KR20040103996A - Plasma display panel and method of fabricating the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 상/하부기판의 균일한 합착에 의해 화질을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel capable of improving image quality by uniform bonding of upper and lower substrates, and a method of manufacturing the same.
최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판표시장치는 액정표시장치(Liquid Crystal Display : LCD), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display : FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel :이하 "PDP" 라고 한다) 및 일렉트로 루미네센스(Electro-Luminescence : EL) 표시장치 등이 있다.Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include liquid crystal displays (LCDs), field emission displays (FEDs), plasma display panels (hereinafter referred to as "PDPs"), and electroluminescence (Electro). -Luminescence (EL) display.
이중 PDP는 기체방전을 이용한 표시소자로서 대형패널의 제작이 용이하다는 장점이 있다. PDP로는 도 1에 도시된 바와 같이 3전극을 구비하고 교류전압에 의해 구동되는 3전극 교류 면방전형 PDP가 대표적이다.PDP is a display device using a gas discharge has the advantage that it is easy to manufacture a large panel. As a PDP, a three-electrode AC surface discharge type PDP having three electrodes and driven by an alternating voltage is typical.
도 1에 도시된 PDP의 방전셀은 상부기판(10)상에 형성되는 유지전극쌍, 즉 주사/유지전극(12Y) 및 공통유지전극(12Z)과, 하부기판(18)상에 형성되는 어드레스전극(12X)을 구비한다. 도 1에 도시된 하부기판(18)은 90°회전하여 도시된 것이다.The discharge cells of the PDP shown in FIG. 1 are a pair of sustain electrodes formed on the upper substrate 10, that is, a scan / hold electrode 12Y and a common sustain electrode 12Z, and an address formed on the lower substrate 18. FIG. An electrode 12X is provided. Lower substrate 18 shown in Figure 1 is shown rotated 90 °.
유지전극쌍(12Y,12Z)은 투명전극(12a)과 버스전극(12b)으로 이루어지고, 어드레스전극(12X)과 교차된다.The sustain electrode pairs 12Y and 12Z consist of a transparent electrode 12a and a bus electrode 12b, and intersect with the address electrode 12X.
유지전극쌍(12Y,12Z)이 형성되는 상부기판(10)에는 상부 유전체층(14)과 보호막(16)이 형성된다. 상부 유전체층(14)은 가스 방전시 발생된 벽전하가 축적된다. 보호막(16)은 플라즈마 방전시 발생된 스퍼터링에 의한 상부 유전체층(14)의 손상을 방지하고 아울러 2차 전자의 방출 효율을 높이게 한다. 보호막(16)으로는 통상 산화마그네슘(MgO)이 이용된다.The upper dielectric layer 14 and the passivation layer 16 are formed on the upper substrate 10 on which the sustain electrode pairs 12Y and 12Z are formed. The upper dielectric layer 14 accumulates wall charges generated during gas discharge. The passivation layer 16 prevents damage to the upper dielectric layer 14 due to sputtering generated during plasma discharge and increases emission efficiency of secondary electrons. As the protective film 16, magnesium oxide (MgO) is usually used.
어드레스전극(12X)이 형성된 하부기판(18) 상에는 벽전하 축적을 위한 하부 유전층(22)이 형성된다. 하부 유전층(22) 상에는 제1 격벽(24a)이 형성되며, 하부 유전층(22)과 제1 격벽(24a)의 표면에는 형광체(20)가 도포된다. 제1 격벽(24a)은 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광선이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 형광체(20)는 플라즈마 방전시 발생된 자외선에 의해 여기되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시광선을 발생하게 된다. 상/하부기판(10)(18)과 제1 격벽(24a) 사이에 마련된 방전공간에는 가스방전을 위한 불활성 가스가 주입된다.The lower dielectric layer 22 for wall charge accumulation is formed on the lower substrate 18 on which the address electrode 12X is formed. The first partition wall 24a is formed on the lower dielectric layer 22, and the phosphor 20 is coated on the surfaces of the lower dielectric layer 22 and the first partition wall 24a. The first partition wall 24a prevents ultraviolet rays and visible rays generated by the discharge from leaking into the adjacent discharge cells. The phosphor 20 is excited by ultraviolet rays generated during plasma discharge to generate visible light of any one of red, green, and blue. Inert gas for gas discharge is injected into the discharge space provided between the upper and lower substrates 10 and 18 and the first partition wall 24a.
