with a finishing portion 233 having a straight line at the front end of the neck 130,
An extended side wall portion 232a protrudes upward and extends to the finishing portion 233 at an outer edge from the streamline portion 231 to the round expansion surface 220,
The expanded sidewall portion 232a,
Characterized in that a silicon turning surface 232b curved and inclined toward the round expansion surface 220 is provided from the outside of the expansion side wall portion 232a at an outer position of the round expansion surface 220,
Hera for silicone work.

delete

According to claim 1,
The finishing part 233,
Characterized in that it is provided to form an elastic inclination 233a inclined from the lowest position of the elastic neck 130 to the height of the silicone work surface 230,
Hera for silicone work.

delete

According to claim 1,
At the rear end of the extended sidewall portion 232a, a silicon gathering surface 232c is provided with a middle cross section forming a space in an arrowhead shape in the direction of the streamline portion 231,
The magnetic material 160 is
It proceeds backward from the elastic neck 130 and a plurality of them are arranged at predetermined intervals on any one surface of the base part 100,
On the rear surface of the plurality of magnetic materials 160, a metal film 170 having a diameter larger than that of the magnetic material 160 is provided to be inserted into the metal receiving hole 180 formed in the base part 100. becomes,
The silicon work unit 200,
The upper portion is provided with a base coupling surface 210 coupled to the base portion 100
Characterized in that the round extension surface 220 is provided in a shape that extends outward from the base coupling surface 210 in the direction of the paper and unfolds in a curved round shape.
The base coupling surface 210 is provided with a half-moon shaped core surface 211 so that the cross section protrudes upward from the outside to the center, and the base portion 100 corresponding to the position of the base coupling surface 210 has the core surface ( 211) characterized in that the core receiving groove 190 is provided concavely from the outside to the center,
Hera for silicone work.