KR20040059721A

KR20040059721A - A Structure For Supporting Mask Box Of Photo Mask

Info

Publication number: KR20040059721A
Application number: KR1020020086126A
Authority: KR
Inventors: 최성진
Original assignee: 주식회사 하이닉스반도체
Priority date: 2002-12-28
Filing date: 2002-12-28
Publication date: 2004-07-06

Abstract

PURPOSE: A box support structure of a photomask is provided to prevent damage on a mask by supporting edge portions of the photomask using an upper and lower sloped plane. CONSTITUTION: A mask box(20) includes an upper box part(22) and a lower box part(30). The mask box further includes a lower support protrusion(32) and an upper support protrusion(24). The lower support protrusion is provided with a lower sloped plane(34) for supporting four edge portions of the lower box part. The upper support protrusion is provided with an upper sloped plane(26) for supporting four edge portions of the upper box part.

Description

{A Structure For Supporting Mask Box Of Photo Mask}

본 발명은 포토마스크를 보관하는 마스크박스에 관한 것으로서, 특히, 포토마스크를 지지하는 하부박스부와 상부박스부의 내측면에 다수의 상,하부지지턱을 형성하고, 상기 상,하부지지턱에 일정각도 경사져 형성되는 상,하부경사면을 형성하여 포토마스크의 측면 네 군데의 모서리 부분을 지지하므로 마스크의 표면에 이물질이 묻게 되어 데미지가 발생하는 것을 방지하도록 하는 포토마스크의 박스지지구조에 관한 것이다.The present invention relates to a mask box for storing a photomask, and in particular, a plurality of upper and lower support jaws are formed on the inner side of the lower box portion and the upper box portion for supporting the photomask, and the upper and lower support jaws are fixed to the upper and lower support jaws. The present invention relates to a box support structure of a photomask that forms upper and lower inclined surfaces formed at an angle and supports four corner portions of side surfaces of the photomask so that foreign matters are deposited on the surface of the mask to prevent damage.

일반적으로, 포토마스크란 반도체소자 혹은 직접회로의 구조를 크롬이 증착된(Deposilion) 유리판 위에 형성한 것으로, 사진술 (포토리소그래피: Photo Lithography)을 이용하여, 이것을 웨이퍼위에, 복사하여 반도체를 제조하기 위한, 반도체소자 회로가 인쇄(Writing)된 기초 기판이(substrate)석영으로 된 장치를 말한다.In general, a photomask is a structure of a semiconductor device or an integrated circuit formed on a chromium-deposited glass plate, which is copied onto a wafer using photolithography (Photo Lithography) to manufacture a semiconductor. The apparatus refers to a device in which a substrate is made of quartz, in which a semiconductor device circuit is printed.

이와 같이, 포토마스크에는 다양한 종류가 있으며, 이러한 대부분의 마스크는 상기한 바와 같이, 석영으로 된 기판(이하, 석영플레이트라 함)의 상부면에 크롬을 입히는 일반계열과, 몰리브덴계열등인 위상 안전 포토마스크 장치가 있다.As described above, there are various types of photomasks, and most of these masks have a phase safety such as a general series for coating chromium on a top surface of a quartz substrate (hereinafter referred to as a quartz plate), and a molybdenum series lamp. There is a photomask device.

이 금속막위에 소정의 photo 공정 및 Etch공정을 통해서 회로기판과 같은 금속패턴을 형성하여 만든, 포토마스크를 축소노광장치(stepper)를 이용하여 광을 통하여 웨이퍼 상에 소정의 패턴을 전달 형성하게 된다.The photomask is formed by forming a metal pattern such as a circuit board through a predetermined photo process and an etching process on the metal film, and transfers a predetermined pattern onto the wafer through light using a reduction stepper. .

상기 포토마스크는, 광이 투과하는 석영(Quartz)이기 때문에 포토마스크의 결함을 검사하는 기술적인 방법은, 포토마스크 상면에서 수직 반사되는광(Reflectance Light)과 투과되는 광(Transmittance Light)의 정보를 분석하여 포토마스크에 있는 결함과 정상적인 크롬패턴 혹은 위상반전물질(Phase Shift Material)을 구분하게 되는 것이다.Since the photomask is quartz through which light is transmitted, a technical method of inspecting defects of the photomask includes information on reflection light and transmission light that are vertically reflected from an upper surface of the photomask. By analyzing, the defects in the photomask are distinguished from the normal chromium pattern or phase shift material.