이러한 구조의 방전셀은 어드레스전극(12X)과 주사/유지전극(12Y) 간의 대향방전에 의해 선택된 후 유지전극쌍(12Y,12Z)간의 면방전에 의해 방전을 유지하게 된다. 이러한 방전셀에서는 유지방전시 발생되는 자외선에 의해 형광체(20)가 발광함으로써 가시광이 셀 외부로 방출되게 된다. 이 결과, 방전셀들은 방전이 유지되는 기간을 조절하여 계조를 구현하게 되고, 그 방전셀들이 매트릭스 형태로 배열된 PDP는 화상을 표시하게 된다.The discharge cell of this structure is selected by the counter discharge between the address electrode 12X and the scan / hold electrode 12Y, and then sustains the discharge by the surface discharge between the sustain electrode pairs 12Y and 12Z. In such a discharge cell, the fluorescent substance 20 emits light by ultraviolet rays generated during sustain discharge, so that visible light is emitted to the outside of the cell. As a result, the discharge cells adjust the period during which the discharge is maintained to implement gray scale, and the PDP in which the discharge cells are arranged in a matrix form displays an image.
도 2는 종래의 PDP의 전체적인 단면구조를 나타내는 도면이다.2 is a view showing the overall cross-sectional structure of a conventional PDP.
도 2에 도시된 PDP의 상부기판(110)과 하부기판(118)은 실링재(35)를 이용한 합착공정으로 합착된다. 이때 가압되는 상/하부기판(10,18)에 의해 표시영역으로 실링재(35)가 침범되는 것을 방지하기 위해 하부기판(18)의 비표시영역에는 제2 격벽(24b)이 형성되어 있다.The upper substrate 110 and the lower substrate 118 of the PDP shown in FIG. 2 are bonded by a bonding process using the sealing material 35. In this case, in order to prevent the sealing material 35 from invading the display area by the upper and lower substrates 10 and 18 that are pressed, the second partition wall 24b is formed in the non-display area of the lower substrate 18.
이러한 제1 격벽(24a) 및 제2 격벽(24b)은 하부 유전체(도시하지 않음) 등이 형성된 하부기판(18) 상에 스크린 프린팅, 샌드블라스트, 에칭법 중 어느 하나의 방법을 이용하여 형성된다. 예를 들어, 스크린 프린팅법을 이용하여 하부기판(18) 상에 격벽재 페이스트의 인쇄 및 건조 공정을 반복한 후 소성함으로 형성된다.The first and second partitions 24a and 24b are formed on the lower substrate 18 on which the lower dielectric (not shown) or the like is formed by using any one of screen printing, sandblasting, and etching methods. . For example, it is formed by firing after repeating the printing and drying process of the partition material paste on the lower substrate 18 using the screen printing method.
이경우, 제2 격벽(24b)은 공정편차에 의해 제1 격벽(24a)보다 상대적으로 높게 형성되는 경우가 빈번히 발생된다. 구체적으로, 스크린 프린팅시에 스크린 마크의 장력으로 인하여 인쇄의 시작부 및 끝단에 대응되는 비표시영역(P1)으로 토출되는 격벽용 페이스트양이 인쇄의 중앙부에 대응되는 표시영역(P2)으로 토출되는 격벽용 페이스트양보다 많게 된다.In this case, the second partition 24b is frequently formed to be relatively higher than the first partition 24a due to the process deviation. Specifically, when the screen is printed, the amount of partition paste paste discharged to the non-display area P1 corresponding to the beginning and the end of the printing is discharged to the display area P2 corresponding to the center of the printing due to the tension of the screen mark. It will be larger than the bulk paste.
이에따라, 표시영역(P2)에 비해 비표시영역(P2)에 상대적으로 많은 양의 격벽용 페이스트가 토출됨에 따라 제2 격벽(24b)은 제1 격벽(24a)보다 높게 형성된다.Accordingly, as the bulkhead paste is discharged in a larger amount than the display area P2, the second partition wall 24b is formed higher than the first partition wall 24a.
이러한 제1 격벽(24a) 및 제2 격벽(24b)간의 높이 차이에 의해 상/하부기판(10,18)의 합착시에 상부기판(10)이 하부기판(18)을 향하도록 휘어지게 된다. 이렇게 휘어진 상부기판(10)에 의해 상/하부기판(10,18)의 간격이 불균일하여 부분적으로 오방전이 발생하게 된다. 또한, 상/하부기판(10,18)의 접촉이 불균함에 따라 방전에 의한 진동으로 상/하부기판(10,18) 사이에서 마찰이 발생하게 된다. 이 마찰에 의해 수~수십㏈의 소음이 발생된다.Due to the height difference between the first and second partitions 24a and 24b, the upper substrate 10 is bent toward the lower substrate 18 when the upper and lower substrates 10 and 18 are bonded. The curved upper substrate 10 causes the upper and lower substrates 10 and 18 to be unevenly spaced, thereby causing partial discharge. In addition, as the contact between the upper and lower substrates 10 and 18 is uneven, friction occurs between the upper and lower substrates 10 and 18 due to vibration caused by discharge. This friction generates noises ranging from tens of thousands of tons.
따라서, 본 발명의 목적은 상/하부기판의 균일한 합착에 의해 화질을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same which can improve image quality by uniform bonding of upper and lower substrates.
도 1은 통상의 3 전극 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타낸 단면도.1 is a cross-sectional view showing the discharge cell structure of a conventional three-electrode alternating current plasma display panel.
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전체적인 구조를 나타내는 도면.2 is a view showing the overall structure of a conventional plasma display panel.
도 3는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 단면구조를 나타내는 도면.3 is a view showing a cross-sectional structure of a plasma display panel according to the present invention.
도 4는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정을 나타내는 순서도.4 is a flowchart illustrating a manufacturing process of a plasma display panel.
도 5a 내지 도 5b는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 형성공정을 상세히 나타내는 단면도.5A to 5B are cross-sectional views illustrating in detail a process of forming a dielectric layer of a plasma display panel.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10,110 : 상부기판 12X : 어드레스전극10,110: upper substrate 12X: address electrode
12Y : 주사유지전극 12Z : 공통유지전극12Y: scanning holding electrode 12Z: common holding electrode
14 : 유전체층 16 : 보호막14 dielectric layer 16 protective film
18 : 하부기판 20 : 형광체18: lower substrate 20: phosphor
24a,124a : 제1 격벽 24b, 124b : 제2 격벽24a, 124a: 1st partition 24b, 124b: 2nd partition
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 PDP는 제1 기판 상의 표시영역에 형성되는 제1 격벽과; 상기 제1 기판의 표시영역 이외의 비표시영역에 형성되는 제2 격벽과; 상기 제1 기판과 대향되는 제2 기판 상에 형성되어 상기 표시영역과 비표시영역에서 서로 다른 두께를 갖는 유전체층을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the PDP according to the embodiment of the present invention and the first partition wall formed in the display area on the first substrate; A second partition wall formed in a non-display area other than the display area of the first substrate; And a dielectric layer formed on a second substrate facing the first substrate and having different thicknesses in the display area and the non-display area.
상기 제1 격벽과 제2 격벽은 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The first and second barrier ribs may have different heights.
상기 제2 격벽은 상기 제1 격벽보다 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The second partition has a height higher than that of the first partition.
상기 유전체층은 상기 비표시영역보다 상기 표시영역에서 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 한다.The dielectric layer may be formed to be thicker in the display area than in the non-display area.