한편, 상기 포토마스크는 필요한 지역을 이동시키기 위하여 표면에 이물질이 묻으면 안되기 때문에 마스크박스(Mask Box)를 사용하여 안전하게 보관하여 필요한 소정의 장소로 이동시키게 된다.On the other hand, the photomask is to be stored in a safe place using a mask box (Mask Box) to move to the required place because the foreign matter on the surface to move the required area.

도 1은 종래의 포토마스크의 박스 지지 구조를 보인 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a box supporting structure of a conventional photomask.

종래의 마스크박스(A)의 구조를 살펴 보면, 상기 하부바닥면에 실리콘재질로 된 하부지지대(12)를 4개소에 형성하도록 하는 하부박스부(10)와; 상기 하부박스부(10)의 하부지지대(12)에 놓여지는 마스크(8)를 상부에서 눌러주도록 하는 상부지지대(6)를 형성하는 상부박스부(4)로 구성된다.Looking at the structure of the conventional mask box (A), the lower box portion 10 for forming the lower support 12 made of silicon on the lower bottom surface in four places; It consists of an upper box portion 4 forming an upper support 6 for pressing the mask 8 placed on the lower support 12 of the lower box portion 10 from above.

그리고, 상기 마스크박스(A)의 외측에는 미도시된 잠금장치를 이용하여 상기 상,하부박스부(4)(10)를 서로 고정하여 분리되는 것을 방지하도록 한다.In addition, the upper and lower box portions 4 and 10 are fixed to each other by using a locking device not shown on the outside of the mask box A to prevent the mask box A from being separated.

이와 같이 구성된 상태에서, 마스크박스(2)를 필요한 장소로 이동시켜서 필요한 마스킹공정을 진행하는 데 상기 상,하부박스부(4)(10)를 서로 분리하여서 상기 마스크(8)를 사용하도록 한다.In this configuration, the upper and lower box portions 4 and 10 are separated from each other to move the mask box 2 to a necessary place to perform the necessary masking process so that the mask 8 is used.

그런데, 상기한 바와 같이, 마스크(8)의 표면에 상,하부지지대(6)(12)가 직접적으로 접촉하여 충격을 방지하므로 접촉되는 표면부분에 이물질이 묻게 되어 데미지를 가하거나 그로 인하여 일정시간이 경과하는 경우, 마스크(8) 표면의 크롬이 반응하여 접촉부분에 변형이 발생되는 문제점을 지닌다.However, as described above, since the upper and lower support members 6 and 12 directly contact the surface of the mask 8 to prevent an impact, foreign substances are placed on the surface to be contacted to inflict damage or thereby for a certain time. If this elapses, the chromium on the surface of the mask 8 reacts, which causes a problem in that deformation occurs in the contact portion.

한편, 상기 데미지 부분은 세정공정을 적용하여도 제거가 되지 않으므로 이는 마스크 자체 뿐만아니라 마스크박스에도 영향을 주어서 재활용 상에 문제점을 가져 왔다.On the other hand, the damage portion is not removed even if the cleaning process is applied, which affects not only the mask itself but also the mask box, resulting in problems in recycling.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 포토마스크를 지지하는 하부박스부와 상부박스부의 내측면에 다수의 상,하부지지턱을 형성하고, 상기 상,하부지지턱에 일정각도 경사져 형성되는 상,하부경사면을 형성하여 포토마스크의 측면 네 군데의 모서리 부분을 지지하므로 마스크의 표면에 이물질이 묻게 되어 데미지가 발생하는 것을 방지하도록 하는 것이 목적이다.The present invention has been made in view of this point, and formed a plurality of upper and lower support jaws on the inner side of the lower box portion and the upper box portion for supporting the photomask, and is formed at an angle to the upper and lower support jaws at an angle. Since the upper and lower inclined surfaces are formed to support the four corner portions of the side of the photomask, the object is to prevent foreign matter from being deposited on the surface of the mask to prevent damage.