상기 표시영역의 유전체층은 상기 비표시영역의 유전체층보다 5~30㎛ 정도 두꺼운 것을 특징으로 한다.The dielectric layer of the display area is about 5 to 30 μm thicker than the dielectric layer of the non-display area.
상기 제1 기판 및 제2 기판의 최외곽 영역에 형성되는 실링재를 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.And a sealing material formed in the outermost regions of the first substrate and the second substrate.
본 발명의 실시예에 따른 PDP의 제조방법은 제1 기판 상의 표시영역에 제1 격벽을 형성하고 상기 표시영역 이외의 비표시영역에 제2 격벽을 형성하는 단계와;A method of manufacturing a PDP according to an embodiment of the present invention includes forming a first partition in a display area on a first substrate and forming a second partition in a non-display area other than the display area;
상기 제1 기판과 대향되는 제2 기판 상에 상기 표시영역과 비표시영역에서 서로 다른 두께를 갖는 유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.And forming dielectric layers having different thicknesses in the display area and the non-display area on the second substrate facing the first substrate.
상기 제1 격벽과 제2 격벽은 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The first and second barrier ribs may have different heights.
상기 제2 격벽은 상기 제1 격벽보다 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The second partition has a height higher than that of the first partition.
상기 유전체층은 상기 비표시영역보다 상기 표시영역에서 두꺼운 두께로 형성되는 것을 특징으로 한다.The dielectric layer may be formed to be thicker in the display area than in the non-display area.
상기 표시영역의 유전체층은 상기 비표시영역의 유전체층보다 5~30㎛ 정도 두꺼운 것을 특징으로 한다.The dielectric layer of the display area is about 5 to 30 μm thicker than the dielectric layer of the non-display area.
상기 제1 기판 및 제2 기판의 최외곽 영역에 실링재를 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.And forming a sealing material in outermost regions of the first substrate and the second substrate.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.
이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 5.
도 3는 본발명의 실시예에 따른 PDP를 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a PDP according to an embodiment of the present invention.
도 3에 도시된 PDP는 단차를 갖는 상부 유전체층(114)이 형성된상부기판(110)과 제1 및 제2 격벽(124a,124b)이 형성된 하부기판(118)과 상/하부기판(110,118)을 합착하기 위한 실링재(135)를 구비한다.The PDP shown in FIG. 3 includes an upper substrate 110 on which an upper dielectric layer 114 having a step is formed, and a lower substrate 118 and upper / lower substrates 110 and 118 on which first and second partitions 124a and 124b are formed. The sealing material 135 for bonding is provided.
상부기판(110) 상에 형성되는 상부 유전체는 표시영역(P2)과 실링재(135)가 형성되는 영역을 제외한 비표시영역(P1)에서 서로 다른 높이를 갖도록 형성된다.The upper dielectric formed on the upper substrate 110 is formed to have different heights in the non-display area P1 except for the area where the display area P2 and the sealing material 135 are formed.
표시영역(P2)과 대응되는 상부 유전체층(114a)은 비표시영역(P1)과 대응되는 상부 유전체층(114b)보다 상대적으로 두껍게 형성된다. 예를 들어, 표시영역(P2)과 대응되는 상부 유전체층(114a)의 두께(D1)는 비표시영역(P1)과 대응되는 상부 유전체층(114b)의 두께(D2)보다 5~30㎛ 정도 높게 형성된다. 표시영역(P2)과 대응되는 상부 유전체층(114a)이 비표시영역(P1)과 대응되는 상부 유전체층(114b)보다 높게 형성됨으로써 후술하는 공정편차에 의해 발생되는 제1 격벽(124a)과 제2 격벽(124b)의 높이차가 보상된다.The upper dielectric layer 114a corresponding to the display area P2 is formed relatively thicker than the upper dielectric layer 114b corresponding to the non-display area P1. For example, the thickness D1 of the upper dielectric layer 114a corresponding to the display area P2 is formed to be about 5 to 30 μm higher than the thickness D2 of the upper dielectric layer 114b corresponding to the non-display area P1. do. Since the upper dielectric layer 114a corresponding to the display area P2 is formed higher than the upper dielectric layer 114b corresponding to the non-display area P1, the first partition wall 124a and the second partition wall generated by the process deviation described later. The height difference of 124b is compensated.