도 1은 종래의 포토마스크의 박스 지지 구조를 보인 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing a box supporting structure of a conventional photomask,

도 2는 본 발명에 따른 포토마스크박스의 평면 상태를 보인 도면이고,2 is a view showing a planar state of the photomask box according to the present invention,

도 3은 본 발명에 따른 포토마스크박스의 사시도이고,3 is a perspective view of a photomask box according to the present invention,

도 4는 본 발명에 따른 포토마스크 박스에 마스크를 설치한 상태 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a state in which a mask is installed in the photomask box according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

20 : 마스크박스 22 : 상부박스부20: mask box 22: upper box portion

24 : 상부지지턱 26 : 상부경사면24: upper support jaw 26: upper slope

28 : 마스크 30 : 하부박스부28: mask 30: lower box portion

32 : 하부지지턱 34 : 하부경사면32: lower support jaw 34: lower slope

본 발명의 목적은, 마스크를 상,하부에서 눌러주어 안전하게 보관하도록 하는 상,하부박스부로 구성된 마스크박스에 있어서, 상기 하부박스부의 바닥면 네 모서리부분에 상기 마스크의 하부 측면 절곡면 부분을 지지하도록 하는 하부경사면을 형성하는 하부지지턱과; 상기 하부지지턱에 안치된 마스크를 상측에서 눌러주도록 상기 하부지지턱에 대응되는 상기 상부박스부의 바닥면 부분에 상부경사면을 갖도록 형성된 상부지지턱으로 구성된 포토마스크의 박스 지지구조를 제공함으로써 달성된다.An object of the present invention, in the mask box consisting of the upper, lower box portion to press the mask from the upper, lower, and securely stored, so as to support the lower side bent surface portion of the mask on the bottom four corners of the lower box portion A lower support jaw forming a lower inclined surface to be formed; It is achieved by providing a box support structure of a photomask consisting of an upper support jaw formed to have an upper inclined surface on the bottom surface portion of the upper box portion corresponding to the lower support jaw so as to press the mask placed on the lower support jaw from above.

이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 포토마스크박스의 평면 상태를 보인 도면이고, 도 3은 본 발명에 따른 포토마스크박스의 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 포토마스크 박스에 마스크를 설치한 상태 단면도이다.2 is a view showing a planar state of the photomask box according to the present invention, Figure 3 is a perspective view of the photomask box according to the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view of a state in which a mask is installed in the photomask box according to the present invention. .

본 발명의 구성은, 마스크(28)를 상,하부에서 눌러주어 안전하게 보관하도록 하는 상,하부박스부(22)(30)로 구성된 마스크박스(B)에 있어서, 상기 하부박스부(30)의 바닥면 네 모서리부분에 상기 마스크(28)의 하부 측면 절곡면 부분을 지지하도록 하는 하부경사면(34)을 형성하는 하부지지턱(24)과; 상기 하부지지턱(24)에 안치된 마스크(28)를 상측에서 눌러주도록 상기 하부지지턱(24)에 대응되는 상기 상부박스부(22)의 바닥면 부분에 상부경사면(26)을 갖도록 형성된 상부지지턱(24)으로 구성된다.The configuration of the present invention, in the mask box (B) consisting of the upper and lower box portion 22, 30 to press the mask 28 in the upper and lower, to safely store the lower box portion 30 of the A lower support jaw 24 for forming a lower inclined surface 34 for supporting a lower side bent surface portion of the mask 28 at four corners of the bottom surface; An upper portion formed to have an upper inclined surface 26 on the bottom surface portion of the upper box portion 22 corresponding to the lower support jaw 24 to press the mask 28 placed on the lower support jaw 24 from above. It is composed of a support jaw (24).

그리고, 상기 상,하부지지턱(24)(32)는, 실리콘과 같은 고무재인 것이 바람직하다.The upper and lower support jaws 24 and 32 are preferably made of rubber such as silicon.