하부기판(118) 상에 형성되는 격벽은 표시영역(P2)에 형성되는 제1 격벽(124a)과 비표시영역(P1)에 형성되는 제2 격벽(124b)으로 나뉜다.The partition wall formed on the lower substrate 118 is divided into a first partition 124a formed in the display area P2 and a second partition wall 124b formed in the non-display area P1.
제1 격벽(124a)은 표시영역(P2)에 형성되어 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광선이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 제2 격벽(124b)은 실링재(135)가 형성되는 실재영역과 표시영역(P2) 사이의 비표시영역(P1)에 형성되어 실링재(135)의 침범에 의한 표시영역(P2)의 오염을 방지하게 된다.The first partition wall 124a is formed in the display area P2 to prevent the ultraviolet rays and the visible light generated by the discharge from leaking to the adjacent discharge cells. The second partition wall 124b is formed in the non-display area P1 between the real area where the sealing material 135 is formed and the display area P2 to prevent contamination of the display area P2 due to the encroachment of the sealing material 135. Done.
이때 제2 격벽(124b)은 공정편차에 의해 제1 격벽(124a)보다 상대적으로 높은 높이로 형성된다.At this time, the second partition 124b is formed at a height higher than the first partition 124a due to the process deviation.
실링재(135)는 상부 유전체층(114a,114b) 등이 형성된 상부기판(110)과 제1격벽(124a)과 제2 격벽(124b) 등이 형성된 하부기판(118)을 합착하게 한다.The sealing material 135 bonds the upper substrate 110 on which the upper dielectric layers 114a and 114b and the like are formed, and the lower substrate 118 on which the first and second partitions 124a and 124b are formed.
이렇게 합착된 상/하부기판(110,118)은 하부기판(118)의 제1 격벽(124a)과 제2 격벽(124b)의 높이차를 상부기판(110)의 표시영역(P2)과 비표시영역(P1)의 유전체층(114a,114b)의 높이를 다르게 함으로써 균일하게 합착된다.The upper and lower substrates 110 and 118 bonded in this manner have a height difference between the first and second partitions 124a and 124b of the lower substrate 118 and the non-display area P2 of the upper substrate 110. The heights of the dielectric layers 114a and 114b of P1 are uniformly bonded.
도 4 는 본 발명에 따른 PDP의 제조공정을 나타내는 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a manufacturing process of the PDP according to the present invention.
먼저 상부기판(110)을 제작한 후에 그 상부기판(110) 상에 투명전극 패턴과 금속버스전극 패턴(도시하지 않음)이 순차적으로 형성된다.(S1 및 S2) 이어서, 투명전극 패턴과 금속버스전극 패턴이 형성된 상부기판(110) 상에 제1 및 제2 유전체층(113,115)이 형성된다.(S3 및 S4)First, the upper substrate 110 is manufactured, and then a transparent electrode pattern and a metal bus electrode pattern (not shown) are sequentially formed on the upper substrate 110. (S1 and S2) Next, the transparent electrode pattern and the metal bus are formed. First and second dielectric layers 113 and 115 are formed on the upper substrate 110 having the electrode patterns formed thereon (S3 and S4).
제1 및 제2 유전체층(113,115)의 형성공정을 구체적으로 설명하면, 도 5a 에 도시된 바와 같이 상부기판(110) 상에 실링재(135) 형성영역을 제외한 전면에 스크린 프린팅법을 이용하여 유전체 페이스트가 다수번의 인쇄 및 건조공정 후 소성됨으로써 도 5a와 같이 제1 유전체층(113)이 형성된다. 제1 유전체층(113)이 형성된 상부기판(110) 상의 표시영역(P2)과 대응되는 영역에 스크린 프린팅법을 이용하여 유전체 페이스트가 다수번의 인쇄 및 건조공정 후 소성됨으로써 도 5b와 같이 제2 유전체층(115)이 형성된다. 예를 들어, 제2 유전체층(115)의 두께는 5~30㎛ 정도이다.Referring to the formation process of the first and second dielectric layers 113 and 115 in detail, as shown in FIG. After the printing and drying processes a plurality of times, the first dielectric layer 113 is formed as shown in FIG. 5A. The dielectric paste is baked after a plurality of printing and drying processes using a screen printing method in a region corresponding to the display area P2 on the upper substrate 110 on which the first dielectric layer 113 is formed, as shown in FIG. 5B. 115) is formed. For example, the thickness of the second dielectric layer 115 is about 5-30 μm.
제1 및 제2 상부 유전체층(113,115)이 형성된 상부기판(110) 상에 보호막(도시하지 않음)이 형성된다.(S5)A passivation layer (not shown) is formed on the upper substrate 110 on which the first and second upper dielectric layers 113 and 115 are formed (S5).
하부기판(118) 상에는 포토법, 인쇄법 등을 이용하여 어드레스전극(도시하지않음)이 형성된다.(S7 및 S9) 어드레스전극이 형성된 하부기판(118) 상에 스크린 프린팅(Screen Printing)방법 등을 이용하여 하부 유전체층(도시하지 않음)이 형성된다.(S11)On the lower substrate 118, an address electrode (not shown) is formed by using a photo method, a printing method, or the like. A lower dielectric layer (not shown) is formed by using S (S11).
하부 유전체층이 형성된 하부기판(118) 상에 스크린 프린팅법, 샌드 블라스팅법, 에칭법중 어느 하나를 이용하여 제1 및 제2 격벽(124a,124b)이 형성된다.(S13)First and second barrier ribs 124a and 124b are formed on the lower substrate 118 on which the lower dielectric layer is formed by using any one of a screen printing method, a sand blasting method, and an etching method (S13).
이어서, 스크린 프린팅, 인쇄법 등을 이용하여 하부 유전체등이 형성된 하부기판(118)의 표면에 형광체(도시하지 않음)가 형성된다.(S15)Subsequently, a phosphor (not shown) is formed on the surface of the lower substrate 118 on which the lower dielectric is formed by using screen printing, printing, or the like. (S15)
이어서. 제1 및 제2 유전체층(113,115) 등이 형성된 상부기판(110)과 제1 및 제2 격벽(124a,124b) 등이 형성된 하부기판(118)이 실링재(135)에 의해 합착된다.(S17)next. The upper substrate 110 on which the first and second dielectric layers 113 and 115 are formed and the lower substrate 118 on which the first and second partitions 124a and 124b are formed are bonded by the sealing material 135 (S17).
본 발명의 실시예에 따른 상부기판의 유전체층의 제조방법은 상기한 스크린 프린팅법에 국한되지 않고 후막 코팅법, 라미네이팅 등의 유전체층을 형성할 수 있는 공지의 어떠한 방법도 적용될 수 있다.The method for manufacturing the dielectric layer of the upper substrate according to the embodiment of the present invention is not limited to the screen printing method described above, any known method for forming a dielectric layer such as a thick film coating method, laminating may be applied.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법은 표시영역의 유전체층과 비표시영역의 유전체층의 두께를 다르게 형성함으로써 비표시영역 격벽과 표시영역 격벽의 높이차가 보상된다. 이에 따라 상/하부기판이 균일하게 합착되어 오방전 및 소음이 방지된다.As described above, in the plasma display panel and the method of manufacturing the same, the height difference between the non-display area partition wall and the display area partition wall is compensated by forming different thicknesses of the dielectric layer of the display area and the dielectric layer of the non-display area. Accordingly, the upper and lower substrates are uniformly bonded to prevent mis-discharge and noise.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
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