상기 상,하부지지턱(24)(32)은, "??"자 형상으로 절곡되어 형성되어 상기 마스크(28)의 절곡된 모서리의 측면부분을 밀착하여 접촉하도록 한다.The upper and lower support jaws 24 and 32 are formed to be bent in a “??” shape so as to be in close contact with the side portions of the bent edges of the mask 28.

그리고, 상기 마스크 박스(20)의 상,하부박스부(22)(30)가 분리되는 것을 방지하기 위하여 잠금장치를 구비하도록 한다.Then, to prevent the upper and lower box portions 22 and 30 of the mask box 20 from being separated, a locking device is provided.

이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 작용 및 효과를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, the operation and effects of the present invention will be described based on the accompanying drawings.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 마스크박스(20)의 상부박스부(22)와 하부박스부(30)의 바닥면에 실리콘 재질이고, 마스크(28)의 네 모서리부분을 지지하도록 하고, 상,하부경사면(26)(34)을 각각 형성하는 상부지지턱(26)과 하부지지턱(32)을 형성하도록 한다.3 and 4, the bottom surface of the upper box portion 22 and the lower box portion 30 of the mask box 20 is made of silicon, so as to support four corner portions of the mask 28. The upper and lower support jaw 26 and the lower support jaw 32 forming the upper and lower inclined surfaces 26 and 34, respectively, are formed.

그리고, 상기 마스크박스(20)를 이용하여 마스크(28)를 보관하여 이동시키고자 한다면, 상기 하부박스부(30)의 하부지지턱(32)에 마스크(28)를 안치하여 하부경사면(34)에 접촉시키도록 한다.In addition, if the mask 28 is to be stored and moved by using the mask box 20, the lower sloped surface 34 may be disposed by placing the mask 28 on the lower support jaw 32 of the lower box portion 30. Make contact with

그리고, 상기 상부박스부(22)를 들고서 하부박스부(30)의 상부면에 덮어 주게 되면, 상부지지턱(24)의 상부경사면(26)에 접촉되면서 마스크(28)가 유동이 방지된 상태로 고정하게 된다.When the upper box portion 22 is lifted up and covered with the upper surface of the lower box portion 30, the mask 28 is prevented from flowing while being in contact with the upper inclined surface 26 of the upper support jaw 24. Will be fixed.

그리고, 상기 마스크박스(20)의 상,하부박스부(22)(30)를 미도시된 잠금장치를 사용하여 고정한 후, 필요한 장소로 이동하여 상기 마스크(28)를 보관하거나 분리하여 사용하도록 한다.Then, the upper and lower box portions 22 and 30 of the mask box 20 are fixed using a locking device, not shown, and then moved to a necessary place to store or separate the mask 28. .

따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 포토마스크의 박스 지지구조를 사용하면, 포토마스크를 지지하는 하부박스부와 상부박스부의 내측면에 다수의 상,하부지지턱을 형성하고, 상기 상,하부지지턱에 일정각도 경사져 형성되는 상,하부경사면을 형성하여 포토마스크의 측면 네 군데의 모서리 부분을 지지하므로 마스크의 표면에 이물질이 묻게 되어 데미지가 발생하는 것을 방지하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.Therefore, as described above, when the box support structure of the photomask according to the present invention is used, a plurality of upper and lower support jaws are formed on the inner side of the lower box portion and the upper box portion for supporting the photomask. The upper and lower inclined surfaces formed at an angle to the lower support jaw are formed to support the four corner portions of the side surfaces of the photomask, so that foreign matter is deposited on the surface of the mask to prevent damage from occurring. .

Claims

In the mask box consisting of the upper and lower box portion to press the mask from the upper and lower, to keep it safely,

A lower support jaw forming a lower inclined surface to support a lower side bent surface portion of the mask at four corners of the bottom surface of the lower box portion;

Box support structure of the photomask comprising an upper support jaw formed to have an upper inclined surface on the bottom surface portion of the upper box portion corresponding to the lower support jaw so as to press the mask placed on the lower support jaw from above.

The box support structure of claim 1, wherein the upper and lower support jaws are made of rubber such as silicon.

The box support structure of claim 1, wherein the upper and lower support jaws are bent in a “??” shape.